TWI568755B - A polymer, a composition containing the polymer, and a monolayer coated horizontal alignment film - Google Patents

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Description

聚合物、含該聚合物之組成物、及單層塗佈型水平配向薄膜
本發明關於一種聚合物、含該聚合物之組成物、及單層塗佈型水平配向薄膜。詳細而言，關於一種具有適合於顯示裝置或記錄材料等的用途之光學特性之材料，特別是適合利用於液晶顯示器用的偏光板及位相差板等的光學補償薄膜之液晶性聚合物、含該聚合物之組成物、及由該組成物所得到的單層塗佈型水平配向薄膜。
因為液晶顯示裝置的顯示品質的提升或輕量化等的需求，以內部的分子配向構造經過控制的高分子薄膜作為偏光板或位相差板等的光學補償薄膜的需求提高。為了因應這樣的需求，而開發出了利用聚合性液晶化合物所具有的光學異向性的薄膜。
此處所使用的聚合性液晶化合物，一般而言，具有聚合性基與液晶構造部位(具有間隔部與介晶部的構造部位)的液晶化合物，此聚合性基廣泛採用丙烯醯基。
這種聚合性液晶化合物，一般而言，可藉由照射紫外 線等的放射線而進行聚合之方法，製作出聚合物(薄膜)。
已知有例如將具有丙烯醯基的特定聚合性液晶化合物擔持在支持體間，並將此化合物保持在液晶狀態，同時照射放射線，而得到聚合物之方法(專利文獻1)、或在具有丙烯醯基的2種聚合性液晶化合物之混合物或在此混合物中混合掌性液晶而成的組成物中添加光聚合起始劑，並照射紫外線，而得到聚合物之方法(專利文獻2)。
另外有文獻報告出不須液晶配向膜而使用了聚合性液晶化合物或聚合物的配向薄膜(專利文獻3、4)、或使用含有光交聯部位的聚合物的配向薄膜(專利文獻5、6)等各種單層塗佈型配向薄膜。但是，上述薄膜製作程序，會有聚合物的溶解性低、所使用的聚合物的溶劑必須採用NMP、氯仿、氯苯等的溶解力優異的溶劑等的問題，目前並未發現可解決這種問題的材料。
[先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本特開昭62-70407號公報
[專利文獻2]日本特開平9-208957號公報
[專利文獻3]歐洲專利申請公開第1090325號說明書
[專利文獻4]國際公開第2008/031243號
[專利文獻5]日本特開2008-164925號公報
[專利文獻6]日本特開平11-189665號公報
本發明鑑於上述問題而完成，目的為提供一種藉由較簡單的程序可製作出單層塗佈型水平配向薄膜的新聚合物、含有該聚合物的組成物、及由該組成物所得到的單層塗佈型水平配向薄膜。
本發明人等為了解決上述課題反覆潛心檢討的結果，發現藉由使用主鏈含有γ-丁內酯骨架，同時由內酯環的γ位開始延伸的側鏈上具有桂皮酸酯構造的聚合物，在偏光紫外線曝光後，形成安定的網狀構造，因此不使用液晶配向膜，可得到具有高折射率異向性(△n)的水平配向薄膜，進一步藉由在該聚合物導入烷基鏈，可在低溫條件下製作出提升對有機溶劑的溶解性，且具有較高的△n的水平配向薄膜，而完成了本發明。
亦即，本發明提供：1. 一種聚合物，其特徵為：含有下述式[1a]、[1b]及[1c]所表示之重覆單元： [式中，X及Y各自獨立地為下述式[2]或[3]所表示之基， (式[3]中，R1為氫原子或甲基；虛線為鍵結鍵)
M1為下述式[4]所表示之基，M2為下述式[5]所表示之基， (式[4]及[5]中，s1、s2、s3及s4各自獨立地為1或2，G1及G2各自獨立地為單鍵、-COO或-OCO-，R2及R3各自獨立地為氫原子、鹵素原子、氰基、碳數1~10之烷基、或碳數1~10之烷氧基；虛線為鍵結鍵)A為碳數2~15之直鏈狀或分支狀烷基，m、n及p分別為滿足0<m<1、0<n<1、0≦p≦0.5，且m+n+p≦1之數，q及r各自獨立地為2~9之整數]，2. 如1之聚合物，其中上述X及Y為上述式[3]所表示之基， 3. 如1或2之聚合物，其中上述m、n及p分別為滿足0.2≦m≦0.9、0.1≦n≦0.8、0≦p≦0.4之數，4. 如3之聚合物，其中上述m、n及p分別為滿足0.2≦m≦0.8、0.1≦n≦0.5、0.1≦p≦0.3之數，5. 一種組成物，其係含有如1~4之任一者之聚合物與有機溶劑，6. 一種單層塗佈型水平配向薄膜，其係藉由將如5之組成物塗佈於基板，然後照射偏光使其硬化所得到，7. 如6之單層塗佈型水平配向薄膜，其中上述偏光為直線偏光紫外線，8. 一種光學構件，其係具備如6或7之單層塗佈型水平配向薄膜，9. 一種聚合性化合物，其特徵為：下述式[7]所表示： (式[7]中，s3及s4各自獨立地為1或2，G2為單鍵、-COO-或-OCO-，R3為氫原子、鹵素原子、氰基、碳數1~10之烷基、或碳數1~10之烷氧基)。
本發明之聚合物在主鏈含有γ-丁內酯骨架。因此，藉由塗佈含有此聚合物的組成物，在室溫照射直線偏光，進行後烘的程序，可製作出表現出高△n的單層塗佈型水 平配向薄膜。另外，進一步藉由採用含有具有烷基側鏈的單元的聚合物，可提升對溶劑的溶解性。
圖1係表示實施例11~16所得到的各薄膜在波長550nm的延遲值角度依存性之圖。
圖2係表示比較例3,4所得到的各薄膜在波長550nm的延遲值角度依存性之圖。
以下針對本發明進一步作詳細說明。
[聚合物]
本發明之聚合物含有下述式[1a]及[1b]所表示之重覆單元，並且因應必要進一步含有下述式[1c]所表示之重覆單元：
式[1a]及[1c]中，X及Y各自獨立地為下述式[2]或[3]所表示之基： (式[3]中，R1為氫原子或甲基；虛線為鍵結鍵(以下相同))
該等之中，以X、Y皆以式[3]所表示之基為佳。
式[1a]中，M1為下述式[4]所表示之基，式[1b]中，M2為下述式[5]所表示之基： (式[4]及[5]中，s1、s2、s3及s4各自獨立地為1或2，G1及G2各自獨立地為單鍵、-COO-或-OCO-，R2及R3各自獨立地為氫原子、鹵素原子、氰基、碳數1~10之烷基、或碳數1~10之烷氧基)
此處，上述鹵素原子可列舉氟、氯、溴、碘原子，而在本發明中，以氟原子為佳。
上述烷基可為直鏈、分支、環狀之任一者，此外其碳數亦並未受到特別限定，而在本發明中，直鏈之碳數1~10之烷基為佳。上述烷基的具體例可列舉甲基、乙基、正丙基、異丙基、環丙基、正丁基、異丁基、第二丁基、第三丁基、環丁基、正戊基、環戊基、正己基、環己基、 正庚基、正辛基、正壬基、正癸基等。該等之中，以碳數1~3之烷基為更佳，以甲基、乙基等為特佳。
上述烷氧基可為直鏈、分支、環狀之任一者，此外其碳數亦並未受到特別限定，而在本發明中，直鏈的碳數1~10之烷氧基為佳。上述烷氧基的具體例可列舉甲氧基、乙氧基、正丙氧基、異丙氧基、正丁氧基、異丁氧基、第二丁氧基、第三丁氧基、正戊氧基、正己氧基、正庚氧基、正辛氧基、正壬氧基、正癸氧基等。該等之中，以碳數1~3之烷氧基為更佳，以甲氧基、乙氧基等為特佳。
此外，在上述烷基、烷氧基之中一部分或全部的氫原子可經氟原子等的鹵素原子取代。
上述R2或R3較佳為氫原子、氟原子、氰基、甲基、甲氧基。
上述G1係以-COO-或-OCO-為佳，G2係以單鍵為佳。
式[1c]中，A為直鏈狀或分支狀碳數2~15之烷基。上述烷基具體而言，可列舉乙基、正丙基、異丙基、正丁基、異丁基、第二丁基、第三丁基、正戊基、1-甲基正丁基、2-甲基正丁基、3-甲基正丁基、1,1-二甲基正丙基、1,2-二甲基正丙基、2,2-二甲基正丙基、1-乙基正丙基、正己基、1-甲基正戊基、2-甲基正戊基、3-甲基正戊基、4-甲基正戊基、1,1-二甲基正丁基、1,2-二甲基正丁基、1,3-二甲基正丁基、2,2-二甲基正丁基、2,3-二甲基正丁基、3,3-二甲基正丁基、1-乙基正丁基、2-乙基正丁基、 1,1,2-三甲基正丙基、1,2,2.三甲基正丙基、1-乙基-1-甲基正丙基、1-乙基-2-甲基正丙基、正庚基、1-甲基正己基、2-甲基正己基、3-甲基正己基、1,1-二甲基正戊基、1,2-二甲基正戊基、1,3-二甲基正戊基、2,2-二甲基正戊基、2,3-二甲基正戊基、3,3-二甲基正戊基、1-乙基正戊基、2-乙基正戊基、3-乙基正戊基、1-甲基-1-乙基正丁基、1-甲基-2-乙基正丁基、1-乙基-2-甲基正丁基、2-甲基-2-乙基正丁基、2-乙基-3-甲基正丁基、正辛基、1-甲基正庚基、2-甲基正庚基、3-甲基正庚基、1,1-二甲基正己基、1,2-二甲基正己基、1,3-二甲基正己基、2,2-二甲基正己基、2,3-二甲基正己基、3,3-二甲基正己基、1-乙基正己基、2-乙基正己基、3-乙基正己基、1-甲基-1-乙基正戊基、1-甲基-2-乙基正戊基、1-甲基-3-乙基正戊基、2-甲基-2-乙基正戊基、2-甲基-3-乙基正戊基、3-甲基-3-乙基正戊基、正壬基、正癸基、正十一烷基、正十二烷基、正十三烷基、正十四烷基、正十五烷基等。
若考慮所得到的聚合物對有機溶劑的溶解性等，則該等之中，以碳數4~15為佳，尤其是4~12之烷基，而以正丁基、2-乙基正己基、正十二烷基等為較佳。
式[1a]~[1c]中，m、n及p分別為滿足0<m<1、0<n<1、0≦p≦0.5，且m+n+p≦1之數。從提升△n或提升聚合物的溶解性等這點看來，m、n及p分別以滿足0.2≦m≦0.9、0.1≦n≦0.8、0≦p≦0.4之數為佳，以滿足0.2≦m≦0.8、0.1≦n≦0.5、0.1≦p≦0.3之數為更佳。
另外，式[1a]及[1b]中，q及r各自獨立地為2~9之整數，而以3~6為佳，q尤其以5或6為較佳。
[聚合性化合物]
作為本發明之聚合物的原料的聚合性化合物係下述式[6]、[7]或[8]所表示：
Y'-A [8][式中，R2、R3、G1、G2、A、q、r、及s1~s4與上述相同； X'及Y'各自獨立地為下述式[9]或[10]所表示之聚合性基： (式中，R1與上述相同)]
[聚合性化合物的合成]
上述式[6]所表示之聚合性化合物可藉由例如以下所述的方式來製造。
在G1為-COO-的情況，下述路徑圖所示般，可藉由使式[12]所表示之安息香酸衍生物與酚衍生物在溶劑中並在縮合劑的存在下進行縮合來製造。
(式中，R2、X'、q、s1及s2與上述相同；DCC為N,N'-二環己基碳二醯亞胺、DMAP表示4-二甲基胺基吡啶)
在G1為-OCO-的情況，下述路徑圖所示般，可藉由使式[13]所表示之酚衍生物與安息香酸衍生物在溶劑中並在縮合劑的存在下進行縮合來製造。
(式中，R2、X'、q、s1及s2與上述相同)
上述式[12]及[13]所表示之化合物，在X'為式[9]所表 示之基的情況，能夠以SYNTHON Chemicals公司或Midori化學股份有限公司所售的市售品的形式取得。
另外，上述式[12]及[13]所表示之化合物，在X'為式[10]所表示之基的情況，可使用例如Talaga等(P.Talaga,M.Schaeffer,C.Benezra and J.L.Stampf,Synthesis,530(1990))所提案的手段來合成。此手段如下述合成路徑圖(A1)所示般，使用SnCl2，使2-(溴甲基)丙烯酸(2-(bromomethyl)propenoic acid)與醛或酮進行反應之方法。此外，2-(溴甲基)丙烯酸可藉由Ramarajan等所提案的方法得到(K.Ramarajan,K.Kamalingam,D.J.O'Donnell and K.D.Berlin,Organic Synthesis,vol.61,PP.56-59(1983))。
(式中，R'表示一價有機基，Amberlyst(註冊商標)15為Rohm and Haas公司製離子交換樹脂；THF表示四氫呋喃；Et表示乙基)
另外，在使用SnCl2的2-(溴甲基)丙烯酸的反應中，亦可藉由以相對應的縮醛或縮酮來代替醛或酮進行反應，而得到α-亞甲基-γ-丁內酯構造。
縮醛或縮酮可列舉具有二甲基縮醛基、二乙基縮醛基 、1,3-二噁烷基、1,3-二噁戊烷基等的化合物。下述合成路徑圖(A2)表示使用縮醛或縮酮的情況的合成法及保護基。
(式中，R'與上述相同)
藉由應用上述合成路徑圖(A1)或(A2)之手段的下述合成路徑圖(B)或(C)之手段，可合成出式[12]或[13]所表示之化合物。
(式中，q及s1與上述相同；Me表示甲基；PCC表示氯鉻酸吡啶鎓鹽)
(式中，q及s1與上述相同)
式[7]所表示之化合物，例如下述路徑圖所示般，可藉由使式[14]所表示之化合物與桂皮酸化合物在溶劑中並在縮合劑的存在下進行縮合來製造。
(式中，R3、G2、r、s3及s4與上述相同)
式[14]所表示之化合物，可藉由例如下述合成路徑圖(D)所示的方法得到。
(式中，G2、r、s3及s4與上述相同)
式[8]所表示之化合物，在Y'為式[9]所表示之基的情況，能夠以市售品的形式取得。
另外，式[8]所表示之化合物，在Y'為式[10]所表示之基的情況，亦可藉由下述合成路徑圖(E)所示的方法來合成。
(式中，A與上述相同)
[聚合物的合成]
合成本發明之聚合物的方法並不受特別限定，可採用自由基聚合、陰離子聚合、陽離子聚合等。該等之中，尤其以自由基聚合為佳，具體而言，只要在溶劑中並在聚合 起始劑的存在下將上述聚合性化合物加熱使其聚合即可。
上述聚合起始劑可由以往周知的物質適當地選擇來使用。可列舉例如過氧化苯甲醯、氫過氧化異丙苯、過氧化氫第三丁基等的過氧化物；過硫酸鈉、過硫酸鉀、過硫酸銨等的過硫酸鹽；偶氮雙異丁腈(AIBN)、偶氮雙甲基丁腈、偶氮雙異戊腈等的偶氮系化合物等。該等可單獨使用1種或將2種以上組合使用。
上述聚合起始劑的使用量，以相對於聚合性化合物1mol為0.01~0.05mol左右為佳。
反應溫度只要適當地設定在0℃至所使用的溶劑的沸點即可，而以20~100℃左右為佳。反應時間係以0.1~30小時左右為佳。
聚合反應所使用的溶劑並未受到特別限定，只要由上述聚合反應一般所使用的各種溶劑適當地選擇來使用即可。具體而言，可列舉水；甲醇、乙醇、1-丙醇、2-丙醇、1-丁醇、2-丁醇、異丁醇、第三丁醇、1-戊醇、2-戊醇、3-戊醇、異戊醇、第三戊醇、1-己醇、1-庚醇、2-庚醇、3-庚醇、2-辛醇、2-乙基-1-己醇、苄醇、環己醇等的醇類；二乙醚、二異丙基醚、二丁醚、環戊基甲醚、四氫呋喃、1,4-二噁烷等的醚類；氯仿、二氯甲烷、二氯乙烷、四氯化碳等的鹵化烴類；甲基溶纖劑、乙基溶纖劑、異丙基溶纖劑、丁基溶纖劑、二乙二醇單丁醚等的醚醇類；丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁基酮、環己酮等的酮類；醋酸乙酯、醋酸丁酯、丙酸乙酯、溶纖劑醋酸酯等的酯類；正戊 烷、正己烷、正庚烷、正辛烷、正壬烷、正癸烷、環戊烷、甲基環戊烷、環己烷、甲基環己烷、苯、甲苯、二甲苯、乙苯、苯甲醚等的脂肪族或芳香族烴類；二甲縮醛、二乙縮醛等的縮醛類；蟻酸、醋酸、丙酸等的脂肪酸類；硝基丙烷、硝基苯、二甲胺、單乙醇胺、吡啶、N-甲基-2-吡咯烷酮(NMP)、N,N-二甲基甲醯胺、二甲亞碸、乙腈等。該等可單獨使用1種或混合2種以上使用。
本發明之聚合物的重量平均分子量係以3,000~200,000為佳，4,000~150.000為較佳，5,000~100,000為更佳。若重量平均分子量超過200,000，則會有對溶劑的溶解性降低，操作性降低的情形，若重量平均分子量未達3,000，則會有熱硬化時硬化不足，溶劑耐性及耐熱性降低的情形。
此外，重量平均分子量為利用凝膠滲透層析(GPC)測得的聚苯乙烯換算測定值。
另外，本發明之聚合物只要不損及本發明效果，亦可含有上述式[1a]~[1c]以外的其他重覆單元。可產生上述其他重覆單元的聚合性化合物，可列舉丙烯酸酯化合物、甲基丙烯酸酯化合物、馬來醯亞胺化合物、丙烯醯胺化合物、丙烯腈、馬來酸酐、苯乙烯化合物等。
上述其他重覆單元的含有率，係以在全重覆單元100莫耳%中含0~10莫耳%為佳。若上述其他重覆單元的含有率過高，則會有本發明之聚合物的特性降低，例如液晶性等的特性降低的情形。
在本發明之聚合物含有上述其他重覆單元的情況，其合成方法，只要，在上述聚合時，使其與可產生上述其他重覆單元的聚合性化合物共存而進行聚合即可。
此外，本發明之聚合物可為隨機共聚物、交替共聚物、嵌段共聚物之任一者。
[組成物]
本發明之組成物，可藉由將上述聚合物之至少1種與有機溶劑混合而得。
上述有機溶劑可列舉例如四氫呋喃、二噁烷等的醚類；苯、甲苯、二甲苯等的芳香族烴類；N,N-二甲基甲醯胺、N-甲基-2-吡咯烷酮等的極性溶劑；醋酸乙酯、醋酸丁酯、乳酸乙酯等的酯類；3-甲氧基丙酸甲酯、2-甲氧基丙酸甲酯、3-甲氧基丙酸乙酯、2-甲氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸乙酯、2-乙氧基丙酸乙酯等的烷氧基酯類；乙二醇二甲醚、丙二醇二甲醚等的甘醇二烷醚類；二乙二醇二甲醚、二乙二醇二乙醚、二乙二醇甲基乙基醚、二丙二醇二甲醚等的二甘醇二烷醚類；乙二醇單甲醚、乙二醇單乙醚、丙二醇單甲醚、丙二醇單乙醚等的甘醇單烷醚類；二乙二醇單甲醚、二乙二醇單乙醚、二丙二醇單甲醚、二丙二醇單乙醚等的二甘醇單烷醚類；丙二醇單甲醚醋酸酯、卡必醇醋酸酯、乙基溶纖劑醋酸酯等的甘醇單烷醚酯類；環己酮、甲基乙基酮、甲基異丁基酮、2-庚酮等的酮類。這些有機溶劑可單獨使用或可組合兩種以上使用。
該等之中，以丙二醇單甲醚、丙二醇單甲醚醋酸酯、乳酸乙酯、環己酮等為佳。
有機溶劑的使用量，適合為在組成物中占60~95質量%左右。
另外，為了提升與基板的親和性，在本發明之組成物中亦可添加界面活性劑。界面活性劑並未受到特別限定，可列舉氟系界面活性劑、聚矽氧系界面活性劑、非離子系界面活性劑等，而以與基板的親和性改善效果高的氟系界面活性劑為佳。
氟系界面活性劑的具體例可列舉(以下為商品名)F TOP EF301、EF303、EF352(Tohkem Products股份有限公司製)、MEGAFAC F171、F173、R-30(DIC股份有限公司製)、Fluorad FC430、FC431(住友3M股份有限公司製)、Asahiguard AG710、Surflon S-382、SC101、SC102、SC103、SC104、SC105、SC106(旭硝子股份有限公司製)等，而並不受該等所限定。此外，界面活性劑可單獨使用或可將多種組合使用，其添加量係以相對於聚合物100質量份為5質量份以下為佳。
進一步而言，為了提升與基板的密著性，在本發明之組成物中亦可添加密著促進劑。
密著促進劑可列舉三甲基氯矽烷、二甲基乙烯基氯矽烷、甲基二苯氯矽烷、氯甲基二甲基氯矽烷等的氯矽烷類；三甲基甲氧基矽烷、二甲基二乙氧基矽烷、甲基二甲氧基矽烷、二甲基乙烯基乙氧基矽烷、二苯二甲氧基矽烷、 苯基三乙氧基矽烷等的烷氧矽烷類；六甲基二矽氮烷、N,N'-雙(三甲基矽烷基)尿素、二甲基三甲基甲矽烷基胺、三甲基甲矽烷基咪唑等的矽氮烷類：乙烯基三氯矽烷、γ-氯丙基三甲氧基矽烷、γ-胺丙基三乙氧基矽烷、γ-甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷、γ-縮水甘油醚基丙基三甲氧基矽烷、γ-(N-哌啶基)丙基三甲氧基矽烷等的矽烷類；苯并三唑、苯并咪唑、吲唑、咪唑、2-巰基苯并咪唑、2-巰基苯并噻唑、2-巰基苯并噁唑、脲唑、硫脲嘧碇、巰基咪唑、巰基嘧啶等的雜環狀化合物；1,1-二甲基尿素、1,3-二甲基尿素等的尿素化合物；硫脲化合物等。
密著促進劑可單獨使用或可將多種組合使用，其添加量以相對於聚合物100質量份為1質量份以下為佳。
[單層塗佈型水平配向薄膜]
藉由棒式塗佈、旋轉塗佈、流式塗佈、輥式塗佈、狹縫塗佈、接連在狹縫塗佈之後的旋轉塗佈、噴墨法、印刷法等的方法，將以上所說明的本發明之組成物塗佈於基板(例如矽/二氧化矽被覆基板、氮化矽基板、金屬，例如被覆有鋁、鉬、鉻等的基板、玻璃基板、石英基板、ITO基板等)或薄膜(例如三乙醯基纖維素(TAC)薄膜、環烯烴聚合物薄膜、聚對苯二甲酸乙二酯薄膜、丙烯酸薄膜等的樹脂薄膜)等而形成塗膜，然後藉由熱板或烘箱等加熱乾燥，可形成膜。
加熱乾燥的條件，可採用例如由溫度50~100℃、時 間0.1~60分鐘的範圍之中適當地選擇的加熱溫度及加熱時間。上述加熱溫度及加熱時間宜為50~80℃及0.1~2分鐘。
以這種方式所形成的膜，藉由進行直線偏光照射，並且進行後烘，可得到單層塗佈型水平配向薄膜。
直線偏光的照射方法，通常可藉由使用波長150~450nm的紫外線~可見光，在室溫或加熱的狀態下照射直線偏光來進行。
另外，後烘只要在熱板或烘箱等加熱即可，其溫度及時間宜為90~150℃及2~20分鐘，較佳為95~120℃及5~20分鐘。
本發明之單層塗佈型水平配向薄膜的膜厚，可考慮所使用的基板的高低差或光學、電的性質而適當地選擇，例如適合為0.1~3μm。
以這種方式所得到的本發明之單層塗佈型水平配向薄膜為具有適合於顯示裝置或記錄材料等的用途的光學特性的材料，特別適合作為液晶顯示器用的偏光板及位相差板等的光學補償薄膜。
[實施例]
以下列舉合成例、實施例及比較例，對本發明作較具體的說明，然而本發明並不受下述實施例所限定。此外，在實施例中，各物性的測定方法及測定條件如以下所述。
[1]NMR
使化合物溶於重氫化氯仿(CDCl3)，使用核磁共振裝置(300MHz，Diol公司製)，測定1H-NMR。
[2]平均分子量測定
使用昭和電工股份有限公司製Shodex GPC-101(溶劑：四氫呋喃、檢量線：標準聚苯乙烯)，測定數量平均分子量(Mn)、重量平均分子量(Mw)。
[3]霧度值
使用東京電色有限公司製Spectral Haze Meter(TC-1800H)，測定薄膜的霧度值。
[4]薄膜的延遲值
使用延遲測定裝置(RETS-100、大塚電子股份有限公司製)，測定波長550nm的延遲值。
[5]偏光顯微鏡觀察
使用Nikon股份有限公司製的偏光顯微鏡E600-Pol進行觀察。
[合成例1]聚合性化合物(M1)的合成
使4-(6-丙烯醯氧基-1-己氧基)安息香酸(SYNTHON Chemicals公司製)29.2g(100mmol)、4-羥基聯苯17.0g(100mmol)、DMAP0.6g、及少量的二丁基羥基甲苯(BHT)在室溫攪拌下懸浮於二氯甲烷200mL，於其中加入使DCC24.0g(116mmol)溶於二氯甲烷100mL而成的溶液，徹夜攪拌。將所析出的DCC尿素濾出，將此濾液依序以0.5mol/L鹽酸150mL、飽和碳酸氫鈉水溶液150mL、飽和食鹽水150mL洗淨2次，以硫酸鎂乾燥後，將溶劑餾除，利用乙醇進行再結晶而純化，而得到目標的聚合性化合物(M1)39.6g(產率89%)。將NMR的測定結果揭示如下。
1H-NMR(CDCl3)δ：1.57(m,4H),1.70(m,2H),1.86(m,2H),4.00(m,2H),4.19(m,2H),5.82(m,1H),6.12(m,1H),6.39(m,1H),6.97(d,2H),7.29(m,2H),7.36(m,1H),7.47(m,2H),7.62(m,4H),8.18(m,2H)
[實施例1]聚合性化合物(M2)的合成 (1)中間體化合物(P2)的合成
在附冷凝管的500mL茄形燒瓶中加入聯苯酚18.6g(100mmol)、2-(4-溴-1-丁基)-1,3-二噁戊烷10.0g(48mmol)、碳酸鉀13.8g(100mmol)、及丙酮200mL，製作出混合物，在溫度64℃下攪拌24小時，同時使其反應。反應結束後，將反應液注入純水500mL，而得到白色固體。將此固體與甲醇混合，進行過濾，並將溶劑餾除，其結果，而得到白色固體。接下來，將此固體與氯仿混合，進行過濾，並將溶劑餾除，而得到白色固體7.2g。將以NMR測定此固體的結果揭示如下。由此結果確認了此白色固體為中間體化合物(P2)(產率48%)。
1H-NMR(CDCl3)δ：1.62(m,2H),1.76(m,2H),1.87(m,2H),3.85(m,2H),4.00(m,4H),4.90(m,1H),6.87(m,4H),7.42(m,4H)
(2)中間體化合物(Z2)的合成
接下來，在附冷凝管的300mL茄形燒瓶中加入上述所得到的中間體化合物(P2)7.2g(23mmol)、2-(溴甲基)丙烯酸4.1g(25mmol)、THF60mL、氯化錫(II)4.7g(25mmol)、及10質量%HCl水溶液19mL，製作出混合物，在溫度70℃下攪拌5小時使其反應。反應結束後，將反應液注入純水200mL，而得到白色固體6.1g。將以NMR測定此固體的結果揭示如下。由此結果確認了此白色固體為中間體化合物(Z2)(產率78%)。
1H-NMR(CDCl3)δ：1.60-1.95(m,6H),2.64(m,1H),3.11(s,1H),4.02(t,2H),4.60(m,1H),4.82(s,1H),5.64(s,1H),6.24(s,1H),6.88(d,2H),6.94(d,2H),7.44(m,4H)
(3)聚合性化合物(M2)的合成
使化合物(Z2)3.4g(10mmol)、4-甲氧基桂皮酸1.8g(10mmol)、DMAP0.08g、及少量的BHT在室溫攪拌下懸浮於二氯甲烷30mL，於其中加入使DCC2.6g(13mmol)溶於於二氯甲烷15mL而成的溶液，徹夜攪拌。將所析出的DCC尿素濾出，將此濾液依序以0.5mol/L鹽酸50mL、飽和碳酸氫鈉水溶液50mL、飽和食鹽水50mL洗淨2次，以硫酸鎂乾燥後，將溶劑餾除，利用乙醇進行再結晶而純化，而得到目標的聚合性化合物(M2)4.3g(產率86%)。將NMR的測定結果揭示如下。
1H-NMR(CDCl3)δ：1.60-1.90(m,6H),2.63(m,1H),3.09(m,1H),3.87(s,3H),4.03(m,2H),4.57(m,1H),5.64(m,1H),6.24(d,1H),6.54(d,1H),6.95(m,4H),7.26(m,2H),7.44(m,2H),7.57(m,4H),7.86(d,1H)
[合成例2]聚合性化合物(M3)的合成
使化合物(Z3)(Midori化學股份有限公司製)3.1g(10.0mmol)、4-甲氧基桂皮酸1.8g(10.0mmol)、DMAP0.08g、及少量的BHT在室溫攪拌下懸浮於二氯甲烷30mL，於其中加入使DCC2.6g(12.5mmol)溶於二氯甲烷15mL而成的溶液，徹夜攪拌。將所析出的DCC尿素濾出，將此濾液依序以0.5mol/L鹽酸50mL、飽和碳酸氫鈉水溶液50mL、飽和食鹽水50mL洗淨2次，以硫酸鎂乾燥後，將溶劑餾除，利用乙醇進行再結晶而純化，而得到目標的聚合性化合物(M3)3.4g(產率72%)。將NMR的測定結果揭示如下。
1H-NMR(CDCl3)δ：1.93(m,4H),3.87(s,3H),4.03(m,2H),4.26(m,2H),5.85(m,1H),6.14(m,1H),6.17(d,1H),6.44(d,1H),6.95(m,4H),7.19(m,2H),7.55(m,6H),7.82(d,1H)
[合成例3]聚合性化合物(M4)的合成
使4-(6-丙烯醯氧基-1-己氧基)安息香酸(SYNTHON Chemicals公司製)29.2g(100mmol)、4-甲氧基酚12.4g(100mmol)、DMAP0.8g、及少量的BHT在室溫攪拌下懸浮於二氯甲烷200mL，於其中加入使DCC24.0g(116mmol)溶於二氯甲烷100mL而成的溶液，徹夜攪拌。將所析出的DCC尿素濾出，將此濾液依序以0.5mol/L鹽酸150mL、飽和碳酸氫鈉水溶液150mL、飽和食鹽水150mL洗淨2次，以硫酸鎂乾燥後，將溶劑餾除，利用乙醇進行再結晶而純化，而得到目標的聚合性化合物(M4)21.5g(產率54%)。將NMR的測定結果揭示如下。
1H-NMR(CDCl3)δ：1.57(m,4H),1.70(m,2H),1.86(m,2H),3.82(s,3H),4.00(m,2H),4.19(m,2H),5.84(m,1H),6.13(m,1H),6.39(m,1H),6.97(m,4H),7.10(m,2H),8.11(m,2H)
[合成例4]聚合性化合物(M5)的合成
使4-(6-丙烯醯氧基-1-己氧基)安息香酸(SYNTHON Chemicals公司製)14.6g(50mmol)、4-氰基酚5.9g(50mmol)、DMAP0.4g、及少量的BHT在室溫攪拌下懸浮於二氯甲烷100mL，於其中加入使DCC12.0g(58mmol)溶於二氯甲烷50mL而成的溶液，徹夜攪拌。將所析出的DCC尿素濾出，將此濾液依序以0.5mol/L鹽酸100mL、飽和碳酸氫鈉水溶液100mL、飽和食鹽水100mL洗淨2次，以硫酸鎂乾燥後，將溶劑餾除，利用乙醇進行再結晶而純化，而得到目標的聚合性化合物(M5)14.5g(產率74%)。將NMR的測定結果揭示如下。
1H-NMR(CDCl3)δ：1.57(m,4H),1.71(m,2H),1.86(m,2H),4.00(m,2H),4.19(m,2H),5.84(m,1H),6.13(m,1H),6.39(m,1H),6.99(m,2H),7.36(m,2H),7.72(m,2H),8.11(m,2H)
[實施例2]聚合物(1)的合成
在具備冷凝管的燒瓶中裝入合成例1所得到的聚合性化合物(M1)0.62g(1.4mmol)、實施例1所得到的聚合性化合物(M2)0.30g(0.6mmol)、NMP8.3g、及AIBN17mg，對燒瓶內實施氮氣置換之後，在溫度60℃下攪拌20小時使其反應。將所得到的反應溶液投入200mL的甲醇，使白色粉末沉澱。將此白色粉末過濾之後，在室溫下進行真空乾燥，而得到聚合物(1)0.65g(產率71%)。
所得到的聚合物(1)的Mn為10,975、Mw為19,206(Mw/Mn=1.75)。
[比較例1]聚合物(2)的合成
在具備冷凝管的燒瓶中裝入合成例1所得到的聚合性化合物(M1)0.62g(14mmol)、合成例2所得到的聚合性化合物(M3)0.28g(0.6mmol)、NMP9.0g、及AIBN17mg，對 燒瓶內實施氮氣置換之後，在溫度60℃下攪拌20小時使其反應。將所得到的反應溶液投入200mL的甲醇，使白色粉末沉澱。將此白色粉末過濾之後，在室溫下進行真空乾燥，而得到聚合物(2)0.67g(產率74%)。
所得到的聚合物(2)的Mn為7,068、Mw為9,542(Mw/Mn=1.35)。
[實施例3]聚合物(3)的合成
在具備冷凝管的燒瓶中裝入合成例1所得到的聚合性化合物(M1)0.44g(1.0mmol)、實施例1所得到的聚合性化合物(M2)0.30g(0.6mmol)、甲基丙烯酸正丁酯0.06g(0.4mmol)、NMP7.2g、及AIBN17mg，對燒瓶內實施氮氣置換之後，在溫度60℃下攪拌20小時使其反應。將所得到的反應溶液投入200mL的甲醇，使白色粉末沉澱。將此白色粉末過濾之後，在室溫下進行真空乾燥，而得到聚合物(3)0.71g(產率89%)。
所得到的聚合物的Mn為12,664、Mw為39,258(Mw/Mn=3.10)。
[實施例4]聚合物(4)的合成
在具備冷凝管的燒瓶中裝入合成例1所得到的聚合性化合物(M1)0.44g(1.0mmol)、實施例1所得到的聚合性化合物(M2)0.30g(0.6mmol)、丙烯酸2-乙基己酯0.07g(0.4mmol)、NMP8.0g、及AIBN17mg，對燒瓶內實施氮氣置換之後，在溫度60℃下攪拌20小時使其反應。將所得到的反應溶液投入200mL的甲醇，使白色粉末沉澱。將此白色粉末過濾之後，在室溫下進行真空乾燥，而得到聚合物(4)0.54g(產率67%)。
所得到的聚合物的Mn為10,357、Mw為23,925(Mw/Mn=2.31)。
[實施例5]聚合物(5)的合成
在具備冷凝管的燒瓶中裝入合成例1所得到的聚合性 化合物(M1)0.36g(0.8mmol)、實施例1所得到的聚合性化合物(M2)0.30g(0.6mmol)、丙烯酸2-乙基己酯0.11g(0.6mmol)、NMP7.0g、及AIBN17mg，對燒瓶內實施氮氣置換之後，在溫度60℃下攪拌20小時使其反應。將所得到的反應溶液投入200mL的甲醇，使白色粉末沉澱。將此白色粉末過濾之後，在室溫下進行真空乾燥，而得到聚合物(5)0.45g(產率58%)。
所得到的聚合物的Mn為11,065、Mw為28,769(Mw/Mn=2.6)。
[實施例6]聚合物(6)的合成
在具備冷凝管的燒瓶中裝入合成例1所得到的聚合性化合物(M1)0.44g(1.0mmol)、實施例1所得到的聚合性化合物(M2)0.30g(0.6mmol)、丙烯酸正十二烷酯0.10g(0.4mmol)、NMP8.0g、及AIBN17mg，對燒瓶內實施氮氣置換之後，在溫度60℃下攪拌20小時使其反應。將所得到的反應溶液投入200mL的甲醇，使白色粉末沉澱。將此白色粉末過濾之後，在室溫下進行真空乾燥，而得到聚合物(6)0.60g(產率71%)。
所得到的聚合物的Mn為10,828、Mw為23,822(Mw/Mn=2.2)。
[實施例7]聚合物(7)的合成
在具備冷凝管的燒瓶中裝入合成例1所得到的聚合性化合物(M1)0.36g(0.8mmol)、實施例1所得到的聚合性化合物(M2)0.30g(0.6mmol)、丙烯酸正十二烷酯0.14g(0.6mmol)、NMP8.0g、及AIBN17mg，對燒瓶內實施氮氣置換之後，在溫度60℃下攪拌20小時使其反應。將所得到的反應溶液投入200mL的甲醇，使白色粉末沉澱。將此白色粉末過濾之後，在室溫下進行真空乾燥，而得到聚合物(7)0.50g(產率63%)。
所得到的聚合物的Mn為12,455、Mw為22,544(Mw/Mn=1.81)。
[比較例2]聚合物(8)的合成
在具備冷凝管的燒瓶中裝入合成例1所得到的聚合性化合物(M1)0.44g(1.0mmol)、合成例2所得到的聚合性化合物(M3)0.28g(0.6mmol)、丙烯酸正十二烷酯0.10g(0.4mmol)、NMP8.2g、及AIBN17mg，對燒瓶內實施氮氣置換之後，在溫度60℃下攪拌20小時使其反應。將所得到的反應溶液投入200mL的甲醇，使白色粉末沉澱。將此白色粉末過濾之後，在室溫下進行真空乾燥，而得到聚合物(8)0.58g(產率71%)。
所得到的聚合物的Mn為8,025、Mw為11,556(Mw/Mn=1.44)。
[實施例8]聚合物(9)的合成
在具備冷凝管的燒瓶中裝入合成例4所得到的聚合性化合物(M5)0.55g(1.4mmol)、實施例1所得到的聚合性化 合物(M2)0.30g(0.6mmol)、NMP8.0g、及AIBN17mg，對燒瓶內實施氮氣置換之後，在溫度60℃下攪拌20小時使其反應。將所得到的反應溶液投入200mL的甲醇，使白色粉末沉澱。將此白色粉末過濾之後，在室溫下進行真空乾燥，而得到聚合物(9)0.60g(產率71%)。所得到的聚合物(9)的Mn為15,269、Mw為24,430(Mw/Mn=1.60)。
[實施例9]聚合物(10)的合成
在具備冷凝管的燒瓶中裝入合成例4所得到的聚合性化合物(M5)0.39g(1.0mmol)、實施例1所得到的聚合性化合物(M2)0.30g(0.6mmol)、丙烯酸正十二烷酯0.10g(0.4mmol)、NMP8.0g、及AIBN17mg，對燒瓶內實施氮氣置換之後，在溫度60℃下攪拌20小時使其反應。將所得到的反應溶液投入200mL的甲醇，使白色粉末沉澱。將此白色粉末過濾之後，在室溫下進行真空乾燥，而得到聚合物(10)0.55g(產率69%)。
所得到的聚合物的Mn為15,040、Mw為35,795(Mw/Mn=2.38)。
[實施例10]聚合物(11)的合成
在具備冷凝管的燒瓶中裝入合成例3所得到的聚合性化合物(M4)0.40g(1.0mmol)、實施例1所得到的聚合性化合物(M2)0.30g(0.6mmol)、丙烯酸正十二烷酯0.10g(0.4mmol)、NMP8.0g、及AIBN17mg，對燒瓶內實施氮氣置換之後，在溫度60℃下攪拌20小時使其反應。將所得到的反應溶液投入200mL的甲醇，使白色粉末沉澱。將此白色粉末過濾之後，在室溫下進行真空乾燥，而得到聚合物(11)0.55g(產率69%)。
所得到的聚合物的Mn為11,873、Mw為26,358(Mw/Mn=2.22)。
[組成物的調製及薄膜製作．評估]
使用上述實施例、比較例所得到的聚合物來調製組成物，依照下述條件製作出薄膜，並檢討其特性。
薄膜製作條件：旋轉塗佈：300rpm/5秒鐘、800~2,000rpm/20秒鐘
預烘：50℃/20秒鐘(熱板)
曝光：直線偏光紫外線、波長313nm、垂直照射、照 射線量500mJ/cm2
後烘：100℃/10分鐘(熱板)
[實施例11]
使聚合物(1)150mg及界面活性劑的R-30(DIC股份有限公司製)0.3mg溶於環己酮850mg，而得到聚合物(1)的溶液。
藉由旋轉塗佈將此溶液塗佈於玻璃基板，預烘之後，放涼至室溫。此時，基板上所得到的膜為透明。
接下來，使形成於玻璃基板的塗膜曝光，然後進行後烘。所得到的薄膜的膜厚為0.8μm，以偏光顯微鏡對其進行觀察，其結果，確認了薄膜相對於基板表面呈水平配向。並且其延遲值(△nd)為62.3nm，霧度值為2.1%。
[比較例3]
使聚合物(2)150mg及界面活性劑的R-30(DIC股份有限公司製)0.3mg溶於環己酮850mg，而得到聚合物(2)的溶液。
藉由旋轉塗佈將此溶液塗佈於玻璃基板，預烘之後，放涼至室溫。此時，基板上所得到的膜為透明。
接下來，使形成於玻璃基板的塗膜曝光，然後進行後烘。所得到的薄膜的膜厚為0.7μm，以偏光顯微鏡對其進行觀察，其結果，無法得到水平配向薄膜，其△nd為7.6nm，霧度值為10.5%。
[實施例12]
使聚合物(3)150mg及界面活性劑的R-30(DIC股份有限公司製)0.3mg溶於環己酮850mg，而得到聚合物(3)的溶液。
藉由旋轉塗佈將此溶液塗佈於玻璃基板，預烘之後，放涼至室溫。此時，基板上所得到的膜為透明。
接下來，使形成於玻璃基板的塗膜曝光，然後進行後烘。所得到的薄膜的膜厚為0.8μm，以偏光顯微鏡對其進行觀察，其結果，確認了薄膜相對於基板表面呈水平配向。並且其△nd為96.7nm，霧度值為1.3%。
[實施例13]
使聚合物(4)150mg及界面活性劑的R-30(DIC股份有限公司製)0.3mg溶於環己酮850mg，而得到聚合物(4)的溶液。
藉由旋轉塗佈將此溶液塗佈於玻璃基板，預烘之後，放涼至室溫。此時，基板上所得到的膜為透明。
接下來，使形成於玻璃基板的塗膜曝光，然後進行後烘。所得到的薄膜的膜厚為0.9μm，以偏光顯微鏡對其進行觀察，其結果，確認了薄膜相對於基板表面呈水平配向。並且其△nd為118.8nm，霧度值為0.9%。
[實施例14]
使聚合物(5)150mg及界面活性劑的R-30(DIC股份有 限公司製)0.3mg溶於環己酮850mg，而得到聚合物(5)的溶液。
藉由旋轉塗佈將此溶液塗佈於玻璃基板，預烘之後，放涼至室溫。此時，基板上所得到的膜為透明。
接下來，使形成於玻璃基板的塗膜曝光，然後進行後烘。所得到的薄膜的膜厚為0.9μm，以偏光顯微鏡對其進行觀察，其結果，確認了薄膜相對於基板表面呈水平配向。並且其△nd為99.1nm，霧度值為0.4%。
[實施例15]
使聚合物(6)150mg及界面活性劑的R-30(DIC股份有限公司製)0.3mg溶於環己酮850mg，而得到聚合物(6)的溶液。
藉由旋轉塗佈將此溶液塗佈於玻璃基板，預烘之後，放涼至室溫。此時，基板上所得到的膜為透明。
接下來，使形成於玻璃基板的塗膜曝光，然後進行後烘。所得到的薄膜的膜厚為0.8μm，以偏光顯微鏡對其進行觀察，其結果，確認了薄膜相對於基板表面呈水平配向。並且其△nd為113.3nm，霧度值為0.9%。
[實施例16]
使聚合物(7)150mg及界面活性劑的R-30(DIC股份有限公司製)0.3mg溶於環己酮850mg，而得到聚合物(7)的溶液。
藉由旋轉塗佈將此溶液塗佈於玻璃基板，預烘之後，放涼至室溫。此時，基板上所得到的膜為透明。
接下來，使形成於玻璃基板的塗膜曝光，然後進行後烘。所得到的薄膜的膜厚為0.9μm，以偏光顯微鏡對其進行觀察，其結果，確認了薄膜相對於基板表面呈水平配向。並且其△nd為118.3nm，霧度值為1.8%。
[比較例4]
使聚合物(8)150mg及界面活性劑的R-30(DIC股份有限公司製)0.3mg溶於環己酮850mg，而得到聚合物(8)的溶液。
藉由旋轉塗佈將此溶液塗佈於玻璃基板，預烘之後，放涼至室溫。此時，基板上所得到的膜為透明。
接下來，使形成於玻璃基板的塗膜曝光，然後進行後烘。所得到的薄膜的膜厚為0.8μm，以偏光顯微鏡對其進行觀察，其結果，無法得到水平配向薄膜，其△nd為8.4nm，霧度值為4.7%。
[實施例17]
使聚合物(9)150mg及界面活性劑的R-30(DIC股份有限公司製)0.3mg溶於環己酮850mg，而得到聚合物(9)的溶液。
藉由旋轉塗佈將此溶液塗佈於玻璃基板，預烘之後，放涼至室溫。此時，基板上所得到的膜為透明。
接下來，使形成於玻璃基板的塗膜曝光，然後進行後烘。所得到的薄膜的膜厚為0.8μm，以偏光顯微鏡對其進行觀察，其結果，確認了薄膜相對於基板表面呈水平配向。並且其△nd為86.0nm，霧度值為2.2%。
[實施例18]
使聚合物(10)150mg及界面活性劑的R-30(DIC股份有限公司製)0.3mg溶於環己酮/甲苯(質量比25/75)850mg，而得到聚合物(10)的溶液。
藉由旋轉塗佈將此溶液塗佈於玻璃基板，預烘之後，放涼至室溫。此時，基板上所得到的膜為透明。
接下來，使形成於玻璃基板的塗膜曝光，然後進行後烘。所得到的薄膜的膜厚為1.0μm，以偏光顯微鏡對其進行觀察，其結果，確認了薄膜相對於基板表面呈水平配向。並且其△nd為77.3nm，霧度值為0.5%。
[實施例19]
使聚合物(11)150mg及界面活性劑的R-30(DIC股份有限公司製)0.3mg溶於環己酮/甲苯(質量比25/75)850mg，而得到聚合物(11)的溶液。
藉由旋轉塗佈將此溶液塗佈於玻璃基板，預烘之後，放涼至室溫。此時，基板上所得到的膜為透明。
接下來，使形成於玻璃基板的塗膜曝光，然後進行後烘。所得到的薄膜的膜厚為0.9μm，以偏光顯微鏡對其進 行觀察，其結果，確認了薄膜相對於基板表面呈水平配向。並且其△nd為76.2nm，霧度值為0.5%。
將以上的結果彙整並揭示於下述表1。
圖1及圖2表示實施例11~16並且比較例3及4所製作出的薄膜的延遲值(△nd)的角度依存性。若比較實施例11~16(圖1)與比較例3及4(圖2)，則可知在實施例11~16中，表現出水平配向，相對於此，在比較例3及4中，並未表現出完全的水平配向，△nd也很低。

Claims (9)

  1. 一種聚合物，其特徵為：含有下述式[1a]、[1b]及[1c]所表示之重覆單元： [式中，X及Y各自獨立地為下述式[2]或[3]所表示之基， (式[3]中，R1為氫原子或甲基；虛線為鍵結鍵)M1為下述式[4]所表示之基，M2為下述式[5]所表示之基， (式[4]及[5]中，s1、s2、s3及s4各自獨立地為1或2，G1 及G2各自獨立地為單鍵、-COO-或-OCO-，R2及R3各自獨立地為氫原子、鹵素原子、氰基、碳數1~10之烷基、或碳數1~10之烷氧基；虛線為鍵結鍵)A為碳數2~15之直鏈狀或分支狀烷基，m、n及p分別為滿足0<m<1、0<n<1、0≦p≦0.5，且m+n+p≦1之數，q及r各自獨立地為2~9之整數]。
  2. 如申請專利範圍第1項之聚合物，其中上述X及Y為上述式[3]所表示之基。
  3. 如申請專利範圍第1或2項之聚合物，其中上述m、n及p分別為滿足0.2≦m≦0.9、0.1≦n≦0.8、0≦p≦0.4之數。
  4. 如申請專利範圍第3項之聚合物，其中上述m、n及p分別為滿足0.2≦m≦0.8、0.1≦n≦0.5、0.1≦p≦0.3之數。
  5. 一種組成物，其係含有如申請專利範圍第1~4項中任一項之聚合物與有機溶劑，前述有機溶劑的使用量在組成物中占60~95質量%。
  6. 一種單層塗佈型水平配向薄膜，其係藉由將如申請專利範圍第5項之組成物塗佈於基板，然後照射偏光使其硬化所得到。
  7. 如申請專利範圍第6項之單層塗佈型水平配向薄膜，其中上述偏光為直線偏光紫外線。
  8. 一種光學構件，其係具備如申請專利範圍第6或7 項之單層塗佈型水平配向薄膜。
  9. 一種聚合性化合物，其特徵為：下述式[7]所表示： (式[7]中，s3及s4各自獨立地為1或2，G2為單鍵、-COO-或-OCO-，R3為氫原子、鹵素原子、氰基、碳數1~10之烷基、或碳數1~10之烷氧基)。
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