TWI566643B - X射線照射源 - Google Patents

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TWI566643B
TWI566643B TW102106556A TW102106556A TWI566643B TW I566643 B TWI566643 B TW I566643B TW 102106556 A TW102106556 A TW 102106556A TW 102106556 A TW102106556 A TW 102106556A TW I566643 B TWI566643 B TW I566643B
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ray
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Norimasa Kosugi
Naoki Okumura
Tatsuya Nakamura
Toru Fujita
Tomoyuki Okada
Akiomi Ujima
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Hamamatsu Photonics Kk
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Description

X射線照射源
本發明係關於在框體內具備X射線管之X射線照射源。
作為以往的X射線照射源,具有例如專利文獻1所記載的X射線管。在此以往的結構,在具有X射線射出窗的框體內組裝有X射線管、高壓產生模組等,讓X射線管抵接於設在X射線射出窗的附近之底座並加以固定。又,在專利文獻2所記載的X射線產生裝置,將設在X射線管的輸出窗的周圍之凸緣抵接於框體的內壁面而予以固定。
〔先行技術文獻〕 〔專利文獻〕
〔專利文獻1〕美國專利第4034251公報
〔專利文獻2〕日本特開2000-67790號公報
從讓X射線穩定輸出的觀點來看,在框體內穩定地固定X射線管極為重要。但,如專利文獻1般,在實質上僅固定X射線管的一端側之情況,根本不易將其穩定地固定。相對於此,如專利文獻2般,若為固定複數個部位之情況,可將固定予以穩定化,但,由於具有複數個固定用構件,故會有造成結構複雜化之虞。
本發明係為了解決前述課題而開發完成的發明,其目的在於提供不使裝置結構複雜化,又能將X射線管穩定地固定在框體內之X射線照射源。
為了解決前述課題,本發明之X射線照射源係具備有:將X射線從輸出窗輸出之X射線管;搭載有X射線管之第1電路基板;及框體,該框體收容有X射線管及第1電路基板,並具有壁部,該壁部形成有將從X射線管輸出的X射線朝外部射出的X射線射出窗,其特徵為:X射線管係在藉由第1電路基板按壓於壁部的內面之狀態下固定於框體。
在此X射線照射源,在藉由第1電路基板將X射線管按壓於壁部的內面之狀態下固定於框體。藉由第1電路基板與壁部挾持,能夠將X射線管穩定地固定在框 體內。又,在此X射線照射源,將組裝於框體內的第1電路基板本身使用於X射線管之按壓。因此,不需要另外設置用來按壓X射線管之構件,亦可迴避裝置結構的複雜化。
又,在X射線管與壁部的內面之間,以與輸出窗的至少一部分接觸的方式配置具有導電性的緩衝構件為佳。
在此情況,既可緩和因按壓所引起之對X射線管的應力,又可在框體內將X射線管穩定地固定。且,由於緩衝構件具有導電性,故,藉由使框體的電位與輸出窗的電位一致,能夠使X射線管的動作穩定。
又,框體係具備:具有壁部的本體部;及固定有X射線管及第1電路基板之蓋部,藉由以緊固構件將蓋部緊固於本體部,將X射線管按壓於壁部的內面。
藉此,能夠以簡單的結構進行X射線管之穩定的固定。
又,X射線管及第1電路基板係藉由立設於蓋部之間隔構件所支承為佳。
在此情況,因藉由間隔構件能夠將X射線管確實地按壓於壁部的內面,並且可在框體內確保一定的收容空間,所以,可提升電路構成構件之配置自由度。
又,進一步具備有:將供給至第1電路基板的電壓予以升壓之高壓產生模組;及搭載有高壓產生模組之第2電路基板, 高壓產生模組及第2電路基板係藉由立設於蓋部之間隔構件,在較X射線管及第1電路基板更靠近蓋部側的位置被支承為佳。
在此情況,藉由將X射線管及較大結構的高壓產生模組收納於收容空間,可有效地利用框體內的空間。
又,在X射線管,設有朝側面突出之供電銷,在第1電路基板,設有與X射線管的平面形狀相對應的貫通孔,藉由在X射線管的一部分位於貫通孔內的狀態下,供電銷連接於貫通孔周圍的緣部,將X射線管保持於第1電路基板為佳。
在此情況,能夠簡單地實施X射線管與第1電路基板之對位。又,藉由X射線管的一部分位於貫通孔內,能夠縮小相當於貫通孔的深度之框體的厚度。
又,在X射線管,設有朝側面突出之供電銷,在第1電路基板,設有與X射線管的平面形狀相對應的凹部,藉由在X射線管的一部分位於凹部內的狀態下,供電銷連接於凹部周圍的緣部,將X射線管保持於第1電路基板為佳。
在此情況,能夠簡單地實施X射線管與第1電路基板之對位。又,能夠藉由第1電路基板穩固地按壓X射線 管。且,藉由X射線管的一部分位於凹部內,能夠縮小相當於凹部的深度之框體的厚度。
若依據本發明,不會使裝置結構複雜化,而可在框體內將X射線管予以穩定地固定。
1‧‧‧X射線照射裝置
2‧‧‧X射線照射源
21‧‧‧X射線管
22‧‧‧高壓產生模組
31‧‧‧框體
31a‧‧‧壁部
31c‧‧‧蓋部
32‧‧‧第1電路基板
32a‧‧‧貫通孔
32b‧‧‧凹部
33‧‧‧第2電路基板
34‧‧‧X射線射出窗
35‧‧‧本體部
55‧‧‧供電銷
57‧‧‧輸出窗
61,62,71,82,87‧‧‧間隔構件
65,86,88,89‧‧‧螺絲(緊固構件)
67‧‧‧緩衝構件
圖1係顯示包含本發明之X射線照射源而構成的X射線照射裝置的一實施形態之斜視圖。
圖2係顯示如圖1所示的X射線照射裝置的機能性構成要件之方塊圖。
圖3係如圖1所示的X射線照射源之斜視圖。
圖4係圖3的平面圖。
圖5係圖4之V-V線斷面圖。
圖6係顯示X射線管與第1電路基板的固定構造之一例的圖。
圖7係顯示X射線管與第1電路基板的固定構造之其他例的圖。
圖8係顯示X射線照射源的變形例之平面圖。
圖9係圖8之IX-IX線斷面圖。
圖10係顯示X射線照射源的其他變形例之平面圖。
圖11係圖10之XI-XI線斷面圖。
圖12係顯示X射線照射源的其他變形例之斷面圖。
圖13係顯示X射線照射源的其他變形例之斷面圖。
以下,參照圖面,說明關於本發明之X射線照射源的理想實施形態。圖1係顯示包含本發明之X射線照射源而構成的X射線照射裝置的一實施形態之斜視圖。如同圖所示的X射線照射裝置1係在處理例如大型玻璃之製造線,設置在清淨室等,構成作為藉由X射線的照射進行大型玻璃的除電之光式靜電消除器(光照射式除電裝置)。
此X射線照射裝置1之結構為具備:照射X射線之複數個X射線照射源2;控制X射線照射源2的控制器3;及排列X射線照射源2並予以保持之軌道構件4。軌道構件4係具有:在與X射線照射源2分離的方向上形成有凹部且斷面略呈字狀的通道部4a;及從通道部4a的端部朝側面突出之凸緣部4b、4b。軌道構件4係藉由例如鋁、鋁合金、或鐵、鐵合金等具有導電性之金屬所構成,為了保持複數個X射線照射源2而確保有充分的強度。再者,軌道構件4不限於一體形成者,亦可為將沿著長度方向(延伸方向)分割之分割構件可自由裝卸地連結者。在此情況,因可配合被處理物的大小、數量等,獲得期望的形狀、大小等的保持構造,所以能夠更有效率地進行利用X射線照射所達到的除電。
圖2係顯示X射線照射裝置1的機能性構成要件之方塊圖。如同圖所示,控制器3係包含控制電路11而構成。控制電路11之結構為包含例如朝內裝於X射線照射源2的X射線管21供給電力之電源電路、朝X射線管21傳送用來控制驅動及停止的控制訊號之控制訊號傳送電路、及從X射線管21接收顯示X射線管21已經到達使用壽命內容之使用壽命通知訊號之使用壽命通知訊號接收電路等。此控制電路11係可藉由輸入輸出端子12,與X射線照射單元2等進行外部連接。
另外,X射線照射源2之結構為包含:產生X射線之X射線管21;將來自於電源電路的電壓予以升壓之高壓產生模組22;及用來驅動X射線管21及高壓產生模組22之驅動電路23。在驅動電路23,連接有主配線24,主配線24係藉由設在其兩端的輸入端子及25及輸出端子26,可與其他的X射線照射單元2、控制器3等進行外部連接。
又,在X射線照射裝置1,如圖1及圖2所示,一個X射線照射源2的輸出端子26經由中繼電纜C,可自由裝卸地連接於相鄰的其他X射線照射源2之輸入端子25。在到達前端的X射線照射單元2為止,各X射線照射單元2彼此同樣地連結,另外,控制器3的輸入輸出端子12經由中繼電纜C可自由裝卸地連接於基端的X射線照射源2之輸入端子25。藉此,各X射線照射源2的主配線24對控制電路11以串聯方式連接,各X射線照 射源2的驅動電路23對控制電路11以並聯方式連接。
藉由此結構,從一個X射線照射單元2的輸入端子25所輸入的電壓值與從輸出端子26所輸出的電壓值成為相等,而從一個X射線照射單元2的輸出端子26所輸出的電壓值與和一個X射線照射單元2電性連接的其他X射線照射單元2的輸入端子25所輸入的電壓值及自輸出端子26所輸出的電壓值均相等。因此,即使在將複數個X射線照射單元2連結成一列之情況,可對所有的X射線照射單元2供給相同值的電壓。因此,在將各X射線照射單元2彼此電性連接之情況,不需要對每個X射線照射單元2連接包含電源電路之控制器3的控制電路11,不會造成配線的複雜化,可進行X射線照射單元2的連結數量的增減。
其次,詳述關於前述X射線照射源2之結構。
圖3係如圖1所示的X射線照射源之斜視圖。又,圖4係圖3的平面圖,圖5係圖4的V-V線斷面圖。如圖3至圖5所示,X射線照射源2係在使用不銹鋼、鋁等之金屬製的略長方體形狀之框體31內,具有:前述的X射線管21及高壓產生模組22;搭載有X射線管21及驅動電路23中的至少一部分之第1電路基板32;及搭載有高壓產生模組22之第2電路基板33。
框體31係如圖3所示,作成接地電位並具備有:長方形壁部31a,其形成有將自X射線管21所產生 的X射線朝外部射出之X射線射出窗34;本體部35,其具有設在該壁部31a的各邊之側壁部31b且一面側呈開口;及蓋部31c,其與壁部31a相對向安裝成堵住本體部35的開口部分。X射線射出窗34係在壁部31a的略中央部分,藉由以沿著框體31的長度方向形成為長方形之開口部所構成。
在此框體31與軌道構件4之安裝,如圖3所示,採用複數個接頭構件41。接頭構件41係藉由例如具有絕緣性及彈性之樹脂材料所形成,具備:具有與軌道構件4的寬度方向(軌道構件4之與延伸方向正交的方向)大致相同長度且剖面成矩形的棒狀之本體部41a;及分別形成在本體部41a的兩端之爪部41b、41b。利用以螺絲固定等的方式將本體部41a對蓋部31c固定且將爪部41b、41b分別卡合於軌道構件4的凸緣部4b、4b之端部,使得X射線照射源2對軌道構件4可自由裝卸地安裝。作為本體部41a對蓋部31c之固定方法,除了螺絲之螺合外,亦可採用黏接、熔接等。再者,亦可如圖1所示,在X射線照射源2、2間進一步安裝接頭構件41,藉由接頭構件41將連結X射線照射源2、2間之中繼電纜C的中間部分捆束於軌道構件4。
X射線管21係在較框體31小很多的略長方體形狀之真空容器51內,具備有:用來產生電子光束之細絲52;使電子光束加速之柵極53;及因應電子光束的射入,使X射線產生之標靶54。真空容器51係具備有:由 設有後述的輸出窗57之導電性材料(例如不銹鋼等的金屬板)所構成之長方形狀的壁部51a;與該壁部51a相對向,由長方形狀的絕緣性材料(例如玻璃)所構成之壁部51b;及沿著壁部51a、51b之外緣且由絕緣性材料(例如玻璃)所構成之側壁部51c。側壁部51c的高度係較壁部51a、51b的短邊方向之長度小。亦即,真空容器51係為構成高度的邊之長度最短,可將壁部51a、51b當作平板平面之平板狀的略長方體形狀。在壁部51a的略中央部分,較X射線射出窗34小了一圈的開口部51d沿著真空容器51的長度方向(壁部51a、51b的長度方向)形成為長方形狀。此開口部51d係構成後述的輸出窗57。
細絲52係配置於壁部51b側,柵極53係配置於細絲52與標靶54之間。在細絲52及柵極53分別連接有複數個供電銷55(參照圖4)。供電銷55係通過側壁部51c與壁部51b之間,成為分別朝真空容器51的寬度方向之兩側突出的狀態。又,在壁部51a的外面側,如圖5所示,以封住開口部51d的方式,密接固定有由例如鈹、矽、鈦等X射線透過性佳且具備導電性的材料所構成之長方形狀的窗材56,其構成將在標靶54所產生的X射線從X射線管21朝外部輸出之輸出窗57。再者,由例如鎢等所構成之標靶54是形成於窗材56的內面。
在進行X射線管21與第1電路基板32的固定之際,如圖6(a)及圖6(b)所示,在第1電路基板32的略中央部分,形成有僅較以X射線管21的壁部51b 側的最外緣所構成的平面形狀稍大之長方形狀的貫通孔32a。該貫通孔32a的深度,亦即,第1電路基板32的厚度係與真空容器51之壁部51b的厚度大致相同。又,X射線管21係壁部51b位於貫通孔32a內且各供電銷55藉由硬焊材等的導電性構件連接於第1電路基板32的一面側之貫通孔32a周圍之緣部,藉此保持於第1電路基板32,並且與第1電路基板32上的電路形成電性連接。且,為了覆蓋各供電銷55與第1電路基板32連接之連接部,設有利用絕緣性樹脂所構成之封合部58。封合部58係在跨越真空容器51與第1電路基板32的狀態下形成於真空容器51之全周範圍,兼作X射線管21對第1電路基板32進行固定時之輔助。另外,在進行高壓產生模組22與第2電路基板33的固定之際,如圖5所示,在第2電路基板33未形成貫通孔等,高壓產生模組22係在第2電路基板33,藉由黏合等固定在與第1電路基板32相對向的一面側。
再者,在進行X射線管21與第1電路基板32的固定之際,在第1電路基板32具有充分厚度之情況,亦可如圖7(a)所示,在第1電路基板32,形成較以X射線管21的壁部51b側的最外緣所構成之平面形狀稍大的長方形狀之凹部32b,來取代前述貫通孔32a的形成。在此情況,以壁部51b位於凹部32b內,且各供電銷55與第1電路基板32的一面側之凹部32b周圍的緣部接觸的方式配置X射線管21為佳。
又,並非一定需要形成貫通孔32a或凹部32b等,亦可如圖7(b)所示,在第1電路基板32的一面側,直接載置X射線管21之真空容器51。在此情況,例如使供電銷55沿著壁部51b的側面延伸而與第1電路基板32接觸即可。無論何種形態,供電銷55電氣性及物理性地接觸於第1電路基板32即可,除了朝真空容器51的側面突出之形狀外,亦可形成為在例如壁部51b的側面、底面、或側壁部51c的外面等迂迴。
在進行框體31內的X射線管21、高壓產生模組22、第1電路基板32、及第2電路基板33的固定之際,如圖4及圖5所示,採用藉由間隔構件61、62所形成的2段構造。間隔構件61、62係藉由例如陶磁、聚醯亞胺‧耐綸‧環氧等的各種樹脂材料形成為棒狀,成非導電性。間隔構件61、62係配置在2個部位,用以將真空容器51挾持在長度方向上。
第1層的間隔構件61係藉由螺絲63的緊固來立設於框體31之蓋部31c的內面側,第2層的間隔構件62係將搭載有高壓產生模組22的第2電路基板33並予以固定之狀態下連結於第1層的間隔構件61之前端。又,在第2層的間隔構件62之前端,搭載有X射線管21之第1電路基板32藉由螺絲64的緊固,與第2電路基板33略平行地固定著。
設有這樣結構之蓋部31c係對位成X射線管21之輸出窗57從框體31的X射線射出窗34露出,藉由 螺絲65的緊固,固定於本體部35。藉由此螺絲65的緊固,X射線管21成為被第1電路基板32按壓於框體31之壁部31a的內面之狀態。再者,第2層的間隔構件62之長度成為第1層的間隔構件61之數倍左右的長度,第1電路基板32與高壓產生模組22相互地分離。第1電路基板32與高壓產生模組22的連接,可為有線連接,亦可為無線連接。
又,如圖4及圖5所示,在X射線管21與壁部31a之間,配置有例如鋼綿,導電墊、導電性橡膠等具有導電性及緩衝性的緩衝構件67。緩衝構件67係具備有讓輸出窗57露出的開口部;及以與窗材56的周緣部接觸的方式包圍輸出窗57的周圍之矩形框狀部,將框體31與輸出窗57予以電性連接。又,設在框體31之X射線射出窗34係較X射線管21的輸出窗57大了一圈,在從上側觀看框體31,其與壁部31a相面對之情況,讓輸出窗57全體露出。因此,可抑制從輸出窗57以具發散角度的方式所釋出的X射線被X射線射出窗34的緣部遮斷之情況產生。且,窗材56、壁部51a、緩衝構件67等具有可從X射線射出窗34露出的可能性之所有材料均呈導電性且與框體31形成電性連接。
如以上所說明,在X射線照射源2,利用以螺絲65將蓋部31c鎖緊在本體部35,在藉由第1電路基板32按壓於壁部31a的內面之狀態下,將X射線管21固定於框體31。如此,藉由第1電路基板32與壁部31a挾 持,能夠將X射線管21穩定地固定在框體31內。在本實施形態,因構成X射線管21的真空容器51之面中,面積大且形成有輸出窗57的壁部51a側在按壓於壁部31a的內面之狀態下固定X射線管21,所以,可達到更穩定的固定,並且在標靶54所產生的熱也容易傳達到框體31,X射線管21的散熱效率亦佳。又,在此X射線照射源2,將組裝於框體31內的第1電路基板32本身使用於X射線管21之按壓。亦即,由於在X射線照射源2的動作中所必要的結構可兼作X射線管21的按壓構件,故,不需要另外設置用來按壓X射線管21之新構件,亦可迴避裝置結構的複雜化。
又,在X射線照射源2,在X射線管21與壁部31a的內面之間,配置具有導電性的緩衝構件67,以與構成輸出窗57之薄片56接觸。藉此,因既可緩和因按壓所引起之對X射線管21的直接應力,又可達到更強力的按壓,所以,在框體31內,可將X射線管21更穩定地固定。且,由於緩衝構件67具有導電性,故,藉由使框體31的電位與輸出窗57的電位一致,可使輸出窗57的電位穩定,進而能夠使X射線管21的動作穩定。
又,在X射線照射源2,藉由立設於蓋部31c的間隔構件61、62,使得搭載有X射線管21之第1電路基板32與搭載有高壓產生模組22之第2電路基板33成為2段構造,高壓產生模組22及第2電路基板33在較X射線管21及第1電路基板32更靠近蓋部31c側的位置被 支承著。藉由這樣的結構,利用間隔構件61、62,在框體31內確保一定的收容空間,並且藉由將配置在框體31內的電路分割成第1電路基板32與第2電路基板33,能夠提升電路構成構件之配置自由度。在X射線照射源2,尤其是藉由將X射線管21及較大結構的高壓產生模組22收納於收容空間,可有效地利用框體31內的空間。
又,在X射線照射源2,設有從X射線管21的真空容器51朝側面突出之供電銷55,並且在第1電路基板32設有與X射線管21的平面形狀相對應的貫通孔32a,在X射線管21的壁部51b位在貫通孔32a內的狀態下,供電銷55連接於貫通孔32a周圍之緣部,藉此X射線管21保持於第1電路基板32。藉此,能夠簡單地實施X射線管21與第1電路基板32之對位。又,藉由X射線管21的壁部51b位於貫通孔32a內,能夠將框體31的厚度縮小相當於貫通孔32a的深度,可謀求裝置的小型化。
再者,即使在如圖7(a)所示,形成凹部32b代替貫通孔32a之情況,也可藉由凹部32b,簡單地實施X射線管21與第1電路基板32之對位,並且可藉由第1電路基板32與X射線管21直接面接觸,可穩固地按壓X射線管21。且,藉由X射線管21的壁部51b位於凹部32b內,能夠縮小相當於凹部32b的深度之框體31的厚度。
又,在如圖7(b)所示,在第1電路基板32的一面側直接載置X射線管21的真空容器51之情況,亦 可藉由第1電路基板32與X射線管21直接面接觸,穩固地按壓X射線管21。藉由X射線管21對壁部31a穩固地按壓,可提升X射線管21朝框體31之傳熱效率,亦即,可提升X射線管21之散熱效率。
本發明係不限於前述實施形態。例如在前述實施形態,使用棒狀的間隔構件61、62,但,間隔構件的形狀可採用柱狀、板狀、框狀等的各種形狀。又,間隔構件的配置數量、配置部位等也可適宜設計。
伴隨此,關於在框體31內的X射線管21等的組裝構造亦可予以變形。例如在圖8及圖9所示的例子,讓第1電路基板32具有第2電路基板33之功能,減少基板的數量,藉由配置在X射線管21的長度方向的兩側與寬度方向的兩側之共4個部位的間隔構件71來支承第1電路基板32。間隔構件71之長度係與圖5所示的間隔構件61、62的總合長度大致相等,確保第1電路基板32與蓋部31c之間的空間。又,高壓產生模組22係在第1電路基板32,固定於X射線管21相反側的面。
在這樣的結構,藉由減少電路基板的數量,能夠進一步縮小框體31之厚度。又,藉由以4個部位的間隔構件71支承第1電路基板32,可使得藉由第1電路基板32對X射線管21所進行之按壓均等化,可將X射線管21在框體31內更穩定地固定。再者,間隔構件71的長度係若可形成配置高壓產生模組22所需要的空間,則亦可作成為較間隔構件61、62的總合長度短。
又,在例如圖10及圖11所示的例子,使用面積較圖4及圖5所示的第1電路基板32大之框體31及第1電路基板32,在第1電路基板32的一面側,於X射線管21的寬度方向的一方側設置將X射線管21予以驅動之驅動電路23的配置區域81,在另一方側搭載高壓產生模組22。又,將框狀的間隔構件82固定在蓋部31c,而在間隔構件82的前端固定第1電路基板32。在這樣的結構,亦可藉由減少電路基板的數量,能夠進一步縮小框體31之厚度。又,藉由以框狀的間隔構件82支承第1電路基板32,可使得藉由第1電路基板32對X射線管21所進行之按壓均等化,可將X射線管21在框體31內更穩定地固定。
又,在例如圖12所示的例子,在框體31的側壁部31b設置沿著壁部31a的內面之延伸部,將此延伸部與壁部31a的端部以螺絲86予以緊固。藉此,X射線管21除了藉由第1電路基板32按壓於壁部31a的內面,還藉由壁部31a的內面對第1電路基板32按壓。因此,能夠以第1電路基板32與壁部31a的內面更穩固地挾持X射線管21,將X射線管21在框體31內更穩定地固定。
且,在例如圖13所示的例子,在第1電路基板32與壁部31a之間設置間隔構件87,來取代配置在第1電路基板32與第2電路基板33之間的間隔構件62。又,介裝第1電路基板32讓螺絲88鎖緊於間隔構件87 的一端部,介裝壁部31a讓螺絲89鎖緊於間隔構件87之另一端部。在這樣的結構,X射線管21除了藉由第1電路基板32按壓於壁部31a的內面,也還藉由壁部31a的內面對第1電路基板32按壓。因此,能夠以第1電路基板32與壁部31a的內面更穩固地挾持X射線管21,將X射線管21在框體31內更穩定地固定。
再者,並非一定需要使用框體內的間隔構件。在此情況,亦可例如在蓋部31c本身設置朝框體31內突出的突出部,藉由突出部,按壓第1電路基板32。又,亦可在側壁部31b設置具有相同作用的突出部。
2‧‧‧X射線照射源
21‧‧‧X射線管
22‧‧‧高壓產生模組
23‧‧‧驅動電路
31‧‧‧框體
31a‧‧‧壁部
31b‧‧‧側壁部
31c‧‧‧蓋部
32‧‧‧第1電路基板
32a‧‧‧貫通孔
33‧‧‧第2電路基板
34‧‧‧X射線射出窗
35‧‧‧本體部
51‧‧‧真空容器
51a、51b‧‧‧壁部
51c‧‧‧側壁部
51d‧‧‧開口部
52‧‧‧細絲
53‧‧‧柵極
54‧‧‧標靶
56‧‧‧窗材
57‧‧‧輸出窗
58‧‧‧封合部
61,62‧‧‧間隔構件
63,64,65‧‧‧螺絲(緊固構件)
67‧‧‧緩衝構件

Claims (7)

  1. 一種X射線照射源,係具備有:將X射線從輸出窗輸出之X射線管;搭載有前述X射線管之第1電路基板;及框體,該框體收容有前述X射線管及前述第1電路基板,並具有壁部,該壁部形成有將從前述X射線管輸出的X射線朝外部射出的X射線射出窗,其特徵為:前述X射線管係在藉由前述第1電路基板按壓於前述壁部的內面之狀態下固定於前述框體。
  2. 如申請專利範圍第1項之X射線照射源,其中,在前述X射線管與前述壁部的內面之間,以與前述輸出窗的至少一部分接觸的方式配置具有導電性的緩衝構件。
  3. 如申請專利範圍第1或2項之X射線照射源,其中,前述框體係具備:具有前述壁部的本體部;及固定有前述X射線管及前述第1電路基板之蓋部,藉由前述蓋部以緊固構件緊固於前述本體部,將前述X射線管按壓於前述壁部之內面。
  4. 如申請專利範圍第3項之X射線照射源,其中,前述X射線管及前述第1電路基板係藉由立設於前述蓋部之間隔構件所支承。
  5. 如申請專利範圍第4項之X射線照射源,其中,進一步具備有:將供給至前述第1電路基板的電壓予以升壓之高壓產生模組;及搭載有前述高壓產生模組之第2電路基板, 前述高壓產生模組及前述第2電路基板係藉由立設於前述蓋部之間隔構件,在較前述X射線管及前述第1電路基板更靠近前述蓋部側的位置被支承。
  6. 如申請專利範圍第1或2項之X射線照射源,其中,在前述X射線管,設有朝側面突出之供電銷,在前述第1電路基板,設有與前述X射線管的平面形狀相對應的貫通孔,藉由在前述X射線管的一部分位於前述貫通孔內的狀態下,前述供電銷連接於前述貫通孔周圍的緣部,將前述X射線管保持於前述第1電路基板。
  7. 如申請專利範圍第1或2項之X射線照射源,其中,在前述X射線管,設有朝側面突出之供電銷,在前述第1電路基板,設有與前述X射線管的平面形狀相對應的凹部,藉由在前述X射線管的一部分位於前述凹部內的狀態下,前述供電銷連接於前述凹部周圍的緣部,將前述X射線管保持於前述第1電路基板。
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