TWI555790B - 光半導體裝置用環氧樹脂組成物、使用其所得之光半導體裝置用導線架及光半導體裝置用基板、以及光半導體裝置 - Google Patents
光半導體裝置用環氧樹脂組成物、使用其所得之光半導體裝置用導線架及光半導體裝置用基板、以及光半導體裝置 Download PDFInfo
- Publication number
- TWI555790B TWI555790B TW101127826A TW101127826A TWI555790B TW I555790 B TWI555790 B TW I555790B TW 101127826 A TW101127826 A TW 101127826A TW 101127826 A TW101127826 A TW 101127826A TW I555790 B TWI555790 B TW I555790B
- Authority
- TW
- Taiwan
- Prior art keywords
- optical semiconductor
- semiconductor device
- epoxy resin
- resin composition
- component
- Prior art date
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims description 127
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 126
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 title claims description 111
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 title claims description 111
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims description 79
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims description 24
- DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N decane Chemical compound CCCCCCCCCC DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 52
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 33
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 27
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 claims description 26
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 claims description 19
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 claims description 19
- 239000012463 white pigment Substances 0.000 claims description 18
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 claims description 9
- 238000001721 transfer moulding Methods 0.000 claims description 9
- ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N isocyanuric acid Chemical group OC1=NC(O)=NC(O)=N1 ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 claims description 4
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 claims description 3
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 claims description 3
- ZWAJLVLEBYIOTI-UHFFFAOYSA-N cyclohexene oxide Chemical group C1CCCC2OC21 ZWAJLVLEBYIOTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 56
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 19
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 19
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 15
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 13
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 13
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 9
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 9
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 9
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 8
- -1 polyoxymethylene Polymers 0.000 description 8
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 7
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 description 7
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 7
- BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoceriooxy)cerium Chemical compound [Ce]=O.O=[Ce]=O BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000003063 flame retardant Substances 0.000 description 6
- RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 2,2,4,4,6,6-hexaphenoxy-1,3,5-triaza-2$l^{5},4$l^{5},6$l^{5}-triphosphacyclohexa-1,3,5-triene Chemical compound N=1P(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP=1(OC=1C=CC=CC=1)OC1=CC=CC=C1 RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 4
- 239000003607 modifier Substances 0.000 description 4
- OUPZKGBUJRBPGC-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-tris(oxiran-2-ylmethyl)-1,3,5-triazinane-2,4,6-trione Chemical compound O=C1N(CC2OC2)C(=O)N(CC2OC2)C(=O)N1CC1CO1 OUPZKGBUJRBPGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 3
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 3
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 3
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 3
- KNDQHSIWLOJIGP-UMRXKNAASA-N (3ar,4s,7r,7as)-rel-3a,4,7,7a-tetrahydro-4,7-methanoisobenzofuran-1,3-dione Chemical compound O=C1OC(=O)[C@@H]2[C@H]1[C@]1([H])C=C[C@@]2([H])C1 KNDQHSIWLOJIGP-UMRXKNAASA-N 0.000 description 2
- MUTGBJKUEZFXGO-OLQVQODUSA-N (3as,7ar)-3a,4,5,6,7,7a-hexahydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1CCC[C@@H]2C(=O)OC(=O)[C@@H]21 MUTGBJKUEZFXGO-OLQVQODUSA-N 0.000 description 2
- KMOUUZVZFBCRAM-OLQVQODUSA-N (3as,7ar)-3a,4,7,7a-tetrahydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1C=CC[C@@H]2C(=O)OC(=O)[C@@H]21 KMOUUZVZFBCRAM-OLQVQODUSA-N 0.000 description 2
- MFAWEYJGIGIYFH-UHFFFAOYSA-N 2-[4-(trimethoxymethyl)dodecoxymethyl]oxirane Chemical compound C(C1CO1)OCCCC(C(OC)(OC)OC)CCCCCCCC MFAWEYJGIGIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N Phthalic anhydride Natural products C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 2
- ADCOVFLJGNWWNZ-UHFFFAOYSA-N antimony trioxide Chemical compound O=[Sb]O[Sb]=O ADCOVFLJGNWWNZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L barium sulfate Chemical compound [Ba+2].[O-]S([O-])(=O)=O TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N bisphenol F Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1CC1=CC=C(O)C=C1 PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N butyl 2,2-difluorocyclopropane-1-carboxylate Chemical compound CCCCOC(=O)C1CC1(F)F JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000015271 coagulation Effects 0.000 description 2
- 238000005345 coagulation Methods 0.000 description 2
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 2
- 150000007973 cyanuric acids Chemical class 0.000 description 2
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N diphenyl Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 238000005562 fading Methods 0.000 description 2
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- VYKXQOYUCMREIS-UHFFFAOYSA-N methylhexahydrophthalic anhydride Chemical compound C1CCCC2C(=O)OC(=O)C21C VYKXQOYUCMREIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003018 phosphorus compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 2
- 230000008719 thickening Effects 0.000 description 2
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IMNIMPAHZVJRPE-UHFFFAOYSA-N triethylenediamine Chemical compound C1CN2CCN1CC2 IMNIMPAHZVJRPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphine Chemical compound C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PMUPSYZVABJEKC-UHFFFAOYSA-N 1-methylcyclohexane-1,2-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1(C)CCCCC1C(O)=O PMUPSYZVABJEKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GQHTUMJGOHRCHB-UHFFFAOYSA-N 2,3,4,6,7,8,9,10-octahydropyrimido[1,2-a]azepine Chemical compound C1CCCCN2CCCN=C21 GQHTUMJGOHRCHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000143 2-carboxyethyl group Chemical group [H]OC(=O)C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- LXBGSDVWAMZHDD-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1h-imidazole Chemical compound CC1=NC=CN1 LXBGSDVWAMZHDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IIEWMRPKJCXTAD-UHFFFAOYSA-N 3-(trimethoxymethyl)undecane Chemical compound C(C)C(C(OC)(OC)OC)CCCCCCCC IIEWMRPKJCXTAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 4,4'-sulfonyldiphenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(O)C=C1 VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DFYGYTNMHPUJBY-UHFFFAOYSA-N 4-(trimethoxymethyl)dodecane-1-thiol Chemical compound SCCCC(C(OC)(OC)OC)CCCCCCCC DFYGYTNMHPUJBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FKBMTBAXDISZGN-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-3a,4,5,6,7,7a-hexahydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1C(C)CCC2C(=O)OC(=O)C12 FKBMTBAXDISZGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ULKLGIFJWFIQFF-UHFFFAOYSA-N 5K8XI641G3 Chemical compound CCC1=NC=C(C)N1 ULKLGIFJWFIQFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MWSKJDNQKGCKPA-UHFFFAOYSA-N 6-methyl-3a,4,5,7a-tetrahydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1CC(C)=CC2C(=O)OC(=O)C12 MWSKJDNQKGCKPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005995 Aluminium silicate Substances 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTKINSOISVBQLD-UHFFFAOYSA-N Glycidol Chemical compound OCC1CO1 CTKINSOISVBQLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLTDJTHDQAWBAV-UHFFFAOYSA-N N,N-dimethylaniline Chemical compound CN(C)C1=CC=CC=C1 JLTDJTHDQAWBAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SVYKKECYCPFKGB-UHFFFAOYSA-N N,N-dimethylcyclohexylamine Chemical compound CN(C)C1CCCCC1 SVYKKECYCPFKGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930040373 Paraformaldehyde Natural products 0.000 description 1
- 229920002675 Polyoxyl Polymers 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N Sulphide Chemical compound [S-2] UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000004 White lead Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005083 Zinc sulfide Substances 0.000 description 1
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 239000002671 adjuvant Substances 0.000 description 1
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000004844 aliphatic epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000012211 aluminium silicate Nutrition 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 1
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 1
- AYJRCSIUFZENHW-DEQYMQKBSA-L barium(2+);oxomethanediolate Chemical compound [Ba+2].[O-][14C]([O-])=O AYJRCSIUFZENHW-DEQYMQKBSA-L 0.000 description 1
- 125000002619 bicyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 1
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M copper(1+);methylsulfanylmethane;bromide Chemical compound Br[Cu].CSC PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- IFDVQVHZEKPUSC-UHFFFAOYSA-N cyclohex-3-ene-1,2-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CCC=CC1C(O)=O IFDVQVHZEKPUSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QSAWQNUELGIYBC-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,2-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CCCCC1C(O)=O QSAWQNUELGIYBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000596 cyclohexenyl group Chemical group C1(=CCCCC1)* 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- XXBDWLFCJWSEKW-UHFFFAOYSA-N dimethylbenzylamine Chemical compound CN(C)CC1=CC=CC=C1 XXBDWLFCJWSEKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002009 diols Chemical class 0.000 description 1
- FPAFDBFIGPHWGO-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxomagnesium;hydrate Chemical compound O.[Mg]=O.[Mg]=O.[Mg]=O.O=[Si]=O.O=[Si]=O.O=[Si]=O.O=[Si]=O FPAFDBFIGPHWGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000008393 encapsulating agent Substances 0.000 description 1
- FPVGTPBMTFTMRT-NSKUCRDLSA-L fast yellow Chemical compound [Na+].[Na+].C1=C(S([O-])(=O)=O)C(N)=CC=C1\N=N\C1=CC=C(S([O-])(=O)=O)C=C1 FPVGTPBMTFTMRT-NSKUCRDLSA-L 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- VANNPISTIUFMLH-UHFFFAOYSA-N glutaric anhydride Chemical compound O=C1CCCC(=O)O1 VANNPISTIUFMLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004519 grease Substances 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 150000002460 imidazoles Chemical class 0.000 description 1
- 230000002401 inhibitory effect Effects 0.000 description 1
- 238000011835 investigation Methods 0.000 description 1
- NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N kaolin Chemical compound O.O.O=[Al]O[Si](=O)O[Si](=O)O[Al]=O NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 1
- VTHJTEIRLNZDEV-UHFFFAOYSA-L magnesium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Mg+2] VTHJTEIRLNZDEV-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000000347 magnesium hydroxide Substances 0.000 description 1
- 229910001862 magnesium hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 1
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 229910000000 metal hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 1
- 239000004843 novolac epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 238000001579 optical reflectometry Methods 0.000 description 1
- 125000002524 organometallic group Chemical group 0.000 description 1
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002098 polyfluorene Polymers 0.000 description 1
- 229920006324 polyoxymethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 description 1
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- MZLGASXMSKOWSE-UHFFFAOYSA-N tantalum nitride Chemical compound [Ta]#N MZLGASXMSKOWSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BJQWBACJIAKDTJ-UHFFFAOYSA-N tetrabutylphosphanium Chemical compound CCCC[P+](CCCC)(CCCC)CCCC BJQWBACJIAKDTJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFDHBDMSHIXOKF-UHFFFAOYSA-N tetrahydrophthalic acid Natural products OC(=O)C1=C(C(O)=O)CCCC1 UFDHBDMSHIXOKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
- NWONKYPBYAMBJT-UHFFFAOYSA-L zinc sulfate Chemical compound [Zn+2].[O-]S([O-])(=O)=O NWONKYPBYAMBJT-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229960001763 zinc sulfate Drugs 0.000 description 1
- 229910000368 zinc sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052984 zinc sulfide Inorganic materials 0.000 description 1
- DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N zinc;sulfide Chemical compound [S-2].[Zn+2] DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L33/00—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L33/02—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor bodies
- H01L33/10—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor bodies with a light reflecting structure, e.g. semiconductor Bragg reflector
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
- C08K3/18—Oxygen-containing compounds, e.g. metal carbonyls
- C08K3/20—Oxides; Hydroxides
- C08K3/22—Oxides; Hydroxides of metals
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/54—Silicon-containing compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L63/00—Compositions of epoxy resins; Compositions of derivatives of epoxy resins
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L33/00—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L33/48—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor body packages
- H01L33/58—Optical field-shaping elements
- H01L33/60—Reflective elements
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
- C08K3/18—Oxygen-containing compounds, e.g. metal carbonyls
- C08K3/20—Oxides; Hydroxides
- C08K3/22—Oxides; Hydroxides of metals
- C08K2003/2237—Oxides; Hydroxides of metals of titanium
- C08K2003/2241—Titanium dioxide
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/54—Silicon-containing compounds
- C08K5/541—Silicon-containing compounds containing oxygen
- C08K5/5435—Silicon-containing compounds containing oxygen containing oxygen in a ring
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/54—Silicon-containing compounds
- C08K5/544—Silicon-containing compounds containing nitrogen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/54—Silicon-containing compounds
- C08K5/548—Silicon-containing compounds containing sulfur
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/4805—Shape
- H01L2224/4809—Loop shape
- H01L2224/48091—Arched
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/481—Disposition
- H01L2224/48151—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/48221—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/48245—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
- H01L2224/48247—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic connecting the wire to a bond pad of the item
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/30—Technical effects
- H01L2924/301—Electrical effects
- H01L2924/3025—Electromagnetic shielding
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L33/00—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L33/48—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor body packages
- H01L33/483—Containers
- H01L33/486—Containers adapted for surface mounting
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Led Device Packages (AREA)
- Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
- Epoxy Resins (AREA)
Description
本發明係關於用作形成反射器(反射部分)之材料之光半導體裝置用環氧樹脂組成物,該反射器反射自(例如)光半導體元件發射之光。本發明進一步係關於使用環氧樹脂組成物所得之光半導體裝置用導線架及光半導體裝置用基板,且係關於光半導體裝置。
習用光半導體裝置(包括安裝於其中之光半導體元件)具有包括以下之組態:金屬導線架1;安裝於其上之光半導體元件2;及用於光反射之反射器3,其係由樹脂材料形成以便包圍光半導體元件2之周邊,如圖1中所示。然後,用透明樹脂(例如聚矽氧樹脂)囊封由反射器3包圍之包括光半導體元件2之空間。於金屬導線架1中形成之電極電路(未顯示)與光半導體元件2係藉由欲根據需要提供之接合引線4彼此電連接。
現在,使用環氧樹脂組成物來囊封光半導體元件,例如發光二極體(LED)。具體而言,對於意欲研發用於LED環境之環氧樹脂組成物而言,使用包括脂肪族(脂環族)烴作為主要結構之材料作為能夠使可見光短波長區域中之吸收較低之環氧樹脂(參見專利文件1)。
專利文件1:JP-A-2007-91960
在如上所述之光半導體裝置中,人們已知添加填料為降
低線性膨脹係數之方法。然而,涉及以下問題:若增加填料含量,則儘管強度增加,但光半導體裝置變得易碎。具體而言,由於用於上述專利文件1中之包括脂肪族(脂環族)烴作為主要結構之環氧樹脂之韌性相對較弱,因此若將大量填料添加至上述專利文件1之材料中,則涉及光半導體裝置變得明顯易碎的問題。
在該等情況下,製得本發明。本發明之目標係提供光半導體裝置用環氧樹脂組成物,其能夠滿足低線性膨脹係數及強度二者;使用其所得之光半導體裝置用導線架及光半導體裝置用基板;以及光半導體裝置。
亦即,本發明係關於以下1至16項。
1.一種光半導體裝置用環氧樹脂組成物,其包括以下成份(A)至(E),其中該成份(C)及該成份(D)之總含量佔該全部環氧樹脂組成物之69重量%至94重量%,且以滿足以下數值公式(1)之量含有該成份(E):(A)環氧樹脂;(B)固化劑;(C)白色顏料;(D)無機填料;及(E)矽烷偶合劑,
其中X1代表該成份(C)之BET比表面積(m2/g);X2代表該成份(C)之含量(g);Y1代表該成份(D)之BET比表面積(m2/g);Y2代表該成份(D)之含量(g);Z1代表該成份(E)之最小覆蓋面積(m2/g);且Z2代表該成份(E)之含量(g),前提係當含有複數個該等成份(C)至(E)中之每一者時,指定值係其總值。
2.如第1項之光半導體裝置用環氧樹脂組成物,其中該光半導體裝置用環氧樹脂組成物之固化材料之光反射率在430 nm至800 nm之波長範圍內為80%或更高。
3.如第1或2項之光半導體裝置用環氧樹脂組成物,其中該成份(E)係矽烷偶合劑,其係由以下通式(1)代表:
其中X代表縮水甘油基、氧化環己烯基、硫醇基或胺基;m代表1、2或3中之任一者;且l代表0、1、2或3中之任一者。
4.如第1至3項中任一項之光半導體裝置用環氧樹脂組成物,其中該光半導體裝置用環氧樹脂組成物之固化材料之撓曲強度為60 MPa或更高,且撓曲彈性模數為10 GPa或更高。
5.如第1至4項中任一項之光半導體裝置用環氧樹脂組成物,其中該成份(C)係二氧化鈦。
6.如第1至5項中任一項之光半導體裝置用環氧樹脂組
成物,其中該成份(A)係具有異氰尿酸酯環結構之環氧樹脂。
7.如第1至6項中任一項之光半導體裝置用環氧樹脂組成物,其中該成份(B)係酸酐固化劑。
8.如第1至7項中任一項之光半導體裝置用環氧樹脂組成物,其進一步包括固化加速劑作為成份(F)。
9.一種光半導體裝置用導線架,該導線架具有光半導體元件安裝區域且具有包圍該區域之至少一部分之反射器,其中該反射器係自如第1至8項中任一項之光半導體裝置用環氧樹脂組成物形成。
10.如第9項之光半導體裝置用導線架,其中該反射器僅在該光半導體裝置用導線架之一個表面上形成。
11.如第9或10項之光半導體裝置用導線架,其中該反射器係藉由轉移模製形成。
12.一種光半導體裝置用基板,該基板具有光半導體元件安裝區域且具有包圍該區域之至少一部分之反射器,
其中該反射器係自如第1至8項中任一項之光半導體裝置用環氧樹脂組成物形成。
13.如第12項之光半導體裝置用基板,其中該反射器僅在該光半導體裝置用基板之一個表面上形成。
14.如第12或13項之光半導體裝置用基板,其中該反射器係藉由轉移模製形成。
15.一種光半導體裝置,其包括:
如第9至11項中任一項之光半導體裝置用導線架;及光半導體元件,其安裝於該導線架中之規定位置上。
16.一種光半導體裝置,其包括:如第12至14項中任一項之光半導體裝置用基板;及光半導體元件,其安裝於該基板中之規定位置上。
即,為獲得能夠設法滿足低線性膨脹係數及強度二者之光半導體裝置,本發明者進行了廣泛且深入之調查研究。在研究過程中,本發明者關注作為表面改良劑之矽烷偶合劑,並發現,藉由將矽烷偶合劑[成份(E)]與環氧樹脂[成份(A)]、固化劑[成份(B)]、白色顏料[成份(C)]及無機填料[成份(D)]組合使用,且將成份(C)及成份(D)之總含量調節至佔環氧樹脂組成物之69重量%至94重量%,且亦將矽烷偶合劑[成份(E)]之含量調節至滿足由上述數值公式(1)表示之表面覆蓋率(1%至190%)之值,使用此環氧樹脂組成物之光半導體裝置不會變得易碎,且能夠設法滿足低線性膨脹係數及強度二者,從而達成本發明。
根據上文,本發明光半導體裝置用環氧樹脂組成物(下文中亦稱作「環氧樹脂組成物」)將作為表面改良劑之矽烷偶合劑[成份(E)]與環氧樹脂[成份(A)]、固化劑[成份(B)]、白色顏料[成份(C)]及無機填料[成份(D)]組合使用。此外,不僅將成份(C)及成份(D)之總含量調節至佔環氧樹脂組成物之69重量%至94重量%,而且亦將成份(E)之含量調節至滿足由上述數值公式(1)表示之表面覆蓋率(1%至190%)之值。因此,用矽烷偶合劑[成份(E)]改良白色顏料
[成份(C)]及無機填料[成份(D)]之表面,且使用此環氧樹脂組成物之光半導體裝置不會變得易碎,且能夠設法滿足低線性膨脹係數及強度二者。
然後,本發明環氧樹脂組成物成為形成反射器之材料,該反射器反射自光半導體元件發射之光。因此,在具有藉由使用上述環氧樹脂組成物於其中形成之反射器之光半導體裝置中,當使用上述反射器時,可減少將在製作LED封裝期間所造成反射器之破裂或裂縫或防止其發生,且因此,可較低廉地大量生產光半導體裝置。
本發明環氧樹脂組成物係使用以下成份獲得:環氧樹脂(成份(A))、固化劑(成份(B))、白色顏料(成份(C))、無機填料(成份(D))及矽烷偶合劑(成份(E)),且其通常用於呈液體或粉末形式或呈錠劑形式(藉由將粉末壓錠獲得)之囊封材料。較佳地使用本發明環氧樹脂組成物作為形成圖1中所示光半導體裝置之反射器3之材料。
本發明最重要之特有特徵在於,白色顏料(成份(C))及無機填料(成份(D))之總含量佔全部環氧樹脂組成物之69重量%至94重量%;且在於以滿足上述數值公式(1)之量含有矽烷偶合劑(成份(E))。
首先,闡述本發明環氧樹脂組成物中之每一成份。
用於本發明環氧樹脂組成物之環氧樹脂(成份(A))之實例包括雙酚A型環氧樹脂;雙酚F型環氧樹脂;酚醛型環氧樹脂,例如苯酚酚醛型環氧樹脂及甲酚酚醛型環氧樹脂;脂
環族環氧樹脂;含氮環環氧樹脂,例如異氰尿酸三縮水甘油基酯樹脂及乙內醯脲型環氧樹脂;氫化雙酚A型環氧樹脂;脂肪族環氧樹脂;縮水甘油醚型環氧樹脂;雙酚S型環氧樹脂;聯苯型環氧樹脂,其主要用作產生具有低吸水率之固化樹脂之類型;二環環氧樹脂以及萘型環氧樹脂。該等環氧樹脂可單獨使用或以其兩種或更多種之組合使用。自耐熱性及耐光性之觀點而言,在該等環氧樹脂中,具有異氰尿酸酯環結構之環氧樹脂(例如異氰尿酸三縮水甘油基酯樹脂)較佳。
環氧樹脂(成份(A))在常溫下可係固體或液體。然而,一般而言,欲使用之環氧樹脂較佳係平均環氧當量為90至1,000者。此外,在固體環氧樹脂之情形下,軟化點為160℃或更低之環氧樹脂較佳。當環氧當量過低時,環氧樹脂組成物固化材料往往會變得易碎;而當環氧當量過高時,環氧樹脂組成物固化材料之玻璃轉化溫度(Tg)往往會變低。
固化劑(成份(B))之實例包括酸酐固化劑、異氰尿酸衍生物固化劑、酚系固化劑、胺固化劑、藉由用醇將上述酸酐固化劑部分地酯化獲得之固化劑及羧酸(例如六氫鄰苯二甲酸、四氫鄰苯二甲酸及甲基六氫鄰苯二甲酸)。該等固化劑可單獨使用或以其兩種或更多種之組合使用。自耐熱性及耐光性之觀點而言,在該等固化劑中,酸酐固化劑較佳。
酸酐固化劑之實例包括鄰苯二甲酸酐、馬來酸酐、苯偏
三酸酐、焦蜜石酸酐、六氫鄰苯二甲酸酐、四氫鄰苯二甲酸酐、甲基納迪克(nadic)酸酐、納迪克酸酐、戊二酸酐、甲基六氫鄰苯二甲酸酐及甲基四氫鄰苯二甲酸酐。在該等酸酐中,較佳使用鄰苯二甲酸酐、六氫鄰苯二甲酸酐、四氫鄰苯二甲酸酐或甲基六氫鄰苯二甲酸酐。另外,酸酐固化劑較佳地係分子量為約140至200之酸酐固化劑,且無色或淺黃色酸酐固化劑較佳。
此外,異氰尿酸衍生物固化劑之實例包括異氰尿酸1,3,5-叁(1-羧基甲基)酯、異氰尿酸1,3,5-叁(2-羧基乙基)酯、異氰尿酸1,3,5-叁(3-羧基丙基)酯及異氰尿酸1,3-雙(2-羧基乙基)酯。
在本文中,設定環氧樹脂(成份(A))及固化劑(成份(B))之摻和比例,以使得相對於環氧樹脂(成份(A))中之一當量之環氧基團,固化劑(成份(B))中能夠與環氧基團反應的活性基團(酸酐基團或羧基)之量較佳係0.5當量至1.5當量,且尤佳係0.7當量至1.2當量。當活性基團之量過低時,往往不僅環氧樹脂組成物之固化速率會變慢,而且其固化材料之玻璃轉化溫度(Tg)亦會變低;而當活性基團之量過高時,防潮性往往會降低。
接下來,與上述成份(A)及成份(B)組合使用之白色顏料(成份(C))之實例包括無機白色顏料,例如氧化鎂、氧化銻、二氧化鈦、氧化鋯、氧化鋅、鉛白、高嶺土(kaolin)、氧化鋁、碳酸鈣、碳酸鋇、硫酸鋇、硫酸鋅及硫化鋅。該等無機白色顏料可單獨使用或以其兩種或更多
種之組合使用。自可獲得極佳光反射率之觀點而言,在該等無機白色顏料中,較佳使用二氧化鈦。尤佳使用具有金紅石型晶體結構之二氧化鈦。另外,自流動性及光屏蔽性之觀點而言,較佳使用平均粒徑為0.05 μm至2.0 μm之金紅石型二氧化鈦。自光反射性之觀點而言,其平均粒徑尤佳係0.08 μm至0.5 μm。順便而言,平均粒徑可用(例如)雷射繞射/散射粒徑分佈分析儀來量測。
順便而言,將本發明中之白色顏料(成份(C))之含量設定在如稍後所述之範圍內。
與上述成份(A)至(C)組合使用之無機填料(成份(D))之實例包括:石英玻璃粉、滑石粉、二氧化矽粉(例如熔融二氧化矽粉及結晶二氧化矽粉)、氮化鋁粉及氮化矽粉。該等無機填料可單獨使用或以其兩種或更多種之組合使用。自降低線性膨脹係數或諸如此類之觀點而言,在該等無機填料中,較佳使用二氧化矽粉。自高填充性及高流動性之觀點而言,尤佳使用球形熔融二氧化矽粉。對於無機填料(成份(D))之粒徑及粒徑分佈而言,較佳在考慮其與白色顏料(成份(C))之粒徑及粒徑分佈之組合的同時設定其粒徑及粒徑分佈,以便在藉由轉移模製或諸如此類模製環氧樹脂組成物時使毛邊及諸如此類之發生最小化。特定而言,較佳容許無機填料(成份(D))之平均粒徑屬於5 μm至60 μm範圍內。
在本發明中,上述白色顏料(成份(C))及無機填料(成份(D))之總含量必需佔全部環氧樹脂組成物之69重量%至94
重量%。總含量較佳係75重量%至94重量%,且尤佳係80重量%至94%重量%。當總含量過低時,撓曲彈性模數及光反射率較低,且幾乎不能降低線性膨脹係數;而當總含量過高時,環氧樹脂組成物由於顯著增稠而幾乎不能藉助捏合或諸如此類製作。
在本文中,白色顏料(成份(C))之含量較佳佔全部環氧樹脂組成物之2重量%至40重量%、更佳5重量%至30重量%且尤佳15重量%至30重量%。此外,無機填料(成份(D))之含量較佳係藉由自白色顏料(成份(C))及無機填料(成份(D))之總含量減去白色顏料(成份(C))之含量獲得之值。
在本發明環氧樹脂組成物中,特有特徵在於,矽烷偶合劑(成份(E))係以指定比例與上述成份(A)至(D)組合使用。自能夠與環氧樹脂(成份(A))化學反應且無特別抑制反應之觀點而言,矽烷偶合劑(成份(E))較佳係由以下通式(1)代表之矽烷偶合劑。
在通式(1)中,X代表縮水甘油基、氧化環己烯基、硫醇基或胺基;m代表1、2或3中之任一者;且l代表0、1、2或3中之任一者。
由上述通式(1)代表之矽烷偶合劑之特定實例包括3-巰基丙基三甲氧基矽烷、3-縮水甘油氧基丙基三甲氧基矽烷及2-(3,4-環氧基環己基)乙基三甲氧基矽烷。
矽烷偶合劑(成份(E))之含量較佳佔全部環氧樹脂組成物之0.01重量%至2.4重量%且更佳0.1重量%至2.0重量%。
在本發明中,調節矽烷偶合劑(成份(E))之含量(Z2),以使得由以下數值公式(1)表示之表面覆蓋率係1%至190%、較佳5%至170%且更佳10%至150%。在表面覆蓋率小於下限之含量中,未獲得足夠強度;而在表面覆蓋率超過上限之含量中,環氧樹脂組成物之Tg降低。
順便而言,本發明所提及之表面覆蓋率意指由以下數值公式(1)表示之值。更詳盡而言,表面覆蓋率表示矽烷偶合劑(成份(E))之比表面積與白色顏料(成份(C))及無機填料(成份(D))之總比表面積之比率。
在數值公式(1)中,X1代表成份(C)之BET比表面積(m2/g);X2代表成份(C)之含量(g);Y1代表成份(D)之BET比表面積(m2/g);Y2代表成份(D)之含量(g);Z1代表成份(E)之最小覆蓋面積(m2/g);且Z2代表成份(E)之含量(g),前提係當使用複數個成份(C)至(E)中之每一者時,指定值係其總值。
在上述數值公式(1)中,白色顏料(成份(C))之BET比表面積(X1)較佳係在2 m2/g至70 m2/g範圍內,且尤佳在5 m2/g至60 m2/g範圍內。此外,無機填料(成份(D))之BET比表面積(Y1)較佳係在0.1 m2/g至10 m2/g範圍內,且尤佳在1 m2/g
至8 m2/g範圍內。
此外,矽烷偶合劑(成份(E))之最小覆蓋面積(Z1)較佳係在100 m2/g至1,000 m2/g範圍內,且尤佳在150 m2/g至500 m2/g範圍內。
順便而言,矽烷偶合劑(成份(E))之最小覆蓋面積(Z1)係由以下數值公式(2)來表示。
在上述數值公式(2)中,矽烷偶合劑(成份(E))之分子量較佳係在100至1,000範圍內,且尤佳在100至500範圍內。
順便而言,在上述數值公式(1)中,白色顏料(成份(C))之含量(X2)、無機填料(成份(D))之含量(Y2)及矽烷偶合劑(成份(E))之含量(Z2)中之每一者較佳係在滿足全部環氧樹脂組成物中之每一成份之上述含量(重量%)之範圍內。
除上述成份(A)至(E)外,可根據需要將各種添加劑(例如固化加速劑(成份(F))、改良劑、阻燃劑、抗氧化劑、消泡劑、調平劑及脫模劑)適當地摻和於本發明環氧樹脂組成物中。
固化加速劑(成份(F))之實例包括三級胺,例如1,8-二氮雜-二環[5.4.0]十一烯-7、三乙二胺、三-2,4,6-二甲基胺基甲基苯酚、N,N-二甲基苄基胺、N,N-二甲基胺基苯及N,N-二甲基胺基環己烷;咪唑,例如2-乙基-4-甲基咪唑及2-甲基咪唑;磷化合物,例如三苯基膦、四苯基鏻四苯基硼酸鹽、四-正-丁基鏻四氟硼酸鹽、甲基三-正-丁基鏻二甲基
磷酸鹽及四-正-丁基鏻-o,o-二乙基二硫代磷酸鹽;四級銨鹽;有機金屬鹽;及其衍生物。該等固化加速劑可單獨使用或以其兩種或更多種之組合使用。在該等固化加速劑中,較佳使用三級胺、咪唑或磷化合物。尤其地,為獲得具有低著色程度且透明且堅韌之固化材料,尤佳使用磷化合物。
將固化加速劑(成份(F))之含量設定為相對於環氧樹脂(成份(A))較佳0.001重量%至8.0重量%,且尤佳0.01重量%至3.0重量%。當固化加速劑(成份(F))之含量過低時,擔心不能獲得足夠固化加速效應;而當固化加速劑(成份(F))之含量過高時,所得固化材料往往造成褪色。
阻燃劑之實例包括金屬氫氧化物化合物(例如氫氧化鎂)、基於溴之阻燃劑、基於氮之阻燃劑及基於磷之阻燃劑。另外,亦可使用阻燃輔助劑,例如三氧化銻。
改良劑之實例包括二醇、聚矽氧及醇。
抗氧化劑之實例包括基於受阻酚之抗氧化劑、基於磷之抗氧化劑及基於硫化物之抗氧化劑。該等抗氧化劑可單獨使用或以其兩種或更多種之組合使用。自耐熱褪色之觀點而言,在該等抗氧化劑中,較佳使用基於受阻酚之抗氧化劑。
消泡劑之實例包括基於聚矽氧之消泡劑。
本發明環氧樹脂組成物可以(例如)以下方式來製造。即,適當摻和上述成份(A)至(E)及(視情況)固化加速劑(成份(F))以及(另外)欲根據需要摻和之上述各種添加劑。之
後,使用捏合機捏合並熔化混合該等成份,隨後粉碎。可由此製造呈粉末形式之環氧樹脂組成物。
在本發明環氧樹脂組成物中,其固化材料較佳具有以下撓曲特性。即,其撓曲強度較佳係60 MPa或更高、尤佳80 MPa或更高且最佳100 MPa或更高;且其撓曲彈性模數較佳係10 GPa或更高、尤佳15 GPa或更高且最佳20 GPa或更高。
上述撓曲強度及撓曲彈性模數係以(例如)以下方式來量測。即,在規定固化條件(例如在175℃下模製2分鐘且隨後在175℃下固化2小時)下製造厚度為4 mm之環氧樹脂組成物之固化材料以製作試片(固化材料)。可根據JIS-K7171使用分析儀(例如由Shimadzu公司製造之AG-500)在常溫(20℃±15℃)下量測此固化材料之撓曲強度及撓曲彈性模數。
此外,在本發明環氧樹脂組成物之固化材料中,在玻璃轉化溫度(Tg)或更低溫度之溫度範圍中之線性膨脹係數較佳係28 ppm/K或更小、尤佳25 ppm/K或更小且最佳20 ppm/K或更小。
上述線性膨脹係數係以(例如)以下方式來量測。即,在規定固化條件(例如在175℃下模製2分鐘且隨後在175℃下固化3小時)下製造厚度為5 mm之環氧樹脂組成物之固化材料以製作試片(固化材料)。此固化材料之線性膨脹係數可使用分析儀(例如由Shimadzu公司製造之TMA-50)以2℃/min之升溫速率來量測。
此外,在本發明環氧樹脂組成物之固化材料中,光反射率在430 nm至800 nm之波長範圍內較佳係80%或更高且尤佳85%或更高。附帶而言,其上限通常係100%。
上述光反射率係以(例如)以下方式來量測。即,在規定固化條件(例如在150℃下模製4分鐘且隨後在150℃下固化5小時)下製作厚度為1 mm之環氧樹脂組成物之固化材料。此固化材料在上述範圍內之波長下之光反射率可使用分光光度計(例如由JASCO公司製造之分光光度計V-670)在室溫(20℃±15℃)下來量測。
使用本發明環氧樹脂組成物之光半導體裝置係以(例如)以下方式來製造。即,將金屬導線架佈置在轉移模製機之模具內,且使用環氧樹脂組成物藉由轉移模製來形成反射器。以此方式,形成光半導體裝置用金屬導線架,其中以包圍光半導體元件安裝區域之周邊之狀態形成反射器。隨後,將光半導體元件安裝於金屬導線架上位於反射器內側之光半導體元件安裝區域中,並根據需要實施引線接合。由此製作呈單元形式之光半導體裝置,該單元配備有以下物件:金屬導線架1,其中以包圍欲安裝之光半導體元件2之周邊之狀態形成反射器3;及安裝於金屬導線架1上之光半導體元件2,如圖1中所示。於金屬導線架1上形成之電極電路(未顯示)與光半導體元件2係藉由接合引線4彼此電連接。在上述光半導體裝置中,位於反射器3內側之包括光半導體元件2之區域係用聚矽氧樹脂或諸如此類囊封。
另外,光半導體裝置之其他組態展示於圖2至圖4中。在
圖2中所示之光半導體裝置中,反射器3a僅於金屬導線架1a(或基板)上安裝有光半導體元件2之一個表面上形成,且金屬導線架1a(或基板)於後表面側上暴露。此外,圖3中所示光半導體裝置之組態與圖1中所示光半導體裝置之組態實質上相同;然而,反射器3亦在金屬導線架1上位於反射器3之內部區域中之光半導體元件2之周邊處形成。然後,圖4中所示光半導體裝置之組態與圖2所示光半導體裝置之組態實質上相同;然而,反射器3a亦在金屬導線架1a(或基板)上位於反射器3a之內部區域中之光半導體元件2之周邊處形成。順便而言,在圖2至圖4中所示光半導體裝置之組態中,與圖1中所示光半導體裝置中之部分相同之部分係藉由相同編號及符號命名。
順便而言,在本發明中,在上述圖2及圖4中所示之光半導體裝置中,可使用各種基板來代替金屬導線架1a。各種基板之實例包括有機基板、無機基板及撓性印刷基板。然後,在上述圖2及圖4中所示光半導體裝置之金屬導線架1a及各種基板中,於其表面上形成電極電路(未顯示)。
接下來,在下文中給出實例與比較實例。然而,不應認為本發明限於該等實例。
首先,在製作環氧樹脂組成物之前,製備如下所示之材料。
異氰尿酸三縮水甘油基酯(環氧當量:100)
4-甲基六氫鄰苯二甲酸酐(酸當量:168)
金紅石型二氧化鈦[平均粒徑:0.21 μm,BET比表面積(X1):9.0 m2/g]
球形熔融二氧化矽[平均粒徑:22 μm,BET比表面積(Y1):3.2 m2/g]
3-縮水甘油氧基丙基三甲氧基矽烷[最小覆蓋面積(Z1):330 m2/g]
四-正-丁基鏻-o,o-二乙基二硫代磷酸鹽
將下表1及2中之每一者中所展示之各別成份以該等表中之每一者中所展示之比例摻和,並在燒杯中熔化混合。在使混合物陳化後,將所得混合物冷卻至室溫(25℃),並粉碎以製作呈粉末形式之環氧樹脂組成物。
實例及比較實例之由此獲得之環氧樹脂組成物中每一者之各別特性係根據以下方法來評估。結果亦展示於上述表1及2中之每一者中。
使上述環氧樹脂組成物中之每一者在規定凝固條件(條件:在175℃下模製2分鐘且隨後在175℃固化3小時)下固化以製作厚度為4 mm、寬度為10 mm且長度為80 mm之試片。根據JIS-K7171:2008使此試片(固化材料)經受撓曲測試(針對撓曲強度及撓曲彈性模數)。順便而言,使用由Shimadzu公司製造之AG-500作為分析儀,並在常溫(20℃)下實施量測。撓曲強度較佳係60 MPa或更高;且撓曲彈性模數較佳係10 GPa或更高。
使上述環氧樹脂組成物中之每一者在規定凝固條件(條件:在175℃下模製2分鐘且隨後在175℃下固化3小時)下固化以製作厚度為5 mm、寬度為5 mm且長度為30 mm之試片。此固化材料在不高於環氧樹脂組成物固化材料之Tg之溫度範圍中之線性膨脹係數係使用分析儀(由Shimadzu公司製造之TMA-50)以2℃/min之升溫速率來量測。順便而
言,線性膨脹係數較佳不超過28 ppm/K。
使上述環氧樹脂組成物中之每一者在規定固化條件(條件:在175℃下模製2分鐘且隨後在175℃下固化3小時)下固化以製作厚度為1 mm之試片。量測此試片(固化材料)之初始光反射率。順便而言,使用由JASCO公司製造之分光光度計V-670作為分析儀,並在室溫(25℃)下量測450 nm波長下之光反射率。順便而言,光反射率較佳係80%或更高。
自上述各表之結果證實,在實例之所有試片中,不僅將成份(C)及成份(D)之總含量調節至規定範圍,而且亦調節矽烷偶合劑之含量,以使得表面覆蓋率屬於規定範圍,且因此,不僅顯示有利的光反射率,而且亦可設法滿足低線性膨脹係數及強度二者。
另一方面,在比較實例1之試片中,由於未摻和矽烷偶合劑,因此撓曲強度較低。
在比較實例2之試片中,由於矽烷偶合劑之含量過高而致使表面覆蓋率過高,因此環氧樹脂組成物未固化。
在比較實例3之試片中,由於成份(C)及成份(D)之總含量過高,因此揉合因顯著增稠而變得困難,且不能製作環氧樹脂組成物。
在比較實例4之試片中,由於成份(C)及成份(D)之總含量過低,因此撓曲彈性模數較低,且線性膨脹係數亦較高。
接下來,以上述實例中之每一者之試片形式使用呈精細
粉末形式之環氧樹脂組成物來製造具有圖1中所示組態之光半導體發光裝置。即,將由合金42(鍍有Ag)製得之導線架1裝入轉移模製機中,並實施轉移模製(模製條件:在175℃下模製2分鐘且隨後在175℃下固化2小時)。由此製得圖1中所示之光半導體發光裝置,其中製造反射器3、於反射器3中形成之凹部及於該凹部內提供之金屬導線架1,光半導體元件2(大小:0.3 mm×0.3 mm)係安裝於凹部內,且於金屬導線架1上形成之電極電路與光半導體元件2係藉由接合引線4彼此電連接。最後,倒入液體聚矽氧囊封劑並使其固化以製造呈單元形式之光半導體發光裝置,該單元配備有以下物件:反射器3、於反射器3中形成之凹部、於該凹部內提供之金屬導線架1及安裝於金屬導線架1上之光半導體元件2,如圖1中所示。由此獲得無缺陷光半導體發光裝置。
儘管本文已參照特定實施例詳細地闡述本發明,但熟習此項技術者應明瞭,可對其作出各種改變及修改,此並不背離其精神及範圍。
順便而言,本申請案係基於2011年8月2日申請之日本專利申請案第2011-169178號,且其內容以引用方式併入本文中。
本文所引用之全部參考文獻皆以全文引用方式併入本文中。
本發明光半導體裝置用環氧樹脂組成物可用作(例如)形成反射器之材料,該反射器反射自安裝於光半導體裝置中
經聚矽氧樹脂囊封之光半導體元件發射之光。
1‧‧‧金屬導線架
1a‧‧‧金屬導線架
2‧‧‧光半導體元件
3‧‧‧反射器
3a‧‧‧反射器
4‧‧‧接合引線
圖1係示意性展示本發明光半導體裝置之組態之剖視圖。
圖2係示意性展示本發明光半導體裝置之另一組態之剖視圖。
圖3係示意性展示本發明光半導體裝置之又一組態之剖視圖。
圖4係示意性展示本發明光半導體裝置之再一組態之剖視圖。
Claims (16)
- 一種光半導體裝置用環氧樹脂組成物,其包含以下成份(A)至(E),其中該成份(C)及該成份(D)之總含量佔該全部環氧樹脂組成物之69重量%至94重量%,且以滿足以下數值公式(1)之量含有該成份(E):(A)環氧樹脂;(B)固化劑;(C)白色顏料;(D)無機填料;及(E)矽烷偶合劑,
- 如請求項1之光半導體裝置用環氧樹脂組成物,其中該光半導體裝置用環氧樹脂組成物之固化材料之光反射率在430nm至800nm之波長範圍內為80%或更高。
- 如請求項1之光半導體裝置用環氧樹脂組成物,其中該 成份(E)係矽烷偶合劑,其係由以下通式(1)代表:
- 如請求項1之光半導體裝置用環氧樹脂組成物,其中該光半導體裝置用環氧樹脂組成物之固化材料之撓曲強度為60MPa或更高,且撓曲彈性模數為10GPa或更高。
- 如請求項1之光半導體裝置用環氧樹脂組成物,其中該成份(C)係二氧化鈦。
- 如請求項1之光半導體裝置用環氧樹脂組成物,其中該成份(A)係具有異氰尿酸酯環結構之環氧樹脂。
- 如請求項1之光半導體裝置用環氧樹脂組成物,其中該成份(B)係酸酐固化劑。
- 如請求項1之光半導體裝置用環氧樹脂組成物,其進一步包含固化加速劑作為成份(F)。
- 一種光半導體裝置用導線架,該導線架具有光半導體元件安裝區域且具有包圍該區域之至少一部分之反射器,其中該反射器係自如請求項1之光半導體裝置用環氧樹脂組成物形成。
- 如請求項9之光半導體裝置用導線架,其中該反射器僅在該光半導體裝置用導線架之一個表面上形成。
- 如請求項9之光半導體裝置用導線架,其中該反射器係藉由轉移模製形成。
- 一種光半導體裝置用基板,該基板具有光半導體元件安裝區域且具有包圍該區域之至少一部分之反射器,其中該反射器係自如請求項1之光半導體裝置用環氧樹脂組成物形成。
- 如請求項12之光半導體裝置用基板,其中該反射器僅在該光半導體裝置用基板之一個表面上形成。
- 如請求項12之光半導體裝置用基板,其中該反射器係藉由轉移模製形成。
- 一種光半導體裝置,其包含:如請求項9之光半導體裝置用導線架;及光半導體元件,其安裝於該導線架中之規定位置上。
- 一種光半導體裝置,其包含:如請求項12之光半導體裝置用基板;及光半導體元件,其安裝於該基板中之規定位置上。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011169178A JP5764423B2 (ja) | 2011-08-02 | 2011-08-02 | 光半導体装置用エポキシ樹脂組成物およびそれを用いて得られる光半導体装置用リードフレームまたは光半導体装置用基板、ならびに光半導体装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW201319157A TW201319157A (zh) | 2013-05-16 |
TWI555790B true TWI555790B (zh) | 2016-11-01 |
Family
ID=47610071
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW101127826A TWI555790B (zh) | 2011-08-02 | 2012-08-01 | 光半導體裝置用環氧樹脂組成物、使用其所得之光半導體裝置用導線架及光半導體裝置用基板、以及光半導體裝置 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8624343B2 (zh) |
JP (1) | JP5764423B2 (zh) |
KR (1) | KR101787771B1 (zh) |
CN (1) | CN102911478B (zh) |
TW (1) | TWI555790B (zh) |
Families Citing this family (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5976806B2 (ja) * | 2013-05-28 | 2016-08-24 | 日東電工株式会社 | 光半導体装置用エポキシ樹脂組成物およびそれを用いて得られる光半導体装置用リードフレーム、封止型光半導体素子ならびに光半導体装置 |
JP5670534B1 (ja) * | 2013-10-16 | 2015-02-18 | 台湾太陽油▲墨▼股▲分▼有限公司 | 白色熱硬化性樹脂組成物、その硬化物、及びそれを用いたディスプレイ用部材 |
WO2015076591A1 (ko) * | 2013-11-21 | 2015-05-28 | 주식회사 루멘스 | 발광 소자 패키지, 백라이트 유닛, 조명 장치 및 발광 소자 패키지의 제작 방법 |
JP2015130476A (ja) * | 2013-12-04 | 2015-07-16 | 日東電工株式会社 | 光半導体装置用エポキシ樹脂組成物およびそれを用いて得られる光半導体装置用リードフレーム、封止型光半導体素子ならびに光半導体装置 |
JP2015109337A (ja) * | 2013-12-04 | 2015-06-11 | 日東電工株式会社 | 光半導体装置用熱硬化性樹脂組成物およびそれを用いて得られる光半導体装置用リードフレーム、ならびに光半導体装置 |
CN103641998B (zh) * | 2013-12-24 | 2016-05-04 | 江苏华海诚科新材料股份有限公司 | Led反射杯用的白色环氧树脂组合物 |
CN105899569B (zh) * | 2014-01-08 | 2018-04-10 | 信越化学工业株式会社 | 半导体密封用液体环氧树脂组合物和树脂密封半导体装置 |
US10743412B2 (en) * | 2014-02-27 | 2020-08-11 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Substrate and semiconductor apparatus |
JP2016015383A (ja) * | 2014-07-01 | 2016-01-28 | 大日本印刷株式会社 | チップオン基板及びそれを用いた電子装置の製造方法 |
KR20170039680A (ko) * | 2014-08-08 | 2017-04-11 | 주식회사 다이셀 | 특수 형상을 갖는 에폭시 수지 성형물 및 그것을 구비한 광학 장치 |
JP6492544B2 (ja) * | 2014-10-31 | 2019-04-03 | 日立化成株式会社 | 光半導体封止用樹脂組成物及び光半導体装置 |
US9711286B2 (en) * | 2015-03-25 | 2017-07-18 | Sigma Laboratories Of Arizona, Llc | Polymeric monolithic capacitor |
US10879439B2 (en) * | 2015-06-29 | 2020-12-29 | Kuraray Co., Ltd. | Polyamide composition for LED reflection plate, LED reflection plate, and light-emitting device including reflection plate |
US10611911B1 (en) | 2016-05-05 | 2020-04-07 | SolEpoxy, Inc. | Epoxy resin composition with soda lime glass filler |
JP2019156991A (ja) * | 2018-03-14 | 2019-09-19 | 信越化学工業株式会社 | 白色リフレクター用熱硬化性エポキシ樹脂組成物及び該組成物の硬化物からなる白色リフレクター |
CN109735157B (zh) * | 2018-12-24 | 2020-11-03 | 东南大学 | 一种防火阻燃涂料用硅氮磷高效无卤阻燃剂及其制备方法和应用 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101058709A (zh) * | 2003-04-07 | 2007-10-24 | 日立化成工业株式会社 | 密封用环氧树脂成形材料及半导体装置 |
JP2011009519A (ja) * | 2009-06-26 | 2011-01-13 | Hitachi Chem Co Ltd | 光半導体装置及び光半導体装置の製造方法 |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4306951B2 (ja) * | 2000-11-07 | 2009-08-05 | 電気化学工業株式会社 | 表面処理された微細球状シリカ粉末および樹脂組成物 |
JP2003155329A (ja) * | 2001-11-22 | 2003-05-27 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | エポキシ樹脂組成物及び半導体装置 |
JP4818620B2 (ja) * | 2005-03-04 | 2011-11-16 | 京セラケミカル株式会社 | エポキシ樹脂組成物及び電子部品装置 |
JP2007091960A (ja) | 2005-09-30 | 2007-04-12 | Nitto Denko Corp | 光半導体素子封止用樹脂組成物およびそれを用いて得られる光半導体装置 |
JP4894554B2 (ja) * | 2007-02-23 | 2012-03-14 | パナソニック電工株式会社 | 光半導体封止用樹脂組成物及び光半導体装置 |
TWI483989B (zh) * | 2007-09-25 | 2015-05-11 | Hitachi Chemical Co Ltd | 熱硬化性光反射用樹脂組成物、使用該組成物的光半導體元件搭載用基板及其製造方法以及光半導體裝置 |
JP2010021533A (ja) * | 2008-06-09 | 2010-01-28 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | 光半導体ケース形成用白色熱硬化性シリコーン樹脂組成物及び光半導体ケース |
TWI477555B (zh) * | 2009-06-26 | 2015-03-21 | Asahi Rubber Inc | White reflective material and its manufacturing method |
JP5488326B2 (ja) * | 2009-09-01 | 2014-05-14 | 信越化学工業株式会社 | 光半導体装置用白色熱硬化性シリコーンエポキシ混成樹脂組成物及びその製造方法並びにプレモールドパッケージ及びled装置 |
CN106025053B (zh) * | 2010-03-23 | 2020-01-10 | 株式会社朝日橡胶 | 有机硅树脂制反射基材及其制造方法、以及用于该反射基材的原材料组合物 |
-
2011
- 2011-08-02 JP JP2011169178A patent/JP5764423B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2012
- 2012-08-01 TW TW101127826A patent/TWI555790B/zh not_active IP Right Cessation
- 2012-08-02 CN CN201210273652.3A patent/CN102911478B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2012-08-02 KR KR1020120084706A patent/KR101787771B1/ko active IP Right Grant
- 2012-08-02 US US13/564,765 patent/US8624343B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101058709A (zh) * | 2003-04-07 | 2007-10-24 | 日立化成工业株式会社 | 密封用环氧树脂成形材料及半导体装置 |
JP2011009519A (ja) * | 2009-06-26 | 2011-01-13 | Hitachi Chem Co Ltd | 光半導体装置及び光半導体装置の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN102911478A (zh) | 2013-02-06 |
JP2013032442A (ja) | 2013-02-14 |
US8624343B2 (en) | 2014-01-07 |
CN102911478B (zh) | 2016-08-31 |
TW201319157A (zh) | 2013-05-16 |
US20130032933A1 (en) | 2013-02-07 |
KR101787771B1 (ko) | 2017-10-18 |
JP5764423B2 (ja) | 2015-08-19 |
KR20130018586A (ko) | 2013-02-25 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI555790B (zh) | 光半導體裝置用環氧樹脂組成物、使用其所得之光半導體裝置用導線架及光半導體裝置用基板、以及光半導體裝置 | |
TWI595018B (zh) | 光學半導體裝置用環氧樹脂組合物及使用其之光學半導體裝置 | |
TWI553033B (zh) | 光學半導體元件外圍封裝用樹脂組合物及使用其所得之光學半導體發光裝置 | |
TWI504664B (zh) | 光學半導體裝置用樹脂組合物、使用其所得之光學半導體裝置導線架、及光學半導體裝置 | |
TW201302904A (zh) | 光學半導體元件外圍封裝用樹脂組合物及使用其所得之光學半導體發光裝置 | |
TWI589637B (zh) | An epoxy resin composition for an optical semiconductor device, a lead frame for an optical semiconductor device produced using the same, a hermetically sealed optical semiconductor device, and an optical semiconductor device | |
US8466483B2 (en) | Epoxy resin composition for optical semiconductor device, lead frame obtained using the same for optical semiconductor device, and optical semiconductor device | |
JP5721969B2 (ja) | 光半導体装置のリフレクタ用エポキシ樹脂組成物およびそれを用いて得られる光半導体装置用リードフレーム、ならびに光半導体装置 | |
JP5242530B2 (ja) | 光半導体素子封止用エポキシ樹脂組成物および光半導体装置 | |
WO2015083576A1 (ja) | 光半導体装置用熱硬化性樹脂組成物およびそれを用いて得られる光半導体装置用リードフレーム、ならびに光半導体装置 | |
WO2015083532A1 (ja) | 光半導体装置用エポキシ樹脂組成物およびそれを用いて得られる光半導体装置用リードフレーム、封止型光半導体素子ならびに光半導体装置 | |
JP2015040239A (ja) | 熱硬化性エポキシ樹脂組成物、光半導体素子用反射部材及び光半導体装置 | |
JP2015000885A (ja) | 光半導体装置用エポキシ樹脂組成物およびそれを用いて得られる光半導体装置用リードフレーム、ならびに光半導体装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
MM4A | Annulment or lapse of patent due to non-payment of fees |