JP5488326B2 - 光半導体装置用白色熱硬化性シリコーンエポキシ混成樹脂組成物及びその製造方法並びにプレモールドパッケージ及びled装置 - Google Patents
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Description
請求項1:
(A)熱硬化性シリコーン樹脂、(B)トリアジン誘導体エポキシ樹脂組成物、(C)白色顔料、(D)無機充填剤(但し、白色顔料を除く)、(E)酸化防止剤を含有し、(A)成分の熱硬化性シリコーン樹脂が、下記平均組成式(2)
R 3 a Si(OR 4 ) b (OH) c O (4-a-b-c)/2 (2)
(式中、R 3 は同一又は異種の炭素数1〜20の有機基、R 4 は同一又は異種の炭素数1〜4の有機基を示し、0.8≦a≦1.5、0≦b≦0.3、0.001≦c≦0.5、0.801≦a+b+c<2を満たす数である。)
で表されるものであり、(B)成分のトリアジン誘導体エポキシ樹脂組成物が、(B−1)トリアジン誘導体エポキシ樹脂及び(B−2)酸無水物からなり、(B−1)成分と(B−2)成分とをエポキシ基当量/酸無水物基当量0.6〜2.0で配合し反応して得られた固形物の粉砕物からなるものであり、(E)成分の酸化防止剤が、下記一般式(1)
P(OR1)(OR2)2 (1)
(式中、R1、R2は同一又は異種の炭素数6〜20のアルキル基である。)
で表されるホスファイト化合物であり、(A)成分と(B)成分との配合比率が質量比で5:95〜95:5であり、(D)成分の配合量が(A)、(B)成分の総量100質量部に対して100〜1,000質量部であり、(E)成分の配合量が組成物全体の0.01〜10質量%であることを特徴とする光半導体装置用白色熱硬化性シリコーンエポキシ混成樹脂組成物。
請求項2:
(C)成分の白色顔料が、平均粒径が0.05〜5.0μmの二酸化チタン、平均粒径がそれぞれ0.1〜3.0μmのチタン酸カリウム、酸化ジルコニウム、硫化亜鉛、酸化亜鉛、アルミナ、酸化マグネシウムから選ばれる1種又は2種以上であり、
(D)成分の無機充填剤が、平均粒径がそれぞれ4〜50μmのシリカ、アルミナ、酸化マグネシウム、水酸化アルミニウム、酸化亜鉛、窒化珪素、窒化アルミニウム、ボロンナイトライドから選ばれる1種又は2種以上であることを特徴とする請求項1に記載の白色熱硬化性シリコーンエポキシ混成樹脂組成物。
請求項3:
上記(D)成分の無機充填剤と上記(C)成分の白色顔料の合計量が、組成物全体の50〜95質量%の範囲であり、(C)成分の白色顔料の配合量が組成物全体の5〜40質量%であることを特徴とする請求項1又は2に記載の白色熱硬化性シリコーンエポキシ混成樹脂組成物。
請求項4:
更に、(F)硬化促進剤を組成物全体の0.05〜5質量%配合した請求項1〜3のいずれか1項に記載の白色熱硬化性シリコーンエポキシ混成樹脂組成物。
請求項5:
(B−1)トリアジン誘導体エポキシ樹脂と(B−2)酸無水物とを、エポキシ基当量/酸無水物基当量0.6〜2.0で配合し反応して得られた固形物の粉砕物からなる(B)トリアジン誘導体エポキシ樹脂組成物を(A)下記平均組成式(2)
R 3 a Si(OR 4 ) b (OH) c O (4-a-b-c)/2 (2)
(式中、R 3 は同一又は異種の炭素数1〜20の有機基、R 4 は同一又は異種の炭素数1〜4の有機基を示し、0.8≦a≦1.5、0≦b≦0.3、0.001≦c≦0.5、0.801≦a+b+c<2を満たす数である。)
で表される熱硬化性シリコーン樹脂と(A)成分と(B)成分の配合比率を質量比で5:95〜95:5の割合として混合すると共に、(C)白色顔料、(D)無機充填剤を(A)、(B)成分の総量100質量部に対して100〜1,000質量部、及び(E)酸化防止剤として組成物全体の0.01〜10質量%量の下記一般式(1)
P(OR1)(OR2)2 (1)
(式中、R1、R2は同一又は異種の炭素数6〜20のアルキル基である。)
で表されるホスファイト化合物と混合することを特徴とする光半導体装置用白色熱硬化性シリコーンエポキシ混成樹脂組成物の製造方法。
請求項6:
(E)酸化防止剤として組成物全体の0.01〜10質量%量の下記一般式(1)
P(OR1)(OR2)2 (1)
(式中、R1、R2は同一又は異種の炭素数6〜20のアルキル基である。)
で表されるホスファイト化合物の存在下に(B−1)トリアジン誘導体エポキシ樹脂と(B−2)酸無水物とを、エポキシ基当量/酸無水物基当量0.6〜2.0で配合し反応して得られた固形物の粉砕物からなる(B)トリアジン誘導体エポキシ樹脂組成物と(E)成分との混合物を(A)下記平均組成式(2)
R 3 a Si(OR 4 ) b (OH) c O (4-a-b-c)/2 (2)
(式中、R 3 は同一又は異種の炭素数1〜20の有機基、R 4 は同一又は異種の炭素数1〜4の有機基を示し、0.8≦a≦1.5、0≦b≦0.3、0.001≦c≦0.5、0.801≦a+b+c<2を満たす数である。)
で表される熱硬化性シリコーン樹脂と(A)成分と(B)成分の配合比率を質量比で5:95〜95:5の割合として混合すると共に、(C)白色顔料及び(D)無機充填剤を(A)、(B)成分の総量100質量部に対して100〜1,000質量部と混合することを特徴とする光半導体装置用白色熱硬化性シリコーンエポキシ混成樹脂組成物の製造方法。
請求項7:
更に、(F)硬化促進剤を混合する請求項5又は6に記載の製造方法。
請求項8:
(F)硬化促進剤又は(F)硬化促進剤及び(E)酸化防止剤として組成物全体の0.01〜10質量%量の下記一般式(1)
P(OR1)(OR2)2 (1)
(式中、R1、R2は同一又は異種の炭素数6〜20のアルキル基である。)
で表されるホスファイト化合物の存在下に(B−1)トリアジン誘導体エポキシ樹脂と(B−2)酸無水物とを、エポキシ基当量/酸無水物基当量0.6〜2.0で配合し反応して得られた固形物の粉砕物からなる(B)トリアジン誘導体エポキシ樹脂組成物と(F)成分又は(E)成分及び(F)成分との混合物を(A)下記平均組成式(2)
R 3 a Si(OR 4 ) b (OH) c O (4-a-b-c)/2 (2)
(式中、R 3 は同一又は異種の炭素数1〜20の有機基、R 4 は同一又は異種の炭素数1〜4の有機基を示し、0.8≦a≦1.5、0≦b≦0.3、0.001≦c≦0.5、0.801≦a+b+c<2を満たす数である。)
で表される熱硬化性シリコーン樹脂と(A)成分と(B)成分の配合比率を質量比で5:95〜95:5の割合として混合すると共に、(C)白色顔料、(D)無機充填剤を(A)、(B)成分の総量100質量部に対して100〜1,000質量部、及び(E)成分を上記反応に用いていない場合は上記(E)成分と混合することを特徴とする光半導体装置用白色熱硬化性シリコーンエポキシ混成樹脂組成物の製造方法。
請求項9:
請求項1〜4のいずれか1項に記載の光半導体装置用白色熱硬化性シリコーンエポキシ混成樹脂組成物で成形してなるプレモールドパッケージ。
請求項10:
請求項9に記載のプレモールドパッケージを用いて組み立てたLED装置。
(A)熱硬化性シリコーン樹脂
(B)トリアジン誘導体エポキシ樹脂組成物
(C)白色顔料
(D)無機充填剤(但し、白色顔料を除く)
(E)酸化防止剤
この場合、更に(F)硬化促進剤を配合することができる。
本発明に係る(A)成分の熱硬化性シリコーン樹脂は、シラノール基含有オルガノポリシロキサンであることが好ましく、特に下記平均組成式(2)
R3 aSi(OR4)b(OH)cO(4-a-b-c)/2 (2)
(式中、R3は同一又は異種の炭素数1〜20の有機基、R4は同一又は異種の炭素数1〜4の有機基を示し、0.8≦a≦1.5、0≦b≦0.3、0.001≦c≦0.5、0.801≦a+b+c<2を満たす数である。)
で表されるシリコーンポリマーである。
上記アリール基としては、炭素数6〜10のものがより好ましく、例えばフェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基等が挙げられる。
上記アラルキル基としては、炭素数7〜10のものがより好ましく、例えばベンジル基、フェネチル基、フェニルプロピル基、ナフチルメチル基等が挙げられる。
また、上記非置換1価炭化水素基の水素原子の1個又はそれ以上をハロゲン原子、シアノ基等で置換した置換1価炭化水素基であってもよい。
上記平均組成式(2)のR3は、これらの中でも、特にメチル基又はフェニル基であることが好ましい。
R3 nSiX4-n (3)
(式中、R3は上記の通りである。Xは塩素等のハロゲン原子又はアルコキシ基、特に炭素数1〜4のアルコキシ基で、nは1、2又は3である。)
で示されるオルガノシランの加水分解縮合物として得ることができる。
本発明で用いられるトリアジン誘導体エポキシ樹脂組成物は、下記(B−1)トリアジン誘導体エポキシ樹脂と(B−2)酸無水物からなるものであることが好ましい。
本発明で用いられるトリアジン誘導体エポキシ樹脂としては、1,3,5−トリアジン核誘導体エポキシ樹脂であることが好ましい。特にイソシアヌレート環を有するエポキシ樹脂は、耐光性や電気絶縁性に優れており、1つのイソシアヌレート環に対して、2個の、より好ましくは3個のエポキシ基を有することが望ましい。具体的には、トリス(2,3−エポキシプロピル)イソシアヌレート、トリス(α−メチルグリシジル)イソシアヌレート、トリス(α−メチルグリシジル)イソシアヌレート等を用いることができる。
本発明で用いられる(B−2)成分の酸無水物は、硬化剤として作用するものであり、耐光性を与えるために非芳香族であり、かつ炭素−炭素二重結合を有さないものが好ましく、例えば、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、トリアルキルテトラヒドロ無水フタル酸、水素化メチルナジック酸無水物などが挙げられ、これらの中でもメチルヘキサヒドロ無水フタル酸が好ましい。これらの酸無水物系硬化剤は、1種を単独で使用してもよく、また2種以上を併用してもよい。
本発明に係る(C)成分の白色顔料は、白色着色剤として、白色度を高めるために配合するものであり、特にLED用プレモールドパッケージに本発明組成物を使用する場合は、二酸化チタンを白色着色剤として白色度を高めるために配合する。この二酸化チタンの単位格子はルチル型、アナタース型のどちらでも構わない。また、平均粒径や形状も限定されないが少量で白色度を高めるためには微粉のものが望ましい。上記二酸化チタンは、樹脂や無機充填剤との相溶性、分散性、耐光性を高めるため、AlやSiなどの含水酸化物やシラン等で予め表面処理したルチル型のものを用いる方がよい。
なお、平均粒径は、レーザー光回折法による粒度分布測定における質量平均値D50(又はメジアン径)として求めることができる。
本発明の白色熱硬化性シリコーンエポキシ混成樹脂組成物に配合される(D)成分の無機充填剤としては、通常エポキシ樹脂組成物やシリコーン樹脂組成物に配合されるものを使用することができるが、上記(C)白色顔料は除かれる。例えば、溶融シリカ、結晶性シリカ等のシリカ類、アルミナ、酸化マグネシウム、水酸化アルミニウム、酸化亜鉛、窒化珪素、窒化アルミニウム、ボロンナイトライド、更にガラス繊維、ウォラステナイトなどの繊維状充填剤、三酸化アンチモン等が挙げられる。これら無機充填剤は1種を単独で使用してもよく、また2種以上を併用してもよい。
このようなカップリング剤としては、例えば、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン等のエポキシ官能性アルコキシシラン、N−β(アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−フェニル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン等のアミノ官能性アルコキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン等のメルカプト官能性アルコキシシランなどを用いることが好ましい。なお、表面処理に用いるカップリング剤の配合量及び表面処理方法については特に制限されるものではない。
本発明の白色熱硬化性シリコーンエポキシ混成樹脂組成物に用いられる(E)成分の酸化防止剤としては、高温下での長期耐熱性、耐候性を保持するという点ではリン系酸化防止剤を用いる。
このリン系酸化防止剤としては、下記一般式(1)
P(OR1)(OR2)2 (1)
(式中、R1、R2は同一又は異種の炭素数6以上の有機基であり、特に炭素数6〜20、とりわけ8〜16のアルキル基、炭素数6〜20のアリール基が好ましいが、光に対する安定性の面から、R1、R2のいずれか一方又は全てがアルキル基であることが好ましい。)
で表されるものを使用する。
本発明の組成物には、更に硬化促進剤を配合することができる。この(F)成分の硬化促進剤としては、エポキシ樹脂組成物の硬化促進剤として公知のものが使用でき、特に限定されないが、第三級アミン類、イミダゾール類、それらの有機カルボン酸塩、有機カルボン酸金属塩、金属−有機キレート化合物、芳香族スルホニウム塩、有機ホスフィン化合物類、ホスホニウム化合物類等のリン系硬化触媒、これらの塩類等の1種又は2種以上を使用することができる。これらの中でも、イミダゾール類、リン系硬化触媒、例えば2−エチル−4−メチルイミダゾール又はメチル−トリブチルホスホニウム−ジメチルホスフェイト、第四級ホスホニウムブロマイドが更に好ましい。
本発明の白色熱硬化性シリコーンエポキシ混成樹脂組成物には、更に必要に応じて下記のシリコーン樹脂用硬化触媒等各種の添加剤を配合することができる。
本発明に係る硬化触媒は、熱硬化性シリコーン樹脂を硬化させる縮合硬化触媒である。この縮合硬化触媒としては、例えば、トリメチルベンジルアンモニウムヒドロキサイド、テトラメチルアンモニウムヒドロキサイド、n−ヘキシルアミン、トリブチルアミン、ジアザビシクロウンデセン(DBU)、ジシアンジアミド等の塩基性化合物類;テトライソプロピルチタネート、テトラブチルチタネート、チタンアセチルアセトナート、アルミニウムトリイソブトキシド、アルミニウムトリイソプロポキシド、ジルコニウムテトラ(アセチルアセトナート)、ジルコニウムテトラブチレート、コバルトオクチレート、コバルトアセチルアセトナート、鉄アセチルアセトナート、スズアセチルアセトナート、ジブチルスズオクチレート、ジブチルスズラウレート等の含金属化合物類、アルミニウムトリスアセチルアセトネート、アルミニウムビスエチルアセトアセテート・モノアセチルアセトネート、ジイソプロポキシビス(エチルアセトアセテート)チタン、ジイソプロポキシビス(エチルアセトアセテート)チタン等の有機チタンキレート化合物等が挙げられる。この中で特にオクチル酸亜鉛、安息香酸亜鉛、p−tert−ブチル安息香酸亜鉛、ラウリン酸亜鉛、ステアリン酸亜鉛、アルミニウムトリイソプロポキシドが好ましい。中でも安息香酸亜鉛、有機チタンキレート化合物が好ましく使用される。
更に、リード部やパッド部が形成されたマトリックスアレー型の金属基板や有機基板上で、LED素子搭載部分のみを空けた状態で本材料を用い一括封止するプレモールドパッケージも本発明の範疇に入る。
また、通常の半導体用封止材や車載用各種モジュールなどの封止にも使用することができる。
(A)熱硬化性シリコーン樹脂
[合成例1]
メチルトリクロロシラン100質量部、トルエン200質量部を1Lのフラスコに入れ、氷冷下で水8質量部、イソプロピルアルコール60質量部の混合液を液中滴下した。内温は−5〜0℃で5〜20時間かけて滴下し、その後加熱して還流温度で20分間撹拌した。それから室温まで冷却し、水12質量部を30℃以下、30分間で滴下し、20分間撹拌した。更に水25質量部を滴下後、40〜45℃で60分間撹拌した。その後水200質量部を入れて有機層を分離した。この有機層を中性になるまで洗浄し、その後共沸脱水、濾過、減圧ストリップをすることにより、下記式(5)で示される無色透明の固体(融点76℃)36.0質量部の熱硬化性シリコーン樹脂(A−1)を得た。重量平均分子量は3,100であった。
(CH3)1.0Si(OC3H7)0.07(OH)0.10O1.4 (5)
メチルトリクロロシラン80質量部、テトラエトキシシラン20質量部、トルエン200質量部を1Lのフラスコに入れ、氷冷下で水8質量部、イソプロピルアルコール60質量部の混合液を液中滴下した。内温は−5〜0℃で5〜20時間かけて滴下し、その後加熱して還流温度で20分間撹拌した。それから室温まで冷却し、水12質量部を30℃以下、30分間で滴下し、20分間撹拌した。更に水25質量部を滴下後、40〜45℃で60分間撹拌した。その後水200質量部を入れて有機層を分離した。この有機層を中性になるまで洗浄し、その後共沸脱水、濾過、減圧ストリップをすることにより、下記式(6)で示される無色透明の固体(融点76℃)36.0質量部の熱硬化性シリコーン樹脂(A−2)を得た。重量平均分子量は3,000であった。
(CH3)0.5Si(OC3H7)0.06(OH)0.15O1.65 (6)
トリス(2,3−エポキシプロピル)イソシアネート(TEPIC−S:日産化学工業(株)製商品名、エポキシ当量100、重量平均分子量297)
(B−2)酸無水物
非炭素−炭素二重結合酸無水物;メチルヘキサヒドロ無水フタル酸(リカシッドMH:新日本理化(株)製商品名)
含炭素−炭素二重結合酸無水物;テトラヒドロ無水フタル酸(リカシッドTH:新日本理化(株)製商品名)
(C)白色顔料
二酸化チタン:ルチル型 R−45M
(堺化学工業(株)製商品名:平均粒径0.29μm)
(D)無機充填剤
溶融球状シリカ:MSR−4500TN
((株)龍森製商品名:平均粒径45μm)
(E)酸化防止剤
(E−1) トリデシルホスファイト
(アデカスタブ3010:ADEKA(株)製商品名)
(E−2) トリフェニルホスフィン
リン系硬化触媒:メチル−トリブチルホスホニウム−ジメチルホスフェイト
(PX−4MP:日本化学工業(株)製商品名)
(G)その他添加剤
(i)縮合硬化触媒
シリコーン樹脂用硬化触媒:安息香酸亜鉛(純正化学(株)製)
(ii)離型剤
ステアリン酸カルシウム(和光純薬工業(株)製)
下記表1に示す割合で各種成分を配合し、所定の反応条件で加熱することによりエポキシ樹脂と酸無水物を反応させた。
表2に示す割合で各種成分を配合し、均一に混合した後、熱二本ロールで混練することで白色のシリコーンエポキシ混成樹脂組成物を得た。
《スパイラルフロー値》
EMMI規格に準じた金型を使用して、175℃,6.9N/mm2、成形時間120秒の条件で測定した。
《溶融粘度》
高化式フローテスターを用い、25kgfの加圧下、内径1mmのノズルを用い、温度175℃で粘度を測定した。
《曲げ強度》
EMMI規格に準じた金型を使用して、175℃,6.9N/mm2、成形時間120秒の条件で測定した。
《光反射率》
175℃,6.9N/mm2、成形時間90秒の条件で直径50mm×厚さ3mmの円盤(硬化物)を成形し、成形直後、180℃で24時間放置後、UV照射(365nmピーク波長の高圧水銀灯60mW/cm)24時間後の波長450nmにおける光反射率をエス・デイ・ジー(株)製X−rite8200を使用して測定した。
2 リードフレーム(AgメッキCuフレーム又はNiPdAuメッキCuフレーム)
3 ボンディングワイヤ
4 透明封止樹脂
5 白色リフレクター(白色熱硬化性シリコーンエポキシ混成樹脂組成物の硬化物)
6 レンズ
11 半導体素子
12 リードフレーム
13 ボンディングワイヤ
14 半導体素子
15 リードフレーム
16 ボンディングワイヤ
17 透明封止樹脂
18 白色熱硬化性シリコーンエポキシ混成樹脂組成物の硬化物
Claims (10)
- (A)熱硬化性シリコーン樹脂、(B)トリアジン誘導体エポキシ樹脂組成物、(C)白色顔料、(D)無機充填剤(但し、白色顔料を除く)、(E)酸化防止剤を含有し、(A)成分の熱硬化性シリコーン樹脂が、下記平均組成式(2)
R 3 a Si(OR 4 ) b (OH) c O (4-a-b-c)/2 (2)
(式中、R 3 は同一又は異種の炭素数1〜20の有機基、R 4 は同一又は異種の炭素数1〜4の有機基を示し、0.8≦a≦1.5、0≦b≦0.3、0.001≦c≦0.5、0.801≦a+b+c<2を満たす数である。)
で表されるものであり、(B)成分のトリアジン誘導体エポキシ樹脂組成物が、(B−1)トリアジン誘導体エポキシ樹脂及び(B−2)酸無水物からなり、(B−1)成分と(B−2)成分とをエポキシ基当量/酸無水物基当量0.6〜2.0で配合し反応して得られた固形物の粉砕物からなるものであり、(E)成分の酸化防止剤が、下記一般式(1)
P(OR1)(OR2)2 (1)
(式中、R1、R2は同一又は異種の炭素数6〜20のアルキル基である。)
で表されるホスファイト化合物であり、(A)成分と(B)成分との配合比率が質量比で5:95〜95:5であり、(D)成分の配合量が(A)、(B)成分の総量100質量部に対して100〜1,000質量部であり、(E)成分の配合量が組成物全体の0.01〜10質量%であることを特徴とする光半導体装置用白色熱硬化性シリコーンエポキシ混成樹脂組成物。 - (C)成分の白色顔料が、平均粒径が0.05〜5.0μmの二酸化チタン、平均粒径がそれぞれ0.1〜3.0μmのチタン酸カリウム、酸化ジルコニウム、硫化亜鉛、酸化亜鉛、アルミナ、酸化マグネシウムから選ばれる1種又は2種以上であり、
(D)成分の無機充填剤が、平均粒径がそれぞれ4〜50μmのシリカ、アルミナ、酸化マグネシウム、水酸化アルミニウム、酸化亜鉛、窒化珪素、窒化アルミニウム、ボロンナイトライドから選ばれる1種又は2種以上であることを特徴とする請求項1に記載の白色熱硬化性シリコーンエポキシ混成樹脂組成物。 - 上記(D)成分の無機充填剤と上記(C)成分の白色顔料の合計量が、組成物全体の50〜95質量%の範囲であり、(C)成分の白色顔料の配合量が組成物全体の5〜40質量%であることを特徴とする請求項1又は2に記載の白色熱硬化性シリコーンエポキシ混成樹脂組成物。
- 更に、(F)硬化促進剤を組成物全体の0.05〜5質量%配合した請求項1〜3のいずれか1項に記載の白色熱硬化性シリコーンエポキシ混成樹脂組成物。
- (B−1)トリアジン誘導体エポキシ樹脂と(B−2)酸無水物とを、エポキシ基当量/酸無水物基当量0.6〜2.0で配合し反応して得られた固形物の粉砕物からなる(B)トリアジン誘導体エポキシ樹脂組成物を(A)下記平均組成式(2)
R 3 a Si(OR 4 ) b (OH) c O (4-a-b-c)/2 (2)
(式中、R 3 は同一又は異種の炭素数1〜20の有機基、R 4 は同一又は異種の炭素数1〜4の有機基を示し、0.8≦a≦1.5、0≦b≦0.3、0.001≦c≦0.5、0.801≦a+b+c<2を満たす数である。)
で表される熱硬化性シリコーン樹脂と(A)成分と(B)成分の配合比率を質量比で5:95〜95:5の割合として混合すると共に、(C)白色顔料、(D)無機充填剤を(A)、(B)成分の総量100質量部に対して100〜1,000質量部、及び(E)酸化防止剤として組成物全体の0.01〜10質量%量の下記一般式(1)
P(OR1)(OR2)2 (1)
(式中、R1、R2は同一又は異種の炭素数6〜20のアルキル基である。)
で表されるホスファイト化合物と混合することを特徴とする光半導体装置用白色熱硬化性シリコーンエポキシ混成樹脂組成物の製造方法。 - (E)酸化防止剤として組成物全体の0.01〜10質量%量の下記一般式(1)
P(OR1)(OR2)2 (1)
(式中、R1、R2は同一又は異種の炭素数6〜20のアルキル基である。)
で表されるホスファイト化合物の存在下に(B−1)トリアジン誘導体エポキシ樹脂と(B−2)酸無水物とを、エポキシ基当量/酸無水物基当量0.6〜2.0で配合し反応して得られた固形物の粉砕物からなる(B)トリアジン誘導体エポキシ樹脂組成物と(E)成分との混合物を(A)下記平均組成式(2)
R 3 a Si(OR 4 ) b (OH) c O (4-a-b-c)/2 (2)
(式中、R 3 は同一又は異種の炭素数1〜20の有機基、R 4 は同一又は異種の炭素数1〜4の有機基を示し、0.8≦a≦1.5、0≦b≦0.3、0.001≦c≦0.5、0.801≦a+b+c<2を満たす数である。)
で表される熱硬化性シリコーン樹脂と(A)成分と(B)成分の配合比率を質量比で5:95〜95:5の割合として混合すると共に、(C)白色顔料及び(D)無機充填剤を(A)、(B)成分の総量100質量部に対して100〜1,000質量部と混合することを特徴とする光半導体装置用白色熱硬化性シリコーンエポキシ混成樹脂組成物の製造方法。 - 更に、(F)硬化促進剤を混合する請求項5又は6に記載の製造方法。
- (F)硬化促進剤又は(F)硬化促進剤及び(E)酸化防止剤として組成物全体の0.01〜10質量%量の下記一般式(1)
P(OR1)(OR2)2 (1)
(式中、R1、R2は同一又は異種の炭素数6〜20のアルキル基である。)
で表されるホスファイト化合物の存在下に(B−1)トリアジン誘導体エポキシ樹脂と(B−2)酸無水物とを、エポキシ基当量/酸無水物基当量0.6〜2.0で配合し反応して得られた固形物の粉砕物からなる(B)トリアジン誘導体エポキシ樹脂組成物と(F)成分又は(E)成分及び(F)成分との混合物を(A)下記平均組成式(2)
R 3 a Si(OR 4 ) b (OH) c O (4-a-b-c)/2 (2)
(式中、R 3 は同一又は異種の炭素数1〜20の有機基、R 4 は同一又は異種の炭素数1〜4の有機基を示し、0.8≦a≦1.5、0≦b≦0.3、0.001≦c≦0.5、0.801≦a+b+c<2を満たす数である。)
で表される熱硬化性シリコーン樹脂と(A)成分と(B)成分の配合比率を質量比で5:95〜95:5の割合として混合すると共に、(C)白色顔料、(D)無機充填剤を(A)、(B)成分の総量100質量部に対して100〜1,000質量部、及び(E)成分を上記反応に用いていない場合は上記(E)成分と混合することを特徴とする光半導体装置用白色熱硬化性シリコーンエポキシ混成樹脂組成物の製造方法。 - 請求項1〜4のいずれか1項に記載の光半導体装置用白色熱硬化性シリコーンエポキシ混成樹脂組成物で成形してなるプレモールドパッケージ。
- 請求項9に記載のプレモールドパッケージを用いて組み立てたLED装置。
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