TWI550037B - Acetate-modified polysiloxane and its stain-resistant coating compositions - Google Patents

Acetate-modified polysiloxane and its stain-resistant coating compositions Download PDF

Info

Publication number
TWI550037B
TWI550037B TW102138043A TW102138043A TWI550037B TW I550037 B TWI550037 B TW I550037B TW 102138043 A TW102138043 A TW 102138043A TW 102138043 A TW102138043 A TW 102138043A TW I550037 B TWI550037 B TW I550037B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
integer
group
acrylate
stain
photoinitiator
Prior art date
Application number
TW102138043A
Other languages
English (en)
Other versions
TW201418384A (zh
Inventor
Ping Zhao
min-jie Qian
Original Assignee
Eternal Materials Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Eternal Materials Co Ltd filed Critical Eternal Materials Co Ltd
Publication of TW201418384A publication Critical patent/TW201418384A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI550037B publication Critical patent/TWI550037B/zh

Links

Landscapes

  • Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
  • Silicon Polymers (AREA)

Description

經丙烯酸酯基團改質的聚矽氧烷之用途及其耐汙塗料組合物
本發明關於聚矽氧烷之用途及其耐汙塗料組合物,尤指一種關於經丙烯酸酯基團改質的聚矽氧烷之用途及其耐汙塗料組合物。
目前,現有技術已知透過SiOC鍵結或SiC鍵結將含丙烯酸酯的基團連接到聚矽氧烷的主鏈,所得到的經丙烯酸酯基團改質的聚矽氧烷可作為可高能輻射固化的黏合劑。
所述黏合劑可應用於例如:(1)印刷油墨、(2)製造漆載色劑或(3)紙張、木材以及金屬表面用之塗覆劑。具體而言,現有技術係將經丙烯酸酯基團改質的聚矽氧烷用於作為脫黏塗覆劑。利用紫外光輻射或電子束,特別是添加如二苯甲酮及其衍生物等已知起始劑後,使經丙烯酸酯基團改質的聚矽氧烷在很短的時間內即可發生固化。
經丙烯酸酯基團改質的聚矽氧烷的防黏性或隔離性已被大多數文獻所證實;然而,目前仍未發現經丙烯酸酯基團改質的聚矽氧烷是否具有其他用途。
本發明之目的在於提供一種經丙烯酸酯基團改質的聚矽氧烷的新用途。
本發明之第一方面提供一種經丙烯酸酯基團改質的聚矽氧烷之用途,其係應用於耐汙塗料組合物中,作為耐汙塗料組合物的耐汙添加劑,其中該經丙烯酸酯基團改質的聚矽氧烷之結構係如下列式(I)所示:
於式(I)中,R1、R4、R5、R6及R7分別為具有1至4個碳原子的烷基或苯基;R2為具有1至4個碳原子的烷基或苯基;a為1至300的一整數; R3, 其中,n為介於2至50的一整數;R為多價的直鏈或支鏈的脂肪族烴基(aliphatic alkyl group)或芳香族烴基(aromatic alkyl group)。
於另一較佳例中,R含有一選自於下列所組成之群組的雜原子:硫(S)、氧(O)及氮(N)。
於另一較佳例中,a為介於10至280的一整數;n為介於3至25的一整數。
於另一較佳例中,n為介於2至10的一整數;較佳的,n為介於3至8的一整數。
在另一較佳實施例中,R為-(C1-6亞烷基-O)r-(C1-6亞烷基)s-(O-C1-6亞烷基)t-、-(C6H4-CR'R”-C6H4)u-或為-(C1-6亞烷基-CR'R”-C1-6亞烷基)v-,其中,r為0至200,s為0至200,t為0至200,u為1至200,v為1至200;各R'分別為為C1-10烷基或C6-20芳香族烴基;各R”分別為C1-10烷基或C6-20芳香族烴基。
於另一較佳例中,R為-(C1-4亞烷基-O)r-(C1-4亞烷基)s-(-O-C1-4亞烷基)t-。
於另一較佳例中,R為-(CH2-CR’R”-CH2)v-,R’、R”、v的定義係如前所述。
上述之C1-6亞烷基可為支鏈或直鏈的C1-6亞烷基。
於本說明書中,「亞烷基(alkylidene)」係由一烷類化合物(alkane)移除2個氫基(hydrogen group,-H)後所形成之雙價取代基,且該雙價取代基中的2自由價(free valence)係分別構成2個獨立的單鍵之一部分。該亞烷基例如:亞甲基(methylene,-CH2-)、亞乙基(ethylidene,-CH2CH2-)、、亞丙基(propylidene,-CH2CH2CH2-),但並非僅限於此。
於另一較佳例中,R為-(C1-6亞烷基)s,或R為-(C1-6亞烷基)s-(O-C1-6亞烷基)t-,各s為1至30,各t為1至30。
於另一較佳例中,r為0至100,s為0至100, t為0至100,u為1至100,v為1至100,較佳地,r為0至10,s為0至10,t為0至10,u為1至10,v為1至10,更佳地,r為1至5,s為1至5,t為1至5,u為1至5,v為1至5。
於另一較佳例中,R選自於下列所組成之群組: 上式中,h+i+j為介於3至21的一整數,k+l+m為介 於3至21,o為介於1至20的一整數,p為介於1至20的一整數,q+b+c為介於3至21的一整數,d+e+f+g為介於4至20的一整數,w+x+y+z為介於4至20的一整數。
本發明之第二方面提供一種耐汙塗料組合物,包含:組份A:一含有至少1個不飽和雙鍵的低聚物;組份B:一稀釋單體;組份C:一光起始劑;以及組份D:一耐汙添加劑,其係為經丙烯酸酯基團改質的聚矽氧烷,該經丙烯酸酯基團改質的聚矽氧烷之結構係如下列式(I)所示:
於式(I)中,R1、R4、R5、R6及R7分別為具有1至4個碳原子的烷基或苯基;R2為具有1至4個碳原子的烷基或苯基;a為1至300的一整數; R3, 其中,n為介於2至50的一整數;R為多價的直鏈或支鏈的脂肪族烴基(aliphatic alkyl group)或芳香族烴基(aromatic alkyl group)。
較佳的,該耐汙添加劑中的經丙烯酸酯基團改質的聚矽氧烷之結構係如上所述。
於另一較佳例中,以耐汙塗料組合物之總重量計,該含有至少1個不飽和雙鍵的低聚物(組份A)的含量為20至90重量百分比(wt%);該稀釋單體(組份B)的含量為1至70重量百分比;該光起始劑(組份C)的含量為0.5至20重量百分比;該耐汙添加劑(組份D)的含量為0.1至25重量百分比。
於另一較佳例中,以耐汙塗料組合物總重量計,該含有至少1個不飽和雙鍵的低聚物(組份A)的含量為25至80重量百分比;該稀釋單體(組份B)的含量為5至65重量百分比;該光起始劑(組份C)的含量為0.8至15重量百分比;該耐汙添加劑(組份D)的含量為0.5至20重量百分比。
於另一較佳例中,以耐汙塗料組合物總重量計,該含有至少1個不飽和雙鍵的低聚物(組份A)的含量為25至75重量百分比;該稀釋單體(組份B)的含量為10至65重量百分比;該光起始劑(組份C)的含量為1至15重量百分比;該耐汙添加劑(組份D)的含量為1至20重量百分比。
於另一較佳例中,該含有至少1個不飽和雙鍵的低聚物(組份A)係選自於下列所組成之群組:環氧丙烯酸酯低聚物(epoxy acrylate oligomer)、聚氨酯丙烯酸酯低聚物(polyurethane acrylate oligomer)、聚酯丙烯酸酯低聚物(polyester acrylate oligomer)、聚丙烯酸酯低聚物 (polyacrylate oligomer)、氨基丙烯酸酯低聚物(amine acrylate oligomer)、矽基丙烯酸酯低聚物(silicon acrylate oligomer)及其混合物。
於另一較佳例中,稀釋單體(組份B)為具有至少1個官能基團的丙烯酸酯單體。
於另一較佳例中,光起始劑(組份C)為二苯甲酮-胺共軛體系光起始劑(benzophenone-amine conjugated photoinitiators)、苯偶姻醚類光起始劑(benzoin ether-based photoinitiators)、苯偶醯類光起始劑(benzil-based photoinitiators)、苯偶醯縮酮類光起始劑(benzyl ketal-based photoinitiators)、苯乙酮衍生物類光起始劑(acetophenone derivative-based photoinitiators)或其混合物。
本發明的有益功效:本發明經丙烯酸酯基團改質的聚矽氧烷可應用於作為耐汙塗料組合物的耐汙添加劑,由於該耐汙添加劑具有耐汙作用,故包含此耐汙添加劑的耐汙塗料組合物能具有優異的耐汙性能。
應理解的是,在本發明之範圍內,本發明上述的各技術特徵和下文(如實施例)中所具體描述的各技術特徵之間都可以互相組合,從而構成新穎或較佳的技術方案。限於篇幅,在此便不再一一贅述。
本申請的發明人經過廣泛而深入的研究,發展一種經丙烯酸酯基團改質的聚矽氧烷的新用途,其可以應用於耐汙塗料組合物中,作為耐汙塗料組合物的耐汙添加劑;將此耐汙添加劑添加在耐汙塗料組合物中能使耐汙塗料組合物具有優異的耐汙性能。在此基礎上,完成了本發明。
經丙烯酸酯基團改質的聚矽氧烷
經丙烯酸酯基團改質的聚矽氧烷(於本說明書中,又稱為式(I)化合物)的結構係如式(I)所示,該經丙烯酸酯基團改質的聚矽氧烷具有耐汙性能,故能夠用以作為耐汙塗料組合物中的耐汙添加劑,
於式(I)中,R1、R4、R5、R6及R7分別為具有1至4個碳原子的烷基或苯基;R2為1至4個碳原子的烷基或苯基;a為1至300; R3, 其中,n為介於2至50的一整數,且n2;R為多價的直鏈或支鏈的脂肪族烴基或芳香族烴基,且可選擇性地包含一雜原子,該雜原子係選自於下列所組成之群組:S、O、N。
式(I)化合物中,R1、R4、R5、R6及R7可以相同或可以不同。
於另一較佳例中,式(I)化合物中,R2係與R1、R4、R5、R6及R7相同。
當a為100至150;n>3(如大於3且小於或等於50的整數)時,式(I)化合物具有更佳的耐汙性能。
於另一較佳例中,R為-(C1-6亞烷基-O)r-(C1-6亞烷基)s-(O-C1-6亞烷基)t-、-(C6H4-CR'R”-C6H4)u-或為-(C1-6亞烷基-CR'R”-C1-6亞烷基)v-,其中,r為0至200,s為0至200,t為0至200,u為1至200,v為1至200;R'為C1-10烷基或C6-20芳香族烴基;R”為C1-10烷基或C6-20芳香族烴基。
於另一較佳例中,R為-(C1-4亞烷基-O)r-(C1-4亞烷基)s-(-O-C1-4亞烷基)t-。r、s、t的定義如前所述。
於另一較佳例中,R為(CH2-CR'R”-CH2)v-,R'、R”、v的定義如前所述。
各式中,C1-6亞烷基為支鏈或直鏈的C1-6亞烷基。
於另一較佳例中,r為0至100,s為0至100,t為0至100,u為1至100,v為1至100,較佳地,r為0至10,s為0至10,t為0至10,u為1至10,v為1至10,更佳地,r為1至5,s為1至5,t為1至5,u為1至5,v為1至5。
於另一較佳例中,R為-(C1-6亞烷基)s,或R為-(C1-6亞烷基)s-(O-C1-6亞烷基)t-,各s為1至30,各t為1至30。
於另一較佳例中,R係選自於下列所組成之群組:-(CH2)s-、-(CH2CH2O)r-(CH2)s-(OCH2CH2)t-、
於另一較佳例中,R係選自於下列所組成之群組: 其中h+i+j為3至21,k+l+m為3至21,o、p為1至20,q+b+c為3至21。
於另一較佳例中,R係選自於下列所組成之群組: 其中d+e+f+g為4至20,w+x+y+z為4至20。
於另一較佳例中,h+i+j為3至15,k+l+m為3至15,o為1至10,p為1至10,q+b+c為3至15,d+e+f+g為4至15,w+x+y+z為4至15;較佳地,h+i+j為3至12,k+l+m為3至12,o為1至8,p為1至8,q+b+c為3至12,d+e+f+g為4至12,w+x+y+z為4至12。
於另一較佳例中,3h21,3i21,3j21,3k21,3l21,3m21,1o20,1p20,3q21,3b21,3c21,4d20,4e20,4f20,4w20,4x20,4y20,4z20。
於另一較佳例中,3h15,3i15,3j15,3k15,3l15,3m15,1o10,p為1至10,3q15,3b15,3c15,4d15,4e15,4f15,4w15,4x15,4y15,4z15。
於另一較佳例中,3h12,3i12,3j12,3k12,3l12,3m12,1o8,p為1至8,3q12,3b12,3c12,4d12,4e12,4f12,4w12,4x12,4y12,4z12。
於另一較佳例中,a至z為正整數。
於另一較佳例中,R為
式(I)化合物的製備
式(I)化合物的製備沒有特別的限制,可以採用本領域通用的各種方法。例如,可通過以下方式獲得:使具有至少一個SiH基團的有機聚矽氧烷與相對於SiH基團為等莫耳量的含丙烯酸基團的化合物進行氫化矽烷化反應。
含丙烯酸基團的化合物可選自於下列化合物,其中b、c、d、e、f、g、h、i、j、k、l、m、o、p、q、r、s、t、u、v、w、x、y、z、R'、R”的定義如前所述。
a)二丙烯酸酯:
烷二醇二丙烯酸酯;
帶支鏈的烷二醇二丙烯酸酯;
乙氧基化烷二醇二丙烯酸酯;
丙氧基化烷二醇二丙烯酸酯;
1,3-丁二醇二丙烯酸酯;
(聚)乙二醇二丙烯酸酯;
(聚)丙二醇二丙烯酸酯;
(聚)丁二醇二丙烯酸酯;
被取代的雙酚A衍生物;
4,4'-二巰基二苯硫醚雙甲基丙烯酸甲酯
[bis(4-methacryloylthiophenyl)sulfide]。
b)三丙烯酸酯:
三丙烯酸三羥甲基丙烷酯(TMPTA);
季戊四醇三丙烯酸酯(PET3A);
乙氧基化三羥甲基丙烷三丙烯酸酯;
丙氧化三羥甲基丙烷三丙烯酸酯;
甘油三丙烯酸酯;
乙氧基化甘油三丙烯酸酯;
丙氧化甘油三丙烯酸酯;
三-2-丙烯酸[2,4,6-三氧代-1,3,5-三嗪-1,3,5(2H,4H,6H)-次基]三-2,1-亞乙酯
[tris(2-hydroxyethyl)isocyanurate triacrylate]。
c)四丙烯酸酯:
季戊四醇四丙烯酸酯;
二-(三羥甲基丙烷)四丙烯酸酯;
二-(三羥甲基甲烷)四丙烯酸酯;
乙氧基化季戊四醇四丙烯酸酯;
丙氧化季戊四醇四丙烯酸酯;
N1,N1,N2,N3,N3-四丙烯醯基氧乙基羧乙基-乙烷-1,2二胺 [N1,N1,N2,N3,N3-tetrakis(acryloyloxyethylcarboxyethyl)ethane diamine]。
d)多官能丙烯酸酯:
二(季戊四醇)六丙烯酸酯(DPHA);
N1,N1,N2,N3,N3-五丙烯醯基氧乙基羧乙基-二乙烯三胺
[N1,N1,N2,N3,N3-pentakis(acryloyloxyethylcarboxyethyl)diethylenetriamine]
N1,N1,N2,N3,N3,N4,N5,N5-七丙烯醯基氧乙基羧乙基-四乙烯五胺
[N1,N1,N2,N3,N3,N4,N5,N5-heptakis(acryloyloxyethylcarboxyethyl)tetraethylenepentaamine]。
耐汙塗料組合物
本發明的耐汙塗料組合物,包含:組份A:含有至少1個不飽和雙鍵的低聚物;組份B:稀釋單體;組份C:光起始劑;組份D:一耐汙添加劑,其係為經丙烯酸酯基團改質的聚矽氧烷,該丙烯酸酯基團改質的聚矽氧烷之結構係如前所述。
含有至少1個不飽和雙鍵的低聚物是選自由環氧丙烯酸酯低聚物、聚氨酯丙烯酸酯低聚物、聚酯丙烯酸酯低聚物、聚丙烯酸酯低聚物、氨基丙烯酸酯低聚物及矽基丙烯酸酯低聚物及其混合物所構成的群組。其中聚氨酯丙烯酸酯低聚物可為脂肪族聚氨酯丙烯酸酯低聚物或芳香 族聚氨酯丙烯酸酯低聚物。
以下,列舉市售之含有至少1個不飽和雙鍵的低聚物的例子。
市售之環氧丙烯酸酯低聚物,例如:AgiSynTM 2901A50、AgiSynTM 1010、AgiSynTM 1010A80、AgiSynTM 1010B80、AgiSynTM 1010C80、AgiSynTM 2010及AgiSynTM 2500(新力美科技(股)公司製造);621、621-100、622、623、6210G、624、6231、6241、6213-100、6215-100、625、6261及620-100(長興化工製造);EBECRYL-600、EBECRYL-605、EBECRYL-648、EBECRYL-1608、EBECRYL-3105、EBECRYL-3213、EBECRYL-3416、EBECRYL-3700、EBECRYL-3701、EBECRYL-3703、EBECRYL-3708、EBECRYL-3740及EBECRYL-6040(優喜碧(UCB)股份有限公司製造)。
市售之脂肪族聚氨酯丙烯酸酯低聚物,例如:6101-100、611A-85、611B-85、6112-100、6113、6114、6115J-80、6130B-80、6131-1、6134B-80、6141H-80、6143A-80、6143C-60、6144-100、6145-100、6145-100H、6148J-75、6148T-85、6149-100、615-100、6150-100、6151、6152B-80、6153-1、6154B-80、6157B-80、6158B-80、6160B-70、6161-100、6181及6196-100(長興化工製造);AgiSynTM 230S1-15HD、AgiSynTM 230S2-30TP、AgiSynTM 230SM-20TP、AgiSynTM 230SN-20TP、AgiSynTM 230SR-20TP、AgiSynTM 230T1及AgiSynTM 230A2(新力美科技(股)公司製造);EBECRYL-264、EBECRYL-294/25 HD、EBECRYL-4820、EBECRYL-4858、EBECRYL-5129、EBECRYL-8210、EBECRYL-8402、EBECRYL-8405、 EBECRYL-8406、EBECRYL-8407、EBECRYL-270、EBECRYL-230、EBECRYL-284及EBECRYL-1290(優喜碧(UCB)股份有限公司製造);HENKEL 6010(COGNIS公司製造);CN9001、CN9002、CN9004及CN9006(Sartomer公司製造);Desmolux® U100、Desmolux® VP LS 2265、Desmolux® VP LS 2308、Desmolux® U375H、Desmolux® VP LS 2220、Desmolux® XP 2491、Desmolux® XP 2513、Desmolux® U200及Desmolux® XP 2609(Bayer公司製造)。
市售之芳香族聚氨酯丙烯酸酯低聚物,例如:6120F-80、6121F-80、6122F-80及6146-100(長興化工製造);AgiSynTM 670TH-20TP、AgiSynTM 670S1-20TP、AgiSynTM 670T1、AgiSynTM 670A2(新力美科技(股)公司製造)、EBECRYL-204、EBECRYL-205、EBECRYL-210、EBECRYL-215、EBECRYL-220及EBECRYL-6202(優喜碧(UCB)股份有限公司製造)。
市售之聚酯丙烯酸酯低聚物,例如:EBECRYL-830、EBECRYL-810及EBECRYL-524(優喜碧(UCB)股份有限公司製造);6315、6320、6360、6323-100、6325-100、6327-100、6336-100及6361-100(長興化工製造)。
市售之聚丙烯酸酯低聚物,例如:AgiSynTM 2266(新力美科技(股)公司製造)、EBECRYL-745(優喜碧(UCB)股份有限公司製造)、DOUBLEMER3778、DOUBLEMER1701、DOUBLEMER345、DOUBLEMER1703、DOUBLEMER530、DOUBLEMER570、DOUBLEMER236及DOUBLEMER584(雙鍵化工有限公司製造);6530B-40、6531B-40、6532B-40及6533B-40(長興化工製造)。
稀釋單體為具有至少1個官能基團的丙烯酸酯 單體。於此,該官能基團係選自於下列所組成之群組:氫氧基、苯氧基、乙氧基、羥甲基、異冰片基、烷基、芐基、四氫呋喃基。
適用於本發明中的稀釋單體,例如但不限於,選自於由下列化合物所組成之群組:2-苯氧基乙基丙烯酸酯(2-phenoxy ethyl acrylate,PHEA)、乙氧化苯氧基丙烯酸酯(ethoxylated phenoxyl acrylate,PH3EOA)、異冰片基甲基丙烯酸酯(isobornyl methacrylate,IBOMA)、二丙烯酸二丙二醇酯(dipropylene glycol diacrylate,DPGDA)、二丙烯酸三丙二醇酯(tripropylene glycol diacrylate,TPGDA)、二丙烯酸1,6-己二醇酯(1,6-hexanediol diacrylate,HDDA)、二甲基丙烯酸二乙二醇酯(diethylene glycol dimethacrylate,DEGDMA)、二丙烯酸聚乙二醇(400)酯(polyethylene glycol(400)diacrylate,PEG(400)DA)、二丙烯酸聚乙二醇(600)酯(polyethylene glycol(600)diacrylate,PEG(600)DA)、二甲基丙烯酸乙二醇酯(ethylene glycol dimethacrylate,EGDMA)、二丙烯酸乙氧基化(10)雙酚酯(ethoxylated(10)bisphenol-A diacrylate,BPA10EODA)、二甲基丙烯酸乙氧基化(10)雙酚酯(ethoxylated(10)bisphenol-A dimethacrylate,BPA10EODMA)、二丙烯酸三環癸烷二甲醇酯(tricyclodecane dimethanol.diacrylate,TCDMDA)、二丙烯酸丙氧化(2)新戊二醇酯(propoxylated(2)neopentyl glycol diacrylate,NPG2PODA)、Nanocryl 0396(含50%奈米氧化矽的DPGDA,HonLein公司製造)、Nanocryl 0768(含50%奈米氧化矽的HDDA,HonLein公司製造)、三丙烯酸三羥甲基丙烷酯(trimethylolpropane triacrylate,TMPTA)、三丙烯酸乙氧化(3)三羥甲基丙烷酯(ethoxylated(3) trimethylolpropane triacrylate,TMP3EOTA)、三丙烯酸乙氧化(6)三羥甲基丙烷酯(ethoxylated(6)trimethylolpropane triacrylate,TMP6EOTA)、三丙烯酸乙氧化(9)三羥甲基丙烷酯(ethoxylated(9)trimethylolpropane triacrylate,TMP9EOTA)、三丙烯酸乙氧化(15)三羥甲基丙烷酯(ethoxylated(15)trimethylolpropane triacrylate,TMP15EOTA)、三丙烯酸乙氧化(20)三羥甲基丙烷酯(ethoxylated(20)trimethylolpropane triacrylate,TMP20EOTA)、三丙烯酸丙氧化(6)三羥甲基丙烷酯(propoxylated(6)trimethylolpropane triacrylate,TMP6POTA)、三丙烯酸丙氧化(3)丙三醇酯(propoxylated(3)glyceryl triacrylate,G3POTA)、季戊四醇三丙烯酸酯(pentaerythritol triacrylate,PET3A)、二-(三羥甲基丙烷)酯四丙烯酸(di(trimethylolpropane)tetracrylate,DI-TMPTA)、季戊四醇四丙烯酸酯(pentaerythritol tetraacrylate,PET4A)、六丙烯酸二季戊四醇酯(dipentaerythritol hexaacrylate,DPHA)或其混合物。
市售之稀釋單體的例子包括:EM210、EM2103、EM223、EM328、EM2308、EM231、EM235、EM2381、EM2382、EM2383、EM2384、EM2385、EM2386、EM2387、EM331、EM3380、EM241、EM2411、EM242、EM2421及EM265(長興化工製造);EBECRYL-160、EBECRYL-853、EBECRYL-2047、EBECRYL-40及EBECRYL-140(優喜碧(UCB)股份有限公司製造);CD501、SR351、SR368、SR415、SR444、SR454、SR454HP、SR492、SR499、SR9008、SR9035、CD9051、SR350、SR9009、SR9011、SR295、SR9020、SR9021、SR355、SR399、SR494、 SR9041、Ricacryl3500及Ricacryl3801(SARTOMER公司製造);MIRAMER M500及MIRAMER M600(Miwon公司製造)。
光起始劑並無特殊限制,所述之光起始劑為經 光照射後會產生自由基,而透過自由基的傳遞引發聚合反應者,其例如但不限於,選自於由下列化合物所組成之組群:二苯甲酮-胺共軛體系光起始劑;苯偶姻醚類光起始劑;苯偶醯光起始劑及其縮酮類光起始劑與苯乙酮衍生物類光起始劑。
市售之光起始劑的例子包括:CHIVACURE 115 (屬於二苯甲酮-胺共軛體系光起始劑)、CHIVACURE ITX(異丙基硫雜蒽酮(isopropyl thioxanthone))、CHIVACURE EPD(對-(二甲氨基)苯甲酸乙酯(ethyl-p-dimethylaminobenzoate)、CHIVACURE OMB(鄰-苯甲醯基苯甲酸甲酯(methyl-o-benzoylbenzoate))、CHIVACURE EMK(N,N,N',N'-四乙基-4,4'-二氨基二苯甲酮(N,N,N',N'-tetraethyl-4,4'-diaminobenzophenone))、CHIVACURE BDK(2,2'-二甲基-1,2-二苯基乙烷-1-酮(2,2-dimethyl-1,2-diphenylethan-1-one))、CHIVACURE BMS(4-苯甲醯基-4'-甲基二苯基硫醚(4-benzoyl-4'-methyl diphenyl sulfide))、CHIVACURE 184(1-羥基-環己基-苯基酮(1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone))、CHIVACURE 173(2-羥基-2-甲基-1-苯基-1-丙酮)、CHIVACURE TPO(2,4,6-三甲基苯甲醯基二苯基膦氧化物(diphenyl(2,4,6-trimethylbenzoyl)phosphine oxide))及CHIVACURE 200(苯基乙醇酸甲酯(phenyl methyl glycolate))(雙鍵化工(DBC)有限公司製造);AgiSynTM-1812(1-羥基-環己基-苯基 酮(1-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-1-propanone))、AgiSynTM-1810(2-羥基-2-甲基-1-苯基-1-丙酮(2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-1-propanone))、AgiSynTM-1801及AgiSynTM-003,新力美科技股份有限公司製造);IRGACURE 369(2-苄基-2-N,N-二甲基氨基-1-(4-嗎啉基苯基-1-丁酮(2-benzyl-2-N,N-dimethylamino-1-(4-morpholinophenyl)-1-butanone))及IRGACURE 2959(4-(2-羥基乙氧基)-苯基-(2-羥基-2-甲基丙基)酮(4-(2-hydroxyethoxy)-phenyl-2-hydorxy-2-methyl-1-propanone))(CIBA公司製造);PI BP(二苯甲酮(benzophenone))及PI BDK(安息香雙甲醚(2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone))(長興公司製造)。為克服色料有遮蔽光的性質,可視需要同時混合使用兩種或兩種以上的上述光起始劑。
本發明的耐汙塗料組合物可採用任何本領域技 術人員所知的方式塗覆至基材的表面上。使用的塗佈方式,可採用之塗佈方式刮棒塗佈(bar coating)、縫模擠壓式塗佈(slot die coating)、凹版印刷塗佈(gravure coating)、斜板式塗佈(slide coating)、簾流式塗佈(curtain coating)或噴霧式塗佈(spray coating),所述塗佈方式可以單獨使用或者兩種以上組合使用。所述的基材並無特殊限制,例如:瓷磚、木材、皮革、石材、玻璃、金屬、合金、紙張、塑膠、纖維、棉織品等;較佳為塑膠、皮革、瓷磚、纖維、棉織品等能增加耐化學溶劑、油汙的基材。
除非另行定義,本說明書中所使用的所有專業 與科學用語與本領域之技術人員所熟悉的意義相同。此外,任何與所記載內容相似或均等的方法及材料皆可應用 於本發明方法中。本說明書中所述的較佳實施方法與材料僅作為示範性說明之用。除非有另外說明,否則百分比和份數分別為重量百分比和重量份數。
以下實施例用於對本發明作進一步說明,並非用於侷限本發明之範圍。本領域的技術人員應該理解的是,在不偏離本發明的技術構思及申請專利範圍所記載之內容的情況下,可以對本發明進行各種修改或變更。
實施例1-5
組合物的配製
依據下表1所列組分及重量份數,將各組分混合在一起,調勻後得到實施例1至9的耐汙塗料組合物。
於上表1中,各個組分之符號所代表的化合物名稱係如下所述: A1:環氧丙烯酸酯低聚物,型號:621-100,公司:長興化工;A2:脂肪族聚氨酯丙烯酸酯低聚物,型號:6112-100,公司:長興化工;A3:芳香族聚氨酯丙烯酸酯低聚物,型號:6121F-80,公司:長興化工;A4:聚酯丙烯酸酯低聚物,型號:6360,公司:長興化工;A5:聚丙烯酸酯低聚物,型號:6530B-40,公司:長興化工;B1:三丙烯酸三羥甲基丙烷酯(TMPTA),型號:EM231,公司:長興化工;B2:二丙烯酸1,6-己二醇酯(HDDA),型號:EM221,公司:長興化工;B3:2-苯氧基乙基丙烯酸酯(PHEA),型號:EM210,公司:長興化工;B41:三丙烯酸三羥甲基丙烷酯(TMPTA),型號:EM231,公司:長興化工;B42:季戊四醇四丙烯酸酯(PET4A),型號:EM241,公司:長興化工;B51:三丙烯酸三羥甲基丙烷酯(TMPTA),型號:EM231,公司:長興化工;B52:六丙烯酸二季戊四醇酯(DPHA),型號:EM265,公司:長興化工;C1:2-羥基-2-甲基-1-苯基-1-丙酮,型號:CHIVACURE 173,公司:雙鍵化工(DBC)有限公司;C2:2-苄基-2-N,N-二甲基氨基-1-(4-嗎啉基苯基-1-丁 酮),型號:IRGACURE 369,公司:CIBA公司;C3:二苯甲酮,型號:PI BP,公司:長興公司;C4:安息香雙甲醚,型號:PI BDK,公司:長興公司;C5:安息香雙甲醚,型號:PI BDK,公司:長興公司;D1:季戊四醇四丙烯酸酯(PET4A)改質的聚矽氧烷 D2:季戊四醇四丙烯酸酯(PET4A)改質的聚矽氧烷 D3:三丙烯酸三羥甲基丙烷酯(TMPTA)改質的聚矽氧烷 D4:季戊四醇三丙烯酸酯(PET3A)改質的聚矽氧烷 D5:二(季戊四醇)六丙烯酸酯改質的聚矽氧烷 ; D6:1,6-己二醇二丙烯酸酯改質的聚二甲基矽氧烷 D7:乙氧化三羥甲基丙烷三丙烯酸酯改質聚二甲基矽氧烷
其中,h+i+j=9;D8:雙三羥甲基丙烷四丙烯酸酯改質聚二甲基矽氧烷 D9:丙氧化季戊四醇四丙烯酸酯改質聚二甲基矽氧烷
其中,w+x+y+z=5。
實施例6
耐汙性能測試
將上述實施例1至9的耐汙塗料組合物刮塗在聚氯乙烯(PVC)基材上,以紫外光照射固化成膜後,以油性筆測試其耐塗鴉性。其測試方法如下:用油性筆寫2cm*2cm的“正”字,於室溫下等待15分鐘後用無塵布擦拭,依此迴圈統計耐油性筆擦拭次數,測試結果係如下表2所示。
實驗結果顯示,實施例1至9的耐汙塗料組合物經固化成膜後的耐汙性與其耐汙塗料組合物中添加的經丙烯酸改質之聚二甲基矽氧烷的種類及比例相關,但所有實施例之耐汙塗料組合物皆具有耐油性筆擦拭的性能。

Claims (5)

  1. 一種經丙烯酸酯基團改質的聚矽氧烷之用途,其係用作為耐汙塗料組合物的耐汙添加劑,其中該經丙烯酸酯基團改質的聚矽氧烷之結構係如下列式(I)所示: 於式(I)中,R1、R4、R5、R6及R7分別為具有1至4個碳原子的烷基或苯基;R2為具有1至4個碳原子的烷基或苯基;a為1至300的整數;以及R3,其中n為介於3至10的一整數,R係選自於下列所組成之群組: 其中,h+i+j為介於3至21的一整數,k+l+m為介於3至21,o為介於1至20的一整數,p為介於1至20的一整數,q+b+c為介於3至21的一整數,d+e+f+g為介於4至20的一整數,w+x+y+z為介於4至20的一整數。
  2. 如請求項1所述之經丙烯酸酯基團改質的聚矽氧烷之用途,其中a為介於10至280的一整數;n為介於3至8的一整數。
  3. 一種耐汙塗料組合物,其包含:一含有至少1個不飽和雙鍵的低聚物,該含有至少1個不飽和雙鍵的低聚物係選自於下列所組成之群組:環氧丙烯酸酯低聚物、聚氨酯丙烯酸酯低聚物、聚酯丙烯酸酯低聚物、聚丙烯酸酯低聚物、氨基丙烯酸酯低聚物、矽基丙烯酸酯低聚物及其混合物;一稀釋單體,該稀釋單體為具有至少1個官能基團的丙烯酸酯單體;一光起始劑;一耐汙添加劑,其係為一經丙烯酸酯基團改質的聚矽 氧烷,該經丙烯酸酯基團改質的聚矽氧烷之結構係如下列式(I)所示: 於式(I)中,R1、R4、R5、R6及R7分別為具有1至4個碳原子的烷基或苯基;R2為具有1至4個碳原子的烷基或苯基;a為1至300的整數;以及R3,其中n為介於3至10的一整數,R係選自於下列所組成之群組: 其中,h+i+j為介於3至21的一整數,k+l+m為介於3至21,o為介於1至20的一整數,p為介於1至20的一整數,q+b+c為介於3至21的一整數,d+e+f+g為介於4至20的一整數,w+x+y+z為介於4至20的一整數。
  4. 如請求項3所述之耐汙塗料組合物,其中以耐汙塗料組合物之總重量計,該含有至少1個不飽和雙鍵的低聚物的含量為20至90重量百分比;該稀釋單體的含量為1至70重量百分比;該光起始劑的含量為0.5至20重量百分比;該耐汙添加劑的含量為0.1至25重量百分比。
  5. 如請求項3所述之耐汙塗料組合物,其中該光起始劑為二苯甲酮-胺共軛體系光起始劑、苯偶姻醚類光起始劑、苯偶醯類光起始劑、苯偶醯縮酮類光起始劑、苯乙酮衍生物類光起始劑或其混合物。
TW102138043A 2012-11-06 2013-10-22 Acetate-modified polysiloxane and its stain-resistant coating compositions TWI550037B (zh)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201210440115.3A CN102924993B (zh) 2012-11-06 2012-11-06 丙烯酸酯基团改性的聚硅氧烷用途及其组合物

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW201418384A TW201418384A (zh) 2014-05-16
TWI550037B true TWI550037B (zh) 2016-09-21

Family

ID=47639931

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW102138043A TWI550037B (zh) 2012-11-06 2013-10-22 Acetate-modified polysiloxane and its stain-resistant coating compositions

Country Status (3)

Country Link
JP (1) JP5941451B2 (zh)
CN (1) CN102924993B (zh)
TW (1) TWI550037B (zh)

Families Citing this family (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2016142681A1 (en) 2015-03-06 2016-09-15 Micromass Uk Limited Spectrometric analysis of microbes
WO2016142669A1 (en) 2015-03-06 2016-09-15 Micromass Uk Limited Physically guided rapid evaporative ionisation mass spectrometry ("reims")
CN107533032A (zh) 2015-03-06 2018-01-02 英国质谱公司 用于从块状组织直接映射的原位电离质谱测定成像平台
EP3265819B1 (en) 2015-03-06 2020-10-14 Micromass UK Limited Chemically guided ambient ionisation mass spectrometry
JP6783240B2 (ja) 2015-03-06 2020-11-11 マイクロマス ユーケー リミテッド 生体内内視鏡的組織同定機器
CA2981085A1 (en) 2015-03-06 2016-09-15 Micromass Uk Limited Spectrometric analysis
CN110706996B (zh) 2015-03-06 2023-08-11 英国质谱公司 用于改进电离的碰撞表面
WO2016142690A1 (en) 2015-03-06 2016-09-15 Micromass Uk Limited Inlet instrumentation for ion analyser coupled to rapid evaporative ionisation mass spectrometry ("reims") device
KR101956496B1 (ko) 2015-03-06 2019-03-08 마이크로매스 유케이 리미티드 전기수술 응용분야에 대한 액체 트랩 또는 세퍼레이터
EP3570315B1 (en) 2015-03-06 2024-01-31 Micromass UK Limited Rapid evaporative ionisation mass spectrometry ("reims") and desorption electrospray ionisation mass spectrometry ("desi-ms") analysis of biopsy samples
EP3265822B1 (en) 2015-03-06 2021-04-28 Micromass UK Limited Tissue analysis by mass spectrometry or ion mobility spectrometry
CN112964625B (zh) 2015-03-06 2024-06-07 英国质谱公司 细胞群体分析
CN107530064B (zh) 2015-03-06 2021-07-30 英国质谱公司 气态样品的改进电离
EP3671216A1 (en) 2015-03-06 2020-06-24 Micromass UK Limited Imaging guided ambient ionisation mass spectrometry
GB201517195D0 (en) 2015-09-29 2015-11-11 Micromass Ltd Capacitively coupled reims technique and optically transparent counter electrode
US10793657B2 (en) 2015-10-28 2020-10-06 Lg Hausys, Ltd. Antifouling acrylic resin for additive
US11454611B2 (en) 2016-04-14 2022-09-27 Micromass Uk Limited Spectrometric analysis of plants
CN115093730A (zh) * 2017-03-29 2022-09-23 信越化学工业株式会社 (甲基)丙烯酸类改性硅酮大分子单体
EP3941970A1 (en) * 2019-03-18 2022-01-26 Basf Se Uv curable compositions for dirt pick-up resistance
CN112680096A (zh) * 2019-05-28 2021-04-20 朱建余 一种合成革用表面处理剂的制备方法
CN110423071A (zh) * 2019-09-06 2019-11-08 张家界万众新型建筑材料有限公司 一种改性聚硅氧烷类防水干混砂浆
KR102084663B1 (ko) * 2019-09-24 2020-03-05 우일무역(주) 군용 의류대 및 그 제조방법
KR20230043960A (ko) * 2020-09-02 2023-03-31 비와이케이-케미 게엠베하 사다리형 공중합체
CN113845835B (zh) * 2021-09-16 2022-08-09 湖南松井新材料股份有限公司 一种涂料及其制备方法与应用

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08245737A (ja) * 1995-03-10 1996-09-24 Asahi Chem Ind Co Ltd 親水性含フッ素シロキサン単量体およびその組成物からなる眼科用レンズ材料
JP2008208243A (ja) * 2007-02-27 2008-09-11 Chisso Corp フッ素系重合体及び樹脂組成物
US20090270529A1 (en) * 2008-04-25 2009-10-29 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. (meth)acrylic-modified siloxane compounds
CN101747860A (zh) * 2009-12-15 2010-06-23 陈俊光 大功率led的紫外线固化单组分有机硅封装胶

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE4240108A1 (de) * 1992-11-28 1994-06-01 Herberts Gmbh Polysiloxanhaltige Bindemittel, deren Herstellung, diese enthaltende Überzugsmittel und deren Verwendung
JPH0770399A (ja) * 1993-09-06 1995-03-14 Daicel Chem Ind Ltd 硬化性樹脂組成物
CN1919946A (zh) * 2005-08-26 2007-02-28 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 紫外光硬化型纳米涂料、其制备方法及使用方法
CN101092481A (zh) * 2006-06-23 2007-12-26 戈尔德施米特股份公司 在铑催化剂存在时以丙烯酸酯基团改性的有机聚硅氧烷
JP2008056789A (ja) * 2006-08-31 2008-03-13 Nippon Paint Co Ltd 防汚性ハードコート用組成物
CN100560592C (zh) * 2006-12-13 2009-11-18 中国科学院广州化学研究所 一种含硅(甲基)丙烯酸酯单体及其共聚物和它们的制备方法
CN101245005B (zh) * 2007-10-10 2011-12-28 长兴化学工业股份有限公司 经改性丙烯酸寡聚物及含所述寡聚物的抗污涂料

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08245737A (ja) * 1995-03-10 1996-09-24 Asahi Chem Ind Co Ltd 親水性含フッ素シロキサン単量体およびその組成物からなる眼科用レンズ材料
JP2008208243A (ja) * 2007-02-27 2008-09-11 Chisso Corp フッ素系重合体及び樹脂組成物
US20090270529A1 (en) * 2008-04-25 2009-10-29 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. (meth)acrylic-modified siloxane compounds
CN101747860A (zh) * 2009-12-15 2010-06-23 陈俊光 大功率led的紫外线固化单组分有机硅封装胶

Also Published As

Publication number Publication date
TW201418384A (zh) 2014-05-16
CN102924993A (zh) 2013-02-13
JP2014091831A (ja) 2014-05-19
CN102924993B (zh) 2016-05-25
JP5941451B2 (ja) 2016-06-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI550037B (zh) Acetate-modified polysiloxane and its stain-resistant coating compositions
Baştürk et al. Flame retardant UV-curable acrylated epoxidized soybean oil based organic–inorganic hybrid coating
JP7018871B2 (ja) 一液型の硬化性ソフトフィールコーティング
JP5698393B2 (ja) 活性エネルギー線硬化型組成物
CA2970970C (en) Radiation-curable coating compounds consisting of a plurality of components, and the use of same in release-coated substrates
WO2011129015A1 (ja) 防汚性付与剤
TWI644927B (zh) (甲基)丙烯酸系組成物、包含該組成物的塗料及硬化體
JP6416680B2 (ja) 親水性活性エネルギー線硬化型コーティング樹脂組成物
JP5674403B2 (ja) 耐指紋性向上剤、これを用いた活性エネルギー線硬化型ハードコート剤、これらを用いて得られる硬化膜および硬化膜を有する物品
JP5744011B2 (ja) 防汚性付与剤
JP2022530075A (ja) 複合材料を形成するのに有用な光硬化性組成物
JP2009179689A (ja) 活性エネルギー線硬化型樹脂、活性エネルギー線硬化型樹脂組成物およびこれらを用いて得られるハードコート層を有する物品
JP6449089B2 (ja) 親水性コーティング樹脂組成物
KR102419836B1 (ko) 자외선 경화성 도료 조성물
JP2023529072A (ja) ジプロピレングリコールジアクリレートを含むuv硬化性調合物
KR100290538B1 (ko) 자외선경화형대전방지하드코팅제조성물
JP6179150B2 (ja) 活性エネルギー線硬化性組成物及び硬化物
JP6894835B2 (ja) 活性エネルギー線硬化性組成物及び硬化物
JP7465398B1 (ja) 無溶剤型ハードコート樹脂組成物及びこれを用いた光学積層体
JP2015040227A (ja) 紫外線硬化組成物および該組成物を用いた硬化塗膜を有する物品
JP2024013692A (ja) 無溶剤型ハードコート樹脂組成物及びこれを用いた光学積層体
JP4078138B2 (ja) 防汚性、易洗浄性を有する光硬化性樹脂コーティング組成物、および硬化塗装膜
KR20240153140A (ko) 자외선 경화성 도료 조성물
JP6370748B2 (ja) 活性エネルギー線硬化型コーティング樹脂組成物
JP2024037200A (ja) 無溶剤型ハードコート樹脂組成物及びこれを用いた光学積層体