TWI545163B - 積層體及其製造方法 - Google Patents
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Description
本發明是有關於一種具備抗反射功能的積層體,特別是有關於一種具備防止反射、攝入的層的積層體、及其製造方法。
於液晶顯示器、有機電致發光顯示器、電漿面板顯示器等平板顯示器(以下,FPD(Flat Panel Display))等畫像顯示裝置或安裝於該些裝置中的觸控螢幕等資訊輸入裝置的表面,進行抗反射處理作為防止螢光燈等的攝入的功能。近年來,伴隨可攜式終端、可攜式遊戲機的大畫面化,對該些機器類亦要求抗反射功能,如此,對於用於行動電話的視窗的圖示板而言,不僅需要先前的硬塗功能,而且需要防止攝入並提昇畫面的視認性。於先前技術中,太陽光或螢光燈的光的反射.朝向畫面的攝入是藉由在形成圖示板的膜表面設置控制了折射率的層來防止。
為了防止此種反射、攝入,作為設置有控制了折射率的層的積層體,有如下的抗反射用積層體,其包括:使含有(1)由選自由矽、鋁、鈦、鋯、錫、銻及鋅所組成的組群中的一種以上的金屬元素的氧化物所包覆的氧化鈦粒子100重量份,(2)硬化性化合物1重量份~300重量份,及(3)硬化觸媒0.1重量份~30重量份的硬化性組成物硬化而成的折射率為1.60以上的硬化膜;折射率低於上述硬化膜的硬化膜;以及基材層(例如,參照專利文獻1(段
落0033~段落0035,第1圖))。於專利文獻1所揭示的發明中,藉由使包含硬化膜的高折射率層與特定的低折射率層組合而成的抗反射用積層體,可獲得更優異的抗反射性(段落0019)。
先前技術文獻
專利文獻
專利文獻1:日本專利特開2004-169018號公報
如上所述,於先前技術中,藉由使高折射率層與低折射率層的2層組合,而獲得抗反射性優異的積層體。如此,先前的抗反射用積層體必需於基材上積層(1)高折射率材料、(2)低折射率材料、進而(3)防污材料。進而,各材料的膜厚必需嚴格地控制,不僅需要高度的塗佈技術,而且步驟數多會導致高成本。尤其,當製造具備多個高折射率層與低折射率層的組合的抗反射用積層體時,需要更多的勞力與時間。
因此,本發明的課題在於提供一種積層體及積層體的製造方法,上述積層體是設置有控制了折射率的層的積層體,且其具備具有防污功能及以比先前更少的層數具有高折射率.低折射率的層,上述積層體的製造方法可比先前更容易地形成具有防污功能及高折射率、低折射率的層。
本發明者等人為了解決上述課題而進行了努力研究。其結果,發現藉由利用氟倍半矽氧烷容易且迅速地朝層表面聚集這一特性,可形成具有防污功能及低折射率.高折射
率的層,以及藉由1次的塗佈處理,可形成該層(即具有防污功能及低折射率.高折射率的層),從而完成本發明。
本發明的第1形態的積層體例如如圖1所示,包括透明的基材10、及於基材10上側使射入的光折射的折射層11,折射層11至少包含選自由氟倍半矽氧烷及氟倍半矽氧烷聚合物所組成的組群中的一種以上的氟化合物(ss)、及具有比氟化合物(ss)更高的折射率的樹脂(pl),折射層11內的氟化合物(ss)的濃度對於基材10側(背面s2側)及其相反側(表面s1側)而言,相反側(表面s1側)更高,且折射層11於層內形成低折射率與高折射率的傾斜構造層。
所謂「上側」,不僅包括直接接觸並位於上方的情況,亦包括經由其他層而位於上方的情況。所謂「傾斜構造層」,是指藉由選自由氟倍半矽氟烷及氟倍半矽氧烷聚合物所組成的組群中的一種以上的氟化合物(ss)於折射層內的濃度變化,而具有層內所產生的折射率的變化的層。
若如上述般構成,則折射層中所含有的樹脂的折射率低於氟倍半矽氧烷或氟倍半矽氧烷聚合物。另外,於折射層內,氟倍半矽氧烷或氟倍半矽氧烷聚合物偏向存在於折射層的表面側。因此,折射層表面側可具有低折射率,背面側可具有高折射率。其原因在於:氟倍半矽氧烷或氟倍半矽氧烷聚合物具有容易聚集於空氣與固體的界面的邊界的性質。進而,氟倍半矽氧烷或氟倍半矽氧烷聚合物具有優異的防污功能。如此,本發明的積層體可僅藉由折射層
而具有低折射率功能、高折射率功能、及防污功能。進而,若將硬塗性樹脂用於折射層中所含有的樹脂,則折射層進而可作為硬塗層發揮功能。另外,藉由使用氟倍半矽氧烷、氟倍半矽氧烷聚合物、或該些的混合物,可增加低折射率值的選擇項。
本發明的第2形態的積層體是於上述本發明的第1形態的積層體中,折射層11藉由在疏水性環境下,將含有氟化合物(ss)與樹脂(pl)的塗佈液塗佈於基材10上側,並使所獲得的塗膜硬化而形成,且上述氟化合物的疏水性高於樹脂(pl)。
再者,所謂「疏水性環境下」,是指例如空氣中、惰性氣體(氮氣、氦氣、氬氣等)中、或真空。
若如上述般構成,則藉由1次的塗佈處理而形成具有低折射率功能、高折射率功能、及防污功能的折射層。進而,若將硬塗樹脂用於折射層中所含有的樹脂,則藉由1次的塗佈處理而可形成除具有低折射率功能、高折射率功能、防污功能以外,亦具有強度的折射層。
本發明的第3形態的積層體是於上述本發明的第1形態或第2形態的積層體中,上述氟化合物具有籠型結構。
若如上述般構成,則當疏水性環境下為空氣中時,氟化合物可提高聚集於空氣與固體的界面的邊界的速度。
本發明的第4形態的積層體是於上述本發明的第1形態~第3形態的任一形態的積層體中,作為上述氟化合物的上述氟倍半矽氧烷聚合物為具有1個加成聚合性官能基
的氟倍半矽氧烷的加成聚合物、或者具有1個加成聚合性官能基的氟倍半矽氧烷與加成聚合性單體的加成共聚物。
若如上述般構成,則可使用適合作為氟倍半矽氧烷聚合物的加成聚合物。
本發明的第5形態的積層體例如如圖3所示,於上述本發明的第1形態~第4形態的任一形態的積層體中,在基材10與折射層11之間具備硬塗層12。進而,本發明的第5形態的積層體例如如圖4所示,於基材10的下方具備具有30mN/m~50mN/m的範圍的表面自由能的印刷層13。若如上述般構成,則因印刷層具有適當的表面自由能,故可提昇藉由網版印刷等而印刷於印刷層上時的印刷性。
本發明的第6形態的畫像顯示裝置例如如圖5所示,具備上述本發明的第1形態~第5形態的任一形態的積層體1(1'、2、3),且於將基材10的具有折射層11之側作為上側的積層體1(1'、2、3)的下側具備畫像面板15。
若如上述般構成,則畫像顯示裝置具有防止反射、攝入、且兼具印刷性的積層體。藉此,可提昇畫面的視認性。進而,由於積層體提昇印刷層的密接性,因此可獲得具備易於將畫面的框等印刷在積層體上的積層體的畫像顯示裝置。
本發明的第7形態的積層體的製造方法包括如下步驟:準備至少含有選自由氟倍半矽氧烷及氟倍半矽氧烷聚合物所組成的組群中的一種以上的氟化合物(ss)、及樹脂(pl)的塗佈液;於疏水性環境下將上述塗佈液塗佈於透
明的基材10上側;以及於疏水性環境下使所獲得的塗膜硬化;且樹脂(pl)具有比上述氟化合物更高的折射率,上述氟化合物具有比樹脂(pl)更高的疏水性。
若如上述般構成,則可藉由一次的塗佈處理,而製造具有低折射率功能、高折射率功能、及防污功能的積層體。進而,若將硬塗性樹脂用於折射層中所含有的樹脂,則折射層進而可作為硬塗層發揮功能,且可藉由一次的塗佈處理,而製造具有低折射率功能、高折射率功能、防污功能、進而硬塗功能的積層體。
本發明的積層體藉由包含選自由氟倍半矽氧烷及氟倍半矽氧烷聚合物所組成的組群中的一種以上的氟化合物、及具有比上述氟化合物更高的折射率的樹脂的層,而可具備具有防污功能、且以比先前更少的層數具有高折射率.低折射率的層。另外,可比先前更容易地形成具有防污功能及高折射率.低折射率的層。
本申請案是基於2010年10月18日於日本所申請的日本專利特願2010-234092號,其內容形成本申請案的內容的一部分。本發明可藉由以下的詳細說明而更完全地理解。本發明的進一步的應用範圍可藉由以下的詳細說明而明確。但是,詳細說明及特定的實例是本發明的較理想的實施形態,且僅為了說明的目的而記載。其原因在於:對於本領域從業人員而言,於本發明的精神與範圍內,根據
該詳細說明而進行各種變更、改變是較明確的。申請人並無將所記載的任一種實施形態均呈獻給公眾的意圖,改變、代替案中的於文言上有可能不包含於專利申請的範圍內者亦作為均等論下的發明的一部分。
以下,參照圖式對本發明的實施形態進行說明。再者,對各圖中彼此相同或相當的部分標註相同或類似的符號,並省略重複的說明。另外,本發明並不受以下的實施形態限制。
[積層體1]
參照圖1,對作為本發明的第1實施形態的積層體的積層膜1進行說明。再者,圖1是說明構成為多層的積層膜1的層構成的圖,且各層的厚度被加以誇大。積層膜1包括透明的膜狀的基材10、及使射入的光折射的折射層11。如圖1所示,於透明的基材10的一個面(圖1中為基材10的上方)上積層折射層11。
[基材10]
基材10可使用具有透明性的膜狀的各種塑膠或玻璃。作為具有透明性的塑膠膜的材料,例如可列舉:聚酯系樹脂、乙酸酯系樹脂、聚醚碸系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚醯亞胺系樹脂、聚烯烴系樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂、聚氯乙烯系樹脂、聚偏二氯乙烯系樹脂、聚苯乙烯系樹脂、聚乙烯醇系樹脂、聚芳酯系樹脂、聚苯硫醚系樹脂、降冰片烯系樹脂等樹脂。具體而言,較佳為聚對苯二甲酸乙二酯(Polyethylene terephthalate,PET)、
聚萘二甲酸乙二酯、三乙酸纖維素、聚醚碸、聚碳酸酯、聚芳酯、聚醚醚酮等。再者,聚對苯二甲酸乙二酯及聚萘二甲酸乙二酯因機械強度、尺寸穩定性、耐熱性、耐化學品性、光學特性等、以及膜表面的平滑性或操作性優異,故更佳。聚碳酸酯因透明性、耐衝擊性、耐熱性、尺寸穩定性、燃燒性優異,故更佳。若亦考慮價格、獲得的容易性,特佳為聚對苯二甲酸乙二酯。作為具有透明性的玻璃膜的材料,只要是液晶顯示器(Liquid Crystal Display,LCD)或觸控面板等中所使用的尺寸穩定性、光學特性優異的玻璃,則並無限制。例如可列舉:鈉鈣玻璃、無鹼玻璃、鹼鋇玻璃、硼矽玻璃、鹼硼矽玻璃、鋁硼矽玻璃、鋇硼矽玻璃、鋁矽玻璃、硼酸鹽玻璃、二氧化矽玻璃、鉛玻璃等。
基材10的膜厚並無特別限制,當將本案發明用作積層膜時,基材10的膜厚較佳為50μm~300μm,更佳為80μm~200μm。若基材10的膜厚為50μm以上,則基材的機械強度充分,可於基材上形成層。另外,若膜厚為300μm以下,則積層膜1的厚度不會變得過厚,使用本積層膜的製品(例如後述的畫像顯示裝置)小型化。
[折射層11]
折射層11如圖1所示,其形成為至少含有選自由氟倍半矽氧烷及氟倍半矽氧烷聚合物所組成的組群中的一種以上的氟化合物(ss)、及作為樹脂的硬化性樹脂(pl)的層。即,折射層11是藉由將含有氟化合物(ss)與硬化性樹脂
(pl)的塗佈液塗佈於透明的膜狀的基材10上,並使所獲得的塗膜硬化而形成。再者,如上所述,於本說明書中,所謂「氟化合物」,是指選自由氟倍半矽氧烷及氟倍半矽氧烷聚合物所組成的組群中的一種以上的化合物。
折射層11可相對於硬化性樹脂(pl),含有氟化合物(ss)0.01wt%(重量百分比)~20wt%。較佳為0.1wt%~10wt%,更佳為1wt%~5wt%。若為0.01wt%以上,則可使折射層11充分地具有低折射率,若為20wt%以下,則折射層11的膜的均質性不會受損。再者,氟倍半矽氧烷及氟倍半矽氧烷聚合物的種類或結構將後述。另外,為了獲得本發明的效果,可相對於硬化性樹脂(pl),含有氟(F)0.001wt%~4wt%。較佳為0.01wt%~2wt%,更佳為0.1wt%~1wt%。
折射層11的積層較佳為使用均勻地塗佈溶液狀的氟化合物與硬化性樹脂的濕式塗佈法。作為濕式塗佈法,可使用凹版塗佈法或模塗法等。再者,於本案中,塗佈液可僅含有氟化合物與硬化性樹脂而不含溶劑,另外,亦可為與溶劑的混合物。
凹版塗佈法是如下的方式:使表面實施了凸凹的雕刻加工的凹版輥浸漬於塗佈液中,利用刮刀刮落附著於凹版輥表面的凸凹部的塗佈液並使液體蓄積於凹部,藉此準確地計量,然後轉移至基材上。藉由凹版塗佈法,可將低黏度的液體塗佈得較薄。
模塗法是一面自被稱為模的塗佈用噴頭加壓並擠出液
體一面進行塗佈的方式。藉由模塗法,可進行高精度的塗佈。進而,由於塗佈時液體不暴露於外部氣體中,因此不易產生由乾燥所引起的塗佈液的濃度變化等。
作為其他濕式塗佈法,可列舉:旋塗法、棒塗法、反向塗佈法、輥塗法、狹縫塗佈法、浸漬法、噴塗法、接觸塗佈法、反向接觸塗佈法、氣動刮刀塗佈法、簾塗法、桿塗法等。積層方法可對應於所需的膜厚而自該些方法中適宜選擇。進而,藉由使用濕式塗佈法,能夠以每分鐘幾十米的線速度(例如約20m/分鐘)進行積層,因此可大量地製造,而可提高生產效率。
此處所謂硬化性樹脂,是指藉由紫外線照射、電子束照射、加熱等而硬化的樹脂。作為硬化性樹脂,可列舉:聚矽氧樹脂、丙烯酸樹脂、甲基丙烯酸樹脂、環氧樹脂、三聚氰胺樹脂、不飽和聚酯樹脂、胺基甲酸酯樹脂、聚醯亞胺、聚醚醯亞胺、聚醯胺醯亞胺、酚樹脂、醇酸樹脂、脲樹脂、雙順丁烯二醯亞胺樹脂、聚酯胺基甲酸酯樹脂、聚醚胺基甲酸酯樹脂等。該些硬化性樹脂之中,就生產性上的觀點而言,較佳為藉由活性能量線而於短時間內成膜硬化的活性能量線硬化性樹脂。此處所謂活性能量線,是指可使產生活性種的化合物分解而產生活性種的能量線。作為此種活性能量線,可列舉可見光、紫外線、紅外線、X射線、α射線、β射線、γ射線、電子束等光能量線。更佳為紫外線硬化性樹脂。紫外線硬化性樹脂通常添加光聚合起始劑來使用。作為光聚合起始劑,例如可列舉各種安
息香衍生物、二苯基酮衍生物、苯基酮衍生物等。光聚合起始劑的添加量相對於紫外線硬化性樹脂100重量份,較佳為設為1重量份~10重量份。
進而,用於折射層11的硬化性樹脂使用具有比與硬化性樹脂一同包含於折射層11中的氟化合物更高、且可成為高折射率層的折射率的硬化性樹脂。硬化性樹脂的折射率為1.50~2.20,較佳為1.60~1.68。當折射率為1.50以上時,存在與氟化合物的折射率差,可充分地防止反射、攝入。另一方面,當折射率為2.20以下時,例如於將聚對苯二甲酸乙二酯(PET)用於基材10的情況下,與基材10的折射率差不會變大,積層膜1的視認性不會因干涉等而下降。再者,亦可使用硬塗樹脂作為硬化性樹脂。藉由使用硬塗樹脂,可不於積層膜中另外具備硬塗層,而提高膜的強度。
作為紫外線硬化性樹脂的具體例,可列舉:(甲基)丙烯酸酯單體、不飽和聚酯樹脂、聚酯(甲基)丙烯酸酯樹脂、環氧(甲基)丙烯酸酯樹脂、胺基甲酸(甲基)丙烯酸酯樹脂等具有可進行自由基聚合的不飽和鍵的樹脂。
作為上述(甲基)丙烯酸酯單體,可列舉使多元醇與α,β-不飽和羧酸反應而獲得的化合物。例如可列舉:聚烷二醇二(甲基)丙烯酸酯、乙二醇(甲基)丙烯酸酯、丙二醇(甲基)丙烯酸酯、聚乙烯聚三羥甲基丙烷二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷乙氧基三(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷二乙氧基三(甲基)丙烯酸酯、
三羥甲基丙烷三乙氧基三(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷四乙氧基三(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷五乙氧基三(甲基)丙烯酸酯、四羥甲基甲烷四(甲基)丙烯酸酯、四羥甲基丙烷四(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯等。另外,亦可列舉於具有倍半矽氧烷骨架的化合物中,官能基上具有(甲基)丙烯酸酯的化合物。
作為上述不飽和聚酯樹脂,可列舉使利用多元醇與不飽和多元酸(及視需要的飽和多元酸)的酯化反應的縮合產物(不飽和聚酯)溶解於聚合性單體中而成者。
作為上述不飽和聚酯,可使順丁烯二酸酐等不飽和酸與乙二醇等二醇進行聚縮合來製造。具體而言,可列舉使作為酸成分的反丁烯二酸、順丁烯二酸、衣康酸等具有聚合性不飽和鍵的多元酸或其酐,與作為醇成分的乙二醇、丙二醇、二乙二醇、二丙二醇、1,2-丁二醇、1,3-丁二醇、1,5-戊二醇、1,6-己二醇、2-甲基-1,3-丙二醇、2,2-二甲基-1,3-丙二醇、環己烷-1,4-二甲醇、雙酚A的環氧乙烷加成物、雙酚A的環氧丙烷加成物等多元醇進行反應,另外,視需要將鄰苯二甲酸、間苯二甲酸、對苯二甲酸、四氫鄰苯二甲酸、己二酸、癸二酸等不具有聚合性不飽和鍵的多元酸或其酐亦作為酸成分添加而製造者。
作為上述聚酯(甲基)丙烯酸酯樹脂,可列舉:(1)使自飽和多元酸及/或不飽和多元酸與多元醇所獲得的末端
羧基的聚酯、與含有α,β-不飽和羧酸酯的環氧化合物進行反應而獲得的(甲基)丙烯酸酯,(2)使自飽和多元酸及/或不飽和多元酸與多元醇所獲得的末端羧基的聚酯、與含羥基的丙烯酸酯進行反應而獲得的(甲基)丙烯酸酯,(3)使自飽和多元酸及/或不飽和多元酸與多元醇所獲得的末端羧基的聚酯、與(甲基)丙烯酸進行反應而獲得的(甲基)丙烯酸酯。
作為用作聚酯(甲基)丙烯酸酯的原料的飽和多元酸,例如可列舉鄰苯二甲酸、間苯二甲酸、對苯二甲酸、四氫鄰苯二甲酸、己二酸、癸二酸等不具有聚合性不飽和鍵的多元酸或其酐,及反丁烯二酸、順丁烯二酸、衣康酸等聚合性不飽和多元酸或其酐。進而,作為多元醇成分,與上述不飽和聚酯相同。
作為上述環氧(甲基)丙烯酸酯樹脂,可列舉使藉由具有縮水甘油基的化合物、與丙烯酸等具有聚合性不飽和鍵的羧基化合物的羧基的開環反應所生成的具有聚合性不飽和鍵的化合物(乙烯基酯)溶解於聚合性單體中而成者。
上述乙烯基酯是藉由公知的方法而製造者,可列舉使環氧樹脂與不飽和一元酸,例如丙烯酸或甲基丙烯酸進行反應而獲得的環氧(甲基)丙烯酸酯。
另外,亦可使各種環氧樹脂在雙酚(例如A型)或己二酸、癸二酸、二聚酸(Haridimer270S:Harima Chemicals(股份))等二元酸下進行反應而賦予可撓性。
作為原料的環氧樹脂可列舉雙酚A二縮水甘油醚及其
高分子量同系物、酚醛清漆型縮水甘油醚類等。
作為上述胺基甲酸(甲基)丙烯酸酯樹脂,例如可列舉可藉由使聚異氰酸酯與多羥基化合物或多元醇類進行反應後,進而與含羥基的(甲基)丙烯酸化合物及視需要的含羥基的烯丙醚化合物進行反應而獲得的含自由基聚合性不飽和基的寡聚物。
作為上述聚異氰酸酯,具體而言,可列舉:2,4-甲苯二異氰酸酯及其異構物、二苯基甲烷二異氰酸酯、六亞甲基二異氰酸酯、氫化苯二甲基二異氰酸酯、異佛爾酮二異氰酸酯、苯二甲基二異氰酸酯、二環己基甲烷二異氰酸酯、萘二異氰酸酯、三苯基甲烷三異氰酸酯、Burnock D-750、Crisvon NK(商品名;DIC(股份)製造)、Desmodur L(商品名;Sumitomo Bayer Urethane(股份)製造)、Coronate L(商品名;Nippon Polyurethane Industry(股份)製造)、Takenate D102(商品名;三井化學(股份)製造)、Isonate143L(商品名;三菱化學(股份)製造)等。
作為上述多羥基化合物,可列舉聚酯多元醇、聚醚多元醇等,具體而言,可列舉:甘油-環氧乙烷加成物、甘油-環氧丙烷加成物、甘油-四氫呋喃加成物、甘油-環氧乙烷-環氧丙烷加成物、三羥甲基丙烷-環氧乙烷加成物、三羥甲基丙烷-環氧丙烷加成物、三羥甲基丙烷-四氫呋喃加成物、三羥甲基丙烷-環氧乙烷-環氧丙烷加成物、二季戊四醇-環氧乙烷加成物、二季戊四醇季戊四醇-環氧丙烷加成物、二季戊四醇-四氫呋喃加成物、二季戊四醇-環氧乙烷-
環氧丙烷加成物等。
作為上述多元醇類,具體而言,可列舉:乙二醇、二乙二醇、三乙二醇、聚乙二醇、丙二醇、二丙二醇、聚丙二醇、2-甲基-1,3-丙二醇、1,3-丁二醇、雙酚A與環氧丙烷或環氧乙烷的加成物、1,2,3,4-四羥基丁烷、甘油、三羥甲基丙烷、1,3-丁二醇、1,2-環己二醇、1,3-環己二醇、1,4-環己二醇、對苯二甲醇、雙環己基-4,4-二醇、2,6-十氫萘二醇、2,7-十氫萘二醇等。
作為上述含羥基的(甲基)丙烯酸化合物,並無特別限定,但較佳為含羥基的(甲基)丙烯酸酯,具體而言,例如可列舉:(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸3-羥基丁酯、聚乙二醇單(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇單(甲基)丙烯酸酯、三(羥乙基)異三聚氰酸二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯等。
為了根據需要而調整折射率,使包含鈦、鋯、鋅、銻、銦、錫、鈰、鉭、釔、鉿、鋁、鎂等金屬的氧化物或複合氧化物等公知的無機微粒子分散於上述紫外線硬化性樹脂中,或使用由下述式(I)所表示的茀化合物,或硫代胺基甲酸酯系樹脂、含有溴等鹵素的芳香族系樹脂等就提昇折射率的觀點而言亦較佳。
[化1]
式中,R1及R2分別獨立為碳數為2~4的伸烷基,R3及R4分別獨立為氫或甲基,m及n為整數,m+n=0~24,且分別可相同,亦可不同,而且茀骨架亦可具有碳數為1~28的取代基。
作為活性能量線硬化性樹脂以外的樹脂的具體例,包括:聚乙烯、聚丙烯、聚氯乙烯、聚偏二氯乙烯、聚苯乙烯、丙烯腈-苯乙烯樹脂、丙烯腈-丁二烯-苯乙烯樹脂、聚(甲基)丙烯酸酯樹脂、超高分子量聚乙烯、聚-4-甲基戊烯、對排聚苯乙烯、聚醯胺(尼龍6:杜邦公司商品名、尼龍6,6:杜邦公司商品名、尼龍6,10:杜邦公司商品名、尼龍6,T:杜邦公司商品名、尼龍MXD6:杜邦公司商品名等)、聚酯(聚對苯二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯、聚乙烯2,6-萘二羧酸酯等)、聚縮醛、聚碳酸酯、聚苯醚、氟樹脂(聚四氟乙烯、聚偏二氟乙烯等)、聚苯硫醚、聚碸、聚醚碸、聚醚醚酮、聚芳酯等。該些樹脂可單獨使用,亦可將多種樹脂組合使用。
另一方面,氟倍半矽氧烷等的折射率為1.20~1.50,較佳為1.39~1.48。若折射率為1.50以下,則與上述硬化
性樹脂的折射率差不會變得過小,因此可充分地防止反射、攝入。再者,倍半矽氧烷等的折射率必需以低於硬化性樹脂的折射率的方式進行調整。
為了塗佈於透明的膜狀基材等上,用於折射層11的硬化性樹脂是以塗佈液的狀態而使用。因此,硬化性樹脂較佳為液狀。當硬化性樹脂為固體時,只要藉由溶劑將其溶解後使用即可。
另外,塗佈液中的硬化性樹脂的濃度能夠以塗佈液的黏度成為對應於濕式塗佈法等積層方法的黏度的方式進行選擇。上述濃度較佳為1wt%~80wt%,更佳為3wt%~60wt%。塗佈液中的硬化性樹脂的濃度可藉由使用溶劑來調整。溶劑例如可使用甲基乙基酮、甲基異丁基酮等一般的有機溶劑。再者,當對於溶劑的溶解性因與硬化性樹脂一同包含於折射層11中的氟化合物所具有的氟烷基的長度而下降時,亦可使用氟系的有機溶劑。另外,視需要亦可向塗佈液中添加公知的其他添加劑,例如界面活性劑等均染劑。若添加均染劑(leveling agent),則可控制塗佈液的表面張力,並可抑制塌凹、陷口等層形成時所產生的表面缺陷。
作為用以使硬化性樹脂硬化的硬化處理,可列舉紫外線照射、加熱、電子束照射等硬化處理。再者,當塗膜中含有溶劑時,通常較佳為於70℃~200℃的範圍內對塗膜進行幾十分鐘的加熱,將殘留於塗膜中的溶劑去除後,進行硬化處理。作為利用紫外線照射的硬化,只要於短時間
內(幾秒~幾十秒的範圍內)自紫外線(Ultraviolet,UV)燈(例如高壓水銀燈、超高壓水銀燈、金屬鹵化物燈、高功率金屬鹵化物燈)對塗佈液照射200nm~400nm的波長的紫外線即可。另外,作為利用加熱的硬化,例如,通常只要於180℃~250℃,較佳為200℃~250℃的溫度下進行加熱即可。此時,於使用烘箱的情況下,只要加熱30分鐘~90分鐘即可,於使用加熱板的情況下,只要加熱5分鐘~30分鐘即可。另外,作為利用電子束照射的硬化,只要自300keV以下的自屏蔽型的低能量電子加速器對塗佈液照射低能量電子束即可。
折射層11的膜厚為0.1μm~20μm,較佳為0.5μm~10μm。當膜厚未滿0.1μm時,難以形成硬化性樹脂的交聯結構,因此會引起耐久性或耐化學品性的下降。另一方面,當膜厚超過20μm時,膜厚變得過厚,因此會引起全光線透過率等透明性的下降。
折射層11包含氟化合物,進而包含具有比氟化合物更高的折射率的硬化性樹脂。氟化合物具有於疏水性環境下(例如空氣中),容易聚集於空氣與固體的界面的性質。其原因可認為如下:含有氟基的氟化合物因具有比樹脂更高的疏水性,故被吸引至空氣側。因此,於塗佈處理的過程中,氟化合物聚集於折射層11的表面s1側(參照圖1),折射層11內的氟化合物的濃度偏向於表面s1側。其結果,折射層11形成氟化合物(低折射率)與硬化性樹脂(高折射率)的傾斜構造層。即,折射層11為單層,但可具有低
折射率與高折射率。
另外,氟化合物作為防污材料具有優異的特性,因此可提高折射層11的表面s1的防污性。
如上所述,於本發明中,僅具備基材10與折射層11,便可獲得不具備低折射率層與高折射率層的2層、且抗反射性優異的積層膜1。再者,如圖2所示,亦可將積層膜1製成具備2層以上的折射層11的積層膜1'。藉由具備2層以上的折射層11,可擴大抑制反射的光的波長的範圍。
[積層體2]
參照圖3,對作為本發明的第2實施形態的積層體的積層膜2進行說明。積層膜2於基材10與折射層11之間具備硬塗層12。即,藉由將含有硬化性硬塗樹脂的塗佈液塗佈於基材10上,並使所獲得的塗膜硬化而形成硬塗層12。其後,於硬塗層12上形成折射層11。如圖3所示,硬塗層12即便為折射層11的下層(並非最表面),亦可提高積層膜2的強度。
用於硬塗層的硬化性樹脂的種類、硬化性樹脂的積層方法、硬化處理方法可使用對折射層11所記載的硬化性樹脂的種類、積層方法、硬化方法。再者,用於折射層11與硬塗層12的硬化性樹脂的種類可相同,亦可不同。若使用相同的硬化性樹脂,則可使用相同的材料,因此可提昇生產性。若使用不同的硬化性樹脂,則可增加能夠選擇的硬化性樹脂的種類。
藉由具備硬塗層12,可提高積層膜2的強度。而且,
藉由另外具備硬塗層,可一面維持強度,一面針對用於折射層11的硬化性樹脂選擇硬塗樹脂以外的樹脂,可增加用於折射層11的硬化性樹脂的選擇項。
硬塗層12的膜厚較佳為0.1μm~20μm,更佳為0.5μm~10μm。當膜厚為0.1μm以上時,容易形成硬化性樹脂的交聯結構,因此不易引起耐久性或耐化學品性的下降。另一方面,當膜厚為20μm以下時,膜厚不會變得過厚,而不會引起全光線透過率等透明性的下降。再者,硬塗層12的折射率並無特別限定。但是,為了根據需要而抑制干涉條紋,亦可調整折射率。
[積層體3]
參照圖4,對作為本發明的第3實施形態的積層體的積層膜3進行說明。積層膜3於基材10的下方(圖4中,與折射層11為相反側)具備印刷層13。
[印刷層13]
印刷層13是藉由將含有硬化性樹脂的塗佈液塗佈於基材10的下方,並使所獲得的塗膜硬化而形成。用於印刷層13的硬化性樹脂的積層方法、硬化處理方法可使用對折射層11所記載的積層方法、硬化方法。
印刷層13是由作為硬化性樹脂的具有羥基、羧基、聚乙二醇鏈、聚丙二醇鏈中的至少1個的丙烯酸系化合物形成。例如可列舉:季戊四醇三丙烯酸酯等具有羥基的丙烯酸系化合物,丁二酸2-甲基丙烯醯氧基乙酯等具有羧基的丙烯酸系化合物,乙氧基化甘油三丙烯酸酯、聚乙二醇二
丙烯酸酯、聚乙二醇二甲基丙烯酸酯等具有聚乙二醇鏈的丙烯酸系化合物,聚丙二醇二丙烯酸酯、乙氧基化聚丙二醇二甲基丙烯酸酯等具有聚丙二醇鏈的丙烯酸系化合物。
印刷層13是以藉由形成印刷層13的硬化性樹脂中所含有的官能基(或高分子鏈),而具有30mN/m~50mN/m,較佳為35mN/m~45mN/m的表面自由能的方式形成。印刷於印刷層13上的油墨並無特別限制,但為了使本案發明的效果充分地發揮,較佳為使用適合於網版印刷的油墨。當表面自由能為30mN/m以上時,塗層C13與印刷層的密接性變得充分。另一方面,當表面自由能為50mN/m以下時,與形成印刷層的油墨所具有的表面張力的差不會變得過大,而容易印刷。
再者,印刷層13的表面自由能可藉由摻合兩種以上的丙烯酸系化合物來調整。若如此,則可更容易地獲得所期望的數值的表面自由能。另外,亦可藉由使印刷層13含有界面活性劑等來調整表面自由能。
印刷層的折射率為1.30~1.70,較佳為1.40~1.60。當折射率為1.30以上時,積層膜1的視認性不會因干涉等而下降。另一方面,當折射率為1.70以下時,例如於將PET用於基材10的情況下,與基材10的折射率差不會變得過大,因此積層膜1的視認性不會因干涉等而下降。
印刷層13的膜厚為0.5μm~5.0μm,較佳為2.0μm~4.0μm。當膜厚為0.5μm以上時,容易形成硬化性樹脂的交聯結構,因此不會引起耐久性或耐化學品性的下降。
另一方面,當膜厚為5.0μm以下時,膜厚不會變得過厚,而不會引起全光線透過率等透明性的下降。
再者,圖4所示的本發明的第3實施形態的積層膜3亦可進而具備圖3所示的硬塗層12。
[畫像顯示裝置4]
參照圖5,對本發明的第4實施形態的畫像顯示裝置4進行說明。畫像顯示裝置4具備本發明的積層膜1(或者1'、2、3)、及顯示藉由機械式處理而放映出的像的畫像面板15。畫像面板15例如可列舉陰極射線管(Cathode Ray Tube,CRT)、電漿顯示器(Plasma Display Panel,PDP)或LCD等平板顯示器。如圖5所示,於畫像面板15上,以折射層11(圖1參照)成為上側的方式載置積層膜1。於積層膜1的下側印刷畫像面板15的畫面的窗框14等。
再者,於圖5中,因對窗框14加以誇大,故於畫像顯示裝置4的中央部分,即積層膜1與畫像面板15之間存在空間,但實際上積層膜1是密接地載置於畫像面板15上。
[積層體的製造方法]
參照圖6,對本發明的第5實施形態的積層體的製造方法進行說明。首先,製造含有選自由氟倍半矽氧烷及氟倍半矽氧烷聚合物所組成的組群中的一種以上的氟化合物、及硬化性樹脂的塗佈液(S01)。即,例如將溶解於溶劑中的選自由氟倍半矽氧烷及氟倍半矽氧烷聚合物所組成的組群中的一種以上的氟化合物、及溶解於溶劑中的硬化性樹脂加以混合、攪拌。或者,亦可使選自由氟倍半矽氧
烷及氟倍半矽氧烷聚合物所組成的組群中的一種以上的氟化合物直接溶解於溶液狀的樹脂中,而製造塗佈液。其次,於作為疏水性環境下的大氣中將上述塗佈液塗佈於透明的基材上側(S02)。其次,使上述塗佈液中所含有的選自由上述氟倍半矽氧烷及上述氟倍半矽氧烷聚合物所組成的組群中的一種以上的氟化合物、及上述樹脂於作為疏水性環境下的大氣中硬化(S03)。再者,當將有機溶劑使用於塗佈液中時,進而包括使有機溶劑蒸發的步驟(以下,乾燥步驟)。例如,於利用活性能量線(紫外線或電子束等)進行硬化、且塗佈液為無溶劑的情況下,包括塗佈步驟→(無乾燥步驟→)利用活性能量線的硬化步驟。當塗佈液包含有機溶劑時,包括塗佈步驟→乾燥步驟→利用活性能量線的硬化步驟。另外,於利用熱進行硬化、且塗佈液為無溶劑的情況下,包括塗佈步驟→熱硬化步驟。當塗佈液包含有機溶劑時,包括塗佈步驟→乾燥步驟(=熱硬化步驟)。
作為本發明的積層體的積層膜於基材的一面具備具有起因於氟化合物的低折射率及起因於硬化性樹脂的高折射率的折射層,於基材的另一面具備表面自由能得到控制的印刷層。因此,成為抗反射功能優異,進而提昇印刷性能的積層膜。此種積層膜作為行動電話、觸控面板、液晶顯示器等的抗反射膜有用。進而,本發明的積層體並不限於如上所述的極薄的積層膜,亦可作為抗反射膜而用於較厚的壓克力板或眼鏡鏡片等。
如此,藉由本發明而不需要如先前般的高度的塗佈技
術,因此可使繁雜的塗佈處理的步驟簡略化,從而可實現大幅度的成本降低。
[氟倍半矽氧烷]
所謂倍半矽氧烷,是指由[(R-SiO1.5)n]所表示的(R為任意的取代基)聚矽氧烷的總稱。該倍半矽氧烷的結構對應於其Si-O-Si骨架,通常分類為無規型結構、梯型結構、籠型結構。進而,籠型結構對應於所含有的Si的數量而分類為T8型、T10型、T12型等。
用於本案的積層體的氟倍半矽氧烷只要是具有於疏水性環境下(例如空氣中),容易聚集於空氣與固體的界面的性質者即可。只要是聚集於界面的氟倍半矽氧烷,則可充分地發揮本案發明的效果。
其中,作為一例,特佳為具有由下述式(II)所示的分子結構的氟倍半矽氧烷。
即,作為倍半矽氧烷的結構的無規型結構、梯型結構、籠型結構之中,特佳為籠型結構。若使用籠型結構的氟倍
半矽氧烷,則與其他結構的氟倍半矽氧烷相比,可提高聚集於界面的速度。
進而,若考慮獲得的容易性,則較佳為T8型、T10型、T12型中的任一型。
進而,取代基(Rf)較佳為氟烷基。若考慮對於溶劑的溶解性,則Rf的碳數較佳為1~8。另外,Rf可為直鏈的基,亦可為經分支的基。具體而言,作為直鏈的基,可例示-CH2CH2CF3、-CH2CH2CF2CF3、-CH2CH2CF2CF2CF3、-CH2CH2CF2CF2CF2CF3、-CH2CH2CF2CF2CF2CF2CF3、-CH2CH2CF2CF2CF2CF2CF2CF3,作為經分支的基,可例示-CH2CH2CF(CF3)2、-CH2CH(CF3)CF2CF3、-CH(CF3)CH2CF2CF3、-CH2C(CF3)2CF3、-C(CF3)2CH2CF3-CH2CH2CF2CF(CF3)2、-CH2CH2CF(CF3)CF2CF3、-CH2CH2C(CF3)2CF3等。再者,Rf可為各不相同的基,亦可為全部相同的基。
進而,於上述式(II)中,例示了1個Si上具有「3-(甲基丙烯醯氧基)丙基」的氟倍半矽氧烷,但並不限定於該官能基。例如,當將「3-(甲基丙烯醯氧基)丙基」的位置設為Z時,可將該位置取代成其他的官能基。具體而言,作為Z,可設為氫、羥基、烯基、或鹵素(氯、溴、碘)、烷氧基、苯氧基、聚伸烷基氧基、-COOH、2-氧雜丙烷-1,3-二醇、烷氧基羰基、烯氧基羰基、環氧乙烷基、3,4-環氧環己基、氧雜環丁基、伸氧雜環丁基、-NH-、-NH2、-CN、-NCO、烯基、炔基、環烯基、丙烯醯氧基、甲基丙烯醯氧
基、胺基甲酸酯丙烯醯基、胺基甲酸酯甲基丙烯醯基、-SH及-PH2中的任一個基。進而,作為Z,亦可設為經由伸烷基的上述基(氫~-PH2)。鍵結於Si的伸烷基並無特別限定,但較佳為碳數為1~8的伸烷基,特佳為碳數為3的伸丙基。但是,選擇範圍內不包含具有烷醯氧基的基、具有鹵化磺醯基的基及具有α-鹵酯基的基。
再者,當官能基為聚合性的基時,可設為氟倍半矽氧烷的均聚物,亦可設為與其他的一般的單體(例如,加成聚合性單體)的共聚物。亦可設為具有不同的聚合性的基的氟倍半矽氧烷彼此的共聚物。此時,聚合的方法可採用公知的任一種方法。如此,用於本案的積層體的氟倍半矽氧烷亦可為氟倍半矽氧烷聚合物。
[氟倍半矽氧烷聚合物]
即,上述式(II)的氟倍半矽氧烷亦可具有加成聚合性官能基作為Z。或者,亦可經由伸烷基而具有加成聚合性官能基作為Z。作為加成聚合性官能基的例子,包括具有末端烯烴型或內部烯烴型的自由基聚合性官能基的基;具有乙烯基醚、丙烯基醚等陽離子聚合性官能基的基;以及具有乙烯基羧基、氰基丙烯醯基等陰離子聚合性官能基的基,但較佳為可列舉自由基聚合性官能基。
上述自由基聚合性官能基只要是進行自由基聚合的基,則並無特別限制,例如包括甲基丙烯醯基、丙烯醯基、烯丙基、苯乙烯基、α-甲基苯乙烯基、乙烯基、乙烯基醚、乙烯基酯、丙烯醯胺、甲基丙烯醯胺、N-乙烯基醯胺、順
丁烯二酸酯、反丁烯二酸酯、N-取代順丁烯二醯亞胺等,其中,較佳為含有(甲基)丙烯醯基或苯乙烯基的基。此處,(甲基)丙烯醯基是丙烯醯基及甲基丙烯醯基的總稱,表示丙烯醯基及/或甲基丙烯醯基。以下,設定為相同。
上述含有(甲基)丙烯醯基的自由基聚合性官能基的例子包括由以下的式(III)所表示的基。式(III)中,Y1表示碳數為2~10的伸烷基,較佳為表示碳數為2~6的伸烷基,更佳為表示伸丙基。另外,X表示氫或碳數為1~3的烷基,較佳為表示氫或甲基。
另外,上述含有苯乙烯基的自由基聚合性官能基的例子包括由以下的式(IV)所表示的基。式(IV)中,Y2表示單鍵或碳數為1~10的伸烷基,較佳為表示單鍵或碳數為1~6的伸烷基,更佳為表示單鍵或伸乙基。另外,乙烯基鍵結於苯環的任一個碳上,較佳為鍵結於相對於Y2為對位的碳上。
[加成聚合性單體]
加成聚合性單體包括具有交聯性官能基的加成聚合性單體與不具有交聯性官能基的加成聚合性單體。上述具有
交聯性官能基的加成聚合性單體只要是具有1個或2個以上的加成聚合性雙鍵的化合物即可,例如可為乙烯基化合物、亞乙烯基化合物、伸乙烯基化合物的任一者,更具體而言,可例示(甲基)丙烯酸化合物或苯乙烯化合物等。
上述(甲基)丙烯酸化合物的例子除(甲基)丙烯酸及(甲基)丙烯酸酯以外,亦包括(甲基)丙烯醯胺、(甲基)丙烯腈等。
作為上述加成聚合性單體的(甲基)丙烯酸化合物的例子,有具有交聯性官能基的(甲基)丙烯酸酯。該交聯性官能基的例子包括縮水甘油基及環氧環己基等環氧基、氧雜環丁基、異氰酸基、酸酐、羧基、以及羥基等,較佳為縮水甘油基等環氧基或氧雜環丁基。上述具有交聯性官能基的(甲基)丙烯酸酯的具體例包括:(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丙酯等(甲基)丙烯酸羥基烷基酯;(甲基)丙烯酸縮水甘油酯等含環氧基的(甲基)丙烯酸酯;(甲基)丙烯酸3,4-環氧環己基甲酯等脂環式含環氧基的(甲基)丙烯酸酯;3-乙基-3-(甲基)丙烯醯氧基甲基氧雜環丁烷等含氧雜環丁基的(甲基)丙烯酸酯;異氰酸2-(甲基)丙烯醯氧基乙酯;γ-(甲基丙烯醯氧基丙基)三甲氧基矽烷;(甲基)丙烯酸2-胺基乙酯、(甲基)丙烯酸2-(2-溴丙醯氧基)乙酯、(甲基)丙烯酸2-(2-溴異丁醯氧基)乙酯;1-(甲基)丙烯醯氧基-2-苯基-2-(2,2,6,6-四甲基-1-哌啶氧基)乙烷、1-(4-((4-(甲基)丙烯醯氧基)乙氧基乙基)苯基乙氧基)哌啶、(甲基)丙烯酸1,2,2,6,6-五甲基-4-哌啶酯、(甲基)丙
烯酸2,2,6,6-五甲基-4-哌啶酯等。
上述具有1個加成聚合性雙鍵的苯乙烯化合物的例子中具有包含交聯性官能基的苯乙烯化合物。該交聯性官能基的具體例包括縮水甘油基等環氧基、氧雜環丁基、鹵素、胺基、異氰酸基、酸酐、羧基、羥基、硫醇基、矽烷氧基等。
具有交聯性官能基的苯乙烯化合物的例子包括:鄰胺基苯乙烯、對苯乙烯氯磺酸、苯乙烯磺酸及其鹽、乙烯基苯基甲基二硫胺甲酸酯、2-(2-溴丙醯氧基)苯乙烯、2-(2-溴異丁醯氧基)苯乙烯、1-(2-((4-乙烯基苯基)甲氧基)-1-苯基乙氧基)-2,2,6,6-四甲基哌啶、或由下述式所表示的化合物。
[化4]
除上述加成聚合性單體以外,為了控制與硬化性樹脂的相容性、均染性、共聚物中的交聯性官能基量等,視需要亦可併用上述加成聚合性單體以外的加成聚合性單體。
作為不具有交聯性官能基的加成聚合性單體,可列舉具有1個加成聚合性雙鍵、且不具有交聯性官能基的(甲基)丙烯酸化合物,以及具有1個加成聚合性雙鍵、且不具有交聯性官能基的苯乙烯化合物。該(甲基)丙烯酸化合物的具體例包括:(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丙酯、(甲基)丙烯酸異丙酯、(甲基)丙烯酸丁
酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸第三丁酯、(甲基)丙烯酸正戊酯、(甲基)丙烯酸正己酯、(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸正庚酯、(甲基)丙烯酸正辛酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸壬酯、(甲基)丙烯酸癸酯、(甲基)丙烯酸十二酯、(甲基)丙烯酸硬脂基酯等(甲基)丙烯酸烷基酯;(甲基)丙烯酸苯酯、(甲基)丙烯酸甲苯甲醯酯等(甲基)丙烯酸芳基酯;(甲基)丙烯酸苄酯等(甲基)丙烯酸芳基烷基酯;(甲基)丙烯酸2-甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸3-甲氧基丙酯、(甲基)丙烯酸3-甲氧基丁酯等(甲基)丙烯酸烷氧基烷基酯;(甲基)丙烯酸的環氧乙烷加成物等。
上述具有1個加成聚合性雙鍵、且不具有交聯性官能基的(甲基)丙烯酸化合物的具體例進而包括:(甲基)丙烯酸三氟甲基甲酯、(甲基)丙烯酸2-三氟甲基乙酯、(甲基)丙烯酸2-全氟乙基乙酯、(甲基)丙烯酸2-全氟乙基-2-全氟丁基乙酯、(甲基)丙烯酸全氟乙酯、(甲基)丙烯酸三氟甲酯、(甲基)丙烯酸二全氟甲基甲酯、(甲基)丙烯酸2-全氟甲基-2-全氟乙基乙酯、(甲基)丙烯酸2-全氟己基乙酯、(甲基)丙烯酸2-全氟癸基乙酯、及(甲基)丙烯酸2-全氟十六基乙酯等(甲基)丙烯酸氟烷基酯等。
進而,具有1個加成聚合性雙鍵、且不具有交聯性官能基的(甲基)丙烯酸化合物的例子包括具有倍半矽氧烷骨架的(甲基)丙烯酸化合物。該具有倍半矽氧烷骨架的(甲基)丙烯酸化合物的具體例包括:(甲基)丙烯酸3-(3,5,7,9,11,13,15-七乙基五環[9.5.1.13,9.15,15.17,13]八矽氧
烷-1-基)丙酯、(甲基)丙烯酸3-(3,5,7,9,11,13,15-七異丁基-五環[9.5.1.13,9.15,15.17,13]八矽氧烷-1-基)丙酯、(甲基)丙烯酸3-(3,5,7,9,11,13,15-七異辛基五環[9.5.1.13,9.15,15.17,13]八矽氧烷-1-基)丙酯、(甲基)丙烯酸3-(3,5,7,9,11,13,15-七環戊基五環[9.5.1.13,9.15,15.17,13]八矽氧烷-1-基)丙酯、(甲基)丙烯酸3-(3,5,7,9,11,13,15-七苯基五環[9.5.1.13,9.15,15.17,13]八矽氧烷-1-基)丙酯、(甲基)丙烯酸3-[(3,5,7,9,11,13,15-七乙基五環[9.5.1.13,9.15,15.17,13]八矽氧烷-1-基氧基)二甲基矽基]丙酯、(甲基)丙烯酸3-[(3,5,7,9,11,13,15-七異丁基五環[9.5.1.13,9.15,15.17,13]八矽氧烷-1-基氧基)二甲基矽基]丙酯、(甲基)丙烯酸3-[(3,5,7,9,11,13,15-七異辛基五環[9.5.1.13,9.15,15.17,13]八矽氧烷-1-基氧基)二甲基矽基]丙酯、(甲基)丙烯酸3-[(3,5,7,9,11,13,15-七環戊基五環[9.5.1.13,9.15,15.17,13]八矽氧烷-1-基氧基)二甲基矽基]丙酯、(甲基)丙烯酸3-[(3,5,7,9,11,13,15-七苯基五環[9.5.1.13,9.15,15.17,13]八矽氧烷-1-基氧基)二甲基矽基]丙酯等。上述具有1個加成聚合性雙鍵、且不具有交聯性官能基的苯乙烯化合物的具體例包括:苯乙烯、乙烯基甲苯、α-甲基苯乙烯、對氯苯乙烯等。
作為上述具有1個加成聚合性雙鍵、且不具有交聯性官能基的苯乙烯化合物的例子,進而包括含有倍半矽氧烷的苯乙烯化合物。該含有倍半矽氧烷的苯乙烯衍生物例包括:1-(4-乙烯基苯基)-3,5,7,9,11,13,15-七乙基五環[9.5.1.13,9.15,15.17,13]八矽氧烷、1-(4-乙烯基苯
基)-3,5,7,9,11,13,15-七異丁基五環[9.5.1.13,9.15,15.17,13]八矽氧烷、1-(4-乙烯基苯基)-3,5,7,9,11,13,15-七異辛基五環[9.5.1.13,9.15,15.17,13]八矽氧烷、1-(4-乙烯基苯基)-3,5,7,9,11,13,15-七環戊基五環[9.5.1.13,9.15,15.17,13]八矽氧烷、及1-(4-乙烯基苯基)-3,5,7,9,11,13,15-七苯基五環[9.5.1.13,9.15,15.17,13]八矽氧烷等具有4-乙烯基苯基的八矽氧烷(T8型倍半矽氧烷);以及3-(3,5,7,9,11,13,15-七乙基五環[9.5.1.13,9.15,15.17,13]八矽氧烷-1-基)乙基苯乙烯、3-(3,5,7,9,11,13,15-七異丁基五環[9.5.1.13,9.15,15.17,13]八矽氧烷-1-基)乙基苯乙烯、3-(3,5,7,9,11,13,15-七異辛基五環[9.5.1.13,9.15,15.17,13]八矽氧烷-1-基)乙基苯乙烯、3-(3,5,7,9,11,13,15-七環戊基五環[9.5.1.13,9.15,15.17,13]八矽氧烷-1-基)乙基苯乙烯、3-(3,5,7,9,11,13,15-七苯基五環[9.5.1.13,9.15,15.17,13]八矽氧烷-1-基)乙基苯乙烯、3-((3,5,7,9,11,13,15-七乙基五環[9.5.1.13,9.15,15.17,13]八矽氧烷-1-基氧基)二甲基矽基)乙基苯乙烯、3-((3,5,7,9,11,13,15-七異丁基五環[9.5.1.13,9.15,15.17,13]八矽氧烷-1-基氧基)二甲基矽基)乙基苯乙烯、3-((3,5,7,9,11,13,15-七異辛基五環[9.5.1.13,9.15,15.17,13]八矽氧烷-1-基氧基)二甲基矽基)乙基苯乙烯、3-((3,5,7,9,11,13,15-七環戊基五環[9.5.1.13,9.15,15.17,13]八矽氧烷-1-基氧基)二甲基矽基)乙基苯乙烯、及3-((3,5,7,9,11,13,15-七苯基五環[9.5.1.13,9.15,15.17,13]八矽氧烷-1-基氧基)二甲基矽基)乙基苯乙烯等具有4-乙烯基苯基乙基的八矽氧烷(T8型倍半矽
氧烷)等。
進而,作為上述加成聚合性單體以外的加成聚合性單體,亦可例示具有自苯乙烯,(甲基)丙烯酸酯,矽氧烷,及環氧烷,例如環氧乙烷、環氧丙烷等衍生出的主鏈,且具有1個聚合性雙鍵的高分子單體。
加成聚合性單體的例子亦包括具有2個加成聚合性雙鍵的化合物。具有2個加成聚合性雙鍵的化合物的例子包括:1,3-丁二醇=二(甲基)丙烯酸酯、1,4-丁二醇=二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇=二(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇=二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇=二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇=二(甲基)丙烯酸酯、三乙二醇=二(甲基)丙烯酸酯、三丙二醇=二(甲基)丙烯酸酯、羥基三甲基乙酸酯新戊二醇=二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷=二(甲基)丙烯酸酯、雙[(甲基)丙烯醯氧基乙氧基]雙酚A、雙[(甲基)丙烯醯氧基乙氧基]四溴雙酚A、雙[(甲基)丙烯醯氧基聚乙氧基]雙酚A、1,3-雙(羥乙基)5,5-二甲基乙內醯脲、3-甲基戊二醇=二(甲基)丙烯酸酯、羥基三甲基乙酸酯新戊二醇化合物的二(甲基)丙烯酸酯及雙[(甲基)丙烯醯氧基丙基]四甲基二矽氧烷等的二(甲基)丙烯酸酯系單體、二乙烯基苯。
進而,亦可例示具有自苯乙烯,(甲基)丙烯酸酯,矽氧烷,及環氧烷,例如環氧乙烷、環氧丙烷等衍生出的主鏈,且具有2個聚合性雙鍵的高分子單體。
加成聚合性單體的例子亦包括具有3個加成聚合性雙鍵的化合物。具有3個加成聚合性雙鍵的化合物的例子包
括:三羥甲基丙烷=三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇=三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇=四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇=一羥基五(甲基)丙烯酸酯、三(異氰酸2-羥基乙酯)=三(甲基)丙烯酸酯、三(二乙二醇)偏苯三甲酸=三(甲基)丙烯酸酯、3,7,14-三[(((甲基)丙烯醯氧基丙基)二甲基矽烷氧基)]-1,3,5,7,9,11,14-七乙基三環[7.3.3.15,11]七矽氧烷、3,7,14-三[(((甲基)丙烯醯氧基丙基)二甲基矽烷氧基)]-1,3,5,7,9,11,14-七異丁基三環[7.3.3.15,11]七矽氧烷、3,7,14-三[(((甲基)丙烯醯氧基丙基)二甲基矽烷氧基)]-1,3,5,7,9,11,14-七異辛基三環[7.3.3.15,11]七矽氧烷、3,7,14-三[(((甲基)丙烯醯氧基丙基)二甲基矽烷氧基)]-1,3,5,7,9,11,14-七環戊基三環[7.3.3.15,11]七矽氧烷、3,7,14-三[(((甲基)丙烯醯氧基丙基)二甲基矽烷氧基)]-1,3,5,7,9,11,14-七苯基三環[7.3.3.15,11]七矽氧烷、八(3-(甲基)丙烯醯氧基丙基二甲基矽烷氧基)八倍半矽氧烷及八(3-(甲基)丙烯醯氧基丙基)八倍半矽氧烷。
進而,亦可例示具有自苯乙烯,(甲基)丙烯酸酯,矽氧烷,及環氧烷,例如環氧乙烷、環氧丙烷等衍生出的主鏈,且具有3個聚合性雙鍵的高分子單體。
加成聚合性單體較佳為(甲基)丙烯酸化合物,更佳為(甲基)丙烯酸酯,進而更佳為(甲基)丙烯酸的低級烷基(例如碳數為1~3)酯或具有交聯性官能基的酯等。
聚合物為氟倍半矽氧烷的加成聚合物、或與其他加成聚合性單體的加成共聚物,當為共聚物時,可為嵌段共聚
等的定序性共聚物,亦可為無規共聚物,較佳為無規共聚物。另外,聚合物可具有交聯結構,亦可為接枝共聚物。
[實例]
[製造例1:聚合物A-1的合成]
向安裝有經氮氣密封的回流冷凝器、溫度計、攪拌翼及隔片的四口燒瓶(300ml)中,導入化合物(A)(11.25g)、甲基丙烯酸甲酯(33.75g)及2-丁酮(MEK,104.41g)。其後,於油浴中增溫,使其回流15分鐘後,投入偶氮雙異丁腈(Azobisisobutyronitrile,AIBN)/MEK溶液(10wt%,5.8683g),使聚合開始。進行5小時反應後,進而添加AIBN/MEK溶液(10wt%,5.8683g),並進行3小時老化。藉由氣相層析儀,將單體轉化率已達到飽和的時間點作為反應終點,而獲得作為目標的聚合物A-1的MEK溶液。所獲得的聚合物A-1的單體組成、氟濃度、重量平均分子量:Mw、多分散指數:Mw/Mn如表1所示。重量平均分子量、多分散指數是利用凝膠滲透層析儀(GPC,型號:Alliance2695,Waters公司製造,管柱:Shodex GPC KF-804L×2根(串聯),保護柱:KF-G)進行測定。
化合物(A)具有由下述式(V)所表示的分子結構。
[化5]
[製造例1:塗佈膜的製作及評價]
將4-甲基-2-戊酮(MIBK,9g)與聚合物A-1的MEK溶液(1g)加以攪拌、混合,獲得無色透明的塗佈液(A-1)。使用塗佈液(A-1),將其旋塗(轉速:2000rpm×15秒→4000rpm×60秒)於玻璃基板(50×50×0.7(mm))上,並進行加熱乾燥,藉此獲得透明的塗佈膜(A-1)。使用接觸式輪廓儀(α-STEP IQ,KLA Tencor公司製造)進行膜厚測定,結果約為80nm。
[製造例2:聚合物A-2的合成]
除變更為化合物(A)(22.5g)、甲基丙烯酸甲酯(22.5g)、MEK(103.46g)、AIBN/MEK溶液(10wt%,15.3551g)以外,進行與製造例1相同的操作。進行5小時反應後,進而添加AIBN/MEK溶液(10wt%,15.3551g),並進行3小時老化。藉由氣相層析儀(GC,型號:GC-14B,島津製作所公司製造),將單體轉化率已達到飽和的時間點作為反應終點,而獲得作為目標的聚合物A-2的MEK溶液。所獲得的聚合物A-2的單體組成、氟濃度、重量平均分子量:Mw、多分散指數:Mw/Mn如表1所示。
[製造例2:塗佈膜的製作及評價]
將MIBK(9g)與聚合物A-2的MEK溶液(1g)加以攪拌、混合,獲得無色透明的塗佈液(A-2)。使用塗佈液(A-2),進行與製造例1相同的操作,獲得透明的塗佈膜(A-2)(膜厚:80nm)。
[製造例3:聚合物A-3的合成]
除變更為化合物(A)(33.75g)、甲基丙烯酸甲酯(11.25g)、MEK(103.91g)、AIBN/MEK溶液(10wt%,10.9739g)以外,進行與製造例1相同的操作。進行5小時反應後,進而添加AIBN/MEK溶液(10wt%,10.9739g),並進行3小時老化。藉由氣相層析儀(GC,型號:GC-14B,島津製作所公司製造),將單體轉化率已達到飽和的時間點作為反應終點,而獲得作為目標的聚合物A-3的MEK溶液。所獲得的聚合物A-3的單體組成、氟濃度、重量平均分子量:Mw、多分散指數:Mw/Mn如表1所示。
[製造例3:塗佈膜的製作及評價]
將MIBK(9g)與聚合物A-3的MEK溶液(1g)加以攪拌、混合,獲得無色透明的塗佈液(A-3)。使用塗佈液(A-3),進行與製造例1相同的操作,獲得透明的塗佈膜(A-3)(膜厚:80nm)。
[製造例4:聚合物A-4的合成]
除變更為甲基丙烯酸甲酯(45g)、MEK(104.63g)及AIBN/MEK溶液(10wt%,3.6719g)以外,進行與製造例1相同的操作。進行5小時反應後,進而添加
AIBN/MEK溶液(10wt%,3.6719g),並進行3小時老化。藉由氣相層析儀(GC,型號:GC-14B,島津製作所公司製造),將單體轉化率已達到飽和的時間點作為反應終點,而獲得作為目標的聚合物A-4的MEK溶液。所獲得的聚合物A-4的重量平均分子量:Mw、多分散指數:Mw/Mn如表1所示。
[製造例4:塗佈膜的製作及評價]
將MIBK(9g)與聚合物A-4的MEK溶液(1g)加以攪拌、混合,獲得無色透明的塗佈液(A-4)。使用塗佈液(A-4),進行與製造例1相同的操作,獲得透明的塗佈膜(A-4)(膜厚:80nm)。
聚合物A-1、A-2、A-3具有由下述式(VI)所表示的分子結構。再者,式中的n及m表示重量比。
[化6]
[製造例5:聚合物B-1的合成]
除變更為作為化合物(B)的甲基丙烯酸三氟乙酯(10.83g)、甲基丙烯酸甲酯(34.17g)、MEK(104.64g)及AIBN/MEK溶液(10wt%,3.6443g)以外,進行與製造例1相同的操作。進行5小時反應後,進而添加AIBN/MEK溶液(10wt%,3.6443g),並進行3小時老化。藉由氣相層析儀(GC,型號:GC-14B,島津製作所公司製造),將單體轉化率已達到飽和的時間點作為反應終點,而獲得作為目標的聚合物B-1的MEK溶液。所獲得的聚合物B-1的重量平均分子量:Mw、多分散指數:Mw/Mn如表2所示。
[製造例5:塗佈膜的製作及評價]
將MIBK(9g)與聚合物B-1的MEK溶液(1g)加以攪拌、混合,獲得無色透明的塗佈液(B-1)。使用塗佈
液(B-1),進行與製造例1相同的操作,獲得透明的塗佈膜(B-1)(膜厚:80nm)。
[製造例6:聚合物B-2的合成]
除變更為作為化合物(B)的甲基丙烯酸三氟乙酯(21.65g)、甲基丙烯酸甲酯(23.35g)、MEK(104.62g)及AIBN/MEK溶液(10wt%,3.8390g)以外,進行與製造例1相同的操作。進行5小時反應後,進而添加AIBN/MEK溶液(10wt%,3.8390g),並進行3小時老化。藉由氣相層析儀(GC,型號:GC-14B,島津製作所公司製造),將單體轉化率已達到飽和的時間點作為反應終點,而獲得作為目標的聚合物B-2的MEK溶液。所獲得的聚合物B-2的重量平均分子量:Mw、多分散指數:Mw/Mn如表2所示。
[製造例6:塗佈膜的製作及評價]
將MIBK(9g)與聚合物B-2的MEK溶液(1g)加以攪拌、混合,獲得無色透明的塗佈液(B-2)。使用塗佈液(B-2),進行與製造例1相同的操作,獲得透明的塗佈膜(B-2)(膜厚:80nm)。
[製造例7:聚合物B-3的合成]
除變更為作為化合物(B)的甲基丙烯酸三氟乙酯(32.48g)、甲基丙烯酸甲酯(12.52g)、MEK(104.61g)及AIBN/MEK溶液(10wt%,3.8906g)以外,進行與製造例1相同的操作。進行5小時反應後,進而添加AIBN/MEK溶液(10wt%,3.8906g),並進行3小時老化。
藉由氣相層析儀(GC,型號:GC-14B,島津製作所公司製造),將單體轉化率已達到飽和的時間點作為反應終點,而獲得作為目標的聚合物B-3的MEK溶液。所獲得的聚合物B-3的重量平均分子量:Mw、多分散指數:Mw/Mn如表2所示。
[製造例7:塗佈膜的製作及評價]
將MIBK(9g)與聚合物B-3的MEK溶液(1g)加以攪拌、混合,獲得無色透明的塗佈液(B-3)。使用塗佈液(B-3),進行與製造例1相同的操作,獲得透明的塗佈膜(B-3)(膜厚:80nm)。
聚合物B-1、B-2、B-3具有由下述式(VII)所表示的分子結構。
再者,式中的n及m表示重量比。
[化7]
[製造例8:塗佈劑的製備]
將茀系丙烯酸酯(商品名:Ogsol EA-0200,Osaka Gas Chemicals製造,61g)、甲苯(15.26g)、MEK(63g)及2-丙醇(IPA,9g)導入至經遮光的塑膠瓶中,並加以攪拌、混合。確認已成為透明的溶液後,追加光聚合起始劑(商品名:Irgacure184,BASF公司製造,1.75g),進而加以攪拌、混合,將所獲得者作為塗佈劑(C)。
[製造例8:塗佈膜的製作及評價]
使用上述塗佈劑(C),進行與製造例1相同的操作而獲得透明的塗佈膜(C-1)(膜厚:約3μm)。
[評價]
[折射率]
針對製造例1~製造例8的塗佈膜(A-1~A-4、B-1~B-3及C-1),利用分光橢圓儀(J.A.Woollam公司製造)測定折射率。將589nm下的折射率的測定結果示於表3。根據表3的結果可知,塗佈膜(C-1)具有比塗佈膜(A-1~A-4及B-1~B-3)更高的折射率。
[表面自由能]
於製造例1~製造例8的塗佈膜(A-1~A-4、B-1~B-3及C-1)上,測定水與二碘甲烷的接觸角,並算出表面自由能。將其結果示於表3。根據表3的結果可知,塗佈膜(C-1)的表面自由能高於塗佈膜(A-1~A-3及B-1~B-3)。即,塗佈膜(C-1)的疏水性低於塗佈膜(A-1~A-3及B-1~B-3)。
[實例1:塗佈劑的製備]
藉由[製造例8:塗佈劑的製備],而獲得塗佈劑(C)。
[實例1:塗佈膜的製作及評價]
使用塗佈劑(C),並藉由塗佈棒No.10(R.D.S.Webster公司製造)而於聚對苯二甲酸乙二酯膜(商品名:Cosmoshine A2401,東洋紡製造100μm)上形成濕膜,然後於80℃×3分鐘的條件下加以乾燥。其後,使用具備高壓水銀燈的輸送帶式紫外線照射裝置(累計光量:400mJ/cm2)進行光硬化,而獲得透明的塗佈膜(D)(膜厚:約4μm)。
所獲得的塗佈膜(D)的反射率、全光線透過率(T.T.)、
濁度的測定結果如表4所示。
再者,反射率的測定是使用紫外/可見分光光度計(型號:UV-2450,島津製作所公司製造)進行測定,濁度及全光線透過率是使用濁度計(型號:HDN5000,日本電飾工業公司製造)進行測定。
[實例2:塗佈劑的製備]
以使塗佈劑的固體成分中的聚合物A-2的濃度成為0.1wt%的方式,將塗佈劑(C)(19.98g)與聚合物A-2的MEK溶液(0.02g)導入至塑膠瓶中,並加以攪拌、混合,將所獲得者作為塗佈劑(E)。
[實例2:塗佈膜的製作及評價]
使用塗佈劑(E),進行與實例1相同的操作,藉此獲得透明的塗佈膜(膜厚:約4μm)。所獲得的塗佈膜(E)的反射率、全光線透過率(T.T.)、濁度的測定結果如表4所示。
[實例3:塗佈劑的製備]
除以使塗佈劑的固體成分中的聚合物A-2的濃度成為0.5wt%的方式進行製備以外,進行與實例2相同的操作,藉此獲得塗佈劑(F)。
[實例3:塗佈膜的製作及評價]
使用塗佈劑(F),進行與實例1相同的操作,藉此獲得透明的塗佈膜(膜厚:約4μm)。所獲得的塗佈膜(F)的反射率、全光線透過率(T.T.)、濁度的測定結果如表4所示。
[實例4:塗佈劑的製備]
除以使塗佈劑的固體成分中的聚合物A-2的濃度成為2wt%的方式進行製備以外,進行與實例2相同的操作,藉此獲得塗佈劑(G)。
[實例4:塗佈膜的製作及評價]
使用塗佈劑(G),進行與實例1相同的操作,藉此獲得透明的塗佈膜(膜厚:約4μm)。所獲得的塗佈膜(G)的反射率、全光線透過率(T.T.)、濁度的測定結果如表4所示。
[實例5:塗佈劑的製備]
除以使塗佈劑的固體成分中的聚合物A-2的濃度成為3wt%的方式進行製備以外,進行與實例2相同的操作,藉此獲得塗佈劑(H)。
[實例5:塗佈膜的製作及評價]
使用塗佈劑(H),進行與實例1相同的操作,藉此獲得透明的塗佈膜(膜厚:約4μm)。所獲得的塗佈膜(H)的反射率、全光線透過率(T.T.)、濁度的測定結果如表4所示。
[實例6:塗佈劑的製備]
除以使塗佈劑的固體成分中的聚合物A-2的濃度成為5wt%的方式進行製備以外,進行與實例2相同的操作,藉此獲得塗佈劑(I)。
[實例6:塗佈膜的製作及評價]
使用塗佈劑(I),進行與實例1相同的操作,藉此獲
得透明的塗佈膜(膜厚:約4μm)。所獲得的塗佈膜(I)的反射率、全光線透過率(T.T.)、濁度的測定結果如表4所示。
[實例7:塗佈劑的製備]
除以使塗佈劑的固體成分中的聚合物A-3的濃度成為2wt%的方式進行製備以外,進行與實例2相同的操作,藉此獲得塗佈劑(J)。
[實例7:塗佈膜的製作及評價]
使用塗佈劑(J),進行與實例1相同的操作,藉此獲得透明的塗佈膜(J)(膜厚:約4μm)。所獲得的塗佈膜(J)的反射率、全光線透過率(T.T.)、濁度的測定結果如表5所示。
[實例8:塗佈劑的製備]
除以使塗佈劑的固體成分中的聚合物A-4的濃度成為2wt%的方式進行製備以外,進行與實例2相同的操作,藉此獲得塗佈劑(K)。
[實例8:塗佈膜的製作及評價]
使用塗佈劑(K),進行與實例1相同的操作,藉此獲得透明的塗佈膜(K)(膜厚:約4μm)。所獲得的塗佈膜(K)的反射率、全光線透過率(T.T.)、濁度的測定結果如表5所示。
[比較例1:塗佈劑的製備]
除以使塗佈劑的固體成分中的聚合物B-2的濃度成為0.1wt%的方式進行製備以外,進行與實例2相同的操作,藉此獲得塗佈劑(L)。
[比較例1:塗佈膜的製作及評價]
使用塗佈劑(L),進行與實例1相同的操作,藉此獲得透明的塗佈膜(L)(膜厚:約4μm)。所獲得的塗佈膜(L)的反射率、全光線透過率(T.T.)、濁度的測定結果如表6所示。
[比較例2:塗佈劑的製備]
除以使塗佈劑的固體成分中的聚合物B-2的濃度成為0.5wt%的方式進行製備以外,進行與實例2相同的操作,藉此獲得塗佈劑(M)。
[比較例2:塗佈膜的製作及評價]
使用塗佈劑(M),進行與實例1相同的操作,藉此獲
得透明的塗佈膜(M)(膜厚:約4μm)。所獲得的塗佈膜(M)的反射率、全光線透過率(T.T.)、濁度的測定結果如表6所示。
[比較例3:塗佈劑的製備]
除以使塗佈劑的固體成分中的聚合物B-2的濃度成為2wt%的方式進行製備以外,進行與實例2相同的操作,藉此獲得塗佈劑(N)。
[比較例3:塗佈膜的製作及評價]
使用塗佈劑(N),進行與實例1相同的操作,藉此獲得透明的塗佈膜(N)(膜厚:約4μm)。所獲得的塗佈膜(N)的反射率、全光線透過率(T.T.)、濁度的測定結果如表6所示。
[比較例4:塗佈劑的製備]
除以使塗佈劑的固體成分中的聚合物B-2的濃度成為3wt%的方式進行製備以外,進行與實例2相同的操作,藉此獲得塗佈劑(O)。
[比較例4:塗佈膜的製作及評價]
使用塗佈劑(O),進行與實例1相同的操作,藉此獲得透明的塗佈膜(O)(膜厚:約4μm)。所獲得的塗佈膜(O)的反射率、全光線透過率(T.T.)、濁度的測定結果如表6所示。
[比較例5:塗佈劑的製備]
除以使塗佈劑的固體成分中的聚合物B-2的濃度成為5wt%的方式進行製備以外,進行與實例2相同的操作,
藉此獲得塗佈劑(P)。
[比較例5:塗佈膜的製作及評價]
使用塗佈劑(P),進行與實例1相同的操作,藉此獲得透明的塗佈膜(P)(膜厚:約4μm)。所獲得的塗佈膜(P)的反射率、全光線透過率(T.T.)、濁度的測定結果如表6所示。
[比較例6:塗佈劑的製備]
除以使塗佈劑的固體成分中的聚合物B-3的濃度成為2wt%的方式進行製備以外,進行與實例2相同的操作,藉此獲得塗佈劑(Q)。
[比較例6:塗佈膜的製作及評價]
使用塗佈劑(Q),進行與實例1相同的操作,藉此獲得透明的塗佈膜(Q)(膜厚:約4μm)。所獲得的塗佈膜(Q)的反射率、全光線透過率(T.T.)、濁度的測定結果如表7所示。
將塗佈膜(D~I)的反射率與所含有的聚合物A-2的濃度的關係示於圖7。再者,此處作為比較例,對塗佈膜(L~P)的反射率與具有與聚合物A-2相同的氟濃度的聚合物B-2的濃度的關係亦進行了繪圖。可知於聚合物A-2的任一濃度下,與比較例的反射率相比,其反射率均明顯下降。
進而,將所含有的聚合物的折射率(A-4、A-2、A-3/A-4、B-2、B-3)與塗佈膜(K、G、J/K、N、Q)的反射率的關係示於圖8。可知雖然本發明中所獲得的聚合物是具有與比較例相同的折射率的聚合物(參照表3),但均顯示低反射率。再者,A-4(圖表的重疊)是MMA(100wt%)的聚合物且不含化合物(A)及化合物(B)。
[實例9]
使用上述塗佈劑(G),將其旋塗(轉速:2000rpm×15秒→4000rpm×60秒)於玻璃基板(50×50×0.7(mm))上,並於80℃×3分鐘的條件下加以乾燥。其後,使用具備高壓水銀燈的輸送帶式紫外線照射裝置(累計光量:400mJ/cm2)進行光硬化,而獲得透明的塗佈膜(G)。使用接觸式輪廓儀(α-STEP IQ,KLA Tencor公司製造)進行膜厚測定,結果約為3μm。使用分光橢圓儀(J.A.Woollam
公司製造)對自塗佈膜(G)的最表面至膜內部的折射率的分布狀態進行分析。
將其結果示於圖9。可知自最表面至20nm的區域中存在具有折射率為1.539~1.546的折射率梯度的層,於更深的區域(20nm~基材界面)中存在折射率為1.634的層。
[實例10]
對塗佈膜(G)進行利用X射線光電子分光法(Quantera SXM ULVAC-PHI公司製造)的表面分析。自表面起進行利用Ar離子的蝕刻,檢測深度方向上的矽(Si)與氟(F)的濃度。將其結果示於圖10。根據圖10的結果可知,Si與F以高濃度存在於表面上。由於F與Si是起因於低折射率材料的成分,因此可知低折射率材料偏向存在於表面上。
與本發明的說明產生關聯(尤其與以下的申請專利範圍產生關聯)而使用的名詞及相同的指示語的使用只要未於本說明書中特別指出、或明顯與上下文矛盾,則作為涉及單數及複數兩方面者來解釋。詞句「具備」、「具有」、「含有」及「包含」只要事先無特別說明,則作為開放式敘詞(即「包含~,但不限定」的意思)來解釋。本說明書中的數值範圍的詳述只要未於本說明書中特別指出,則僅試圖起到作為用以一個個地論及符合該範圍內的各值的略記法的作用,各值如於本說明書中一個個地列舉般被編入至說明書中。本說明書中所說明的所有方法只要未於本說明書中特別指出、或明顯與上下文矛盾,則能夠以所有適當的順序實施。本說明書中所使用的所有例子或例示性的措
詞(例如「等」)只要無特別主張,則僅試圖更佳地說明本發明,而並非設定針對本發明的範圍的限制者。說明書中的任何措詞均不解釋為本發明的實施中不可或缺的表示申請專利範圍中未記載的要素的措詞。
本說明書中,為了實施本發明,包含本發明者所知道的最佳的形態在內對本發明的較佳的實施形態進行了說明。對於本領域從業人員而言,在閱讀上述說明之後,該些較佳的實施形態的變形會變得明確。本發明者期待熟練者適當地應用此種變形,且預計利用本說明書中所具體說明的方法以外的方法實施本發明。因此,本發明如準據法所允許般,包括所有本說明書中隨附的申請專利範圍中所記載的內容的修正及均等物。進而,只要未於本說明書中特別指出、或明顯與上下文矛盾,則所有變形中的上述要素的任意組合亦包含於本發明內。
1、1'、2、3‧‧‧積層體、積層膜
4‧‧‧畫像顯示裝置
10‧‧‧基材
11‧‧‧折射層
12‧‧‧硬塗層
13‧‧‧印刷層
14‧‧‧窗框
15‧‧‧畫像面板
s1‧‧‧表面
s2‧‧‧背面
ss‧‧‧氟化合物
pl‧‧‧樹脂、硬化性樹脂
圖1是本發明的第1實施形態的積層體1的剖面圖。
圖2是於本發明的第1實施形態的積層體1中,具備多個折射層11的積層體1'的剖面圖。
圖3是本發明的第2實施形態的積層體2的剖面圖。
圖4是本發明的第3實施形態的積層體3的剖面圖。
圖5是具備本發明的積層體的本發明的第4實施形態的畫像顯示裝置4的剖面圖。
圖6是表示本發明的第5實施形態的積層體的製造方法的流程圖。
圖7是表示塗佈膜(D~I及L~P)的反射率與所含有的聚合物(A-2及B-2)的濃度的關係的圖表。
圖8是表示所含有的聚合物的折射率(A-4、A-2、A-3/A-4、B-2、B-3)與塗佈膜(K、G、J/K、N、Q)的反射率的關係的圖表。
圖9是表示自塗佈膜(G)的最表面至膜內部的折射率的分布狀態的圖表。
圖10是表示自塗佈膜(G)的表面起於深度方向上的矽(Si)與氟(F)的濃度的圖表。
1‧‧‧積層體、積層膜
10‧‧‧基材
11‧‧‧折射層
s1‧‧‧表面
s2‧‧‧背面
ss‧‧‧氟化合物
pl‧‧‧樹脂、硬化性樹脂
Claims (7)
- 一種積層體,其包括:透明的基材;以及於上述基材上側,使射入的光折射的單層折射層;上述折射層至少包含選自由氟倍半矽氧烷及氟倍半矽氧烷聚合物所組成的組群中的一種以上的氟化合物、及具有比上述氟化合物更高的折射率的樹脂,上述折射層內的上述氟化合物的濃度對於上述基材側及其相反側而言,上述相反側更高,且上述折射層於層內形成低折射率與高折射率的傾斜構造層,上述折射層相對於上述樹脂,含有0.1wt%~4wt%的氟(F),上述樹脂的折射率為1.50~2.20,上述氟化合物的折射率為1.20~1.50。
- 如申請專利範圍第1項所述之積層體,於上述基材的下方更具備印刷層,上述印刷層具有30mN/m~50mN/m的範圍的表面自由能,其中上述折射層是藉由在疏水性環境下,將含有上述氟化合物與上述樹脂的塗佈液塗佈於上述基材上側,並使所獲得的塗膜硬化而形成,且上述氟化合物的疏水性高於上述樹脂。
- 如申請專利範圍第1項或第2項所述之積層體,其中上述氟化合物具有籠型結構。
- 如申請專利範圍第1項或第2項所述之積層體,其中於上述氟化合物中,上述氟倍半矽氧烷聚合物是具有1個加成聚合性官能基的氟倍半矽氧烷的加成聚合物、或者具有1個加成聚合性官能基的氟倍半矽氧烷與加成聚合性單體的加成共聚物。
- 如申請專利範圍第1項或第2項所述之積層體,其中於上述基材與上述折射層之間具備硬塗層,且於上述基材的下方具備印刷層,上述印刷層具有30mN/m~50mN/m的範圍的表面自由能。
- 一種畫像顯示裝置,其具備如申請專利範圍第1項至第5項中任一項所述之積層體,且於將上述基材的具有上述折射層之側作為上側的上述積層體的下側具備畫像面板。
- 一種積層體的製造方法,其包括如下步驟:準備至少含有選自由氟倍半矽氧烷及氟倍半矽氧烷聚合物所組成的組群中的一種以上的氟化合物、及樹脂的塗佈液;於疏水性環境下將上述塗佈液塗佈於透明的基材上側;以及於疏水性環境下使所獲得的塗膜硬化,而形成單層折射層;且上述樹脂具有比上述氟化合物更高的折射率,上述氟化合物具有比上述樹脂更高的疏水性,上述折射層相對於上述樹脂,含有0.1wt%~4wt%的 氟(F),上述樹脂的折射率為1.50~2.20,上述氟化合物的折射率為1.20~1.50。
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US7553904B2 (en) * | 1999-08-04 | 2009-06-30 | Hybrid Plastics, Inc. | High use temperature nanocomposite resins |
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WO2006035684A1 (ja) * | 2004-09-29 | 2006-04-06 | Toray Industries, Inc. | 積層フィルム |
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US7390099B2 (en) * | 2004-12-22 | 2008-06-24 | Nitto Denko Corporation | Hard-coated antiglare film and method of manufacturing the same |
JP5050473B2 (ja) * | 2005-09-28 | 2012-10-17 | Jnc株式会社 | フッ素系重合体および樹脂組成物 |
JP4862992B2 (ja) * | 2006-04-14 | 2012-01-25 | 信越化学工業株式会社 | 防汚性付与剤、防汚性コーティング剤組成物、防汚性被膜及びその被覆物品 |
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US20100265580A1 (en) * | 2007-11-13 | 2010-10-21 | Hansik Yun | Coating composition for antireflection, antireflection film and method for preparing the same |
WO2009064128A2 (en) * | 2007-11-13 | 2009-05-22 | Lg Chem, Ltd. | Coating composition for antireflection, antireflection film and method for preparing the same |
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