TWI544100B - Splash target assembly - Google Patents
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Description
本發明係關於一種用以減少由起因於片貼合部之顆粒產生而導致之不良的濺鍍靶組裝體，尤其是關於一種FPD用濺鍍靶組裝體。
透明導電膜形成用ITO、ZnO系、In2O3-ZnO系、MgO系等薄膜被廣泛用作以液晶顯示器、觸控面板、EL顯示器等為中心之顯示裝置的透明電極。多數情況下ITO等透明導電膜形成用氧化物薄膜係藉由濺鍍形成。
近年來，大型FPD(平面顯示器)用之透明導電膜形成係使用連續式(In-line type)濺鍍裝置，第8代以後，係排列數片至十幾片寬度為150～300 mm且長度為1500 mm以上之靶板，使大型玻璃基板移動於該靶之前面進行成膜。
由於難以將此種較大之靶製作成一片靶板，故一般而言，通常將於長度方向上分割成幾份之靶片貼合於支持板上，形成單一之靶-支持板接合體，進而將其複數個排列於寬度方向予以大型化。
然而，雖可藉由將該靶-支持板接合體排列於寬度方向予以大型化，但上述於長度方向上分割成數份之靶片與鄰接之靶-支持板接合體之靶片間的分割線會排成一列。由於該分割線而使靶片彼此之間會有間隙，各靶片之高度即便有極其微小之差別，亦會導致產生以該分割線為邊界之階差，因此，於濺鍍過程中容易自該分割線產生結球(nodule)，而導致於膜上條紋狀地產生附著有許多稱為顆粒(particle)之灰塵的部分，使產率降低。
通常，若就製造簡便之方面而言，係製造相同尺寸之靶片並將其貼合於支持板上，但於此情形時，靶片整齊地排列，初看外觀佳，但由於片與片之間的分割線全部排成一列，故存在以下問題：結球集中於排成一列之靶片部分，結果於膜上稱為顆粒之灰塵附著集中於特定位置，從而導致產率降低。
先前因一直致力於靶本身之生產力提高，且大型FPD之生產量仍較少，故此種問題未明顯化而被長期地忽略，但近年來，隨著大型FPD之生產量增加，而產生較多此種成膜不良，導致實際上發生與生產力降低相關之事例。
若觀察先前技術，則下述專利文獻1中記載有以下內容：長方形之大靶板由多個磚(tile)構成之靶組裝體所構成，且各磚構成為以3個以下之磚之間隙合併，從而防止熱循環中之磚的不整齊。於此情形時，長方形、正方形、六角形、扇形均可。
於該文獻1中，將多個磚緊密地配置，其目的在於不使該等錯位，而未採取用以防止濺鍍過程中之結球產生或膜上之顆粒的對策。觀察該文獻1之表示靶組裝體具體例之圖6、圖7、圖8、圖9、圖10中任一個，磚至少每隔一個便排列有磚之接合部。結果，此種靶組裝體會成為濺鍍過程中之結球產生或使膜上之顆粒增加的原因。
下述專利文獻2中記載有一種圓盤型分割靶，中心為圓形分割片，周邊由4個扇形(欠缺中心部)分割片構成。建議於該各分割片之接合部設置階差進行接合。此種圓盤型分割靶並不適合製造大型FPD(平面顯示器)用之靶組裝體。
又，文獻2之分割靶每隔一個便排列有磚之接合部。結果，具有此種結構之靶，會有導致濺鍍過程中產生結球或使膜上顆粒增加的問題。
下述專利文獻3中亦記載有一種圓盤型分割靶，中心為圓形分割片，周邊由2個扇形(欠缺中心部)分割片構成。建議於該各分割片之接合部設置切口而傾斜地接合。此種圓盤型分割靶與上述文獻2同樣地並不適合製造大型FPD(平面顯示器)用之靶組裝體。
又，文獻3中之分割靶每隔一個便排列有磚之接合部。結果，具有此種結構之靶，會有導致濺鍍過程中產生結球或使膜上顆粒增加的問題。
上述任一文獻共通處為均排列於一片支持板且為分割靶，但藉由將靶-支持板接合體排列於寬度方向予以大型化之情形的問題並未得到解決，具有未採取使濺鍍過程中之結球產生或膜上顆粒增加之原因減少之對策的問題。
專利文獻1：日本特開2006-22404號公報
專利文獻2：日本特開平5-263234號公報
專利文獻3：日本特開平5-17867號公報
本發明之課題在於提供一種可減少由起因於靶片貼合部之顆粒產生所導致之不良的大型化濺鍍靶-支持板接合體，尤其是一種FPD用濺鍍靶組裝體。
為了解決上述課題，本發明人等經潛心研究後，結果得出以下見解：以矩形之複數張片構成濺鍍靶，將其貼合於支持板，並著重該複數張片之形狀及排列，藉此製作大型濺鍍靶-支持板接合體，而可提供一種由可減少因片貼合部產生顆粒所導致之不良的濺鍍靶-支持板接合體構成的濺鍍靶組裝體，尤其是FPD用濺鍍靶組裝體。
基於此種見解，本發明提供：
1)一種濺鍍靶組裝體，其係將寬度為100 mm以上且長度為1000 mm以上之矩形靶板以分割線成為寬度方向之方式分割成3個以上之靶片A，且將該分割靶片A於長度方向貼合於支持板上而構成濺鍍靶-支持板接合體B，進而使3個以上該接合體B排列於寬度方向者；其特徵在於：於排列各個接合體B作為濺鍍靶組裝體時，設置成使存在於接合體B之3個靶片間的分割線與鄰接之分割靶片間的分割線不在同一位置。
又，本發明提供：
2)如上述1)之濺鍍靶組裝體，其中，於一個濺鍍靶-支持板接合體B中，各分割靶片A之長度相差在50 mm以上。
又，本發明提供：
3)如上述1)之濺鍍靶組裝體，其中，於一個濺鍍靶-支持板接合體B中，各分割靶片A之長度相差在100 mm以上。
又，本發明提供：
4)如上述1)至3)中任一項之濺鍍靶組裝體，其中，一個濺鍍靶-支持板接合體B之靶片間的分割線與鄰接之濺鍍靶-支持板接合體B之靶片間的分割線平行，且該鄰接之分割線的平行間隔為50 mm以上。
又，本發明提供：
5)如上述1)至3)中任一項之濺鍍靶組裝體，其中，一個濺鍍靶-支持板接合體B之靶片間的分割線與鄰接之濺鍍靶-支持板接合體B之靶片間的分割線平行，且鄰接之分割線的平行間隔為100 mm以上。
進而，本發明提供：
6)如上述1)至5)中任一項之濺鍍靶組裝體，其中，用於一個濺鍍靶-支持板接合體B之3個以上的矩形靶片A，係由與其他濺鍍靶-支持板接合體B之3個以上的矩形靶片A同一尺寸的靶片A構成。
以上述方式調整之本發明之濺鍍靶，以矩形之複數張片構成濺鍍靶，將其貼合於支持板，並著重該複數張片之形狀及排列，藉此製作大型濺鍍靶-支持板接合體，而可提供一種由可減少因片貼合部產生顆粒所導致之不良的濺鍍靶-支持板接合體構成的濺鍍靶組裝體尤其是FPD用濺鍍靶組裝體，而會有可提高成膜之產率且提高產品之品質的大優點。
本發明之濺鍍靶組裝體係將一片靶之寬度為100 mm以上且長度為1000 mm以上之矩形靶以分割線成為寬度方向之方式分割成3個以上之靶片A，且使該分割靶片A於長度方向貼合在支持板上而構成濺鍍靶-支持板接合體B，進而使3個以上該組裝體B排列於寬度方向者；且設置成當排列各個接合體B作為濺鍍靶組裝體時，以存在於接合體B之3個靶片間的分割線與鄰接之分割靶片間的分割線不在同一位置(成為不整齊)，亦可說是靶(靶片)之排列結構具有特徵之靶組件。
此適合作為FPD用濺鍍靶，滿足顆粒產生少且可使產率提高之大型濺鍍靶組件的主要條件。
圖3表示將寬度相同而長度不同之3個靶片A1、A2、A3安裝於支持板上之代表例。於各靶片A1、A2、A3之間存在分割線。該分割線係能夠用以分別單個地製作靶片之間隙。
如此，於本發明中，藉由改變靶片之長度，且使以排列靶時之靶片間之分割線錯開的方式組合而成之靶-支持板接合體以錯開之方式組合，可使起因於分割線之部分的顆粒分散，而能夠提高產率。
又，本發明之濺鍍裝置，於一個濺鍍靶-支持板接合體B中可使各分割靶片A之長度相差在50 mm以上，進而在100 mm以上。本發明之濺鍍靶組裝體可實現此要求。其原因在於儘量以靶片之接合位置錯開之方式組合。
又，本發明之濺鍍靶組裝體中，一個濺鍍靶-支持板接合體B之靶片間的分割線與鄰接之濺鍍靶-支持板接合體B之靶片間的分割線平行，理想為使該鄰接之接合位置的平行間隔為50 mm以上，進而為100 mm以上。其原因亦在於儘量不使靶片之接合位置排成一列而以錯開之方式組合。
進而，本發明中，用於3片以上之矩形靶片A之分割靶可由相同尺寸之3種以上之分割靶構成。
就靶之生產力來看，可以說理想為相同形狀之靶片A。其原因在於不同形狀之靶片之製造會使製造成本增加。如上所述，本發明雖提出3種以上之靶片，但其等均為矩形，具有不會招致如上述專利文獻所示之繁雜及製造成本增加之優點。
又，於本發明之情況下，具有相同形狀之靶片A為3種即可之優點。如下述之實施例所示，將矩形之靶片A製作成3種不同尺寸之矩形靶片A1、A2、A3，於使其等排列於接合板進行接合之情形時，作為其第一種組合可為靶片A1、A2、A3之排列，作為其第二種組合可為靶片A3、A1、A2之排列，作為其第三種組合可為靶片A2、A3、A1之排列。
就該等組合與鄰接之濺鍍靶-支持板接合體之位置關係來看，各靶片間之分割線不排成一列。其表示於本發明之情況，相同形狀之靶片A最少有3種即可，可降低製造成本。
又，將矩形之靶片A製作成4種不同尺寸之矩形靶片A1、A2、A3、A4，且使其等排列於支持板進行接合之情形時，作為其第一種組合可為靶片A1、A2、A3、A4之排列，作為其第二種組合可為靶片A2、A3、A4、A1之排列，作為其第三種組合可為靶片A3、A4、A1、A2之排列，作為其第四種組合可為靶片A4、A1、A2、A3之排列。
於此情形時，相同形狀之靶片A為4種，於4種靶接合體之所有組合中，就其等之位置關係來看，各靶片間之分割線不排成一列。進而，與在3種靶時以各靶片間之分割線不排成一列之情形相比，使用該4種靶片可使靶之排列的組合大幅增加。
[實施例]
以下，根據實施例及比較例進行說明。再者，本實施例僅為一例，本發明不受該例任何限制。即，本發明僅受申請專利範圍限制，包括本發明所含之實施例以外的各種變形。
(實施例1)
藉由貼合長度為300 mm、500 mm、700 mm之片，使200 mm×1500 mm之靶板如圖1所示接合於支持板上，而製作3種濺鍍靶-支持板接合體，並且藉由組合濺鍍靶-支持板接合體，如圖1左側之圖所示，於排列3組時將該等以靶片間之分割線錯開的方式安裝於X、Y、Z而形成濺鍍靶組裝體。視需要可反覆進行該X、Y、Z安裝。
使用該濺鍍靶組裝體於1300 mm×1500 mm之玻璃基板進行成膜，並測定顆粒數。將玻璃基板分為均等之5個區域來測定顆粒數。其結果如圖1之右側所示，顆粒數在11～19個之範圍內，可充分地作為產品使用。
於連續式濺鍍裝置中，排列數條長條之濺鍍靶-支持板接合體作為1組進行成膜，但因通常各靶係藉由貼合相同尺寸之片製作，故於排列數條該等接合體之情形時，靶片間之分割線會排列(排成一列)於相同位置，若進行成膜，則顆粒會集中於該位置附近，使產品產率降低。
本發明可解決該問題，如上所述，藉由改變靶片A之長度，且以排列濺鍍靶-支持板接合體時靶片間的分割線於各靶上錯開之方式進行組合，可使起因於靶片間之分割線的顆粒分散，而能夠提高產率。
(比較例1)
以相同長度500 mm之3個片A4接合於各支持板上製作200 mm×1500 mm之濺鍍靶板，將其設為3片/組而形成濺鍍靶組裝體，且將該濺鍍靶組裝體安裝於濺鍍裝置。並且，使用該靶於1300 mm×1500 mm之玻璃基板進行成膜。並且進行與實施例相同之顆粒比較。
圖2表示將相同尺寸之靶片排列於支持板而成的靶-支持板接合體及顆粒產生情況。如圖2之右側所示，相當於靶片間之分割線之區域中的顆粒數高達28個、29個，該區域無法作為產品使用。
由上述實施例、比較例清楚可知，改變構成矩形濺鍍靶之各片的長度，且以於各支持板上排列靶時使靶片間之分割線於各靶上錯開的方式進行組合，藉此分散起因於貼合部分之顆粒，此方面極為重要，具有可提高產品產率的大優點。
[產業上之可利用性]
本發明之由大型濺鍍靶-支持板構成的濺鍍靶組裝體，藉由將濺鍍靶之矩形之複數個片A貼合於各支持板上而構成接合體B，且著重該複數個片之形狀及排列，而具有下述優異效果：可降低由起因於靶片間分割線之顆粒產生所導致的不良率，因此，尤適用作為用以製造大型FPD之連續式濺鍍裝置用濺鍍靶組件。
A1、A2、A3、T1．．．靶片
X、Y、Z、X'、Y'、Z'．．．支持板
圖1，係表示使用實施例1之由濺鍍靶-支持板接合體構成的濺鍍靶組裝體成膜時顆粒產生情況之圖。
圖2，係表示使用比較例1之由濺鍍靶-支持板接合體構成的濺鍍靶組裝體成膜時顆粒產生情況之圖。
圖3，係表示將寬度相同而長度不同之3個靶片接合於支持板之例之圖。
A1、A2、A3．．．靶片
X、Y、Z．．．接合板
Claims (7)
- 一種濺鍍靶組裝體，其係將寬度為100mm以上且長度為1000mm以上之矩形靶板以分割線成為寬度方向之方式分割成3個以上之靶片A，且將該分割靶片A於長度方向貼合於支持板上而構成濺鍍靶-支持板接合體B，進而使3個以上該接合體B排列於寬度方向者；其特徵在於：於排列各個接合體B作為濺鍍靶組裝體時，設置成使存在於接合體B之3個以上靶片間的分割線與鄰接之分割靶片間的分割線不對齊排列；且於一個濺鍍靶-支持板接合體B中，各分割靶片A之長度相差在50mm以上。
- 如申請專利範圍第1項之濺鍍靶組裝體，其中，於一個濺鍍靶-支持板接合體B中，各分割靶片A之長度相差在100mm以上。
- 如申請專利範圍第1或2項之濺鍍靶組裝體，其中，一個濺鍍靶-支持板接合體B之靶片間的分割線與鄰接之濺鍍靶-支持板接合體B之靶片間的分割線平行，且該鄰接之分割線的平行間隔為50mm以上。
- 如申請專利範圍第1或2項之濺鍍靶組裝體，其中，一個濺鍍靶-支持板接合體B之靶片間的分割線與鄰接之濺鍍靶-支持板接合體B之靶片間的分割線平行，且鄰接之分割線的平行間隔為100mm以上。
- 如申請專利範圍第1或2項之濺鍍靶組裝體，其中，用於一個濺鍍靶-支持板接合體B中之3個以上的矩形靶 片A，係由與其他濺鍍靶-支持板接合體B之3個以上的矩形靶片A同一尺寸的靶片A構成。
- 如申請專利範圍第3項之濺鍍靶組裝體，其中，用於一個濺鍍靶-支持板接合體B中之3個以上的矩形靶片A，係由與其他濺鍍靶-支持板接合體B之3個以上的矩形靶片A同一尺寸的靶片A構成。
- 如申請專利範圍第4項之濺鍍靶組裝體，其中，用於一個濺鍍靶-支持板接合體B中之3個以上的矩形靶片A，係由與其他濺鍍靶-支持板接合體B之3個以上的矩形靶片A同一尺寸的靶片A構成。
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