TWI707054B - 非連續型磁性濺鍍靶材裝置 - Google Patents

Abstract

本發明提供一種非連續型磁性濺鍍靶材裝置，其包含：一基板以及一靶材單元，靶材單元設置於基板，靶材單元具有一長條狀之內側靶材、一內環靶材及一外環靶材，內環靶材設於內側靶材與外環靶材間，其中，內環靶材具有兩對應設置之內環長邊及連接兩內環長邊之兩內環短邊，兩內環長邊具有一內環切斷接縫，內環切斷接縫之兩側形成對應連接之兩內環斷面；藉此，令內環靶材呈不連續環狀結構，以改善應力變形翹曲之問題。

Description

非連續型磁性濺鍍靶材裝置

本發明係關於一種濺鍍靶材裝置，尤指一種非連續型磁性濺鍍靶材裝置。

請參閱圖1所示，其揭露一種磁性濺鍍靶材裝置，其包含：一非磁性支撐板1；以及一鐵磁性靶材單元2，其設於非磁性支撐板1之上方，鐵磁性靶材單元2具有一內側靶材3、一繞設於內側靶材3之內環靶材4及一繞設於內環靶材4之外環靶材5，其中，內環靶材4具有朝向異於非磁性支撐板1之一轟擊面6。

再者，為了提供加工鍍膜時所需之磁場，會於非磁性支撐板1之下方設有一永久磁鐵組，藉由永久磁鐵組所產生之磁力線朝上穿越過轟擊面6，從而在內環靶材4間形成環型封閉之磁力線；其中，環狀鐵磁性靶材單元2為長形環狀設計，使加工濺鍍時，永久磁鐵組之磁力線能夠均勻穿透轟擊面6，以達到大面積且均勻濺鍍之效果。

然而，鐵磁性靶材單元2有可能因為其長形環狀形狀，本身直線度與非磁性支撐板1並沒有這麼的匹配，亦有可能因為永久磁鐵組的影響，而使兩者於結合間有些微的間隙，而產生如圖1之應力翹曲現象，但因鐵磁性靶材單元 2係膠合於非磁性支撐板1之上方，所以尚能利用膠合的黏著力抵抗前述之應力翹曲現象，將鐵磁性靶材單元2平順的黏著於非磁性支撐板1上。但於加工濺鍍過程中，鐵磁性靶材單元2受到轟擊而使其溫度升高，高溫會影響與非磁性支撐板1間之膠合黏著度，而使鐵磁性靶材單元2，特別是內環靶材4沿其縱長方向之兩端產生應力變形翹曲，進而導致濺鍍效果不佳之問題。

為解決上述課題，本發明提供一種非連續型磁性濺鍍靶材裝置，於內環靶材之內環長邊開設內環切斷接縫，使內環靶材呈不連續之環狀結構；藉此，能夠於不影響磁場之情況下，使內環靶材不會產生應力變形之問題。

本發明之一項實施例提供一種非連續型磁性濺鍍靶材裝置，其包含：一基板以及一靶材單元，靶材單元設置於基板，並具有一內側靶材、一內環靶材及一外環靶材，內側靶材呈長條狀，內環靶材環設於內側靶材之周緣，外環靶材環設於內環靶材之周緣，其中，內環靶材具有兩對應設置之內環長邊及連接兩內環長邊兩端之兩內環短邊，兩內環長邊之至少其中之一具有一內環切斷接縫，內環靶材於內環切斷接縫之兩側形成對應連接之兩內環斷面。

藉由上述，本發明之內環靶材於至少其中一內環長邊開設內環切斷接縫，使內環靶材形成不連續之環狀結構，以分散加工濺鍍過程中，磁力施加於內環靶材所產生應力；藉此，能夠在不影響磁場之情況下，使內環靶材不會產生應力變形，進而提升濺鍍效率與品質，並且增加使用壽命。

<習知>

1:非磁性支撐板

2:鐵磁性靶材單元

3:內側靶材

4:內環靶材

5:外環靶材

6:轟擊面

<本發明>

10:基板

11:第一接合面

12:第二接合面

20:靶材單元

21:內側靶材

211:內側切斷接縫

22:內環靶材

221:第一面

222:第二面

223:內環長邊

224:內環短邊

225:內環切斷接縫

226:內環斷面

227:頂邊

228:底邊

23:外環靶材

231:外環長邊

232:外環短邊

233:外環切斷接縫

24:內側狹縫

25:外側狹縫

30:磁鐵組

A:夾角

圖1係習知磁性濺鍍靶材裝置立體示意圖。

圖2係本發明第一項實施例之俯視示意圖，表示內環靶材設有內環切斷接縫。

圖3係本發明沿圖2之3-3剖面線所取之剖面示意圖。

圖4係本發明沿圖2之4-4剖面線所取之剖面示意圖。

圖5係圖4局部放大示意圖。

圖6係本發明第二項實施例示意圖，表示內環靶材設有複數個內環切斷接縫。

圖7係本發明第三項實施例示意圖，表示內側靶材設有內側切斷接縫，內環靶材設有內環切斷接縫，外側靶材設有外側切斷部。

為便於說明本發明於上述發明內容一欄中所表示的中心思想，茲以具體實施例表達。實施例中各種不同物件係按適於說明之比例、尺寸、變形量或位移量而描繪，而非按實際元件的比例予以繪製。

本文所用單數形式「一」、「一個」及「該」亦包含複數形式，除非上下文清楚地指示其他情況。再者應瞭解，當用於此說明書時，術語「包括」及/或「包含」指定存在所述特徵、基板、靶材及/或單元，但是不排除存在或附加一或多個其他特徵、基板、靶材及/或單元。

當提到元件設於另一元件「上」或「之上」，或是元件與另一元件「連結」、「接合」或「連接」時，其可直接設於、接合、連結或連接於另一元件或是存在有中間元件，合先敘明。

請參閱圖2至圖7所示，本發明提供一種非連續型磁性濺鍍靶材裝 置，其包含：一基板10、一靶材單元20及一磁鐵組30，基板10設於靶材單元20與磁鐵組30間，其中，磁鐵組30用以提供濺鍍加工時所需之磁場；於濺鍍加工時，磁鐵組30所產生之磁力線會朝上穿越過靶材單元20，從而在靶材單元20形成環型封閉之磁力線

基板10，其為非磁性材質，基板10具有相反設置之一第一接合面11及一第二接合面12，靶材單元20設於第一接合面11，磁鐵組30設於第二接合面12。

靶材單元20，其膠合設於基板10之第一接合面11，靶材單元20具有一內側靶材21、一內環靶材22及一外環靶材23，其中，內側靶材21呈長條狀，內環靶材22具有磁性且環設於內側靶材21之外周緣，而外環靶材23環設於內環靶材22之外周緣。

內環靶材22具有相反設置之一第一面221及一第二面222，第二面222設於基板10之第一接合面11。其中，內側靶材21與內環靶材22間隔一內側狹縫24，內環靶材22與外環靶材23間隔一外側狹縫25，磁鐵組30所產生之磁力線會透過內側狹縫24及外側狹縫25，從而在內環靶材22間形成環型封閉之磁力線。

再者，內環靶材22具有兩對應設置之內環長邊223及連接兩內環長邊223兩端之兩內環短邊224，兩內環長邊223之長度大於兩內環短邊224之長度，而兩內環短邊224能夠係直線或弧線；兩內環長邊223之至少其中之一具有一內環切斷接縫225，內環切斷接縫225由第一面221貫穿第二面222，內環靶材22於內環切斷接縫225之兩側形成對應連接且相互平行之兩內環斷面226；而兩內環斷面226能夠彼此間具有縫隙或是靠合緊貼，於本發明各項實施例中，兩內環斷面226為彼此靠合緊貼。

所述之內環斷面226傾斜於第一面221，所述之內環斷面226與第一面221間具有一夾角A，其中，夾角A介於15度至165度間，於本發明各項實施例中，夾角A為45度；藉此，內環切斷接縫225未能使第一接合面11自第一面221顯露，以避免於進行加工濺鍍，而使離子轟擊內環靶材22時，離子藉由內環切斷接縫225而直接穿透轟擊基板10。

所述之內環斷面226具有相對遠離設置之一頂邊227及一底邊228，頂邊227連結於第一面221，底邊228連結於第二面222，頂邊227及底邊228能夠平行或不平行於所述之內環短邊224，其中，當所述之內環短邊224為直線時，頂邊227及底邊228能夠平行於所述之內環短邊224；當所述之內環短邊224為弧線時，頂邊227及底邊228能夠不平行於所述之內環短邊224。

此外，前述之內環切斷接縫225能夠設置於其中一內環長邊223或兩內環長邊223皆設置，而且內環切斷接縫225之數量能夠為一個或複數個，當內環切斷接縫225為複數個時，各內環切斷接縫225沿所述之內環長邊223方向間隔設置；請參閱圖2所示，於本發明第一項實施例中，其中一內環長邊223設有一個內環切斷接縫225；請參閱圖6所示，於本發明第二項實施例中，兩內環長邊223皆設有內環切斷接縫225，而其中一內環長邊223設有一個內環切斷接縫225，另一內環長邊223設有兩個間隔設置之內環切斷接縫225。

因此，於內環靶材22於設有內環切斷接縫225，讓內環靶材22形成不連續之環狀結構，藉以分散磁力施加於內環靶材22所產生應力，減少內環靶材22之沿內環長邊223之應力集中。

於本發明第三項實施例中，內側靶材21開設有一內側切斷接縫211，內側靶材21於內側切斷接縫211之兩側形成對應連接且相互平行之兩內側 斷面，而兩內側斷面能夠彼此間具有縫隙或是靠合緊貼；於本項實施例中，內側切斷接縫211之結構與內環切斷接縫225之結構相同，兩內側斷面為彼此靠合緊貼；藉此，內側切斷接縫211未能使第一接合面11顯露。再者，內側切斷接縫211之數量能夠為一個或複數個，當內側切斷接縫211之數量為複數個時，各內側切斷接縫211沿內側靶材21之長度方向間隔設置，於本項實施例中，內側切斷接縫211數量為一個，如圖7所示。

於本發明第三項實施例中，外環靶材23兩對應設置之外環長邊231及連接兩外環長邊231兩端之兩外環短邊232，兩外環長邊231之長度大於兩外環短邊232之長度，兩外環長邊231之至少其中之一具有一外環切斷接縫233，外環靶材23於外環切斷接縫233之兩側形成對應連接之兩外環斷面，兩外環斷面能夠彼此間具有縫隙或是靠合緊貼；於本實施例中，外環切斷接縫233之結構與內環切斷接縫225之結構相同，兩外環斷面為彼此靠合緊貼；藉此，外環切斷接縫233未能使第一接合面11顯露。再者，外環切斷接縫233之數量能夠為一個或複數個，當外環切斷接縫233之數量為複數個時，外環切斷接縫233沿所述之外環長邊231方向間隔設置，於本項實施例中，兩外環長邊231皆設有一個外環切斷接縫233，如圖7所示。

因此，於內環靶材22於至少其中一內環長邊223設有內環切斷接縫225，讓內環靶材22形成不連續之環狀結構，藉以分散加工濺鍍過程中，內環靶材22之應力集中問題；藉此，在不影響磁場之情況下，使內環靶材22不會產生應力變形，進而提升濺鍍效率與品質，並且增加使用壽命。

再者，於內側靶材21設內側切斷接縫211及外環靶材23設外環切斷接縫233，能夠讓內側靶材21呈不連續之長條結構，而外環靶材23呈不連續之 環狀結構，藉以減少於加工濺鍍過程中，磁力對於內側靶材21與外環靶材23產生之應力影響；藉此，提升濺鍍效率與品質。

以上所舉實施例僅用以說明本發明而已，非用以限制本發明之範圍。舉凡不違本發明精神所從事的種種修改或變化，俱屬本發明意欲保護之範疇。

10‧‧‧基板

11‧‧‧第一接合面

20‧‧‧靶材單元

21‧‧‧內側靶材

22‧‧‧內環靶材

223‧‧‧內環長邊

224‧‧‧內環短邊

225‧‧‧內環切斷接縫

227‧‧‧頂邊

23‧‧‧外環靶材

231‧‧‧外環長邊

232‧‧‧外環短邊

Claims (10)

1. 一種非連續型磁性濺鍍靶材裝置，其包含：一基板；以及一靶材單元，其設置於該基板，該靶材單元具有一內側靶材、一內環靶材及一外環靶材，該內側靶材呈長條狀，該內環靶材具有磁性且環設於該內側靶材之外周緣，該外環靶材環設於該內環靶材之外周緣，其中，該內環靶材具有兩對應設置之內環長邊及連接該兩內環長邊兩端之兩內環短邊，該兩內環長邊之至少其中之一具有一內環切斷接縫，該內環靶材於該內環切斷接縫之兩側形成對應連接之兩內環斷面。
2. 如請求項1所述之非連續型磁性濺鍍靶材裝置，其中，該內環靶材具有相反設置之一第一面及一第二面，該第二面設於該基板，該內環切斷接縫由該第一面貫穿該第二面，所述之內環斷面傾斜於該第一面。
3. 如請求項2所述之非連續型磁性濺鍍靶材裝置，其中，所述之內環斷面與該第一面間具有一夾角，該夾角介於15度至165度間。
4. 如請求項2所述之非連續型磁性濺鍍靶材裝置，其中，所述之內環斷面具有相反設置之一頂邊及一底邊，該頂邊連結該第一面，該底邊連結該第二面，該頂邊及該底邊平行於該內環短邊。
5. 如請求項2所述之非連續型磁性濺鍍靶材裝置，其中，所述之內環斷面具有相反設置之一頂邊及一底邊，該頂邊連結該第一面，該底邊連結該第二面，該頂邊及該底邊不平行於該內環短邊。
6. 如請求項1所述之非連續型磁性濺鍍靶材裝置，其中，該內環切斷接縫之數量為複數個，所述之內環切斷接縫間隔設置。
7. 如請求項1所述之非連續型磁性濺鍍靶材裝置，其中，該內側靶材開設有一內側切斷接縫，該內側靶材於該內側切斷接縫之兩側形成對應連接之兩內側斷面。
8. 如請求項7所述之非連續型磁性濺鍍靶材裝置，其中，該內側切斷接縫之數量為複數個，所述之內側切斷接縫間隔設置。
9. 如請求項1所述之非連續型磁性濺鍍靶材裝置，其中，該外環靶材具有兩對應設置之外環長邊及連接該兩外環長邊兩端之兩外環短邊，該兩外環長邊之至少其中之一具有一外環切斷接縫，該外環靶材於該外環切斷接縫之兩側形成對應連接之兩外環斷面。
10. 如請求項9所述之非連續型磁性濺鍍靶材裝置，其中，該外環切斷接縫之數量為複數個，所述之外環切斷接縫間隔設置。

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