TWI543880B - 印刷支架、包括有此印刷支架的印刷機及相關方法 - Google Patents

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Description

印刷支架、包括有此印刷支架的印刷機及相關方法
本發明大體上關於一種使用印刷技術將一物質沉積至一基底上之印刷支架及相似物。本發明尚關於一種特別在織物印刷及精修領域中之設有該印刷支架的印刷機、及以一連續製程實施沉積的方法。
普遍上已知用於將圖像及文字噴墨印刷至一基底上之系統。許多此類系統係調整成適應於桌上或辦公室應用,且非常適合於在A3或A4大小紙張、或相似物上實施印刷。對於較寬之基底,需要更特定之機器,特別為高速度屬非常重要者時尤然。在這種應用中,可使用噴墨印刷技術,然通常仍偏愛平版及習知印刷技術。
針對織物,噴墨印刷技術近年來亦已發展成為傳統印刷、染色、及塗佈技術之一替代方案。基於材料及染料之考量,這些技術大體上有別於繪圖領域中所使用者。亦已企圖調整噴墨沉積技術,以適應織物之升級及精修製程。這些製程之一特徵通常為,其需要將相當大體積之成品沉積於整個織物表面。在許多情況下,織品之品質係根據沉積或塗佈之均勻性而定,因此該均勻性至為重要。由一視覺觀點(無條紋或瑕疵)、及亦由一功能性觀點而言(防水或阻燃性),這種均勻性皆屬重要者。
目前有二種用於噴墨印刷之主要系統架構:固定陣列系統、以及掃描與步進設備。該二者主要係結合控制液滴 式(DoD)技術使用,但亦可結合連續噴墨(CIJ)技術使用。
固定陣列系統容許以相對較高之生產速度,來印刷一連續運動基底。一印刷頭固定陣列係橫跨該基底寬度配置,且可引動噴嘴而依需求將材料沉積至該基底上,其中該基底係在該印刷頭陣列下方連續運動者。由於僅需數個印刷頭即可覆蓋連續捲軸對捲軸幅(reel to reel web)系統上之窄寬度基底,因此典型之固定陣列系統係用於這種基底。歐洲專利案第EP-B-1573109號中係描述,使用固定陣列噴墨方法來實施織物精修者。
固定陣列系統具有多項缺點,主要係關於在這種印刷系統中之低撓性、及缺乏複置性。當藉一固定陣列系統印刷至一寬基底上時,需要大量之印刷頭以橫跨該基底之寬度,這將導致高額之印刷系統資金成本。倘需求之基底速度低於印刷頭之最高速度(譬如,基於其他較慢之製程),則將無法有效地利用這種額外之系統能量,且實屬浪費,即在任何程度上低於最高速度,皆將造成該印刷系統無效率地使用印刷頭。橫跨該基底寬度之解析度將因該等印刷頭噴嘴之位置而固定,且因此無法輕易改變。當需保養印刷頭時,該基底必須停止,且必須將該陣列自該基底移開,以容許接近印刷頭。這通常為一相對較複雜之操作,且其相關之停機時間代價甚高。當一噴嘴在印刷期間失效時,將在該基底上出現一單一垂直線,其為一具體可見之故障模式,且代表在局部區域中徹底100%之材料沉積失效。印刷一連續圖像者,亦需一複雜之連續數據資料管理系統。該系統必須連續地將數據資料饋送至印刷頭噴嘴,以保持 在基底上連續地印刷圖像,且無任何因重新載入記憶體所致之明顯斷點(或時間)。這意味著,許多固定陣列印刷系統皆具有根據其記憶體容量而定之一重複長度,其後將僅一再重複該圖像。可藉由使用動態記憶體管理,使數據資料饋送入記憶體之速度,如同其饋送出至印刷頭者一般地快速,而避免這種情況,但這將需要一顯然更為複雜之記憶體管理系統。
掃描及步階設備之作動,係使一印刷頭支架橫跨一靜止基底之寬度掃描,以印刷出一水平帶或幅帶。該基底接著將在該印刷頭支架橫跨該靜止基底進行另一進程以印刷出一第二幅帶前,精確地朝前增量。這種系統典型地係用於印刷至,一固定陣列無法作業之廣達5公尺寬基底上。其亦可用於可接受較低生產率之應用、即寬版式商業繪圖藝術印刷中。
掃描及步進系統亦具有數項缺點,主要集中於低生產率、及基底運動之步進本質。特別地,該基底之步進意味著,這種系統在用作為一連續生產線中之一組件或製程時,將具有較差相容性。該基底增量或步進所花費之時間,無法用於印刷,且將限制生產率。步進運動亦意味著,該基底必須迅速地加速與減速,這將使在處理重滾輥上之寬基底時,需要更有力之馬達、及一高階之控制。由於步進運動可影響沿幅向解析度、及因此沉積材料之量(針對機能性應用)或圖像品質(針對成像應用),因此這種運動亦必須伴隨產生高準確度及可重複性。依據歐洲專利案第EP-A-0829368號中所揭露之一裝置,一個或更多印刷頭可 轉向,以依一偏斜角度掃描一織物幅之寬度。藉由沿對角線地印刷,該等印刷頭可依其最大橫越速度作動較長距離。儘管仍可在掃描及步進模式下作動,然因該印刷頭加速與減速所造成之效率損失將可因而縮減。
至此,所有該等缺點已使在寬基底上作連續、高速度、且高度均勻之沉積,變得難以達成。特別地,印刷頭在這種操作下之可靠度仍完全未最佳化。一DoD噴嘴需要連續之預防保養,以保持其正確地運作,此為系統設計之一基本要件。倘噴嘴已一段時間未使用,則當後續有需要時,其將阻塞且無法發射。對於掃描及步進系統,印刷頭之掃描運動將在每一進程終結時容許迴轉時間,以用於印刷頭之定時保養。這可包含有清潔每一噴口或噴嘴以防止阻塞、及/或來自閒置噴嘴之墨水唾吐。儘管如此,保養時間之代價為,斷續之基底運動。這可為額外之索引故障、及動力組磨耗之成因。更,印刷頭在每次橫越運動中之迅速加速與減速,將為機械失效之一潛在根源、及一設計限制。
在一陣列架構下,無法取得定時保養之時機。噴墨工業已有許多補償缺漏噴嘴、或異常噴嘴之嘗試。美國專利案第4,907,013號揭露一種探測噴墨印刷頭之噴嘴陣列中異常噴嘴之電路。倘印刷機處理器無法藉步進印刷頭、及在印刷介質上之接續進程期間使用非異常噴嘴來補償異常噴嘴,則印刷機將停機。美國專利案第4,963,882號係揭露在每一像素位置使用多重噴嘴。在某一實施例中,同色之二墨滴係由二印刷頭之不同噴嘴、在二進程期間沉積於一單一像素位置上。美國專利案第5,581,284號揭露一種可識別 一多重顏色印刷機之一全寬度陣列印刷條棒中任何失效噴嘴、且以來自具有一不同墨水顏色之另一印刷條棒中噴嘴之至少一液滴替補的方法。美國專利案第5,640,183號係揭露,將數個液滴噴射噴嘴加至一噴嘴陣列中之標準噴嘴縱列,使數個複置噴嘴加至每縱列噴嘴末端。該噴嘴頭可規律地或偽隨機地移動,使得在一多進程印刷系統中,不同組噴嘴可於印刷頭之一接續進程期間,在已進行初次印刷之幅帶上印刷。美國專利案第5,587,730號揭露一種熱噴墨印刷設備,其具有包含一初次印刷頭、及一二次印刷頭之一複置印刷能力。在某一模式下,倘該初次印刷頭失效,則該二次印刷頭將可替代該初次印刷頭來印刷第一顏色之墨滴。
美國專利案第6,439,786號揭露一種印刷裝置,其企圖使一紙幅之運動與一印刷頭橫越運動同步化,以達成連續之紙張進給。該印刷頭係安裝成,在可朝關於進給方向之二方向彎角之一橫桿上橫越運動。在每次橫越運動時,該印刷頭皆可與該紙張一同運動,以在該運動紙張上產生一合成水平印刷帶。
在日本專利公告案第JP10-315541號所揭露之又一裝置中,描述一種可提高紙張輸送方向上之印刷解析度的一連串印刷機。這可藉由連續地輸送紙張,使輸送機構中之背隙影響降低,而得以達成。在運動基底上印刷,將造成可在單次或雙重進程運動中互相對正之斜紋幅帶。該裝置係針對紙板上之印刷,且並未涉及提高大版式基底上之印刷速度。特別地,當於順向與逆向進程二者上印刷時,該 印刷頭僅處理未印刷之紙張區域,如此將導致無效率之噴嘴使用。又,本案無法應付以增大之頭長度在大版式基底上印刷寬幅帶的需求。
國際專利未公開申請案第WO2009/056641號中係描述一新近發展,該案之內容已完全併入此中,其中一物質係藉由一沉積設備橫越該基底而沉積至一連續供應之基底上,以在數個幅帶中沉積該物質。該基底可由呈一輸送帶型式之一輸送設備承載。藉由使該輸送與橫越運動同步化,可使該等幅帶互補,以達成大致全面之該基底覆蓋。該原理與掃描及步進、以及固定陣列系統二者之優點相結合,可達成具連續基底運動之可靠印刷。
依據國際專利案第WO2009/056641號中所揭露之該裝置某一實施例,可藉由二支架沉積二互補之物質幅帶,每一該等支架各為獨立運動而安裝於一各別橫桿上。每一支架各包括複數個頭,如此可達成沿輸送方向之一寬幅帶,及更有效率之覆蓋。儘管已發現,可依一符合要求之方式來作動該設備,然其設定困難,且輸送速度或其他印刷參數變動時,需再次校準。該基底在第一與第二支架之間關於該輸送帶之任何運動,將對成果造成大變動。這亦適用於不規則之輸送帶運動。當基底寬度及輸送速度增加時,這些及其他困難將變得更為明顯。
本發明試圖藉使用一單一印刷支架來沉積二互補幅帶,以應付至少某些該等困難。緣是,該印刷支架包括一 第一複數個噴墨頭,配置成將一物質沉積至基底上、一第一幅帶之順向及逆向進程中,一第二複數個噴墨頭,配置成將該物質沉積至基底上、與該第一幅帶互補之一第二幅帶的順向及逆向進程中,其中該第一與第二複數個頭係配置成,可確保該等第一與第二幅帶在順向及逆向進程二者皆為互補者。在本文中,可將互補瞭解為,意指藉二幅帶疊置來達成均勻之覆蓋,使基底之每一部份皆可由某一該等幅帶覆蓋二次、或每一幅帶覆蓋一次。請瞭解到,因一個別噴嘴之失效而產生之任何失誤,將基於沿對角線運動、及該基底之每一部份皆將由不同噴嘴處理二次之事實等二者,而較不可見。藉由自一單一支架提供該等第一及第二幅帶,將可精確地決定及保持,沉積該等第一與第二幅帶用頭之間的偏置。可設置一對正構件或設備,以確保該支架之對正。是以,無需任何在成對支架之間的對正及同步,即可大幅減少設定、及變更印刷參數時所需之校準。
為了以單一支架設備來達成完全覆蓋一寬織物,每一幅帶之寬度較佳地應儘可能地大。這可藉由對正每一幅帶之複數個頭而達成,其中每一印刷頭各包括一排噴嘴,其可與其他印刷頭之噴嘴相對正。較佳地,最終達成之支架將在輸送方向上具有至少0.3公尺、較佳地0.5公尺、且甚至長達0.8公尺之一長度。該等第一與第二幅帶之總寬度可大於0.2公尺、較佳地大於0.3公尺、且甚至長達0.5公尺。
然而,大體上不可能使二頭相互緊鄰地設置,而不在該等者之間餘留一間隙。這係因為在目前可取得之頭中,可產生沉積之噴嘴範圍係小於該頭之長度。譬如用於固定 陣列中者等先前設計,已藉由使相鄰頭相偏置及交錯,來解決本問題。然而,由於交錯者無法在二對角線進程上對正二對角線進程,因此這種設備無法直接適用於以一斜紋方式在二進程中之作動。依據本發明之某一構想,藉由在相鄰頭之間餘留一加大寬度,將可達成一梳形物。由該第二複數個印刷頭所沉積之第二幅帶可接著完成缺漏區域。以下提及一「梳」或「梳型」時,意欲關聯於複數個相對正頭、及最終沉積之圖樣,其中該等相對正頭之間具有加大間隔。由於一單一頭寬度可導致一簡單且緊密之設備,因此該加大間隔通常為該單一頭寬度者。儘管如此,熟習本項技藝者將可在閱讀以下說明後瞭解到,可結合其他支架設備運用其他間隔。
依據本發明之某一實施例,其中該等第一與第二複數個噴墨頭係相互對正,且每一該等頭各具有一頭長度。在這種情況下,該對正設備可包括介於該等第一與第二複數個噴墨頭之間的一間隔,其可對應於偶數個(n=0,2,4,...)頭長度。在該等頭係呈梳形物而相間隔一單一頭寬度之一簡單情況下,該等第一與第二者可相間隔二頭之長度,即一雙倍間隔。在一其他設備中,可藉使用一雙倍長度之頭來形成該第一幅帶之最後一頭、及該第二幅帶之第一頭二者,來達成一間隔n=0。
在一第二實施例中,該等第一與第二複數個噴墨頭係沿橫向地互相偏置,且該對正設備包括一彎角裝置,其調整成適應於旋轉該等第一與第二複數個噴嘴頭,以進行各別之順向與逆向進程。每一該等第一與第二複數個頭皆配 置成梳形物,且互相相關地交錯。藉由將該等頭旋轉至產生沉積之幅帶角,任何一進程皆無產生重疊之需求。可依相互呈固定之關係固持該等頭,且可藉旋轉該整個支架來產生旋轉。另一選擇為,可依相關於基底之沉積方向的需要、或指定,來旋轉個別頭。
在另一實施例中,該等第一與第二複數個噴墨頭係沿橫向地互相偏置,且該對正設備包括一調整裝置,其調整成適應於,相關於該第二複數個噴墨頭移動該第一複數個噴墨頭,以進行順向及逆向進程。這種運動可為在該支架內之一往復式穿梭運動,其可與該等順向及逆向進程同步化,且亦可與上述之旋轉相結合。該第二位移可由軟體控制、或可譬如藉機械構件等直接連結至該第一橫越設備。
在某些特定實施例中,該支架尚包括其他複數個噴墨頭,調整成適應於沉積相同或一不同物質之其他幅帶。該等者可配置成複數列印刷頭,沿橫越(Y)方向互相相關地堆疊。倘每一列皆沉積相同物質,則可使用額外頭,譬如藉由在交織位置處印刷等,來增加該橫越方向上之印刷清晰度。另一選擇為,每一列皆可沉積一不同物質:在一CMYM頭之情況下,可設置四列頭。如此,請瞭解到,通常每一顏色可由至少二群頭提供。對於一CMYK彩色系統,其需要一總數至少八群之頭。對於一CMY系統,可使用六群。建立具有此類型多重頭之印刷支架,可增大其在橫越方向上之寬度,而需要一較長之橫越、或提供一較窄之有效寬度。
在本文中,可將噴墨頭一詞瞭解為,定義任何可將複 數個小液滴或流體噴口運至,一基底上個別定義之精確位置。該術語意欲包含DoD、壓電、熱、噴泡、電磁閥、CIJ、靜電頭、及微機電(MEMES)系統。依據本發明之系統係與其所使用之特定頭無關,而不論該頭係由譬如XaarTM、Fuji FilmTM、DimatixTM、Hewlett-PackardTM、CanonTM、Epson、或VideojetTM供應皆可。較佳地,該等噴墨頭係呈控制液滴(DoD)式。這種頭因其可靠、及相對較低成本,而為目前最佳者。最佳地,該等印刷頭可提供灰階液滴沉積,且容許譬如以斜紋模式作動時之一附加沉積自由度。以往,已考慮期望依既定之幅帶角作動,以容許在既定矩陣位置處之個別液滴佈置。咸信,該原理可運用至繪圖印刷、及織物精修等二者上,以確保均勻之覆蓋。然而,已發現到,藉由使用適應於控制沉積量及位置之軟體調適,則可避免莫瑞效應(moiré effect)及相似者,而無關於幅帶角。請注意到,該原理可應用至單一支架沉積、及每一幅帶係由一不同支架沉積之系統等二者上。
本發明亦關於一種印刷機,包括一基底輸送裝置,用於沿一輸送方向連續地輸送一基底供應品,及如上述者之一印刷支架,配置成橫越該基底,以在第一及第二互補幅帶中沉積物質。該輸送裝置較佳地係調整成適應於,以至少5公尺/分鐘、較佳地10公尺/分鐘、及更佳地高於20公尺/分鐘之基底速度操作,其中基底寬度係大於1公尺、較佳地大於1.4公尺、及最佳地大於1.6公尺。
該印刷機較佳地亦包括一橫桿,該印刷支架係安裝於其上,以橫越該基底。儘管如此,亦可設想到其他設備, 譬如一橫走式機械手臂。
在一較佳實施例中,該支架可安裝於一橫桿上,該橫桿係形成為,用於移動該印刷支架之一線性馬達的一部份。這種線性馬達設備可確保將支架定位精準度改良至理想程度,且可依一強健方式構成。相較於其他驅動設備,該設備又具有運動更平順、及無振動之優點。
該印刷機尚包括一控制設備,用於使該印刷支架之一橫越速度或位置與該基底之一輸送速度或位置同步,以確保該基底由該物質大致均勻地覆蓋。
該印刷機亦包括一編碼器或其他型式之讀取裝置,其配置成可讀取該基底,且將資訊提供至該控制設備,以導引該物質之沉積。該讀取裝置可藉由跟隨譬如一織物之緯線等,直接讀取該基底之一位置或運動速度。另一選擇為,其可讀取印刷於、或著設於該基底或該輸送裝置上而呈編碼器標記或相似物型式之指示物。亦可根據先前沉積之液滴為基礎,來讀取位置。如此,該支架可在其返回進程上同步化,或著可藉譬如一先前頭所沉積之個別液滴或幅帶邊緣,來導引一接續支架。該基底之讀值可用於導引一個或更多支架之速度或位置。其亦可用於導引,可形成該等頭之個別噴嘴,或著導引一潤色頭之動作。又,儘管譬如雷射光學讀取器可為較佳者,然亦可運用任何容許位置迴授之其他適當讀取器,而並非限於光學、觸知、及機械裝置。
儘管已關於一單一支架來描述本發明,然仍可因某些特定理由而設置額外支架。為了縮短橫越距離(及因此橫越 時間),可設置一對印刷支架,藉此每一該等印刷支架將各橫越該基底寬度之半,來沉積該物質。該等印刷支架二者可在同一橫桿上橫越運動,且每一該等者可在一各別邊緣處進行保養,而在中線處實施接合。另一選擇或額外地,可將其他支架定位於該第一支架上游或下游,以提供同一物質之進一步覆蓋、或沉積不同物質,譬如一圖像或機能係在數個階段中建立者。
在用於沉積至一織物上之又一較佳實施例中,該輸送裝置包括一連附設備,以防止該基底在沉積期間之偏移。這種偏移對於精準沉積非常不利,特別當一接續橫桿或支架將沉積一圖像之另一部份時尤然。已知織物對運動及扭曲非常敏感。適當之連附設備可包括黏著帶、真空、拉幅機、及相似物。然,亦屬於本發明範疇內者為,該方法亦可適用於譬如磁磚、板件、薄片、衣物、或相似物等,可依一連續方式輸送通過該印刷設備之個別物品中。
本發明亦關於一種將一物質沉積至一連續運動基底上之第一及第二橫向幅帶中的方法,該方法包括提供一印刷支架,其包括有一第一複數個噴墨頭、及一第二複數個噴墨頭;使該印刷支架橫向運動,而在一順向進程中橫跨該基底,同時分別由該等第一與第二複數個噴墨頭沉積該等第一與第二幅帶;接著使該印刷支架橫向運動,而在一逆向進程中橫跨該基底,同時分別由該等第一與第二複數個噴墨頭沉積該等第一與第二幅帶;將該等第一與第二複數個印刷頭對正,使該等第一與第二幅帶在順向及逆向進程二者上互補;及重複該等順向及逆向進程,以提供大致全 面之該基底覆蓋。藉由依據本發明連續地操作,可達成至少5公尺/分鐘、較佳地10公尺/分鐘、及更佳地高於20公尺/分鐘之基底速度,且具有大於1公尺、較佳地大於1.4公尺、及最佳地大於1.6公尺之基底寬度。
在本文中,重要地請注意到,大致全面之基底覆蓋意欲指,該支架處理該基底上所有意欲沉積之區域的能力。是以,無需在所有位置皆實施實際沉積。印刷一圖像或圖樣可需要選擇性之沉積,而塗佈一塗層則可需要大致全面之覆蓋。亦並不需要整個基底皆接受均勻覆蓋。是以,仍可在並未意欲沉積物質之邊緣區間處,保持不覆蓋。又,儘管在大多數情況下,沉積將直接於最終基底上實施,然本發明亦意欲涵蓋間接沉積,譬如沉積至一轉印捲軸或介質上,而其接著再施加至基底。
依據本發明之方法較佳地包括,在順向與逆向進程之間,實施噴墨頭之保養。這可在每次進程後,對所有該等支架頭、或僅對某些特定子群實施。可在該頭停止、或迴轉運動期間,實施該保養。
該方法較佳地亦包括,使該印刷支架之一橫越速度或位置,與該基底之一輸送速度或位置同步,以確保該第一幅帶之一順向進程與一接續順向進程相對正。這可基於譬如軟體控制、及編碼器之基底位置迴授等達成。較佳地,該支架係跟從該基底之輸送而運動,使該輸送速度降低時,該支架速度亦隨之降低。如此,幅帶角在任何基底速度下,皆可保持定值,且需求之校準量將可大幅減少。亦可使用機械及軟體實施例,來達成這種同步。
除了控制在一巨觀或幅帶位階上之同步與對正以外,亦可控制該裝置,以提供一微觀或像素位階上之同步與對正,以譬如確保幅帶之間的正確接合。這可包含有使用習知接合軟體,來減少進程之間的對正擾動。亦可包含有譬如使用灰階式噴墨頭,來調整每一液滴所沉積之物質體積量。可藉此減低不同進程上之液滴相互鋪覆時的莫瑞效應(moiré effect)。亦可藉此避免在二不同顏色之液滴以不同次序鋪覆時之色差。更進一步之較佳方法可包含有,使用包括一遞色(dither)功能之軟體,以藉誤差擴散或混合,提供精準之色彩或陰影重製。
在本發明之某些特定實施例中,該第一複數個噴墨頭可在橫越方向上堆疊,及該方法包括,以該橫越方向上依據堆疊程度而降低之一解析度來印刷。在本文中,可將堆疊瞭解為,意指複數個頭配置成,可使個別列噴嘴相互平行、且在橫越(Y)方向上偏置。倘該等噴嘴係印刷相同物質,則其可用於將液滴沉積至基底上、相互交織之位置,藉此每一列皆以最終清晰度之半(或另一約數)操作。
在本方法之某一實施例中,該基底係一織物,且該物質係一墨水或染料,及該方法包括將該染料均勻地施加至大致整個該織物表面上。欲達成其均勻性等同於習知染色製程者之一單色沉積係極端困難。當觀看背景呈素色時,任何些微之接合不準確或噴嘴失效,皆變得極為明顯。藉使用上述之方法,已可達成顯著較佳之結果。
在一織物印刷實施例中,該基底係一織物,且該物質係一墨水或染料。在這種情況下,該方法包括控制該染料 之施加,以在該織物上形成一單色圖像,藉此該圖像之一部份係由該第一幅帶形成,且該圖像之另一部份係由該第二幅帶形成。藉由在同一或不同支架上設置其他複數個彩色頭,將可建立一彩色圖像。
在本發明之一精修實施例中,該基底係一織物且該等頭係精修頭。在這種情況下,該方法包括將一精修組成物施加至該織物。在本文中,可將一精修組成物瞭解為,可改變該織物物理及/或機械特徵之一化學藥品。精修技術意指改良最終產品之特性、及/或增加其特性。在本文中,可藉由選擇性地定義精修,排除包含有沉積僅因材料在400毫微米(nm)與700nm之間波長下的吸收特性而將其施加至基底之該材料沉積、或包含有記錄資訊等的處理,而可將該精修歸類為一種印刷。該精修組成物可為適合於使用選定之沉積設備來進行沉積的任何精修漆。事實上,可依據需求之精修類別,來決定該精修頭之最後選擇。特別地,該精修組成物可選自由抗靜電、抗微生物、抗病毒、抗真菌、藥用、抗皺、阻燃、抗水、抗紫外線、除臭、防水、防污、自潔、黏性、硬化、軟化、彈性增強、顏料固著、導電、半導電、光敏、光伏、發光、光學增白、防縮、操控賦予(handle imparting)、填充與硬化、加重、軟化、抗油、抗污、免污、氈縮、防氈縮、調節、上光、除光、防滑、濕氣輸送、防抽絲、抗土壤微生物、反射、控制釋放、指示、相變化、親水、疏水、感官、耐磨、及潤濕劑組成之群中。
本發明亦關於一種連續基底,該基底具有沉積於其上 之一物質,該物質係沉積為,配置於互補斜紋幅帶中之個別液滴,其中該等液滴具多樣之大小尺寸(灰階)、及/或沉積於該基底上不規則位置處,以提供一大致均勻之覆蓋。在本文中,可將所謂多樣大小尺寸之液滴瞭解為,涵蓋可依數種不同既定體積量產出之液滴。並非意欲涵蓋任何液滴分配裝置固有之易變性。所謂不規則位置係意欲表達,液滴並非配置於既定之垂直與水平對正矩陣位置中。其亦可包含隨機地置於譬如一給定像素區域內等之液滴。在本文中所謂均勻覆蓋意欲關聯於局部之沉積均勻性、即無莫瑞效應(moiré effect)、及明與暗區域。
本發明亦關於一種連續基底,該基底具有沉積於其上之一物質,該物質係沉積為,配置於互補斜紋幅帶中之個別液滴,其中該等幅帶係沿大體上斜紋接合線而互相相關地接合,以調整幅帶對正方面之差異。可使用一般習知之接合方法、及調整成適應於針對一斜紋幅帶操作之適當軟體,來實施該接合。某一較佳原理係確定重疊區接合,藉此,該等頭係機械地安裝成相互重疊。可使用軟體來關閉該等噴嘴,以提供具一半個像素準確度之所需對正。授予Seiko Instrument Inc.之美國專利案第US 4,977,410號係描述一種此型式系統,該案之內容已藉參考方式完全併入本案中。另一較佳之接合係隨機化重疊接合,其中可(機械式地)定義重疊區,且藉此,重疊區中之像素係隨機地分佈,而可由某一印刷頭、或另一個來印刷。這種原理在授予Eastman Kodak Co.之每國專利案第5,450,099號中已有描述,該案之內容已藉參考方式完全併入本案中。
該基底最佳地係一織物。在本文中,術語織物可選擇排除紙張、紙板箱、及二維穩定之其他基底,其中該等其他基底係在一第三維上呈撓性、但在其本身平面內僅可少量變形者。在本文中,一織物可瞭解為,涵蓋由天然或人造之纖維或紗線藉編織、針織、鉤編、編結、壓製、或可將纖維或紗線相互結合之其他者形成之一撓性基底,其中該基底係可在其平面中拉伸、或其他變形者。這種織物可沿明顯大於其寬度之一長度,自一滾軋或相似物供應。本發明可於其上實施之其他基底可包含以紙張或厚紙片為基礎之材料、薄膜材料、箔片、譬如木質外觀美耐皿等積層板、及可允許以一連續方式輸送之任何其他材料。
以下係僅作為範例、且參考圖式所作之本發明某些特定實施例說明。
請參考圖1,其顯示一習知橫向印刷頭系統1,可使用噴墨技術印刷於一基底2上。基底2係沿一方向X輸送通過一橫桿4,該橫桿上安裝有一橫向噴墨印刷頭6,該印刷頭包括多個噴嘴。當作動時,印刷頭6係沿方向Y橫越基底2,且橫越該基底印刷一第一進程8A,該進程具有對應於印刷頭6長度之一寬度。儘管進程8A係顯示為一均勻層,然其實際上係由數千個微小液滴或像素組成。基底2接著將沿順向運動對應於進程8A寬度之一增量,且暫停。印刷頭6接著向回橫越基底2,以產生一第二進程8B。又依相同方式實施進程8C、8D。實際上,可實施本步驟之變 型,其中該等進程可重疊、或其可使用交織及交編,以將某一進程之個別液滴置於另一個之液滴之間。這種系統之缺點在於,該基底係斷斷續續,且難以達成高印刷速度。
圖2係顯示一習知固定陣列印刷頭系統10,其中一基底2係沿一方向X輸送通過一橫桿4,該橫桿上安裝有一固定頭12。固定頭12大致跨越基底2之全寬。在作動情況下,當基底2運動時,將產生印刷,且可在對應於固定頭12寬度之該基底寬度上產生一進程8。儘管該系統10容許基底2連續地運動,然仍需經常停止,以對頭6或個別噴嘴進行預防保養與修理。又,對於一給定印刷頭,僅可對應於該頭之噴嘴間隔,達成一橫向印刷解析度。
圖3係顯示如專利案第WO2009/056641號中所描述之一種印刷一織物基底22用印刷頭設備20透視圖。該裝置之作動對於理解本發明非常有用,且因此將在以下相當詳細地解說。
依據圖3,基底22係由譬如一滾軋、或J型框架、或相似物(未顯示)等一連續供應源供應,且具有一1.6公尺之寬度。呈一輸送帶26型式而環繞數個滾軋元件28驅動之一輸送設備24,係依一連續方式,以大約20公尺/分鐘之一最大操作速度承載基底22沿方向X通過一沉積設備30。為了避免帶26與基底22之間的相對運動,帶26承載數個拉幅銷25,以扣持基底22。熟習本項技藝者將可察知,倘有需求時,可提供包含黏著劑、真空、鉤件、及相似物等其他適當連附設備,以暫時扣持該基底。
沉積設備30包括可跨越基底22之一第一橫桿32及一 第二橫桿34。第一與第二支架36、38係配置成可沿著橫越機構40、42,依一方向Y橫越各別橫桿32、34交互運動。第一及第二支架36、38之運動大體上係藉用於本版式印刷頭支架之適當馬達(未顯示)達成。支架36係承載複數個噴墨頭46。支架38則相似地配置有數個噴墨頭48。該等噴墨係Xaar OmnidotTM760控制液滴式噴墨頭,其具有一360dpi解析度,且能夠使用灰階控制,產生8至40pl之可變液滴量。每一該等頭中之噴嘴皆配置成二列背對背之380個噴嘴。每一支架36、38各具有0.8公尺之一X方向總頭長度。
印刷頭設備20額外地包括一控制器54、及分別用於第一與第二橫桿32、34之數個墨水供應器56、58。墨水供應器56、58可包括各用於每一頭46、48之個別貯器及泵(未顯示)。儘管在本文中係提及墨水,然請瞭解到,該術語可適用於意欲沉積至該基底上之任何物質,且噴墨頭意欲關聯於,適合以一液滴方式施加該物質之任何裝置。在基底22上方,鄰接橫桿32、34設置數個光學編碼器60、62,其功能將說明於後。圖3亦顯示出沉積於基底22上之初次或第一P及二次或第二S幅帶。
以下將參考圖4來說明,呈圖3所描繪型式之一沉積設備30的動作,圖4係顯示由上方觀看沉積設備30之概略視圖,顯現出基底22、第一橫桿32、第二橫桿34、第一支架36、及第二支架38。為了本說明,可考慮支架36、38係結合一單一頭作動,然請瞭解到,倘每一支架上有較多頭作動時,仍可同樣地適用此原理。
可由圖式看出,支架36係當基底22沿方向X運動時,沿方向Y橫越該基底,而沉積一初次或第一幅帶之一順向進程P1。結果,P1係大致呈斜紋,其具有由輸送與橫越運動相對速度所決定之一幅帶角α。在基底22之先前橫越運動中,支架36已沉積進程P2、P3、及P4。進程P1與P2已在重疊區71中重疊。進程P2與P3亦已在區間72中重疊,如同進程P3與P4在重疊區73中重疊者。在圖4所描繪之時間點下,支架38係沿相反於Y之一方向橫越基底22,而沉積二次或第二幅帶之一順向進程S1。在一沿方向Y之一先前橫越運動中,支架38已沉積進程S2,其在重疊區74中與S1部份地重疊。
初次或第一P與二次或第二S幅帶亦在基底22中心,於交叉區75及76中互相交叉。可由圖式看出,初次或第一P與二次或第二S幅帶係配置成,可完全互補。結果,基底22之每一區間,最終將由二幅帶通過:支架36二次;支架38二次;或每一該等支架一次。橫越整個基底之最終沉積,將完美地均勻。
圖5更詳細地揭露,可使順向及逆向進程P1、P2置於具有一寬度w之基底22上的方式。為了清楚表示,已略除沉積設備30之細部設計。已在一沿方向Y順向橫越運動中沉積進程P1。在該橫越期間,基底22係關於支架,沿輸送方向X運動一輸送距離t。支架36接著將越過基底22之邊緣,而在其運動暫停期間,實施離線保養。在該暫停期間,噴墨頭之噴嘴全部發射,且將擦除該頭面板上之殘餘物。支架36迴轉所需之時間大約2秒。在該時間內,基底22 將沿方向X進一步推進一剩餘距離r。藉由選擇t及r,使其與支架36之頭長度l相對應,則同方向後續進程P1、P3之間的間隔將對應於一幅帶之寬度-及假定二支架沉積相同寬度,則亦對應於接續支架38之寬度,這將對應於一幅帶寬度相等於沉積設備30作動循環週期之半的情況。藉由與第一支架36呈相反相位地作動第二支架38,可達成均勻之基底22覆蓋。
依據關於圖4及圖5作說明之實施例,該沉積設備可依不同幅帶角α作動,而以頭長度l相等於輸送距離t與剩餘距離r之和(或其倍數)為其條件。
依據圖6,其描繪依據本發明之一單一支架印刷設備的一第一實施例,其中為了清楚表示,僅顯示出頭及噴嘴之位置。相同之元件符號係指示對應於圖1至圖5者之元件。
印刷支架36包括一第一組46印刷頭46A-D,及一第二組48印刷頭48A-D。每一組46、48中之印刷頭皆如同圖1至圖5中者,為Xaar OmnidotTM760,且各具有一頭長度l。該長度l係該頭可在其上沉積待印刷物質之有效寬度,且無需對應於該頭本身之實體長度。同組內之印刷頭亦與相鄰頭相互間隔相同距離l。由於該支架之作動可將一物質沉積於基底22表面上之幅帶P、S中,猶如已將一梳件拖過該表面一般,因此此後將稱這種印刷頭分佈為一梳形物,圖式中係顯示第一及第二組46、48之順向進程P1、S1。國際專利案第WO2009/056641號中業已說明這種梳形物在製作延伸頭方面之優點。
依據本發明,一對正設備80係設於第一組46與第二 組48印刷頭之間。在圖6之實施例中,該對正設備係對應於距離21之雙倍大小頭間隔。以下將關於圖6更詳細地說明,對正設備80為達到期待結果所使用之方式。
當作動時,可驅動支架36橫越基底22來沉積初次或第一與二次或第二幅帶P、S之P1、S1,藉此,進程P1已由第一組46沉積,且進程S1已由第二組48沉積。可驅動該等頭,而沿該橫越方向以180dpi沉積。如上所述者,相鄰頭46A-D及48A-D之間的間隔,將導致每一幅帶P、S沉積成為一連串等間隔帶、與間隔。為便於說明,將該等進程標示為P1A、P1B、S1D等,其中P1A係由頭46A沉積之初次或第一幅帶P順向進程,且S1D係由頭48D沉積之二次或第二幅帶S順向進程。亦如上述中關於圖4及圖5所述者,藉由關於輸送速度調整橫越速度,可在該基底運動第一組46頭長度所需時間內,實施包含一保養暫停之二次或第二支架橫越運動(即,一完全循環週期)。在圖6之四個頭46A-D情況下,該距離係對應於81,即四頭長度、與四頭間隔。如此,支架36將返回一起始點,而容許其準備次一進程,該進程將與第一進程P1精確地同相位。
藉由將包括有頭48A-D之第二48組與第一頭46相對正,且使其相間隔一距離21,則由第二組48所沉積之二次或第二或第二幅帶S將恆與第一組46所沉積之初次或第一幅帶P精確地反相。這將可確保該二梳或第一形物相對正且交織,及該基底上之某一點皆可由相同或不同頭處理二次。由於該等頭皆可在橫越方向上以180dpi驅動,因此歷經二進程後之解析度將可為360dpi,對應於輸送方向上之 清晰度(在這種情況下係由該頭定義者)。儘管在圖6中,可使用一雙倍頭間隔來對正,然可瞭解到,可使用其他間隔。藉使用一雙倍長度頭來取代頭46D及48A,即可在總支架長度縮減21之情況下,達成相同效果。可關於圖6註明,由於每一頭中各設有二列噴嘴,因此在幅帶邊緣處可出現一模糊陰影。這可藉由關閉每一路徑上之某些特定噴嘴而克服。又,當繪圖印刷時,更偏愛可容許來自二列之液滴相交插的某些特定幅帶角。
圖7中係顯示支架36之一第二實施例,其中頭46A-D係堆疊成二列、在橫越方向上相互偏置。第二組48之頭48A-D亦依相似方式堆疊。如同圖6實施例之情況,頭46A、B間隔一距離l,如同48A、B,46C、D,與48C、D一般。更,依據本發明,呈一雙倍間隔21之一對正構件係設於第一組46與第二組48之間。
使用時,支架36之所有頭皆用於將相同之物質沉積至基底22上之初次或第一及二次或第二幅帶P、S中。在這種情況下,可驅動該等頭沿橫越方向以90dpi之一解析度沉積。該等頭之堆疊,將造成第一進程P1之區域由二頭46A及46C印刷二次,而達成180dpi之一第一進程P1合成清晰度。其他區域則由頭48B及46D印刷二次。由於支架36係在一對角線上印刷,因此進程P1A與P1C僅部份地重疊。這亦適用於第二組48,其中進程S1A與S1C係部份地重疊。
如同圖6之情況,可驅動支架36,返回至與起始位置同相位之一位置。二次或第二或第二幅帶S係與該初次或第一幅帶精確地反相,且因此由頭48A與B所沉積之進程 將與頭46A與B者交織,而由頭48C與D所沉積之進程將與頭46C與D者交織。
當該基底橫向運動時,由於每一組46、48頭之長度在此情況下為41,因此該支架必須以二倍速度運行(假定相同織物寬度及輸送速度),且幅帶角α將相應地較小。頭呈堆疊之事實將可因此縮減支架36之總長度,但需要一相應提高之橫越速度。亦,由於該等頭係呈堆疊,因此該支架將變得較寬,且必須較圖6實施例中者橫越運動更遠,以越過該基底之邊緣。請瞭解到,可堆疊超過二列頭,而每堆疊將具有一相應降低之掃描解析度。對於一四列堆疊,在掃描方向上以45dpi印刷,即足以達成360dpi之總體清晰度。
在圖7之實施例中,頭46A至D可視為一單一組46,可藉沉積一單一物質來產生一初次或第一幅帶P。亦請瞭解到,可使用頭46A、B形成沉積一第一物質用之一第一組,及頭46C、D可用作為沉積一第二物質之一第一組。在每一情況下,頭46A至D將恆由一相應頭48A至D互補,而確保每一沉積物質完全覆蓋。
圖8係顯示依據本發明第三實施例之一支架36,其具有在二組46、48中之另一選擇頭配置。第一組中之頭46A、B、...(僅顯示出首二頭)係配置成具有一頭間隔l之梳形物。頭48A、B、...亦配置成一相似形物,且與第一組46在橫向上偏置一距離m,該距離係作為一對正設備80。可由圖8看出,由頭46B沉積之幅帶P1B,可依角β在頭48A、B之間完美地通過,且可與該等頭所沉積之幅帶S1A、S1B互 補。為了產生上述者,必須將幅帶角α設定為相等於角β=arctanl/m。熟習本項技藝者將可瞭解,由於每一組46、48之間隔皆相等,因此當以相同角度驅動該等組時,該等頭亦可在逆向進程上互補。然而,本實施例僅限於該幅帶角。
在圖9及圖10之第四實施例中,支架36設有一主動對正設備80,其呈介於支架36與橫桿(未顯示)之間的一旋轉連接件81,可在該橫桿上橫向運動。如同先前實施例,對正設備80可確保初次或第一P與二次或第二S幅帶互補。請參考圖9,支架36包括一第一組46印刷頭46A-D、及一第二組48印刷頭48A-D。頭46A-D係依相似於圖6中所示者之方式,以梳形物互相對正,藉此可在相鄰頭之間保持一間隔1。頭48A-D係依一相似方式互相對正。然而,相反於圖6之配置,依據圖9之第一組46係關於第二組48偏置且交錯。
當使用時,支架36係於旋轉連接件81處,關於基底運動方向X旋轉一旋轉角β。可藉由包含馬達、致動器、彈簧、凸輪、連桿、及相似物等任何適當構件(未顯示)來產生旋轉。接著,當基底22沿方向X連續運動時,驅動支架36以沿方向Y橫越該基底。當其運動時,頭46A-D與48A-D可在一順向進程中分別沉積初次或第一與二次或第二幅帶,其中顯示出分別由頭46D與48D沉積之進程P1D與S1D。可控制支架36與基底之相對運動,使得該等進程將依幅帶角α沉積。為了避免第二組48在該順向進程期間關於第一組46落後,旋轉角β係選擇相等於幅帶角α者。可由圖9看出,這將造成進程P1D與S1D相對正,且熟習本 項技藝者將瞭解到,這可適用於初次或第一及二次或第二幅帶之所有個別順向進程。請瞭解到,如此之作動較優地亦可防止一單一頭內各別列噴嘴之間的可能失準。
圖10係描繪支架36在完成橫越基底22之一逆向進程後的位置。針對該逆向進程,支架36已在旋轉連接件81處旋轉達,相反於圖9者之一旋轉角β。該支架之旋轉係於基底22邊緣處離線地進行,且可在該等頭保養期間實施。基於該旋轉,使該等初次或第一與二次或第二幅帶之逆向進程(顯示出其中之S2C、P2D、及S2D)亦可互相對正。為了作完整說明,請注意到,儘管進程P1D、S1D、...、S2D係顯示為具有交錯之起始點與終點者,然並非必須如此。在正常情況下,可驅動頭46A-D、48A-D所承載之個別噴嘴,以在一筆直線或該基底邊緣處開始沉積。
圖11係顯示依據本發明第五實施例之一其他旋轉支架設備,其容許以不同之幅帶角運用圖8之原理。支架36係安裝於一旋轉連接件81上,且承載著相互間隔頭長度l之一第一組46頭46A、B與一第二組48頭48A、B。如圖8中者,頭46A、B與48A、B係以一距離m互相偏置或堆疊,但並未交錯。使用時,驅動支架36以在一順向進程中橫越該基底,而依幅帶角α沉積初次或第一與二次或第二幅帶。旋轉連接件81係轉動達可使順向進程P1A、S1A、P1B、S1B互相接合之一旋轉角。在本實施例中,此為該幅帶相對該支架轉向β=arctanl/m角度且該支架之旋轉角為α+β的位置點。在一逆向進程中,旋轉連接件81將朝相反方向轉動一相似量。熟習本項技藝者亦可瞭解,圖11之支架設備 亦可旋轉達一旋轉量α-β。
在一未顯示出之實施例中,可藉第一組46相關於第二組48所作之線性運動,達成相似於圖9、圖10、及圖11中旋轉之一效果。對於互相相關地堆疊或偏置之二組頭,某一組相關於另一組來回穿梭,將容許調整各別組之領前或落後程度,以適應於配合幅帶角。
在以上圖6至圖11之實施例中,該支架可在每次橫越運動後進行保養。然,請瞭解到,僅需在一完全循環後、或數個循環後實施保養。圖12之實施例中顯示出,配置於一單一橫桿(未顯示)上之二支架36、38一部份。每一支架36、38皆可為,依據前述圖6至圖11實施例中之任一個者。可強制要求支架36、38一同、且各由基底22之某一邊緣橫越至其中間部。如此,每一頭歷經之基底寬度將可有效地減半。一般而言,根據系統之限制,這將容許輸送速度倍增。另一選擇為,可享有包含較低橫越速度、較高清晰度、降低之頭複雜度等優點。
圖13係以較大倍率顯示出織物基底22之一部份,藉此可看出個別液滴。可由圖式看出,該等液滴係沿對角線沉積,且分別呈現四種不同大小92、94、96、及98。在本情況下,該等者代表16pL、24pL、32pL、與40pL之液滴量。任何特定像素位置處之液滴大小皆已隨機地決定。咸信,如此可改善最終沉積之均勻性。
熟習本項技藝者將可充分察知,以上揭露之設備存有許多在運動學上等義者。藉由譬如使用一機械手臂取代一固定橫桿,亦可達成該支架在輸送方向上之運動自由度。 這種具有二自由度之運動,可在該支架與該基底之間,容許其他能夠達成同步之可能性,但仍需要可使該等等第一與第二組、或複數個頭互相對正之相同構件。
是以,已參考以上所討論之某些特定實施例來說明本發明。請瞭解該等實施例可允許各種修飾及其他變型,而不致脫離本發明之精神及範疇。緣是,儘管已說明特定之實施例,然該等者僅為範例,且並非限制本發明之範疇。
1‧‧‧橫向印刷頭系統
2‧‧‧基底
4‧‧‧橫桿
6‧‧‧橫向噴墨印刷頭
8‧‧‧進程
8A‧‧‧第一進程
8B‧‧‧第二進程
8C‧‧‧進程
8D‧‧‧進程
10‧‧‧習知固定陣列印刷頭系統
12‧‧‧固定頭
20‧‧‧印刷頭設備
22‧‧‧織物基底
24‧‧‧輸送設備
25‧‧‧拉幅銷
26‧‧‧輸送帶
28‧‧‧滾軋元件
30‧‧‧沉積設備
32‧‧‧第一橫桿
34‧‧‧第二橫桿
36‧‧‧第一支架
38‧‧‧第二支架
40‧‧‧橫越機構
42‧‧‧橫越機構
46‧‧‧噴墨頭
46A‧‧‧印刷頭
46B‧‧‧印刷頭
46C‧‧‧印刷頭
46D‧‧‧印刷頭
48‧‧‧噴墨頭
48A‧‧‧印刷頭
48B‧‧‧印刷頭
48C‧‧‧印刷頭
48D‧‧‧印刷頭
54‧‧‧控制器
56‧‧‧墨水供應器
58‧‧‧墨水供應器
60‧‧‧光學編碼器
62‧‧‧光學編碼器
71‧‧‧重疊區
72‧‧‧區間
73‧‧‧重疊區
74‧‧‧重疊區
75‧‧‧交叉區
76‧‧‧交叉區
80‧‧‧對正設備
81‧‧‧旋轉連接件
92‧‧‧液滴
94‧‧‧液滴
96‧‧‧液滴
98‧‧‧液滴
P‧‧‧幅帶
P1‧‧‧進程
P2‧‧‧進程
P3‧‧‧進程
P4‧‧‧進程
P1A‧‧‧進程
P1B‧‧‧進程
P1C‧‧‧進程
P1D‧‧‧進程
P2D‧‧‧進程
S‧‧‧幅帶
S1‧‧‧順向進程
S2‧‧‧進程
S1A‧‧‧進程
S1B‧‧‧進程
S1C‧‧‧進程
S1D‧‧‧進程
S2C‧‧‧進程
S2D‧‧‧進程
L‧‧‧頭長度
m‧‧‧距離
r‧‧‧剩餘距離
t‧‧‧輸送距離
w‧‧‧寬度
X‧‧‧輸送方向
Y‧‧‧橫越方向
α‧‧‧幅帶角
β‧‧‧旋轉角
藉由參考以下圖式,可理解本發明之特徵及優點,其中:圖1係一習知橫向印刷設備之示意圖;圖2係一習知固定陣列印刷設備之示意圖;圖3係一斜紋模式印刷設備之示意圖;圖4係圖示出圖3裝置作動原理之示意圖;圖5係顯示依據本發明之沉積的一基底部份示意圖;圖6係依據本發明第一實施例之一印刷支架;圖7係依據本發明第二實施例之一印刷支架;圖8係依據本發明第三實施例之一印刷支架;圖9係依據本發明第四實施例之一印刷支架;圖10係顯示圖9印刷支架之作動;圖11係依據本發明第五具體實施例之一印刷支架;圖12係顯示本發明一雙支架實施例之一部份;及圖13係顯示一基底部份,其上已出現依據本發明之液滴沉積。
22‧‧‧織物基底
36‧‧‧第一支架
38‧‧‧第二支架
40‧‧‧橫越機構
42‧‧‧橫越機構
46‧‧‧第一組印刷頭
46A‧‧‧印刷頭
46B‧‧‧印刷頭
46C‧‧‧印刷頭
46D‧‧‧印刷頭
48‧‧‧第二組印刷頭
48A‧‧‧印刷頭
48B‧‧‧印刷頭
48C‧‧‧印刷頭
48D‧‧‧印刷頭
80‧‧‧對正設備
P‧‧‧幅帶
P1‧‧‧順向進程
P1A‧‧‧進程
P1B‧‧‧進程
P1C‧‧‧進程
P1D‧‧‧進程
P2D‧‧‧進程
S‧‧‧幅帶
S1‧‧‧順向進程
S1A‧‧‧進程
S1B‧‧‧進程
S1C‧‧‧進程
S1D‧‧‧進程
L‧‧‧頭長度
X‧‧‧輸送方向
Y‧‧‧橫越方向

Claims (17)

  1. 一種依斜紋模式在一連續運動基底上印刷之印刷支架(36),該印刷支架包括至少四個噴墨頭,其全部經配置以將相同的物質沈積在該基材上,其中:一第一複數個噴墨頭(46)係經配置成在一第一幅帶(P)之順向及逆向進程中將該物質沉積至該基底上;及一第二複數個噴墨頭(48)係經配置成在一第二幅帶(S)的順向及逆向進程中將該物質沉積至該基底上,一對正設備(80)係設在該第一與該第二複數個噴墨頭之間,使得該第一與該第二幅帶可以直接相對於彼此在不同相位,用以在順向及逆向進程二者中皆彼此互補,並且可以藉著該第一與該第二幅帶的疊加來達成均勻的覆蓋,以使得該基材的每個部分可以被其中一個幅帶覆蓋兩次或是被每個幅帶覆蓋一次。
  2. 根據申請專利範圍第1項之印刷支架,其中每一該第一與該第二複數個噴墨頭皆配置成梳形物。
  3. 根據申請專利範圍第1項之印刷支架,其中該等第一與第二複數個噴墨頭係相互對正,且每一該等頭各具有一頭長度,介於該等第一與第二複數個噴墨頭之間的一間隔係對應於偶數個(n=0,2,4,...)頭長度。
  4. 根據申請專利範圍第1或2項之印刷支架,其中該第一與該第二複數個噴墨頭係沿橫向地互相偏置,且該對正設備設有一彎角裝置(81),其經調整成旋轉該第一與該第二複數個噴嘴頭,以進行各別之順向與逆向進程,或一調整裝置,其經調適以將該第一複數噴嘴頭相對於該第二 複數噴嘴頭移動,以近行順向與逆向進程。
  5. 一種印刷機(20),其包括:一基底輸送裝置(24),用於沿一輸送方向連續地輸送一基底供應品;及根據申請專利範圍第1到4項中任一項所述之印刷支架,配置成可橫越該基底,以在第一及第二互補斜紋幅帶中沉積該物質。
  6. 根據申請專利範圍第5項之印刷機,其包括一橫桿(32),該印刷支架係安裝於該橫桿上,以橫越該基底。
  7. 根據申請專利範圍第6項之印刷機,其中該橫桿包括用於移動該印刷支架之一線性馬達。
  8. 根據申請專利範圍第5到7項中任一項之印刷機,其尚包括一控制設備(54),用於使該印刷支架之一橫越速度或位置與該基底之一輸送速度或位置同步,以確保大致全面之該基底覆蓋。
  9. 一種在一第一及一第二斜紋幅帶中將一物質沉積至一連續運動基底上方法,該方法包括:提供一印刷支架,該印刷支架包括至少四個噴墨頭,其全部經配置以將相同的物質沈積在該基材上,所述至少四個噴墨頭包括一第一複數噴墨頭及一第二複數噴墨頭;使該印刷支架橫向運動,而在一順向進程中橫跨該基底,同時分別由該第一與該第二複數個噴墨頭沉積該第一與該第二斜紋幅帶;接著使該印刷支架橫向運動,而在一逆向進程中橫跨該基底; 將該第一與該第二複數個噴墨頭對正,使等第一與該第二斜紋幅帶可以直接相對於彼此為不同相位,用以在順向及逆向進程二者上皆彼此互補;及重複該順向及該逆向進程,以提供大致全面之該基底覆蓋,藉此該基材的每個部分可以被其中一個幅帶覆蓋兩次或是被每個幅帶覆蓋一次。
  10. 根據申請專利範圍第9項之方法,其中該第一與該第二複數個噴墨頭係藉著旋轉而在該順向進程之一第一角度方位與該逆向進程之一第二角度方位之間對正,或藉著調整而在一用於順向進程的第一相對位置與一用於逆向進程的第二相對位置之間對正。
  11. 根據申請專利範圍第9或10項之方法,其尚包括使該印刷支架之一橫越速度或位置與該基底之一輸送速度或位置同步,以確保該第一幅帶之一順向進程與一接續順向進程相對正。
  12. 根據申請專利範圍第11項之方法,其尚包括使用接合軟體來控制各別幅帶之邊緣區間,以減少進程之間的對正擾動。
  13. 根據申請專利範圍第9或10項之方法,其中該等噴墨頭係屬灰階控制液滴式者,且該方法尚包括調整每一液滴所沉積之物質體積量。
  14. 根據申請專利範圍第9或10項之方法,其包括使用一遞色功能驅動該等噴墨頭,以提供精準之色彩或陰影重製。
  15. 根據申請專利範圍第9或10項之方法,其中該第一複數個噴墨頭係沿該橫越方向堆疊,且該方法包括:以在該橫越方向上對每一該等頭而言皆可依據堆疊程度而降低之一解析度來印刷。
  16. 根據申請專利範圍第9或10項之方法,其中該基底係一織物,及該物質係施加至該織物之一精修組成物。
  17. 根據申請專利範圍第16項之方法,其中該精修組成物可選自由抗靜電、抗微生物、抗病毒、抗真菌、藥用、抗皺、阻燃、抗水、抗紫外線、除臭、防水、防污、自潔、黏性、硬化、軟化、彈性增強、顏料固著、導電、半導電、光敏、光伏、發光、光學增白、防縮、操控賦予、填充與硬化、加重、軟化、抗油、抗污、免污、氈縮、防氈縮、調節、上光、除光、防滑、濕氣輸送、防抽絲、抗土壤微生物、反射、控制釋放、指示、相變化、親水、疏水、感官、耐磨、及潤濕劑組成之群中。
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