TWI541315B - 光學構件用黏著劑組成物及使用該組成物之黏著片、附黏著劑層之光學構件及平面面板顯示器 - Google Patents

光學構件用黏著劑組成物及使用該組成物之黏著片、附黏著劑層之光學構件及平面面板顯示器 Download PDF

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Description

光學構件用黏著劑組成物及使用該組成物之黏著片、附黏著劑層之光學構件及平面面板顯示器
本發明係關於尺寸安定性及濕熱耐久性優異、且可有效防止高溫高濕環境下之漏光或剝離之光學構件用黏著劑組成物及使用該組成物之黏著片、附黏著劑層之光學構件及平面面板顯示器。
隨著顯示器之大型化及LED方式的普及,平面面板顯示器(FPD)領域用之黏著劑對於高畫質/高耐久性等高品質之要求逐漸提昇。
例如分類於FPD之液晶顯示器(LCD)係由液晶面板、背光及周邊電路所形成。該液晶面板係典型地由偏光板、具有透明電極之玻璃基板、濾色片等各層所構成,且採取由前述玻璃基板挾持液晶之構成。
前述偏光板係由不同種材料之多層構造所構成,因各材料有各自不同之物理、化學特性,尤其在高溫、 高濕環境下因收縮或膨潤所造成各層之尺寸變化的程度也不同,且該相異程度大。因此,偏光板整體缺乏尺寸安定性。
接著因該尺寸變化,偏光板整體在以漏光及耐久性為代表之各性能上會產生各種影響。此外,已知依偏光板等之光學薄膜彼此之接著、或玻璃基板與偏光板之接著所使用之黏著劑種類不同,也會對前述漏光及耐久性造成影響。
現狀來說,藉由偏光板種類-黏著劑種類之組合,雖可對應前述漏光及耐久性等各種要求性能,但該要求性能係如前述般,隨著大畫面化、LED方式之普及,也要求所謂高畫質化、高耐久性之更高度化。
在此,前述黏著劑種類係為了解決因偏光板尺寸變化所產生之漏光、高溫高濕環境下之剝離,而著眼於構成黏著劑之聚合物的硬質特性或光學特性等各種特性,為了實現展現良好漏光防止性能與確保高耐久性等而進行檢討中。
例如著眼於硬質特性之黏著劑,即使在濕熱環境下也不易變形且不易產生起泡等,故偏光板收縮時之耐應力性及耐久性優異,容易得到較良好之漏光防止特性及耐久性。但是,若FPD大型化,則在以往尺寸不會造成問題之漏光或些微起泡等也會變得極為顯著,故會造成問題。因此,以往之黏著劑係無法充分對應於如此要求特性之高度化。
如此黏著劑例如專利文獻1揭示之一種黏著劑組成物,含有:由特定(甲基)丙烯酸酯(A-1)、具有芳香環之不飽和單體(A-2)及具有極性官能基之不飽和單體(A-3)共聚合而成之(甲基)丙烯酸系共聚物(A);離子性化合物(B);及交聯劑(C)。
該組成物被使用於例如偏光板之接著,前述(A-1)之例子可舉出丙烯酸正丁酯、前述(A-2)之例子可舉出(甲基)丙烯酸2-苯氧基乙酯、前述(A-3)之例子可舉出丙烯酸或(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯。
此外,專利文獻2揭示一種偏光板,係具有由黏著劑構成之黏著層者,該黏著劑含有:由均聚物之Tg未滿-30℃之(甲基)丙烯酸酯單體(a1)、均聚物之Tg為-30℃以上之具有乙烯基之化合物(a2)及含有特定官能基之單體(a3)構成之(甲基)丙烯酸系共聚物(A);及可形成交聯構造之多官能性化合物(B)。
前述(a1)之例子可舉出丙烯酸正丁酯、前述(a2)之例子可舉出丙烯酸第三丁酯、前述(a3)之例子可舉出(甲基)丙烯酸或(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯。
但是,該等文獻所揭示之黏著劑中,係如前述般無法對應現在要求之高度特性。
[先前技術文獻]
(專利文獻)
專利文獻1:日本特開2010-66755號公報
專利文獻2:日本特開2006-301572號公報
在此,本發明之目的係提供一種光學構件用黏著劑組成物,係尺寸安定性優異、即使在濕熱環境下也會發揮漏光防止性能及耐久性者。
本案發明者們著眼於黏著劑之硬質特性及光學補償機能、以及交聯系,而進行黏著劑組成物之檢討時,發現在聚合物中以特定比例使用賦予柔軟性之單體及用以調節聚合物硬度之單體,將聚合物之硬質特性設定在適當區域,復將以特定比例使用可賦予光學補償機能之單體及可在聚合物中賦予交聯性之單體而得之(甲基)丙烯酸系共聚物,設定在適度之交聯度進行交聯,藉此可提供尺寸安定性及濕熱耐久性優異、在高溫高濕環境下可有效防止漏光及剝離之光學構件用黏著劑組成物。
亦即本發明為一種光學構件用黏著劑組成物,係含有(A)與(B)者:
(A):以下述比例共聚下述(a-1)至(a-4)而得之(甲基)丙烯酸系共聚物;(a-1)均聚物之玻璃轉移溫度為-40℃以下且不具有芳香環之(甲基)丙烯酸酯40至94.9重量%、(a-2)均聚物之玻璃轉移溫度為0℃以上且不具有芳香環之(甲基)丙烯酸酯0.1至50重量%、(a-3)具有芳香環之(甲基)丙烯酸酯0.1至25重量 %、(a-4)具有2種類以上之極性官能基之(甲基)丙烯酸系單體及/或2種以上不同的具有1種類之極性官能基之(甲基)丙烯酸系單體0.1至6重量%;(但(a-2)及(a-3)之合計為5至59.9重量%;前述極性官能基係選自羧基、羥基、胺基、醯胺基及環氧基;(a-1)至(a-4)之合計為100重量%)
(B):相對於前述(甲基)丙烯酸系共聚物(A)100重量份為0.01至3重量份之交聯劑。
前述(甲基)丙烯酸酯(a-2)之共聚比例較佳為10至40重量%。
前述(甲基)丙烯酸酯(a-2)較佳為由(甲基)丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸第三丁酯,(甲基)丙烯酸環己酯及(甲基)丙烯酸異冰片酯所成群組選出之至少1種。
前述(甲基)丙烯酸酯(a-2)較佳為(甲基)丙烯酸第三丁酯。
前述(甲基)丙烯酸酯(a-1)之共聚比例較佳為50至90重量%。
前述(甲基)丙烯酸酯(a-1)較佳為由丙烯酸正丁酯、丙烯酸正戊酯、丙烯酸異戊酯、丙烯酸己酯、丙烯酸庚酯、丙烯酸異戊酯、丙烯酸2-乙基己酯、丙烯酸正辛酯、丙烯酸異辛酯、丙烯酸正壬酯、丙烯酸異壬酯、(甲基)丙烯酸正癸酯、(甲基)丙烯酸異癸酯、甲基丙烯酸正 十二烷酯、(甲基)丙烯酸正十三烷酯、丙烯酸甲氧基乙酯、甲氧基聚乙二醇丙烯酸酯及丙烯酸乙氧基乙氧基乙酯所成群組選出之至少1種。
前述(甲基)丙烯酸酯(a-3)較佳為由(甲基)丙烯酸苄酯、下述通式(1)所示之(甲基)丙烯酸苯氧基乙酯及其衍生物所成群組選出之至少1種。
式(1)中,R0為氫或甲基,R1為(CH2CH2O)n所示之基(n為1至20之整數),m為1至5之整數,R2為氫、碳數1至9之烷基、碳數6至10之芳基或碳數7至11之芳烷基,m為2以上時,複數存在之R2可為相同或相異。
前述(甲基)丙烯酸系單體(a-4)之共聚比例較佳為1至6重量%。
前述光學構件用黏著劑組成物進行以下微潛變試驗時,60℃測定值/23℃測定值之比值較佳為1.05至2.00。
(微潛變試驗)
將前述光學構件用黏著劑組成物塗佈於經剝離處理之聚酯薄膜上並乾燥,製成具有膜厚25μm之黏著劑層之黏著片;將該黏著片與TAC(三醋酸纖維素)-PVA(聚 乙烯醇)-TAC構成之偏光板,以前述黏著劑層與前述偏光板相接之方式貼合,製成評價用黏著加工偏光板;將該評價用黏著加工偏光板切割為寬10mm×長100mm,將前述經剝離處理之聚酯薄膜剝下,在鹼處理玻璃上,以前述黏著劑層相接於前述玻璃之方式、且使貼合面積為10mm×10mm之方式貼合,作為評價用黏著加工偏光板試驗片;對該評價用黏著加工偏光板試驗片進行殺菌釜處理(50℃、5atm),在23℃/50%RH環境下靜置24小時;接著將前述試驗片安置於微潛變測定機之箱室BOX內之固定用夾部分之長度為15mm處;將前述箱室內加熱至測定溫度,在測定溫度靜置40分鐘後,以拉張荷重800g、拉張時間1000秒將前述試驗片之前述評價用黏著加工偏光板,在該平行於偏光板與前述玻璃之接著面且在前述偏光板之長度方向拉張;測定前述試驗片之前述玻璃與偏光板之貼合部分的移位距離(mm)。
本發明之光學構件用黏著劑組成物較佳為復含有相對於前述(甲基)丙烯酸系共聚物(A)100重量份為0.01至0.5重量份之矽烷偶合劑。
此外前述組成物較佳為復含有相對於前述(甲基)丙烯酸系共聚物(A)100重量份為0.01至3重量份之抗靜電劑。
將本發明之光學構件用黏著劑組成物作為黏著劑層的成分使用,可得在基材薄膜上形成黏著劑層之黏著片。
此外,在光學構件之至少一面形成黏著劑層之附黏著劑層之光學構件,其中,前述黏著劑層含有本發明之光學構件用黏著劑組成物者,亦包括在本發明之範圍。
本發明之平面面板顯示器,係具有前述附黏著劑層之光學構件者。
根據本發明可提供尺寸安定性及濕熱耐久性優異、高溫高濕環境下可有效防止漏光及剝離之光學構件用黏著劑組成物,及使用該組成物之黏著片、附黏著劑層之光學構件及FPD。
12‧‧‧接著劑試驗片
14‧‧‧樣品固定用治具
16‧‧‧光源
18‧‧‧狹縫
20‧‧‧檢測器
d‧‧‧距離
第1圖係表示實施例中測定漏光尺寸時,由漏光發生部分的角之距離d的示意圖。
第2圖係表示實施例中光彈性係數之測定方法的示意圖。
以下照順序詳細說明本發明之光學構件用黏著劑組成物(以下簡稱為「本發明之組成物」)及使用該組成物之黏著片、附黏著劑層之光學構件及平面面板顯示器。另外,本說明書中,(甲基)丙烯酸是代表甲基丙烯酸 及丙烯酸,(甲基)丙烯酸酯是代表甲基丙烯酸酯及丙烯酸酯。
[光學構件用黏著劑組成物] 〔(A)(甲基)丙烯酸系共聚物〕
本發明之組成物之構成成分之(甲基)丙烯酸系共聚物(A),係如前述般,以特定比例共聚特定單體成分(a-1)至(a-4)而得。以下說明各單體。
<(a-1)均聚物之玻璃轉移溫度為-40℃以下且不具有芳香環之(甲基)丙烯酸酯>
本發明所使用之(甲基)丙烯酸酯(a-1),其均聚物之玻璃轉移溫度(以下略稱為Tg)為-40℃以下。
本說明書中前述Tg在未特別說明下,係測定Tg之試驗片(均聚物)在N2環境下,在-60℃至180℃之範圍以10℃/分之比例昇溫,以DSC(Rigaku公司製示差掃描熱量計DSC8230)熱量測定而求得。此外測定係根據JISK7121(塑膠之轉移溫度測定方法)而進行。
若僅提高硬質特性,則使本發明之光學構件用黏著劑組成物交聯所得之交聯體會產生黏密感不足等不良,故藉由使用均聚物之Tg為-40℃以下之(甲基)丙烯酸酯(a-1),可賦予(甲基)丙烯酸系共聚物(A)適度柔軟性而取得平衡。
此外,前述(甲基)丙烯酸酯(a-1)不具有芳香環。若存在芳香環則無法賦予(甲基)丙烯酸系共聚物(A)柔軟性,此外與藉由後述(甲基)丙烯酸酯(a-3) 之光學補償機能的調節之平衡也會產生不良。
本說明書中前述芳香環是指具有π電子且原子為環狀排列之構造,其係滿足休克爾規則、前述π電子為非定域化且前述環為平面構造者。
如此之(甲基)丙烯酸酯(a-1),可舉出丙烯酸正丁酯、丙烯酸正戊酯、丙烯酸異戊酯、丙烯酸己酯、丙烯酸庚酯、丙烯酸異戊酯、丙烯酸2-乙基己酯、丙烯酸正辛酯、丙烯酸異辛酯、丙烯酸正壬酯、丙烯酸異壬酯、(甲基)丙烯酸正癸酯、(甲基)丙烯酸異癸酯、甲基丙烯酸正十二烷酯、(甲基)丙烯酸正十三烷酯、丙烯酸甲氧基乙酯、甲氧基聚乙二醇丙烯酸酯及丙烯酸乙氧基乙氧基乙酯等。
該等之中,以獲取硬質特性與柔軟性之平衡且達成優異耐應力性之觀點來看,較佳為丙烯酸正丁酯及丙烯酸2-乙基己酯。
以上說明之(甲基)丙烯酸酯(a-1)可單獨使用1種或組合2種以上使用。
<(a-2)均聚物之玻璃轉移溫度為0℃以上且不具有芳香環之(甲基)丙烯酸酯>
本發明所使用之(甲基)丙烯酸酯(a-2),其均聚物之Tg為0℃以上。如此均聚物的Tg高之(甲基)丙烯酸酯(a-2),係賦予(甲基)丙烯酸系共聚物(A)優異硬質特性,並對本發明之光學構件用黏著劑組成物之高尺寸安定性提供貢獻。
此外,(甲基)丙烯酸酯(a-2)不具有芳香 環。若存在芳香環,則與藉由後述(甲基)丙烯酸酯(a-3)之光學補償機能的調節之平衡也會產生不良。
如此之(甲基)丙烯酸酯(a-2),可舉出(甲基)丙烯酸甲酯、丙烯酸丙基甲酯、丙烯酸正丁基甲酯、丙烯酸異丁基甲酯、(甲基)丙烯酸第三丁酯、(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸異冰片酯及(甲基)丙烯酸硬脂酯等。
該等之中,以達成優異硬質特性之觀點來看,較佳為(甲基)丙烯酸甲酯、丙烯酸異丁基甲酯、(甲基)丙烯酸第三丁酯、(甲基)丙烯酸環己酯及(甲基)丙烯酸異冰片酯,特佳為(甲基)丙烯酸第三丁酯。
以上說明之(甲基)丙烯酸酯(a-2)可單獨使用1種或組合2種以上使用。
<(a-3)具有芳香環之(甲基)丙烯酸酯>
(甲基)丙烯酸酯(a-3)具有芳香環,將由其而來之構造單元含於(甲基)丙烯酸系共聚物(A)中,藉此可適當地控制前述共聚物(A)之光學補償機能。藉此,使用本發明之光學構件用黏著劑組成物接著光學構件,即使在濕熱環境下產生些微漏光,該漏光係藉由前述光學補償機能而被抑制。
如此之(甲基)丙烯酸酯(a-3),可舉出(甲基)丙烯酸苄酯、下述通式(1)所示之(甲基)丙烯酸苯氧基乙酯及其衍生物。
式(1)中,R0為氫或甲基,R1為(CH2CH2O)n所示之基(n為1至20之整數),m為1至5之整數,R2為氫、碳數1至9之烷基、碳數6至10之芳基或碳數7至11之芳烷基,m為2以上時,複數存在之R2可為相同或相異。
通式(1)所示之(甲基)丙烯酸苯氧基乙酯及其衍生物的具體例,可舉出(甲基)丙烯酸苯氧基乙酯、苯氧基二乙二醇(甲基)丙烯酸酯、苯氧基(聚)乙二醇(甲基)丙烯酸酯、壬基酚環氧乙烷加成物(甲基)丙烯酸酯、乙氧基化鄰苯酚(甲基)丙烯酸酯等。
該等之中,以達成優異光學補償機能之觀點來看,較佳為(甲基)丙烯酸苄酯及(甲基)丙烯酸苯氧基乙酯。
以上說明之(甲基)丙烯酸酯(a-3)可單獨使用1種或組合2種以上使用。
<(a-4)具有2種類以上之極性官能基之(甲基)丙烯酸系單體及/或2種以上不同的具有1種類之極性官能基之(甲基)丙烯酸系單體>
本發明所使用之(甲基)丙烯酸系單體(a-4)具有極性官能基,其與後述交聯劑(B)之間產生交聯反應,而達成本發明之光學構件用黏著劑組成物之優異黏著 特性。前述極性官能基係羧基、羥基、胺基、醯胺基及環氧基。該等之中以在濕熱環境之良好耐久性此點來看,較佳為羥基。
此外,(甲基)丙烯酸系單體(a-4)具有2種以上極性官能基,認為藉由存在如此不同之複數種類之極性官能基,而使(甲基)丙烯酸系共聚物(A)間之交聯適當地進行,可達成良好之交聯度。
前述「具有2種以上極性官能基」是指觀察由複數分子構成之(甲基)丙烯酸系單體(a-4)整體時,存在2種以上極性官能基。
因此,(甲基)丙烯酸系單體(a-4)可為1種類之單體,該單體1分子中存在2種類以上之極性官能基;(甲基)丙烯酸系單體(a-4)亦可由2種以上之不同單體構成,該單體各自具有1種類之極性官能基。另外,後者之中,雖為構造不同之2種以上單體但該等所具有之極性官能基相同者,則不包括在內。
(甲基)丙烯酸系共聚物(A)中,單體(a-4)可僅使用單體1分子中存在2種類以上極性官能基之單體;也可不使用如此單體而使用2種以上具有1種類之極性官能基之單體;也可使用該等兩者。
此外,本說明書中,為(甲基)丙烯酸酯(a-1)至(a-3)任一者且為(甲基)丙烯酸系單體(a-4)者,則視為(甲基)丙烯酸系單體(a-4)。
以上說明之具有2種類以上之極性官能基之 (甲基)丙烯酸系單體,可舉出羥基乙基丙烯醯胺及第三丁基丙烯醯胺磺酸等。
此外,以上說明之具有1種類極性官能基之(甲基)丙烯酸系單體,可舉出如以下般之單體。
(i)具有羧基之(甲基)丙烯酸系單體:(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸β-羧基乙酯
(ii)具有羥基之(甲基)丙烯酸系單體:(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸4-羥基丁酯、甘油單(甲基)丙烯酸酯、(聚)乙二醇單(甲基)丙烯酸酯、(聚)丙二醇單(甲基)丙烯酸酯。
(iii)具有胺基之(甲基)丙烯酸系單體:(甲基)丙烯酸胺基乙酯、(甲基)丙烯酸N,N-二甲基胺基乙酯、(甲基)丙烯酸第三丁基胺基乙酯
(iv)具有醯胺基之(甲基)丙烯酸系單體:(甲基)丙烯醯胺、N,N-二甲基(甲基)丙烯醯胺、N-丁基(甲基)丙烯醯胺、N-羥甲基(甲基)丙烯醯胺、N-羥甲基丙烷(甲基)丙烯醯胺。
(v)具有環氧基之(甲基)丙烯酸系單體:(甲基)丙烯酸環氧丙酯、(甲基)丙烯酸4-羥基丁酯環氧丙基醚。
<其他單體>
本發明中,在不損及本發明效果之範圍內,為了調整各種特性,(甲基)丙烯酸系共聚物(A)可含有 上述單體成分(a-1)至(a-4)以外之其他單體由來之構造單元。
如此其他單體之例子,可舉出苯乙烯、α-甲基苯乙烯、乙酸乙烯酯、丙酸乙烯酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸異丁酯、甲基丙烯酸2-乙基己酯、丙烯酸月桂酯等。
<(甲基)丙烯酸系共聚物(A)之製造方法> (各單體之共聚比例)
本發明之光學構件用黏著劑組成物之構成成分之(甲基)丙烯酸系共聚物(A),係藉由以下說明之特定比例共聚以上說明之各單體成分(a-1)至(a-4)及視需要之其他單體而得。
上述(甲基)丙烯酸酯(a-1)在(甲基)丙烯酸系共聚物(A)中之共聚比例,以硬質特性與柔軟性平衡之觀點來看宜為40至94.9重量%,較佳為50至90重量%。
上述(甲基)丙烯酸酯(a-2)在(甲基)丙烯酸系共聚物(A)中之共聚比例,以硬質特性之觀點來看宜為0.1至50重量%,較佳為10至40重量%,更佳為10至25重量%。
上述(甲基)丙烯酸酯(a-3)在(甲基)丙烯酸系共聚物(A)中之共聚比例,以光學補償機能之觀點來看宜為0.1至25重量%,較佳為5至20重量%。
上述(甲基)丙烯酸系單體(a-4)在(甲基)丙烯酸系共聚物(A)中共聚比例,以適當交聯度之觀點 來看宜為0.1至6重量%,較佳為1至6重量%。
另外,各單體成分(a-1)至(a-4)之共聚比例的合計為100重量%。
此外,為了將硬質特性與光學補償機能同時設定在適當區域並有效防止漏光,(甲基)丙烯酸酯(a-2)及(a-3)之共聚比例合計宜為5至59.9重量%,較佳為10至50重量%。
再者,相對於單體(a-1)至(a-4)之合計100重量份,前述其他單體之共聚比例通常為0至5重量份。
((甲基)丙烯酸系共聚物(A)之製造方法)
可以溶液聚合法、塊狀聚合法、乳化聚合法、懸濁聚合法等以往公知之聚合法聚合各單體成分(a-1)至(a-4)及視需要之其他單體,以製造(甲基)丙烯酸系共聚物(A)。該等方法之中,為了容易調整聚合物之分子量、混入反應系之不純物少,較佳為採用溶液聚合法。
溶液聚合法中以有機溶媒作為反應溶媒,在該反應溶媒中溶解或分散形成上述(甲基)丙烯酸系共聚物(A)之各單體成分,並在攪拌下添加聚合起始劑而實施共聚反應。
前述有機溶媒例如可列舉:乙酸乙酯等酯系溶媒;甲基乙基酮、甲醛及乙醛等酮系溶媒;二甲基醚等醚系溶媒;甲苯及二甲苯等芳香族系溶媒;環己烷等脂環族系溶媒;以及己烷及辛烷等脂肪族系溶媒。
該等溶媒可單獨使用1種,也可為2種以上之混合溶媒。
此外,前述聚合起始劑可列舉2,2’-偶氮雙異丁腈(AIBN)、2,2’-偶氮雙(4-甲氧基-2,4-二甲基戊腈)、2,2’-偶氮雙-2,4-二甲基戊腈、1,1’-偶氮雙環己烷-1-甲腈等之偶氮化合物;過氧化異丁醯、α,α’-雙(過氧化新癸醯基)二異丙基苯、過氧化新癸酸異丙苯酯、過氧化二碳酸二正丙酯、過氧化二碳酸二異丙酯、過氧化二碳酸二第二丁酯,過氧化新癸酸1,1,3,3-四甲基丁酯、過氧化二碳酸雙(4-丁基環己基)酯、過氧化苯甲醯(benjoyl peroxide)、過氧化二第三丁基、過氧化月桂醯及己酸第三丁基-氧基-2-乙酯等。該等可單獨或組合使用。
溶液聚合法中,使用該等反應溶媒及聚合起始劑之共聚反應的反應溫度通常為50至90℃,較佳為在60至85℃之範圍內,反應時間通常為1至10小時,較佳為2至8小時,反應壓力通常為常壓至0.5MPa。
<(A)(甲基)丙烯酸系共聚物>
(甲基)丙烯酸系共聚物(A)係使用後述交聯劑(B)使交聯,藉此形成硬質特性及光學補償機能優異之交聯體,若使用本發明之光學構件用黏著劑組成物,則可達成優異尺寸安定性、漏光防止性能及濕熱環境下之耐久性。
前述(甲基)丙烯酸系共聚物(A)藉由GPC測定之重量平均分子量Mw通常為50萬至200萬,較佳為 80萬至180萬,該共聚物(A)係具有優異黏著力。
此外,(甲基)丙烯酸系共聚物(A)較佳為玻璃轉移溫度為0℃以下,更佳為-10℃以下,特佳為-15至-60℃。玻璃轉移溫度高於0℃,則所得黏著劑對於被著體之密著性或黏著劑層之可撓性降低,有由被著體分離或浮翹之情形。另外,(甲基)丙烯酸系共聚物(A)之玻璃轉移溫度,係藉由下述FOX式所算出的值。
(FOX式) 1/Tg=Wa/Tga+Wb/Tgb+…
Tg:(甲基)丙烯酸系共聚物(A)之玻璃轉移溫度
Tga,Tgb,…:單體a,單體b,…之各自均聚物之玻璃轉移溫度
Wa,Wb,…:單體a,單體b,…之源自各個單體之構造單元在(甲基)丙烯酸系共聚物(A)中的重量分率
*(甲基)丙烯酸系單體(a-1)至(a-4)及其他單體,可任意分配為單體a,單體b,…。
前述(甲基)丙烯酸系共聚物(A)可為上述各單體成分之隨機共聚物,也可為嵌段共聚物。
此外本發明中(甲基)丙烯酸系共聚物(A)可單獨使用1種或組合2種以上使用。
〔(B)交聯劑〕
本發明之光學構件用黏著劑組成物,除了以上說明之(甲基)丙烯酸系共聚物(A),亦同時含有交聯 劑(B)。
交聯劑(B)只要是可與(甲基)丙烯酸系共聚物(A)產生交聯反應則無特別限定,但其子可舉出異氰酸酯系交聯劑、金屬螯合物系交聯劑及環氧系交聯劑。
前述異氰酸酯系交聯劑之具體例可列舉:甲苯二異氰酸酯、氯苯二異氰酸酯、六亞甲基二異氰酸酯、四亞甲基二異氰酸酯、異佛爾酮二異氰酸酯、二甲苯二異氰酸酯、二苯基甲烷二異氰酸酯、氫化二苯基甲烷二異氰酸酯等之異氰酸酯單體;將該等異氰酸酯單體加成於三羥甲基丙烷等而成之異氰酸酯化合物;異氰尿酸酯化合物;縮二脲型化合物;復可舉出與公知之聚醚聚醇或聚酯聚醇、丙烯酸聚醇(acryl polyol)、聚丁二烯聚醇、聚異戊二烯聚醇等進行加成反應而成之胺甲酸乙酯預聚物型之異氰酸酯。
前述金屬螯合物系交聯劑可舉出於鋁、鐵、銅、鋅、錫、鈦、鎳、銻、鎂、釩、鉻或鋯等多價金屬配位異丙基醇、乙醯丙酮或乙醯乙酸乙酯等而成之化合物等。
其具體例可舉出異丙醇鋁、二異丙醇雙乙醯丙酮鈦及三乙基乙醯乙酸鋁。
前述環氧基系交聯劑之具體例可列舉:乙二醇環氧丙基醚、聚乙二醇二環氧丙基醚、甘油二環氧丙基醚、甘油三環氧丙基醚、1,3-雙(N,N-二環氧丙基胺基甲基)環己烷、N,N,N’,N’-四環氧丙基-間二甲苯二胺、N,N,N’,N’-四環氧丙基胺基苯基甲烷、三環氧丙基異氰尿 酸酯、間N,N-二環氧丙基胺基苯基環氧丙基醚、N,N-二環氧丙基甲苯胺及N,N-二環氧丙基苯胺。
以上說明之交聯劑(B)可單獨使用1種或組合2種以上使用。
在本發明之光學構件用黏著劑組成物中,相對於(甲基)丙烯酸系共聚物(A)100重量份,含有如此之交聯劑(B)0.01至3重量份。
藉由含有如此一定量之交聯劑(B)而達成適當交聯度,可實現優異黏著性、尺寸安定性、濕熱環境下之漏光防止性能及耐久性。由此觀點來看,前述交聯劑(B)之含有量較佳為相對於(甲基)丙烯酸系共聚物(A)100重量份為0.03至2.5重量份。
〔其他成分〕
本發明之光學構件用黏著劑組成物中,視需要亦可含有矽烷偶合劑、抗靜電劑、抗氧化劑、紫外線吸收劑、著色劑、顏料、染料、增黏樹脂、表面潤滑劑、調平劑(leveling agent)、軟化劑、抗老化劑、光安定劑、光起始劑、阻聚劑、填充劑、有機粒子、無機粒子或塑化劑等其他成分。此外,本發明之組成物可含有製造(甲基)丙烯酸系共聚物(A)所使用之溶媒以外之其他溶媒。以下說明前述矽烷偶合劑及抗靜電劑。
<矽烷偶合劑>
前述矽烷偶合劑可列舉:乙烯三甲氧基矽烷、乙烯三乙氧基矽烷及甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽 烷等含有聚合性不飽和基之矽化合物;3-環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基甲基二甲氧基矽烷及2-(3,4-環氧環己基)乙基三甲氧基矽烷等具有環氧構造之矽化合物;3-胺基丙基三甲氧基矽烷、N-(2-胺基乙基)3-胺基丙基三甲氧基矽烷及N-(2-胺基乙基)-3-胺基丙基甲基二甲氧基矽烷等含有胺基之矽化合物;及3-氯丙基三甲氧基矽烷;寡聚物型矽烷偶合劑等。
該等之中,若使用具有與(甲基)丙烯酸系共聚物(A)中所含官能基反應之官能基的矽烷偶合劑,則由在濕熱環境下不易產生分離之點而言係較佳。
本發明之光學構件用黏著劑組成物中,相對於(甲基)丙烯酸系共聚物(A)100重量份,矽烷偶合劑之摻配量通常為0.01至0.5重量份,較佳為0.05至0.3重量份。
<抗靜電劑>
為了降低本發明之光學構件用黏著劑組成物之表面電阻值而使用抗靜電劑。本發明中可使用公知之抗靜電劑,該抗靜電劑大致上可區分為(i)界面活性劑、(ii)離子性化合物及(iii)導電性聚合物。
(i)前述界面活性劑可使用如以下者。4級銨鹽類、醯胺基4級銨鹽類、吡啶鎓鹽類、第1級至第3級胺基等具有陽離子性基之陽離子性界面活性劑;具有磺酸鹽基、硫酸酯鹽基、磷酸酯鹽基等陰離子性基之陰離子性界面活性劑; 烷基甜菜鹼類、烷基咪唑甜菜鹼類、氧化烷基胺類、胺基酸硫酸酯類等兩性界面活性劑;甘油脂肪酸酯類、山梨醇脂肪酸酯類、聚氧乙烯烷基胺類、聚氧乙烯烷基胺脂肪酸酯類、N-羥基乙基-N-2-羥基烷基胺類、烷基二乙醇醯胺基類等非離子性界面活性劑。
此外,界面活性劑亦可舉出具有聚合性基之反應型乳化劑,亦可使用將含有上述界面活性劑或反應性乳化劑之單體成分高分子量化而成的聚合物系界面活性劑。
(ii)前述離子性化合物係由陽離子部與陰離子部構成,在室溫下(23℃ 50%RH)可為固體狀或液體狀。
前述陽離子部可為無機系陽離子或有機系陽離子之任一者或是兩者。
前述無機系陽離子較佳為鹼金屬離子及鹼土金屬離子,更佳為帶電防止性優異之Li+、Na+及K+
前述有機系陽離子可列舉:吡啶陽離子、哌啶陽離子、吡咯啶系陽離子、吡咯啉陽離子、吡咯陽離子、咪唑陽離子、四氫嘧啶陽離子、二氫嘧啶陽離子、吡唑陽離子、二氫化吡唑陽離子、四烷基銨陽離子、三烷基鋶陽離子、四烷基鏻陽離子及該等之衍生物等。
另一方面,構成離子性化合物之陰離子部份只要是可與前述陽離子進行離子鍵結而形成離子性化合物 者即無特別限制。具體而言可列舉:F-、Cl-、Br-、I-、AlCl4 -、Al2Cl7 -、BF4 -、PF6 -、SCN-、ClO4 -、NO3 -、CH3COO-、CF3COO-、CH3SO3 -、CF3SO3-、(CF3SO2)2N-、(F2SO2)2N-、(CF3SO2)3C-、AsF6 -、SbF6 -、NbF6 -、TaF6 -、F(HF)n-、(CN)2N-、C4F9SO3 -、(C2F5SO2)2N-、C3F7COO-及(CF3SO2)(CF3CO)N-等。該等之中,含氟原子之陰離子因可提供低融點之離子性化合物故較佳,更佳為(F2SO2)2N-及(CF3SO2)2N-
作為本發明中之抗靜電劑所使用之離子性化合物,較佳為雙(三氟甲烷磺醯基)亞胺化鋰、雙(二氟磺醯基)亞胺化鋰、鋰三(三氟甲烷磺醯基)甲烷、雙(三氟甲烷磺醯基)亞胺化鉀、雙(二氟磺醯基)亞胺化鉀、六氟磷酸1-乙基吡啶鎓、六氟磷酸1-丁基吡啶鎓、六氟磷酸1-己基-4-甲基吡啶鎓、六氟磷酸1-辛基-4-甲基吡啶鎓、1-辛基-4-甲基吡啶鎓雙(氟磺醯基)亞胺、四氟硼酸(N,N-二乙基-N-甲基-N-(2-甲氧基乙基)銨、N,N-二乙基-N-甲基-N-(2-甲氧基乙基)銨雙(三氟甲烷磺醯基)亞胺、氟鋶亞胺1-辛基吡啶鎓、1-辛基3-甲基吡啶鎓及三氟鋶亞胺等。
(iii)上述導電性聚合物可舉出聚噻吩、聚苯胺、聚吡咯及該等之衍生物等。
本發明之光學構件用黏著劑組成物中,相對於(甲基)丙烯酸系共聚物(A)100重量份,抗靜電劑之摻配量通常為0.01至3重量份,較佳為0.05至2.5重量份。
〔光學構件用黏著劑組成物〕
本發明之光學構件用黏著劑組成物,係以以 上說明之(甲基)丙烯酸系共聚物(A)及交聯劑(B)為必須成分,並可任意地含有上述其他成分等。
接著,前述(甲基)丙烯酸系共聚物(A)中,(甲基)丙烯酸酯(a-2)及(a-3)係以特定比例共聚,藉此而兼具優異硬質特性及光學補償機能,且(甲基)丙烯酸酯(a-1)也一起共聚,故不僅單純地強化硬質特性,也可在(甲基)丙烯酸系共聚物(A)導入適度柔軟性,藉此而達成優異尺寸安定性。
再者,(甲基)丙烯酸系共聚物(A)中係共聚有(甲基)丙烯酸系單體(a-4),因其與一定量摻配之交聯劑(B)產生交聯反應,故產生適度之交聯,而實現優異黏著性、濕熱環境下之優異尺寸安定性及耐久性。
本發明之組成物因在濕熱環境下之尺寸安定性及耐久性優異,故即使置於濕熱環境中變形也非常少,此外也不容易引起起泡等使製品價值下降之現象。
例如使用本發明之組成物並以下說明條件進行微潛變試驗時,在60℃實施之測定值與在23℃實施之測定值的比值(60℃測定值/23℃測定值),通常為1.05至2.00,較佳為1.05至1.95。
‧微潛變試驗
將本發明之光學構件用黏著劑組成物塗佈在經剝離處理之聚酯薄膜上並乾燥,製成具有膜厚25μm之黏著劑層之黏著片。
將該黏著片與TAC(三醋酸纖維素)-PVA(聚 乙烯醇)-TAC之層構成之偏光板(平面偏光板),以前述黏著劑層相接於前述偏光板之方式貼合,製成評價用黏著加工偏光板。
將製成之評價用黏著加工偏光板切成寬10mm×長100mm,剝下前述經剝離處理之聚酯薄膜,在鹼處理玻璃上以黏著劑層相接於前述玻璃、且貼合面積為10mm×10mm之方式貼合。
然後,對於與前述玻璃貼合之評價用黏著加工偏光板進行殺菌釜處理(50℃、5atm),在23℃/50%RH環境下靜置24小時,並將其作為微潛變試驗用試料。
將前述試驗用試料安置於微潛變測定機之箱室內之固定用夾部分之長度15mm處,並將箱室內加熱至測定溫度(23℃或60℃)。在測定溫度靜置40分鐘後,以拉張荷重800g、拉張時間1000秒將前述試驗用試料之前述評價用黏著加工偏光板,在該平行於該偏光板與前述玻璃之接著面且在前述偏光板之長方向拉張。
進行拉張後測定玻璃與偏光板貼合部分之移位距離(mm),作為微潛變試驗結果(測定值)。
微潛變試驗中23℃測定值通常為0.05至1.00mm,較佳為0.08至0.50mm,更佳為0.10至0.30mm,微潛變試驗中60℃測定值較佳為0.15至1.00mm,更佳為0.15至0.50mm。
亦即,本發明之組成物在濕熱環境下也不易產生變形而尺寸安定性優異,此外因溫度變化造成之變形 程度係幾乎不變化。
該等微潛變試驗中測定值主要規定於本發明之組成物之硬質特性,藉由調整該特性而測定值也會改變。一般而言,若提高硬質特性,亦即提高(甲基)丙烯酸系共聚物(A)中的(甲基)丙烯酸酯(a-2)之共聚比例、提高具有極性官能基之(甲基)丙烯酸系單體(a-4)之共聚比例、增大交聯劑(B)之使用量,則前述測定值有變小的傾向。此外,若降低(甲基)丙烯酸系共聚物(A)中的(甲基)丙烯酸酯(a-2)之共聚比例、降低具有極性官能基之(甲基)丙烯酸系單體(a-4)之共聚比例、減少交聯劑(B)之使用量,則前述測定值有變大的傾向。
因如此在濕熱環境中之變形非常少,故與本發明之組成物貼合之光學構件在濕熱環境下呈現收縮、浮翹、扭曲等變形時展現耐應力性,而可良好地防止如此之變形。
結果也可良好地防止因前述變形引起之漏光。接著,即使無法完全防止漏光,藉由源自上述(甲基)丙烯酸系共聚物(A)之光學補償機能也能抑制些微之漏光。
[黏著片]
使用本發明之光學構件用黏著劑組成物作為黏著劑時,若在基材薄膜上形成黏著劑層作為黏著片,則操作簡單且便利。
若考慮將前述黏著片使用於平面面板顯示 器之製造工程時等之操作性,則前述基材薄膜較佳為剝離薄膜,該材質例如可舉出聚酯、聚烯烴、聚醚。
例如在基材薄膜上塗佈含有本發明之光學構件用黏著劑組成物之塗佈液並乾燥,使含有塗佈液之溶媒等氣化形成所求厚度之黏著劑層,藉此可製作本發明之黏著片。前述黏著劑層之厚度並無特別限定,較佳為在5至100μm之範圍,更佳為在10至50μm之範圍。該黏著劑層之厚度若未滿5μm則有無法發揮所求性能(濕熱耐久性等)之情形,若超過100μm,則裁切黏著片時容易產生黏著劑溢出之加工性降低之情形。
此外,本發明之黏著片中,前述黏著劑層未與前述基材薄膜面相接的面係以剝離薄膜被覆,並可在使用時剝離前述剝離薄膜。
[附黏著劑層之光學構件]
將含有本發明之光學構件用黏著劑組成物之黏著劑層形成在光學構件之至少一面上,藉此可得在前述濕熱環境下也達成優異漏光防止性能及耐久性之附黏著劑層之光學構件。
本發明中光學構件並無特別限定,可舉出適合使用於平面面板顯示器之光學薄膜,例如偏光板、位相差板、橢圓偏光板、光學補償薄膜、輝度提昇薄膜、抗紅外線/電磁波薄膜、前面用抗反射薄膜、表面保護薄膜、以及積層該等者等。
接著,該等中尤其是偏光板在濕熱環境下其 構成層之變形程度互異,故會產生光學扭曲或物理扭曲而發生多重曲折。該多重曲折是產生漏光之原因而成為一大問題。本發明之組成物在硬質特性上會抑制偏光板之變形,可阻止光學扭曲產生而可抑制漏光,且抑制分離等耐久性亦優異。此外,即使產生些微光學扭曲也可藉由光學補償機能而抑制漏光,由此點來看係適合於與偏光板及玻璃基板貼合之用途。
此外,以藉由硬質特性抑制偏光板之變形此點來看,本發明之組成物可適用於比較大尺寸之TV用途之液晶面板。尤其適合於VA模式用液晶面板所使用偏光板與玻璃基板貼合之用途。
<附黏著劑層之光學構件之製作方法>
附黏著劑層之光學構件例如藉由以下(1)至(3)之方法製作。
(1)將含有本發明之光學構件用黏著劑組成物之塗佈液以公知方法(模具式塗佈法、刀式塗布法等)塗佈於剝離薄膜之剝離層,藉由熱乾燥使塗佈液所含溶媒等氣化,形成具有所求厚度之黏著劑層,再與光學構件貼合。
(2)將含有本發明之光學構件用黏著劑組成物之塗佈液以公知方法(模具式塗佈法、刀式塗布法等)塗佈於光學構件,藉由熱乾燥使塗佈液所含溶媒等氣化,形成具有所求厚度之黏著劑層,再與剝離薄膜之剝離層貼合。
(3)將含有本發明之光學構件用黏著劑組成物之塗佈液以公知方法(模具式塗佈法、刀式塗布法等)塗佈於第1剝離薄膜之剝離層,藉由熱乾燥使塗佈液所含溶媒等氣化,形成具有所求厚度之黏著劑層,再與第2剝離薄膜之剝離層(通常剝離力低於第1剝離薄膜)貼合,製成無載體黏著薄膜。其後剝下第2剝離薄膜再與光學構件貼合。
本發明之光學構件用黏著劑組成物係在上述黏著劑層形成後於室溫下(23℃ 50%RH)進行交聯3至7日、或在加熱促進條件下(40℃,90%RH)進行交聯2至5日左右,即可貼於後述平面面板顯示器之構成層。
此外,所得附黏著劑層之光學構件中黏著劑層的厚度無特別限定,較佳為5至100μm之範圍,更佳為在10至50μm之範圍。該黏著劑層之厚度若未滿5μm,有無法發揮所求性能(濕熱耐久性等)之情形,若超過100μm,則裁切附黏著劑層之光學構件時容易產生黏著劑溢出之加工性降低之情形。
再者,在FPD之製造中使用本發明之組成物時,係形成由該組成物構成之黏著劑層作為FPD之構成層。黏著劑層含有具備光學補償機能之(甲基)丙烯酸系共聚物(A)之交聯體,前述黏著劑層之光彈性係數較佳為-320至0(×10-12m2/N)。光彈性係數之測定方法係於[實施例]項中說明。
[平面面板顯示器]
至少使用1片本發明之附黏著劑層之光學構件而可製造平面面板顯示器,如此般製造之FPD也包括於本發明之範圍。
FPD可舉出液晶顯示器(LCD)、電漿顯示器(PDP)及電場發射型顯示器(FED)等。
LCD一般構成具有以下積層體之構造:液晶層藉由具有透明電極之玻璃基板挾持,在該玻璃基板與液晶層之間設置配向膜或濾色片,復在玻璃基板之與接近液晶層的面相反之面上設置偏光板。
PDP一般構成具有以下積層體之構造:在相對向之玻璃基板間存在有螢光體層,在前述玻璃基板之接近前述螢光體層的面上設置各種導電體層或電極及其他機能層。
FED一般構成具有以下積層體之構造:玻璃基板、形成於該基板上之陽極電極(anode)、形成在該電極上之螢光體層、真空空間、及隔著該空間對向螢光體層設有陰極電極(cathode)之玻璃基板。
本發明之附黏著劑層之光學構件係構成該等FPD之構成層的一部份。此外,使用本發明之黏著片,可依序積層FPD之構成層之至少一部份。
(實施例)
以下藉由實施例詳細說明本發明。
<實施例1至13及比較例1至8所使用之丙烯酸系共聚物之製造例>
在具有攪拌機、迴流冷卻器、溫度計及氮導入管之反應裝置中,以表1至3所示之摻配比率(重量份)加入下述表1至3所示之丙烯酸酯(a-1)至(a-3)及丙烯酸系單體(a-4),接著加入乙酸乙酯,其摻配量係使單體濃度成為50Wt%。
接著,相對於丙烯酸酯(a-1)至(a-3)及丙烯酸系單體(a-4)之合計100重量份,加入2,2’-偶氮雙異丁腈0.1重量份,一邊以氮氣取代反應裝置內之空氮一邊進行攪拌並升溫至60℃後,在壓力1atm下反應4小時。反應結束後,以乙酸乙酯稀釋所得丙烯酸系共聚物,而得丙烯酸系共聚物溶液。
<評價用黏著加工偏光板之製作>
使用藉由製造例所得之丙烯酸系共聚物溶液,以下述表1至3之摻配量添加各成分,而得黏著劑組成物之溶液。將該黏著劑組成物之溶液塗佈於經剝離處理之聚酯薄膜之表面並乾燥,藉此得到具有厚度25μm之黏著劑層之黏著片。將該黏著片貼付於TAC-PVA-TAC之層構成之偏光薄膜的一面後,在23℃/50%RH暗處之條件下熟成7天,而得評價用黏著加工偏光板。
對各評價用黏著加工偏光板進行下述表1至3所示微潛變、漏光、浮翹、起泡、裂縫、剝離之評價。
*表1至3中之簡稱等內容如下。
BA:丙烯酸正丁酯
t-BA:丙烯酸第三丁酯
POA:丙烯酸苯氧基乙酯
HEA:丙烯酸2-羥基乙酯
MA:丙烯酸甲酯
CHA:丙烯酸環己酯
IBOA:丙烯酸異冰片酯
AA:丙烯酸
TD:XDI系異氰酸酯化合物(TD-75:綜研化學公司製)
L:TDI加成物型異氰酸酯化合物(CORONATE L:日本聚胺甲酸乙酯公司製)
KBM-403:3-環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷(信越化學工業公司製)
抗靜電劑:1-辛基-4-甲基吡啶‧雙(氟磺醯基)醯亞胺
[Tg測定]
用以下方式測定表1至3所示之各種丙烯酸單體(a-1)至(a-3)之均聚物的Tg。
溶液聚合中係準備下述表4所示各種均聚物,並作為試驗片。
將試驗片在N2環境下,在-60℃至180℃之範圍中以10℃/分之比例昇溫,根據JISK7121(塑膠之轉移溫度之測定方法)而以DSC(Rigaku公司製示差掃描熱量計DSC8230)測定熱量。
[Mw、PDI之測定]
根據下述GPC測定條件測定實施例及比較例所調製之丙烯酸系共聚物之重量平均分子量(Mw)、數平均分子量(Mn),求得聚合物分散指数(PDI=Mw/Mn)。
<GPC測定條件>
測定裝置:HLC-8120GPC(TOSOH公司製)
GPC管柱構成:以下5隻管柱串連(皆為TOSOH公司製)
(1)TSK-GEL HXL-H(保護管柱)
(2)TSK-GEL G7000HXL
(3)TSK-GEL GMHXL
(4)TSK-GEL GMHXL
(5)TSK-GEL G2500HXL
樣品濃度:以四氫呋喃稀釋成為1.0mg/cm3
移動相溶媒:四氫呋喃
流量:1mL/min
管柱溫度:40℃
[各評價方法]
用以下所示方法進行表1至3所示之各種評價。
<微潛變>
切成寬10mm×長100mm,並將已剝下經剝離處理之聚酯薄膜之評價用黏著加工偏光板,在鹼處理玻璃上以黏著劑層相接於前述玻璃且貼合面積為10mm×10mm之方式貼合,進行殺菌釜處理(50℃、5atm)後在23℃/50%RH環境下靜置24小時。將其作為微潛變試驗用試料。將試驗用試料安置於微潛變測定機(英弘精機股份有限公司製、機種名:TA.TX.PLUS)之箱室內之固定用夾部分之長15mm處而進行。
將箱室內加熱至測定溫度,並在測定溫度靜置40分鐘後,以拉張荷重800g、拉張時間1000秒將前述試驗用試料之前述評價用黏著加工偏光板,在平行於該偏光板與前述玻璃之接著面且在前述偏光板之長方向拉張。確認(測定)拉張後前述玻璃與偏光板之貼合部分之移位距離(mm)作為微潛變試驗結果。
<漏光>
在尺寸為19吋之VA型液晶面板(由I‧O DATA公司製、型式:LCD-A191EW所取出者),將已剝下經剝離處理之聚酯薄膜之評價用黏著加工偏光板,以黏著 劑層相接於前述液晶面板、且前述評價用黏著加工偏光板與前述液晶面板為正交偏光(crossed-Nicol)之方式貼合,在80℃環境下放置240小時後,在23℃/50%RH環境下放置2小時。
然後,將貼合前述偏光板之VA型液晶面板在暗室中連接於電腦且設定為全畫面黑顯示。對該全畫面黑顯示之顯示器監視器使用輝度計(Hi-Land公司製RISA-COLOR/CD8)測定各角落附近之直徑1cm區域中之輝度(La、Lb、Lc、Ld)及監視器中央部分直徑1cm之區域中之輝度(Lcenter),並藉由下式求得漏光性(△L)。△L越小表示(由背光之)漏光愈少,通常未滿2.0則可使用作為液晶顯示用面板。
△L=(La+Lb+Lc+Ld)/4-Lcenter
漏光尺寸係在上述全畫面黑顯示之狀態下,以目視確認發生漏光部分,如第1圖般測定由發生漏光部分的角之距離d。若距離為30mm以下則可使用作為液晶表示用面板。
另外,有關比較例1及3至6,在80℃環境下放置240小時後確認顯示器監視器時,係產生起泡、剝離等源自黏著劑層之外觀不良,而無法測定漏光試驗。
<濕熱耐久性>
將已剝下經剝離處理之聚酯薄膜之評價用黏著加工偏光板裁切為尺寸15吋(233mm×309mm),在厚度0.5mm之無鹼玻璃板的一面,以使黏著劑層與前述玻璃 板相接之方式使用層合輥使貼合。貼合後於殺菌釜(栗原製作所製)以0.5MPa、50℃、20分鐘之條件加壓處理而獲得試驗用板。
將如此所得之試驗用板在60℃/90%RH之條件下放置500小時。試驗結束後由試驗環境取出試驗用板,在23℃/50%RH環境下靜置2小時後,以目視觀察黏著劑層之起泡、剝離、裂縫並以下述評價基準進行評價。
起泡-尺寸)
○:完全未見起泡
△:起泡直徑為1mm以下
×:起泡直徑大於1mm
起泡-產生量)
○:完全未見起泡
△:起泡個數為10個以下
×:起泡個數多於10個
裂縫、剝離-尺寸)
○:完全未見浮翹、剝離
△:浮翹、剝離之面積相對於試驗用板中貼合部分整體(100%)為未滿5%
×:浮翹、剝離之面積相對於試驗用板中貼合部分整體(100%)為5%以上
裂縫、剝離-位置)
○:完全無缺陷(浮翹、剝離)
△:僅於由端部起未滿0.5mm之位置有缺陷
×:在由端部起0.5mm以上之位置有缺陷。
另外,裂縫、剝離-位置之評價中,「端部」是指由產生裂縫、剝離之位置下移垂線至試驗用板各邊時,最短的垂線與試驗用板的邊之交點。
此外,有關比較例5及6,在60℃/90%RH之條件下放置500小時後確認試驗用板時,產生大量源自黏著劑層之浮翹、起泡,故無法評價裂縫、剝離。
<光彈性係數測定>
如以下般準備15mm×50mm×1mm厚度之黏著劑試驗片作為測定用試料。
在製造例所得之丙烯酸系共聚物溶液中以表1至3所示比例添加交聯劑、矽烷偶合劑及抗靜電劑,作為黏著劑組成物溶液。將該黏著劑組成物溶液以乾燥後厚度為1mm之方式塗佈於經剝離處理之PET膜上並乾燥。乾燥後裁切為15mm×50mm而得黏著劑試驗片12,以此作為測定用試料。
將測定用試料安置於測定用裝置(日本分光股份有限公司製分光Ellipsometer M-220),在23℃環境下進行測定。
第2圖中,將對X方向進行試料之拉張時所 產生的應力控制在0至0.15N之範圍,測定每個應力之波長-穿透光之位相差的關係(*1)。由(*1)之波長600nm之穿透光的位相差,將位相差-應力之關係繪點求其斜率。再依斜率=(-1)×光彈性係數(10-12m2/N)之關係求得光彈性係數。
d‧‧‧距離

Claims (14)

  1. 一種光學構件用黏著劑組成物,係含有(A)與(B)者:(A):以下述比例共聚下述(a-1)至(a-4)而得之(甲基)丙烯酸系共聚物;(a-1)均聚物之玻璃轉移溫度為-40℃以下且不具有芳香環之(甲基)丙烯酸酯40至94.9重量%、(a-2)均聚物之玻璃轉移溫度為0℃以上且不具有芳香環之(甲基)丙烯酸酯0.1至50重量%、(a-3)具有芳香環之(甲基)丙烯酸酯0.1至25重量%、(a-4)具有2種類以上之極性官能基之(甲基)丙烯酸系單體及/或2種以上不同的具有1種類之極性官能基之(甲基)丙烯酸系單體0.1至6重量%;但(a-2)及(a-3)之合計為5至59.9重量%;前述極性官能基係選自羧基、羥基、胺基、醯胺基(amide)及環氧基;(a-1)至(a-4)之合計為100重量%;(B):相對於前述(甲基)丙烯酸系共聚物(A)100重量份為0.01至3重量份之交聯劑。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之光學構件用黏著劑組成物,其中,前述(甲基)丙烯酸酯(a-2)之共聚比例為10至40重量%。
  3. 如申請專利範圍第1項或第2項所述之光學構件用黏 著劑組成物,其中,前述(甲基)丙烯酸酯(a-2)係由(甲基)丙烯酸甲酯,甲基丙烯酸異丁酯,(甲基)丙烯酸第三丁酯,(甲基)丙烯酸環己酯及(甲基)丙烯酸異冰片酯所成群組選出之至少1種。
  4. 如申請專利範圍第3項所述之光學構件用黏著劑組成物,其中,前述(甲基)丙烯酸酯(a-2)為(甲基)丙烯酸第三丁酯。
  5. 如申請專利範圍第4項所述之光學構件用黏著劑組成物,其中,前述(甲基)丙烯酸酯(a-1)之共聚比例為50至90重量%。
  6. 如申請專利範圍第5項所述之光學構件用黏著劑組成物,其中,前述(甲基)丙烯酸酯(a-1)係由丙烯酸正丁酯,丙烯酸正戊酯,丙烯酸異戊酯(isopentyl acrylate),丙烯酸己酯,丙烯酸庚酯,丙烯酸異戊酯(isoamyl acrylate),丙烯酸2-乙基己酯,丙烯酸正辛酯,丙烯酸異辛酯,丙烯酸正壬酯,丙烯酸異壬酯,(甲基)丙烯酸正癸酯,(甲基)丙烯酸異癸酯,甲基丙烯酸正十二烷酯,(甲基)丙烯酸正十三烷酯,丙烯酸甲氧基乙酯,甲氧基聚乙二醇丙烯酸酯及丙烯酸乙氧基乙氧基乙酯所成群組選出之至少1種。
  7. 如申請專利範圍第6項所述之光學構件用黏著劑組成物,其中,前述(甲基)丙烯酸酯(a-3)係由(甲基)丙烯酸苄酯,下述通式(1)所示之(甲基)丙烯酸苯氧基乙酯及其衍生物所成群組選出之至少1種: (式(1)中,R0為氫或甲基,R1為(CH2CH2O)n所示之基(n為1至20之整數),m為1至5之整數,R2為氫、碳數1至9之烷基、碳數6至10之芳基或碳數7至11之芳烷基,m為2以上時,複數存在之R2可為相同或相異)。
  8. 如申請專利範圍第7項所述之光學構件用黏著劑組成物,其中,前述(甲基)丙烯酸系單體(a-4)之共聚比例為1至6重量%。
  9. 如申請專利範圍第1項所述之光學構件用黏著劑組成物,其中,對前述光學構件用黏著劑組成物進行以下微潛變試驗時,60℃測定值/23℃測定值之比值為1.05至2.00:將前述光學構件用黏著劑組成物塗佈於經剝離處理之聚酯薄膜上並乾燥,製成具有膜厚25μm之黏著劑層之黏著片;將該黏著片與TAC(三醋酸纖維素)-PVA(聚乙烯醇)-TAC構成之偏光板,以前述黏著劑層與前述偏光板相接之方式貼合製成評價用黏著加工偏光板;將該評價用黏著加工偏光板切割為寬10mm×長100mm,將前述經剝離處理之聚酯薄膜剝下,在鹼處理玻璃上以前述黏著劑層相接於前述玻璃、且使貼和面 積為10mm×10mm之方式貼合,作為評價用黏著加工偏光板試驗片;對該評價用黏著加工偏光板試驗片進行殺菌釜處理(50℃,5atm),在23℃/50%RH環境下靜置24小時;接著將前述試驗片安置於微潛變測定機之箱室內之固定用夾部分之長度為15mm處;將前述箱室內加熱至測定溫度,在測定溫度靜置40分鐘後,以拉張荷重800g、拉張時間1000秒將前述試驗片之前述評價用黏著加工偏光板,在平行於該偏光板與前述玻璃之接著面且在前述偏光板之長度方向拉張;測定前述試驗片之前述玻璃與偏光板之貼合部分的移位距離(mm)。
  10. 如申請專利範圍第8項所述之光學構件用黏著劑組成物,復含有相對於前述(甲基)丙烯酸系共聚物(A)100重量份為0.01至0.5重量份之矽烷偶合劑。
  11. 如申請專利範圍第10項所述之光學構件用黏著劑組成物,復含有相對於前述(甲基)丙烯酸系共聚物(A)100重量份為0.01至3重量份之抗靜電劑。
  12. 一種黏著片,係在基材薄膜上形成含有如申請專利範圍第1項所述之光學構件用黏著劑組成物的黏著劑層。
  13. 一種附黏著劑層之光學構件,係在光學構件之至少一面形成有黏著劑層,前述黏著劑層含有如申請專利範圍第1項所述之光學構件用黏著劑組成物。
  14. 一種平面面板顯示器,係具有如申請專利範圍第13項所述之附黏著劑層之光學構件。
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