TWI537411B - 用於物理氣相沉積之腔室及用於物理氣相沉積腔室之腔門 - Google Patents

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Description

用於物理氣相沉積之腔室及用於物理氣相沉積腔室之腔門
本發明之具體實施例係與一種物理氣相沉積之腔室有關。特別是，其與一種包含腔門與外殼之腔室有關。具體而言，其與一種濺射沉積腔室有關。此外，具體實施例係關於一種物理氣相沉積腔室之維護方法。本發明之具體實施例係關於奈米製造技術方案，涉及了薄膜與塗層沉積中所使用之設備、處理與材料，其代表性實例包含(但不限於)涉及半導體與介電材料和元件、含矽晶圓、平板顯示器(例如TFTs)、遮罩與濾光器、能量轉換與儲存(例如光伏打電池、燃料電池與電池)、固態發光(例如LEDs與OLEDs)、磁性與光學儲存、微機電系統(MEMS)與奈米機電系統(NEMS)、微光學與光電元件、建築與汽車玻璃、金屬與聚合物箔片和封裝之金屬化系統、以及微米與奈米塑模之應用。
物理氣相沉積通常用於各種應用；舉例而言，不同的資料媒體(例如CD與DVDs)是在一物理氣相沉積處理中進行塗佈。但同樣的，箔片、工具與微電子元件係由此方法所產生。物理氣相沉積腔室視情況而包含一基板(其上方待沉積一材料)與一靶材(其為該材料來源)。
幾乎所有金屬都可作為待沉積之材料。於一物理氣相 沉積腔室中注入一處理氣體。通常，靶材是作為陰極，而基板是作為陽極。藉由在陽極與陰極之間施加電壓，在該處之氣體即變成電漿。處理氣體之電漿中的粒子可與靶材反應，並從靶材材料釋放粒子。靶材材料的粒子即沉積在基板的表面上。
當靶材的沉積材料耗盡時，即必須將靶材自腔室移除，且需替換新的靶材。同時，腔室必須隨時清潔以移除因靶材材料粒子散佈而未沉積在基板上、而是腔室部件(例如腔室壁體、靶材周邊等)上之靶材材料。
靶材的移除以及在靶材周邊或靶材本身已經替換後再次固定之步驟佔據了一定時間量來進行腔室維護。因此，為避免損失過多的生產時間，一般方式係採用長效靶材及限制材料散佈為一特定量之處理條件。
根據一具體實施例，提供了一種用於物理氣相沉積之腔室。該腔室包含一外殼；一腔門以開啟及關閉該腔室；以及一軸承以容置一靶材，其中該軸承係位於一第一方向中，且該腔室係用於使該靶材可於該第一方向中至少部分自該腔室移除。
根據一具體實施例，提供了一種用於物理氣相沉積之腔室，其係用於容置至少一靶材與一基板。該腔室包含一外殼、一腔門以開啟及關閉該腔室、以及至少一軸承 以固定該靶材，其中該軸承係裝設至該腔門。
本發明之其他構想、優勢與特徵係可由申請專利範圍附屬項、說明、以及如附圖式中得知。
現將詳細參照本發明之各種具體實施例，其一或多個實例係描述於圖式中。在圖式的下述說明中，相同的元件符號係代表相同組件。一般而言，僅描述個別具體實施例中的差異處。各個實例之提供係為解釋本發明，且其並不代表對本發明之限制。舉例而言，作為一具體實施例說明或描述之部分的特徵係可用於、或結合於其他具體實施例，以再產生另一個具體實施例。本發明意欲涵蓋這些修飾例與變化例。
以下解釋說明書中所使用之方向。僅為簡化、但非限制之用且為解釋所使用之方向用語，第1a圖中說明了關閉之腔室的示意實例。舉例而言，靶材30係以虛線繪示於腔室10內部。第1a圖係說明在垂直方向中之腔室。第1b圖說明在水平方向中之第1a圖之腔室。
方向60係表示第一方向。應了解下文所使用之第一方向係沿著靶材之軸向方向而運行，其係固定於腔室中。軸向方向正常為靶材的縱向方向。第二方向70係實質上垂直於第一方向60，第三方向65係實質垂直於第一方向60。
在上下文中，用語「實質垂直」是指在被稱為實質上垂直的方向之間的角度可自一直角偏離某一角度。舉例而言，在方向之間的角度會因為特殊腔室設計而改變。
從第1b圖中可見，第一、第二與第三方向係獨立於腔室的方向。從第1a圖與第1b圖之視圖中可知，方向60、70、65係實質上彼此垂直。然而，第一、第二與第三方向之間的角度可根據腔室的設計而改變。
第2a圖說明了一種習知的物理氣相沉積(PVD)腔室100。腔室100包含一外殼110與一腔門120。腔室100的腔門120是開啟的且可看見靶材130。腔室100的腔門120係配置為一摺板(flap)，其可覆蓋外殼110的腔門開口150。
在第2b圖中，係以側視圖來說明在關閉位置下之第2a圖之PVD腔室100。其中一個靶材130係以虛線繪示，代表靶材130係位於腔室100內部。
在上下文中，所示腔室係適用於薄膜沉積方法。視情況者，可使用真空以藉由氣化形式之材料的凝結而沉積材料。處理可包含如高溫真空氣化與電漿產生之步驟。腔室係具有用於提供良好處理結果之條件的裝置(未示)，例如真空泵、加熱器、冷卻裝置、氣體入口與出口等。
腔室的清潔是耗時的、且需要沉積處理中斷。為了簡化清潔程序，通常提供靶材周邊。視情況者，靶材周邊覆蓋部分的腔室壁體。由於靶材周邊之故，係可迅速進 行腔室的清潔，因為周邊的單一部分被替換且在腔室外部清潔。
然而，在習知設計的腔室中需進行靶材的組裝與拆除，以進行清潔、或替換消耗之靶材。清潔與替換程序會降低效率，無論是替換靶材本身或是腔室周邊。
舉例而言，在應替換靶材時，腔門120係開啟，且僅可從腔室100的一第二方向170抵達靶材130。換言之，係在與靶材縱向軸實質垂直的方向中移除靶材。為於第二方向中170移除靶材(這代表從腔室的背側111至前側112)，即必須提供某些舉升裝置以於第二方向170中舉升靶材。因此，即需執行一複雜程序，直到移除靶材為止。
舉例而言，本文所述之靶材的重量可能視情況而達50公斤至700公斤之間，較常是介於100公斤與600公斤之間，且更常是介於200公斤與500公斤之間。因此，需施加相當程度的力量，直到於方向170中移除靶材為止。
在另一實例中，係清潔具有習知設計之腔室及其靶材周邊135。腔門120係開啟且靶材130係處於抵達靶材周邊與腔室110內側的路線上。因此，必須如前述實例般移除及舉升靶材130，雖然其可能還沒有耗盡。在清潔腔室之後，靶材係再次放置在腔室中、再次使用相當程度的力量與技術裝置來將靶材定位於腔室中。
清潔腔室與替換靶材的兩個實例都說明了在PVD腔室 的生命週期的某些時段中必須執行耗費勞力的處理。
舉例而言，當腔室用於顯示應用中之濺射處理時，靶材可能要一週替換一次。在清潔程序之間的時間週期會根據所使用之系統、處理、膜層厚度與參數等而改變；然也可能針對不同處理而有其他時間範圍。清潔與維護會延遲生產並使生產處理效率降低。這些程序越常重複，生產處理即越無效率。
第3a圖說明了本文所述之一具體實施例。提供一PVD腔室200，其具有一外殼210與一腔門220。腔室210係位於開啟狀態，說明了腔室200的第一方向260。
作為示例，在所示具體實施例中可見兩個靶材230。根據某些具體實施例，靶材的數量可小於兩個；舉例而言，可僅提供一個靶材。根據其他具體實施例，靶材的數量可大於兩個；舉例而言，靶材的數量可為三個、至少三個或四個。
視情況者，基板係位於外殼中；為求簡化，圖式中並未繪示基板。根據某些具體實施例，在腔室中可僅具有一個基板。根據其他具體實施例，可有複數個基板。基板的數量係依所使用之處理與腔室特徵而定，例如腔室大小、腔室材料與腔室器具。
在所述具體實施例中，靶材230具有實質圓柱形狀。視情況者，靶材的形狀係不同於圓柱形。靶材或複數靶材的形狀係具有可使靶材材料沉積在基板上之任何適當形狀；舉例而言，靶材可為實質矩形、平板形、中空圓 柱等。根據某些具體實施例，靶材具有適用於使用磁場之濺射處理的形狀。
外殼210具有一腔門開口250，藉其可抵達外殼內部。經由腔門開口250進入即可清潔腔室、改變腔室部件、供維護所需等。
此外，根據本文所述具體實施例之腔室可具有數種特徵結構，例如一基板入口、一處理氣體入口、一電力來源、真空泵、加熱器、冷卻裝置、驅動單元、靶材旋轉組件、磁場產生裝置等，其皆未繪示於圖中以求簡化。
根據第3a圖所示之具體實施例，靶材係固定於外殼210中。靶材230係固定在外殼210的底側上。根據其他具體實施例，靶材230也可固定在外殼210的頂側上。然而，在所述具體實施例中，靶材230係固定在腔室中在第二方向270上具有較大延伸部的一側。
第二與第三方向係與第一方向實質垂直。第二方向可描述為實質垂直於關閉位置下腔門所提供之平面。
倘若，腔門所提供之平面並非均勻成形，則應理解腔門的平面為垂直軸與第一方向垂直之平面。
第三方向也可描述為可經由一虛擬線連接靶材之方向。連接靶材之虛擬線係位於第二與第三方向形成之平面中。
此外，提供用於靶材之軸承240。視情況者，軸承數係對應於靶材數。
軸承係位於第一方向260中。應瞭解軸承也可以靶材 軸向方向位於第一方向260中的方式來容置一靶材。軸承係具有一托持部分，其延伸於第二與第三方向所形成之平面中。托持部分可容納靶材的一端部或部分。
根據一具體實施例，腔門220與外殼210彼此在形狀上為互補以形成腔室200。視情況者，在腔門220與外殼210處分別具有匹配表面280、281。當匹配表面280、281彼此接觸時，匹配表面係用以關閉腔室。
根據某些具體實施例，本文所述之腔室的匹配表面可具有一密封裝置，其確保在腔室中可維持真空。密封裝置(未示)可為一夾鉗或彈性材料、其組合或任何適合密封PVD腔室之裝置或材料。
根據可與本文所述其他具體實施例結合之具體實施例，外殼與腔門有小程度的重疊。舉例而言，腔門與外殼係為密封所需而重疊。
如第3b圖中所示，腔門220的匹配表面280以及外殼210的匹配表面281在第一方向260中提供漸縮之形狀。漸縮之形狀係使靶材230可於第一方向260中移出腔室200。第3b圖中係以虛線繪示靶材230以指示靶材230係定位且固定於腔室內。
腔門的漸縮形狀也可描述為相對於靶材的第一方向260呈實質對稱，而相對於第三方向265呈非對稱。視情況者，腔室與腔門在第二方向270中的延伸係隨腔室在第一方向260中之延伸而改變。如第3a圖所示，第二方向270可表示為腔室的深度。
本文中所使用之用語「實質對稱」代表被稱為「實質對稱」之物體的形狀會由對稱形式變化至某一程度。舉例而言，腔室可具有數個裝置，例如連接器、入口、出口、電力來源裝置，其並非對稱性地配置在腔室上。此外，實質對稱之腔室的形狀本身也會偏離對稱性。
用語「非對稱」是指被稱為「非對稱」之形狀是不對稱的。舉例而言，一線將腔室分隔為兩個部分，相對於此線呈非對稱是指該腔室之其中一部分的一任一點不具有與該腔室之另一部分的對應點符號相反之相同座標。對應點係指具有離分隔線相同、絕對距離的點。非對稱並不是指被稱為實質對稱之物體。
由第3b圖之關閉腔室的示意側視圖可清楚瞭解如何於第一方向中移除靶材。選擇使腔門220延伸在方向270中，使得可於第一方向260中移除靶材230，亦即至第3b圖之左方。靶材230係固定在腔室中的右側上，如第3b圖中所示。視情況者，軸承240係為於腔室中以固定及托持靶材230。
在軸承所在之腔室的側部、或是在裝設有軸承之腔室的側部即稱為軸承側。根據某些具體實施例，在第一方向260中與軸承側相對的側部係描述為軸承側的相對側。視情況者，軸承側的相對側也可被理解為面對軸承側之腔室側部。
第3c圖說明了可與本文所述其他具體實施例結合之具體實施例。在第3c圖之具體實施例中，腔門220與外 殼210具有實質相同之形狀。「實質相同之形狀」代表例如在上下文中，腔門在軸承側之相對側處的第二方向270中之延伸係實質上與外殼在軸承側之延伸一樣大。外殼210與腔門220係具有相同的幾何形狀，但可含有不同的PVD處理組件。
一般而言，特別是在外殼和腔門具有相同形狀的例子中，腔門係視為腔室中用於移動以開啟腔室之部件。外殼一般為腔室中位置保持固定之部件。舉例而言，外殼係配備有足部等以提供對下方接地之接觸，並提供一個穩定且對齊的位置。在大部分具體實施例中，腔門並不具有這類裝置，因為其僅藉由對外殼之接觸而受支撐。
視情況者，外殼和腔門具有相似的形狀但大小不同，或由不同的材料或材料厚度所製成。
根據某些具體實施例，腔室在第一方向中的延伸一般可達1.2m至3.5m，較一般是介於1.7m至3.0m，且更一般是介於2.2m至2.7m。
根據可與本文所述其他具體實施例結合之具體實施例，陰極或靶材在軸向方向上一般可達10m至3.5m之長度，較一般是達1.5m至3.0m之長度，且更一般是達2.0m至2.5m之長度。本文所述腔室的特別形狀可使靶材在靶材的軸向方向中移動一般約10mm至1000mm，較一般是約20mm至500mm，且更一般是約50mm至100mm。藉由在靶材的軸向方向(亦即第一方向)中移動靶材，靶材可從固定位置移動離開軸承。這代表可使靶材 至少部分移出腔室。舉例而言，靶材可移除離開軸承達一定距離，例如在方向260中移除100mm。
在第一方向260中舉升靶材達一特定量之後，即從另一方向抓取陰極並將其移離腔室。根據另一具體實施例，靶材係沿靶材軸向方向或腔室的第一方向其260中其整體長度而移出腔室。
根據本文所述之具體實施例，可輕易到達腔室的靶材周邊235。
根據本文所述之具體實施例，靶材周邊係至少部分環繞靶材的空間。根據本文所述之具體實施例(其可與本文所述其他具體實施例結合)，靶材周邊係指至少部分環繞靶材之空間中的組件。靶材周邊組件可特別成形為薄板、金屬薄板、盒狀、鞘狀等。根據具體實施例，靶材周邊係含用於覆蓋腔室壁體的部件。
若外殼210的頂側在方向270中具有比底側更廣的範圍，則靶材230可固定在外殼的頂側上。
上下文中所使用之「外殼」應被理解為圍繞至少某些用於進行PVD處理之組件的本體。舉例而言，在外殼中有基板、靶材周邊部件、氣體入口、氣體出口、電力來源組件、待處理材料之托持部件等等。根據某些具體實施例，一或多個靶材係位於外殼中。外殼也可描述為是可進入、或是可由腔門開啟與關閉之腔室的一個部件。
當用語「腔門」使用於上下文中時，該用語係指一個可接近由腔門所開啟與關閉之本體的構件。舉例而言， 操作者可以藉由腔門220而接近外殼210。此外，腔門可緊密關閉外殼，例如以使其內部保持真空。根據某些具體實施例，腔門也可包含某些組件，例如靶材之軸承、靶材、氣體入口及/或出口等。
此外，在上下文中，用語「軸承」應被理解為可托持靶材之組件。根據某些具體實施例，軸承為可允許兩個以上部件之間的限定相對運動之組件。軸承為具有滾軋元件之軸承、或具有研磨表面之滑動軸承。根據其他具體實施例，軸承為位於腔門中、或是在外殼之壁體中之組件，且係至少部分圍繞靶材之組件。根據其他具體實施例，軸承僅為腔門中、或外殼之壁體中的一孔洞，靶材係透過該孔洞而延伸。在此例中，軸承具有任意形狀。
在上下文中之用語「靶材」是指應被供應至基板上之材料、或塗覆有待供應至基板之材料的部件。舉例而言，靶材可由Al、Mo、MoNb、Ti、AlNd、Cu、CuMn、IGZO、Si、ITO、SiO、Mg、Cr等所製成。根據某些具體實施例，靶材可被描述為可於PVD腔室中提供陰極功能者。
在第4a圖與第4b圖中繪示了PVD腔室300，其類似第3a圖與第3b圖之腔室200。腔室300具有一外殼310與一腔門320，其設計係本質上為參照第3a圖與第3b圖或第3c圖所述之設計。同時，靶材230為先前所描述之靶材。然而，根據具體實施例，腔室係適用於一旋轉靶材，為此目的，提供一驅動單元360，其係直接或間接裝設至靶材230。舉例而言，腔室具有驅動單元裝置， 例如連接器等，其輔助驅動單元連接至靶材。驅動單元可驅動靶材230；舉例而言，驅動單元360係使靶材230旋轉之馬達。
根據某些具體實施例，可針對所有靶材提供一個驅動單元。根據其他具體實施例，每個靶材都具有個別的驅動單元，因此每個靶材都可被獨立驅動。
視情況者，驅動單元係適用於驅動腔室的組件。舉例而言，驅動單元可使受驅動之靶材、基板或腔室的其他組件產生旋轉運動或樞轉運動、或甚至線性運動。
驅動單元360也可見於第4b圖之側視圖中。腔室300具有一軸承340。視情況者，驅動單元係固定在腔室的軸承側。舉例而言，若靶材的軸承是根據本文所述某些具體實施例而在腔室的頂側上，則驅動單元係位於腔室的頂側處。換言之，在所示具體實施例中的驅動單元係位於腔室300之在第二方向270上較大的側部上。
第5a圖說明了PVD腔室的另一具體實施例。所示之腔室400具有一外殼410與一腔門420。腔門與外殼隨腔室400在方向260中的延伸在方向270中實質均勻延伸。靶材230(其係如前述之相同靶材)係位於且固定於外殼410中，在外殼410中，軸承440係位於底側470上，其亦可被描述為軸承側以與上述定義一致。此外，在具體實施例中所示之外殼410係提供了孔480，其係位於外殼410之軸承側470相對側475。
視情況者，孔480係分別與軸承440和靶材230對齊。 舉例而言，孔480係位於外殼410的頂部上的相對側475中，因此孔可構成靶材230的虛擬加長部。根據一具體實施例，孔480的形狀與靶材230的外圍形狀相同。舉例而言，孔480的形狀可與靶材230的邊緣相同，但大小則視情況而稍微較大。
根據一具體實施例，孔的形狀係與靶材230的形狀不同。
視情況者，當靶材230在第一方向260中移動時，孔480的形狀可使靶材230通過。視情況者，孔480可被描述為靶材孔。靶材孔具有至少是靶材截面積之大小。這代表孔具有靶材在垂直於靶材縱向軸之方向中之維度大小。
根據某些具體實施例，僅提供有一個孔480。視情況者，孔的形狀係經設計以使兩個靶材230都通過其間。若有兩個以上的靶材，則可設計一個孔使所有靶材都通過其間。
視情況者，孔480的數量係與靶材數量對應。
根據某些具體實施例(其並不限於第5a圖所示之具體實施例)，腔門係適用於外殼的設計。
外殼410與腔門420具有重疊的部分。視情況者，腔門420的重疊部分會將外殼的靶材孔鎖上。如參照第5b圖可知，腔門420係與外殼的壁體重疊達一預定程度。視情況者，可選擇該預定程度，以使腔門能將腔室鎖上。藉由以腔門鎖上腔室、且特別是腔室的孔，即可在腔室 中保持腔室中所需之條件，例如溫度、壓力、氣體含量等。因此，腔門420係於第二方向270中與外殼重疊至至少與孔480所抵達一樣遠，使得在關閉狀態下，孔480可以完全被腔門420覆蓋。
根據某些具體實施例，腔門與外殼並不為覆蓋孔而重疊，而是具有可關閉孔之鎖定裝置。這些用以覆蓋一或多個靶材孔之裝置可為皮瓣、密封件、障壁、金屬薄板、小腔門等。
第5c圖說明了一種根據本文所述具體實施例之腔室。腔門420與外殼410分別具有匹配表面485、486。當腔室關閉時，匹配表面485、486即接觸。根據本文所述之具體實施例，靶材230係固定在外殼410的一托持裝置445上(在關閉狀態下)，其係至少部分位於腔門420內。靶材230之軸承440也位於托持裝置445中。
根據具體實施例，托持裝置係由與腔室相同材料所製成之一薄板。托持裝置係適用於運載靶材之軸承。根據某些具體實施例，托持裝置係由任何適合運載軸承之材料所製。根據某些具體實施例，托持裝置係用於運載靶材。
藉由腔室的設計即可輔助將靶材移出腔室。藉由使用所述設計，靶材可於第一方向260(亦即靶材的軸向方向)中移出腔室。
在第6a圖中可見本文所述之具體實施例。腔室500提供了一外殼510與一腔門520。所示之腔室500係處於 開啟狀態。
腔門520與外殼510具有類似於關於第3a圖與第3b圖所述形狀之形狀。
根據一構想，腔門520與外殼510在形狀上彼此互補，以形成腔室500。視情況者，在腔門520與外殼510處分別具有匹配表面580、581。當匹配表面580、581彼此接觸時，匹配表面580、581係配置以關閉腔室。
根據某些具體實施例，腔室的匹配表面係具有一密封裝置，其可確保在腔室中維持真空。密封裝置(未示)係一種夾鉗或一彈性材料、其組合或任何適於密封PVD腔室之裝置或材料。
根據可與本文所述其他具體實施例結合之具體實施例，外殼與腔門係小程度重疊。舉例而言，腔門與外殼係為密封目的而重疊。
外殼510具有一腔門開口550，透過腔門開口可達外殼的內部。腔門開口550係用於進入腔室以清潔腔室、更改腔室之部件、維修之用等。
如第6a圖所示，腔室與腔門在第二方向270中之延伸係隨腔室在第一方向260中之延伸而改變。視情況者，匹配表面580、581的形狀係呈漸縮。換言之，腔門520係實質上相對於靶材的第一方向260呈對稱，且相對於第三方向265呈非對稱。
根據其他具體實施例，外殼的形狀係與腔門的形狀類似。舉例而言，外殼係實質上相對於第一方向而對稱， 並相對於第二方向270而呈非對稱。
視情況者，腔門與外殼係具有實質相同的形狀，在第3c圖中係繪示出一個實例。在第3c圖所示之具體實施例中，腔門520與外殼510具有實質相同的形狀。換言之，腔門在軸承側之相對側處、於第二方向270中之延伸係實質上與腔室在軸承側處之延伸一樣大。外殼510與腔門520具有類似的幾何形狀，但可含有不同的PVD處理組件。根據可與本文所述其他具體實施例結合之具體實施例，外殼與腔門具有類似形狀、但不同大小，或其係由不同材料或材料厚度所製成。第3c圖所示之幾何形狀係適用於第6a圖與第6b圖所示之PVD腔室。這表示，腔室之幾何形狀係如第3c圖中所示，但靶材230係位於腔門中，如第6a圖所示。
雖然第6a圖示例說明了腔室在第二方向270中之延伸在底側570處係較小、而在頂側575處係較大，根據本文所述具體實施例之外殼也可建構為相反方式，亦即在底側570處於第二方向270中之延伸係較大、而在頂側575處於第二方向270中之延伸係較小。腔門之幾何形狀也可為相同情形。
根據某些具體實施例(不限於第6a圖中所示之具體實施例)，靶材230係固定於腔門中。腔門520具有用於固定靶材之一軸承540。軸承540係裝設至腔門。視情況者，軸承係位於腔門中。根據具體實施例，軸承係腔門之部件。視情況者，軸承也可適用於腔門，其端視所使 用之軸承的類型而定。軸承的類型依次與靶材相關，且可根據待執行之處理而改變。
靶材係與上述關於第3a圖與第3b圖所說明者相同。靶材230係固定在腔門中具有在第二方向270上較大延伸之側部上。因此，在具體實施例中，靶材230可固定在腔門520的底側570上。根據一具體實施例，腔門在第二方向270中之延伸在頂側係處較大，靶材230係固定在腔門的頂側575上。
第6b圖中位於關閉位置之腔室側視圖應說明了腔門520如何相對於外殼510而成形。由於靶材230係固定於腔門中並以第一方向260延伸至外殼中，可藉由開啟腔門而使靶材230自外殼510移除。因此，腔門的至少一側包含一軸承540以放置靶材於其中。
包含軸承之側部係表示為軸承側。根據某些具體實施例，在第一方向260中與軸承側相對之側部係稱為軸承側之相對側。視情況者，軸承側的相對側係可理解為腔室中面對軸承側之一側。軸承使靶材可沿其縱向軸而旋轉。
此外，第6b圖中所示之具體實施例的靶材230也可以第一方向260而自腔室移除，其於必須替換靶材時係特別有用。
根據某些具體實施例，用於自腔室500移除靶材230之技術係與第3圖至第5圖中所說明之具體實施例使用之技術類似。因此，腔室500可使使用者更有可能自腔 室移除靶材。
舉例而言，當使用者想要清潔腔室，即開啟腔室500的腔門520，靶材周邊235係可直接接近以及移除或清潔。在清潔腔室時，並不從軸承540移出靶材。
根據另一實例，當使用者想要替換耗盡之靶材時，即開啟腔門520，且可以第一方向260移除靶材，亦即至第6b圖中所示之左側。以第一方向移除靶材、或藉由開啟腔門移除靶材，皆可使靶材之移除變得容易和簡單。
在必須更換靶材及/或必須清潔腔室的情況下，根據第6a圖與第6b圖而示例說明之具體實施例的腔室-腔門組合即可輕易解除與移除靶材230。舉例而言，腔門可被開啟，而藉由在第一方向260中移動即可移除靶材230。此外，可藉由單一步驟(亦即開啟腔門520)而分別自腔室、外殼中的處理區域移除靶材230，因此增進與加速腔室的清潔以及位於腔室500中之部件的替換。
上下文中所載之「處理區域」應被理解為在腔室內、發生物理氣相沉積處理的一個區域。在運作期間，處理區域係分別含有例如基板、靶材與氣體(氣體的電漿)。處理區域係定義為一內部部件、或甚至是PVD腔室的整個內部。
本文所述之一具體實施例係繪示於第7a圖與第7b圖中。在該具體實施例中，腔室600具有一外殼610與一腔門620，兩者隨腔室600在方向260中的延伸而在方向270上皆具有實質均勻之延伸。靶材230係位於腔室 600中，靶材230係與關於第3a圖與第3b圖、或第6a圖與第6b圖中所述者相同。根據第7a圖所示之具體實施例，靶材230係固定於腔門620中。
如第7a圖中所示，在具體實施例中之靶材230係固定且托持在腔室600的底側670。在一替代具體實施例中，靶材230也可固定與托持在腔室600的頂側675。軸承640係位於或裝設至腔門620中，以使靶材230可移動或托持在腔門620、因而位於腔室600的固定位置中。
在第7a圖與第7b圖示例說明之具體實施例中，由於腔門620中軸承640之配置，靶材230並不延伸至外殼中、或不大程度延伸。然而，當軸承640係配置在靠近腔門620的開口651處時，部分靶材230係延伸至外殼610中。然而，以下係使用與先前說明之具體實施例中相同的技術，且靶材230係「自外殼移除」。根據第7a圖與第7b圖所示之具體實施例，用語「自外殼移除」反而是指「從腔室內的處理區域中移除」。
第7b圖以側視圖說明了在關閉狀態下的腔室600。靶材230在腔室600內的位置係如虛線所示。因此，在第7b圖之具體實施例中所描述的腔室亦可藉由開啟腔門620而使靶材230自外殼移除。
第8a圖與第8b圖說明了與第7a圖及第7b圖所述者實質相同的腔室，但其具有一驅動單元760以驅動靶材230。根據可與本文所述其他具體實施例結合之具體實施例，腔室係適用於一旋轉靶材。舉例而言，腔室可具有 驅動單元裝置，例如連接器等，其幫助驅動單元連接至靶材的軸承740或靶材本身。為驅動靶材，係提供一驅動單元760，且其係直接或間接裝設至靶材230。驅動單元可驅動靶材230。舉例而言，驅動單元760係可帶動靶材230旋轉之一馬達。
根據某些具體實施例，可針對所有靶材提供一個驅動單元。根據其他具體實施例，每一個靶材都可具有一個個別的驅動單元，使得每一個靶材都可以獨立被驅動。舉例而言，驅動單元或複數個驅動單元可使靶材產生旋轉移動或樞轉移動、或甚至是線性移動。
驅動單元760也可見於第8b圖之側視圖中。根據某些具體實施例，驅動單元760可固定於腔室的底側處。視情況者，驅動單元係固定在靶材的軸承740之側部上。舉例而言，根據本文所述之某些具體實施例，當靶材的軸承740位於腔室的頂側上時，驅動單元也可位於腔室的頂側處。
根據具體實施例，當腔門開啟時，驅動單元760係至少部分與腔門一起移動。根據某些具體實施例，在腔門開啟之前，驅動單元760係與靶材230解除耦合。
第9a圖說明一PVD腔室之具體實施例的示意圖。腔室900提供了一外殼910與一腔門920。兩靶材230係位於腔門920中。一般而言，靶材230係示例地繪示為固定於腔門中，但其不應被認為是腔門的部件。靶材之軸承940係位於腔門920中，在第9a圖所示之具體實施 例中，驅動單元960係與腔門920相鄰。視情況者，驅動單元960係適用於驅動可旋轉靶材等。根據某些具體實施例，驅動單元960包含一驅動裝置、一馬達、一控制系統之部件、軸承、連接器等。
在第9a圖中，所繪示之腔室900係處於開啟狀態。視情況者，裝設至腔門920之驅動單元960係處於與腔門相同之關係，不管腔室是關閉或開啟。
根據可與本文所述其他具體實施例結合之某些具體實施例，靶材230在方向260中具有比外殼中基板更大的延伸。舉例而言，靶材230在方向260中係超出外殼910一特定量。可根據處理參數(例如沉積材料、基板材料、應用類型等)來選擇超出量。
第9b圖繪示第9a圖之腔室900的示意側視圖，其係處於關閉狀態。驅動單元960係裝設至第9a圖與第9b圖之具體實施例的腔門920。靶材230(如第9a圖中虛線所示)係延伸於驅動單元960中。靶材的軸承940係位於腔門920中。
第9c圖繪示了一PVD腔室之具體實施例的透視圖。腔室950具有側壁991與992。舉例而言，側壁係設計為以方向270延伸之強化肋條。在關閉狀態中，側壁係實質上平行於方向270中之腔門側壁。根據某些具體實施例，在關閉狀態下，腔門921係至少部分位於外殼911中，因此肋條與腔門具有重疊的部分。視情況者，當腔室950關閉時，腔門921係位於側壁991與992之間。 外殼911具有一周圍匹配表面981以與腔門921的一對應匹配表面980相符。腔門的匹配表面與腔門的匹配表面係用以密封腔室，例如為確保在處理期間皆可維持處理參數。
根據某些具體實施例，腔門921係與外殼911及側壁991、992的形狀相適。舉例而言，腔門921在第三方向265上具有延伸，其與側壁彼此在第三方向中之距離相同。腔門在第三方向265中之延伸係可匹配於外殼911的側壁991、992之間。
在第9c圖中，可以多種方式來開啟腔室950。舉例而言，可藉由類似絞鏈裝置來開啟腔門921，其係如上述第9a圖中所示例子般擺動開啟。視情況者，腔室950之腔門係由在第一方向中移動腔門921而開啟，其中第一方向係如第9c圖中箭號260所示。
根據具體實施例(不限於第9c圖所示之具體實施例)，腔門係配置為開啟於靶材的縱向方向，亦即第一方向。在第9c圖所示之具體實施例中，腔門921係於方向260中舉升，以開啟腔室950及/或供替換或維修之用。視情況者，腔門係適用於以第一方向260移動。
一般而言，當腔門與腔室的幾何架構可使腔門在方向260中舉升時，本文所述之其他具體實施例的腔門也可以於方向260中舉升以接近腔室內部。
根據可與本文所述其他具體實施例結合之某些具體實施例，本文所述之PVD腔室可具有一個以上的腔門。舉 例而言，腔室係具有一個外殼與三個腔門。
第10a圖說明一PVD腔室1000之具體實施例，其具有一個以上的腔門。所示之腔室1000係處於關閉狀態且包含一外殼1010、以及示例地包含三個腔門1021、1022與1023。腔門的數量可根據腔室設計、待塗佈之基板、所使用之處理等而改變。在第10a圖所示之具體實施例的各腔門1021、1022、1023中係固定有兩個靶材230。根據某些具體實施例，可僅有一個靶材固定於一腔門中。視情況者，在一個腔門中可固定兩個以上的靶材。所示之腔門係以如第9a圖與第9b圖所述般設計，但也可設計為如上述其他具體實施例之腔門。
一般而言，腔門的數量係與靶材的數量相關。舉例而言，根據本文所述之某些具體實施例，在靶材固定於外殼的情況下，係可經由一腔門而接近一定數量的靶材，例如一個、兩個或甚至三個。在第10a圖所示之具體實施例中，可藉由每一個腔門1021、1022與1023而接近兩個靶材230。
在第10b圖中，係如第10a圖所繪示之相同腔室，但一腔門1022係處於開啟狀態。腔門1022具有與其相鄰之一驅動單元1060。根據某些具體實施例，腔室1000或腔室1050的其他腔門1021、1023也具有類似腔門1022之一驅動單元1060。為求簡要，僅以腔門1022來繪示驅動單元。
在腔室1050的開啟狀態下，可看見腔門1022的匹配 表面1080與外殼1010的匹配表面1081。當匹配表面1080、1081彼此接觸時，匹配表面係配置以關閉腔室。根據某些具體實施例，腔室1050的匹配表面1080、1081係具有一密封裝置，其可確保維持腔室中之處理參數(例如真空)。密封裝置(未示)係一夾鉗或彈性材料，例如O型環、其組合或適合密封一PVD腔室之任何裝置或材料。
根據某些具體實施例，腔室1050提供了數個側壁，其中兩個係繪示於第10a圖與第10b圖中之側壁1091、1092。側壁為強化肋條等，其可使腔門1021、1022與1023彼此分隔。
可經由外殼1010的一或多個腔門開口1055而進入腔室1050的外殼1010之內部。在第10b圖中可見一個腔門開口1055。腔門開口1055因而提供了一種對處理區域之窗口(基板係於該區域中進行處理)。
視情況者，腔室1000也可藉由以方向260舉升腔門1022而開啟，以供替換或維修之用。在某些具體實施例中，可提供如起重機等之舉升裝置來開啟腔門、並進入PVD腔室內部以進行替換及/或維修。舉例而言，一或多個上述PVD腔室係位於一系統中、或用於多種或大型應用之基板處理線中，該系統係提供一起重機，其具有數個臂部以從頂側以方向260接近腔室的每一個單一靶材。
第11a圖說明一種PVD腔室之腔門1100。靶材230係位於腔門中，但其係類似於前述靶材或與其相同。靶材 230係藉由軸承1140而固定於腔門中。
第8a圖與第8b圖所示之腔門形狀係僅為示例，且其可適當的應用。舉例而言，腔門的形狀係適用於與第6a圖之腔室500匹配。
在第11b圖中可從側視圖(特別是從第11a圖所示之側部1110)看見腔門1100。在第11b圖所示之具體實施例中，腔門1100的軸承1140可被視為貫穿腔門1100之側部1110的壁體的孔。視情況者，靶材可延伸通過軸承1140,並繼續達PVD腔室之腔門1100外部。藉由延伸通過側部1110的壁體，靶材係可由一驅動單元加以驅動。
根據一具體實施例，軸承並不延伸通過側部1110的壁體，因此靶材係存在於腔門內，因而位於腔室內。
根據某些具體實施例，腔門1100具有不同於第11b圖所示之孔的軸承。參照上述對用語「軸承」之解釋，據此任何類型的軸承係可用於本文所述之PVD腔室之腔門或外殼。
一般而言，本文所述之PVD腔室的腔門係適用於靶材230、外殼910與處理參數的幾何條件。第12圖繪示了腔門之一具體實施例的實例，其可用於本文所述之PVD腔室中。具體實施例說明了腔門的形狀可根據不同的具體實施例而改變，其並不限於圖式中所示之腔室實例。
第12圖說明可用於本文所述之PVD腔室的腔門之一具體實施例。腔門1220係提供一支撐裝置1225。用於支撐靶材軸承之支撐裝置1225可裝設至腔門、或成為腔門 之部件。第12圖係以透視圖說明腔門1220之一具體實施例。在第12圖之具體實施例中，支撐裝置1225係一平板。腔門1220提供了軸承1240以固定靶材230。視情況者，軸承1240係位於支撐裝置1225上。支撐裝置係適用於承載靶材230之重量。
雖然在圖式中所描述的許多特徵結構都有具體的元件符號，但應了解所描述之特徵結構並不限於含所示特徵結構的具體實施例。舉例而言，在不同具體實施例中所示之特徵結構的組合係適合使腔室進行運作一PVD腔室之所述處理。
視情況者，本文所述之腔室係適於濺射處理。舉例而言，腔室係適用於薄膜沉積、蝕刻、分析之用等。
根據某些具體實施例，本文所指之靶材係一濺射陰極。視情況者，作為濺射陰極之用的靶材具有關於待執行之處理的特定性質。舉例而言，靶材係固定於一本體上，以改善靶材能力而提供濺射陰極之功能。視情況者，靶材可為水冷式。根據某些具體實施例，濺射陰極係電氣絕緣且連接至一電力來源。視情況者，濺射陰極係可設定為負電位。
視情況者，腔室係配置以用於顯示應用，例如TFT應用、彩色濾光器應用、觸控面板應用等，也可用於太陽能應用。
根據某些具體實施例，腔室係配置供大型基板之用。舉例而言，腔室可適用於產生長度約1.5m之物理氣相沉 積。根據可與本文所述任何其他具體實施例結合之某些具體實施例，腔室可適用於介於0.5m至3.5m間之基板，較佳為介於1.0m至3.0m，更佳為介於1.5m至2.5m。舉例而言，基板係具有約3.0mx3.5m之大小。根據某些具體實施例，基板可具有數平方公分之大小。視情況者，基板係一單片基板、或類似帶體之基板，其可藉由適用的驅動單元等而被引導通過腔室。
根據可與本文所述其他具體實施例結合之某些具體實施例，腔室的軸承係適用於容置一PVD處理之濺射陰極。視情況者，腔室的軸承係適用於托持一PVD處理之濺射陰極。視情況者，腔室的軸承係可適用於固定一PVD處理之濺射陰極。
視情況者，本文所述之腔室係可配置為垂直位置以外的方式。舉例而言，腔室係可視情況而配置為水平配置方式。應理解對於說明的絕大部分部件而言，方向的表示是相同的。第1圖可為所述方向之參考。舉例而言，第一方向係沿著靶材縱向方向而運行，無論腔室是排列為何種位置。
藉由使用如本文所述具體實施例之腔室，即可從PVD腔室、分別從PVD處理區域中快速移除PVD處理的靶材或陰極。根據某些具體實施例，可在不解除安裝靶材(其耗費可觀時間與成本)下即可移除靶材。根據本文所述之具體實施例，可藉由以腔室之第一方向移動靶材而移除靶材。由於不需要通過從腔室之第二方向捕抓靶材使靶 材解除安裝，本文所述之具體實施例會帶來時間與成本量之效益。
如本文所述，由於從腔室與處理區域分別移除靶材，即可方便地接近與更換腔室內部的部件與裝置。因此，位於腔室內部之部件的替換與清潔處理即可縮短並減少處理腔室的停頓時間或閒置時間，結果即產生較大效率與較佳的工作處理量。
在本文所述之所有具體實施例中，共同處為可輕易及快速的進入腔室、特別是到外殼的內部。換言之，藉由使用如本文所述具體實施例之腔室，不需進入處理區域即可抵達靶材。
前述說明係與本發明之具體實施例有關，可在不脫離本發明之基本範疇下得知本發明之其他與進一步之具體實施例，其範疇係由下述申請專利範圍所決定。
10‧‧‧腔室
30‧‧‧靶材
60‧‧‧方向
65‧‧‧方向
70‧‧‧方向
100‧‧‧腔室
110‧‧‧外殼
111‧‧‧背側
112‧‧‧前側
120‧‧‧腔門
130‧‧‧靶材
135‧‧‧靶材周邊
150‧‧‧腔門開口
170‧‧‧方向
200‧‧‧腔室
210‧‧‧外殼
220‧‧‧腔門
230‧‧‧靶材
235‧‧‧靶材周邊
240‧‧‧軸承
250‧‧‧腔門開口
260‧‧‧方向
265‧‧‧方向
270‧‧‧方向
280‧‧‧匹配表面
281‧‧‧匹配表面
300‧‧‧腔室
310‧‧‧外殼
320‧‧‧腔門
340‧‧‧軸承
360‧‧‧驅動單元
400‧‧‧腔室
410‧‧‧外殼
420‧‧‧腔門
440‧‧‧軸承
445‧‧‧托持裝置
470‧‧‧底側(軸承側)
475‧‧‧相對側
480‧‧‧孔
485‧‧‧匹配表面
486‧‧‧匹配表面
500‧‧‧腔室
510‧‧‧外殼
520‧‧‧腔門
540‧‧‧軸承
550‧‧‧腔門開口
570‧‧‧底側
575‧‧‧頂側
580‧‧‧匹配表面
581‧‧‧匹配表面
600‧‧‧腔室
610‧‧‧外殼
620‧‧‧腔門
640‧‧‧軸承
651‧‧‧開口
670‧‧‧底側
675‧‧‧頂側
740‧‧‧軸承
760‧‧‧驅動單元
900‧‧‧腔室
910‧‧‧外殼
911‧‧‧外殼
920‧‧‧腔門
921‧‧‧腔門
940‧‧‧軸承
950‧‧‧腔室
960‧‧‧驅動單元
980‧‧‧匹配表面
981‧‧‧匹配表面
991‧‧‧側壁
992‧‧‧側壁
1000‧‧‧腔室
1010‧‧‧外殼
1021‧‧‧腔門
1022‧‧‧腔門
1023‧‧‧腔門
1050‧‧‧腔室
1055‧‧‧腔門開口
1060‧‧‧驅動單元
1080‧‧‧匹配表面
1081‧‧‧匹配表面
1091‧‧‧側壁
1092‧‧‧側壁
1100‧‧‧腔門
1110‧‧‧側部
1140‧‧‧軸承
1220‧‧‧腔門
1225‧‧‧支撐裝置
1240‧‧‧軸承
為使本發明之上述特徵可以被詳細了解，本發明之更特定描述(簡要說明於上文)係可參照具體實施例而得知。如附圖式係與本發明之具體實施例有關，且說明如下：第1a圖說明一簡化腔室幾何結構之實例；第1b圖說明第1a圖之簡化腔室幾何結構之實例的側視圖； 第2a圖說明該領域中習知物理氣相沉積腔室之示意透視圖；第2b圖為第2a圖之物理氣相沉積腔室的示意側視圖；第3a圖說明根據本文所述具體實施例之物理氣相沉積腔室的示意透視圖；第3b圖說明第3a圖之物理氣相沉積腔室的示意側視圖；第3c圖說明根據本文所述具體實施例之物理氣相沉積腔室的示意側視圖；第4a圖說明根據本文所述具體實施例之物理氣相沉積腔室的示意透視圖；第4b圖說明第4a圖之物理氣相沉積腔室的示意側視圖；第5a圖說明根據本文所述具體實施例之物理氣相沉積腔室的示意透視圖；第5b圖說明第5a圖之物理氣相沉積腔室之示意側視圖；第5c圖說明根據本文所述具體實施例之物理氣相沉積之具體實施例的示意透視圖；第6a圖說明根據本文所述具體實施例之物理氣相沉積腔室的示意透視圖；第6b圖說明第6a圖之物理氣相沉積腔室的示意側視圖；第7a圖說明根據本文所述具體實施例之物理氣相沉 積腔室的示意透視圖；第7b圖說明第7a圖之物理氣相沉積腔室的示意側視圖；第8a圖說明根據本文所述具體實施例之物理氣相沉積腔室的示意透視圖；第8b圖說明第8a圖之物理氣相沉積腔室的示意側視圖；第9a圖說明根據本文所述具體實施例之物理氣相沉積腔室的示意透視圖；第9b圖說明第9a圖之物理氣相沉積腔室的示意側視圖；第9c圖說明根據本文所述具體實施例之物理氣相沉積之具體實施例的示意透視圖；第10a圖說明根據本文所述具體實施例之物理氣相沉積腔室的示意透視圖；第10b圖說明根據本文所述具體實施例的第10a圖之物理氣相沉積腔室在開啟狀態下的示意透視圖；第11a圖說明根據本文所述具體實施例之物理氣相沉積腔室之腔門的示意透視圖；第11b圖說明第11a圖之物理氣相沉積腔室之腔門的底視圖；以及第12圖說明根據本文所述某些具體實施例之物理氣相沉積腔室之腔門的示意透視圖。
230‧‧‧靶材
235‧‧‧靶材周邊
260‧‧‧方向
265‧‧‧方向
270‧‧‧方向
500‧‧‧腔室
510‧‧‧外殼
520‧‧‧腔門
540‧‧‧軸承
550‧‧‧腔門開口
570‧‧‧底側
575‧‧‧頂側
580‧‧‧匹配表面
581‧‧‧匹配表面

Claims (17)

  1. 一種用於物理氣相沉積之腔室(200；300；400；500；600；700；900；1000)，該腔室包含：一外殼(210；310；410；510；610；710；910；1010)；一腔門(220；320；420；520；620；720；920；1020；1100；1220)，用於開啟及關閉該外殼；以及一軸承(240；340；440；540；640；740；1140；1240)，用於容置一靶材(230)，該軸承係位於一第一方向(260)中；其中該腔室係適於於該第一方向中使該靶材至少部分地可自該腔室移除。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之腔室，其中該腔室的軸承側在實質垂直於該第一方向(260)之一第二方向(270)中具有比該軸承側之相對側更大的延伸。
  3. 如申請專利範圍第1項所述之腔室，其中該外殼(510)於一軸承側之相對側處包含至少一靶材孔(480)，該靶材孔具有至少為該靶材(230)之截面積之大小。
  4. 如申請專利範圍第3項所述之腔室，其中該外殼(510)與該腔門(520)具有重疊部分，且該腔門鎖定該外殼之該靶材孔(480)。
  5. 如申請專利範圍第1~4項中任一項所述之腔室，其中該軸承(640；740；1140；1240)係位於該腔門中。
  6. 如申請專利範圍第1項所述之腔室，其中： 該軸承進一步用於旋轉該靶材，該靶材具有一實質圓柱形狀；該第一方向對應於該靶材的縱向軸；該腔室更包含一軸承側以及該軸承側的一相對側，該軸承側係該軸承所在之處，而該軸承側的該相對側在該第一方向中與該軸承側相對；該腔室係適於使該靶材在該腔門開啟時可於該第一方向中移除離開該軸承，並使該靶材在該腔門開啟時可於該第一方向中至少部分自該腔室移除；該腔室係適於容置該圓柱形狀之靶材；及該軸承係適於使該圓柱形狀之靶材可沿該圓柱形狀之靶材的縱向軸而旋轉。
  7. 一種用於物理氣相沉積之腔室(200；300；400；500；600；700；900；1000)，適於容置至少一靶材(230)與一基板，該腔室包含：一外殼(210；310；410；510；610；710；910；1010)；一腔門(220；320；420；520；620；720；920；1020；1100；1220)，用以開啟及關閉該腔室；以及至少一軸承(240；340；440；540；640；740；1140；1240)，用於固定該靶材，其中該軸承係裝設至該腔門。
  8. 如申請專利範圍第7項所述之腔室，其中該腔室(200；300；400；500；600；700；900；1000)更包含一軸承側，該軸承側包含該至少一軸承(240；340；440；540；640； 740；1140；1240)，且其中該靶材(230)係可於該腔室之一第一方向(260)中從該腔室移除，該第一方向係從該腔室的該軸承側運行至該軸承側的相對側。
  9. 如申請專利範圍第7項所述之腔室，其中該腔門(220；320；420；520；620；720；920；1020；1100；1220)的形狀係實質上相對於該第一方向(260)而對稱，且相對於實質上垂直於該第一方向之一第二方向(270)而呈非對稱。
  10. 如申請專利範圍第7項所述之腔室，其中該外殼(210；310；410；510；610；710；910；1010)的形狀係實質上相對於該第一方向(260)而對稱，且相對於實質上垂直於該第一方向之一第二方向(270)而呈非對稱。
  11. 如申請專利範圍第1至4項或第7至10項中任一項所述之腔室，其中該腔室(200；300；400；500；600；700；900；1000)包含一個以上的腔門。
  12. 如申請專利範圍第1至4項或第7至10項中任一項所述之腔室，其中該腔室(200；300；400；500；600；700；900；1000)係一用於濺射處理之腔室。
  13. 如申請專利範圍第1至4項或第7至10項中任一項所述之腔室，其中該腔室(200；300；400；500；600；700；900；1000)係適於一旋轉靶材。
  14. 如申請專利範圍第1至4項或第7至10項中任一項所述之腔室，其中該腔室(200；300；400；500；600；700；900；1000)更包含一驅動單元(360；760)以驅動一靶 材。
  15. 如申請專利範圍第1至4項或第7至10項中任一項所述之腔室，其中該至少一軸承(240；340；440；540；640；740；1140)係適於容置一濺射陰極。
  16. 如申請專利範圍第1至4項或第7至10項中任一項所述之腔室，其中該腔室(200；300；400；500；600；700；900；1000)係適於大於約1.5m之基板。
  17. 如申請專利範圍第7項所述之腔室，其中：該靶材具有一實質圓柱形狀及一縱向軸；該軸承進一步用於容置及旋轉該靶材；該腔室更包含：一軸承側以及該軸承側的一相對側，該軸承側係該軸承所在之處，而該軸承側的該相對側在該第一方向中與該軸承側相對；該軸承係適於使該圓柱形狀之靶材可沿該圓柱形狀之靶材的縱向軸而旋轉；及該靶材在該腔門開啟時可自該軸承移除，且該靶材在該腔門開啟時可至少部分自該腔室移除。
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