JP2004036760A - 真空用ゲート弁 - Google Patents

真空用ゲート弁 Download PDF

Info

Publication number
JP2004036760A
JP2004036760A JP2002194762A JP2002194762A JP2004036760A JP 2004036760 A JP2004036760 A JP 2004036760A JP 2002194762 A JP2002194762 A JP 2002194762A JP 2002194762 A JP2002194762 A JP 2002194762A JP 2004036760 A JP2004036760 A JP 2004036760A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
valve
valve body
vacuum
gate opening
gate valve
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2002194762A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4183984B2 (ja
Inventor
Seiji Shirai
白 井  聖 士
Masaaki Nose
能 勢  正 章
Akinori Toda
戸 田  成 則
Takehiro Nishijo
西 場  健 博
Tatsuo Takamure
高牟礼  辰 雄
Masanao Matsushita
松 下  正 直
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Valqua Industries Ltd
Nihon Valqua Kogyo KK
Original Assignee
Nippon Valqua Industries Ltd
Nihon Valqua Kogyo KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Valqua Industries Ltd, Nihon Valqua Kogyo KK filed Critical Nippon Valqua Industries Ltd
Priority to JP2002194762A priority Critical patent/JP4183984B2/ja
Publication of JP2004036760A publication Critical patent/JP2004036760A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4183984B2 publication Critical patent/JP4183984B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Sliding Valves (AREA)
  • Details Of Valves (AREA)

Abstract

【課題】大型のゲート弁において、メンテナンスあるいは弁体に取り付けられたシール部材の交換作業を、容易に行うことのできる真空用ゲート弁を提供する。
【解決手段】弁体46を移動させる軸22,23に対して、弁体46がヒンジ27などを介して起立自在に取り付けられていることを特徴とする。
【選択図】図2

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体製造装置等に使用される真空用ゲート弁に関する。
【0002】
【従来の技術】
シリコンウェハなどの半導体製造、薄膜製造、液晶製造などにおいては、クリーンな環境下、高い真空中で、イオンプレーティング、プラズマエッチングなどのワークの加工、処理などが行われている。
これらに使用される真空用ゲート弁は、例えば、図4および図5に示したような構造を有している。すなわち、真空用ゲート弁は、箱形状の弁箱本体20を有している。箱形状の弁箱本体20には、略矩形状のゲート開口部1が形成され、弁体9は軸13に直結され、軸とともに移動可能にされている。そして、弁体9の所定位置には、シール部材8が装着されている。
【0003】
このような弁体9は、軸13に案内されてゲート開口部1内に押し込まれ、シール部材8がシール面4、5、6に当接されることにより、ゲート開口部1が封止されている(特公平6−50148号公報参照)。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、このような真空用ゲート弁では、弁内部のメンテナンスを行ったり、あるいは必要に応じて弁体9に取り付けられたシール部材8を、交換したりする必要がある。
ところが、上記した真空用ゲート弁では、弁箱本体20とこの弁箱本体20に取り付けられた蓋体30との組み付けを解除してメンテナンスを行ったり、あるいはその状態から弁体9を図4、図5の右方に引き抜いて、シール部材8の取り替え作業を行なわなければならなかった。
【0005】
このような作業は、特に、真空ゲート弁が大型である場合に、作業が煩雑であるとともに、シール部材の交換に際して引き抜き方向にかなりの作業スペースが必要で、しかも多大な力が必要になるという問題があった。
また、特に、大型の真空用ゲート弁では、軸13の長さも長く、重量も重いため、弁体の引き出し操作は困難である。
【0006】
本発明はこのような実情に鑑み、大型なゲート弁であっても、メンテナンスあるいは弁体に取り付けられたシール部材の交換作業を、容易に行うことのできる真空用ゲート弁を提供することを目的としている。
【0007】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するための本発明は、
略箱形状に形成された弁箱本体に貫通して形成されたゲート開口部に、駆動軸がこのゲート開口部を横断する方向に移動することにより、前記駆動軸の先端に取り付けられた弁体が前記ゲート開口部に接近あるいは離反する方向に操作され、これにより、前記ゲート開口部の流体の流れが遮断あるいは許容される真空用ゲート弁であって、
前記駆動軸に支持されてゲート開口部内に配置される弁体が、回動可能であることを特徴とする真空用ゲート弁。
【0008】
このような構成であれば、弁体を弁箱本体から引き出さずに、メンテナンスを行ったり、シール部材の交換作業を行うことができる。
【0009】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照しながら本発明の実施例について説明する。
図1は、本発明の一実施例に係る真空用ゲート弁の断面図である。図2は図1に示した真空用ゲート弁の閉弁状態を示すA−A線方向の要部断面図である。
真空用ゲート弁10は、箱形状の弁箱本体12と、弁箱本体12の開口を覆う蓋体14と、移動可能な板状の弁体46とを備えている。弁体46は、蓋体14側から挿通された複数本の駆動軸22とガイド軸23とにより、ゲート開口部24に向かって移動あるいは離反するように構成されている。
【0010】
板状の弁体46は、幅方向に長く形成されているが、所定間隔置きに配置された軸22,23によって均等に案内されるようになっている。また、弁体46と駆動軸22との連結部は、ヒンジ27により、横倒しあるいは横になった状態から起立状態に、回動可能に取り付けられている。したがって、弁体46は、図2に示したように、ゲート開口部24内で駆動軸22あるいはガイド軸23に対し、45度さらには90度の角度にまで折り曲げることが可能にされている。また、起立した状態では、ガイド軸23にて固定されているため、その姿勢を保持することができる。したがって、通常の使用状態において、弁体46が横になってしまうようなことはない。
【0011】
このような構成からなる真空用ゲート弁10は、例えば、図3に示したように、2つの真空チャンバー29、31間に設置され、流体の流れを遮断することができる。
そして、弁体46に取り付けられたシール部材33は、長期間の使用により劣化する虞があるため、周期的に交換したり、メンテナンスを行ったりする必要がある。その場合には、真空チャンバー29,31間の流通を完全に開放状態にした後、作業者が真空チャンバー29内に入り、図示しないガイド軸23と弁板46との接合部を外し、起立状態にある弁体46を、ゲート開口部24の間口が大きく形成された側に傾倒し、シール部材33を弁体46から取り外し、新たなシール部材と交換すれば良い。
【0012】
したがって、本実施例による真空ゲート弁によれば、弁体46の抜き出しを支持している軸22,23の移動方向に大きな作業スペースを不要とすることができる。しかも、大重量であっても、その弁体を引き抜く必要がないため、軽作業でこの交換作業を行うことができる。
また、作業者が内部に入ることが出来ない程度の大きさであるとしても、ゲート開口部24内に手を挿入すれば、シール部材33の交換を容易に行なうことができる。
【0013】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明に係る真空用ゲート弁によれば、弁体を、これを支持している軸に対して傾倒させれば、劣化したシール部材を交換することができるので、弁体を移動させる方向に大きな作業スペースを不要とし、多大な力をかけずに、シール部材の交換を行うことができる。
【0014】
しかも、弁内部のメンテナンスを行う場合も、弁体を倒すことができるので、作業を容易に行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】図1は本発明の一実施例による真空用ゲート弁の断面図である。
【図2】図2は図1のA−A線方向の断面図である。
【図3】図3は図1に示した真空用ゲート弁を真空チャンバー内に設置したときの概略断面図である。
【図4】図4は従来の真空用ゲート弁の断面図である。
【図5】図5は、従来の真空用ゲート弁の図4とは異なる方向の断面図である。
【符号の説明】
10      真空用ゲート弁
12      弁箱本体
20      弁箱本体
22      駆動軸
23      ガイド軸
24      ゲート開口部
27      ヒンジ
33      シール部材
46      弁体

Claims (1)

  1. 略箱形状に形成された弁箱本体に貫通して形成されたゲート開口部に、駆動軸がこのゲート開口部を横断する方向に移動することにより、前記駆動軸の先端に取り付けられた弁体が前記ゲート開口部に接近あるいは離反する方向に操作され、これにより、前記ゲート開口部の流体の流れが遮断あるいは許容される真空用ゲート弁であって、
    前記駆動軸に支持されてゲート開口部内に配置される弁体が、回動可能であることを特徴とする真空用ゲート弁。
JP2002194762A 2002-07-03 2002-07-03 真空用ゲート弁 Expired - Fee Related JP4183984B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002194762A JP4183984B2 (ja) 2002-07-03 2002-07-03 真空用ゲート弁

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002194762A JP4183984B2 (ja) 2002-07-03 2002-07-03 真空用ゲート弁

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2004036760A true JP2004036760A (ja) 2004-02-05
JP4183984B2 JP4183984B2 (ja) 2008-11-19

Family

ID=31703375

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2002194762A Expired - Fee Related JP4183984B2 (ja) 2002-07-03 2002-07-03 真空用ゲート弁

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4183984B2 (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100983336B1 (ko) 2008-07-25 2010-09-20 주식회사 에스에프에이 플라즈마 처리장치
WO2014034247A1 (ja) * 2012-08-30 2014-03-06 東京エレクトロン株式会社 ゲートバルブおよび基板処理システム

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100983336B1 (ko) 2008-07-25 2010-09-20 주식회사 에스에프에이 플라즈마 처리장치
WO2014034247A1 (ja) * 2012-08-30 2014-03-06 東京エレクトロン株式会社 ゲートバルブおよび基板処理システム

Also Published As

Publication number Publication date
JP4183984B2 (ja) 2008-11-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US11309168B2 (en) Vacuum processing apparatus and maintenance apparatus
WO2019214578A1 (zh) 开门装置、传输腔室和半导体处理设备
KR100820617B1 (ko) 이중슬롯밸브, 이중슬롯밸브의 제조방법 및 이중슬롯밸브의 작동방법
JP4010314B2 (ja) ゲートバルブ装置、処理システム及びシール部材の交換方法
JP6209043B2 (ja) ゲートバルブおよび基板処理装置
TWI503914B (zh) 雙向閘閥及具有雙向閘閥的基板處理系統
US20050274459A1 (en) Slit valve door seal
KR101874881B1 (ko) 반도체 제조설비용 도어 개폐장치
KR20160032196A (ko) 로봇
US7651311B2 (en) Substrate container opener and opener-side door drive mechanism thereof
KR101494307B1 (ko) 다양한 형태의 진공장치에 설치가 가능한 진공 게이트밸브
US20230084971A1 (en) Robot, and substrate transportation system comprising the same
JP5269568B2 (ja) 基板処理装置及び基板処理装置内部の工程空間を開閉する方法
JP5568118B2 (ja) 傾斜駆動を用いるゲートバルブ
JP2004036760A (ja) 真空用ゲート弁
KR20060092615A (ko) 역압방지용 게이트 밸브
JP2004036759A (ja) 真空用ゲート弁
JP2005039265A (ja) 真空室に基板を装填するためのロードロック装置
US20120087766A1 (en) Transfer module
JP2007327623A (ja) ゲート弁およびゲート弁におけるシール材の交換方法
US11387128B2 (en) Chamber structure
KR101473826B1 (ko) 기판회전 진공장치
JP2005203452A (ja) 基板保持反転装置
JP2011041444A (ja) 平面モータ
JP2006057816A (ja) 片真空ゲート弁

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20050602

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20070905

A131 Notification of reasons for refusal

Effective date: 20070918

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

A521 Written amendment

Effective date: 20071105

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20080304

A521 Written amendment

Effective date: 20080403

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

A911 Transfer of reconsideration by examiner before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911

Effective date: 20080508

A131 Notification of reasons for refusal

Effective date: 20080722

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20080724

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20080819

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Effective date: 20080903

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 3

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110912

R150 Certificate of patent (=grant) or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 4

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120912

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees