TWI503914B - 雙向閘閥及具有雙向閘閥的基板處理系統 - Google Patents

Description

雙向閘閥及具有雙向閘閥的基板處理系統

本發明關於用於真空處理設備的閘閥，並且更特別關於用於處理半導體基板的基板處理設備之閘閥和具有其之基板處理系統。

一般來說，半導體基板是透過真空處理製程的許多步驟所製造。不同類型的真空處理製程如沉積，蝕刻，和灰化是在具有低於預定氣壓的真空狀態之處理室中所執行。良率是在半導體製程中非常重要的元素之一者。為了增加半導體製程中的良率，具有不同結構的基板處理系統被使用。例如，基板處理系統包括成行型基板處理系統，其中複數個處理室依次地佈置，和群集型基板處理系統，其中複數個處理室輻射狀佈置。

圖1是繪示習知群集型基板處理系統的例子之圖。

參照圖1，群集型基板處理系統70包括具有多邊形橫截面結構的第一輸送室75。複數個處理室76，77，78，79，和80和鎖定負載室74輻射狀佈置以連接第一輸送室75。閘閥92，93，94，95，和96之每一者設置於第一輸送室75和複數個處理室76，77，78，79，和80之每一者之間。同樣地，閘閥91設置於第一輸送室75和鎖定負載室74之間。第二輸送室73連接鎖定負載室74的另一表面並且閘閥90設置於鎖定負載室74和第二輸送室73之 間。配備有複數個卡帶72的設備前端模組(Equipment Front End Module；EFEM)71設置於第二輸送室73之前。

在真空狀態中操作的輸送機器人(未顯示)被安裝在第一輸送室75，並且在大氣壓力狀態中操作的輸送機器人(未顯示)被安裝在第二輸送室73。當以第二輸送室73執行基板交換操作時，鎖定負載室74維護大氣壓力狀態，並且當以第一輸送室75執行基板交換操作時，維護真空狀態。第一輸送室75維護真空狀態並且以連接於第一輸送室75周圍的複數個室74，76，77，78，79，和80執行基板交換操作。

這樣的群集型基板處理系統70具有結構，其可透過輻射狀佈置於第一輸送室75周圍中的複數個處理室76，77，78，79，和80藉由同時處理複數個待處理的基板以增加良率。然而，當複數個處理室76，77，78，79，和80破壞時，有缺點在於為了修護破壞的室，破壞的室應被替換或基板處理系統70應整體停止。

同時，一般來說，設置於室間的基板入口透過上述閘閥被鎖住。閘閥使用密封構件如O型環。密封構件對應於可消耗構件並且在一定期間使用密封構件之後被替換。然而，當需要替換密封構件時，基板處理系統的操作應停止，使得它造成良率下降。在成行型基板處理系統的情況中，亦有存在如上述相同的問題。

如上述，在兩室透過閘閥彼此連接的情況中，當為了 室之一者的維護必須停止基板處理系統的整體操作或為了閘閥的維護停止基板處理系統的整體操作時，造成量率下降的主要問題發生。

本發明的目的是提供雙向閘閥和具有其之基板處理系統，其中在不停止基板處理系統的整體操作的同時，安裝於基板處理系統之室的維護是可能的，並且閘閥的維護是可能的。

為了達到以上目的，依據本發明較佳實施方式的一態樣提供一種雙向閘閥包括：具有連接第一室的第一入口，連接第二室的第二入口，和可開閉的盒蓋之閥室；具有用於密封第一入口的第一密封板，用於密封第二入口的第二密封板，和第一和第二密封板被安裝至其上的移動模組體之移動模組；具有連接移動模組體而使得移動模組體可線性移動的推挽模組體，用於在第一入口方向中移動移動模組而使得第一密封板密封第一入口的第一操作體，和用於在第二入口方向中移動移動模組而使得第二密封板密封第二入口的第二操作體之推挽模組；用於驅動第一操作體之第一驅動裝置；用於驅動第二操作體之第二驅動裝置；用於移動操作位置和待機位置之間的推挽模組之第三驅動裝 置，其中，當推挽模組由第三驅動裝置移動到操作位置時，第一操作體由第一驅動裝置操作或第二操作體由第二驅動裝置操作，使得第一入口和第二入口之一者被選擇性地密封。

較佳地，依據實施方式，第一操作體包括旋轉地連接推挽模組體的旋轉軸和具有連接至第一驅動裝置的移動軸之推桿，並且，當第一驅動裝置移動移動軸時，推桿於旋轉軸上旋轉的同時在第一方向中推和移動移動模組，使得第一密封板密封第一入口。

依據實施方式，第一驅動裝置包括連接第一操作體的第一軸和用於驅動第一軸的第一汽缸，第二驅動裝置包括連接第二操作體的第二軸和用於驅動第二軸的第二汽缸，以及第三驅動裝置包括連接第三操作體的第三軸和用於驅動第三軸的第三汽缸。

依據實施方式，第一至第三汽缸對應於液壓驅動汽缸，氣壓驅動汽缸，和電磁圈驅動汽缸之一者

依據實施方式，雙向閘閥更包括用於真空密封第一至第三驅動裝置於閥室內的伸縮盒。

依據實施方式，移動模組體由第一操作體或第二操作體操作之後，推挽模組包括用於返回移動模組體至原始位置的彈性構件。

依據實施方式，雙向閘閥更包括設置於推挽模組和移動模組之間的一或多個滾輪。

依據本發明較佳實施方式的另一態樣提供一種基板處 理系統包括：第一室；第二室；具有連接第一室的第一入口，連接第二室的第二入口，和可開閉的盒蓋之閥室；具有用於密封第一入口的第一密封板，用於密封第二入口的密封板，和第一和第二密封板被安裝至其上的移動模組體之移動模組；具有連接移動模組體而使得移動模組體可線性移動的推挽模組體，用於在第一入口方向中移動移動模組而使得第一密封板密封第一入口的第一操作體，和用於在第二入口方向中移動移動模組而使得第二密封板密封第二入口的第二操作體之推挽模組；用於驅動第一操作體之第一驅動裝置；用於驅動第二操作體之第二驅動裝置；用於移動操作位置和待機位置之間的推挽模組之第三驅動裝置，其中，當推挽模組由第三驅動裝置移動到操作位置時，第一操作體由第一驅動裝置操作或第二操作體由第二驅動裝置操作，使得第一入口和第二入口之一者被選擇性地密封。

依據實施方式，第一室對應於輸送室，此輸送室具有用於輸送待處理的基板之輸送設備，並且第二室對應於用於真空處理待處理的基板之處理室。

依據實施方式，輸送室對應於大氣壓力室和真空室之一者。

依據實施方式，第一和第二室是用於真空處理待處理的基板之處理室。

依據實施方式，第一室對應於輸送室，此輸送室具有用於輸送待處理的基板之輸送設備，並且第二室對應於用 於交換待處理的基板之鎖定負載室。

依據本發明，當連接至系統的兩側之第一室和第二室之一者由於維護而停止時，雙向閘閥和具有其之基板處理系統可選擇性地密封連接至正常操作室的入口，使得透過僅停止需要維護的室而不停止正常操作室以執行維護室是可能的。此外，當密封板的O型環需要被替換時，本發明可選擇性地密封兩出口之出口，其可實現O型環交換而無整體設備的操作之停止。因此，根據本發明的雙向閘閥可改善設備的維護效率和設備的總體操作率，並且藉此增加系統的良率。

在下文中，將參照附圖來描述本發明例示性實施方式。在下面的描述中，相同的元件將用相同的參考標號被指定，儘管它們是在不同的附圖中顯示。另外，在本發明的以下描述中，當可能使本發明的標的相當不明確時，結合入本文的已知功能和配置的詳細描述將被省略。

圖2是依據本發明例示性實施方式的雙向閘閥之透視圖。

參照圖2，根據本發明例示性實施方式的雙向閘閥10包括閥室20。閥室20包括具有第一入口23和第二個入口24的閥室殼體22，和可開閉地安裝在閥室殼體22的上部 的閥室蓋21。閥室蓋21連接閥室殼體22，並且密封件如O形環(未顯示)被佈置在閥室殼體22和閥室蓋21之間，使得閥室殼體22可被密封。驅動構件如汽缸模組30，用於提供用於雙向閘閥10的操作的驅動動力，被連接到閥室殼體22的下部。汽缸模組30包括複數個軸和汽缸模組體31，配備有用於驅動軸的汽缸。汽缸模組體31連接閥室殼體22，並且密封件如O形環(未顯示)被設置在汽缸模組體31和閥室殼體22之間以密封閥室殼體22。

圖3是繪示例子的橫截面圖，其中圖2的雙向閘閥被安裝在兩室之間，並且圖4和圖5是用於描述雙向閘閥的操作方法之圖。

參照圖3，閥室20被安裝在兩室60和62之間以在空間上連接或阻擋兩室60和62。閥室20的第一入口被連接到第一室60的入口61，並且閥室20的第二入口24被連接到第二室62的入口63。推挽模組40和移動模組50被安裝在閥室20內。用於密封第一入口23的第一密封板52和用於密封第二入口24的第二密封板54被安裝在移動模組50中。移動模組50垂直安裝於推挽模組40，使得移動模組50可線性移動。推挽模組40連接汽缸模組30。

圖6是繪示安裝於閥室內的移動模組和推挽模組之透視圖，並且圖7是沿圖6的線A-A之橫截面圖。此外，圖8和9是沿圖7的線B-B和C-C之橫截面圖。

參考圖6至9，移動模組50連接推挽模組40，使得 移動模組50可在推挽模組40的上部中垂直線性移動。移動模組50包括配有第一和第二密封板52和54之移動模組體51。第一密封板54被安裝到面對第一入口23的移動模組體51之一表面，並且第二密封板54被安裝到面對第二個入口24的移動塊體52的另一表面。移動模組50藉由推挽模組40操作以選擇性地密封第一入口23和第二入口24。

推挽模組40被安裝汽缸模組30的上方，並包括推挽模組體41，其中移動模組體51與其連接，使得移動模組體51可線性和垂直移動。推挽模組體41包括一對第一操作體43和44以及另一對第二操作體構45和46。第一操作體43和44在第一入口的方向中移動移動模組50以密封第一入口23。第二操作體45和46在第二入口的方向中移動移動模組50以密封第二入口24。

汽缸模組30包括配備有複數個軸32a，33a，34a，35a，和36a的汽缸模組體31作為驅動裝置，提供用於移動模組50和推挽模組40的操作的驅動動力，和用於驅動平行於軸佈置的軸(在圖7中示出)之複數個汽缸32b，33b，34b，35b，和36b。位於中心的軸32a和汽缸32b連接推挽模組體41並且對應用於上升和下降待機位置(SL)與操作位置(AL)之間的推挽模組50之第一驅動裝置32。位於汽缸體31內的內側中之一對汽缸33b和34b和一對軸33a和34a連接一對操作體43和44並且對應一對第二驅動裝置33和34。位於汽缸體31內的外側中 之一對汽缸35b和36b和一對軸35a和36a連接一對第二操作體45和46並且對應第三驅動裝置35和36用於使第二密封板54具有推挽式運動。

汽缸模組30包括複數個汽缸32b，33b，34b，35b，和36b整合地構建汽缸模組體31，但汽缸可以單獨構建汽缸模組體31。複數個汽缸32b，33b，34b，35b，和36b可由液壓驅動方法或氣動驅動方法實現。替代地，驅動方法可被改變成電磁線圈驅動方法。在本實施方式中，第一至第三驅動裝置是由軸和汽缸實現，但它們可被改變成不同類型的其他機械/電性方法。

當第一至第三驅動裝置32，33，34，35，36是由汽缸結構實現時，O形環被用於密封汽缸，但伸縮盒37可用於密封處理如圖11所示。替代地，O形環和伸縮盒之二者可用於密封處理。

如上所述，推挽模組40位於閥室20內的下端的待機位置(SL)，使得雙向閘閥10允許第一和第二入口23和24的是在打開狀態。為了密封第一和第二入口23和24，推挽模組40被升到操作位置(AL)。推挽模組40到操作位置(AL)的升高藉由透過複數個汽缸32b，33b，34b，35b和36b的同時升高之複數個軸32a，33a，34a，35a，和36a的同時升高執行。亦即，位於中心的汽缸32b，位於內側的一對汽缸33b和34b，和位於汽缸模組體31內的外側的一對汽缸35b和36b是同時操作，並且然後推挽模組40被升高到操作位置。當推挽模組40到操作位置 (AL)的升高完成，移動模組50在第一入口23的方向中，或在第二個入口24的方向中被移動，以選擇性地密封第一入口23或第二入口24。

當移動模組50密封第一入口23時，位在中心的汽缸部32b和位於外側中的汽缸35b和36b被固定而沒有升高移動，並且僅位於內側中的汽缸33b和34b升高多一點。然後，如圖8所示，第1操作體43在第一入口23的方向中執行用於移動模組50的推移動。移動模組50在第一入口的方向中透過第一操作體43的推移動向前移動，並且然後密封第一入口23。

更具體地，參照圖8，第一操作體43包括可旋轉地連接推挽模組體41的旋轉軸43b，和具有連接到軸33a的移動軸43c之推桿43a。當汽缸自操作位置(AL)升高時，上推力是透過連接軸33a的移動軸43c產生在推桿43a中。在這個時候，當藉由上推力在旋轉軸43b旋轉時，推桿43a向前移動。然後，移動模組50一般在第一入口的方向中向前移動並且第一密封板52密封第一入口23。打開第一入口23的過程是透過上述密封操作的逆過程。

當移動模組50密封第二入口24時，位於中心的汽缸32b和位於內側中的汽缸33b和34b被固定而沒有升高移動，僅位於外側中的汽缸35b和36b升高多一點。然後，如圖9所示，第二操作體46在第二入口24的方向中執行用於移動模組50的推移動。移動模組50透過第二操作體46的推移動在第二入口的方向中向前移動，並且然後密封 第二入口24。

更具體地，參照圖9，第二操作體46包括可旋轉地連接推挽模組體41的旋轉軸46b，和具有連接到軸36a的移動軸46c之推桿43a。當汽缸自操作位置(AL)升高時，上推力是透過連接軸36a的移動軸46c產生在推桿46a中。在這個時候，當藉由上推力在旋轉軸46b旋轉時，推桿46a向前移動。然後，移動模組50一般在第二入口的方向中向前移動並且第二密封板54密封第二入口24。打開第二入口24的過程是透過上述密封操作的逆過程。

返回參照圖6和7，當移動模組50移動時，一或多個輪42和47之間可被形成在移動模組50和推挽模組40之間為了減少與推挽模組40的摩擦以使能夠彈性移動。例如，兩個輪42和47可旋轉地安裝在推挽模組主體41的兩側。因此，移動模組體51被設置在推挽模組體41上以具有預定間隙。

在容納部35的上部中具有開口的容納部65設置在推挽模組體40的中心，並且插入在容納部65中的連接部66被設置在推挽模組體40的中心的下部。連接部66與線性移動軸58和59連接並因此，移動模組體51沿與線性移動軸58和59一起移動。複數個諸如盤簧的彈性構件56和57中被設置在容納部65中。彈性構件56和57使移動模組體51能夠由第一操作體43和44或第二操作體45和46操作，並且然後使移動模組體51返回到原始位置。

圖10是用於描述替換第一或第二密封板的方法之 圖。

參照圖10，如上文所述，依據本發明的雙向閘閥10可選擇性地密封第一或第二入口23或24之一者。因此，第二密封板24是在第一入口23被密封的狀態下藉由打開閥室蓋21被替換，並且第一密封板23是在第二入口24被密封的狀態下藉由打開閥室蓋21被替換。

一般來說，用於閘閥的密封板之O形環對應於應定期更換的消耗品。因此，設備的整體操作應週期性地停止以替換用於密封板的O形環。然而，依據本發明的雙向閘閥10可替換用於第一或第二密封板52或54的O形環53和54，而不停止設備的整體操作。例如，當安裝在第一密封板52的O形環需要被更換時，第二密封板54被操作以密封第二入口24(參見圖5)，閥室蓋21被打開，第一密封板52被分離，並且然後O形環53可被替換。當然，在這種情況下，僅連接到第一入口23的室60被部分地停止。因此，如上所述，本發明不高度惡化設備的總良率，因為O形環替換過程可根據具有雙向閘閥10的總設備不被停止，而是僅一室的事實被實現，其需要被更換，在更換O形環53和54的過程中被部分地停止。

依據本發明的雙向閘閥10可有助益地被使用在包括在設備中的室需要維護的情況中。例如，當操作為了第一室60的維護停止時，第二密封板54被操作以密封第二入口24(參見圖5)，並且然後維護僅為了第一室60執行。替代地，當為了第二室62的維護的操作停止時，第 一密封板52被操作以密封第一入口23(參見圖4)，並且然後維護僅為了第二室62執行。如上所述，當連接到雙向閘閥10兩側的第一和第二室60和62之一者為了維護被停止時，另一室可持續被操作。雙向閘閥10被設置在第一和第二室60和62之間。

上述依據本發明的雙向閘閥10可有效地用於不同的類型的基板處理系統，如群集型基板處理系統或成行型基板處理系統。例如，雙向閘閥可被構建於真空輸送室和複數個用於真空處理的處理室之間。替代地，它可以被構建在大氣壓力的輸送室和用於真空處理的處理室之間。替代地，它可以被構建在真空輸送室和鎖定負載室之間。如上所述，依據本發明的雙向閘閥10可用於不同的基板處理設備。此時，當需要部分維護的室被發現在包括於基板處理系統中的許多室之間時，維護可以這樣的方式實現，即整體基板處理系統不停止而是僅需要維護的室部分停止。

雖然根據本發明的雙向閘閥的實施方式和具有其之基板處理系統為了說明目的已經描述，對於本領域技術人員將會理解，在不脫離如所附申請專利範圍中所揭露的本發明的範圍和精神的情況下，不同的修改，附加和替換是可能的。因此，在本發明中所揭露的實施方式旨在說明本發明的技術思想的範圍，本發明的範圍並不限定於本實施方式。本發明的範圍應被解釋在所附申請專利範圍的基礎上，以所有的技術思想包括在等效於屬於本發明所附申請專利範圍的範圍內這樣的方式。

10‧‧‧雙向閘閥

20‧‧‧閥室

21‧‧‧閥室蓋

22‧‧‧閥室殼體

23‧‧‧第一入口

24‧‧‧第二入口

30‧‧‧汽缸模組

31‧‧‧汽缸模組體

32‧‧‧第一驅動裝置

33，34‧‧‧第二驅動裝置

35，36‧‧‧第三驅動裝置

32a，33a，34a，35a，36a‧‧‧軸

32b，33b，34b，35b，36b‧‧‧汽缸

37‧‧‧伸縮盒

40‧‧‧推挽模組

41‧‧‧推挽模組體

42，47‧‧‧輪

43，44‧‧‧第一操作體

43a，46a‧‧‧推桿

43b，46b‧‧‧旋轉軸

43c，46c‧‧‧移動軸

45，46‧‧‧第二操作體

50‧‧‧移動模組

51‧‧‧移動模組體

52‧‧‧第一密封板

53‧‧‧第一O型環

54‧‧‧第二密封板

55‧‧‧第二O型環

56，57‧‧‧彈性構件

58，59‧‧‧線性移動軸

60‧‧‧第一室

61‧‧‧入口

62‧‧‧第二室

63‧‧‧入口

70‧‧‧基板處理系統

71‧‧‧設備前端模組

72‧‧‧托架

73‧‧‧第一輸送室

74‧‧‧鎖定負載室

75‧‧‧第二輸送室

76-80‧‧‧處理室

90-96‧‧‧閘閥

SL‧‧‧待機位置

AL‧‧‧操作位置

從接下來連結附圖的細節描述，本發明的上述和其他態樣，特徵，優點將是顯而易見的。其中：圖1繪示習知的群集型基板處理系統的例子；圖2是依據本發明例示性實施方式的雙向閘閥之透視圖；圖3是繪示例子的橫截面圖，其中圖2的雙向閘閥被安裝在兩室之間；圖4和圖5是用於描述雙向閘閥的操作方法之圖；圖6是繪示安裝於閥室內的移動模組和推挽模組之透視圖；圖7是沿圖6的線A-A之橫截面圖；圖8和圖9是沿圖7的線B-B和C-C之橫截面圖；圖10是用於描述替換第一或第二密封板的方法之圖；以及圖11繪示使用用於雙向閘閥的伸縮盒的例子之圖。

10‧‧‧雙向閘閥

30‧‧‧汽缸模組

31‧‧‧汽缸模組體

32a，33a，34a，35a，36a‧‧‧軸

40‧‧‧推挽模組

41‧‧‧推挽模組體

42，47‧‧‧輪

43，44‧‧‧第一操作體

45，46‧‧‧第二操作體

50‧‧‧移動模組

51‧‧‧移動模組體

52‧‧‧第一密封板

54‧‧‧第二密封板

55‧‧‧第二O型環

Claims (12)

1. 一種雙向閘閥包含：一閥室，具有連接一第一室的一第一入口，連接一第二室的一第二入口，和一可開閉的一盒蓋；一移動模組，具有用於密封該第一入口的一第一密封板，用於密封該第二入口的一第二密封板，和該第一和第二密封板被安裝至其上的一移動模組體；一推挽模組，具有連接該移動模組體而使得該移動模組體可線性移動的一推挽模組體，用於在第一入口方向中移動該移動模組而使得該第一密封板密封該第一入口的一第一操作體，和用於在第二入口方向中移動該移動模組而使得該第二密封板密封該第二入口的一第二操作體；一第一驅動單元，與該第一操作體成行地佈置，用於驅動該第一操作體；一第二驅動單元，與該第二操作體成行地佈置，用於驅動該第二操作體；及一第三驅動單元，佈置在該第一驅動單元及該第二驅動單元之間，用於移動一操作位置和一待機位置之間的該推挽模組，其中，當該推挽模組由該第三驅動單元移動到該操作位置時，該第一操作體由該第一驅動單元操作和該第二操作體由該第二驅動單元操作，使得該第一入口和該第二入口之一者被選擇性地密封。
2. 如申請專利範圍第1項所述之雙向閘閥，其中該第 一操作體包含旋轉地連接該推挽模組體的一旋轉軸和具有連接至該第一驅動單元的一移動軸之一推桿，並且，當該第一驅動單元移動該移動軸時，該推桿於該旋轉軸上旋轉的同時在該第一入口方向中推和移動該移動模組，使得該第一密封板密封該第一入口。
3. 如申請專利範圍第1項所述之雙向閘閥，其中該第一驅動單元包含連接該第一操作體的一第一軸和用於驅動該第一軸的一第一汽缸，該第二驅動單元包含連接該第二操作體的一第二軸和用於驅動該第二軸的一第二汽缸，以及該第三驅動單元包含連接該推挽模組的一第三軸和用於驅動該第三軸的一第三汽缸。
4. 如申請專利範圍第3項所述之雙向閘閥，其中該第一至該第三汽缸對應於一液壓驅動汽缸，一氣壓驅動汽缸，和一電磁圈驅動汽缸之一者。
5. 如申請專利範圍第1項所述之雙向閘閥，更包含用於真空密封該第一至該第三驅動單元於該閥室內的一伸縮盒。
6. 如申請專利範圍第1項所述之雙向閘閥，其中在該移動模組體由該第一操作體或該第二操作體操作之後，該推挽模組包含用於返回該移動模組體至一原始位置的一彈性構件。
7. 如申請專利範圍第1項所述之雙向閘閥，更包含設置於該推挽模組和該移動模組之間的一或多個滾輪。
8. 一種基板處理系統包含： 一第一室；一第二室；一閥室，具有連接該第一室的一第一入口，連接該第二室的一第二入口，和一可開閉的一盒蓋；一移動模組，具有用於密封該第一入口的一第一密封板，用於密封該第二入口的一密封板，和該第一和第二密封板被安裝至其上的一移動模組體；一推挽模組，具有連接該移動模組體而使得該移動模組體可線性移動的一推挽模組體，用於在第一入口方向中移動該移動模組而使得該第一密封板密封該第一入口的一第一操作體，和用於在第二入口方向中移動該移動模組而使得該第二密封板密封該第二入口的一第二操作體；一第一驅動單元，與該第一操作體成行地佈置，用於驅動該第一操作體；一第二驅動單元，與該第二操作體成行地佈置，用於驅動該第二操作體；及一第三驅動單元，佈置在該第一驅動單元及該第二驅動單元之間，用於移動一操作位置和一待機位置之間的該推挽模組，其中，當該推挽模組由第三驅動單元移動到該操作位置時，該第一操作體由該第一驅動單元操作和第二操作體由該第二驅動單元操作，使得該第一入口和該第二入口之一者被選擇性地密封。
9. 如申請專利範圍第8項所述之基板處理系統，其中 該第一室對應於一輸送室，該輸送室具有用於輸送待處理的一基板之一輸送設備，並且該第二室對應於用於真空處理待處理的一基板之一處理室。
10. 如申請專利範圍第9項所述之基板處理系統，其中該輸送室對應於一大氣壓力室和一真空室之一者。
11. 如申請專利範圍第8項所述之基板處理系統，其中該第一和該第二室是用於真空處理待處理的一基板之處理室。
12. 如申請專利範圍第8項所述之基板處理系統，其中該第一室對應於一輸送室，該輸送室具有用於輸送待處理的一基板之一輸送設備，並且該第二室對應於用於交換待處理的一基板之一鎖定負載室。