TWI536056B - A polarizing plate, a liquid crystal display device, and a polarizing plate - Google Patents

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TWI536056B TW103111531A TW103111531A TWI536056B TW I536056 B TWI536056 B TW I536056B TW 103111531 A TW103111531 A TW 103111531A TW 103111531 A TW103111531 A TW 103111531A TW I536056 B TWI536056 B TW I536056B
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Mie Nakata
Tetsurou Takeda
Shunsuke Murayama
Tomohiro Yamashita
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Nitto Denko Corp
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Description

偏光板、液晶顯示裝置、及偏光板之製造方法
本發明係關於一種於特定之表面具有摩擦力降低成分之偏光板、及將該偏光板配置於液晶單元與背光之間的液晶顯示裝置。另外，本發明係關於一種可簡便地製造上述偏光板之方法。
近年來，液晶顯示裝置廣泛用作表、手機、筆記型電腦、個人電腦用顯示器、DVD播放機、電視等之顯示裝置。此種液晶顯示裝置通常包括包含冷陰極管或發光二極體(LED)之背光、光擴散板、1個或複數個光擴散片、背面側偏光板、液晶單元及視認側偏光板。
其中，將液晶顯示裝置用於大畫面液晶電視用途之情形時，薄型化而作為壁掛電視之需求明顯化，與此相對應，必需使液晶顯示裝置中使用之構件薄壁化。
與此種液晶顯示裝置之薄膜化相對應，例如，揭示一種光擴散偏光板(例如，參照專利文獻1)，其具有與偏光板之單面或兩面密接之光擴散層，該光擴散層具有特定之微細凹凸結構且具有鉛筆硬度為H以下之表面硬度。於專利文獻1中記載藉由使用上述光擴散偏光板，可省略於液晶單元與背光之間配置之光擴散片，因此可形成薄型之顯示裝置。
進而，揭示一種背面側偏光板及使用其之液晶顯示裝置(例如，參照專利文獻2)，該背面側偏光板於特定之條件下對表面進行摩擦後之劃痕數為10條以下。
[先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本專利特開2000-75136號公報
[專利文獻2]日本專利特開2010-211196號公報
伴隨液晶顯示裝置中使用之構件之薄型化，背面側偏光板與擴散片之距離變近，因此背面側偏光板與擴散片接觸，出現背面側偏光板之表面被擴散片劃傷的問題。於專利文獻1中記載藉由將光擴散層之表面硬度控制為H以下，可防止於偏光板上重疊配置之聚光片等光學構件之劃傷，但尚未對偏光板自身之表面之耐劃傷性進行研究。另外，於專利文獻1之方法中，由於藉由進行噴砂處理而製作光擴散層，因此於生產性、成本方面亦存在問題。另外，由於具有光擴散層，自背光放出之光被擴散，亦存在面板對比度較差之問題。
另外，雖然於專利文獻2中對偏光板之表面之劃痕進行研究，但於偏光板之表面形成光擴散層，就生產性、成本方面存在問題。另外，使用該偏光板之液晶顯示裝置之面板對比度之方面亦不充分。
因此本發明之目的在於提供一種偏光板，其係耐劃傷性較高者，且藉由具備該偏光板可提供具有高對比度之液晶顯示裝置。另外，本發明之目的亦在於提供一種可簡便地製造上述偏光板之方法。
本發明者等人為了解決上述問題而重複努力研究，結果發現，利用以下所示之偏光板可達成上述目的，從而完成本發明。
即，本發明係關於一種偏光板，其特徵在於，其係至少依序具備液晶單元、偏光板、擴散片及背光且上述偏光板與上述擴散片接觸之液晶顯示裝置中之上述偏光板，且 上述偏光板於上述偏光板與上述擴散片接觸之表面具有摩擦力降低成分，上述偏光板之具有摩擦力降低成分之表面與上述擴散片之動摩擦力在1.0N以下。
上述偏光板較佳為於偏光元件之至少單面積層有透明保護膜。
上述偏光板較佳為於上述偏光板與上述擴散片接觸之表面不設置擴散層。
另外，本發明係關於一種液晶顯示裝置，其特徵在於依序具備視認側偏光板、液晶單元、上述偏光板、擴散片及背光且上述偏光板與上述擴散片接觸。
進而，本發明係關於一種上述偏光板之製造方法，其特徵在於包括：準備於偏光元件之至少單面積層有透明保護膜之偏光板的步驟；形成於基材上具有含有摩擦力降低成分之層之轉印片的步驟；以上述轉印片之含有摩擦力降低成分之層與上述偏光板之透明保護膜接觸之方式，將上述偏光板與上述轉印片貼合而形成積層體的步驟；及自上述積層體剝離轉印片之步驟。
於本發明中，於背面側之偏光板與擴散片接觸之表面具有摩擦力降低成分，將偏光板之具有摩擦力降低成分之表面與上述擴散片的動摩擦力設為1.0N以下，藉此，即便不於偏光板表面形成光擴散層或硬塗層等，亦可製成具有較高之耐劃傷性之偏光板。因此，本發明之偏光板即便與液晶顯示裝置之擴散片接觸，亦不會於偏光板表面產生劃痕。另外，藉由使用本發明之偏光板，可提供較高之對比度之液晶顯示裝置。另外，本發明藉由使具有含有摩擦力降低成分之層之轉印片貼合於偏光板從而將摩擦力降低成分轉印至偏光板之非常簡便的 方法，可製造具有較高之耐劃傷性之偏光板。
1‧‧‧液晶顯示裝置
2‧‧‧背面側偏光板
3‧‧‧透明保護膜
4‧‧‧偏光元件
5‧‧‧透明保護膜
6‧‧‧視認側偏光板
7‧‧‧透明保護膜
8‧‧‧偏光元件
9‧‧‧透明保護膜
10‧‧‧液晶單元
11‧‧‧擴散片
12‧‧‧背光
A‧‧‧背面側偏光板之與擴散片接觸之表面
圖1係表示本發明之液晶顯示裝置之一態樣的概念圖。
1.偏光板
本發明之偏光板之特徵在於，其係至少依序具備液晶單元、偏光板、擴散片及背光且上述偏光板與上述擴散片接觸之液晶顯示裝置中的上述偏光板(背面側偏光板)，且上述偏光板於上述偏光板與上述擴散片接觸之表面具有摩擦力降低成分，上述偏光板之具有摩擦力降低成分之表面與上述擴散片之動摩擦力在1.0N以下。
本發明之偏光板只要於與液晶顯示裝置之擴散片接觸之表面具有摩擦力降低成分，且上述偏光板之具有摩擦力降低成分之表面與上述擴散片的動摩擦力在1.0N以下即可，偏光板之構成並無特別限定，例如可列舉於偏光元件之單側或兩側適當經由接著層而積層成為保護層之透明保護膜的構成。
(1)偏光元件
作為上述偏光元件，並無特別限制，可使用各種偏光元件。作為偏光元件，例如可列舉：聚乙烯醇(PVA)系樹脂膜、部分縮甲醛化PVA系樹脂膜、使碘或二色性染料等二色性材料吸附於乙烯．乙酸乙烯酯共聚物系部分皂化膜等親水性高分子膜並進行單軸延伸而成者、PVA之脫水處理物或聚氯乙烯之脫鹽酸處理物等多烯系配向膜等。該等之中較佳為包含PVA系樹脂膜及碘等二色性物質之PVA系偏光元件。
PVA系偏光元件使用將PVA系樹脂膜用二色性物質(代表而言為碘、二色性染料)染色後經單軸延伸而成者。構成PVA系樹脂膜之PVA 系樹脂之聚合度較佳為100~10000，更佳為1000~5000。若聚合度過低，則進行特定之延伸時易拉斷，另外若聚合度過高，則於延伸時變得需要非常大之張力，有變得無法進行機械延伸之虞。另外，PVA樹脂之平均皂化度較佳為85~100莫耳%左右，更佳為90~100莫耳%。
構成偏光元件之PVA系樹脂膜可利用任意適當之方法(例如，將使樹脂溶解於水或有機溶劑而成之溶液流延製膜的流延法、澆鑄法、擠出法)來成形。PVA系樹脂膜之厚度通常為10~300μm左右，較佳為30~75μm左右。
作為偏光元件之製造方法，可根據目的、使用材料及條件等採用任意適當之方法。例如，可採用將上述PVA系樹脂膜供給於通常包括膨潤、染色、交聯、延伸、水洗及乾燥步驟之一連串之製造步驟的方式。在除了乾燥步驟以外之各處理步驟中，可藉由將PVA系樹脂膜浸漬於含有各步驟中所用之溶液之液體中來進行處理。膨潤、染色、交聯、延伸、水洗及乾燥之各處理的順序、次數或是否實施可根據目的、使用材料、條件等適當設定。例如，可於1個步驟中同時進行幾個處理，亦可同時進行膨潤處理、染色處理及交聯處理。另外例如，可適當採用於延伸處理前後進行交聯處理之方法。另外例如，水洗處理可於全部之處理之後進行，亦可僅於特定之處理之後進行。
偏光元件之厚度並無特別限制，但較佳為1~35μm左右，更佳為15~35μm左右。若偏光元件之厚度過薄，則在與透明保護膜貼合時，有變得容易受到損傷之傾向。另一方面，若偏光元件之厚度過厚，則有乾燥效率變差之傾向，於生產性方面欠佳。
(2)透明保護膜
作為上述透明保護膜，可使用各種透明保護膜。另外，於偏光元件之兩面設置透明保護膜之情形時，可為相同之透明保護膜，另外，亦可為不同之透明保護膜。
作為構成透明保護膜之材料，例如可列舉透明性、機械強度、熱穩定性、阻水性、各向同性等優異之熱塑性樹脂。作為此種熱塑性樹脂之具體例，可列舉三乙醯纖維素等纖維素系樹脂、聚對苯二甲酸乙二酯(PET)等聚酯系樹脂、聚醚碸系樹脂、聚碸系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚醯亞胺系樹脂、聚烯烴系樹脂、環烯烴系樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂、聚芳酯系樹脂、聚苯乙烯系樹脂、PVA系樹脂及該等之混合物。另外，可使用(甲基)丙烯酸系樹脂、胺基甲酸酯系樹脂、丙烯酸胺基甲酸酯系樹脂、環氧系樹脂、矽酮系樹脂等熱硬化性樹脂或紫外線硬化型樹脂。該等之中，較佳為纖維素系樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂。
作為含有上述纖維素系樹脂之膜，亦可使用市售品。作為三乙醯纖維素膜之市售品之例，可列舉富士膠片(股)製造之商品名「UV-50」、「UV-80」、「SH-80」、「TD-80U」、「TD-TAC」、「TD-60UL」、「UZ-TAC」或柯尼卡美能達製造之「KC系列」等。
作為上述(甲基)丙烯酸系樹脂，於無損本發明之效果之範圍內，可採用任意適當之(甲基)丙烯酸系樹脂。例如可列舉：聚甲基丙烯酸甲酯等聚(甲基)丙烯酸酯、甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸共聚物、甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸酯共聚物、甲基丙烯酸甲酯-丙烯酸酯-(甲基)丙烯酸共聚物、(甲基)丙烯酸甲酯-苯乙烯共聚物(MS樹脂等)、具有脂環族烴基之聚合物(例如，甲基丙烯酸甲酯-甲基丙烯酸環己酯共聚物、甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸降冰片酯共聚物等)。該等之中，可列舉將具有碳數1~6之烷基之(甲基)丙烯酸酯聚合而獲得之聚(甲基)丙烯酸酯。
作為(甲基)丙烯酸系樹脂之具體例，例如可列舉：三菱麗陽(股)製造之「Acrypet VH」、「Acrypet VRL20A」、日本專利特開2004-70296號公報中記載之於分子內具有環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂、 藉由分子內交聯或分子內環化反應而獲得之高Tg(甲基)丙烯酸系樹脂。
作為(甲基)丙烯酸系樹脂，亦可使用具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂。其原因在於具有較高之耐熱性、較高之透明性、藉由雙軸延伸而具有較高之機械強度。作為具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂，可列舉日本專利特開2000-230016號公報、日本專利特開2001-151814號公報、日本專利特開2002-120326號公報、日本專利特開2002-254544號公報、日本專利特開2005-146084號公報等中記載之具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂。
另外，作為(甲基)丙烯酸系樹脂，可使用具有不飽和羧酸烷基酯之結構單元及戊二酸酐之結構單元之丙烯酸樹脂。作為上述丙烯酸樹脂，可列舉日本專利特開2004-70290號公報、日本專利特開2004-70296號公報、日本專利特開2004-163924號公報、日本專利特開2004-292812號公報、日本專利特開2005-314534號公報、日本專利特開2006-131898號公報、日本專利特開2006-206881號公報、日本專利特開2006-265532號公報、日本專利特開2006-283013號公報、日本專利特開2006-299005號公報、日本專利特開2006-335902號公報等中記載之丙烯酸樹脂。
另外，作為(甲基)丙烯酸系樹脂，可使用具有戊二醯亞胺單元、(甲基)丙烯酸酯單元及芳香族乙烯基單元之熱塑性樹脂。作為該熱塑性樹脂，可列舉日本專利特開2006-309033號公報、日本專利特開2006-317560號公報、日本專利特開2006-328329號公報、日本專利特開2006-328334號公報、日本專利特開2006-337491號公報、日本專利特開2006-337492號公報、日本專利特開2006-337493號公報、日本專利特開2006-337569號公報等中記載之熱塑性樹脂。
進而，作為(甲基)丙烯酸系樹脂，可使用具有N-取代馬來醯亞胺 單元、馬來酸酐之結構單元之丙烯酸樹脂。
上述之中，較佳為主鏈具有環結構之丙烯酸系樹脂組，更佳為上述環結構為選自內酯環結構、戊二酸酐結構、戊二醯亞胺結構、N-取代馬來醯亞胺結構及馬來酸酐結構中之至少1種之丙烯酸系樹脂。
透明保護膜之厚度並無特別限定，但通常就強度或處理性等作業性、薄層性等方面而言為1~500μm左右，較佳為10~300μm，更佳為20~200μm，進而較佳為30~100μm。
另外，作為透明保護膜，可使用具有正面相位差為40nm以上及/或厚度方向相位差為80nm以上之相位差的相位差板。通常將正面相位差控制於40~200nm之範圍內，通常將厚度方向相位差控制於80~300nm之範圍內。於使用相位差板作為透明保護膜之情形時，由於該相位差板亦作為透明保護膜起作用，因此可實現薄型化。
作為相位差板，可列舉將高分子元件進行單軸或雙軸延伸處理而成之雙折射性膜、液晶聚合物之配向膜、用膜支持液晶聚合物之配向層而成者等。相位差板之厚度亦無特別限制，通常為20~150μm左右。
再者，上述具有相位差之膜亦可另行貼合於不具有相位差之透明保護膜來賦予上述功能。
另外，可對透明保護膜之不接著偏光元件之面實施硬塗處理、抗反射處理、防黏處理、亮度提高處理、以擴散或防眩為目的之處理，另外亦可將該等處理層另行作為光學層，作為不同於透明保護膜之膜進行設置。然而，本發明之偏光板即便不設置該等層亦能夠發揮出較高之耐劃傷性，就薄膜化之觀點而言較佳為不具有該等層。
(3)接著劑
只要用於使偏光元件與透明保護膜貼合之接著劑光學透明，則無特別限制，可使用水系、溶劑系、熱熔系、自由基硬化型之各種形 態之接著劑，但佳佳為水系接著劑或自由基硬化型接著劑。
作為水系接著劑，可例示PVA系接著劑、明膠系接著劑、乙烯系乳膠系接著劑、聚胺基甲酸酯系接著劑、異氰酸酯系接著劑、聚酯系接著劑、環氧系接著劑等。上述接著劑中可含有各種交聯劑。另外於上述接著劑中，亦可調配觸媒、偶合劑、各種增黏劑、紫外線吸收劑、抗氧化劑、耐熱穩定劑、耐水解穩定劑等穩定劑等。接著劑之固形物成分通常以0.1~20重量%使用。
PVA系樹脂可列舉將聚乙酸乙烯酯皂化而獲得之PVA；其衍生物；以及乙酸乙烯酯與具有共聚性之單體之共聚物的皂化物；將PVA縮醛化、胺基甲酸酯化、醚化、接枝化、磷酸酯化等而成之改性PVA。作為上述單體，可列舉：馬來酸(酐)、富馬酸、巴豆酸、伊康酸、(甲基)丙烯酸等不飽和羧酸及其酯類；乙烯、丙烯等α-烯烴；(甲基)烯丙磺酸(鈉)、磺酸鈉(馬來酸單烷基酯)、烷基馬來酸酯二磺酸鈉、N-羥甲基丙烯醯胺、丙烯醯胺烷基磺酸鹼鹽、N-乙烯基吡咯烷酮、N-乙烯基吡咯烷酮衍生物等。該等PVA系樹脂可單獨使用1種或將兩種以上併用。
上述PVA系樹脂之平均聚合度並無特別限定，但就接著性方面而言，較佳為100~3000左右，更佳為500~3000左右。另外，平均皂化度較佳為85~100莫耳%左右，更佳為90~100莫耳%。
另外，作為PVA系樹脂，可使用具有乙醯乙醯基之PVA樹脂。具有乙醯乙醯基之PVA樹脂係具有反應性較高之官能基之PVA系接著劑，由於偏光板之耐久性提高故而較佳。
含有乙醯乙醯基之PVA系樹脂之乙醯乙醯基改性度只要為0.1莫耳%以上則無特別限制。若未滿0.1莫耳%則有接著劑層之耐水性變得不充分之傾向。乙醯乙醯基改性度較佳為0.1~40莫耳%左右，更佳為1~20莫耳%，進而較佳為2~7莫耳%。若乙醯乙醯基改性度超過40莫 耳%，則具有耐水性提高效果較小之傾向。乙醯乙醯基改性度可利用核磁共振裝置(NMR：Nuclear Magnetic Resonance)來測定。
作為交聯劑，只要係用於PVA系接著劑之交聯劑則可無特別限制地使用。交聯劑可使用具有至少兩個與PVA系樹脂及具有反應性之官能基之化合物，例如可列舉：乙二胺、三乙二胺、六亞甲基二胺等具有兩個亞烷基與胺基之亞烷基二胺類；甲苯二異氰酸酯、氫化甲苯二異氰酸酯、三羥甲基丙烷甲苯二異氰酸酯加成物、三苯基甲烷三異氰酸酯、亞甲基雙(4-苯基甲烷)三異氰酸酯、異佛爾酮二異氰酸酯及該等之酮肟嵌段物或苯酚嵌段物等異氰酸酯類；乙二醇二縮水甘油醚、聚乙二醇二縮水甘油醚、甘油二(或三)縮水甘油醚、1,6-己二醇二縮水甘油醚、三羥甲基丙烷三縮水甘油醚、二縮水甘油基苯胺、二縮水甘油胺等環氧類；甲醛、乙醛、丙醛、丁醛等單醛類；乙二醛、丙二醛、丁二醛、戊二醛、順丁烯二醛、鄰苯二甲醛等二醛類；羥甲基脲、羥甲基三聚氰胺、烷基化羥甲基脲、烷基化羥甲基化三聚氰胺、乙醯胍胺、苯代胍胺與甲醛之縮合物等胺基-甲醛樹脂；以及鈉、鉀、鎂、鈣、鋁、鐵、鎳等二價金屬、或三價金屬之鹽及其氧化物。該等之中，較佳為三聚氰胺系交聯劑，更佳為羥甲基三聚氰胺。
相對於PVA系樹脂100重量份，上述交聯劑之調配量較佳為0.1~60重量份左右，更佳為10~55重量份。特別是於使用含有乙醯乙醯基之PVA系樹脂之情形時，較佳為使用超過30重量份之交聯劑，就耐水性之觀點而言更佳為於超過30重量份且為55重量份以下之範圍內使用交聯劑。
作為上述自由基硬化型接著劑，可例示電子束硬化型、紫外線硬化型等活性能量射線硬化型、熱硬化型等各種物質，但較佳為能短時間硬化之活性能量射線硬化型，更佳為紫外線硬化型接著劑。
作為自由基硬化型接著劑之硬化性成分，可列舉具有(甲基)丙烯 醯基之化合物、具有乙烯基之化合物。該等硬化性成分可使用單官能或二官能以上之任一種。另外該等硬化性成分可單獨使用1種或將兩種以上組合使用。作為該等硬化性成分，較佳為具有(甲基)丙烯醯基之化合物。
作為具有(甲基)丙烯醯基之化合物，具體而言例如可列舉：(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丙酯、(甲基)丙烯酸異丙酯、(甲基)丙烯酸-2-甲基-2-硝基丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸第二丁酯、(甲基)丙烯酸第三丁酯、(甲基)丙烯酸正戊酯、(甲基)丙烯酸第三戊酯、(甲基)丙烯酸3-戊酯、(甲基)丙烯酸2,2-二甲基丁酯、(甲基)丙烯酸正己酯、(甲基)丙烯酸鯨蠟酯、(甲基)丙烯酸正辛酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸4-甲基-2-丙基戊酯、(甲基)丙烯酸正十八烷基酯等(甲基)丙烯酸(碳數1~20)烷基酯類。
另外，作為具有(甲基)丙烯醯基之化合物，例如可列舉：(甲基)丙烯酸環烷基酯(例如，(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸環戊酯等)、(甲基)丙烯酸芳烷基酯(例如，(甲基)丙烯酸苄酯等)、多環式(甲基)丙烯酸酯(例如，(甲基)丙烯酸2-異冰片酯、(甲基)丙烯酸2-降冰片基甲酯、(甲基)丙烯酸5-降冰片烯-2-基-甲酯、(甲基)丙烯酸3-甲基-2-降冰片基甲酯等)、含羥基之(甲基)丙烯酸酯類(例如，(甲基)丙烯酸羥基乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸2,3-二羥基丙基甲基-丁酯等)、含烷氧基或苯氧基之(甲基)丙烯酸酯類((甲基)丙烯酸2-甲氧基乙酯，(甲基)丙烯酸2-乙氧基乙酯，(甲基)丙烯酸2-甲氧基甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸3-甲氧基丁酯、乙基卡必醇(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸苯氧基乙酯等)、含環氧基之(甲基)丙烯酸酯類(例如，(甲基)丙烯酸縮水甘油酯等)、含鹵素之(甲基)丙烯酸酯類(例如，(甲基)丙烯酸2,2,2-三氟乙酯、(甲基)丙烯酸2,2,2-三氟乙酯、(甲 基)丙烯酸四氟丙酯、(甲基)丙烯酸六氟丙酯、(甲基)丙烯酸八氟戊酯、(甲基)丙烯酸十七氟癸酯等)、(甲基)丙烯酸烷基胺基烷基酯(例如，(甲基)丙烯酸二甲胺基乙酯等)等。
另外，作為上述以外之具有(甲基)丙烯醯基之化合物，可列舉羥基乙基丙烯醯胺、N-羥甲基丙烯醯胺、N-甲氧基甲基丙烯醯胺、N-乙氧基甲基丙烯醯胺、(甲基)丙烯醯胺等含醯胺基之單體等。另外，可列舉丙烯醯基嗎啉等含氮之單體等。
另外，作為上述自由基硬化型接著劑之硬化性成分，可例示具有複數個(甲基)丙烯醯基、乙烯基等聚合性雙鍵之化合物，亦可於接著劑成分中混合該化合物作為交聯成分。作為成為該交聯成分之硬化性成分，例如可列舉：三丙二醇二丙烯酸酯、1,9-壬二醇二丙烯酸酯、三環癸烷二甲醇二丙烯酸酯、環狀三羥甲基丙烷縮甲醛丙烯酸酯、二噁烷二醇二丙烯酸酯、EO改性二甘油四丙烯酸酯、Aronix M-220(東亞合成(股)製造)、light acrylate 1,9ND-A(共榮社化學(股)製造)、light acrylate DGE-4A(共榮社化學(股)製造)、light acrylate DCP-A(共榮社化學(股)製造)、SR-531(Sartomer公司製造)、CD-536(Sartomer公司製造)等。另外根據需要，可列舉各種環氧(甲基)丙烯酸酯、胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯、聚酯(甲基)丙烯酸酯或各種(甲基)丙烯酸酯系單體等。
自由基硬化型接著劑含有上述硬化性成分，但除上述成分以外，可根據硬化之類型添加自由基聚合起始劑。上述接著劑以電子束硬化型使用之情形時，並不特別需要於上述接著劑中含有自由基聚合起始劑，但以紫外線硬化型、熱硬化型使用之情形時，則使用自由基聚合起始劑。關於自由基聚合起始劑之使用量，每100重量份硬化性成分通常為0.1~10重量份左右，較佳為0.5~3重量份。另外，於自由基硬化型接著劑中亦可根據需要添加以羰基化合物等為代表之提高利 用電子束之硬化速度或靈敏度之光敏劑。關於光敏劑之使用量，每100重量份硬化性成分通常為0.001~10重量份左右，較佳為0.01~3重量份。
上述接著劑之中，較佳為含有PVA系樹脂及交聯劑之PVA系接著劑或紫外線硬化型接著劑。
於上述接著劑中，亦可進而調配矽烷偶合劑、鈦偶合劑等偶合劑；各種增黏劑、紫外線吸收劑、抗氧化劑、耐熱穩定劑、耐水解穩定劑等穩定劑等。
另外於上述接著劑中，可含有金屬化合物填料。利用金屬化合物填料，可控制接著劑之流動性，可使膜厚穩定化而具有良好之外觀，可獲得面內均勻且無接著性之偏差之偏光板。
金屬化合物填料可使用各種物質。作為金屬化合物，例如可列舉：氧化鋁、二氧化矽、氧化鋯、二氧化鈦、矽酸鋁、碳酸鈣、矽酸鎂等金屬氧化物；碳酸鋅、碳酸鋇、磷酸鈣等金屬鹽；矽藻土、滑石、黏土、高嶺土等礦物。另外，該等金屬化合物填料可使用經表面改質之物質。
金屬化合物填料之平均粒徑較佳為1~1000nm左右，更佳為1~500nm左右，進而較佳為10~200nm左右，特別較佳為10~100nm。若金屬化合物填料之平均粒徑在上述範圍內，則於接著劑層中可使金屬化合物大致均勻分散，可確保接著性並且能夠以良好之外觀獲得面內均勻之接著性。
相對於硬化性樹脂成分100重量份，金屬化合物填料之調配量較佳為100重量份以下，更佳為1~100重量份，進而較佳為2~50重量份，特別較佳為5~50重量份。另外藉由使金屬化合物填料之調配比例在上述範圍內，一面確保偏光元件與透明保護膜之接著性一面能夠以良好之外觀獲得面內均勻之接著性。若金屬化合物填料之調配比例 超過100重量份，則接著劑中之硬化性樹脂成分之比例變小，於接著性方面欠佳。
上述接著劑之塗佈可於上述偏光元件、透明保護膜中之任一側進行，亦可於兩側進行。塗佈操作並無特別限制，可採用輥法、噴霧法、浸漬法等各種方法。
另外，可於上述接著劑層與透明保護膜或偏光元件之間設置底塗層或易接著處理層等。
利用上述接著劑等形成之接著劑層之厚度並無特別限定，但較佳為10~300nm左右。就獲得均勻之面內厚度、獲得充分之接著力方面而言，接著劑層之厚度更佳為10~200nm，進而較佳為20~150nm。另外，如上所述，較佳為以接著劑層之厚度較水系接著劑所含之金屬化合物膠體的平均粒徑大之方式進行設計。
於塗佈接著劑後，用輥層壓機等使偏光元件與透明保護膜貼合。其後，進行乾燥，形成接著劑層。於使用水系接著劑之情形時，乾燥溫度為20~80℃左右，較佳為40~80℃，較佳為進行1~10分鐘左右。
(4)摩擦力降低成分
本發明之偏光板如上所述於與液晶顯示裝置之擴散片接觸之表面具有摩擦力降低成分。
上述摩擦力降低成分可存在於與擴散片接觸之偏光板表面之一部分或全部，其存在形態並無特別限定。即，可均勻存在於與擴散片接觸之偏光板表面，亦可偏於一側。進而可以含有摩擦力降低成分之層之形式存在。
作為上述摩擦力降低成分，只要為能使摩擦力降低之成分即可，例如可列舉：矽酮系化合物、氟系化合物、具有聚氧伸烷基之二甲基矽酮化合物等。
作為聚氧伸烷基，可列舉：聚氧伸乙基、聚氧伸丙基、聚氧伸丁基及該等之嵌段化合物。
作為摩擦力降低成分，於上述之中，較佳為氟系化合物、具有聚氧伸烷基之二甲基矽酮化合物，特別更佳為由下述通式(1)所示之具有聚氧伸烷基之二甲基矽酮化合物。
(式中，R1表示甲基，R2~R4表示伸烷基，R5表示氫原子或一價之有機基，m表示0~100之整數，n表示1~100之整數，a及b分別獨立地表示0~100之整數，但是a及b不同時為0。)
R2~R4較佳為碳數1~10之伸烷基，更佳為碳數2~4之伸烷基。
作為上述具有聚氧伸烷基之二甲基矽酮化合物，例如可列舉：信越化學工業(股)製造之「KF-351A」、「KF-352A」、「KF-353」、「KF-354L」、「KF-355A」、「KF-615A」、「KF-640」、「KF-641」、「KF-642」、「KF-643」、「KF-889」、「KF-945」、「KF-1002」、「KF-6003」、「KF-6004」、「KF-6005」、「KF-6011」、「KF-6012」、「KF-6013」、「KF-6015」、「KF-6016」、「KF-6017」、「KF-6020」、「KP-101」、「KP-118」、「KP-208」、「KP-301」、「KP-323」、「KP-341」、「KP-354」、「KP-355」、「F-501」、「F-3031」、「X-22-6191」、「X-22-4515」、「X-22-4741」、「X-22-4952」、「X-22-4272」、「X-22-6266」、「X-22-3506」、「X-22-3004」、「X-24-1430」、「X-22-4991」等；東麗．道康寧(股)製造之「L-720」、「L-7604」、「Y-7006」、「BY-16-201」、「FZ- 77」、「FZ-2101」、「FZ-2104」、「FZ-2110」、「FZ-2118」、「FZ-2120」、「FZ-2122」、「FZ-2130」、「FZ-2161」、「FZ-2162」、「FZ-2163」、「FZ-2164」、「FZ-2166」、「FZ-2191」、「FZ-2154」、「FZ-2203」、「FZ-2207」、「FZ-2208」、「L-7001」、「L-7002」、「SF-8427」、「SF-8428」、「SH-3749」、「SH-3773M」、「SH-8400」、「FZ-5609」、「FZ-7001」、「FZ-7002」；邁圖高新(股)製造之「TSF-4440」、「TSF-4441」、「TSF-4445」、「TSF-4446」、「TSF-4450」、「TSF-4452」、「TSF-4460」等商品名市售之產品。
另外，根據目的，除了具有聚氧伸烷基之二甲基矽酮化合物以外亦可適當組合並調配矽油。
例如可藉由使具有不飽和鍵及聚氧伸烷基之有機化合物與具有氫化矽之聚有機矽氧烷主鏈進行氫化矽烷化反應而進行接枝從而獲得上述通式(1)所示之二甲基矽酮化合物。
作為上述氟系化合物，只要為其結構中含有氟之化合物即可，例如可列舉：陽離子系、陰離子系、非離子系之各氟系界面活性劑等氟系化合物。
作為非離子系之氟系化合物，可列舉作為含全氟烷基．親水性基．親油性基之低聚物之DIC(股)製造之「Megafac 477」、「Megafac 470」、「Megafac 444」、「Megafac 445」等。作為陰離子系之氟系化合物，可列舉作為含全氟烷基．親水性基．親油性基之羧酸之DIC(股)製造之「Megafac 410」等。
另外，作為氟系界面活性劑，可列舉由六氟丙烯低聚物衍生而開發之具有全氟烯基之尼歐斯(股)製造的「Ftergent 222F」(聚氧伸乙基型(非離子系))、「Ftergent 310」((三甲基{3-{4-[3,4,4,4-四氟-2-(全氟異丙基)-1,3-雙(三氟甲基)-1-丁烯氧基]苯甲醯基胺基}丙基}碘化銨(陽離子系))、「Ftergent 100」((全氟烯基(C=3、9)氧基苯磺酸鹽(Na、 K))、「Ftergent 110」((4-全氟己烯氧基苯磺酸鈉)(陰離子系))等。
就本發明之偏光板而言，藉由該偏光板之具有摩擦力降低成分之表面與上述擴散片之動摩擦力為1.0N以下，即便不於偏光板之表面形成光擴散層或硬塗層等而與液晶顯示裝置之擴散片接觸，亦可抑制於偏光板表面產生劃痕。上述動摩擦力可藉由實施例中記載之方法測定。
偏光板之具有摩擦力降低成分之表面與上述擴散片之動摩擦力為1.0N以下，較佳為0.8N以下。另外，動摩擦力之下限值並無特別限定，但通常為0.01N以上。
本發明之偏光板即便不於偏光板表面形成光擴散層或硬塗層等，亦具有較高之耐劃傷性。另外，本發明之偏光板可用作至少依序具備液晶單元、偏光板、擴散片及背光且上述偏光板與上述擴散片接觸之液晶顯示裝置中的上述偏光板(背面側偏光板)。關於具備液晶單元、擴散片、背光等之液晶顯示裝置於下文敍述。
2.液晶顯示裝置
本發明之液晶顯示裝置之特徵在於依序具備視認側偏光板、液晶單元、本發明之偏光板、擴散片及背光且上述偏光板與上述擴散片接觸。一面參照圖1一面對本發明之液晶顯示裝置進行說明，但不限定於圖1之構成。
本發明之液晶顯示裝置1具備視認側偏光板6、液晶單元10、本發明之背面側偏光板2、擴散片11、及背光12。
視認側偏光板6配置於液晶單元10之視認側，於液晶單元10之另一面配置背面側偏光板2。另外，視認側偏光板6、背面側偏光板2可經由黏著劑層(未圖示)配置於液晶單元10。
視認側偏光板6、背面側偏光板2中，均於偏光元件(4、8)之兩面經由接著劑層(未圖示)貼合透明保護膜(3、5、7、9)。
本發明之液晶顯示裝置1之特徵在於使用本發明之偏光板作為背面側偏光板2。另外，於本發明之偏光板之與擴散片接觸的表面具有摩擦力降低成分，該「偏光板之與擴散片接觸之表面」係指圖1中之A所示的表面。由於在本發明之偏光板中於A所示之表面具有摩擦力降低成分，因此即便於擴散片與背面偏光板接觸之情形時，亦不會於偏光板表面產生劃痕。另外，配置有本發明之偏光板作為背面偏光板之液晶顯示裝置具有較高之對比度。
視認側偏光板6、液晶單元10、擴散片11及背光12等除了背面側偏光板以外之其他液晶顯示裝置之構件及用於將該等接著之接著劑、黏著劑層等可使用先前公知者。另外，於本發明之液晶顯示裝置中除了上述以外亦可進而於適當之位置配置1層或兩層以上之例如擴散板、防眩層、抗反射膜、保護板等適當之零件。另外，作為液晶單元，可採用任意適當之液晶單元，例如可使用TN型或STN型、π型等任意類型。
另外，作為用於本發明之液晶顯示裝置之擴散片，有各種片，例如可列舉於光學用膜之表面形成稜鏡圖案，使背光之光聚光的片，亦被稱為亮度提高膜之膜。作為用於本發明之液晶顯示裝置之擴散片，可適當使用先前公知之擴散片，例如，作為通常用於液晶電視之擴散片，可列舉：住友3M(股)製造之「BEF3-T-155 n」、「BEF3-T-155 n Auto」、「BEF3-T-205 AS n」、「BEF3-T-285 AS n」、「BEF3-M2-155 n」、「DBEF-D2-280」、「DBEF-D2-350」、「DBEF-D2-400」、「DBEF-D2-550」、「DBEF-D3-260」、「DBEF-D3-315」、「DBEF-D3-460」、「DBEF-D3-340」等。
3.偏光板之製造方法
本發明之偏光板之製造方法的特徵在於包括：準備於偏光元件之至少單面積層有透明保護膜之偏光板的步驟；形成於基材上具有含 有摩擦力降低成分之層之轉印片的步驟；以上述轉印片之含有摩擦力降低成分的層與上述偏光板之透明保護膜接觸的方式使上述偏光板與上述轉印片貼合而形成積層體的步驟；以及自上述積層體剝離轉印片之步驟。
(1)準備偏光板之步驟
準備於偏光元件之至少單面積層有透明保護膜之偏光板的步驟如上所述。
(2)形成轉印片之步驟
作為本發明之製造方法中使用之轉印片，係於基材上具有含有摩擦力降低成分之層之轉印片。作為摩擦力降低成分如上所述。
作為上述基材並無特別限定，例如可列舉包含聚對苯二甲酸乙二酯(PET)、聚對苯二甲酸丁二酯(PBT)等聚酯系樹脂、聚烯烴、聚醯胺、聚碳酸酯、丙烯酸系樹脂、聚氯乙烯等之片或紙類等。該等之中，較佳為PET膜。另外，該等基材於不對本發明之效果造成影響之範圍內可含有其他添加劑，例如顏料、染料、抗氧化劑、抗劣化劑、填充劑、紫外線吸收劑、抗靜電劑及/或抗電磁波劑。
基材之厚度並無特別限定，但較佳為10~50μm左右。另外，根據需要，可對基材實施電暈處理、電漿處理、噴砂處理等易黏著處理。
基材上之含有摩擦力降低成分之層的厚度例如較佳為1~200μm左右，更佳為3~100μm，進而較佳為5~50μm。
作為上述含有摩擦力降低成分之層之形成方法並無特別限定，但例如可將含有摩擦力降低成分之黏著劑組合物塗佈於基材上來形成。其塗佈方法可應用公知之方法，例如可列舉：輥塗法、毛刷塗佈法、噴霧塗佈法、使用模塗機、棒塗機、刮刀塗佈機等之方法。並且，上述塗佈層通常可利用熱風乾燥機於60~120℃、0.5~3分鐘左右之加 熱條件下進行乾燥及交聯，從而可獲得轉印片。
另外，就操作上之便利而言，可於上述轉印片之含有摩擦力降低成分之層的表面積層脫模性片。作為該脫模性片，可利用公知之脫模性片，例如可列舉於塑膠片之表面塗佈有矽酮系脫模劑之脫模性片，但由於上述含有摩擦力降低成分之層之黏著力處於低水平，因此有時亦可未處理而直接使用聚烯烴系膜等接著性較小之膜。
作為含有上述摩擦力降低成分之黏著劑組合物並無特別限定，例如可列舉含有丙烯酸系聚合物、上述摩擦力降低成分、交聯劑之黏著劑組合物。
丙烯酸系聚合物係指將以(甲基)丙烯酸酯為主成分之單體成分聚合而獲得之聚合物。此處，主成分係指於構成丙烯酸系聚合物之全部單體成分中占70重量%以上，較佳為含有90重量%以上。再者，(甲基)丙烯酸酯係指丙烯酸酯及/或甲基丙烯酸酯，本發明之(甲基)表示同樣之含義。
作為(甲基)丙烯酸酯並無特別限定，例如可列舉：(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸正辛酯、(甲基)丙烯酸異辛酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸正壬酯、(甲基)丙烯酸異壬酯、(甲基)丙烯酸正癸酯、(甲基)丙烯酸正十二烷基酯、(甲基)丙烯酸硬脂基酯等具有碳數1~18之直鏈或支鏈烷基之(甲基)丙烯酸酯。該等可單獨使用1種或將兩種以上混合使用。
形成上述(甲基)丙烯酸系聚合物之單體成分中，可含有含羥基之單體，其含量於單體成分中較佳為0.1~10重量%左右，更佳為1~8重量%，進而較佳為3~7重量%。
作為上述含羥基之單體之種類，只要為含有羥基之單體則無特別限制，可列舉：含有羥基之(甲基)丙烯酸酯、其他單體。作為上述 含有羥基之(甲基)丙烯酸酯，例如可列舉：(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸3-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸4-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸3-甲基-3-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸1,1-二甲基-3-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸1,3-二甲基-3-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸2,2,4-三甲基-3-羥基戊酯、(甲基)丙烯酸2-乙基-3-羥基己酯、甘油單(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇單(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇單(甲基)丙烯酸酯、聚(乙二醇-丙二醇)單(甲基)丙烯酸酯、N-羥甲基丙烯醯胺等。另外，作為其他單體，例如可列舉：烯丙醇、甲基烯丙醇等。該等之中，較佳為(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸4-羥基丁酯。
於上述單體成分中，除了上述(甲基)丙烯酸酯、含羥基之單體以外，亦可含有共聚單體。作為共聚單體，例如可列舉：甲酸乙烯酯、乙酸乙烯酯、丙酸乙烯酯、「特十碳酸乙烯酯」(商品名)等飽和脂肪酸乙烯酯；苯乙烯、α-甲基苯乙烯、乙烯基甲苯等芳香族乙烯單體；丙烯腈、甲基丙烯腈等氰化乙烯單體；馬來酸二甲酯、馬來酸二-N-丁酯、馬來酸二-2-乙基己酯、馬來酸二-N-辛酯、富馬酸二甲酯、富馬酸二-N-丁酯、富馬酸二-2-乙基己酯、富馬酸二-N-辛酯等馬來酸或富馬酸之二酯等。
進而，作為可於上述單體成分中含有之單體，可根據需要含有於分子內除了1個自由基聚合性不飽和基以外具有至少1個官能基之單體的上述含羥基之單體以外的單體。
作為上述單體，例如可列舉具有羧基、醯胺基或取代醯胺基、胺基或取代胺基、低級烷氧基或環氧基等作為官能基之單體，另外，亦可使用於分子內具有兩個以上之自由基聚合性不飽和基之單體。
作為上述含羧基之單體，只要為含有羧基之單體則無特別限定，例如可列舉：丙烯酸、甲基丙烯酸、馬來酸、馬來酸酐、富馬 酸、巴豆酸、伊康酸、檸康酸、肉桂酸、琥珀酸單羥基乙酯(甲基)丙烯酸酯、馬來酸單羥基乙酯(甲基)丙烯酸酯、富馬酸單羥基乙酯(甲基)丙烯酸酯、鄰苯二甲酸單羥基乙酯(甲基)丙烯酸酯、1,2-二羧基環己烷單羥基乙酯(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸二聚物、ω-羧基-聚己內酯單(甲基)丙烯酸酯等。
作為具有醯胺基或取代醯胺基、胺基或取代胺基作為上述官能基之單體之具體例，例如可列舉：丙烯醯胺、甲基丙烯醯胺、雙丙酮丙烯醯胺、N-羥甲基丙烯醯胺、N-羥甲基甲基丙烯醯胺、N-丁氧基甲基丙烯醯胺、N-異丁氧基甲基丙烯醯胺、N,N-二甲基丙烯醯胺、N-甲基丙烯醯胺(較佳為丙烯醯胺、甲基丙烯醯胺)等含醯胺基或取代醯胺基之單體；例如可列舉：丙烯酸胺基乙酯、丙烯酸N,N-二甲胺基乙酯、丙烯酸N,N-二乙胺基乙酯、甲基丙烯酸N,N-二甲胺基乙酯、甲基丙烯酸N,N-二乙胺基乙酯等含胺基或取代胺基的單體。
作為具有低級烷氧基或環氧基等作為上述官能基之單體，可列舉：(甲基)丙烯酸2-甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸2-乙氧基乙酯、(甲基)丙烯酸2-正丁氧基乙酯、(甲基)丙烯酸2-甲氧基乙氧基乙酯、(甲基)丙烯酸2-乙氧基乙氧基乙酯、(甲基)丙烯酸2-N-丁氧基乙氧基乙酯、甲氧基聚乙二醇單(甲基)丙烯酸酯等含低級烷氧基之單體；(甲基)丙烯酸縮水甘油酯、縮水甘油基烯丙醚、縮水甘油基甲基烯丙醚等含環氧基之單體。
作為上述於分子內具有兩個以上之自由基聚合性不飽和基之單體，例如可列舉：二乙烯苯、鄰苯二甲酸二烯丙酯、氰脲酸三烯丙酯、異氰脲酸三烯丙酯、乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,2-丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,3-丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,4-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸烯丙酯等具有兩個以上 之自由基聚合性不飽和基之單體。
上述丙烯酸系聚合物之玻璃轉移點(Tg)較佳為-60~-40℃。另外，丙烯酸系聚合物之重量平均分子量(Mw)較佳為30萬以上，更佳為35萬以上，進而較佳為40萬~100萬。另外，丙烯酸系聚合物之重量平均分子量(Mw)與數量平均分子量(Mn)之比Mw/Mn較佳為15以下，更佳為12以下。再者，本說明書中之上述重量平均分子量(Mw)及數量平均分子量(Mn)的值採用利用凝膠滲透層析法(GPC)法根據規定方法測定出之值。
本發明中所用之丙烯酸系聚合物之聚合方法並無特別限制，可利用溶液聚合、乳液聚合、懸浮聚合等公知之方法進行聚合，但該等之中，較佳為溶液聚合。
溶液聚合通常係藉由於聚合槽內加入特定之有機溶劑、單體、聚合起始劑及根據需要使用之鏈轉移劑，於氮氣流中或有機溶劑之回流溫度下，一面攪拌一面使其加熱反應數小時來進行。該情形時可逐次添加有機溶劑、單體及/或聚合起始劑之至少一部分。
作為上述聚合用有機溶劑，例如可列舉：苯、甲苯、乙基苯、N-丙基苯、第三丁基苯、鄰二甲苯、間二甲苯、對二甲苯、四氫萘、十氫萘、芳香族石腦油等芳香族烴類；例如可列舉：正己烷、正庚烷、正辛烷、異辛烷、正癸烷、二戊烯、石油溶劑油、石油石腦油、松節油等脂肪系或脂環族系烴類；例如可列舉：乙酸乙酯、乙酸正丁酯、乙酸正戊酯、乙酸2-羥基乙酯、乙酸2-丁氧基乙酯、乙酸3-甲氧基丁酯、苯甲酸甲酯等酯類；例如可列舉：丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁基酮、異佛爾酮、環己酮、甲基環己酮等酮類；例如可列舉：乙二醇單甲醚、乙二醇單乙醚、乙二醇單丁醚、二乙二醇單甲醚、二乙二醇單乙醚、二乙二醇單丁醚等二醇醚類；例如可列舉：甲醇、乙醇、正丙醇、異丙醇、正丁醇、異丁醇、第二丁醇、第三丁醇等醇 類；等。該等有機溶劑可分別單獨使用或將兩種以上混合使用。
作為上述聚合起始劑，能使用可於通常之溶液聚合中使用之有機過氧化物、偶氮化合物等。作為此種有機過氧化物，例如可列舉：氫過氧化第三丁基、氫氧化異丙苯、過氧化二異丙苯、過氧化苯甲醯、過氧化月桂醯、過氧化己醯、過氧化二碳酸二異丙酯、過氧化二碳酸二-2-乙基己酯、過氧化特戊酸第三丁酯、2,2-雙(4,4-二第三丁基過氧化環己基)丙烷、2,2-雙(4,4-二-第三戊基過氧化環己基)丙烷、2,2-雙(4,4-二-第三辛基過氧化環己基)丙烷、2,2-雙(4,4-二-α-異丙苯過氧化環己基)丙烷、2,2-雙(4,4-二-第三丁基過氧化環己基)丁烷、2,2-雙(4,4-二-第三辛基過氧化環己基)丁烷等，作為偶氮化合物，例如可列舉：2,2'-偶氮雙-異丁腈、2,2'-偶氮雙-2,4-二甲基戊腈、2,2'-偶氮雙-4-甲氧基-2,4-二甲基戊腈等。
通常，相對於單體成分100重量份，聚合起始劑之使用量較佳為0.01~2.0重量份，更佳為0.1~1.0重量份。
另外，於製造本發明中所用之(甲基)丙烯酸系聚合物時，一般不使用鏈轉移劑，但於無損本發明之目的及效果之範圍內，能根據需要使用。作為此種鏈轉移劑，可適當使用先前公知之鏈轉移劑。
作為聚合溫度，通常為30~180℃，較佳為40~150℃，更佳為50~90℃。
本發明中使用之含有摩擦力降低成分之黏著劑組合物，相對於上述(甲基)丙烯酸系聚合物100重量份，較佳為含有上述摩擦力降低成分0.1~3.0重量份，更佳為含有0.2~1.5重量份，進而較佳為含有0.2~0.7重量份。藉由摩擦力降低成分之含量在上述範圍內，就耐劃傷性之觀點而言而較佳。另外若摩擦力降低成分過多，則與(甲基)丙烯酸系聚合物之相溶性較差，有所獲得之含有摩擦力降低成分之層白濁之傾向故而欠佳。
另外，於本發明中使用之含有摩擦力降低成分之黏著劑組合物中，較佳為含有具有異氰酸酯基之交聯劑。作為交聯劑，例如可列舉：苯二亞甲基二異氰酸酯、二苯基甲烷二異氰酸酯、三苯基甲烷三異氰酸酯、甲苯二異氰酸酯等芳香族多異氰酸酯；例如可列舉：六亞甲基二異氰酸酯、異佛爾酮二異氰酸酯、該芳香族多異氰酸酯化合物之氫化物等脂肪族或脂環族多異氰酸酯；該等多異氰酸酯之2聚物或3聚物或該等多異氰酸酯與三羥甲基丙烷等多元醇之加成物等源自各種多異氰酸酯之多異氰酸酯化合物，但在該等異氰酸酯化合物之中，特別較佳為六亞甲基二異氰酸酯。
該等異氰酸酯化合物可適當地使用日本聚胺酯工業(股)製造之「Coronate HX」、「Coronate HL-S」、「Coronate 2234」、「Aquanate 200」、「Aquanate 210」、住友拜耳胺酯(股)製造之「Desmodur N3400」、旭化成(股)製造之「Duranate E-405-80T」、「Duranate 24A-100」、「Duranate TSE-100」、三井武田化學(股)製造之「Takenate D-110N」、「Takenate D-120N」、「Takenate M-631N」、「MT-Olester NP1200」等商品名市售之產品。
相對於上述(甲基)丙烯酸系聚合物之羥基當量，該等具有異氰酸酯基之交聯劑之使用量以異氰酸酯基計較佳為0.1~1.5當量，更佳為0.3~1.2當量，進而較佳為0.3~1.0當量。
於本發明中使用之含有摩擦力降低成分之黏著劑組合物於含有具有上述異氰酸酯基之交聯劑的同時，可進而含有交聯觸媒。作為交聯觸媒，可使用金屬觸媒，作為金屬觸媒，能使用通常之異氰酸酯交聯觸媒，例如Sn(錫)系觸媒，就可使用時間及觸媒效果方面而言可較佳地使用二月桂酸二丁基錫等。
另外，於本發明中使用之含有摩擦力降低成分之黏著劑組合物中，除了上述(甲基)丙烯酸系聚合物、摩擦力降低成分、具有異氰酸 酯基之交聯劑以外，根據需要，可調配通常於黏著劑組合物中調配之調配物，例如溶劑、耐候性穩定劑、增黏劑(Tackifier)、塑化劑、軟化劑、染料、顏料、無機填充劑等。相對於(甲基)丙烯酸系聚合物100重量份，該等較佳為30重量份以下，更佳為20重量份以下，特別較佳為10重量份以下。
於本發明中使用之含有摩擦力降低成分之黏著劑組合物中可含有溶劑並使不揮發成分為20~50%左右。作為溶劑，只要為不與黏著劑組合物之構成要素反應、溶解(甲基)丙烯酸系聚合物並且於塗佈上述黏著劑組合物後以適當之速度乾燥之溶劑則無特別限制。就塗佈性等觀點而言，於本發明中使用之含有摩擦力降低成分之黏著劑組合物的黏度較佳為300~5000mPa．s左右。
(3)形成積層體之步驟
以將上述所獲得之轉印片之含有摩擦力降低成分的層與上述偏光板之透明保護膜接觸的方式，利用輥層壓機等使上述偏光板與上述轉印片貼合而形成積層體。上述積層體具有包括轉印片之基材/含有摩擦力降低成分之層/透明保護膜/偏光元件/透明保護膜之層構成。另外，於具有剝離片之情形時，於貼合轉印片之前，必需剝離該剝離片。
貼合時之溫度並無特別限定，可為室溫。而且，貼合時之壓力等亦無特別限定，可適當決定。
(4)自上述積層體剝離轉印片之步驟
藉由上述積層體剝離轉印片，可於偏光板上轉印摩擦力降低成分。轉印之摩擦力降低成分如上所述可存在於與擴散片接觸之偏光板表面之一部分或全部，其存在形態並無特別限定，可均勻存在於與擴散片接觸之偏光板表面，亦可偏於一側。可進而以含有摩擦力降低成分之層之形式存在。
剝離轉印片之基材後，藉由進行背面側偏光板之表面之元素分析，可確認Si轉印量或F轉印量。可藉由於實施例中記載之方法進行轉印量之確認。
於本發明之製造方法中，利用由具有含有摩擦力降低成分之層之轉印片將摩擦力降低成分轉印於偏光板上之非常簡便的方法，可製造具有較高之耐劃傷性之偏光板。
另外，於本發明之製造方法中，如上所述，使用轉印片於偏光板之透明保護膜上轉印摩擦力降低成分，但亦可藉由於偏光板之透明保護膜上直接塗佈上述含有摩擦力降低成分之黏著劑組合物而將摩擦力降低成分作為含有摩擦力降低成分之層形成。另外，可藉由於偏光板之透明保護膜上噴霧摩擦力降低成分之方法、利用含有摩擦力降低成分之材料(例如，碎布等)擦拭偏光板表面等，使摩擦力降低成分存在於偏光板之透明保護膜上。
實施例
以下，使用實施例及比較例對本發明進一步加以具體說明，但本發明不受該等實施例及比較例限定。
製造例1 偏光板(1)之製作
(偏光元件之製作)
一面將厚度75μm之聚乙烯醇膜(聚合度：2300，皂化度：99.9%，寬度：1000mm，厚度：75μm，可樂麗(股)製造：VF-PS7500)於30℃之純水中浸漬60秒鐘一面延伸至延伸倍率2.5倍。繼而，於30℃之碘水溶液(重量比：純水/碘(I)/碘化鉀(KI)=100/0.01/1)中染色45秒鐘。其後，於4重量%硼酸水溶液中以延伸倍率為5.8倍之方式進行延伸。延伸後，於純水中浸漬10秒鐘後，在保持膜之張力的狀態下50℃乾燥3分鐘而獲得偏光元件。該偏光元件之厚度為25μm，水分率為14重量%。
(接著劑水溶液(1)之製備)
將含有乙醯乙醯基之聚乙烯醇系樹脂(平均聚合度：1200，皂化度：98.5莫耳%，乙醯乙醯基改性度：5莫耳%)100重量份、羥甲基三聚氰胺50重量份溶解於純水(水溫：30℃)，製備固形物成分濃度調節為3.7重量%之水溶液。相對於上述水溶液100重量份，添加氧化鋁膠體水溶液(平均粒徑：15nm，固形物成分濃度：10重量%，正電荷)18重量份而製備接著劑水溶液。接著劑水溶液之黏度為9.6mPa．s。接著劑水溶液之pH值為4~4.5之範圍。將其作為接著劑水溶液(1)。
(偏光板之製作)
於作為透明保護膜之TAC膜(商品名：TD-60UL，富士膠片(股)製造)之單面，以乾燥後之接著劑層之厚度成為55nm左右的方式塗佈上述接著劑水溶液(1)，製作附接著劑層之透明保護膜。其後，於23℃之溫度條件下，以該保護膜之接著劑層與偏光元件接觸之方式用輥機使上述附接著劑層之透明保護膜貼合於上述偏光元件之兩面，製成積層體。使該積層體於70℃乾燥10分鐘，製作偏光板(1)。
製造例2 偏光板(2)之製作
(丙烯酸系樹脂膜之製造)
將丙烯酸系樹脂(商品名：Acrypet VH，Tg：113℃，三菱麗陽(股)製造)於100℃下真空乾燥，將水分及殘留氧氣脫氣。將於經脫氣之丙烯酸系樹脂100重量份中添加有丙烯酸橡膠(商品名：AR12，日本瑞翁(股)製造)30重量份之混合物供給至自原料料斗至擠出機經氮氣置換之雙軸擠出機(裝置名：TEM35B，東芝機械(股)製造)，在料筒設置溫度230~270℃下進行熔融，顆粒化而獲得原料顆粒。將原料顆粒於100℃下真空乾燥，供給至自原料料斗至擠出機經氮氣置換之單軸擠出機(裝置名：SE-65，東芝機械(股)製造)，於料筒設置溫度230~270℃下進行熔融，使其通過衣架式T型模頭，用120℃之鍍鉻製流延 輥及90℃之冷卻鍍鉻製流延輥進行冷卻後，利用膜捲取裝置獲得丙烯酸系樹脂膜(厚度：40μm)。
(偏光板之製作)
除了使用上述所得之丙烯酸系樹脂膜來代替TAC膜作為透明保護膜以外，以與製造例1同樣之方式製作偏光板(2)。
製造例3 黏著劑組合物溶液(A)之製造
(丙烯酸系聚合物溶液(A)之製造)
於具備溫度計、攪拌器、氮氣導入管及回流冷凝器之反應容器內，加入丙酮100重量份、甲苯100重量份。另外於另一容器內加入丙烯酸丁酯(BA)95.0重量份、丙烯酸4-羥基丁酯(4HBA)5.0重量份，混合而製成單體混合物。於上述反應容器中加入所得之單體混合物之25%即25重量份。繼而用氮氣置換該反應容器之空氣後，添加作為聚合起始劑之偶氮雙丁腈(AIBN)0.05重量份，於攪拌下於氮氣環境中使該反應容器內之混合物溫度升溫至70℃從而開始初始反應。初始反應大致結束後，一面分別逐次添加剩餘之單體混合物75%即75重量份、丙酮80重量份、甲苯40重量份及AIBN 0.5重量份之混合物一面使其反應1.5小時，繼而，進而使其反應1.5小時。其後，用1小時滴加使過氧化特戊酸第三丁酯(商品名：Perbutyl PV，日本油脂(股)製造)1.0重量份溶解於甲苯100重量份而成之溶液，進而使其反應1.5小時。反應結束後，用甲基乙基酮300重量份稀釋反應混合物，獲得固形物成分35.8重量%之丙烯酸系聚合物溶液(A)。
所得之丙烯酸系聚合物溶液(A)之黏度為1580mPa．s，另外丙烯酸系聚合物溶液(A)中所含之丙烯酸系聚合物的玻璃轉移溫度(Tg)為-55.9℃、重量平均分子量(Mw)約為44萬且重量平均分子量(Mw)與數量平均分子量(Mn)之比(Mw/Mn)約為4。
(黏著劑組合物溶液(A)之製作)
於所得之丙烯酸系聚合物溶液(A)之固形物成分100重量份中添加作為摩擦力降低成分之聚醚改性矽酮(商品名：KF-6004，信越化學工業(股)製造)0.3重量份、六亞甲基二異氰酸酯系交聯劑(商品名：Coronate HX，NCO含量：21.3%，日本聚胺酯工業(股)製造)2.5重量份(相對於丙烯酸系聚合物溶液(A)中之丙烯酸系聚合物之羥基當量之NCO的當量數：0.43當量)，充分攪拌獲得黏著劑組合物溶液(A)。所得之黏著劑組合物溶液(A)之固形物成分量約為35.0重量%，黏度為1500mPa．s。
製造例4 黏著劑組合物溶液(B)之製造
於製造例3中製造之丙烯酸系聚合物溶液(A)之固形物成分100重量份中添加作為摩擦力降低成分之聚醚改性矽酮(商品名：KF-6004，信越化學工業(股)製造)0.1重量份、六亞甲基二異氰酸酯系交聯劑(商品名：Coronate HX，NCO含量：21.3%，日本聚胺酯工業(股)製造)2.5重量份(相對於丙烯酸系聚合物溶液(A)中之丙烯酸系聚合物之羥基當量之NCO的當量數：0.43當量)，充分攪拌獲得黏著劑組合物溶液(B)。所得之黏著劑組合物溶液(B)之固形物成分約為35.0重量%，黏度為1500mPa．s。
製造例5 黏著劑組合物溶液(C)之製造
於製造例3中製造之丙烯酸系聚合物溶液(A)之固形物成分100重量份中添加作為摩擦力降低成分之含氟化合物(商品名：Megafac 444，DIC(股)製造)0.3重量份、六亞甲基二異氰酸酯系交聯劑(商品名：Coronate HX，NCO含量：21.3%，日本聚胺酯工業(股)製造)2.5重量份(相對於丙烯酸系聚合物溶液(A)中之丙烯酸系聚合物之羥基當量之NCO的當量數：0.43當量)，充分攪拌獲得黏著劑組合物溶液(C)。所得之黏著劑組合物溶液(C)之固形物成分量約為35.0重量%，黏度為1500mPa．s。
製造例6 轉印片(A)之製作
於PET膜(商品名：E5001，膜厚度：38μm，東洋紡(股)製造)上以乾燥後之塗佈量為10g/m2之方式塗佈上述黏著劑組合物溶液(A)，於70℃用60秒鐘利用熱風循環式乾燥機進行乾燥而形成黏著劑層。其後，以該黏著劑層面進行接觸之方式載置於用矽酮系脫模劑進行表面處理之脫模紙上，通過加壓夾輥進行壓接而使其貼合後，於23℃、50%RH下養護10天而獲得轉印片(A)。
製造例7 轉印片(B)之製作
除了於製造例6中使用黏著劑組合物溶液(B)來代替黏著劑組合物溶液(A)以外，以與製造例6同樣之方法獲得轉印片(B)。
製造例8 轉印片(C)之製作
除了於製造例6中使用黏著劑組合物溶液(C)來代替黏著劑組合物溶液(A)以外，以與製造例6同樣之方法獲得轉印片(C)。
實施例1
自於製造例6中獲得之轉印片(A)剝離脫模紙，以轉印片(A)之黏著劑層與製造例1中獲得之偏光板(1)的單側之透明保護膜接觸之方式，用輥使上述轉印片(A)與上述偏光板(1)貼合，於室溫下放置5分鐘。其後，自偏光板剝離轉印片，使摩擦力降低成分轉印，獲得轉印有摩擦力降低成分之偏光板。
實施例2~6
除了將轉印片、偏光板之種類如表1所示進行變更以外，以與實施例1同樣之方法獲得轉印有摩擦力降低成分之偏光板。
比較例1~2
於比較例1中，使用上述偏光板(1)，於比較例2中，使用上述偏光板(2)(無摩擦力降低成分)。
比較例3
於包含紫外線硬化型之胺基甲酸酯丙烯酸酯單體100重量份及二苯甲酮系光聚合起始劑3重量份之紫外線硬化型樹脂組合物中加入平均粒徑0.5μm之二氧化矽粒子15重量份及平均粒徑1.4μm之二氧化矽粒子10重量份，獲得樹脂混合物。於所得之樹脂混合物中，進而添加黏度調節用溶劑而將固形物成分濃度調節為50重量%後，用高速攪拌機加以混合。用棒塗機將所得之混合液塗佈於厚度80μm之TAC膜(商品名：TD-60UL，富士膠片(股)製造)之單面，溶劑揮發後，照射紫外線進行硬化處理，獲得具有包含表面微細凹凸結構且厚度為7μm之紫外線硬化樹脂皮膜之光擴散層的光擴散片。
於所得之擴散片之不具有光擴散層之表面(即，TAC膜表面)以乾燥後之接著劑層之厚度為55nm左右的方式塗佈上述接著劑水溶液(1)，獲得附接著劑層之光擴散片。於23℃之溫度條件下，於製造例1中使用之偏光元件之一面(與擴散片接觸之側)以上述附接著劑層之光擴散片之接著劑層與偏光元件接觸的方式進行積層，於偏光元件之另一面(不與擴散片接觸之側)以於製造例1中使用之具有接著劑層之TAC膜(商品名：TD-60UL，富士膠片(股)製造)之接著劑層與偏光元件接觸的方式進行積層，用輥機使其貼合而製成積層體。使該積層體於70℃下乾燥10分鐘，製作偏光板(3)。
關於實施例1~6、比較例1~3中製作之偏光板，進行下述評價。於表1中表示結果。
<動摩擦力之測定方法>
使實施例1~6、比較例1~3中獲得之背面側偏光板之表層與擴散片(商品名：DBEF-D2-400，住友3M(股)製造)接觸，進行動摩擦力之測定。動摩擦力之測定基於JIS K7125用Autograph(島津製作所(股)製造)進行實施。於以下之測定條件下進行測定，無視峰值試驗力，將平均試驗力作為動摩擦力進行測定。
(測定條件)
荷重元：50N
試驗速度：100mm/min
試驗片尺寸：寬500mm×長1500mm
載荷：200g
<摩擦力降低成分之轉印量之確認>
對於實施例1~6中獲得之偏光板進行剝離轉印片後之偏光板之表面的元素分析，確認Si轉印量及F轉印量。轉印量之確認用ESCA(Quantera SXM，ULVAC-PHI製造)來進行。
(測定條件)
對各試樣進行寬掃描測定，並進行定性分析。對檢測出之元素進行窄掃描測定，算出Si之元素比率(atomic%)及F成分之元素比率(atomic%)。
(分析裝置及測定條件)
ESCA裝置：Quantera SXM(ULVAC-PHI製造)
X射線源：單色Al Kα
X射線設置：100μm(25W(15kV))
光電子出射角：相對於試樣表面45度
鍵能之修正：將源自C1s譜之C-C鍵的峰值修正為285.0eV
中和條件：併用中和槍及Ar離子槍(中和模式)
<劃痕試驗(振動試驗)>
將實施例1~6、比較例1~3中獲得之偏光板(樣品尺寸：50mm×1500mm)貼合於玻璃，以貼合於該玻璃之背面側偏光板與擴散片(商品名：DBEF-D2-400，住友3M(股)製造)接觸之方式設置於托盤內，進行振動試驗。振動試驗進行200次/分鐘×10分鐘。評價基準如下所示。
￮：以目視無法於偏光板表面確認劃痕。
×：以目視能於偏光板表面確認劃痕。
<面板之對比度之測定>
自含有IPS模式之液晶單元之液晶顯示裝置(LGD公司製造之液晶電視，型號：32LE7500之液晶面板，畫面尺寸：32英吋)取出液晶面板，將配置於液晶單元之上下之光學膜全部去除後，清洗上述液晶單元之玻璃面(正反)。如此方式製作液晶單元A。於上述液晶單元A之視認側使用上述製造例1中獲得之偏光板(1)作為視認側偏光板，於其相反側(背面側)經由丙烯酸系黏著劑層(厚度：20μm)貼合實施例1~6、比較例1~3中獲得之背面用偏光板來製作液晶面板。使視認側之偏光板的吸收軸方向與上述液晶單元A之長邊方向實質上平行。另一方面，使背面側之偏光板之吸收軸方向與上述液晶單元A之長邊方向實質上垂直。
將獲得之液晶面板重新安裝於取出上述液晶單元A之含有IPS模式之液晶單元的液晶面板(LGD公司製造之液晶電視，型號：32LE7500之液晶面板，畫面尺寸：32英吋)。
對比度之測定係於23℃、55%R.H.之暗室點亮背光後經過30分鐘後，使用ELDIM公司製造之EZ Contrast160D(製品名)，測定顯示出白圖像及黑圖像時之正面方向之XYZ顯示系的Y值。由白圖像中之Y值(YW：白亮度)及黑圖像中之Y值(YB：黑亮度)算出正面方向的對比度比(YW/YB)。對比度比只要為1500以上即可，較佳為2000以上。
1‧‧‧液晶顯示裝置
2‧‧‧背面側偏光板
3‧‧‧透明保護膜
4‧‧‧偏光元件
5‧‧‧透明保護膜
6‧‧‧視認側偏光板
7‧‧‧透明保護膜
8‧‧‧偏光元件
9‧‧‧透明保護膜
10‧‧‧液晶單元
11‧‧‧擴散片
12‧‧‧背光
A‧‧‧背面側偏光板之與擴散片接觸之表面

Claims (5)

  1. 一種偏光板，其係於至少依序具備液晶單元、偏光板、擴散片及背光且上述偏光板與上述擴散片接觸之液晶顯示裝置中之上述偏光板，且上述偏光板於上述偏光板與上述擴散片接觸之表面具有摩擦力降低成分，上述偏光板之具有摩擦力降低成分之表面與上述擴散片之動摩擦力為1.0N以下。
  2. 如請求項1之偏光板，其中上述偏光板係於偏光元件之至少單面積層有透明保護膜者。
  3. 如請求項1或2之偏光板，其中上述偏光板於上述偏光板與上述擴散片接觸之表面不設置擴散層。
  4. 一種液晶顯示裝置，其係依序具備視認側偏光板、液晶單元、如請求項1至3中任一項之偏光板、擴散片及背光，且上述偏光板與上述擴散片接觸。
  5. 一種偏光板之製造方法，其係製造如請求項2或3之偏光板者，且包括：準備於偏光元件之至少單面積層有透明保護膜之偏光板的步驟；形成於基材上具有含有摩擦力降低成分之層之轉印片的步驟；以上述轉印片之含有摩擦力降低成分之層與上述偏光板之透明保護膜接觸的方式，將上述偏光板與上述轉印片貼合而形成積層體的步驟；及自上述積層體剝離轉印片之步驟。
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