TWI531838B - 水平電場型液晶顯示裝置、改變入射光的偏光軸後射出的液晶延遲面板及其製造方法 - Google Patents

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Description

水平電場型液晶顯示裝置、改變入射光的偏光軸後射出的液晶延遲面板及其製造方法
本發明是有關於一種液晶延遲面板以及水平電場型液晶顯示裝置，且特別是有關於一種利用以奈米大小的液晶域形成的奈米液晶層構成的液晶延遲面板以及水平電場型液晶顯示裝置。
在各種產業領域對顯示器顯示裝置的需求一直不斷的增加，最近隨著資訊通信技術的快速發展，要實現對顯示器顯示裝置的各種要求，該技術正在積極的開發。
尤其，最近作為取代傳統CRT的顯示器，畫面優質並具有輕薄、低電力消耗等多種優點的液晶顯示裝置(LCD)已經在小型畫面的攜帶用移動顯示器，一直到中型畫面的筆記電腦、顯示器，以及大型畫面的電視等多種應用產品中產品化。
一般來說，液晶顯示裝置是上、下板兩張基板之間注入 液晶後，調整對此施加的電場強度來調整透光率。此時，注入的液晶分子結構又細又長，分子排列就具有方向性，由於這種特徵液晶分子具有各向異性(Anisotropy)性質。液晶為例，大體上具有光學各向異性(Optical Anisotropy)和介電各向異性(Dielectric Anisotropy)兩種重要的性質，利用這種液晶分子的特異性質調整在外部人為施加的電場強度，由此控制液晶分子的排列方向來調整透光率。
尤其，最近由於液晶物質具有的折射率各向異性特徵，根據觀看液晶面板的角度，色彩的變化及對比度的變化變大，因此為了解決視角變小和產生灰階反轉的問題，需要開發具有廣視角的液晶顯示裝置，對此的解決方案提出了水平電場(IPS)型液晶顯示裝置。
圖1是美國註冊專利第7787090號掲示的現有水平電場型液晶顯示裝置結構的截面示意圖。僅供參考，在圖1沒有顯示通常顯示的偏光板。
如圖1所示，現有的水平電場型液晶顯示裝置是由形成彩色濾光片2和配向層3的上板1和形成畫素電極6(Pixel Array)和配向層5的下板7之間注入液晶層4，為了調整所述液晶4的配向狀態在上、下板分別形成配向膜的結構所形成。
這種現有的水平電場型液晶顯示裝置在其電極上沒有施加電壓時，液晶層根據配向膜保持初期的水平配向狀態，對從外部射入的光不起任何作用使其直接通過來實現黑色(Black)狀態。
相反的，在電極上施加電壓時，在水平電場型液晶顯示裝置上與畫素電極平行的方向形成電場，改變液晶的排列，再使光通過，由此實現白色(White)狀態。
然而，由於現有的水平電場型液晶顯示裝置基本上使用上、下各基板，將兩個基板粘合後，經過兩基板之間注入液晶的複雜液晶工序來製造，所以具有如下面的幾個問題。
第一，使用上下各基板，具有工序變複雜的問題。如此，單獨製造上、下基板後，再將兩基板粘合時，具有需要附加對齊(Alignment)工序的缺點。
第二，為了配向液晶，需要配向膜印刷及摩擦工序，由於這種液晶配向工序具有降低良率的問題。
第三，粘合上、下基板注入液晶後，具有一直保持一定間隔(Gap)的問題。因此，被外部壓力或衝擊上、下板的間隔改變時，具有顯示器畫面品質改變的問題。尤其在能彎曲或折疊的柔軟材質柔性顯示器為例，這種上、下板的保持一定間隔的問題更是具有嚴重的缺點。
第四，為了進行如此的整個液晶工序，需要無塵室環境及大規模的設備投資，因此具有初期投資費用過大的問題。
另一方面，實現現有立體TV方式之一，利用相位延遲的偏光分割方式的立體影像顯示裝置中，這種相位延遲具有製造工序嚴格的問題和以垂直方向分割空間配置左右影像，因此3D影像的垂直方向的空間解析度相比於2D影像減少成1/2的限制。為了 形成現有的相位延遲薄膜要使用與配向普通液晶使用的配向膜相異的光學配向膜，摩擦時要以+45°和-45°角度配向，因此使用掩膜摩擦後，需要塗布光反應性液晶單體後照射UV(紫外線)的工序。因此具有製造工序複雜、消耗時間長、並且需要的裝備也要使用高價裝備等的問題。
本發明是為了解決上述問題而提出的，本發明的目的是提供通過基於奈米液晶層構成的一種全新概念的水平電場型液晶顯示裝置可以大幅簡化顯示器面板的製造工序，並且用一個形成畫素電極的背基板可以製造的液晶顯示裝置，尤其是包含奈米液晶層的水平電場型液晶顯示裝置，該奈米液晶層具有適合用於實現柔性顯示器的性質。
本發明的另一目的是提供以簡單的方法可以製造的液晶相位延遲面板。
為了完成所述目的，根據本發明具有奈米液晶層的水平電場型液晶顯示裝置，其特徵是包含：基板；在基板的上面形成的水平電場型電極層；在水平電場型電極層上形成的奈米液晶層；配置在基板下面的第1偏光板；以及配置在奈米液晶層上部的第2偏光板，奈米液晶層是以比可見光的波長範圍小的直徑大 小形成的奈米液晶域分散在高分子基質內。
本發明的另一目的是改變入射光的偏光軸後射出的液晶延遲面板的製造方法，其特徵是包含：在透明基板形成施加水平電場的水平電場型電極層的第1步驟；由分散在高分子基質內的光反應性液晶單體和比可見光的波長範圍小的直徑大小形成的奈米液晶混合的奈米液晶域形成的奈米液晶層塗布在所述水平電場型電極層上的第2步驟；以及對水平電場型電極層施加電壓形成水平電場的狀態下，照射UV(紫外線)的第3步驟。
本發明的另一目的是改變入射光的偏光軸後射出的液晶延遲面板，其特徵是包含：透明的基板；在基板上層積形成的水平電場型電極層；層積形成在水平電場型電極層上，混合光反應性液晶單體，比可見光的波長範圍小的直徑大小形成的奈米液晶域分散在高分子基質內形成的奈米液晶層。
根據本發明的具有奈米液晶層的水平電場型液晶顯示裝置，可以去除及省略在現有的液晶顯示裝置的製造上所需要的大部分工序和構成部分，因此具有如下的優越效果。
第一，由於不需要額外的液晶配向，所以不需要配向膜，由此可以去除在現有的液晶顯示裝置製造上必要的配向膜印刷及摩擦工序。
第二，製造現有的液晶顯示裝置時，因為分別使用上、下基板，所以需要精密對齊(Align)基板後粘合的粘合工序，但根 據本發明用一個形成畫素電極的背基板可以製造液晶顯示裝置，可以大幅簡化工序。
第三，現有的液晶顯示裝置是精密粘合上、下基板注入液晶後，必須保持上下基板的一定間隔(Gap)，但根據本發明在背基板上塗布奈米液晶域製造一種薄膜形態的奈米液晶層，所以沒有必要保持一定的間隔(Gap)。另外，奈米液晶層以薄膜形態存在，不會有被外部的壓力或衝擊改變間隔的問題，因此在適用能彎曲或折疊的柔軟材質塑膠基板的柔性顯示器的製造上具有非常有利的優點。
第四，根據本發明可以省略在現有的液晶顯示裝置製造上需要的大部分工序，即配向膜印刷、摩擦、間隔區塗布、上下板粘合、液晶注入、端面密封(End Seal)的多數工序。由此不需要用於進行整個液晶顯示裝置製造工序的大規模無塵室設備或工序設備投資，可以大幅減小初期投資費用。
另外，根據本發明製造的液晶相位延遲面板不需要用於配向光反應性液晶的額外掩膜，其製造工序簡單，具有可以節省製造設備費用的優點。
1‧‧‧上板
2、70‧‧‧彩色濾光片
3、5‧‧‧配向層
4‧‧‧液晶
6‧‧‧畫素電極
7‧‧‧下板
10‧‧‧基板
20‧‧‧水平電場型電極層
21、51‧‧‧共同電極
22‧‧‧絕緣層
23、52‧‧‧畫素電極
30‧‧‧奈米液晶層
31‧‧‧黏結劑
32‧‧‧奈米液晶域
33‧‧‧外壁
34‧‧‧液晶分子
40‧‧‧第1偏光板
41‧‧‧光反應性液晶單體
50‧‧‧第2偏光板
60‧‧‧保護層
61、63‧‧‧電場方向
80‧‧‧透明電極(ITO)
90‧‧‧粘著劑
附圖並不傾向於依比例繪製。圖式中，以相似數目代表繪示於各種圖型中的相同或幾乎相同的組件。為簡潔起見，圖式中並 未標示出所有組件。圖式中：圖1是現有水平電場型液晶顯示裝置結構的截面示意圖。
圖2是根據本發明的第1實施例，具有奈米液晶層的水平電場型液晶顯示裝置結構的截面示意圖。
圖3是奈米乳狀液和粗乳狀液的比較實施例。
圖4是圖2的‘A’區域的擴大截面圖，其顯示施加電場(On)狀態下的動作原理圖。
圖5是根據本發明的第2實施例，具有奈米液晶層的水平電場型液晶顯示裝置結構的截面示意圖。
圖6是根據本發明的第3實施例，具有奈米液晶層的水平電場型液晶顯示裝置結構的截面示意圖。
圖7(a)以及圖7(b)是根據本發明的實施例，利用包含光反應性液晶單體的液晶奈米膠囊層製造λ/4相差薄膜或相差延遲薄膜的工序圖及結構圖。
圖8(a)至圖8(c)是以鋸齒形形態形成的IPS方式水平電場型電極層作為相差延遲薄膜使用的實施例。
本發明掲示的技術特徵是通過利用光在介質中根據粒子大小的光學特性的奈米液晶層作為基礎構成的一種全新概念的水平電場型液晶顯示裝置，可以大幅簡化顯示器面板的製造工序，並可以大幅減小初期投資費用。
以下，結合附圖對本發明的較佳實施例、優點及特徵進行詳細的說明。
圖2是根據本發明的第1實施例，具有奈米液晶層的水平電場型液晶顯示裝置結構的截面示意圖。
參照圖2，根據本發明的第1實施例，具有奈米液晶層的水平電場型液晶顯示裝置是第1偏光板40、基板10、水平電場型電極層20、奈米液晶層30及第2偏光板50依序層積形成的結構。在圖中顯示第1偏光板40和第2偏光板50的設置分別與基板10和奈米液晶層30隔離，但無間隔的相互緊貼較好。在下述的圖中，類似的應該理解為偏光板是緊貼而形成。
基板10是以透明材質形成的薄板，具體地不僅是玻璃(Glass)素材的玻璃基板，亦可由能彈性變形且具有柔軟性的塑膠基板構成。
另一方面，使用塑膠基板時，必須用透光率優異且無雙折射效應的基板構成。符合所述目的塑膠基板素材最好使用從三乙酸纖維素(Tri Acetyl Cellulose，TAC)、聚醯亞胺(PI)、聚醚碸(PES)、聚對苯二甲酸乙二酯(PET)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)及聚芳基酸酯(PAR)中任意選擇的至少一個，但並不受限於此。
第1偏光板40是通過配置在基板10下部的背光源(未顯示)等向奈米液晶層30入射的光偏振的組成部，較好在基板10的下面層積形成。
第2偏光板50是射入奈米液晶層30的光沒有被奈米液 晶層30的雙折射效應偏振而透過時起攔截作用的組成部，較好在奈米液晶層30的上面層積形成。
第1偏光板40的形成使其偏光軸與第2偏光板50的偏光軸成直角狀態。因此，第1偏光板40的偏光軸是0°(或90°)時，第2偏光板50設置成具有90°(或0°)的偏光軸。
另一方面，第2偏光板50是附加防帶電性的偏光板構成較好。此是使外部靜電對奈米液晶層30的影響最小化。
對第2偏光板50附加防帶電性的方法是使用防帶電性粘著劑附加防帶電性的方法(韓國公開專利第2006-0018495號，第2004-0030919號，日本公開專利第2006-111856號，第2006-104434號)，有在塗布液添加水分散導電性金屬粉末或如碳粒子一樣的導電性物質的方法和在粘著劑添加低分子量的介面活性劑物質的方法，除此之外，可以利用在偏光板的至少一面形成包含經熱處理淨化碳雜質的奈米碳管的防帶電塗布層的方法，在偏光板的一個以上的面依序層積形成防帶電塗布層和防帶電性粘著劑的方法(韓國公開專利第2009-0027930號)等。
水平電場型電極層20是指施加水平電場使液晶回應表示灰階的電極結構。
較佳地，為了形成水平電場將畫素電極圖案和共同電極圖案在同一基板10上以同一層形成的IPS(In-Plane Switching)模式構成，或是為了形成水平電場將畫素電極圖案和共同電極圖案形成在同一基板10，但畫素電極23和共同電極21配置在相互不 同的層，並在其之間介入絕緣層22的FFS(Fringe-Field Switching)模式構成。
奈米液晶層30是以層積的形態設置在水平電場型電極層20上面，實現使通過第1偏光板40入射的光原樣通過或改變偏光的作用，相當於能使顯示裝置表示灰階的核心構成部。
這種奈米液晶層30是將奈米液晶域32與黏結劑31混合製造塗布溶液後，塗布在形成有畫素電極的基板10上部，再經硬化形成。因此，奈米液晶層30形成奈米液晶域32分散在經硬化的黏結劑31的高分子基質內的結構。
尤其，奈米液晶層30是一種接合在水平電場型電極層20上面的薄膜形態來設置，由於這種特性只用一個基板10可以製造水平電場型液晶顯示裝置。這可以說是與需要一雙相對基板的現有水平電場型液晶顯示裝置成對比的一點。另外，奈米液晶層30由於所述特性不會有被外部壓力或衝擊扭曲或改變間隔的問題，因此對適用柔軟材質塑膠基板的柔性顯示器具有非常有利的優點。
另一方面，奈米液晶域32的特徵是比可見光波長(380nm~780nm)的範圍小的直徑大小形成，如此以奈米大小形成奈米液晶域32時所表現的光學特性與水平電場型電極組合，由此可以實現一種全新概念的水平電場型液晶顯示裝置。
以下對由奈米液晶域32和經硬化的黏結劑31的高分子基質形成的奈米液晶層30進行詳細的說明。
圖3是奈米乳狀液和粗乳狀液的比較實施例，圖3的左側小瓶中的試料是將奈米液晶域32以50nm的平均直徑大小變形的奈米乳狀液(Nano Emulsion)，右側小瓶中的試料是以具有1.0μm平均直徑大小的液晶形成的粗乳狀液(Macro Emulsion)。
在圖3的比較實施例中清楚地顯示，左側的奈米乳狀液試料呈現透明，相反的右側的粗乳狀液試料呈現非透明。
申請人通過如圖3的比較實施例，可以確認根據介質中包含的粒子大小，光通過該介質時被散射或不受任何影響原樣通過的事實。
尤其，將奈米液晶域32以比可見光的波長小的奈米大小(較好是以比可見光的1/4波長小的大小)形成時可以看出向該試料入射的可見光的一部分安然通過，更好是將奈米液晶域32以100nm以下的直徑大小形成時，可以看出幾乎不產生散射，大部分的入射光原樣通過。
具有本發明奈米液晶層30的水平電場型液晶顯示裝置，如此將奈米液晶域32以可見光波長範圍的1/4以下的小直徑大小形成時，相當於利用所表現的光學特性構成的一種全新概念的水平電場型液晶顯示裝置。
本發明的奈米液晶層30是通過奈米液晶域32的製造步驟，和奈米液晶層的塗布步驟而形成。
將液晶改變成奈米大小(即，100nm以下的直徑大小)的粒子，在這種以奈米大小變形的液晶上形成外壁33，由此以膠 囊形態製造奈米液晶域32。
這種奈米液晶域32可以利用複合凝聚法(Complex Coacervation)、膜(Membrane)乳化法、原位聚合法(In-situ Polymerization)、界面聚合法(Interfacial Polymerization)等來製造。
在奈米液晶域32使用的液晶分子34是如向列型、近晶型、膽甾型及手性近晶型一樣的液晶顯示裝置通常使用的液晶，但並不受限於此，製造出的奈米液晶域32除了上述的液晶以外還可以包含二色性染料(Dichroic dye)及手性摻雜劑。
具體地，奈米液晶域32是通過形成液晶核心物質液晶液滴(Droplet)的乳化工序、基於凝聚的膠囊化工序，膠囊外壁33的凝膠化工序、膠囊外壁33的硬化工序及時效工序來製造。
乳化工序是在包含乳化劑的水溶液利用高速均質攪拌器(Homogenizer)和高壓分散器(Microfluidizer)乳化裝置形成核心物質液晶液滴(Droplet)的工序，且乳化劑是如純膠2000(Purity Gum 2000)、殼聚糖(Chitosan)、卡拉膠(Carrageenan)、明膠(Gelatin)、阿拉伯膠(Arabia Gum)、白蛋白(Albumin)、藻酸鹽(Alginate)、酪蛋白(Casein)等的自然乳化劑和如聚氨酯、聚丙烯酸、聚乙烯、胺的合成乳化劑中任意選擇至少一個以上組合使用較好，但並不受限於此。
對此具體地說明如下，將約5%(w/v)的純膠2000水溶液以50℃維持溫度的狀態下，利用吸液管徐徐滴下5%(w/v)的液晶，邊用高速均質攪拌器(Homogenizer,Ultra Turrax,IKA-T18 Basic, IKA)以14,000rpm左右的旋轉速度1次乳化液晶約2分鐘。此時，用吸液管徐徐滴下液晶的理由在利用高速均質攪拌器初期乳化時，盡可能要抑制由高速旋轉的轉子(Rotor)產生泡沫(Foam)。
然後，將1次乳化的液晶乳狀液利用高壓分散器(Microfluidizer,M-110L,Microfluidics)在約1,000bar的壓力下以5次(Pass)左右的條件做2次乳化。這樣將乳化工序分成1,2次進行的理由在初期乳化工序中盡可能要減小液晶液滴(Droplet)的大小。
乳化工序完成後，進入基於凝聚的膠囊化工序，此工序也是為了確保奈米液晶域32外壁33的形成，經2次形成外壁33。首先利用高速均質攪拌器約14,000rpm的速度攪拌，邊將約0.2%(w/v)的殼聚糖(Chitosan)水溶液用注射器(Syringe)在初期乳劑分散液上慢慢滴下。如此添加殼聚糖水溶液後利用乙酸(Acetic Acid)將pH調節成4~5。如此調節pH後，純膠2000和殼聚糖形成凝聚層(Coacervate)便在奈米液晶域32形成1次外壁33。然後，如此形成1次外壁的乳劑分散液從約50℃到約80℃上升溫度的狀態下，將高速均質攪拌器(Homogenizer)的攪拌速度提高到約18,000rpm左右攪拌，邊用注射器(Syringe)慢慢滴下約0.4%(w/v)的卡拉膠(Carrageenan)水溶液。這樣添加全部卡拉膠(Carrageenan)水溶液後，與1次外壁形成的情形同樣的用乙酸(Acetic Acid)將pH調節成4~5。這樣調節pH後，形成卡拉膠凝聚層，如此形成的卡拉膠凝聚層在奈米液晶域32形成2次外壁33。
膠囊化工序完成後，進入通過溫度變化進行膠囊外壁33 凝膠化(Gelation)的凝膠化工序。即，從約80℃的高溫完成2次外壁形成後將溫度下降到常溫，由此使在奈米液晶域32形成的外壁33物質凝膠化。
凝膠化工序完成後，進入膠囊外壁的硬化工序。硬化工序是添加硬化劑硬化膠囊外壁33的步驟，所述硬化劑使用戊二醛(Glutaraldehyde)或甲醛(Formaldehyde)與明膠的氨基進行交聯反應(Crosslink)硬化膠囊後再過一定時間失效後最終獲得奈米液晶域32。
通過上述的製造工序獲得的奈米液晶域32需要清洗，清洗時使用純水、異丙醇、乙二醇等來執行。然後需要將奈米液晶域32與水溶液或清洗液分離，這可以用超速離心分離法(Ultracentrifugation)或冷凍乾燥法(Freeze Dry)完成。由於奈米大小的粒子遠小於一般微米大小的粒子，以普通的離心分離不會產生分離。因此，奈米大小粒子的分離需要超速離心分離法，這種設備稱為超速離心分離器(Ultracentrifuge)。
自從奈米液晶域32分散水溶液或清洗液完成分離的奈米液晶域32需要固定在基板10的上面，這可以通過黏結劑(Binder)完成。即，在具有透明物性的黏結劑31以一定的比率混合奈米液晶域32製造溶液後，將溶液塗布在形成有畫素電極的基板10上面，由此最終形成奈米液晶層30。
塗布方法可以使用凹版(Gravure)塗布、刀片(Knife)塗布、輥(Roll)塗布、狹縫(Slot Die)塗布、反向(Reverse)塗布中選擇 的任一個方法完成。
奈米液晶域32和黏結劑31是從5：1到1：1的比率混合組成較好，黏結劑31使用聚乙烯醇、明膠、間苯二酚甲醛(resorcinol-formalin)樹脂、聚氨酯樹脂、丙烯酸樹脂、三聚氰胺、甲基丙烯酸樹脂、甲醛樹脂、氟化樹脂及聚乙烯吡咯烷酮中任意選擇的至少一個透明高分子物質較好。
另一方面，混合奈米液晶域32和黏結劑31的溶液塗布在基板10之前，首先執行消除黏結劑31在所述混合過程中所包含氣泡的脫氣過程較好。
上述的工序全部完成時，多數的奈米液晶域32分散在高分子基質內部的奈米液晶層30以薄膜形態層積形成在水平電場型電極層20上。
圖4是圖2的‘A’區域的擴大截面圖，圖4實施例的水平電場型液晶顯示裝置的水平電場型電極層20是以FFS(Fringe-Field Switching)方式的電極結構構成，其顯示施加電場(On)狀態下的動作原理圖。
參照圖4，根據本發明奈米液晶層30的水平電場型液晶顯示裝置的驅動原理說明如下。
(1)黑色(Black)狀態的表現
具有本發明的奈米液晶層30的水平電場型液晶顯示裝置在水平電場型電極層20沒有施加電場時，奈米液晶層30的動作使通過第1偏光板40的入射光原樣通過，由此表現黑色狀態。
即，沒有施加電場的關(Off)狀態下，根據上述的奈米液晶域32的光學特性奈米液晶層30對入射光(例如，背光源的光)不產生任何影響，經過第1偏光板40以特定角度被選擇性的透過後，向奈米液晶層30入射的光通過奈米液晶層30時幾乎不產生散射現象原樣通過奈米液晶層30到達第2偏光板50。
結果，透過具有0°偏光軸的第1偏光板40光原樣入射具有90°偏光軸的第2偏光板50，由此該入射光被以垂直狀態具有偏光軸的第2偏光板50攔截，液晶顯示裝置表現黑色(Black)狀態。
如上所述，與為了灰階表現必須在相對的一對基板之間介入一對的配向膜，並在其之間注入液晶，要保持一定的間距和配向液晶具有方向的現有水平電場型液晶顯示裝置不同，本發明的水平電場型液晶顯示裝置是利用奈米液晶層30本身的固有特性可以表現黑色狀態，因此不需要額外的液晶配向。
由此，具有本發明奈米液晶層30的水平電場型液晶顯示裝置可以去除現有水平電場型液晶顯示裝置所必要的配向膜印刷及摩擦工序，基板也是具有以形成有畫素電極的背基板一個可以製造液晶顯示裝置的突破性優點。
(2)白色(White)狀態的表現
具有本發明的奈米液晶層30的水平電場型液晶顯示裝置在水平電場型電極層20施加電場時，奈米液晶層30的動作使通過第1偏光板40的入射光的偏光軸旋轉90°，由此表現白色狀態。
如圖4所示，在開(0n)狀態下，由於畫素電極(-)和共同電 極(+)的結構形成邊緣場(Fringe-Field)，便在奈米液晶層30形成水平電場。
如此施加電場的開(On)狀態與關(Off)狀態不同，因為根據水平電場在奈米液晶域32內部的液晶分子34與電場方向平行地水平排列，所以形成根據液晶分子配向的雙折射效應。
如此，對某一介質施加電場能產生折射率的變化，此種效應紀念首次發現者John Kerr(1875，蘇格蘭物理學家)稱為‘克爾’效應(Kerr Effect)。其以數學式表示，則定義為△n=λ*K*E2，在此△n是電場誘導的值，K是‘克爾’常數(Kerr Constant)根據介質的特性來決定，E是施加電場的強度，λ是入射介質的光的波長。本發明的奈米液晶層30的形成，其特徵是使根據施加電場的雙折射程度(△n‧d)要滿足λ/2條件。作為參考，‘△n’是指根據電場誘導的液晶雙折射值，‘d’是指奈米液晶層的厚度，‘λ’是指入射光的波長。
如上所述，根據水平電場在奈米液晶層30產生雙折射效應時，從外部入射的光通過奈米液晶層30時會受到影響。即，經過第1偏光板40入射的光被奈米液晶層30的雙折射效應改變偏振，此時，奈米液晶層30的雙折射程度(△n‧d)滿足入射光的λ/2條件時，入射光的偏光軸會旋轉90°，不會被與第1偏光板40成垂直狀態的第2偏光板50吸收原樣通過，表現白色狀態。
圖5是根據本發明的第2實施例，具有奈米液晶層的水平電場型液晶顯示裝置結構的截面示意圖。
參照圖5，根據本發明的第2實施例，具有奈米液晶層的 水平電場型液晶顯示裝置相比於第1實施例的水平電場型液晶顯示裝置，其特徵是還具有保護層60。
保護層60是由透光率優好的透明樹脂素材塗布層形成並配置在奈米液晶層30的上面。這種保護層60是在塗布形成奈米液晶層30後不直接黏貼第2偏光板50首先將保護層60形成在奈米液晶層30的上面後，再將第2偏光板50黏貼在其上面，由此起保護奈米液晶層30的作用。
適合於保護層60的材料可以使用沒有折射率各向異性特性的三乙酸纖維素(Tri Acetyl Cellulose,TAC)、環烯烴聚合物(Cyclo-Olefin Polymer)、聚醚碸(PES)、護膜(Over Coat)等。
再具備保護層60，雖然工序個數增加而工序費用也增加，但具有可以使黏貼第2偏光板時可能對奈米液晶層30引起的損傷(Damage)最小化的優點。
圖6是根據本發明的第3實施例，具有奈米液晶層的水平電場型液晶顯示裝置結構的截面示意圖。
根據本發明的第3實施例，具有奈米液晶層的水平電場型液晶顯示裝置相比於第1實施例的水平電場型液晶顯示裝置，其特徵是還包含上板。
如圖6所示，在奈米液晶層30的上部還配置上板，上板包含彩色濾光片70和透明電極80(ITO)。
即，在奈米液晶層30的上部層積彩色濾光片70以便顯示彩色。彩色濾光片70通過粘著劑90可以黏貼在奈米液晶層30 的上面。另外，在彩色濾光片70的上面為了消除外部靜電的影響再形成防帶電功能的透明電極80。
另一方面，在形成有奈米液晶層30的基板上粘合上板時，較好是以光硬化性粘著劑90(Adhesive)粘合。這是因為，以熱硬化性粘著劑為例，通常在100℃以上的高溫進行硬化，硬化時基板和上板的對齊(Alignment)被扭曲的問題會發生，相比於光硬化性粘著劑在良率方面比較不利。
在上述說明及圖示的具有本發明奈米液晶層的水平電場型液晶顯示裝置，以第1偏光板的偏光軸和第2偏光板的偏光軸相互垂直的狀態具備第1偏光板和第2偏光板，由此在水平電場型電極層沒有施加電場時，表現黑色狀態，在水平電場型電極層施加電場時表現白色狀態的常黒模式(Normally-Black Mode)構成。
然而，當然也能以與如上所述的常黑模式相反，在沒有施加電壓時光透過而具有最大亮度的常白模式(Normally-White Mode)構成。
即，本發明的水平電場型液晶顯示裝置具備第1偏光板和第2偏光板的偏光軸相互一致的構成，由此事項常白模式，其動作原理說明如下。
(1)白色(White)狀態的表現
本發明的常白模式水平電場型液晶顯示裝置在水平電場型電極層20沒有施加電場時，奈米液晶層30使通過第1偏光板40的入射光原樣通過，由此表現白色狀態。
即，沒有施加電場的關(Off)狀態下，根據上述的奈米液晶域32的光學特性奈米液晶層30對入射光(例如，背光源的光)不產生任何影響，經過第1偏光板40以特定角度被選擇性的透過後，向奈米液晶層30入射的光通過奈米液晶層30時幾乎不產生散射現象原樣通過奈米液晶層30到達第2偏光板50。
結果，透過第1偏光板40光入射與第1偏光板40的偏光軸一致的第2偏光板50，由此該入射光不被第2偏光板50吸收而原樣通過，表現白色狀態。
(2)黒色(Black)狀態的表現
本發明的常白模式水平電場型液晶顯示裝置在水平電場型電極層20施加電場時，奈米液晶層30使通過第1偏光板40的入射光的偏光軸旋轉90°，由此表現黒色狀態。
即，施加電場的開(On)狀態與關(Off)狀態不同，因為根據水平電場在奈米液晶域32內部的液晶分子34與電場方向平行地水平排列，所以形成根據液晶分子配向的雙折射效應。
如上所述，根據水平電場在奈米液晶層30產生雙折射效應時，從外部入射的光通過奈米液晶層30時會受到影響。即，經過第1偏光板40入射的光被奈米液晶層30的雙折射效應改變偏振，此時，奈米液晶層30的雙折射程度(△n‧d)滿足入射光的λ/2條件時，入射光的偏光軸會旋轉90°，通過奈米液晶層30的光被與第1偏光板40偏光軸一致的第2偏光板50攔截，由此液晶顯示裝置表現黒色(Black)狀態。
到此為止，對根據本發明包含奈米液晶層的液晶顯示裝置進行了說明。在本發明說明的奈米液晶層上混合光反應性液晶單體(Reactive Mesogens)或只以光反應性液晶單體構成時，亦可作為AMOLED防反射用λ/4相差薄膜或相差延遲薄膜(FPR,Film Patterned Retarder)使用。對本發明的奈米液晶層上製造包含光反應性液晶單體的λ/4相差薄膜及相差延遲薄膜的方法結合圖7(a)以及圖7(b)進行說明。
到此為止說明的方式相同的，在製造液晶奈米膠囊時在液晶混合光反應性液晶單體(Reactive Mesogens)製造奈米膠囊。光反應性液晶單體可以使用德國默克(Merk)公司的RMS03-001、RMS03-011、RMS03-013、RMS03-015、RMM-28B等。接著如7(a)所示，在以透明材質形成的基板10上層積絕緣層22，在絕緣層22上部以一定的間距隔離交叉形成畫素電極和共同電極以形成水平電場型電極層(IPS方式電極層)。在絕緣層22、畫素電極及共同電極的上部以到此為止說明的方法相同的方式塗布混合光反應性液晶單體的液晶奈米膠囊層，對畫素電極和共同電極施加電壓的狀態下照射UV光而使其硬化。通過UV硬化光反應性液晶單體41被硬化，如圖7(b)所示，即使消除在水平電場型電極層施加的電壓，包含在奈米液晶域32的奈米液晶還維持光硬化的排列狀態。因此，根據圖7(b)所示的光反應性液晶單體41形成液晶配向固定的薄膜，將其可以作為λ/4相差薄膜或相差延遲薄膜使用。
進而，在圖7(a)以及圖7(b)製造液晶奈米膠囊時， 雖然以混合光反應性液晶單體和奈米大小的液晶來說明，但不使用奈米大小的液晶只使用光反應性液晶單體形成液晶奈米膠囊層，亦然可以作為λ/4相差薄膜或相差延遲薄膜使用。另外，在圖7(a)以及圖7(b)水平電場型電極層雖然使用了IPS(In-Plane Switching)電極方式，要實現本發明只要能向一個方向施加電場就可以製造，因此亦可以使用FSS(Fringe-Field Switching)電極方式。
圖8(a)至圖8(c)是以鋸齒形形態形成的IPS方式水平電場型電極層作為相差延遲薄膜使用的實施例。圖8(a)是根據本發明形成的相差延遲薄膜的平面圖，圖8(b)是B-B'方向的截面圖，圖8(c)顯示在8(a)施加電壓時形成的電場方向。如圖8(a)所示，在平面上觀看時，IPS電極是在縱向具有相同的長度，並以具有45°角度的鋸齒形形狀相互隔離的共同電極51和畫素電極52反復地形成的結構。如圖8(b)的截面圖所示，可以看出圖8(a)至圖8(c)的相差延遲薄膜具有IPS電極結構。在圖8(a)及圖8(b)形成的電極利用電壓，在平面上觀看時，可以看出在A行，B行，C行，D行形成的電場方向61，63相互垂直並交替形成。因此可以看出在圖8(a)至圖8(c)掲示的相差延遲薄膜可以取代現有的相差延遲薄膜。
在3D影像顯示裝置取代現有的相差延遲薄膜利用圖7(a)、圖7(b)、圖8(a)至圖8(c)掲示的相差延遲薄膜時，可以提供新的3D影像顯示裝置。
以上，雖然在本發明的較佳實施例使用特定術語來說明 及圖示，但這些術語只是用於明確說明本發明而已，並且本發明的實施例及記載的術語在不脫離權利要求書的技術思想及範圍下，明顯地可以實施多種變更及變化。如此變形的實施例不應該自從本發明的思想及範圍單獨地去理解，應屬於本發明的權利要求書範圍。
10‧‧‧基板
20‧‧‧水平電場型電極層
21‧‧‧共同電極
22‧‧‧絕緣層
23‧‧‧畫素電極
30‧‧‧奈米液晶層
31‧‧‧黏結劑
32‧‧‧奈米液晶域
40‧‧‧第1偏光板
50‧‧‧第2偏光板
A‧‧‧區域

Claims (16)

  1. 一種水平電場型液晶顯示裝置，具有奈米液晶層，所述水平電場型液晶顯示裝置包括：基板；在所述基板的上面形成的水平電場型電極層；在所述水平電場型電極層上形成的奈米液晶層；配置在所述基板下面的第1偏光板；以及配置在所述奈米液晶層上部的第2偏光板，所述奈米液晶層是以比可見光的波長範圍小的直徑大小形成的奈米液晶域分散在高分子基質內，其中所述第1偏光板的偏光軸是與所述第2偏光板的偏光軸成相互垂直的狀態，其中所述奈米液晶層的動作，在所述水平電場型電極層沒有施加電場時，使通過所述第1偏光板的入射光原樣透過，由此表現黑色狀態，在所述水平電場型電極層施加電場時，使通過所述第1偏光板的入射光的偏光軸旋轉90°，由此表現白色狀態，其中所述奈米液晶層的形成使得在施加電場時所生成的奈米液晶層的雙折射程度(△n‧d，△n：被電場誘導的液晶的雙折射值，d：奈米液晶層的厚度)滿足λ/2(λ：入射光的波長)條件。
  2. 如申請專利範圍第1項所述的水平電場型液晶顯示裝置，其中所述奈米液晶層是將與黏結劑混合的奈米液晶域塗布在所述 水平電場型電極層上，再經硬化成薄膜而構成。
  3. 如申請專利範圍第1項所述的水平電場型液晶顯示裝置，其中所述第2偏光板是附加防帶電性的偏光板。
  4. 如申請專利範圍第1項所述的水平電場型液晶顯示裝置，其中所述奈米液晶域以小於或等於可見光的1/4波長的大小的平均直徑大小形成。
  5. 如申請專利範圍第1項所述的水平電場型液晶顯示裝置，其中所述水平電場型電極層是以IPS(In-Plane Switching)結構或是以FFS(Fringe-Field Switching)結構構成。
  6. 如申請專利範圍第1項所述的水平電場型液晶顯示裝置，其中所述奈米液晶層的上面黏貼以透明材質形成的保護層。
  7. 如申請專利範圍第1項所述的水平電場型液晶顯示裝置，更包括：配置在所述奈米液晶層上面的彩色濾光片；以及形成在所述彩色濾光片上面的透明電極。
  8. 如申請專利範圍第7項所述的水平電場型液晶顯示裝置，其中所述彩色濾光片是通過粘著劑粘合在所述奈米液晶層。
  9. 如申請專利範圍第1項所述的水平電場型液晶顯示裝置，其中所述基板是玻璃基板或塑膠基板，所述塑膠基板是由三乙酸纖維素、聚醯亞胺、聚醚碸、聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二醇酯及聚芳基酸酯中任意選擇 的至少一個來形成。
  10. 如申請專利範圍第2項所述的水平電場型液晶顯示裝置，其中所述奈米液晶域與所述黏結劑的混合比率為從5：1到1：1。
  11. 如申請專利範圍第2項所述的水平電場型液晶顯示裝置，其中所述黏結劑使用聚乙烯醇、明膠、間苯二酚甲醛樹脂、聚氨酯樹脂、丙烯酸樹脂、三聚氰胺、甲基丙烯酸樹脂、甲醛樹脂、氟化樹脂及聚乙烯吡咯烷酮中任意選擇的至少一個透明高分子物質。
  12. 一種改變入射光的偏光軸後射出的液晶延遲面板的製造方法，包括：在透明基板形成施加水平電場的水平電場型電極層的第1步驟；由分散在高分子基質內的光反應性液晶單體和比可見光的波長範圍小的直徑大小形成的奈米液晶混合的奈米液晶域形成的奈米液晶層塗布在所述水平電場型電極層上的第2步驟；以及對所述水平電場型電極層施加電壓形成水平電場的狀態下，照射紫外線的第3步驟，其中所述奈米液晶域以比可見光的1/4波長小的大小形成，其中所述奈米液晶層是將所述奈米液晶域與黏結劑以從5：1到1：1的比率混合組成之後，塗布在所述水平電場型電極層上，再經硬化成薄膜而構成。
  13. 一種改變入射光的偏光軸後射出的液晶延遲面板的製造方法，包括：在透明基板形成施加水平電場的水平電場型電極層的第1步驟；由分散在高分子基質內的光反應性液晶單體形成的奈米液晶層塗布在所述水平電場型電極層上的第2步驟；以及對所述水平電場型電極層施加電壓形成水平電場的狀態下，照射紫外線的第3步驟，其中所述奈米液晶層包括以比可見光的1/4波長小的大小形成的奈米液晶域，其中所述奈米液晶層是將所述奈米液晶域與黏結劑以從5：1到1：1的比率混合組成之後，塗布在所述水平電場型電極層上，再經硬化成薄膜而構成。
  14. 一種改變入射光的偏光軸後射出的液晶延遲面板，包括：透明基板；在所述基板上層積形成的水平電場型電極層；以及在所述水平電場型電極層上層積形成，並混合光反應性液晶單體，比可見光的波長範圍小的直徑大小形成的奈米液晶域分散在高分子基質內形成的奈米液晶層，其中所述奈米液晶域以比可見光的1/4波長小的大小形成，其中所述奈米液晶層是將所述奈米液晶域與黏結劑以從5：1 到1：1的比率混合組成之後，塗布在所述水平電場型電極層上，再經硬化成薄膜而構成。
  15. 一種改變入射光的偏光軸後射出的液晶延遲面板，包括：透明基板；在所述基板上層積形成的水平電場型電極層；以及在所述水平電場型電極層上層積形成，由光反應性液晶單體形成的奈米液晶域分散在高分子基質內形成的奈米液晶層，其中所述奈米液晶域以比可見光的1/4波長小的大小形成，其中所述奈米液晶層是將所述奈米液晶域與黏結劑以從5：1到1：1的比率混合組成之後，塗布在所述水平電場型電極層上，再經硬化成薄膜而構成。
  16. 一種水平電場型液晶顯示裝置，具有奈米液晶層，所述水平電場型液晶顯示裝置包括：基板；在所述基板的上面形成的水平電場型電極層；在所述水平電場型電極層上形成的奈米液晶層；配置在所述基板下面的第1偏光板；以及配置在所述奈米液晶層上部的第2偏光板，所述奈米液晶層是以比可見光的波長範圍小的直徑大小形成的奈米液晶域分散在高分子基質內，其中所述第1偏光板和所述第2偏光板的偏光軸相互一致， 所述奈米液晶層的動作，在所述水平電場型電極層沒有施加電場時，使通過所述第1偏光板的入射光原樣透過，由此表現白色狀態，在所述水平電場型電極層施加電場時，使通過所述第1偏光板的入射光的偏光軸旋轉90°，由此表現黒色狀態，其中所述奈米液晶層的形成使得在施加電場時所生成的奈米液晶層的雙折射程度(△n‧d，△n：被電場誘導的液晶的雙折射值，d：奈米液晶層的厚度)滿足λ/2(λ：入射光的波長)條件。
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Families Citing this family (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102162886B1 (ko) * 2014-09-01 2020-10-08 엘지디스플레이 주식회사 나노캡슐 액정층을 포함하는 액정표시장치
KR102207192B1 (ko) * 2014-09-30 2021-01-25 엘지디스플레이 주식회사 편광 제어 필름 및 이를 이용한 입체 표시 장치
CN104280934B (zh) * 2014-10-27 2017-06-27 深圳市华星光电技术有限公司 液晶面板及其制作方法
CN104460079A (zh) * 2014-11-12 2015-03-25 深圳市华星光电技术有限公司 柔性液晶面板制作方法及柔性液晶面板
KR102394407B1 (ko) * 2014-12-23 2022-05-04 엘지디스플레이 주식회사 나노캡슐 액정층을 포함하는 액정표시장치
WO2016148430A1 (ko) * 2015-03-16 2016-09-22 이미지랩(주) 액정 캡슐 표시 필름 및 이를 구비하는 표시 장치
WO2016148431A1 (ko) * 2015-03-16 2016-09-22 이미지랩(주) 광투과 조절 기능을 구비하는 패널 구조체, 그리고 이를 이용한 스마트 윈도우 및 표시 장치
KR102362436B1 (ko) 2015-09-22 2022-02-14 삼성디스플레이 주식회사 액정 표시 장치
KR101976582B1 (ko) 2015-11-24 2019-05-09 주식회사 엘지화학 혐수성 액정 필름, 그 제조 방법, 이를 포함하는 액정패널 및 디스플레이 기기
KR102443844B1 (ko) * 2015-11-30 2022-09-16 엘지디스플레이 주식회사 액정표시장치
TW201807165A (zh) * 2016-04-13 2018-03-01 馬克專利公司 包含液晶介質之用於奈米膠囊化的組合物及奈米膠囊
CN106154617A (zh) * 2016-08-30 2016-11-23 张家港康得新光电材料有限公司 一种聚合物分散液晶调光器件
KR102598480B1 (ko) * 2016-10-27 2023-11-03 엘지디스플레이 주식회사 액정캡슐을 포함하는 액정표시장치 및 그 제조방법
KR102574612B1 (ko) * 2016-10-31 2023-09-04 엘지디스플레이 주식회사 액정캡슐을 포함하는 액정표시장치
CN108267885A (zh) * 2018-02-11 2018-07-10 京东方科技集团股份有限公司 显示面板及其制备方法和显示装置
JP2019185024A (ja) 2018-04-09 2019-10-24 Jnc株式会社 液晶カプセルを含有するコート液およびその機能性膜
CN109119441A (zh) * 2018-07-27 2019-01-01 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 柔性显示装置及其制备方法
KR20210076504A (ko) 2019-12-16 2021-06-24 엘지디스플레이 주식회사 액정 캡슐 및 그 제조 방법
CN114879424B (zh) * 2022-04-25 2023-07-04 长春理工大学 基于多层复合结构的电控液晶非线性光学器件及其制备方法和应用

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0833759A (ja) * 1994-07-25 1996-02-06 Nippon Sheet Glass Co Ltd ゲーム機用カバーガラス
JP3504159B2 (ja) * 1997-10-16 2004-03-08 株式会社東芝 液晶光学スイッチ素子
JP2004302192A (ja) * 2003-03-31 2004-10-28 Nippon Sheet Glass Co Ltd 調光体及び合わせガラス
KR20050103685A (ko) * 2004-04-27 2005-11-01 삼성전자주식회사 액정 표시 장치용 휘도 강화 필름 및 그 제조 방법
KR100648220B1 (ko) * 2004-05-14 2006-11-24 비오이 하이디스 테크놀로지 주식회사 액정표시장치용 도전성 편광판
KR100806972B1 (ko) * 2006-04-06 2008-02-25 비오이 하이디스 테크놀로지 주식회사 반투과형 ｒｇｂ-ｐｄｌｃ 표시장치
CN101960364A (zh) * 2007-12-28 2011-01-26 陶氏环球技术公司 包含吸收有液晶物质的聚合物纳米粒子的相位补偿膜
KR101001362B1 (ko) * 2009-10-09 2010-12-14 이미지랩(주) 제 1 기판 시트, 제 1 기판 시트를 구비한 액정 패널 및 그 제조 방법
KR101423517B1 (ko) * 2010-02-19 2014-07-29 엘지디스플레이 주식회사 나노캡슐 액정층을 포함하는 액정표시장치 및 이의 제조방법

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