TWI506342B - Optical laminated body and manufacturing method thereof - Google Patents

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TWI506342B
TWI506342B TW099119316A TW99119316A TWI506342B TW I506342 B TWI506342 B TW I506342B TW 099119316 A TW099119316 A TW 099119316A TW 99119316 A TW99119316 A TW 99119316A TW I506342 B TWI506342 B TW I506342B
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Sumitomo Chemical Co
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Description

光學積層體及其製造方法
本發明係關於一種用於液晶顯示裝置之光學積層體，更詳細而言，係關於一種構成液晶顯示裝置的包含玻璃或塑膠片材等之液晶單元基板上，經由接著層而積層偏光板而成之光學積層體。另外，本發明係關於該光學積層體之製造方法。
偏光板係有用作構成液晶顯示裝置之光學零件。先前以來，作為偏光板係使用於偏光膜之單面或兩面，利用水系接著劑等而積層有包含透明樹脂膜之保護層之構成者。作為該透明樹脂膜，較多地使用三乙醯纖維素膜(TAC膜，triacetyl cellulose film)，原因在於其光學透明性及透濕性優異。於將保護層僅設置於偏光膜之單面之情形時，多數情況是具有相位差功能等光學功能之樹脂膜兼具偏光膜之保護功能，經由接著劑或黏著劑而積層於偏光膜之另一面。如此所構成之偏光板可視需要介隔其他光學功能層，利用黏著劑而貼合於液晶單元，製成液晶面板組入於液晶顯示裝置中。
液晶顯示裝置作為液晶電視、液晶監視器、個人電腦等薄型之顯示畫面，其用途迅速擴大。在如此之用途擴大形勢下，對構成其之構件亦要求進一步薄型化。如上所述，偏光板通常係使用黏著劑而貼合於液晶單元，其原因在於方便於如下操作：當貼合後產生某種不良狀況時，容易地自液晶單元上剝離，然後再貼合其他偏光板。但是，為保持適度之黏著力，黏著劑通常必需至少20 μm左右之厚度，於實現液晶面板或液晶顯示裝置之薄型化方面成為一個瓶頸。
業者亦嘗試藉由省略偏光膜之液晶單元側保護層，直接於偏光膜上形成黏著劑層，將該黏著劑層貼合於液晶單元而謀求薄型化。但是，於如此之將偏光膜與液晶單元直接以黏著劑層貼合之狀態下，當進行曝露於高溫下之耐熱試驗時，存在以下情況：僅藉由黏著劑層並無法充分地完全吸收偏光膜之收縮，而於偏光膜與黏著劑層之間產生浮升、剝離、發泡等不良。另外，當進行反覆經歷高溫狀態與低溫狀態之熱衝擊試驗(熱震試驗)時，存在以下情況：仍然是僅藉由黏著劑層無法充分地完全吸收偏光膜之伸縮，而導致偏光膜產生裂痕。
作為謀求偏光板之薄型化之其他嘗試，例如於日本專利特開2004-245924號公報中揭示有下述技術：於在聚乙烯醇系樹脂中吸附配向二色性色素而成之偏光膜之至少單面塗敷未硬化之環氧樹脂組合物後，使該組合物硬化，藉此形成保護膜。但是，於將以環氧樹脂組合物之硬化物作為保護膜之偏光板經由黏著劑而貼合於液晶單元的狀態下，耐久性並不充分，例如在進行熱震試驗時，存在偏光膜仍然會產生裂痕之情況。另外，於日本專利特開2004-245925號公報中揭示有下述技術：於在聚乙烯醇系樹脂中吸附配向二色性色素而成之偏光膜上，經由包含以不含芳香環之環氧樹脂作為主成分之組合物的接著劑而貼合保護膜，製成偏光板。
另一方面，於日本專利特開平9-159828號公報中揭示有下述技術，於偏光膜之一面，形成包含在乙烯、丙烯酸酯系及/或甲基丙烯酸酯系單體、及馬來酸及/或馬來酸酐之三元共聚物中，分別調配特定量之光敏劑、含丙烯醯氧基之化合物等不飽和化合物所得之光硬化性接著劑的接著層，而製成附有接著層之偏光板，並經由該接著層將偏光板接著於液晶單元基板上；並且亦記載於偏光膜之另一面設置包含上述光硬化性接著劑之保護層。但是，經由該文獻中所揭示之接著劑將偏光板接著於液晶單元基板上時，儘管於耐熱試驗或熱震試驗中，小型尺寸之液晶單元並未見大的問題，但中型至大型尺寸之液晶單元產生偏光板自液晶單元基板表面剝離，或偏光膜產生裂痕等問題。
另外，於日本專利特開2004-4636號公報中，揭示有由輥供給偏光板，並經由黏著劑而直接貼合於液晶單元基板之技術。
本發明之目的在於藉由將偏光板與液晶單元基板經由接著劑加以積層，而提供一種薄型輕量性及耐久性能優異之光學積層體。另外，本發明之其他目的在於提供一種該光學積層體之有利之製造方法。
本發明係提供一種光學積層體，其包含：液晶單元基板；接著層，其係與該液晶單元基板之表面接觸而積層，包含含有分子內具有至少1個環氧基之環氧系化合物的活性能量線硬化性樹脂組合物之硬化物；及偏光板，其係與該接著層之表面接觸而積層，包含在聚乙烯醇系樹脂中吸附配向二色性色素而成之偏光膜，且厚度為100 μm以下。
於本發明之光學積層體中，用以形成接著層之活性能量線硬化性樹脂組合物可進而含有氧雜環丁烷系化合物。另外，接著層之厚度較好的是10 μm以下。構成本發明之光學積層體之偏光板較好的是包含：與接著層之表面接觸而積層之上述偏光膜，及積層於該偏光膜之與接著層相反側之面的透明保護層。
進而，根據本發明，亦提供一種光學積層體之製造方法，其包含以下步驟：於包含在聚乙烯醇系樹脂中吸附配向二色性色素而成之偏光膜，且厚度為100 μm以下的偏光板之表面，形成包含含有分子內具有至少1個環氧基之環氧系化合物的活性能量線硬化性樹脂組合物之接著劑層；於液晶單元基板上，貼合形成於偏光板之表面之接著劑層；及照射活性能量線，使接著劑層硬化。
根據本發明，與將偏光板經由黏著劑而貼合於液晶單元基板的先前之光學積層體相比較可減小厚度，因此可使光學積層體、進而液晶面板實現薄型輕量化，並且偏光板與液晶單元基板之密接性亦良好。進而，藉由在液晶單元基板與偏光板之接合中不使用黏著劑而使用接著劑，可提供一種對於組裝裝置時之加熱處理或使用裝置時之環境條件亦能充分耐受之光學積層體。上述本發明之光學積層體特別適合應用於電視等大型液晶顯示裝置。
如圖1之剖面示意圖所示，本發明之光學積層體包含：液晶單元基板1；接著層2，其係與液晶單元基板1之表面接觸而積層，包含活性能量線硬化性樹脂組合物之硬化物；及偏光板5，其係與接著層2之表面接觸而積層，包含在聚乙烯醇系樹脂中吸附配向二色性色素而成之偏光膜，且膜厚為100 μm以下。如此，液晶單元基板1/接著層2/偏光板5積層而形成光學積層體10。以下，就本發明之光學積層體及其製造方法進行詳細說明。
<液晶單元基板>
液晶單元基板1係在與另一個基板(未圖示)之間夾持液晶而構成液晶單元者，該液晶單元構成液晶顯示裝置之核心構件。液晶單元基板1可由玻璃或透明塑膠片材構成。玻璃可為鈉鈣玻璃、低鹼硼矽酸玻璃、無鹼鋁硼矽酸玻璃等通常眾所周知之各種玻璃板，液晶單元中特別好的是使用無鹼玻璃。另外，透明塑膠片材亦只要透明且可成為液晶單元基板，則可使用各種公知者，具體例可列舉：包含聚碳酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚對苯二甲酸乙二酯、環氧樹脂等透明樹脂之可撓性基板。
<接著層>
本發明中，將上述之液晶單元基板1與包含偏光膜之偏光板5，經由藉由硬化而形成接著層2的包含含有分子內具有至少1個環氧基之環氧系化合物的活性能量線硬化性樹脂組合物之接著劑層2'(未圖示)而貼合，較好的是對該貼合物照射活性能量線使接著劑層2'硬化，從而製成光學積層體10。藉由使活性能量線硬化性樹脂組合物含有環氧系化合物，而可獲得對偏光板5與液晶單元基板1之間賦予良好之接著性，並且透明性、機械強度、熱穩定性等優異的耐久性能較高之接著層。於本發明中，所謂「分子內具有至少1個環氧基之環氧系化合物」，係指分子內具有1個以上之環氧基，藉由活性能量線(例如紫外線、可見光、電子束、X射線等)之照射可硬化之化合物。以下，有時將包括環氧系化合物、後述之氧雜環丁烷系化合物以及(甲基)丙烯酸系化合物，且藉由活性能量線之照射可硬化之化合物總稱為活性能量線硬化性化合物。
作為上述環氧系化合物，就耐候性或折射率、陽離子聚合性等觀點而言，較好的是使用分子內不含芳香環之環氧系化合物作為主成分。作為分子內不含芳香環之環氧系化合物，可例示：具有脂環式環之多元醇之縮水甘油醚、脂肪族環氧系化合物、脂環式環氧系化合物等。
就具有脂環式環之多元醇之縮水甘油醚進行說明。具有脂環式環之多元醇係藉由如下方式而獲得：於觸媒之存在下、加壓下，對芳香族多元醇之芳香環選擇性地進行氫化反應。作為芳香族多元醇，例如可列舉：雙酚A、雙酚F、雙酚S等雙酚型化合物；苯酚酚醛清漆樹脂、甲酚酚醛清漆樹脂、羥基苯甲醛苯酚酚醛清漆樹脂等酚醛清漆型樹脂；四羥基二苯基甲烷、四羥基二苯甲酮、聚乙烯苯酚等多官能型之化合物等。使對該等芳香族多元醇之芳香環進行氫化反應所獲得之脂環式多元醇與表氯醇反應，藉此可形成縮水甘油醚。此種具有脂環式環之多元醇之縮水甘油醚中，較好者可列舉經氫化之雙酚A之二縮水甘油醚。
作為脂肪族環氧系化合物，可列舉脂肪族多元醇或其環氧烷加成物之聚縮水甘油醚。更具體而言，可列舉：1,4-丁二醇之二縮水甘油醚，1,6-己二醇之二縮水甘油醚，丙三醇之三縮水甘油醚，三羥甲基丙烷之三縮水甘油醚，聚乙二醇之二縮水甘油醚，丙二醇之二縮水甘油醚，藉由於乙二醇、丙二醇或丙三醇等脂肪族多元醇上加成1種或2種以上之環氧烷(環氧乙烷或環氧丙烷)而獲得的聚醚多元醇之聚縮水甘油醚等。
另外，所謂脂環式環氧系化合物，係指具有至少1個之鍵結於脂環式環上之環氧基的環氧系化合物。所謂「鍵結於脂環式環上之環氧基」，係指下述式中之「-O-」的兩根鍵分別直接鍵結於構成脂環式環之2個碳原子(通常為相鄰之碳原子)，式中，m為2~5之整數。
因此，上述式中所示之化合物、或除去上述式中之(CH2 )m 中的1個或複數個氫原子後之形態之基鍵結於其他化學結構而成之化合物可成為脂環式環氧系化合物。(CH2 )m 中之1個或複數個氫原子可由甲基或乙基等直鏈狀烷基適當取代。
如上所述之環氧系化合物中，較好的是脂環式環氧系化合物，即環氧基之至少1個鍵結於脂環式環上之化合物，尤其是具有氧雜雙環己烷環(上述式中m=3者)、或氧雜雙環庚烷環(上述式中m=4者)之環氧系化合物，因硬化物之彈性模數較高，可對偏光板與液晶單元基板之間賦予良好之接著性，故而可更好地使用。以下，具體地例示本發明中可較好地使用之脂環式環氧系化合物之結構，但並不限定於該等化合物。
(a)　下述式(I)所示之環氧環己基甲酸環氧環己基甲酯類：
(式中，R1 及R2 互相獨立，表示氫原子或碳數為1~5之直鏈狀烷基)。
(b)　下述式(II)所示之烷二醇之環氧環己烷甲酸酯類：
(式中，R3 及R4 互相獨立，表示氫原子或碳數為1~5之直鏈狀烷基，n表示2~20之整數)。
(c)　下述式(III)所示之二羧酸之環氧環己基甲酯類：
(式中，R5 及R6 互相獨立，表示氫原子或碳數為1~5之直鏈狀烷基，p表示2~20之整數)。
(d)　下述式(IV)所示之聚乙二醇之環氧環己基甲醚類：
(式中，R7 及R8 互相獨立，表示氫原子或碳數為1~5之直鏈狀烷基，q表示2~10之整數)。
(e)　下述式(V)所示之烷二醇之環氧環己基甲醚類：
(式中，R9 及R10 互相獨立，表示氫原子或碳數為1~5之直鏈狀烷基，r表示2~20之整數)。
(f)　下述式(VI)所示之二環氧基三螺化合物：
(式中，R11 及R12 互相獨立，表示氫原子或碳數為1~5之直鏈狀烷基)。
(g)　下述式(VII)所示之二環氧基單螺化合物：
(式中，R13 及R14 互相獨立，表示氫原子或碳數為1~5之直鏈狀烷基)。
(h)　下述式(VIII)所示之乙烯基環己烯二環氧化物類：
(式中，R15 表示氫原子或碳數為1~5之直鏈狀烷基)。
(i)　下述式(IX)所示之環氧環戊醚類：
(式中，R16 及R17 互相獨立，表示氫原子或碳數為1~5之直鏈狀烷基)。
(j)　下述式(X)所示之二環氧基三環癸烷類：
(式中，R18 表示氫原子或碳數為1~5之直鏈狀烷基)。
以上所例示之脂環式環氧系化合物中，下述脂環式環氧系化合物由於市場有售，或者為其類似物，相對容易獲得等理由而可較好地使用。
(A) 7-氧雜雙環[4.1.0]庚烷-3-甲酸與(7-氧雜-雙環[4.1.0]庚-3-基)甲醇之酯化物[上述式(I)中，R1 =R2 =H之化合物]；
(B) 4-甲基-7-氧雜雙環[4.1.0]庚烷-3-甲酸與(4-甲基-7-氧雜-雙環[4.1.0]庚-3-基)甲醇之酯化物[上述式(I)中，R1 =4-CH3 ，R2 =4-CH3 之化合物]；
(C) 7-氧雜雙環[4.1.0]庚烷-3-甲酸與1,2-乙二醇之酯化物[上述式(II)中，R3 =R4 =H，n=2之化合物]；
(D)(7-氧雜雙環[4.1.0]庚-3-基)甲醇與己二酸之酯化物[上述式(III)中，R5 =R6 =H，p=4之化合物]；
(E)(4-甲基-7-氧雜雙環[4.1.0]庚-3-基)甲醇與己二酸之酯化物[上述式(III)中，R5 =4-CH3 ，R6 =4-CH3 ，p=4之化合物]；
(F)(7-氧雜雙環[4.1.0]庚-3-基)甲醇與1,2-乙二醇之醚化物[上述式(V)中，R9 =R10 =H，r=2之化合物]。
於本發明中，環氧系化合物可單獨僅使用1種，或者亦可併用2種以上。
另外，活性能量線硬化性樹脂組合物除上述環氧系化合物以外，亦可含有氧雜環丁烷系化合物。藉由添加氧雜環丁烷系化合物，可降低活性能量線硬化性樹脂組合物之黏度，並提高硬化速度。
氧雜環丁烷系化合物係分子內具有至少1個氧雜環丁烷環(4員環醚)之化合物，例如可列舉：3-乙基-3-羥甲基氧雜環丁烷、1,4-雙[(3-乙基-3-氧雜環丁基)甲氧基甲基]苯、3-乙基-3-(苯氧基甲基)氧雜環丁烷、二[(3-乙基-3-氧雜環丁基)甲基]醚、3-乙基-3-(2-乙基己氧基甲基)氧雜環丁烷、苯酚酚醛清漆氧雜環丁烷等。該等氧雜環丁烷系化合物可容易地獲得市售品，例如可列舉均為商品名之下述者：「Aron Oxetane OXT-101」、「Aron Oxetane OXT-121」、「Aron Oxetane OXT-211」、「Aron Oxetane OXT-221」、「Aron Oxetane OXT-212」(均由東亞合成(股)製造)等。氧雜環丁烷系化合物之調配量並無特別限定，通常以活性能量線硬化性化合物整體為基準為50重量%以下，較好的是10~40重量%。
於用於形成接著層之活性能量線硬化性樹脂組合物含有環氧系化合物或氧雜環丁烷系化合物等陽離子聚合性化合物之情形時，通常於該硬化性樹脂組合物中調配光陽離子聚合起始劑。若使用光陽離子聚合起始劑，則可於常溫下形成接著層，故而考慮偏光膜之耐熱性或因膨脹所引起之應變的必要性減少，可密接性良好地將偏光板與液晶單元基板貼合。另外，光陽離子聚合起始劑係藉由光而發揮觸媒之作用，故而即便將其混合於硬化性樹脂組合物中，硬化性樹脂組合物之保存穩定性及作業性亦優異。
光陽離子聚合起始劑係藉由可見光、紫外線、X射線、電子束等活性能量線之照射而產生陽離子種或路易斯酸(Lewis acid)，使環氧系化合物及/或氧雜環丁烷系化合物開始聚合反應者。於本發明中，可使用任意類型之光陽離子聚合起始劑，若列舉具體例，例如有：芳香族重氮鎓鹽，芳香族錪鹽、芳香族鋶鹽等鎓鹽，鐵-芳烴(arene)錯合物等。
作為芳香族重氮鎓鹽，例如可列舉：苯重氮鎓六氟銻酸鹽、苯重氮鎓六氟磷酸鹽、苯重氮鎓六氟硼酸鹽等。
作為芳香族錪鹽，例如可列舉：二苯基錪四(五氟苯基)硼酸鹽、二苯基錪六氟磷酸鹽、二苯基錪六氟銻酸鹽、二(4-壬基苯基)錪六氟磷酸鹽等。
作為芳香族鋶鹽，例如可列舉：三苯基鋶六氟磷酸鹽、三苯基鋶六氟銻酸鹽、三苯基鋶四(五氟苯基)硼酸鹽、4,4'-雙[二苯基鋶基]二苯基硫醚雙六氟磷酸鹽、4,4'-雙[二(β-羥基乙氧基)苯基鋶基]二苯基硫醚雙六氟銻酸鹽、4,4'-雙[二(β-羥基乙氧基)苯基鋶基]二苯基硫醚雙六氟磷酸鹽、7-[二(對甲苯醯基)鋶基]-2-異丙基-9-氧硫六氟銻酸鹽、7-[二(對甲苯醯基)鋶基]-2-異丙基-9-氧硫-四(五氟苯基)硼酸鹽、4-苯基羰基-4'-二苯基鋶基-二苯基硫醚六氟磷酸鹽、4-(對第三丁基苯基羰基)-4'-二苯基鋶基-二苯基硫醚六氟銻酸鹽、4-(對第三丁基苯基羰基)-4'-二(對甲苯醯基)鋶基-二苯基硫醚四(五氟苯基)硼酸鹽等。
另外，作為鐵-芳烴錯合物，例如可列舉：二甲苯-環戊二烯基鐵(II)六氟銻酸鹽、異丙苯-環戊二烯基鐵(II)六氟磷酸鹽、二甲苯-環戊二烯基鐵(II)-三(三氟甲基磺醯基)甲烷化物等。
該等光陽離子聚合起始劑可容易地獲得市售品，例如可列舉分別為商品名之下述者：「Kayarad PCI-220」、「Kayarad PCI-620」(以上由日本化藥(股)製造)；「UVI-6990」(聯合碳化物公司(Union Carbide)製造)；「Adeka Optomer SP-150」、「Adeka Optomer SP-170」(以上由ADEKA(股)製造)；「CI-5102」、「CIT-1370」、「CIT-1682」、「CIP-1866S」、「CIP-2048S」、「CIP-2064S」(以上由日本曹達(股)製造)；「DPI-101」、「DPI-102」、「DPI-103」、「DPI-105」、「MPI-103」、「MPI-105」、「BBI-101」、「BBI-102」、「BBI-103」、「BBI-105」、「TPS-101」、「TPS-102」、「TPS-103」、「TPS-105」、「MDS-103」、「MDS-105」、「DTS-102」、「DTS-103」(以上由Midori Kagaku(股)製造)；「PI-2074」(Rhodia公司製造)；「UVACURE 1590」(Daicel-Cytec(股)製造)等。
該等光陽離子聚合起始劑可分別單獨使用，或者亦可將2種以上混合使用。該等中，尤其是可較好地使用芳香族鋶鹽，原因在於其在300 nm以上之波長區域中亦具有紫外線吸收特性，故而可形成硬化性優異，具有良好之機械強度以及對液晶單元基板及偏光板的良好之密接性的硬化物。
光陽離子聚合起始劑之調配量相對於環氧系化合物或氧雜環丁烷系化合物等陽離子聚合性化合物之合計量100重量份，通常為0.5~20重量份，較好的是1~6重量份。若光陽離子聚合起始劑之調配量相對於陽離子聚合性化合物之合計量100重量份低於0.5重量份，則存在硬化變得不充分，機械強度或偏光板與液晶單元基板之接著性降低之傾向。另一方面，若光陽離子聚合起始劑之調配量相對於陽離子聚合性化合物之合計量100重量份超過20重量份，則由於硬化物中之離子性物質增加而導致硬化物之吸濕性提高，所獲得之光學積層體之耐久性能有可能會降低。
另外，用於形成接著層之活性能量線硬化性樹脂組合物中，可與上述環氧系化合物一起，或者與環氧系化合物及氧雜環丁烷系化合物一起含有自由基聚合性之(甲基)丙烯酸系化合物。藉由併用(甲基)丙烯酸系化合物，可期待提高接著層之硬度或機械強度之效果，進而，可更容易地調整活性能量線硬化性樹脂組合物之黏度或硬化速度等。
作為(甲基)丙烯酸系化合物，可列舉：分子內具有至少1個(甲基)丙烯醯氧基之(甲基)丙烯酸酯單體、或使2種以上之含官能基之化合物反應而獲得的分子內具有至少2個(甲基)丙烯醯氧基之(甲基)丙烯酸酯低聚物等含(甲基)丙烯醯氧基之化合物。該等可分別單獨使用，亦可併用2種以上。併用2種以上之情形時，可使用2種以上之(甲基)丙烯酸酯單體，亦可使用2種以上之(甲基)丙烯酸酯低聚物，當然還可併用1種以上之(甲基)丙烯酸酯單體與1種以上之(甲基)丙烯酸酯低聚物。再者，所謂「(甲基)丙烯酸酯」，係指丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯。
作為上述之(甲基)丙烯酸酯單體，可列舉：分子內具有1個(甲基)丙烯醯氧基之單官能(甲基)丙烯酸酯單體，分子內具有2個(甲基)丙烯醯氧基之二官能(甲基)丙烯酸酯單體，以及分子內具有3個以上之(甲基)丙烯醯氧基之多官能(甲基)丙烯酸酯單體。
作為單官能(甲基)丙烯酸酯單體之具體例，可列舉：(甲基)丙烯酸四氫糠酯、(甲基)丙烯酸-2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸-2-或3-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸-2-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸-2-羥基-3-苯氧基丙酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸第三丁酯、(甲基)丙烯酸-2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸二環戊烯酯、(甲基)丙烯酸苄酯、(甲基)丙烯酸異酯、(甲基)丙烯酸苯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸二環戊烯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸二甲基胺基乙酯、乙基卡必醇(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷單(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇單(甲基)丙烯酸酯、苯氧基聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯等。
另外，作為單官能(甲基)丙烯酸酯單體，亦可使用含羧基之(甲基)丙烯酸酯單體。作為含羧基之單官能(甲基)丙烯酸酯單體，可列舉：2-(甲基)丙烯醯氧基乙基鄰苯二甲酸、2-(甲基)丙烯醯氧基乙基六氫鄰苯二甲酸、(甲基)丙烯酸羧乙酯、2-(甲基)丙烯醯氧基乙基琥珀酸、N-(甲基)丙烯醯氧基-N',N'-二羧甲基-對苯二胺、4-(甲基)丙烯醯氧基乙基偏苯三甲酸等。
作為二官能(甲基)丙烯酸酯單體，具有代表性的是：烷二醇二(甲基)丙烯酸酯類、聚氧烷二醇二(甲基)丙烯酸酯類、鹵素取代烷二醇二(甲基)丙烯酸酯類、脂肪族多元醇之二(甲基)丙烯酸酯類、氫化二環戊二烯或三環癸烷二烷醇之二(甲基)丙烯酸酯類、二烷二醇或二烷二烷醇之二(甲基)丙烯酸酯類、雙酚A或雙酚F之環氧烷加成物之二(甲基)丙烯酸酯類、雙酚A或雙酚F之環氧二(甲基)丙烯酸酯類等，但並不限定於該等，可使用各種二官能(甲基)丙烯酸酯單體。
若列舉二官能(甲基)丙烯酸酯單體之更具體之例，則有：乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,3-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,4-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,9-壬二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇二(甲基)丙烯酸酯、二-三羥甲基丙烷二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚矽氧二(甲基)丙烯酸酯、羥基新戊酸新戊二醇酯之二(甲基)丙烯酸酯、2,2-雙[4-(甲基)丙烯醯氧基乙氧基乙氧基苯基]丙烷、2,2-雙[4-(甲基)丙烯醯氧基乙氧基乙氧基環己基]丙烷、二(甲基)丙烯酸氫化二環戊二烯酯、三環癸烷二甲醇二(甲基)丙烯酸酯、二(甲基)丙烯酸-1,3-二烷-2,5-二基酯[別名：二烷二醇二(甲基)丙烯酸酯]、羥基新戊醛與三羥甲基丙烷之縮醛化合物[化學名：2-(2-羥基-1,1-二甲基乙基)-5-乙基-5-羥甲基-1,3-二烷]之二(甲基)丙烯酸酯、三(羥基乙基)異氰尿酸酯二(甲基)丙烯酸酯等。
作為三官能以上之多官能(甲基)丙烯酸酯單體，以下為具有代表性者：丙三醇三(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、二-三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、二-三羥甲基丙烷四(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯等三官能以上之脂肪族多元醇之聚(甲基)丙烯酸酯；除此以外可列舉：三官能以上之鹵素取代多元醇之聚(甲基)丙烯酸酯、丙三醇之環氧烷加成物之三(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷之環氧烷加成物之三(甲基)丙烯酸酯、1,1,1-三[(甲基)丙烯醯氧基乙氧基乙氧基]丙烷、三(羥基乙基)異氰尿酸酯三(甲基)丙烯酸酯類等。
另一方面，(甲基)丙烯酸酯低聚物有：(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯低聚物、聚酯(甲基)丙烯酸酯低聚物、環氧(甲基)丙烯酸酯低聚物等。
所謂(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯低聚物，係指分子內具有胺基甲酸酯鍵(-NHCOO-)及至少2個(甲基)丙烯醯氧基之化合物。具體而言可為：分子內分別具有至少1個(甲基)丙烯醯氧基及至少1個羥基的含羥基之(甲基)丙烯酸酯單體與聚異氰酸酯之胺基甲酸酯化反應產物，或使多元醇類與聚異氰酸酯反應而獲得之末端含異氰酸酯基之胺基甲酸酯化合物、與分子內分別具有至少1個(甲基)丙烯醯氧基及至少1個羥基之(甲基)丙烯酸酯單體的胺基甲酸酯化反應產物等。
作為上述胺基甲酸酯化反應中所使用的含羥基之(甲基)丙烯酸酯單體，可列舉：(甲基)丙烯酸-2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸-2-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸-2-羥基-3-苯氧基丙酯、丙三醇二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯等。
作為供給至與該含羥基之(甲基)丙烯酸酯單體之胺基甲酸酯化反應之聚異氰酸酯，可列舉：六亞甲基二異氰酸酯、離胺酸二異氰酸酯、異佛爾酮二異氰酸酯、二環己基甲烷二異氰酸酯、甲苯二異氰酸酯、二甲苯二異氰酸酯、將該等二異氰酸酯中之芳香族之異氰酸酯類氫化而獲得之二異氰酸酯(例如，氫化甲苯二異氰酸酯、氫化二甲苯二異氰酸酯等)、三苯基甲烷三異氰酸酯、二苄基苯三異氰酸酯等二-或三-異氰酸酯，以及使上述二異氰酸酯多聚化而獲得之聚異氰酸酯等。
另外，為藉由與聚異氰酸酯反應而獲得末端含異氰酸酯基之胺基甲酸酯化合物的多元醇類，除芳香族、脂肪族及脂環式之多元醇以外，亦可使用聚酯多元醇、聚醚多元醇等。作為脂肪族及脂環式之多元醇，可列舉：1,4-丁二醇、1,6-己二醇、乙二醇、二乙二醇、三乙二醇、丙二醇、新戊二醇、三羥甲基乙烷、三羥甲基丙烷、二-三羥甲基丙烷、季戊四醇、二季戊四醇、二羥甲基庚烷、二羥甲基丙酸、二羥甲基丁酸、丙三醇、氫化雙酚A等。
聚酯多元醇係藉由使上述多元醇類與多元羧酸或其酐進行脫水縮合反應而獲得者。作為多元羧酸或其酐，可列舉：琥珀酸(酐)、己二酸、馬來酸(酐)、衣康酸(酐)、偏苯三甲酸(酐)、均苯四甲酸(酐)、鄰苯二甲酸(酐)、間苯二甲酸、對苯二甲酸、六氫鄰苯二甲酸(酐)等。
聚醚多元醇可為聚烷二醇、此外可為上述多元醇類或二羥基苯類與環氧烷進行反應而獲得之聚氧伸烷基改性多元醇等。
所謂聚酯(甲基)丙烯酸酯低聚物，係指分子內具有酯鍵及至少2個(甲基)丙烯醯氧基之化合物。具體而言，可藉由使(甲基)丙烯酸、多元羧酸或其酐以及多元醇進行脫水縮合反應而獲得。作為脫水縮合反應中使用之多元羧酸或其酐，可列舉：琥珀酸(酐)、己二酸、馬來酸(酐)、衣康酸(酐)、偏苯三甲酸(酐)、均苯四甲酸(酐)、六氫鄰苯二甲酸(酐)、鄰苯二甲酸(酐)、間苯二甲酸、對苯二甲酸等。另外，作為脫水縮合反應中使用之多元醇，可列舉：1,4-丁二醇、1,6-己二醇、乙二醇、二乙二醇、三乙二醇、丙二醇、新戊二醇、三羥甲基乙烷、三羥甲基丙烷、二-三羥甲基丙烷、季戊四醇、二季戊四醇、二羥甲基庚烷、二羥甲基丙酸、二羥甲基丁酸、丙三醇、氫化雙酚A等。
環氧(甲基)丙烯酸酯低聚物可藉由使聚縮水甘油醚與(甲基)丙烯酸進行加成反應而獲得，其分子內具有至少2個(甲基)丙烯醯氧基。作為加成反應中使用之聚縮水甘油醚，可列舉：乙二醇二縮水甘油醚、丙二醇二縮水甘油醚、三丙二醇二縮水甘油醚、1,6-己二醇二縮水甘油醚、雙酚A二縮水甘油醚等。
於用於形成接著層2之活性能量線硬化性樹脂組合物中調配(甲基)丙烯酸系化合物時，其量以活性能量線硬化性化合物整體之量為基準，較好的是20重量%以下，更好的是10重量%以下。若(甲基)丙烯酸系化合物之調配量增多，則存在偏光板與液晶單元基板之密接性降低之傾向。
當活性能量線硬化性樹脂組合物含有如上所述之(甲基)丙烯酸系化合物等自由基聚合性化合物時，較好的是調配光自由基聚合起始劑。作為光自由基聚合起始劑，只要是可藉由活性能量線之照射，而使(甲基)丙烯酸系化合物等自由基聚合性化合物開始聚合者即可，可使用先前公知之光自由基聚合起始劑。若列舉光自由基聚合起始劑之具體例，則有：苯乙酮、3-甲基苯乙酮、苯偶醯二甲基縮酮、1-(4-異丙基苯基)-2-羥基-2-甲基丙烷-1-酮、2-甲基-1-[4-(甲硫基)苯基-2-啉基丙烷-1-酮、2-羥基-2-甲基-1-苯基丙烷-1-酮等苯乙酮系起始劑；二苯甲酮、4-氯二苯甲酮、4,4'-二胺基二苯甲酮等二苯甲酮系起始劑；安息香丙醚、安息香乙醚等安息香醚系起始劑；4-異丙基-9-氧硫 等9-氧硫系起始劑；除此以外有氧雜蒽酮(xanthone)、茀酮(fluorenone)、樟腦醌(camphorquinone)、苯甲醛(benzaldehyde)、蒽醌(anthraquinone)等。
光自由基聚合起始劑之調配量相對於(甲基)丙烯酸系化合物等自由基聚合性化合物100重量份，通常為0.5~20重量份，較好的是1~6重量份。若光自由基聚合起始劑之量相對於自由基聚合性化合物100重量份小於0.5重量份，則存在硬化變得不充分，機械強度或偏光板與液晶單元基板之接著性降低之傾向。另外，若光自由基聚合起始劑之量相對於自由基聚合性化合物100重量份超過20重量份，則硬化性樹脂組合物中的活性能量線硬化性化合物(含有環氧系化合物之陽離子聚合性之硬化性化合物及(甲基)丙烯酸系化合物等自由基聚合性化合物)之量相對減少，所獲得之光學積層體之耐久性能有可能下降。
活性能量線硬化性樹脂組合物可視需要進而含有光敏劑。藉由調配光敏劑，可使陽離子聚合及/或自由基聚合之反應性提昇，從而可使接著層之機械強度或偏光板與液晶單元基板之間的接著性提昇。作為光敏劑，例如可列舉：羰基化合物、有機硫化合物、過硫化物、氧化還原系化合物、偶氮及重氮化合物、鹵素化合物及光還原性色素等。作為光敏劑之更具體之例，例如可列舉：安息香甲醚、安息香異丙醚、α,α-二甲氧基-α-苯基苯乙酮等安息香衍生物；二苯甲酮、2,4-二氯二苯甲酮、鄰苯甲醯基苯甲酸甲酯、4,4'-雙(二甲基胺基)二苯甲酮、4,4'-雙(二乙基胺基)二苯甲酮等二苯甲酮衍生物；2-氯-9-氧硫、2-異丙基-9-氧硫等9-氧硫衍生物；2-氯蒽醌、2-甲基蒽醌等蒽醌衍生物；N-甲基吖啶酮、N-丁基吖啶酮等吖啶酮衍生物；除此以外可列舉α,α-二乙氧基苯乙酮、苯偶醯、茀酮、氧雜蒽酮、鈾醯(uranyl)化合物、鹵素化合物等，但並不限定於該等。該等光敏劑可分別單獨使用，亦可將2種以上混合使用。將活性能量線硬化性化合物整體設為100重量份，較好的是於0.1~20重量份之範圍內含有光敏劑。
另外，活性能量線硬化性樹脂組合物中亦可含有用以對光學積層體賦予抗靜電性能之抗靜電劑。對抗靜電劑並無特別限定，可使用公知之抗靜電劑。例如可使用：醯基醯胺丙基二甲基羥基乙基硝酸銨、醯基醯胺丙基三甲基硫酸銨、鯨蠟基啉鎓甲基硫酸鹽等陽離子系界面活性劑；直鏈烷基磷酸鉀鹽、聚氧乙烯烷基磷酸鉀鹽、烷烴磺酸鹽等陰離子系界面活性劑；N,N-雙(羥基乙基)-N-烷基胺及其脂肪酸酯衍生物、多元醇脂肪酸部分酯類等非離子系界面活性劑等。該等抗靜電劑之調配比係根據所期望之特性而適當決定，將活性能量線硬化性化合物整體設為100重量份，該等抗靜電劑通常為0.1~10重量份左右。
活性能量線硬化性樹脂組合物中亦可添加通常用於高分子的公知之高分子添加劑。例如可列舉：酚系或胺系等一次抗氧化劑，硫系之二次抗氧化劑，受阻胺系光穩定劑(HALS，Hindered Amine Light Stabilizer)，二苯甲酮系、苯并三唑系、苯甲酸酯系等紫外線吸收劑等。
進而，活性能量線硬化性樹脂組合物視需要亦可含有溶劑。溶劑係考慮構成活性能量線硬化性樹脂組合物之成分之溶解性而適當選擇。作為通常使用之溶劑，可列舉：正己烷、環己烷等脂肪族烴類；甲苯、二甲苯等芳香族烴類；甲醇、乙醇、丙醇、異丙醇、正丁醇等醇類；丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁基酮、環己酮等酮類；乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯等酯類；甲基溶纖劑、乙基溶纖劑、丁基溶纖劑等溶纖劑類；二氯甲烷、氯仿等鹵化烴類等。對於溶劑之調配比例，係考慮使活性能量線硬化性樹脂組合物獲得可使成膜性等加工性變得良好之黏度等而適當決定。
接著層2之厚度較好的是10 μm以下，更好的是5 μm以下。若接著層之厚度為10 μm以下，則損害偏光板之外觀之可能性較小。另一方面，若厚於10 μm，則有可能由於接著劑之硬化不足，而使得偏光板與液晶單元基板之接著力不充分。
<偏光板>
參照圖1而於上文所說明般，本發明之光學積層體於液晶單元基板1上，包含經由以上所說明之接著層2而積層之偏光板5。偏光板5至少包含在聚乙烯醇系樹脂中吸附配向二色性色素而成之偏光膜。就減小光學積層體10、進而液晶面板之厚度之觀點而言，宜將偏光板5之厚度設為100 μm以下。如上所述之偏光膜其本身亦可單獨作為偏光板5，但單獨為偏光膜時較脆，故而較好的是使用於其至少單面，尤其是於與液晶單元基板1貼合之面的相反側之面設置有透明保護層者。
圖2係表示本發明之光學積層體之層構成之一形態的剖面示意圖。該形態中，於偏光膜6之單面設置透明保護層7而獲得偏光板5，將設置有透明保護層7之面的相反側之偏光膜6之面直接、或經由接著層2而貼合於液晶單元基板1，構成光學積層體11。亦即，於光學積層體11中，係接觸接著層2之表面而積層偏光膜6，於偏光膜6的與接著層2相反側之面處積層有透明保護層7。
圖3係表示本發明之光學積層體之層構成之其他形態的剖面示意圖。該形態中，於偏光膜6之單面設置透明保護層7，於偏光膜6之另一面設置適當之樹脂層8而獲得偏光板5，將該樹脂層8側經由接著層2而貼合於液晶單元基板1，構成光學積層體12。樹脂層8除可為與設置於偏光膜6之相反側之透明保護層7相同、或與其不同之透明保護層以外，亦可為光學功能層。作為光學功能層之例，可列舉用於補償液晶單元之相位差等之相位差板。作為相位差板，例如有：包含各種塑膠延伸膜之雙折射性膜，配向固定有圓盤型液晶或向列型液晶之膜，於膜基材上形成包含上述液晶或無機層狀化合物等相位差表現物質之塗膜，並進行配向固定所得者等。於此情形時，作為支持包含相位差表現物質之塗膜之膜基材，較好的是使用三乙醯纖維素等纖維素系膜。
如此，只要偏光板5包含偏光膜6、且厚度為100 μm以下，則可進而包含任意之層，就保護偏光膜6且使光學積層體進而液晶面板較薄之觀點而言，偏光膜6以外之層較好的是2層以下，特別是1層或2層。就如此之觀點而言，圖2所示的於偏光膜6之單面具有透明保護層7，以與該透明保護層7相反側之聚乙烯醇系樹脂膜面(偏光膜表面)直接、或經由接著層2而貼合於液晶單元基板1的形態，係較好的形態之一。
(偏光膜)
構成偏光板5之偏光膜6係於聚乙烯醇系樹脂中吸附配向二色性色素而成者。更具體而言，可適當地使用於經單軸延伸之聚乙烯醇系樹脂膜中吸附配向二色性色素而成者。
構成偏光膜之聚乙烯醇系樹脂可藉由將聚乙酸乙烯酯系樹脂皂化而獲得。作為聚乙酸乙烯酯系樹脂，除乙酸乙烯酯之均聚物即聚乙酸乙烯酯以外，亦可例示乙酸乙烯酯與可與其共聚合之其他單體之共聚物等。作為可與乙酸乙烯酯共聚合之其他單體，例如可列舉：不飽和羧酸類、不飽和磺酸類、烯烴類、乙烯醚類等。聚乙烯醇系樹脂之皂化度通常為85~100莫耳%左右，較好的是98~100莫耳%。可進一步對聚乙烯醇系樹脂進行改性，例如亦可使用以醛類實施改性所得之聚乙烯縮甲醛或聚乙烯縮醛等。聚乙烯醇系樹脂之聚合度通常為1,000~10,000左右，較好的是1,500~10,000左右。
使用將該聚乙烯醇系樹脂製膜所得者作為偏光膜之素材膜。將聚乙烯醇系樹脂製膜之方法並無特別限定，可藉由公知之方法製膜。對聚乙烯醇系素材膜之膜厚並無特別限定，例如為10 μm~150 μm左右。
偏光膜通常係經以下步驟而製造：對如上所述之包含聚乙烯醇系樹脂之素材膜進行單軸延伸之步驟；以二色性色素將聚乙烯醇系樹脂膜染色而使其吸附該二色性色素之步驟；以硼酸水溶液對吸附有二色性色素之聚乙烯醇系樹脂膜實施處理之步驟；及於利用硼酸水溶液之處理後進行水洗之步驟。
單軸延伸可於利用二色性色素染色之前進行，亦可與染色同時進行，還可於染色之後進行。當於利用二色性色素染色之後進行單軸延伸時，該單軸延伸可於硼酸處理之前進行，亦可於硼酸處理之過程中進行。另外，亦可於該等複數個階段中進行單軸延伸。進行單軸延伸時，可於周速不同之輥間沿單軸進行延伸，亦可使用熱輥沿單軸延伸。另外，可為於大氣中進行延伸等之乾式延伸，亦可為於藉由溶劑而膨潤之狀態下進行延伸之濕式延伸。延伸倍率通常為4~8倍左右。
聚乙烯醇系樹脂膜利用二色性色素之染色，例如可藉由將聚乙烯醇系樹脂膜浸漬於含有二色性色素之水溶液中而進行。作為二色性色素，可使用碘、二色性之有機染料等。再者，較好的是於染色處理之前預先對聚乙烯醇系樹脂膜實施水中之浸漬處理。
於使用碘作為二色性色素之情形時，染色方法通常採用將聚乙烯醇系樹脂膜浸漬於含有碘及碘化鉀之水溶液中之方法。該水溶液中之碘之含量通常相對於水100重量份為0.01~0.5重量份左右，另外，碘化鉀之含量通常相對於水100重量份為0.5~10重量份左右。染色所使用之水溶液之溫度通常為20~40℃左右，另外，於該水溶液中之浸漬時間(染色時間)通常為30~300秒左右。
另一方面，於使用二色性之有機染料作為二色性色素之情形時，染色方法通常採用將聚乙烯醇系樹脂膜浸漬於含有水溶性之二色性染料之染料水溶液中的方法。該染料水溶液中之二色性染料之含量通常相對於水100重量份為1×10-3 ~1×10-2 重量份左右。染料水溶液亦可含有硫酸鈉等無機鹽作為染色助劑。染料水溶液之溫度通常為20~80℃左右，另外，於染料水溶液中之浸漬時間(染色時間)通常為30~300秒左右。
利用二色性色素染色後之硼酸處理，可藉由將經染色之聚乙烯醇系樹脂膜浸漬於含硼酸之水溶液中而進行。含硼酸之水溶液中的硼酸之含量通常相對於水100重量份為2~15重量份左右，較好的是5~12重量份左右。於使用碘作為二色性色素之情形時，含硼酸之水溶液較好的是含有碘化鉀。含硼酸之水溶液中的碘化鉀之含量通常相對於水100重量份為2~20重量份左右，較好的是5~15重量份左右。於含硼酸之水溶液中之浸漬時間通常為100~1,200秒左右，較好的是150~600秒左右，更好的是200~400秒左右。含硼酸之水溶液之溫度通常為50℃以上，較好的是50~85℃。
通常對硼酸處理後之聚乙烯醇系樹脂膜進行水洗處理。水洗處理例如可藉由將經硼酸處理之聚乙烯醇系樹脂膜浸漬於水中而進行。水洗處理之水之溫度通常為5~40℃左右，浸漬時間為2~120秒左右。水洗後實施乾燥處理，獲得偏光膜。乾燥處理可使用熱風乾燥機或遠紅外線加熱器進行。乾燥溫度通常為40~100℃左右。乾燥處理之時間通常為120~600秒左右。
藉由上述方式，可製作於經單軸延伸之聚乙烯醇系樹脂膜中吸附配向二色性色素而得之偏光膜。偏光膜之厚度可設為5~40 μm左右。
(透明保護層)
設置於偏光膜6之至少單面之透明保護層7例如可藉由下述本領域中自先前以來廣泛用作保護層之形成材料的適當之熱塑性樹脂膜而構成：乙酸纖維素系樹脂、環烯烴系樹脂、聚烯烴系樹脂、丙烯酸系樹脂、聚醯亞胺系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、聚酯系樹脂等。另外，透明保護層7亦可藉由活性能量線硬化性樹脂組合物之硬化物而構成。就量產性及接著性之觀點而言，該等中較好的是使用包含乙酸纖維素系樹脂或環烯烴系樹脂之膜、或活性能量線硬化性樹脂組合物之硬化物作為透明保護層7。於藉由熱塑性樹脂膜構成透明保護層7之情形時，其厚度通常為10~50 μm左右。另一方面，於藉由活性能量線硬化性樹脂組合物之硬化物構成透明保護層7之情形時，其厚度可設為10 μm以下，例如設為1~10 μm左右。
用作透明保護層7之乙酸纖維素系樹脂膜可為包含纖維素之部分或完全乙酸酯化物之膜，例如可列舉：三乙醯纖維素膜、二乙醯纖維素膜等。
上述乙酸纖維素系樹脂膜可適當地使用適合之市售品，例如：「FUJITAC TD80」、「FUJITAC TD80UF」及「FUJITAC TD80UZ」(以上由富士軟片(FUJIFILM)(股)製造)，「KC8UX2M」及「KC8UY」(以上由柯尼卡美能達光電(Konica Minolta Opto)(股)製造)(均為商品名)等。
另外，可適用於透明保護層7之環烯烴系樹脂，例如為具有降烯或多環降烯系單體等含環狀烯烴(環烯烴)之單體單元的熱塑性樹脂(亦稱為熱塑性環烯烴系樹脂)。該環烯烴系樹脂可為上述環烯烴之開環聚合物之氫化物、使用2種以上環烯烴所得之開環共聚物之氫化物，亦可為環烯烴與鏈狀烯烴及/或具有乙烯基等之芳香族化合物等的加成聚合物。另外，導入有極性基之環烯烴系樹脂亦有效。
使用環烯烴與鏈狀烯烴及/或具有乙烯基之芳香族化合物的共聚物而構成透明保護層之情形時，作為鏈狀烯烴，可列舉乙烯、丙烯等，另外，作為具有乙烯基之芳香族化合物，可列舉苯乙烯、α-甲基苯乙烯、核烷基取代苯乙烯等。於此種共聚物中，含環烯烴之單體單元可為50莫耳%以下(較好的是15~50莫耳%)。尤其是使用環烯烴、鏈狀烯烴及具有乙烯基之芳香族化合物之三元共聚物而構成透明保護層時，含環烯烴之單體單元可為如上所述之相對較少之量。於該三元共聚物中，含鏈狀烯烴之單體單元通常為5~80莫耳%，含具有乙烯基之芳香族化合物之單體單元通常為5~80莫耳%。
環烯烴系樹脂可適當使用適合之市售品，例如：「Topas」(TOPAS ADVANCED POLYMERS GmbH公司製造，可自寶理塑料(Polyplastics)(股)獲得)、「ARTON」(JSR(股)製造)、「ZEONOR」(日本Zeon(股)製造)、「ZEONEX」(日本Zeon(股)製造)、「APEL」(三井化學(股)製造)(均為商品名)等。將上述環烯烴系樹脂製膜而形成膜時，可適當採用溶劑鑄膜法、熔融擠出法等公知之方法。另外，亦可將例如「S-SINA」(積水化學工業(股)製造)、「SCA40」(積水化學工業(股)製造)、「ZEONOR FILM」(日本Zeon(股)製造)、「ARTON FILM」(JSR(股)製造)等預先製作之環烯烴系樹脂製之膜的市售品用作透明保護層。
用作透明保護層之環烯烴系樹脂膜可為經單軸延伸或雙軸延伸者。此時之延伸倍率通常為1.1~5倍，較好的是1.1~3倍。
另外，作為透明保護層7中可使用之活性能量線硬化性樹脂組合物，可列舉與上述形成接著層2之活性能量線硬化性樹脂組合物相同者。形成透明保護層之活性能量線硬化性樹脂組合物及其所含之活性能量線硬化性化合物等、與作為接著劑組合物之活性能量線硬化性樹脂組合物及其所含之活性能量線硬化性化合物等可相同亦可不同。
具體而言，透明保護層7所使用之活性能量線硬化性樹脂組合物係與上述用於形成接著層2之活性能量線硬化性樹脂組合物同樣含有環氧系化合物者，進而調配有氧雜環丁烷系化合物者亦有效。如此，由於含有環氧系化合物，且任意地進而含有氧雜環丁烷系化合物，故而通常亦調配光陽離子聚合起始劑。關於該等環氧系化合物、氧雜環丁烷系化合物及光陽離子聚合起始劑，可適用與上述中關於接著層2所記載者相同之說明。
另外，透明保護層7所使用之活性能量線硬化性樹脂組合物特別有效的是除環氧系化合物及作為任意成分之氧雜環丁烷系化合物以外，亦含有自由基聚合性化合物，具體而言如上所述之(甲基)丙烯酸系化合物。藉由併用(甲基)丙烯酸系化合物，可獲得硬度較高，機械強度優異，耐久性能更優異之透明保護層。進而，可更容易地調整活性能量線硬化性樹脂組合物之黏度或硬化速度等。於用於透明保護層7之活性能量線硬化性樹脂組合物中，(甲基)丙烯酸系化合物以活性能量線硬化性化合物整體之量為基準可添加直至70重量%左右。(甲基)丙烯酸系化合物之調配量更好的是35~70重量%，尤其好的是40~60重量%。若(甲基)丙烯酸系化合物之調配量超過70重量%，則存在與偏光膜之密接性降低之傾向。
調配上述(甲基)丙烯酸系化合物之情形時，亦進一步調配如上所述之光自由基聚合起始劑。關於光自由基聚合起始劑之調配量，可適用與上述中關於接著層2之記載相同之說明。此外，透明保護層7所使用之活性能量線硬化性樹脂組合物亦可含有與上述中關於接著層2而說明者相同之其他各種成分。
偏光板之透明保護層7可為對與黏貼於偏光膜之面相反側之面實施防眩處理、硬塗處理、抗靜電處理、抗反射處理等表面處理者。另外，亦可於透明保護層7之與黏貼於偏光膜之面相反側之面，形成包含液晶性化合物、其高分子量化合物等之塗佈層。
於透明保護層7為樹脂膜之情形時，偏光膜6與透明保護層7之黏貼可使用接著劑(接著劑組合物)。對用於上述黏貼之接著劑組合物並無特別限定，可列舉：含有活性能量線硬化性化合物之硬化性樹脂組合物、或將接著劑成分溶解或分散於水中所得之水系接著劑。其中，較好的是使用含有活性能量線硬化性化合物之硬化性樹脂組合物，原因在於無需乾燥步驟。使用硬化性樹脂組合物作為接著劑組合物之情形時，通常係於將偏光膜6與透明保護層7經由硬化性樹脂組合物層而貼合後，對該貼合物照射活性能量線而使硬化性樹脂組合物層硬化。
上述可成為接著劑組合物之硬化性樹脂組合物，可使用與上述的用於液晶單元基板1與偏光板5之接著的活性能量線硬化性樹脂組合物相同者。用於液晶單元基板1與偏光板5之接著的活性能量線硬化性樹脂組合物及其所含之活性能量線硬化性化合物等、和用於透明保護層7與偏光膜6之接著的硬化性樹脂組合物及其所含之活性能量線硬化性化合物等可相同亦可不同。
另外，作為將接著劑成分溶解或分散於水中所得之水系接著劑，可列舉以聚乙烯醇系樹脂或胺基甲酸酯樹脂作為主成分的接著劑組合物。
於使用聚乙烯醇系樹脂作為水系接著劑之主成分之情形時，該聚乙烯醇系樹脂除可為部分皂化聚乙烯醇或完全皂化聚乙烯醇以外，亦可為羧基改性聚乙烯醇、乙醯乙醯基改性聚乙烯醇、羥甲基改性聚乙烯醇、胺基改性聚乙烯醇等經改性之聚乙烯醇系樹脂。於使用聚乙烯醇系樹脂作為接著劑成分之情形時，該接著劑多製備成聚乙烯醇系樹脂之水溶液。接著劑中之聚乙烯醇系樹脂之濃度相對於水100重量份通常為1~10重量份左右，較好的是1~5重量份。
於含聚乙烯醇系樹脂作為主成分之接著劑中，較好的是添加乙二醛或水溶性環氧樹脂等硬化性成分或交聯劑以提昇接著性。作為水溶性環氧樹脂，例如可列舉：使二乙三胺、三乙四胺等聚伸烷基聚胺與己二酸等二羧酸反應而獲得聚醯胺聚胺，然後使該聚醯胺聚胺與表氯醇反應而獲得之聚醯胺聚胺環氧樹脂。作為該聚醯胺聚胺環氧樹脂之市售品，有Sumika Chemtex(股)銷售之「Sumirez Resin 650」及「Sumirez Resin 675」、日本PMC(股)銷售之「WS-525」等，可適當使用該等。該等硬化性成分或交聯劑之添加量相對於聚乙烯醇系樹脂100重量份通常為1~100重量份，較好的是1~50重量份。若其添加量較少，則存在接著性提昇效果減小之傾向，另一方面，若其添加量較多，則存在接著層變脆之傾向。
於使用胺基甲酸酯樹脂作為水系接著劑之主成分之情形時，作為適當之接著劑組合物之例，可列舉聚酯系離子聚合物型胺基甲酸酯樹脂、與具有縮水甘油氧基之化合物之混合物。此處所謂之聚酯系離子聚合物型胺基甲酸酯樹脂，係指具有聚酯骨架，且於其中導入有少量離子性成分(親水成分)之胺基甲酸酯樹脂。該離子聚合物型胺基甲酸酯樹脂可不使用乳化劑而直接於水中乳化形成乳液，故而適合製成水系接著劑。聚酯系離子聚合物型胺基甲酸酯樹脂其本身已眾所周知。例如於日本專利特開平7-97504號公報中，記載有聚酯系離子聚合物型胺基甲酸酯樹脂，作為用以將酚系樹脂分散於水性介質中之高分子分散劑之例，且於日本專利特開2005-070140號公報及日本專利特開2005-181817號公報中，揭示有以聚酯系離子聚合物型胺基甲酸酯樹脂與具有縮水甘油氧基之化合物之混合物作為接著劑，於包含聚乙烯醇系樹脂之偏光膜上接合環烯烴系樹脂膜的形態。
<光學積層體之製造方法>
本發明之光學積層體之製造方法可適用作用於製造上述本發明之光學積層體之方法，其包含以下所示的(1)接著劑層形成步驟、及(2)貼合步驟，較好的是進而包含(3)硬化步驟。
(1)　接著劑層形成步驟，於包含在聚乙烯醇系樹脂中吸附配向二色性色素而成之偏光膜，且厚度為100 μm以下之偏光板(偏光板5)之表面，形成用於形成接著層2的包含含有分子內具有至少1個環氧基之環氧系化合物的活性能量線硬化性樹脂組合物之接著劑層(接著劑層2')；
(2)　貼合步驟，於液晶單元基板(液晶單元基板1)上，貼合上述接著劑層形成步驟中形成於偏光板5之表面之接著劑層2'；
(3)　硬化步驟，對上述貼合步驟中所獲得之包含液晶單元基板1/接著劑層2'/偏光板5之貼合物，照射可見光、紫外線、X射線、電子束等活性能量線而使接著劑層2'硬化。
於該製造方法中，偏光板可為單獨之偏光膜，亦可為如上所述之預先積層有其他層者。於偏光膜之單面，形成包含活性能量線硬化性樹脂組合物之硬化物的透明保護層之情形時，或者經由包含活性能量線硬化性樹脂組合物之接著劑而積層膜之情形時，於上述硬化步驟中，可於接著劑層2'硬化之同時，將透明保護層硬化，或者將用以接著偏光膜與透明保護層之接著劑硬化。以下，對各步驟進行具體說明。
首先，於接著劑層形成步驟(1)中，為於偏光板5之表面形成包含活性能量線硬化性樹脂組合物之接著劑層2'，可採用：於偏光板5之向液晶單元基板1貼合之貼合面直接塗敷上述活性能量線硬化性樹脂組合物，視需要加以乾燥之方法；或於另外準備之包含聚對苯二甲酸乙二酯等透明樹脂之基材膜上塗敷活性能量線硬化性樹脂組合物，視需要加以乾燥後，將該活性能量線硬化性樹脂組合物之塗佈層轉印至偏光板5上之方法等。採用後一種方法之情形時，之後除去基材膜，供給至接下來之貼合步驟。作為基材膜，例如可列舉：聚對苯二甲酸乙二酯膜、聚碳酸酯膜、三乙醯纖維素膜、降烯膜、聚酯膜、聚苯乙烯膜等。基材膜之塗敷活性能量線硬化性樹脂組合物之表面亦可實施剝離處理。
於此，如圖2所示，例如當於偏光膜6的與液晶單元基板1側相反側之面設置透明保護層7，且該透明保護層7係包含活性能量線硬化性樹脂組合物之硬化物時，亦於偏光膜6之表面，設置相當於該透明保護層7之活性能量線硬化性樹脂組合物之層。將用於透明保護層7之活性能量線硬化性樹脂組合物之層形成於其他基材膜上，並將其貼合於偏光膜6之情形時，該基材膜較好的是至之後的硬化步驟為止保持此狀態，當硬化步驟結束後將其剝離。
然後，於貼合步驟(2)中，將偏光板5上所設置之接著劑層2'貼合於液晶單元基板1。繼而，較好的是於硬化步驟(3)中，對以液晶單元基板1/接著劑層2'/偏光板5之順序積層而成之貼合物，照射可見光、紫外線、X射線、電子束等活性能量線，藉此使接著劑層2'硬化而獲得光學積層體。此時，當於偏光膜6的與液晶單元基板1側相反側之面設置有用以形成透明保護層7之活性能量線硬化性樹脂組合物層時，較好的是該用於透明保護層7之活性能量線硬化性樹脂組合物亦同時硬化。當於透明保護層7上設置有基材膜時，最後將該基材膜剝離除去。
另一方面，例如當使用於偏光膜6之單面或兩面具有包含樹脂膜之透明保護層7的偏光板5，且透明保護層7與偏光膜6係藉由包含活性能量線硬化性樹脂組合物之接著劑而接著時，於透明保護層7及/或偏光膜6之接合面塗佈活性能量線硬化性樹脂組合物，並經由該活性能量線硬化性樹脂組合物之層而將偏光膜6與透明保護層7(樹脂膜)積層，除此以外進行與上述相同之操作，獲得以液晶單元基板1/接著劑層2'/偏光板5之順序積層而成之貼合物，然後對該貼合物以與上述相同之方法照射活性能量線即可。
再者，亦可藉由下述方法來製造光學積層體：不於偏光板5之表面形成用於接著液晶單元基板1與偏光板5之接著劑層2'，而是利用旋塗法等，將用以形成接著層2之活性能量線硬化性樹脂組合物塗佈於液晶單元基板1的與偏光板之貼合面，然後於其上疊合偏光板5，照射活性能量線，使活性能量線硬化性樹脂組合物硬化。其中，若亦考慮到生產之容易性，則於偏光板5之單面形成上述包含活性能量線硬化性樹脂組合物之接著劑層2'，將該接著劑層2'貼合於液晶單元基板1後，使接著劑層2'硬化之方法較為有利。
將形成接著層或透明保護層之活性能量線硬化性樹脂組合物塗敷於偏光板、偏光膜或者基材膜上之機構並無特別限制，例如可利用：刮刀、線棒、狹縫擠壓式塗佈機、卡馬(comma)塗佈機、凹版塗佈機等各種塗敷方式。另外，由於各塗敷方式具有各自最合適之黏度範圍，故而使用溶劑調整黏度亦為有用之技術。用於調整黏度之溶劑可列舉上述者。
用於照射活性能量線之光源並無特別限定，可使用於波長400 nm以下具有發光分佈的例如低壓水銀燈、中壓水銀燈、高壓水銀燈、超高壓水銀燈、化學燈、黑光燈、微波激發水銀燈、金屬鹵素燈等。對活性能量線硬化性樹脂組合物之光照射強度根據各組合物而不同，但對光陽離子聚合起始劑及/或光自由基聚合起始劑之活化有效的波長區域之照射強度較好的是10~2500 mW/cm2 。若對活性能量線硬化性樹脂組合物之光照射強度未達10 mW/cm2 ，則反應時間變得過長，若超過2500 mW/cm2 ，則有可能由於自燈輻射之熱、及活性能量線硬化性樹脂組合物聚合時之發熱，而使活性能量線硬化性樹脂組合物產生黃變或使偏光膜產生劣化。對活性能量線硬化性樹脂組合物之光照射時間仍是根據各組合物進行控制，並無特別限定，較好的是設定成表示為照射強度與照射時間之乘積之累計光量達到10~2500 mJ/cm2 。若對活性能量線硬化性樹脂組合物之累計光量未達10 mJ/cm2 ，則有可能來源於聚合起始劑之活性種並不充分，導致所獲得之接著層之硬化變得不充分。另外，若累計光量超過2500 mJ/cm2 ，則照射時間變得非常長，對於提昇生產性不利。再者，活性能量線之照射較好的是於不使偏光膜之偏光度、透射率等各種性能下降之範圍內進行。
<液晶顯示裝置>
對於本發明之光學積層體10~12，於其液晶單元基板1之與貼合偏光板5之面相反側，配置另一液晶單元基板，並於兩者之間夾持液晶，藉此可製成液晶單元或液晶面板。以該液晶單元或液晶面板作為顯示元件而構成液晶顯示裝置。亦可將於2片液晶單元基板間封入有液晶之狀態的液晶單元本身作為圖1~3中的液晶單元基板1，依據本發明於其一表面或兩表面貼合偏光板而製成液晶面板。由於本發明之光學積層體對熱衝擊試驗等之耐久性優異，故而以上述方式所製作的液晶顯示裝置亦同樣對熱衝擊試驗等之耐久性優異，並且實現薄型輕量化。
例
以下，列舉實施例更具體地說明本發明，但本發明並不限定於該等例。例中，只要無特別說明，則表示使用量或含量之「份」及「%」為重量基準。
(製造例1：偏光膜之製作)
將平均聚合度約為2400，皂化度為99.9莫耳%以上且厚度為75 μm之聚乙烯醇膜於30℃之純水中浸漬後，浸漬於30℃的碘/碘化鉀/水之重量比為0.02/2/100之水溶液中。然後，浸漬於56.5℃的碘化鉀/硼酸/水之重量比為12/5/100之水溶液中。繼而，以8℃之純水清洗後，於65℃下乾燥，獲得於聚乙烯醇中吸附配向有碘之厚度約為30 μm之偏光膜。延伸主要係於碘染色及硼酸處理之步驟中進行，總延伸倍率為5.3倍。
(製造例2：偏光板之製作)
於聚對苯二甲酸乙二酯(PET，polyethylene terephthalate)膜(東洋紡績(股)製造，Toyobo Ester Film E7002)之單面，使用塗敷機(第一理化(股)製造，棒塗機)，塗敷成為偏光膜之透明保護層的以下組成之活性能量線硬化性樹脂組合物。
[透明保護層用活性能量線硬化性樹脂組合物]
3,4-環氧環己烷甲酸-3,4-環氧環己基甲酯(大賽璐化學(Daicel Chemical)(股)製造，Celloxide 2021P)　35份
雙(3-乙基-3-氧雜環丁基甲基)醚(東亞合成(股)製造，Aron Oxetane OXT-221)　15份
羥基新戊醛與三羥甲基丙烷之縮醛化合物之二丙烯酸酯(新中村化學工業(股)製造，A-DOG)　50份
2-羥基-2-甲基-1-苯基丙烷-1-酮(Ciba公司製造，DAROCUR 1173，光自由基聚合起始劑)　2.25份
4,4'-雙[二苯基鋶基]二苯基硫醚雙六氟磷酸鹽系之光陽離子聚合起始劑(ADEKA(股)製造，Adeka Optomer SP-150)　2.25份
再者，上述A-DOG(羥基新戊醛與三羥甲基丙烷之縮醛化合物之二丙烯酸酯)係具有下式之結構的化合物。
塗敷活性能量線硬化性樹脂組合物時，膜厚會根據黏度而變化，故而藉由改變棒塗機之線徑之編號而調節膜厚。繼而，使用貼附裝置(Fujipla(股)製造，LPA3301)，將包含上述活性能量線硬化性樹脂組合物之塗膜的PET膜，以塗膜側成為與偏光膜之貼合面的方式而貼合於製造例1中所製作之偏光膜之一面。
使用Fusion UV Systems公司製造之D型燈，以累計光量1500 mJ/cm2 對該貼合品照射紫外線，使配置於偏光膜之單面的活性能量線硬化性樹脂組合物硬化。然後，剝離PET膜，製作出單面具有包含活性能量線硬化性樹脂組合物之硬化物之透明保護層的偏光板。此時偏光板之厚度約為35 μm。
(製造例3：接著劑組合物之製備)
將以下之各成分混合，獲得紫外線硬化性接著劑組合物。
[紫外線硬化性接著劑組合物]
3,4-環氧環己烷甲酸-3,4-環氧環己基甲酯(大賽璐化學(股)製造，Celloxide 2021P)　75份
雙(3-乙基-3-氧雜環丁基甲基)醚(東亞合成(股)製造，Aron Oxetane OXT-221)　25份
4,4'-雙[二苯基鋶基]二苯基硫醚雙六氟磷酸鹽系之光陽離子聚合起始劑(Daicel-Cytec(股)製造UVACURE 1590)　5份
聚矽氧系調平劑(Dow Corning Toray(股)製造，SH710)　0.2份
<實施例1>
將製造例2中所製作之偏光板切割成8 cm×8 cm之樣品尺寸，於未形成有透明保護層之面，使用塗敷機(第一理化(股)製造，棒塗機)塗敷製造例3中所獲得之接著劑組合物。此時，由於塗敷接著劑組合物時之膜厚會根據黏度而變化，故而改變棒塗機之線徑之編號，將硬化後之膜厚調節為2 μm。繼而，使用貼附裝置(Fujipla(股)製造，LPA3301)，將包含上述接著劑組合物之塗膜之偏光板以使其塗膜側成為與透明玻璃基板之貼合面之方式，而貼合於透明玻璃基板(成為液晶單元基板者)之一面。使用Fusion UV Systems公司製造之D型燈，以累計光量1500 mJ/cm2 對該貼合品照射紫外線，使接著劑組合物硬化，藉此製作出光學積層體。
<實施例2>
代替製造例2中所製作之偏光板，而使用於在聚乙烯醇膜中吸附配向碘所得的偏光膜之單面，經由聚乙烯醇系接著劑貼合厚度為40 um之包含三乙醯纖維素(TAC，triacetyl cellulose)之保護膜而成的偏光板(住友化學(股)製造，SR0661A-XNSY，厚度約為70 μm)，除此以外，以與實施例1相同之方式製作光學積層體。
<比較例1>
代替紫外線硬化性接著劑組合物而使用丙烯酸系黏著劑，並經由該丙烯酸系黏著劑於透明玻璃基板之一面，貼合製造例2中所製作之偏光板的未設置有透明保護層之面(偏光膜面)，於50℃之高壓釜中、壓力5 kg/cm2 (約為0.5 MPa)下處理20分鐘，除此以外，以與實施例1相同之方式製作光學積層體。
<比較例2>
代替紫外線硬化性接著劑組合物而使用丙烯酸系黏著劑，並經由該丙烯酸系黏著劑於透明玻璃基板之一面，貼合偏光板之未貼合有保護膜之面(偏光膜面)，於50℃之高壓釜中、壓力5 kg/cm2 (約為0.5 MPa)下處理20分鐘，除此以外，以與實施例2相同之方式製作光學積層體。
<黏著耐久試驗>
藉由以下之方法，評價上述實施例及比較例中製作的光學積層體之耐久性。
[耐久試驗方法]
進行將光學積層體於溫度為90℃之乾燥條件下保管500小時的耐熱試驗。另外進行熱震試驗，即將於-35℃下保持1小時之過程及於70℃下保持1小時之過程作為1個循環，將其重複300次。於兩試驗中，目視觀察試驗後之偏光板，藉由以下之基準進行評價。結果示於表1。
(耐熱試驗)
A：幾乎未見浮升、剝離、發泡等外觀變化。
B：浮升、剝離、發泡等外觀變化稍明顯。
C：浮升、剝離、發泡等外觀變化顯著可見。
(熱震試驗)
A：偏光膜完全未見龜裂或破損。
B：偏光膜中見到龜裂或破損。
可知，實施例1之光學積層體係使用與比較例1相同厚度之偏光板，另外實施例2之光學積層體係使用與比較例2相同厚度之偏光板，但依據本發明的實施例1及2之光學積層體可達成薄型輕量化，並且藉由在偏光板與玻璃基板之接著時使用含有環氧系化合物之活性能量線(紫外線)硬化性樹脂組合物之接著劑，而顯示出優異之耐久性。
1．．．液晶單元基板
2．．．接著層
5．．．偏光板
6．．．偏光膜
7．．．透明保護層
8．．．樹脂層
10、11、12．．．光學積層體
圖1係表示本發明之光學積層體之基本層構成的剖面示意圖。
圖2係表示本發明之光學積層體之層構成之一形態的剖面示意圖。
圖3係表示本發明之光學積層體之層構成之其他形態的剖面示意圖。
1．．．液晶單元基板
2．．．接著層
5．．．偏光板
10．．．光學積層體

Claims (5)

  1. 一種光學積層體，其係包含：液晶單元基板；接著層，其係與上述液晶單元基板之表面接觸並積層，包含含有分子內具有至少1個環氧基之環氧系化合物的活性能量線硬化性樹脂組合物之硬化物；及偏光板，其係與上述接著層之表面接觸而積層，包含在聚乙烯醇系樹脂中吸附配向二色性色素所成之偏光膜，且厚度為100 μm以下。
  2. 如請求項1之光學積層體，其中上述活性能量線硬化性樹脂組合物進而含有氧雜環丁烷系化合物。
  3. 如請求項1之光學積層體，其中上述接著層之厚度為10 μm以下。
  4. 如請求項1之光學積層體，其中上述偏光板係包含：與上述接著層之表面接觸並積層的上述偏光膜；及積層於上述偏光膜之與上述接著層相反側之面的透明保護層。
  5. 一種光學積層體之製造方法，其係包含以下步驟：於包含在聚乙烯醇系樹脂中吸附配向二色性色素而成之偏光膜，且厚度為100 μm以下的偏光板之表面，形成包含含有分子內具有至少1個環氧基之環氧系化合物的活性能量線硬化性樹脂組合物之接著劑層；於液晶單元基板上，貼合形成於上述偏光板之表面之上述接著劑層；及照射活性能量線，使上述接著劑層硬化。
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