TWI499640B - Aminoethyl ester resin and retardation film for phase difference film - Google Patents

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TWI499640B TW100127401A TW100127401A TWI499640B TW I499640 B TWI499640 B TW I499640B TW 100127401 A TW100127401 A TW 100127401A TW 100127401 A TW100127401 A TW 100127401A TW I499640 B TWI499640 B TW I499640B
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Description

相位差薄膜用之胺基甲酸乙酯樹脂及相位差薄膜
本發明係有關具有含脂環式部分之構成單位與含芴部分之構成單位的相位差薄膜用之胺基甲酸乙酯樹脂，及含有前述胺基甲酸乙酯樹脂之相位差薄膜。
有關液晶顯示裝置等所使用之相位差薄膜，開發初期係使用聚碳酸酯薄膜(例如專利文獻1)。但聚碳酸酯之光彈性係數較大，故難得到相位差均勻之薄膜。
行動機器用途等所使用之反射型或半透過型液晶顯示裝置則要求，具有於較廣之波長域中可進行相同之偏光變換的相位差之波長分散較小之薄膜。但聚碳酸酯薄膜之波長分散較大，故於較廣之波長域中無法進行相同之偏光變換。
因此使三乙醯纖維素中添加相位差調整劑所得之薄膜實用化(例如專利文獻2)。但三乙醯纖維素會有耐熱性差之問題。
為了解決該問題開始使用，由環烯烴系樹脂形成之耐熱性較高、波長分散較小之相位差薄膜(例如專利文獻3)。但由環烯烴系樹脂形成之薄膜的相位差發現性較低，無法增加相位差。因此為了得到規定之相位差薄膜需具有某程度之厚度，故難使薄膜薄化。
又，有機EL顯示裝置中，內部會反射來自顯示裝置外部之光線，再消失於外部，因此會有明顯降低對比之問題，將此所採取之對策為，於顯示裝置之外面使用組合相位差薄膜一種之λ/4板與偏光板之圓偏光板，以遮斷顯示裝置內部反射之外光，此時所使用之λ/4板的波長分散相對於可視光領域之全體波長λ的相位差為λ/4，即，波長分散需與聚碳酸酯等相反為逆波長分散性。
先前技術文獻
專利文獻
專利文獻1：特開平5-113506號公報
專利文獻2：歐洲專利第0911656號說明書
專利文獻3：特開平4-361230號公報
本發明之目的為，提供適用於行動機器用途等所使用之反射型及半透過型液晶顯示裝置中之相位差薄膜。因此課題為，提供具有較高耐熱性，於較廣之波長域可進行相同之偏光變換，且光線波長愈短相位差愈小，可進行逆波長分散性之偏光變換，又，可得較高之相位差發現性的相位差薄膜，與使用於前述薄膜之樹脂。
經本發明者們專心檢討後發現，藉由使用具有含脂環式部分之構成單位與含芴部分之構成單位的胺基甲酸乙酯樹脂之相位差薄膜，可解決上述課題。
即，本發明係包含下述項目。
(1)一種相位差薄膜用之胺基甲酸乙酯樹脂，其為具有一般式I：
[化1]
[式中，X為環伸烷基、伸烷基環伸烷基、環伸烷基伸烷基環伸烷基、伸烷基環伸烷基伸烷基，或二環伸烷基(此等可被鹵素、C1-6 烷基或C1-6 烷氧基所成群中所選出之至少1種取代基取代)]
所表示之二異氰酸酯構成單位，與
一般式II：
[化2]
[式中，R1 相互獨立為伸烷基、環伸烷基、伸芳基或伸芳基伸烷基；1為0或1；R2 相互獨立為鹵素、C1-6 烷基或C1-6 烷氧基；m為0至4之整數；R3 相互獨立為鹵素、C1-6 烷基或C1-6 烷氧基；n為0至4之整數]
所表示之芴構成單位。
(2)如(1)所記載之相位差薄膜用之胺基甲酸乙酯樹脂，其中X為環伸己基、C1-3 伸烷基環伸己基、環伸己基C1-3 伸烷基環伸己基、C1-3 伸烷基環伸己基C1-3 伸烷基，或二環伸己基(此等可被C1-3 烷基取代)，R1 相互獨立為C1-3 伸烷基，l為1，m及n為0。
(3)如(1)或(2)所記載之相位差薄膜用之胺基甲酸乙酯樹脂，其中一般式I所表示之二異氰酸酯構成單位為來自二環己基甲烷-4,4’-二異氰酸酯、異佛爾酮二異氰酸酯、環伸己基二異氰酸酯、或1,3-雙(異氰酸根合甲基)環己烷。
(4)如(1)至(3)中任何一項所記載之相位差薄膜用之胺基甲酸乙酯樹脂，其中一般式II所表示之芴構成單位為來自9,9-雙[4-(羥基C1-3 烷氧基)苯基]芴。
(5)如(1)至(4)中任何一項所記載之相位差薄膜用之胺基甲酸乙酯樹脂，其中另具有
一般式III：
[化3]
[式中，Y為環伸烷基、伸烷基環伸烷基、環伸烷基伸烷基環伸烷基、伸烷基環伸烷基伸烷基，或二環伸烷基(此等可被鹵素、C1-6 烷基或C1-6 烷氧基所成群中所選出之至少1種取代基取代)]
所表示之二醇構成單位。
(6)如(5)所記載之相位差薄膜用之胺基甲酸乙酯樹脂，其中Y為環伸己基、C1-3 伸烷基環伸己基、環伸己基C1-3 伸烷基環伸己基、C1-3 伸烷基環伸己基C1-3 伸烷基，或二環伸己基。
(7)如(5)或(6)所記載之相位差薄膜用之胺基甲酸乙酯樹脂，其中一般式III所表示之二醇構成單位為來自1,4-環己烷二甲醇、1,4-環己二醇、或4,4’-二環己二醇。
(8)如(1)至(7)中任何一項所記載之相位差薄膜用之胺基甲酸乙酯樹脂，其中X為環伸己基(可被C1-3 烷基取代)，且二異氰酸酯構成單位中一方之異氰酸酯部分相對於前述環伸己基之鍵結位置為1位時，另一方之異氰酸酯部分之鍵結位置為2位、3位、5位或6位；X為C1-3 伸烷基環伸己基(可被C1-3 烷基取代)，且二異氰酸酯構成單位中一方之異氰酸酯部分相對於前述環伸己基部分之鍵結位置為1位時，另一方之異氰酸酯部分鍵結的前述C1-3 伸烷基部分之鍵結位置為2位、3位、5位或6位；或X為C1-3 伸烷基環伸己基C1-3 伸烷基(可被C1-3 烷基取代)，且二異氰酸酯構成單位中一方之異氰酸酯部分鍵結的一方之C1-3 伸烷基部分相對於前述環伸己基部分之鍵結位置為1位時，另一方之異氰酸酯部分鍵結的另一方之C1-3 伸烷基部分之鍵結位置為2位、3位、5位或6位。
(9)如(8)所記載之相位差薄膜用之胺基甲酸乙酯樹脂其中一般式I所表示之二異氰酸酯構成單位為來自異佛爾酮二異氰酸酯，或1,3-雙(異氰酸根合甲基)環己烷。
(10)如(8)或(9)所記載之相位差薄膜用之胺基甲酸乙酯樹脂，其中另具有
一般式IV：
[化4]
[式中，X’為C1-10 伸烷基，或伸烷基氧基伸烷基(全體具有2至10個碳)]
所表示之二異氰酸酯構成單位。
(11)如(10)所記載之相位差薄膜用之胺基甲酸乙酯樹脂，其中一般式IV所表示之二異氰酸酯構成單位為來自六伸甲基二異氰酸酯。
(12)如(1)至(11)中任何一項所記載之相位差薄膜用之胺基甲酸乙酯樹脂，其中玻璃化溫度為100至200℃。
(13)一種相位差薄膜，其為含有如(1)至(12)中任何一項所記載之相位差薄膜用之胺基甲酸乙酯樹脂。
(14)如(13)所記載之相位差薄膜，其中藉由下述式：
Re=(nx -ny )×D
波長分散=Re(449)/Re(548.7)
[式中，nx 為相位差薄膜面內之折射率最大時之遲相軸方向的折射率；ny 為直交於前述遲相軸之方向的折射率；D為相位差薄膜之厚度(nm)；Re為面內相位差，Re(449)為波長449nm之光線的面內相位差，Re(548.7)為波長548.7nm之光線的面內相位差]
所得之波長分散為未達1.02。
本說明書為本申請之優先權的基礎，係包含日本國專利申請2010-175730號說明書及/或圖面的記載之內容。
本發明可提供適用於行動機器用途等所使用之反射型或半透過型液晶顯示裝置之相位差薄膜。更具體為，可提供具有較高之耐熱性，於較廣之波長域進行相同之偏光變換，又，可得較高之相位差發現性之相位差薄膜，與使用於前述薄膜之樹脂。
實施發明之形態
下面將詳細說明本發明。
本發明之「伸烷基」係指，鏈烷之碳原子喪失2個氫原子所生成之2價基，一般係以-Cn H2n -(n為正整數)表示。伸烷基可為直鏈狀或支鏈狀。又，自同一碳原子喪失2個氫原子所生成之所謂的亞烷基也包含本發明之伸烷基。
本發明之伸烷基較佳為C1-6 伸烷基，特佳為C1-3 伸烷基。例如，伸甲基、伸乙基、伸丙基、伸丁基、伸戊基、伸己基等。
本發明之「環伸烷基」係指，係鏈烷之碳原子喪失2個氫原子所生成之2價基，一般係以-Cm H2m-2 -(m為3以上之正整數，形成環)表示。自同一碳原子喪失2個氫原子所生成之所謂的環亞烷基也包含於本發明之環伸烷基。
本發明之環伸烷基較佳為C3-10 環伸烷基，特佳為C5-8 環伸烷基。例如，環伸丙基、環伸丁基、環伸戊基、環伸己基、環伸庚基、環伸辛基等。
本發明之「伸烷基環伸烷基」係指，烷基環鏈烷之烷基部分的碳原子與環鏈烷部分之碳原子各自喪失1個氫原子所生成之2價基，一般係以-Cn H2n -Cm H2m-2 -(n為正整數；m為3以上之正整數，形成環)表示。烷基部分可為直鏈狀或支鏈狀。
本發明之伸烷基環伸烷基較佳為C1-6 伸烷基C3-10 環伸烷基，特佳為C1-3 伸烷基C5-8 環伸烷基。例如，伸甲基環伸戊基、伸甲基環伸己基、伸甲基環伸庚基、伸乙基環伸戊基、伸乙基環伸己基、伸乙基環伸庚基、伸丙基環伸戊基、伸丙基環伸己基、伸丙基環伸庚基等。
本發明之「環伸烷基伸烷基環伸烷基」係指，二環烷基鏈烷之2個環烷基部分的碳原子各自喪失1個氫原子所生成之2價基，一般係以-Cm H2m-2 -Cn H2n -Cm H2m-2 -(n為正整數；m為3以上之正整數，形成環)表示。鏈烷部分可為直鏈狀或支鏈狀。
本發明之環伸烷基伸烷基環伸烷基較佳為C3-10 環伸烷基C1-6 伸烷基C3-10 環伸烷基，特佳為C5-8 環伸烷基C1-3 伸烷基C5-8 環伸烷基。例如，環伸戊基伸甲基環伸戊基、環伸己基伸甲基環伸己基、環伸庚基伸甲基環伸庚基、環伸戊基伸乙基環伸戊基、環伸己基伸乙基環伸己基、環伸庚基伸乙基環伸庚基、環伸戊基伸丙基環伸戊基、環伸己基伸丙基環伸己基、環伸庚基伸丙基環伸庚基等。
本發明之「伸烷基環伸烷基伸烷基」係指，二烷基環鏈烷之2個烷基部分的碳原子各自喪失1個氫原子所生成之2價基，一般係以-Cn H2n -Cm H2m-2 -Cn H2n -(n為正整數；m為3以上之正整數，形成環)表示。烷基部分可為直鏈狀或支鏈狀。
本發明之伸烷基環伸烷基伸烷基較佳為C1-6 伸烷基C3-10 環伸烷基C1-6 伸烷基，特佳為C1-3 伸烷基C5-8 環伸烷基C1-3 伸烷基。例如，伸甲基環伸戊基伸甲基、伸甲基環伸己基伸甲基、伸甲基環伸庚基伸甲基、伸乙基環伸戊基伸乙基、伸乙基環伸己基伸乙基、伸乙基環伸庚基伸乙基、伸丙基環伸戊基伸丙基、伸丙基環伸己基伸丙基、伸丙基環伸庚基伸丙基等。
本發明之「二環伸烷基」係指，二環鏈烷之2個環鏈烷部分的碳原子各自喪失1個氫原子所生成之2價基，一般係以-Cm H2m-2 -Cm H2m-2 -(m為3以上之正整數，形成環)表示。
本發明之二環伸烷基較佳為C3-10 環伸烷基C3-10 環伸烷基，特佳為C5-8 環伸烷基C5-8 環伸烷基。例如，環伸戊基環伸戊基、環伸己基環伸己基、環伸庚基環伸庚基等。
本發明之「伸芳基」係指，芳香族烴之族原子喪失2個氫原子所生成之2價基。伸芳基可為單環或縮合環。
本發明之伸芳基如，伸苯基、伸萘基、伸聯苯基等。
本發明之「伸芳基伸烷基」係指，烷基芳烴之烷基部分的碳原子與芳烴部分之碳原子各自喪失1個氫原子所生成之2價基。烷基部分可為自鏈狀或支鏈狀，芳烴部分可為單環或縮合環。
本發明之伸芳基伸烷基較佳為伸芳基C1-6 伸烷基，特佳為伸芳基C1-3 伸烷基。例如，伸苯基伸甲基、伸苯基伸乙基、伸萘基伸甲基、伸萘基伸乙基、伸聯苯基伸甲基、伸聯苯基伸乙基等。
1.相位差薄膜用之胺基甲酸乙酯
本發明之相位差薄膜用之胺基甲酸乙酯係由一般式I：
[化5]
[式中，X為環伸烷基、伸烷基環伸烷基、環伸烷基伸烷基環伸烷基、伸烷基環伸烷基伸烷基，或二環伸烷基(此等可被鹵素、C1-6 烷基及C1-6 烷氧基所成群中所選出之至少1種取代基取代)]
所表示之二異氰酸酯構成單位，與
一般式II：
[化6]
[式中，R1 相互獨立為伸烷基、環伸烷基、伸芳基、或伸芳基伸烷基；l為0或1；R2 相互獨立為鹵素、C1-6 烷基，或C1-6 烷氧基；m為0至4之整數；R3 相互獨立為鹵素、C1-6 烷基、或C1-6 烷氧基，n為0至4之整數]
所表示之芴構成單位
所構成。
本發明之相位差薄膜用之胺基甲酸乙酯除了一般式I所表示之二異氰酸酯構成單位及一般式II所表示之芴構成單位，可另具有一般式III：
[化7]
[式中，Y為環伸烷基、伸烷基環伸烷基、環伸烷基伸烷基環伸烷基、伸烷基環伸烷基伸烷基，或二環伸烷基(此等可被鹵素、C1-6 烷基及C1-6 烷氧基所成群中所選出之至少一種取代基取代)]
所表示之二醇構成單位。
具有一般式III所表示之二醇構成單位時，相對於芴構成單位與二醇單位合計之芴單位佔有比例可為，使由該胺基甲酸乙醇製造之相位差薄膜中，藉由下述式：
Re=(nx -ny )×D
波長分數=Re(449)/Re(548.7)
[式中，nx 為相位差薄膜面內之折射率最大時之遲相軸方向的折射率；ny 為直交於前述遲相軸之方向的折射率；D為相位差薄膜之厚度(nm)；Re為面內相位差，Re(449)為波長449nm之光線之面內相位差，Re(548.7)為波長548.7nm之光線之面內相位差)
所得之波長分散未達1.02之比例無特別限定，但特佳為30mol%。又，胺基甲酸乙酯樹脂於無損本發明之效果之範圍內可具有其他任意之構成單位。
本發明之胺基甲酸乙酯樹脂之重量平均分子量(Mw)無特別限制，較佳為200,000至5,000，特佳為100,000至10,000，最佳為50,000至20,000。重量平均分子量可使用凝膠滲透色譜法(GPC)測定。
本發明之胺基甲酸乙酯之玻璃化溫度(Tg)較佳為100至200℃，特佳為120至180℃。玻璃化溫度可藉由差示掃描熱量分析(DSC)測定。玻璃化溫度未達100℃時，將由胺基甲酸乙酯樹脂製造之相位差薄膜保管於高溫下等時，會發生相位差值改變等之不合宜事情。又玻璃化溫度超過200℃時，將難進行延伸等之加工而難製造相位差薄膜。
2.二異氰酸酯構成單位
本發明一實施形態中，一般式I所表示之二異氰酸酯構成單位中X為環伸己基、C1-3 伸烷基環伸己基、環伸己基C1-3 伸烷基環伸己基、C1-3 伸烷基環伸己基C1-3 伸烷基，或二環伸己基(此等可被鹵素、C1-6 烷基及C1-6 烷氧基所成群中所選出之至少一種取代基取代)。
本發明之較佳實施形態中，X為環伸己基、伸甲基環伸己基、環伸己基伸甲基環伸己基、伸甲基環伸己基伸甲基，或二環伸己基(此等可被C1-3 烷基取代)。
本發明之特佳實施形態中，X為環伸己基伸甲基環伸己基、環伸己基、C1-3 伸烷基環伸己基、或C1-3 伸烷基環伸己基C1-3 伸烷基(此等可被C1-3 烷基取代)。特別是形成逆波長分散性之相位差薄膜用之胺基甲酸乙酯時較佳為，X為環伸己基(可被C1-3 烷基取代)，且二異氰酸酯構成單位中一方之異氰酸酯部分相對於前述環伸己基之鍵結位置為1位時，另一方之異氰酸酯部分之鍵結位置為2位、3位、5位或6位；X為C1-3 伸烷基環伸己基(可被C1-3 烷基取代)，且二異氰酸酯構成單位中一方之異氰酸酯部分相對於前述環伸己基部分之鍵結位置為1位時，另一方之異氰酸酯部分鍵結的前述C1-3 伸烷基部分之鍵結位置為2位、3位、5位或6位；X為C1-3 伸烷基環伸己基C1-3 伸烷基(可被C1-3 烷基取代)，且二異氰酸酯構成單位中一方之異氰酸酯部分鍵結的一方之C1-3 伸烷基相對於前述環伸己基的鍵結位置為1位時，另一方之異氰酸酯部分鍵結的另一方之C1-3 伸烷基部分的鍵結位置為2位、3位、5位或6位。特佳為2個異氰酸酯部分係1、3位之關係下相對於環伸己基為直接或間接鍵結。
又，本發明之胺基甲酸乙酯樹脂較佳為以共聚合形態含有一般式IV：
[化8]
[式中，X’為C1-10 伸烷基，或伸烷基氧基伸烷基(全體具有2至10個碳)]
所表示之另一二異氰酸酯構成單位。如此可將Tg降至更進行延伸等之成形加工。
本發明一實施形態中，一般式IV所表示之二異氰酸酯構成單位中X’為C4-8 伸烷基，或伸烷基氧基伸烷基(全體具有4至8個碳)，較佳為C4-8 伸烷基，特佳為伸己基。
製造具有一般式I所表示之二異氰酸酯構成單位之胺基甲酸乙酯樹脂用的二異氰酸酯化合物如，二環己基甲烷-4,4’-二異氰酸酯、異佛爾酮二異氰酸酯、環伸己基二異氰酸酯、1,3-雙(異氰酸根合甲基)環己烷等。較佳如二環己基甲烷-4,4’-二異氰酸酯，就製造逆波長分散性之胺基甲酸乙酯較佳如，異佛爾酮二異氰酸酯，及1,3-雙(異氰酸根合甲基)環己烷。此等二異氰酸酯化合物可僅使用1種，或組合複數種使用。又，為了易進行延伸等之成形加工，形成一般式IV所表示之二異氰酸酯構成單位用之化合物較佳如，六伸甲基二異氰酸酯。
3.芴構成單位
本發明一實施形態中，一般式II所表示之芴構成單位中R’相互獨立為C1-3 伸烷基，l為1。
本發明之較佳實施形態中，R1 同為伸乙基，l為1。
本發明一實施形態中，芴構成單位中R2 及R3 相互獨立為C1-3 烷基，m及n相互獨立為0至2之整數。
本發明之較佳實施形態中，m及n同為0。
製造具有上述芴構成單位之胺基甲酸乙酯樹脂用之芴化合物如，9,9-雙[4-(羥基C1-3 烷氧基)苯基]芴，較佳如9,9-雙[4-(2-羥基乙氧基)苯基]芴。此等芴化合物可僅使用1種，或組合複數種使用。
4.二醇構成單位
本發明一實施形態中，一般式III所表示之二醇構成單位中Y為環伸己基、C1-3 伸烷基環伸己基、環伸己基C1-3 伸烷基環伸己基、C1-3 伸烷基環伸己基C1-3 伸烷基、或二環伸己基(此等可被鹵素、C1-6 烷基及C1-6 烷氧基所成群中所選出之至少1種取代基取代)。
本發明之較佳實施形態中，Y為環伸己基、伸甲基環伸己基、環伸己基伸甲基環伸己基、伸甲基環伸己基伸甲基，或二環伸己基(此等可被C1-3 烷基取代)。
本發明之特佳實施形態中，Y為伸甲基環伸己基伸甲基。
製造具有上述二醇構成單位之胺基甲酸乙酯樹脂用之二醇化合物如，1,4-環己烷二甲醇、1,4-環己二醇、或4,4’-二環己二醇，較佳如，1,4-環己烷二甲醇。此等二醇化合物可僅使用1種，或組合複數種使用。
5.相位差薄膜
本發明之相位差薄膜可由上述胺基甲酸乙酯樹脂製造。相位差薄膜於無損本發明之效果之範圍內可含有其他任意成分。
相位差薄膜之製造方法無特別限制，可使用已知之各種方法。例如，將胺基甲酸乙酯樹脂溶解於溶劑後塗布於支撐體上，再進行乾燥及延伸之方法，或將胺基甲酸乙酯樹脂供給擠壓機後，藉由T模頭擠壓為薄膜狀，再進行延伸之方法等。
本發明之相位差薄膜之面內相位差(Re)較佳為，厚度100μm換算下為100至2000nm，特佳為300至1500nm。面內相位差未達100nm時需加厚相位差薄膜，結果與行動機器之小型、輕量化逆行。又，面內相位差超過2000nm時會使薄膜之厚度過薄，而難加工。
面內相位差可由下述式：
Re=(nx -ny )×D
[式中，nx 為相位差薄膜面內之折射率最大時之遲相軸方向的折射率；ny 為直交於前述遲相軸之方向的折射率；D為相位差薄膜之厚度(nm)]
求取。
本發明之相位差薄膜之厚度方向相位差與面內相位差相同樣較佳為厚度100μm換算下為100至2000nm，特佳為300至1500nm。
厚度方向相位差可由下述式：
厚度方向相位差(Re’)=(nx -nz )×D
[式中，nx 為相位差薄膜內之折射率最大時之遲相軸方向的折射率；nz 為相位差薄膜之厚度方向的折射率；D為相位差薄膜之厚度(nm)]
求取。
本發明之相位差薄膜之波長分散為了可於較廣之波長域進行相同之偏光變換，較佳為未達1.02，又以0.9以上未達1.02為佳，更佳為0.95以上1.01以下。
波長分散可由下述式：
波長分散1=Re(449)/Re(548.7)
[式中，Re(449)為波長449nm之光線之面內相位差；Re(548.7)為波長548.7nm之光線之面內相位差]求取。
又，為了形成逆波長分散性之薄膜，相位差薄膜之波長分散較佳為0.7以上0.95以下，特佳為近似0.81。
本發明之相位差薄膜為了提高相位差發現性，可薄化薄膜之膜厚。例如，膜厚較佳為5至50μm，特佳為10至30μm。
 實施例
下面將舉實施例更詳細說明本發明，但本發明之技術性範圍內非限定於此。
評估分析方法
本實施例所使用之評估分析方法如下所述。
(1)樹脂之耐熱性
藉由差示掃描熱量分析(DSC)，以20℃/分升溫時測得之玻璃化溫度(Tg)進行評估。
(2)重量平均分子量(Mw)
使用凝膠滲透色譜法(GPC)測定。
(3)溶劑鑄造薄膜之光學特性
將樹脂溶解於溶劑後，塗布於氟樹脂色覆板上。對乾燥後剝取之薄膜以玻璃化溫度+10至25℃進行2倍之單軸延伸後，評估下述光學特性。
(i)相位差
使用橢圓偏光測定裝置(KOBLA WPRXY2020，五子計測器(股)製)測定相對於波長589.3nm之光線的面內及厚度方向之相位差。相位差換算為薄膜厚度100μm下之值。
(ii)波長分散
使用橢圓偏光測定裝置(KOBLA WPRXY2020，五子計測器(股)製)測定相對於波長449nm之光線與548.7nm之光線的面內相位差[R(449)及R(548.7)]，求取波長分散[R(449)/R(548.7)]。
實施例1
將9,9-雙[4-(2-羥基乙氧基)苯基]芴(23.9重量份)，及1,4-環己烷二甲醇(18.4重量份)投入反應容器中，加入二甲基甲醯胺(60重量份)使其溶解。其次於攪拌該溶液的同時緩緩加入二環己基甲烷-4,4’-二異氰酸酯(47.7重量份)。結束添加後，以130℃反應11小時，接著加熱至220℃，減壓下去除溶劑。
評估所得樹脂之耐熱性、分子量及光學特性，結果如表1所示。
實施例2及3
除了依表1變更為9,9-雙[4-(2-羥基乙氧基)苯基]芴、1,4-環己烷二甲醇，及二環己基甲烷-4,4’-二異氰酸酯外同實施例1製作樹脂。
評估所得樹脂之耐熱性、分子量及光學特性，結果如表1所示。
比較例1
將1,4-環己烷二甲醇(31.9重量份)投入反應容器中，加入二甲基甲醯胺(60重量份)使其溶解。其次於攪拌該溶液的同時緩緩加入二環己基甲烷-4,4-二異氰酸酯(58.1重量份)。結束添加後，以130℃反應4小時，接著加熱至220℃，減壓下去除溶劑。
評估所得樹脂之耐熱性、分子量及光學特性，結果如表1所示。
比較例2
同實施例1單軸延伸由環烯烴系樹脂形成之薄膜(日本傑翁公司製傑歐喏(登記商標)薄膜)後，評估光學特性。
比較例3
將聚碳酸酯樹脂(三菱恩吉尼製，品號H4000)供給擠壓機，藉由T模頭以280℃擠出製作薄膜後，同實施例1進行單軸延伸，再評估光學特性。
未具有芴骨架之胺基甲酸乙酯樹脂(比較例1)及聚碳酸酯薄膜(比較例3)中，薄膜之波長分散較大各自為1.02及1.07，故於較廣之波長域中難進行相同之偏光變換。
又，由環烯烴系樹脂形成之薄膜(比較例2)中，薄膜之波長分散較小為1.00，但雙倍延伸時之相位差較小，故難形成較薄之相位差薄膜。
另一方面本發明之胺基甲酸乙酯樹脂(實施例1至3)中，玻璃化溫度為100℃以上具有較高之耐熱性，且薄膜之波長分散未達1.02，又，雙倍延伸時之相位差較大。因此可形成於較廣之波長域中可進行相同之偏光變換的薄相位差薄膜。
實施例4
將9,9-雙[4-(2-羥基乙氧基)苯基]芴(50.7重量份)，及1,4-環己烷二甲醇(7.1重量份)投入反應容器中，加入二甲基甲醯胺(60重量份)進行溶解。其次於攪拌該溶液的同時緩緩加入異佛爾酮二異氰酸酯(18.3重量份)與六伸甲基二異氰酸酯(13.9重量份)。結束添加後，以130℃反應16小時。接著加熱至160℃，減壓下去除溶劑。
實施例5至8
除了依表2變更為9,9-雙[4-(2-羥基乙氧基)苯基]芴、1,4-環己烷二甲醇、異佛爾酮二異氰酸酯，及六伸甲基二異氰酸酯外同實施例4製作樹脂。
評估所得樹脂之耐熱性、分子量及光學特性，結果如表2所示。又，自波長449nm測定相對於749.4nm之光線的相位差R與相對於波長589.3nm之光線的相位差R0，求取波長分散特性(R/R0)。結果如圖1所示。
實施例4至8之胺基甲酸乙酯樹脂中薄膜之波長分散下降為0.9，表示為逆波長分散性。又，以全體波長λ使相位差為λ/4之廣帶域λ/4板的波長分散[Re(449)/Re(548.7)]為0.81，而實施例5至8之波長分散性為同等或低於廣帶域λ/4板之波長分散。
(4)高倍率延伸薄膜之相位差
將樹脂溶解於溶劑後，塗布於氟樹脂包覆板。對乾燥後剝取之薄膜以玻璃化溫度+10至25℃進行3倍之單軸延伸後，以同上述評估分析法之(3)(i)評估相位差。
結果實施例4及5之胺基甲酸乙酯樹脂的高倍率延伸薄膜之相位差較高各自為310nm、232nm。即，形成廣帶域λ/4板(波長589.3nm下之相位差為147.3nm)之厚度各自為48μm、63μm，其具有充分之可搭載於行動機器的薄度。
本說明書待直接參考及納入本說明書中引用之全部刊物、專利及專利申請。
圖1為，實施例4至8之胺基甲酸乙酯樹脂的薄膜及廣帶域λ/4板之波長分散特性(R/R0)。

Claims (13)

  1. 一種相位差薄膜用之胺基甲酸乙酯樹脂，其為具有一般式I： 〔式中，X為未取代或被由鹵素、C1-6 烷基及C1-6 烷氧基所成群中所選出之至少1種取代基所取代之環伸烷基、伸烷基環伸烷基、環伸烷基伸烷基環伸烷基、伸烷基環伸烷基伸烷基，或二環伸烷基〕所表示之二異氰酸酯構成單位，與一般式II： 〔式中，R1 相互獨立為伸烷基、環伸烷基、伸芳基或伸芳基伸烷基；l為0或1；R2 相互獨立為鹵素、C1-6 烷基，或C1-6 烷氧基； m為0至4之整數；R3 相互獨立為鹵素、C1-6 烷基，或C1-6 烷氧基；n為0至4之整數〕所表示之芴構成單位，與一般式III： 〔式中，Y為未取代或被由鹵素、C1-6 烷基及C1-6 烷氧基所成群中所選出之至少1種取代基所取代之環伸烷基、伸烷基環伸烷基、環伸烷基伸烷基環伸烷基、伸烷基環伸烷基伸烷基，或二環伸烷基〕所表示之二醇構成單位，其玻璃化溫度為100至200℃。
  2. 如申請專利範圍第1項之相位差薄膜用之胺基甲酸乙酯樹脂，其中X為未取代或被C1-3 烷基所取代之環伸己基、C1-3 伸烷基環伸己基、環伸己基C1-3 伸烷基環伸己基、C1-3 伸烷基環伸己基C1-3 伸烷基，或二環伸己基，R1 相互獨立為C1-3 伸烷基，l為1，m及n為0。
  3. 如申請專利範圍第1項之相位差薄膜用之胺基甲酸乙酯樹脂，其中一般式I所表示之二異氰酸酯構成單位為來自二環己基甲烷-4,4’-二異氰酸酯、異佛爾酮二異氰酸 酯、環伸己基二異氰酸酯、或1,3-雙(異氰酸根合甲基)環己烷。
  4. 如申請專利範圍第1項之相位差薄膜用之胺基甲酸乙酯樹脂，其中一般式II所表示之芴構成單位為來自9,9-雙〔4-(羥基C1-3 烷氧基)苯基〕芴。
  5. 如申請專利範圍第1項之相位差薄膜用之胺基甲酸乙酯樹脂，其中Y為環伸己基、C1-3 伸烷基環伸己基、環伸己基C1-3 伸烷基環伸己基、C1-3 伸烷基環伸己基C1-3 伸烷基，或二環伸己基。
  6. 如申請專利範圍第1項之相位差薄膜用之胺基甲酸乙酯樹脂，其中一般式III所表示之二醇構成單位為來自1,4-環己烷二甲醇、1,4-環己二醇、或4,4’-二環己二醇。
  7. 如申請專利範圍第1項之相位差薄膜用之胺基甲酸乙酯樹脂，其中X為未取代或被C1-3 烷基所取代之環伸己基，且二異氰酸酯構成單位中一方之異氰酸酯部分相對於前述環伸己基之鍵結位置為1位時，另一方之異氰酸酯部分之鍵結位置為2位、3位、5位或6位；X為未取代或被C1-3 烷基所取代之C1-3 伸烷基環伸己基，且二異氰酸酯構成單位中一方之異氰酸酯部分相對於前述環伸己基部分之鍵結位置為1位時，另一方之異氰酸酯部分鍵結的前述C1-3 伸烷基部分之鍵結位置為2位、3位、5位或6位；或X為未取代或被C1-3 烷基所取代之C1-3 伸烷基環伸己基C1-3 伸烷基，且二異氰酸酯構成單位中一方之異氰酸酯部 分鍵結的一方之C1-3 伸烷基部分相對於前述環伸烷基部分之鍵結位置為1位時，另一方之異氰酸酯部分鍵結的另一方之C1-3 伸烷基部分之鍵結位置為2位、3位、5位或6位。
  8. 如申請專利範圍第7項之相位差薄膜用之胺基甲酸乙酯樹脂，其中一般式I所表示之二異氰酸酯構成單位為來自異佛爾酮二異氰酸酯，或1,3-雙(異氰酸根合甲基)環己烷。
  9. 如申請專利範圍第7項之相位差薄膜用之胺基甲酸乙酯樹脂，其中另具有一般式IV： 〔式中，X’為C1-10 伸烷基，或全體具有2至10個碳之伸烷基氧基伸烷基〕所表示之二異氰酸酯構成單位。
  10. 如申請專利範圍第9項之相位差薄膜用之胺基甲酸乙酯樹脂，其中一般式IV所表示之二異氰酸酯構成單位為來自六伸甲基二異氰酸酯。
  11. 一種相位差薄膜用之胺基甲酸乙酯樹脂，其為具有一般式I： 〔式中，X為未取代或被由鹵素、C1-6 烷基及C1-6 烷氧基所成群中所選出之至少1種取代基所取代之環伸烷基、伸烷基環伸烷基、環伸烷基伸烷基環伸烷基、伸烷基環伸烷基伸烷基，或二環伸烷基〕所表示之二異氰酸酯構成單位，與一般式II： 〔式中，R1 相互獨立為伸烷基、環伸烷基、伸芳基或伸芳基伸烷基；l為0或1；R2 相互獨立為鹵素、C1-6 烷基，或C1-6 烷氧基；m為0至4之整數；R3 相互獨立為鹵素、C1-6 烷基，或C1-6 烷氧基；n為0至4之整數〕 所表示之芴構成單位，與一般式IV： 〔式中，X’為C1-10 伸烷基，或全體具有2至10個碳之伸烷基氧基伸烷基〕所表示之二異氰酸酯構成單位。
  12. 一種相位差薄膜，其為含有如申請專利範圍第1至11項中任何一項之相位差薄膜用之胺基甲酸乙酯樹脂。
  13. 如申請專利範圍第12項之相位差薄膜，其中藉由下述式：Re=(nx -ny )×D波長分散=Re(449)/Re(548.7)〔式中，nx 為相位差薄膜面內之折射率最大時之遲相軸方向的折射率；ny 為直交於前述遲相軸之方向的折射率；D為相位差薄膜之厚度(nm)；Re為面內相位差，Re(449)為波長449nm之光線的面內相位差，Re(548.7)為波長548.7nm之光線的面內相位差〕所得之波長分散為未達1.02。
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Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6231736B2 (ja) * 2012-08-30 2017-11-15 株式会社日本触媒 積層位相差フィルムおよびその製造方法
JP2016106249A (ja) * 2016-01-05 2016-06-16 株式会社日本触媒 積層位相差フィルム
CN106554453B (zh) * 2016-10-12 2018-10-09 沈阳大学 一种农用转光膜材料及其制备方法

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010031163A (ja) * 2008-06-27 2010-02-12 Sumitomo Chemical Co Ltd 化合物、該化合物を含む光学フィルム及び該光学フィルムの製造方法

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3448694B2 (ja) * 1994-06-23 2003-09-22 大阪瓦斯株式会社 フルオレン骨格を有するポリウレタン
JPH11209454A (ja) * 1998-01-29 1999-08-03 Osaka Gas Co Ltd フルオレン骨格を有するポリウレタン
JPH11279251A (ja) * 1998-03-30 1999-10-12 Osaka Gas Co Ltd フルオレン骨格を有するポリウレタン
JPH11279252A (ja) * 1998-03-30 1999-10-12 Osaka Gas Co Ltd フルオレン骨格を有するポリウレタン
JP4739571B2 (ja) * 2001-04-18 2011-08-03 帝人化成株式会社 延伸フィルム
JP4797997B2 (ja) * 2006-01-16 2011-10-19 三菱化学株式会社 位相差フィルム、液晶パネル及び画像表示機器
JP5339326B2 (ja) * 2007-12-05 2013-11-13 独立行政法人産業技術総合研究所 フルオレン含有ポリウレタン及びその効率的製造方法
TW200946551A (en) * 2008-03-31 2009-11-16 Toyo Kohan Co Ltd Polyurethane resins containing cycloaliphatic and/or aromatic component and phase difference films using them

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010031163A (ja) * 2008-06-27 2010-02-12 Sumitomo Chemical Co Ltd 化合物、該化合物を含む光学フィルム及び該光学フィルムの製造方法

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