TWI486355B - 光敏組成物及用於光敏組成物之化合物 - Google Patents

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Description

光敏組成物及用於光敏組成物之化合物 【相互參照之相關申請案】
本申請案優先權主張於2011年7月15日向韓國專利局提出之韓國專利第10-2011-0070644號申請案以及2012年5月29日向韓國專利局提出之韓國專利第10-2012-0056628號申請案之優先權，其中該些案所揭露之內容全部併入本案參考。
本發明係關於一種光敏組成物以及一種用於該光敏組成物之化合物。
各種光敏感材料被使用以製造一液晶顯示器二極體之彩色濾光片。例如，可使用一顏料分散型光敏感材料以形成一彩色像素。此外，一黑色矩陣，係為一黑色分區作為一遮光膜遮蔽光線，可透過使用一黑色染料、碳黑、苝黑、二氧化鈦或其類似物分散於光敏感材料中之溶液來製造該黑色矩陣。一保護層，用於校正一介於像素及柱狀間隔件之步驟，以保持一液晶顯示器二極體之一單元間隙，可透過使用一不包含顏料之透明光敏感材料來製造該保護層。再者，一使用於製造該柱狀間隔件或保護層之光敏組成物可使用作為一薄膜電晶體層之鈍化層。若該光敏感材料塗佈於一玻璃基板或一塗佈有銦錫氧化物之玻璃基板上，並透過一光罩蝕刻製程處理，可完成一彩色濾光片單一基板。
若可提高該液晶顯示二極體之解析度以實現更高水準的影像，則可提高該彩色濾光片之解析度。為了製造該具有高解析度之彩色濾光片，可降低像素、黑色矩陣、柱狀間隔件及其類似物的尺寸。在這樣的情況下，在製程中，光敏感材料之薄膜與該較低基板間的黏著強度變得薄弱，因此增加了因喪失部分像素，而發生缺陷的可能性。相較於相關技術，提高該光敏感材料與該較低基板間之黏著強度，乃有其所需。
本發明係已致力於提供一種光敏組成物以及一用於該光敏組成物之一新穎化合物。
本發明之一態樣係提供一種光敏組成物，包括：一耦合劑，包括一個或以上如式1所示之化合物；一黏結劑樹脂，包括一鹼可溶性聚合物樹脂；一交聯化合物，包括兩個或以上乙烯性不飽和基；一光聚合起始劑；以及一溶劑；
其中，L1 係氫或以C1 至C6 烷基取代或未取代之C3 至C8 伸烷基；R1 至R3 係各自獨立為C1 至C3 烷氧基；A係為C1 至C3 烷基或C2 至C14 烯基；R5 係為氫或C1 至C3 烷基；以及R6 係為氫或C1 至C8 烷基。
本發明之另一態樣係提供一種光敏感材料，係使用該光敏組成物所製備之。
本發明之又一態樣係提供一種化合物，係如式2所示：
其中，L1 係氫或經C1 至C6 烷基取代或未取代之C3 至C8 亞烷基；R1 至R3 係各自獨立為C1 至C3 烷氧基；R4 係C1 至C3 烷基；R5 係氫或C1 至C3 烷基；以及R6 係氫或C1 至C8 烷基。
本發明之又一態樣係提供一種化合物，係如式3所示：
其中，L2 係氫或經C1 至C6 烷基取代或未取代之C3 至C8 亞烷基；R7 至R9 係各自獨立為C1 至C3 烷氧基；R10 及R11 係各自獨立為C1 至C3 烷基；以及R12 係氫或C1 至C8 烷基。
根據本發明之該些態樣，既然藉由使用透過本發明提供之該化合物，於一顯影製程的過程中，該光敏組成物具 有極小可能性之失去一薄膜之效果，其可能形成具有提高一圖案之黏著強度之薄膜。
以下，將更詳下描述本發明。
本發明之一示範型實施例係提供一種光敏組成物，包括：一耦合劑，包括一個或以上如式1所示之化合物；一黏結劑樹脂，包括一鹼可溶聚合物樹脂；一交聯化合物，包括兩個或以上乙烯性不飽和基；一光聚合起始劑；以及一溶劑。
本發明之該示範型實施例提供一如式2或式3所示之化合物。該如式2或式3所示之化合物可為一可被使用於該光敏組成物中之化合物。
根據本發明之示範型實施例，如式1所示之化合物可為一如下述式2所示之化合物。
其中，L1 係氫或經C1 至C6 烷基取代或未取代之C3 至C8 亞烷基；R1 至R3 係各自獨立為C1 至C3 烷氧基；R4 係C1 至C3 烷基；R5 係氫或C1 至C3 烷基；以及R6 係氫或C1 至C8 烷基。
根據本發明之示範型實施例，如式1所示之化合物可為一如下述式3所示之化合物。
其中，L2 係氫或經C1 至C6 烷基取代或未取代之C3 至C8 亞烷基；R7 至R9 係各自獨立為C1 至C3 烷氧基；R10 及R11 係各自獨立為C1 至C3 烷基；以及R12 係氫或C1 至C8 烷基。
根據本發明之示範型實施例，如式1所示之化合物可為一如下述式4所示之化合物。
其中，L3 係各自獨立為氫或經C1 至C6 烷基取代或未取代之C3 至C8 亞烷基；R13 至R15 係各自獨立為C1 至C3 烷氧基；R16 及R18 係各自獨立為氫或C1 至C3 烷基；以及R17 及R19 係各自獨立為氫或C1 至C8 烷基。
如式1所示之該化合物包括三級氨及一同時具有一C=C雙鍵之矽氧烷基。
於根據本發明之示範型實施例之該化合物中，式1、式2、式3、及式4之取代基將更詳細描述於下。
包含於L1 至L3 中的亞烷基可為一直鏈或支鏈，且其碳原子數可為3至8。該亞烷基可被氫或C1 至C6 烷基取代或未取代。該亞烷基之特定例子包括甲亞烷基、乙亞烷基、丙亞烷基、異丙亞烷基、丁亞烷基、反-丁亞烷基(t-butylene)及其類似物，但並不僅限於此。
R4 、R5 、R10 、R11 、R16 及R18 可為C1 至C3 烷基。這些可為一直鏈或一支鏈。該烷基的特定例子可為一甲烷基、乙烷基、丙烷基、異丙烷基、丁烷基、叔丁基、及其類似物，但並不僅限於此。
R6 、R12 、R17 及R19 可為C1 至C8 烷基。這些可為一直鏈或一支鏈。該烷基的特定例子可為一甲烷基、乙烷基、丙烷基、異丙烷基、丁烷基、叔丁基、及其類似物，但並不僅限於此。
R1 至R3 、R7 至R9 、及R13 至R15 係各自獨立為C1 至C3 烷氧基。這些可為一直鏈或一支鏈，且為一取代或未取代的物質，及其碳原子數可為1至3。該烷氧基的特定例子可包括甲氧烷基、乙氧烷基、異丙氧烷基及其類似物，但並不僅限於此。
「取代或未取代」一詞意指某物被一個或多個取代基取代或其並無取代基。
於根據本發明之示範型實施例之該化合物中，式2中的該化合物的特定例子係呈現如下，但並不僅限於此。
式4中的化合物之特定例子係呈現如下，但並不僅限於此。
[式9]
於根據本發明示範型實施例之光敏組成物中，基於該光敏組成物總重，包含一個或以上如式1所示化合物之該耦合劑可為0.01至1.32重量百分比。在該耦合劑含量為0.01重量百分比或以上的情況中，該耦合劑的效果相當優異，而在該耦合劑含量為1.32重量百分比或以下的情況中，可能有在產品的儲存穩定性上的優點。
於根據本發明示範型實施例之光敏組成物中，基於固體總重，包含一個或以上如式1、式2、式3、及式4所示化合物之該耦合劑可為0.05至5重量百分比。在該耦合劑含量為0.05重量百分比或以上的情況中，該耦合劑的效果相當優異，而在該耦合劑含量為5重量百分比或以下的情況中，可能有在產品的儲存穩定性上的優點。
由於根據本發明示範型實施例之光敏組成物包括該黏結劑樹脂，因而具有控制黏度的效果，且使用一鹼性顯影液圖案化是可行的，此一效果。具體而言，一包含羧基之丙烯基系黏結劑樹脂可用來作為該鹼可溶性物質，且較佳地，係使用具有3,000至150,000重量平均分子量之該鹼可溶性物質。
於根據本發明示範型實施例之光敏組成物中，基於該光敏組成物總重，該黏結劑樹脂可為1至20重量百分比，但並不僅限於此。若該黏結劑樹脂之含量為1重量百分比或以上，可透過使用該鹼性水溶液執行該圖案化，而若其含量為20重量百分比或以下，在顯影製程的過程中，可具有避免失去該圖案的效果。
於根據本發明示範型實施例之光敏組成物中，具體而言，包含一乙烯性不飽和基之交聯化合物可使用作為一交聯化合物。更具體地，可使用一包含兩個或以上不飽和丙烯基之交聯化合物或一包含三個或以上不飽和丙烯基交聯化合物。該交聯化合物之特定例子可包括：一個或以上選自由一得自於下列酯化多價醇類之化合物所組成之群組，如：乙二醇二(甲基丙烯酸)酯(ethyleneglycol di(metha)acrylate)、聚乙二醇二甲基丙烯酸酯(polyethylene glycol di(metha)acrylate)，其中該乙亞烷基數量為2至14、三羥甲丙烷二甲基丙烯酸酯(trimethylolpropane di(metha)acrylate)、三羥甲丙烷三甲基丙烯酸酯(trimethylolpropane tri(metha)acrylate)、季戊四醇三甲基丙 烯酸酯(pentaerythritol tri(metha)acrylate)、季戊四醇四甲基丙烯酸酯(pentaerythritol tetra(metha)acrylate)、2-三丙烯醯氧基乙基鄰苯二甲酸二乙酯(2-trisacryloyloxymethylethyl phthalate)、丙二醇二甲基丙烯酸酯(propylene glycol di(metha)acrylate)，其中該丙烯基數量為2至14、二季戊四醇五甲基丙烯酸酯(dipentaerythritol penta(metha)acrylate)、二季戊四醇六甲基丙烯酸酯(dipentaerythritol hexa(metha)acrylate)、以及一混合物，係由二季戊四醇五甲基丙烯酸酯及二季戊四醇六甲基丙烯酸酯(編號：TO-2348及TO-2349，由日本Toagosei公司所製造)，透過一α,β-不飽和羧酸形成之酸變性材料所混合而成；一化合物係透過添加一(甲基)丙烯酸至一含有環氧丙基(glycidyl)之化合物中而獲得，如三羥甲丙烷三環氧丙基醚丙烯酸的加成產物和雙酚A二環氧丙基醚丙烯酸的加成產物；一羰基的加成產物，如，β-羥基乙基(甲基)丙烯酸酯之二酯鄰苯二甲酸酯及一β-羥基乙基(甲基)丙烯酸酯的甲苯二異氰酸酯的加成產物，或一具有乙烯不飽和鍵及多價羧酸之酯化合物或聚異氰酸酯(polyisocyanate)的加成產物；(甲基)丙烯酸烷酯((metha)acrylate alkylester)，如(甲基)丙烯酸甲酯(methyl(metha)acrylate)、(甲基)丙烯酸乙酯(ethyl(metha)acrylate)、(甲基)丙烯酸丁酯(butyl(metha)acrylate)、及2-乙基己基(甲基)丙烯酸酯(2-ethylhexyl(metha)acrylate)；以及9,9-雙[4-(2-丙烯醯氧基乙氧基)苯基]芴(9,9'-bis[4-(2-acryloyloxyethoxy) phenyl]fluorine)，但並不僅限於此，且可使用本領域習知之一般物質。在這些例子中，可於該些化合物中使用一矽膠分散劑，且其例子包括由Hanse Chemie公司製造之Nanocryl XP系列(0596,1045,21/1364)及Nanopox XP系列(0516,0525)。
於根據本發明示範型實施例之光敏組成物中，基於該光敏組成物總重，該交聯化合物之含量可為1至30重量百分比，但並不僅限於此。
於根據本發明示範型實施例之光敏組成物中，作為該光聚合起始劑，舉例來說：一三氮雜苯系化合物，如2,4-三氯甲基-(4’-甲氧基苯基)-6-三氮雜苯)(2,4-trichloromethyl-(4'-methoxyphenyl)-6-triazine)、2,4-三氯甲基-(4’-甲氧基苯乙烯基)-6-三氮雜苯)(2,4-trichloromethyl-(4'-methoxystyryl)-6-triazine)、2,4-三氯甲基-(芬普尼)-6-三氮雜苯)(2,4-trichloromethyl-(fipronil)-6-triazine)、2,4-三氯甲基-(3’,4’-二甲氧基苯基)-6-三氮雜苯)(2,4-trichloromethyl-(3',4'-dimethoxyphenyl)-6-triazine)、3-{4-[2,4-雙(三氯甲基)-s-三氮雜苯-6-基]苯硫基}丙酸(3-{4-[2,4-bis(trichloromethyl)-s-triazine-6-yl]phenylthio}propanoic acid)、2,4-三氯甲基-(4’-乙基二苯基)-6-三氮雜苯)(2,4-trichloromethyl-(4'-ethylbiphenyl)-6-triazine)、及2,4-三氯甲基-(4’-甲基二苯基)-6-三氮雜苯)(2,4-trichloromethyl-(4'-methylbiphenyl)-6-triazine)；一雙咪唑化合物，如2,2'-雙(2-氯苯基)-4,4',5,5'-四苯基雙咪唑 (2,2'-bis(2-chlorophenyl)-4,4',5,5'-tetraphenyl biimidazole)與2,2'-雙(2,3-二氯苯基)-4,4',5,5'-四苯基雙咪唑(2,2'-bis(2,3-dichlorophenyl)-4,4',5,5'-tetraphenylbiimidazole)；一苯乙酮系化合物，如2-羥基-2-甲基-1-苯基丙-1-酮(2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropane-1-one)、1-(4-異丙基苯基)-2-羥基-2-甲基丙-1-酮(1-(4-isopropylphenyl)-2-hydroxy-2-methylpropane-1-one)、4-(2-羥基乙氧基)-苯基(2-羥基)丙基酮(4-(2-hydroxyethoxy)-phenyl(2-hydroxy)propyl ketone)、1-羥基環己基苯基酮(1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone)、2,2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮(2,2-dimethoxy-2-phenyl acetophenone)、2-甲基-(4-甲硫基苯基)-2-嗎啉基-1-丙烷-1-酮(2-methyl-(4-methylthiophenyl)-2-morpholino-1-propane-1-one，Irgacure-907)、及2-芐基-2-二甲基氨基-1-(4-嗎啉基苯基)-丁烷-1-酮(2-benzyl-2-dimethylamino-1-(4-morpholinophenyl)-butane-1-one，Irgacure-369)；一O-醯基肟系化合物，如Ciba Geigy製造之Irgacure OXE 01與Irgacure OXE 02；一二苯甲酮系化合物，如4,4'-雙(二甲氨基)二苯甲酮(4,4'-bis(dimethylamino)benzophenone)、及4,4'-雙(二乙氨基)二苯甲酮(4,4'-bis(diethylamino)benzophenone)；一噻噸酮系化合物，如2,4-二乙基噻噸酮(2,4-diethyl thioxantone)、2-氯噻噸酮(2-chloro thioxantone)、異丙基噻噸酮(isopropyl thioxantone)、二異丙基噻噸酮(diisopropyl thioxantone)；一膦氧化物系化合物，如2,4,6-三甲基苯甲醯基二膦氧化物 (2,4,6-trimethylbenzoyl diphenylphosphine oxide)、雙(2,6-二甲氧基苯甲醯基)-2,4,4-三甲基苯基膦氧化物(bis(2,6-dimethoxybenzoyl)-2,4,4-trimethylpentyl phosphine oxide)、及雙(2,6-二氯苯甲醯基)-丙基膦氧化物(bis(2,6-dichlorobenzoyl)propyl phosphine oxide)；以及一香豆素系化合物，如3,3'-羰基乙烯基-7-(二乙基氨基)香豆素)(3,3'-carbonylvinyl-7-(diethylamino)coumarine)、3-(2-苯並噻唑基)-7-(二乙基氨基)香豆素(3-(2-benzothiazolyl)-7-(diethylamino)coumarine)、3-苯甲醯基-7-(二乙基氨基)香豆素(3-benzoyl-7-(diethylamino)coumarine)、3-苯甲醯基-7-甲氧基香豆素(3-benzoyl-7-methoxy-coumarine)、及10,10'-羰基雙[1,1,7,7-四甲基-2,3,6,7-四氫-1H，5H，11H-Cl]-苯並吡喃並[6,7,8-ij]喹嗪-11-酮(10,10'-carbonylbis[1,1,7,7-tetramethyl-2,3,6,7-tetrahydro-1H,5H,11H-Cl]-benzopyrano[6,7,8-ij]-quinolizine-11-one)，可單獨使用或使用兩個或以上之混合物。
於根據本發明示範型實施例之光敏組成物中，基於該光敏組成物總重，該光聚合起始劑之含量可為0.1至5重量百分比，但並不僅限於此。
例如，溶劑可包括一個或以上選自由甲基乙基酮(methyl ethyl ketone)、甲賽璐蘇(methyl cellosolve)、乙賽璐蘇(ethyl cellosolve)、乙二醇二甲醚(ethyleneglycol dimethyl ether)、乙二醇二乙醚(ethyleneglycol diethyl ether)、丙二醇二甲醚(propyleneglycol dimethyl ether)、丙 二醇二乙醚(propyleneglycol diethyl ether)、二乙二醇二甲醚(diethyleneglycol dimethylether)、二乙二醇二乙醚(diethyleneglycol diethylether)、二乙二醇甲基乙基醚(diethyleneglycol methyl ethyl ether)、2-乙氧基丙醇(2-ethoxy propanol)、2-甲氧基丙醇(2-methoxy propanol)、3-甲氧基丁醇(3-methoxy butanol)、環己酮(cyclohexanone)、環戊酮(cyclopentanone)，丙二醇甲基醚乙酸酯(propyleneglycol methyl ether acetate)、戊酮(cyclopentanone)、丙二醇乙基醚乙酸酯(propyleneglycol ethyl ether acetate)、3-甲氧基丁基乙酸酯(3-methoxybutyl acetate)、乙基3-乙氧基丙酸酯(ethyl 3-ethoxypropionate)、乙基溶纖劑醋酸酯(ethyl cellosolveacetate)、甲基溶纖劑醋酸酯(methyl cellosolveacetate)、乙酸丁酯(butyl acetate)、及二丙二醇單甲醚(dipropyleneglycol monomethyl ether)，但並不需僅限於此。
於根據本發明示範型實施例之光敏組成物中，基於該光敏組成物總重，該溶劑之含量可為45至95重量百分比，但並不僅限於此。
根據本發明示範型實施例之光敏組成物更可包括一著色劑。
於根據本發明示範型實施例之光敏組成物中，一種或以上的顏料或染料或其混合物可使用作為該著色劑。具體而言，金屬氧化物，如碳黑、石墨、及鈦黑，可使用作為一黑色顏料。碳黑的例子包括：Donghae Carbon公司所製 造之Cisto 5HIISAF-HS、Cisto KH、Cisto 3HHAF-HS、Cisto NH、Cisto 3M、Cisto 300HAF-LS、Cisto 116HMMAF-HS、Cisto 116MAF、Cisto FMFEF-HS、Cisto SOFEF、Cisto VGPF、Cisto SVHSRF-HS、及Cisto SSRF；Mitsubishi Chemical公司所製Diagram black II、Diagram black N339、Diagram black SH、Diagram black H、Diagram LH、Diagram HA、Diagram SF、Diagram N550M、Diagram M、Diagram E、Diagram G、Diagram R、Diagram N760M、Diagram LR、#2700、#2600、#2400、#2350、#2300、#2200、#1000、#980、#900、MCF88、#52、#50、#47、#45、#45L、#25、#CF9、#95、#3030、#3050、MA7、MA77、MA8、MA11、MA100、MA40、OIL7B、OIL9B、OIL11B、OIL30B、及OIL31B；Degussa所製造之PRINTEX-U、PRINTEX-V、PRINTEX-140U、PRINTEX-140V、PRINTEX-95、PRINTEX-85、PRINTEX-75、PRINTEX-55、PRINTEX-45、PRINTEX-300、PRINTEX-35、PRINTEX-25、PRINTEX-200、PRINTEX-40、PRINTEX-30、PRINTEX-3、PRINTEX-A、SPECIAL BLACK-550、SPECIAL BLACK-350、SPECIAL BLACK-250、SPECIAL BLACK-100、及LAMP BLACK-101；Columbia Carbon公司所製造之RAVEN-1100ULTRA、RAVEN-1080ULTRA、RAVEN-1060ULTRA、RAVEN-1040、RAVEN-1035、RAVEN-1020、RAVEN-1000、RAVEN-890H、RAVEN-890、RAVEN-880ULTRA、RAVEN-860ULTRA、RAVEN-850、 RAVEN-820、RAVEN-790ULTRA、RAVEN-780ULTRA、RAVEN-760ULTRA、RAVEN-520、RAVEN-500、RAVEN-460、RAVEN-450、RAVEN-430ULTRA、RAVEN-420、RAVEN-410、RAVEN-2500ULTRA、RAVEN-2000、RAVEN-1500、RAVEN-1255、RAVEN-1250、RAVEN-1200、RAVEN-1190ULTRA、及RAVEN-1170，及其混合物或類似物。此外，呈現一顏色之該著色劑的例子包括：洋紅色(carmine)6B(C.I.12490)、酞菁綠(phthalocyanine green,C.I.74260)、酞菁藍(phthalocyanine blue,C.I.74160)、苝黑(perylene black,BASF K0084.K0086)、菁黑(cyanine black)、梅西黃(linol yellow,C.I.21090)、梅西黃(linol yellow)GRO(C.I.21090)、聯苯胺黃(benzidine yellow)4T-564D、維多利亞艷藍(victoria pure blue,C.I.42595)、C.I.紅色顏料(PIGMENT RED)3、23、97、108、122、139、140、141、142、143、144、149、166、168、175、177、180、185、189、190、192、202、214、215、220、221、224、230、235、242、254、255、260、262、264、及272；C.I.綠色顏料(PIGMENT GREEN)7、36；C.I.藍色顏料(PIGMENT blue)15：1、15：3、15：4、15：6、16、22、28、36、60、及64；C.I.黃色顏料(PIGMENT yellow)13、14、35、53、83、93、95、110、120、138、139、150、151、154、175、180、181、185、194、及213；C.I.子色顏料(PIGMENT VIOLET)15、19、23、29、32、及37，及其類似物，且除此之外，可使用一白色顏料、一 螢光顏料或其類似物。一材料，其中係使用鋅作為除銅以外的中心金屬，可使用作為該顏料之酞青素系配位化合物。
於根據本發明示範型實施例之光敏組成物中，基於該光敏組成物總重，該著色劑含量可為1至20重量百分比，但並不僅限於此。
根據本發明示範型實施例之光敏組成物可更包括一個或兩個或以上添加劑，係選自由一硬化加速劑、一熱聚合抑制劑、一界面活性劑、一分散劑、一抗氧化劑、一紫外線吸收劑、一調平劑、一光感劑、一塑化劑、一黏著促進劑、一填充劑、及一助黏劑所組成之群組。
於根據本發明示範型實施例之光敏組成物中，基於該光敏組成物總重，該添加劑含量可為0.01至5重量百分比，但並不僅限於此。
於根據本發明示範型實施例之光敏組成物中，該硬化加速劑的例子可包括一種或以上選自由2-巰基苯並咪唑(2-mercaptobenzoimidazole)、2-巰基苯並噻唑(2-mercaptobenzothiazole)、(2-mercaptobenzoxazole)、2-巰基苯並噁唑(2,5-dimercapto-1,3,4-thiadiazole)、2-巰基-4,6-二甲基氨基吡啶(2-mercapto-4,6-dimethylaminopyrydine)、季戊四醇四(3-巰基丙酸酯)(pentaerythritol tetrakis(3-mercaptopropionate))、季戊四醇三(3-巰基丙酸酯)(pentaerythritol tris(3-mercaptopropionate))、季戊四醇四(2-巰基乙酸酯)(pentaerythritol tetrakis(2-mercaptoacetate))、季戊四醇三(2-巰基乙酸酯)(pentaerythritol tris(2-mercaptoacetate))、三羥甲基丙烷三(2-巰基乙酸酯)(trimethylolpropane tris(2-mercaptoacetate))、三羥甲基丙烷三(3-巰基丙酸酯)(trimethylolpropane tris(3-mercaptopropionate))、三羥甲基乙烷三(2-巰基乙酸酯)(trimethylolethane tris(2-mercaptoacetate))、及三羥甲基乙烷三(3-巰基丙酸酯)(trimethylolethane tris(3-mercaptopropionate))所組成之群組，但並不僅限於此，且可包括於本領域一般習知之物質。
於根據本發明示範型實施例之光敏組成物中，該熱聚合抑制劑的例子可包括一種或以上選自由對苯甲醚(p-anisole)、對苯二酚(hydroquinone)、鄰苯二酚(pyrocatechol)、叔丁基兒茶酚(t-butyl catechol)、N-亞硝基苯基羥胺銨鹽(N-nitrosophenylhydroxyamine ammonium salts)、N-亞硝基苯基羥胺鋁鹽(N-nitrosophenylhydroxyamine aluminum salts)、硫代二苯胺(phenothiazine)所組成之群組，但並不僅限於此，且可包括於本領域一般習知之物質。
於根據本發明示範型實施例之光敏組成物中，該界面活性劑的例子可包括MCF 350SF、F-475、F-488、F-552(以下，簡稱DIC公司)，及其類似物，但並不僅限於此。
於根據本發明示範型實施例之光敏組成物中，可透過以預先將顏料進行表面處理的形式於內部添加該分散劑至一顏料，或於外部添加該分散劑至該顏料之方法，而使用該分散劑。
於根據本發明示範型實施例之光敏組成物中，一聚合物型、非離子、陰離子或陽離子分散劑可使用作為該分散劑。該分散劑的非限制例子可包括聚亞烷基二醇(polyalkyleneglycol)及其酯類、聚氧化烯多元醇(polyoxyalkylene polyhydric alcohols)、酯烯氧化物添加劑(esteralkylene oxide additions)、醇烯氧化物添加劑(alcoholalkylene oxide additions)、磺酸酯(ester sulfonate)、磺酸鹽(sulfonates)、羧酸酯(ester carboxylates)、羧酸鹽(carboxylates)、烷醯胺伸烷基氧化物添加劑(alkylamide alkylene oxide additions)、烷基胺(alkylamine)、及其類似物，可使用一種，或兩種或以上選自由該些例子所組成之混合物，但該些例子並不僅限於此。
於根據本發明示範型實施例之光敏組成物中，不受限之抗氧化劑例子可包括一種或以上選自由2,2-硫代雙(4-甲基-6-叔丁基苯酚)(2,2-thiobis(4-methyl-6-t-butyl -phenol))、及2-叔丁基苯酚(2,6-g,t-butylphenol)所組成之群組，但並不僅限於此。
於根據本發明示範型實施例之光敏組成物中，不受限之紫外線吸收劑例子可包括一種或以上選自由2-(3-叔丁基-5-甲基-2-羥基苯基)-5-氯-苯並三唑(2-(3-t-butyl-5-methyl-2-hydroxyphenyl)-5-chloro-benzotriazol)、及烷氧基二苯甲酮(alkoxy benzophenone)所組成之群組，但並不僅限於此。
本發明示範型實施例提供一包括該光敏組成物之光敏感材料。
本發明示範型實施例提供一使用該光敏組成物製造之光敏感材料。
該光敏組成物係存在於一至少移除一部分溶劑的狀態下，或透過乾燥及/或硬化，光硬化於一光敏感材料中。
於此，根據本發明之光敏組成物係使用於一滾輪塗佈機、簾式塗佈機、旋塗機、槽模塗佈機、及各種印刷法和沉澱法，且可塗佈於一金屬支架、紙、玻璃、及塑膠基板。再者，於塗佈於該支架上後，如膜，該組成物可轉移至另一支架上，或該組成物可塗佈於一第一支架上，轉移至一緩衝層上，及轉移至第二支架上，且其塗佈方法並不特別限制。
用於硬化根據本發明示範型實施例之該光敏組成物之光源例子包括一句水銀蒸氣弧光燈、碳弧光燈、氙弧光燈及其發射具有250至450nm波長之類似物，但並不需僅限於此。
該包括本發明化合物之光敏組成物係較佳使用於一用於製造薄膜電晶體液晶顯示器彩色濾光片的顏料分散型光敏感材料、一用以形成薄膜電晶體液晶顯示器或有機發光二極體之黑色矩陣之光敏感材料、一用於形成一保護層之光敏感材料、及一柱狀間隔件之光敏感材料，但可使用於製造一用於光硬化塗料、光硬化墨水、光硬化黏著劑、一印刷板、及一印刷電路板之光敏感材料，及其他透明光敏感材料與平面電漿顯示器，且其目的並不特別限制。
以下，將描述較佳合成例、實施例及比較例以協助了解本發明。然而，下述合成例、實施例及比較例係為了描述本發明，但本發明之範疇並不僅限於此。
[合成例1]
10莫耳之3-缩水甘油基氧丙基三甲氧基矽烷(3-glycidoxypropyltrimethoxysilane，KBM-403，由Shinetsu製造)稀釋於丙二醇單甲基醚乙酸酯(propylene glycol monomethyl ether acetate)。該溶液係維持於50℃，且於緩慢加入10莫耳N-甲基烯丙基胺(由Aldrich提供)時，進行該反應。於將該獲得之溶液於管柱中分離後，使用真空蒸餾移除該溶劑，以獲得如下式5所示之化合物。
係透過1 H-NMR鑑定該結構：5.17、5.15、5.83(-CH=CH2 )、2.27(CH3 )、2.0(-OH)、3.55(-OCH3 )。
[合成例2]
除了以3-缩水甘油醚氧基丙基三乙氧基矽烷(3-glycidoxypropyltriethoxysilane，KBE-403，由Shinetsu製造)取代合成例1中的3-缩水甘油基氧丙基三甲氧基矽烷 (KBM-403，由Shinetsu製造)之外，合成例2係與合成例1相同。因此，可獲得如下述式6所示之化合物。
係透過1 H-NMR鑑定該結構：5.17、5.15、5.83(-CH=CH2 )、2.27(CH3 )、2.0(-OH)、1.22、3.83(-OCH2 CH3 )。
[合成例3]
除了以N-乙基烯丙基胺(由Aldrich提供)取代合成例1中的N-甲基烯丙基胺(由Aldrich提供)之外，合成例3係與合成例1相同。因此，獲得如下述式7所示之化合物。
係透過1 H-NMR鑑定該結構：5.17、5.15、5.83(-CH=CH2 )、2.40、2.62(-CH2 CH3 )、2.0(-OH)、3.55(-OCH3 )。
[合成例4]
除了以3-缩水甘油醚氧基丙基三乙氧基矽烷(3-glycidoxypropyltriethoxysilane，KBE-403，由Shinetsu製 造)取代合成例3中的3-缩水甘油基氧丙基三甲氧基矽烷(KBM-403，由Shinetsu製造)之外，合成例4係與合成例3相同。因此，可獲得如下述式8所示之化合物。
係透過1 H-NMR鑑定該結構：5.17、5.15、5.83(-CH=CH2 )、2.40、2.62(-CH2 CH3 )、2.0(-OH)、1.12、3.83(-OCH2 CH3 )。
[合成例5]
除了以二烯丙基胺(由Aldrich提供)取代合成例1中的N-甲基烯丙基胺(由Aldrich提供)之外，合成例5係與合成例1相同。因此，可獲得如下述式9所示之化合物。
係透過1 H-NMR鑑定該結構：5.17、5.15、5.83(-CH=CH2 )、2.0(-OH)、3.55(-OCH3 )。
[合成例6]
除了以3-缩水甘油醚氧基丙基三乙氧基矽烷(3-glycidoxypropyltriethoxysilane，KBE-403，由Shinetsu製造)取代合成例1中的3-缩水甘油基氧丙基三甲氧基矽烷之外(KBM-403，由Shinetsu製造)，合成例6係類似於合成例5。因此，該化合物如下述式10所示。
係透過1 H-NMR鑑定該結構：5.17、5.15、5.83(-CH=CH2 )、2.0(-OH)、1.22、3.83(-OCH2 CH3 )。
[實施例1]
下述所製備的光敏組成物係為了確認本發明之效果。添加由該鹼可溶性樹脂所構成之8重量份之黏結劑BzMA/MAA(莫耳比：70/30，Mw：24,000)、16重量份之二季戊四醇六丙烯酸酯作為該交聯化合物、1重量份Ciba-Geigy所製造之Irgacure 369(2-芐基-2-二甲基氨基-1-(4-嗎啉基苯基)-丁烷-1-酮)作為光聚合起始劑、0.01重量份(基於固體總重為0.05重量百分比)之合成例1化合物、 及PGMEA作為有機溶劑，使得總含量為100重量份，並且使用攪拌機混和3小時並以5微米之濾紙過濾以獲得該溶液。
在透過如旋塗、狹縫塗佈、浸塗或刮塗之方法塗佈該光敏組成物以形成一均勻薄膜後，再藉由執行100℃預烤製程200秒蒸發溶劑。該乾燥薄膜厚度約為2.5微米。
將該膜暴露在高壓水銀燈下，透過使用一獨立圖案類型光罩，其中係於5至20微米內以每一微米構成一直徑，當該圖案保持在一於30℃下具有pH為11.3至11.7的KOH鹼性水溶液中時，藉由一旋塗法顯影，以純水清洗，並以吹氣法乾燥。在透過光學顯微鏡觀察圖案後，基於該光罩直徑，評估保留圖案之最小尺寸。
以下將描述測量該組成物之儲存穩定性。首先，測量該初始組成物之黏度，於一密封罐中保存該組成物，並置於一維持45℃之烘箱24小時，然後再測量其黏度。藉由除以初始測量黏度所獲得黏度增加程度之值係以%呈現並比較。
[實施例2]
除了所使用之合成例1化合物含量以0.25重量份(基於固體總重為1重量百分比)取代於實施例1中之0.01重量份(基於固體總重為0.05重量百分比)之外，實施例2係與實施例1相同。
[實施例3]
除了所使用之合成例1化合物含量以1.32重量份(基於固體總重為5重量百分比)取代於實施例1中之0.01重量份(基於固體總重為0.05重量百分比)之外，實施例3係與實施例1相同。
[實施例4]
除了所使用之合成例1化合物含量以2.78重量份(基於固體總重為10重量百分比)取代於實施例1中之0.01重量份(基於固體總重為0.05重量百分比)之外，實施例4係與實施例1相同。
[實施例5至8]
除了以合成例2之化合物取代於實施例1至4中的合成例1化合物之外，實施例5至8係各自獨立與實施例1至4相同。
[實施例9至12]
除了以合成例3之化合物取代於實施例1至4中的合成例1化合物之外，實施例9至12係各自獨立與實施例1至4相同。
[實施例13至16]
除了以合成例4之化合物取代於實施例1至4中的合成例1化合物之外，實施例13至16係各自獨立與實施例1至4相同。
[實施例17至20]
除了以合成例5之化合物取代於實施例1至4中的合成例1化合物之外，實施例17至20係各自獨立與實施例1至4相同。
[實施例21至24]
除了以合成例6之化合物取代於實施例1至4中的合成例1化合物之外，實施例21至24係各自獨立與實施例1至4相同。
[比較例1至4]
除了以由Shinetsu公司所製造之3-缩水甘油基氧丙基三甲氧基矽烷(3-glycidoxypropyltrimethoxysilane，KBM-403)取代於實施例1至4中的合成例1化合物之外，比較例1至4係各自獨立與實施例1至4類似。
[比較例5至8]
除了以由Shinetsu公司所製造之3-缩水甘油醚氧基丙基三乙氧基矽烷(3-glycidoxypropyltriethoxysilane，KBE-403)取代於實施例1至4中的合成例1化合物之外，比較例5至8係各自獨立與實施例1至4相同。
[比較例9至12]
除了以由Shinetsu公司所製造之3-丙烯氧基丙基三甲氧基矽烷(3-acryloxypropyltrimethoxysilane，KBM-5103)取代於實施例1至4中的合成例1化合物之外，比較例9至12係各自獨立與實施例1至4相同。
[比較例13至16]
除了以由Shinetsu公司所製造之3-甲基丙烯氧基丙基三甲氧基矽烷(3-methacryloxypropyltrimethoxysilane，KBM-503)取代於實施例1至4中的合成例1化合物之外，比較例13至16係各自獨立與實施例1至4相同。
[比較例17至20]
除了以由Shinetsu公司所製造之乙烯基三甲氧基矽烷(vinyltrimethoxysilane，KBM-1003)取代於實施例1至4中的合成例1化合物之外，比較例17至20係各自獨立與實施例1至4相同。
[比較例21至24]
除了以由Shinetsu公司所製造之3-氨基丙基三乙氧基矽烷(3-aminopropyltriethoxysilane，KBE-903)取代於實施例1至4中的合成例1化合物之外，比較例21至24係各自獨立與實施例1至4相同。
[比較例25]
除了不使用於實施例1中之合成例1之化合物之外，比較例25係與實施例1相同。
該些實施例及比較例之實驗結果係描述於表1。
如實驗結果所示，可發現若使用本發明之新穎耦合劑，其係由合成例1至6所獲得之式5至10之化合物，相較於使用一般習知耦合劑(3-缩水甘油基氧丙基三甲氧基矽烷或3-缩水甘油醚氧基丙基三乙氧基矽烷)的情況，可提高圖案
如實驗結果所示，可發現若使用本發明之新穎耦合劑，其係由合成例1至6所獲得之式5至10之化合物，相較於使用一般習知耦合劑(3-缩水甘油基氧丙基三甲氧基矽烷或3-缩水甘油醚氧基丙基三乙氧基矽烷)的情況，可提高圖案之黏著強度，據此，既使是較小的圖案仍可保留。於前述表中，X係指無圖案。
然而，在基於固體之所使用含量高於5重量百分比的情況下，黏度變化量往往於發生高於3重量百分比的情況，從而增加影響產品安全的可能性。因此，在使用本發明新穎耦合劑的情況下，基於固體總重，所塗佈之耦合劑含量較佳為0.05至5重量百分比。

Claims (13)

  1. 一種光敏組成物，包括：一耦合劑，包括一或以上如以下式2或3所示之化合物；一黏結劑樹脂，包括一鹼可溶性聚合物樹脂；一交聯化合物，包括二或以上乙烯性不飽和基；一光聚合起始劑；以及一溶劑； 其中，L1 及L2 係各自獨立為氫或以C1 至C6 烷基取代或未取代之C3 至C8 亞烷基；R1 至R3 及R7 至R9 係各自獨立為C1 至C3 烷氧基；R4 係為C1 至C3 烷基；R5 、R10 及R11 係各自獨立為氫或C1 至C3 烷基；以及 R6 及R12 係為氫或C1 至C8 烷基。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之光敏組成物，其中，式2係選自於以下式5至式8所組成之群組之任一者：
  3. 如申請專利範圍第1項所述之光敏組成物，其中，基於該光敏組成物之總重，該耦合劑之含量係為0.01至1.32重量百分比。
  4. 如申請專利範圍第1項所述之光敏組成物，其中，基於一固體總重，該耦合劑之含量係為0.05至5重量百分比。
  5. 如申請專利範圍第1項所述之光敏組成物，其中，基於該光敏組成物之總重，該黏結劑樹脂之含量係為1至20重量百分比。
  6. 如申請專利範圍第1項所述之光敏組成物，其中，基於該光敏組成物之總重，該交聯化合物之含量係為1至30重量百分比。
  7. 如申請專利範圍第1項所述之光敏組成物，其中，基於該光敏組成物之總重，該光聚合起始劑之含量係為0.1至5重量百分比。
  8. 如申請專利範圍第1項所述之光敏組成物，其中，基於該光敏組成物之總重，該溶劑之含量係為45至95重量百分比。
  9. 如申請專利範圍第1項所述之光敏組成物，更包括：一著色劑，且基於該光敏組成物總重，該著色劑之含量係為1至20重量百分比。
  10. 如申請專利範圍第1項所述之光敏組成物，更包括：一添加劑，且基於該光敏組成物總重，該添加劑之含量係為0.01至5重量百分比。
  11. 如申請專利範圍第10項所述之光敏組成物，其中，該添加劑係為一或二或以上選自由一硬化加速劑、一熱聚合抑制劑、一界面活性劑、一分散劑、一抗氧化劑、一紫外線吸收劑、一調平劑、一光感劑、一塑化劑、一黏著促進劑、一填充劑、及一助黏劑所組成之群組。
  12. 一種光敏感材料，係使用如申請專利範圍第1項所述之光敏組成物所製備。
  13. 如申請專利範圍第12項所述之光敏感材料，其中，該光敏感材料係選自由：一用於製造薄膜電晶體液晶顯示器彩色濾光片的顏料分散型光敏感材料、一用以形成薄膜電晶體液晶顯示器或有機發光二極體之黑色矩陣之光敏感材料、一用於形成保護層之光敏感材料、一柱狀間隔件之光敏感材料、以及一用於印刷電路板之光敏感材料所組成之群組。
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Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102092438B1 (ko) * 2016-07-26 2020-03-23 주식회사 엘지화학 감광성 수지 조성물 및 이를 포함하는 컬러필터
CN109762131B (zh) * 2018-12-29 2020-07-24 厦门大学 一种硅氧烷封端剂及其制备方法和应用该封端剂的光湿双固化聚氨酯压敏胶

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08269071A (ja) * 1995-03-31 1996-10-15 Nitto Boseki Co Ltd シランカップリング剤及びその製造方法
TW200823576A (en) * 2006-11-17 2008-06-01 Cheil Ind Inc Photosensitive resin composition for forming column spacers of liquid crystal display device, method for forming column spacers of liquid crystal display device using the composition, column spacers formed by the method, and display device comprising the

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6172077A (ja) * 1984-09-14 1986-04-14 Shin Etsu Chem Co Ltd 接着促進剤
JP3692197B2 (ja) * 1996-12-27 2005-09-07 日立化成工業株式会社 感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性エレメント
JPH10301272A (ja) * 1997-04-30 1998-11-13 Toyo Gosei Kogyo Kk 感光性組成物及びパターン形成方法
CN101017324A (zh) * 2003-03-12 2007-08-15 三菱化学株式会社 光敏组合物、光敏着色组合物、滤色器和液晶显示设备
SG135954A1 (en) * 2003-04-07 2007-10-29 Toray Industries Positive-type photosensitive resin composition
JP2006052321A (ja) * 2004-08-12 2006-02-23 Konishi Co Ltd 新規ビニルシラン化合物、それを用いた硬化性樹脂、及び、それを用いた硬化性樹脂組成物
KR100655047B1 (ko) * 2005-12-30 2006-12-06 제일모직주식회사 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 블랙매트릭스
JP5362696B2 (ja) * 2009-12-22 2013-12-11 エルジー・ケム・リミテッド 多官能アクリル化合物及びそれを含む感光性組成物
JP5420527B2 (ja) * 2009-12-22 2014-02-19 エルジー・ケム・リミテッド 架橋性化合物及びそれを含む感光性組成物

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08269071A (ja) * 1995-03-31 1996-10-15 Nitto Boseki Co Ltd シランカップリング剤及びその製造方法
TW200823576A (en) * 2006-11-17 2008-06-01 Cheil Ind Inc Photosensitive resin composition for forming column spacers of liquid crystal display device, method for forming column spacers of liquid crystal display device using the composition, column spacers formed by the method, and display device comprising the

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