TWI480406B - 鍍膜設備及輸送模組 - Google Patents

Description

鍍膜設備及輸送模組

本發明是有關於一種加工設備及其輸送模組，且特別是有關於一種鍍膜設備及其輸送模組。

真空濺鍍設備在半導體相關產業中已獲得廣泛的應用，舉例來說，觸控顯示面板中的透明導電薄膜可利用真空濺鍍設備來製作。詳細而言，真空濺鍍是屬於物理氣相沉積(PVD)技術的一種，普遍應用於半導體製程之成膜程序中，其在真空腔體內之濺鍍靶源的陰、陽電極之間施加高電壓以將惰性氣體(如氬氣)高溫離子化成電漿(plasma)，而電漿中的離子會轟擊濺鍍靶材，使得濺鍍靶材的原子或分子濺飛出並沉積、附著於工件表面上以形成薄膜。

以圓柱狀工件而言，若欲在工件的圓柱面上進行完整的濺鍍，則需在濺鍍過程中讓工件持續地轉動，以使所述圓柱面能夠隨著工件的轉動而完整地被濺鍍。一種習知的操作方式為將工件固定於旋轉治具(如轉盤)上並驅動治具旋轉以帶動工件轉動。然而，此種操作方式需依工件尺寸的不同而設置各種規格的旋轉治 具，以人工方式將多個工件分別固定至旋轉治具，並於濺鍍完成後以人工方式分別將多個工件從旋轉治具卸除，故較為費工費時而增加了製程成本。此外，若所述圓柱狀工件為不易被治具所夾持的大量小尺寸工件，則更為增加製程進行的困難度。

本發明提供一種鍍膜設備及輸送模組，可便利地帶動工件轉動而使工件完整地被鍍膜。

本發明的輸送模組包括一基座、多個第一輸送件及多個第二輸送件。這些第一輸送件固定於基座且沿一第一方向依序排列。各第一輸送件具有一第一斜面。這些第二輸送件可動地配置於基座且沿第一方向依序排列。各第二輸送件具有一第二斜面。這些第二斜面分別對應於這些第一斜面。當這些第二輸送件位於一第一位置時，一工件適於被承載於這些第一斜面的其中任一。當這些第二輸送件沿一第二方向從第一位置移動至一第二位置時，工件被對應之第二斜面推離對應之第一斜面並沿對應之第二斜面往相鄰的另一第一斜面滾動。當這些第二輸送件沿反向於第二方向的一第三方向從第二位置移動至第一位置時，工件沿所述另一第一斜面滾動並被承載於所述另一第一斜面。

在本發明的一實施例中，上述的第一方向垂直於第二方向。

在本發明的一實施例中，上述的第三方向為重力方向。

在本發明的一實施例中，上述的各第一斜面高於一基準平面，當這些第二輸送件位於第一位置時，各第二斜面低於基準平面，當這些第二輸送件位於第二位置時，各第二斜面不低於各第一斜面。

在本發明的一實施例中，上述的相鄰的兩第一輸送件之間的最短距離小於工件的一外徑。

在本發明的一實施例中，上述的各第一輸送件更具有一止擋面，各第一輸送件的第一斜面朝向相鄰的另一第一輸送件的止擋面，當這些第二輸送件位於第一位置時，工件適於被定位於這些第一斜面的其中任一與另一第一輸送件的止擋面之間。

在本發明的一實施例中，當這些第二輸送件移動至第二位置時，工件越過另一第一輸送件的止擋面並到達另一第一輸送件的第一斜面。

在本發明的一實施例中，上述的各第一斜面平行於各第二斜面。

在本發明的一實施例中，當這些第二輸送件位於第一位置與第二位置之間時，沿一第四方向觀察，這些第一輸送件與這些第二輸送件部分地重疊，第四方向垂直於第一方向且垂直於第二方向。

本發明的鍍膜設備包括上述輸送模組及一靶源。靶源配置於基座上方且適於對工件進行鍍膜。

基於上述，在本發明的輸送模組中，這些第二輸送件能 夠相對於這些第一輸送件移動，而藉由第二輸送件的第二斜面將對應之第一輸送件的第一斜面上的工件推往另一第一輸送件的第一斜面，以帶動工件沿第一輸送件的排列方向被輸送。在工件如上述般被輸送的過程中，工件會沿這些第一斜面及這些第二斜面進行滾動，以使工件的表面能夠隨著工件的轉動而完整地被鍍膜。據此，不需如習知操作方式般以人工方式將多個工件分別固定至旋轉治具，就能夠帶動工件轉動而完整地對工件進行鍍膜，藉以使鍍膜製程的進行更為便利並節省製程成本。

為讓本發明的上述特徵和優點能更明顯易懂，下文特舉實施例，並配合所附圖式作詳細說明如下。

50‧‧‧鍍膜設備

60‧‧‧工件

100‧‧‧輸送模組

110‧‧‧基座

120a、120b、120c‧‧‧第一輸送件

122a、122b、122c‧‧‧第一斜面

124b、124c‧‧‧止擋面

130a、130b‧‧‧第二輸送件

132a、132b‧‧‧第二斜面

200‧‧‧靶源

A1、A2‧‧‧夾角

D1‧‧‧第一方向

D2‧‧‧第二方向

D3‧‧‧第三方向

D4‧‧‧第四方向

d1‧‧‧外徑

d2‧‧‧距離

P1‧‧‧第一位置

P2‧‧‧第二位置

S‧‧‧基準面

圖1是本發明一實施例的鍍膜設備的側視示意圖。

圖2是圖1的鍍膜設備的部分構件立體示意圖。

圖3A至圖3C是圖1的輸送模組的作動流程圖。

圖1是本發明一實施例的鍍膜設備的側視示意圖。圖2是圖1的鍍膜設備的部分構件立體示意圖。為使圖式較為清楚，圖2未繪示出圖1的基座110及靶源200。請參考圖1及圖2，本實施例的鍍膜設備50，例如為真空濺鍍設備，包括一輸送模組100 及一靶源200。輸送模組100包括一基座110、多個第一輸送件(繪示出三組第一輸送件，分別標示為120a、120b、120c)及多個第二輸送件(繪示出兩組第一輸送件，分別標示為130a、130b)。

第一輸送件120a、120b、120c固定於基座110並沿一第一方向D1依序排列，且分別具有第一斜面122a、122b、122c，第一斜面122a、122b、122c皆高於基座110之基準面S。第二輸送件130a、130b可動地配置於基座110並沿第一方向D1依序排列，且分别具有第二斜面132a、132b。第二斜面132a對應於第一斜面122a，且第二斜面132b對應於第一斜面122b。第一輸送件120a、120b、120c及第二輸送件130a、130b的材質例如為不銹鋼或其它適當材料。靶源200配置於基座110上方且適於對工件60進行鍍膜。

圖3A至圖3C是圖1的輸送模組的作動流程圖。當第二輸送件130a、130b如圖1所示位於第一位置P1時，第二斜面132a、132b低於基準平面S，且工件60適於被承載於第一斜面122a、122b、122c的其中任一(圖1及圖2繪示為工件60承載於第一輸送件120a的第一斜面122a)，其中工件60例如為圓柱狀工件。當第二輸送件130a、130b如圖3A所示沿垂直於第一方向D1的第二方向D2從第一位置P1往上移動，並如圖3B所示移動至第二位置P2時，第二斜面130a、130b不低於第一斜面122a、122b、122c，且工件60被對應之第二斜面132a推離第一斜面122a並沿第二斜面132a往相鄰的另一第一斜面122b滾動。當第二輸送件130a、 130b如圖3C所示沿反向於第二方向D2的第三方向D3(即重力方向)從第二位置P2移動至第一位置P1時，工件60沿所述另一第一斜面122b滾動並被承載於第一斜面122b。

類似於上述作動方式，第二輸送件130a、130b可從圖3C所示的第一位置P1再次向上移動至第二位置P2，而將工件60推離第一斜面122b並使工件60往第一斜面122c滾動，並接著復位至第一位置P1而使工件60繼續沿第一斜面122c滾動。在工件60沿第一斜面122a、122b、122c或第二斜面130a、130b移動的過程中，工件60除了進行滾動之外亦可能在滾動的同時進行滑動，本發明不對此加以限制。

在上述配置方式之下，第二輸送件130a、130b能夠相對於第一輸送件120a、120b、120c移動，而藉由第二輸送件130a的第二斜面132a將第一輸送件120a的第一斜面122a上的工件60推往第一輸送件120b的第一斜面122b，並藉由第二輸送件130b的第二斜面132b將第一輸送件120b的第一斜面122b上的工件60推往第一輸送件120c的第一斜面122c，以帶動工件60沿第一輸送件120a、120b、120c的排列方向(即上述第一方向D1)被輸送。在工件60如上述般被輸送的過程中，工件60會沿第一斜面122a、122b、122c及第二斜面132a、132b進行滾動，以使靶源200能夠隨著工件60的轉動而完整地對工件60的表面進行鍍膜。據此，不需如習知操作方式般以人工方式將工件固定至旋轉治具，就能夠帶動工件轉動而完整地對工件進行鍍膜，藉以使鍍膜製程的進 行更為便利並節省製程成本。

本實施例所繪示第一輸送件及第二輸送件的數量僅為示意，輸送模組可具有更多數量的第一輸送件及第二輸送件，並藉由驅動第二輸送件持續往復地移動於第一位置P1與第二位置P2之間，而如上述作動方式般帶動工件60沿第一方向D1依序到達各個第一輸送件的第一斜面。在本實施例中，例如是藉由馬達帶動連桿機構、凸輪或其它適當形式的驅動單元來驅動第二輸送件移動於第一位置P1與第二位置P2之間，本發明不對此加以限制。此外，本實施例僅繪示對一個工件60進行輸送及鍍膜，然本發明不以此為限，可利用輸送模組100同時輸送多個工件，使多個工件依序沿第一方向D1移動並滾動以進行鍍膜。

請參考圖1，在本實施例中，相鄰的兩第一輸送件120a、120b之間的最短距離d2小於工件60的外徑d1，以避免工件60透過兩第一輸送件120a、120b之間的間隙而往下掉落。詳細而言，第一輸送件120b、120c分別具有止擋面124b、124c，第一輸送件120a的第一斜面122a朝向相鄰的另一第一輸送件120b的止擋面124b，且第一輸送件120b的第一斜面122b朝向相鄰的另一第一輸送件120c的止擋面124c。當第二輸送件130a、130b如圖1所示位於第一位置P1時，工件60適於被定位於第一輸送件120a的第一斜面122a與第一輸送件120a的止擋面124b之間。接著，當第二輸送件130a、130b如圖3B所示移動至第二位置P2時，工件60會越過第一輸送件120b的止擋面124b並到達第一輸送件120b 的第一斜面122b。類似地，當第二輸送件130a、130b如圖3C所示位於第一位置P1時，工件60適於被定位於第一輸送件120b的第一斜面122b與第一輸送件120c的止擋面124c之間。接著，當第二輸送件130a、130b再次移動至第二位置P2時，工件60會越過第一輸送件120c的止擋面124c並往第一輸送件120c的第一斜面122c移動。

在本實施例中，第一斜面122a、122b、122c例如平行於第二斜面132a、132b。藉此，當第二輸送件130a、130b如圖3B所示位於第二位置P2時，工件60可順暢地從第二斜面132a滾動至第一斜面122b(或順暢地從第二斜面132b滾動至第一斜面122c)。此外，本實施例的第一斜面122a、122b、122c與第一方向D1之間的夾角A1以及第二斜面132a、132b與第一方向D1之間的夾角A2例如皆為45度，以在第一斜面及第二斜面的延伸長度固定的情況下，避免第一斜面及第二斜面太過傾斜而使輸送模組100沿第二方向D2的高度過大，或避免第一斜面及第二斜面不夠傾斜而使輸送模組100沿第一方向D1的長度過大。此外，如上述般將第一斜面122a、122b、122c及第二斜面132a、132b的傾角設計為45度，亦可避免第一斜面及第二斜面過於傾斜而使工件60沿第一斜面或第二斜面移動時產生過多的滑動量，確保工件60具有足夠的滾動量。在其它實施例中，可依需求將第一斜面122a、122b、122c及第二斜面132a、132b設計為具有其它適當傾角，本發明不對此加以限制。

在本實施例中，當第二輸送件130a、130b作動於圖1所示的第一位置P1與圖3B所示的第二位置P2之間時，沿垂直於第一方向D1及第二方向D2的一第四方向D4觀察，第一輸送件120a、120b、120c與第二輸送件130a、130b部分地重疊，以確保工件60能夠藉由第二輸送件130a、130b的作動而順暢地沿第一方向D1被輸送。

綜上所述，在本發明的輸送模組中，第二輸送件能夠相對於第一輸送件移動，而藉由第二輸送件的第二斜面將對應之第一輸送件的第一斜面上的工件推往另一第一輸送件的第一斜面，以帶動工件沿第一輸送件的排列方向被輸送。在工件如上述般被輸送的過程中，工件會沿這些第一斜面及這些第二斜面進行滾動，以使靶源能夠隨著工件的轉動而完整地對工件的表面進行鍍膜。據此，不需如習知操作方式般設置各種規格的旋轉治具並以人工方式將多個工件分別固定至旋轉治具，就能夠帶動工件轉動而完整地對工件進行鍍膜，藉以使鍍膜製程的進行更為便利並節省製程成本。

雖然本發明已以實施例揭露如上，然其並非用以限定本發明，任何所屬技術領域中具有通常知識者，在不脫離本發明的精神和範圍內，當可作些許的更動與潤飾，故本發明的保護範圍當視後附的申請專利範圍所界定者為準。

50‧‧‧鍍膜設備

60‧‧‧工件

100‧‧‧輸送模組

110‧‧‧基座

120a、120b、120c‧‧‧第一輸送件

122a、122b、122c‧‧‧第一斜面

124b、124c‧‧‧止擋面

130a、130b‧‧‧第二輸送件

132a、132b‧‧‧第二斜面

200‧‧‧靶源

A1、A2‧‧‧夾角

D1‧‧‧第一方向

D2‧‧‧第二方向

D3‧‧‧第三方向

D4‧‧‧第四方向

d1‧‧‧外徑

d2‧‧‧距離

P1‧‧‧第一位置

S‧‧‧基準面

Claims (10)

1. 一種輸送模組，包括：一基座；多個第一輸送件，固定於該基座且沿一第一方向依序排列，其中各該第一輸送件具有一第一斜面；以及多個第二輸送件，可動地配置於該基座且沿該第一方向依序排列，其中各該第二輸送件具有一第二斜面，該些第二斜面分別對應於該些第一斜面，當該些第二輸送件位於一第一位置時，一工件適於被承載於該些第一斜面的其中任一，當該些第二輸送件沿一第二方向從該第一位置移動至一第二位置時，該工件被該對應之第二斜面推離該對應之第一斜面並沿該對應之第二斜面往相鄰的另一該第一斜面滾動，當該些第二輸送件沿反向於該第二方向的一第三方向從該第二位置移動至該第一位置時，該工件沿該另一第一斜面滾動並被承載於該另一第一斜面。
2. 如申請專利範圍第1項所述的輸送模組，其中該第一方向垂直於該第二方向。
3. 如申請專利範圍第1項所述的輸送模組，其中該第三方向為重力方向。
4. 如申請專利範圍第1項所述的輸送模組，其中各該第一斜面高於一基準平面，當該些第二輸送件位於該第一位置時，各該第二斜面低於該基準平面，當該些第二輸送件位於該第二位置時，各該第二斜面不低於各該第一斜面。
5. 如申請專利範圍第1項所述的輸送模組，其中相鄰的兩該第一輸送件之間的最短距離小於該工件的一外徑。
6. 如申請專利範圍第1項所述的輸送模組，其中各該第一輸送件更具有一止擋面，各該第一輸送件的該第一斜面朝向相鄰的另一該第一輸送件的該止擋面，當該些第二輸送件位於該第一位置時，該工件適於被定位於該些第一斜面的其中任一與該另一第一輸送件的該止擋面之間。
7. 如申請專利範圍第6項所述的輸送模組，其中當該些第二輸送件移動至該第二位置時，該工件越過該另一第一輸送件的該止擋面並到達該另一第一輸送件的該第一斜面。
8. 如申請專利範圍第1項所述的輸送模組，其中各該第一斜面平行於各該第二斜面。
9. 如申請專利範圍第1項所述的輸送模組，其中當該些第二輸送件位於該第一位置與該第二位置之間時，沿一第四方向觀察，該些第一輸送件與該些第二輸送件部分地重疊，該第四方向垂直於該第一方向且垂直於該第二方向。
10. 一種鍍膜設備，包括：如申請專利範圍第1項至第9項任一之輸送模組；以及一靶源，配置於該基座上方且適於對該工件進行鍍膜。