CN104694886B - 镀膜设备及输送模块 - Google Patents

Abstract

一种镀膜设备及输送模块，镀膜设备包括输送模块及靶源。输送模块包括基座、多个第一输送件及多个第二输送件。各第一输送件固定于基座且具有第一斜面。各第二输送件可动地配置于基座且具有第二斜面。第二斜面分别对应于第一斜面。当第二输送件位于第一位置时，工件适于被承载于第一斜面的其中任一。当第二输送件从第一位置移动至第二位置时，工件被第二斜面推离第一斜面并沿第二斜面往相邻的另一第一斜面滚动。当第二输送件从第二位置移动至第一位置时，工件沿所述另一第一斜面滚动并被承载于所述另一第一斜面。靶源适于对工件进行镀膜。

Description

镀膜设备及输送模块

技术领域

本发明是有关于一种加工设备及其输送模组，且特别是有关于一种镀膜设备及输送模块。

背景技术

真空溅镀设备在半导体相关产业中已获得广泛的应用，举例来说，触控显示面板中的透明导电薄膜可利用真空溅镀设备来制作。详细而言，真空溅镀是属于物理气相沉积(PVD)技术的一种，普遍应用于半导体处理的成膜程序中，其在真空腔体内的溅镀靶源的阴、阳电极之间施加高电压以将惰性气体(如氩气)高温离子化成电浆(plasma)，而电浆中的离子会轰击溅镀靶材，使得溅镀靶材的原子或分子溅飞出并沉积、附着于工件表面上以形成薄膜。

以圆柱状工件而言，若欲在工件的圆柱面上进行完整的溅镀，则需在溅镀过程中让工件持续地转动，以使所述圆柱面能够随着工件的转动而完整地被溅镀。一种现有的操作方式为将工件固定于旋转治具(如转盘)上并驱动治具旋转以带动工件转动。然而，此种操作方式需依工件尺寸的不同而设置各种规格的旋转治具，以人工方式将多个工件分别固定至旋转治具，并在溅镀完成后以人工方式分别将多个工件从旋转治具卸除，故较为费工费时而增加了处理成本。此外，若所述圆柱状工件为不易被治具所夹持的大量小尺寸工件，则更为增加处理进行的困难度。

发明内容

本发明提供一种镀膜设备及输送模块，可便利地带动工件转动而使工件完整地被镀膜。

本发明的输送模块包括基座、多个第一输送件及多个第二输送件。这些第一输送件固定于基座且沿第一方向依序排列。各第一输送件具有第一斜面。这些第二输送件可动地配置于基座且沿第一方向依序排列。各第二输送件具有第二斜面。这些第二斜面分别对应于这些第一斜面。当这些第二输送件位于第一位置时，工件适于被承载于在这些第一斜面的其中任一。当这些第二输送件沿第二方向从第一位置移动至第二位置时，工件被对应的第二斜面推离对应的第一斜面并沿对应的第二斜面往相邻的另一第一斜面滚动。当这些第二输送件沿第三方向从第二位置移动至第一位置时，工件沿所述另一第一斜面滚动并被承载于所述另一第一斜面，第三方向反向于第二方向。

在本发明的一实施例中，上述的第一方向垂直于第二方向。

在本发明的一实施例中，上述的第三方向为重力方向。

在本发明的一实施例中，上述的各第一斜面高于基准平面，当这些第二输送件位于第一位置时，各第二斜面低于基准平面，当这些第二输送件位于第二位置时，各第二斜面不低于各第一斜面。

在本发明的一实施例中，上述的相邻的两第一输送件之间的最短距离小于工件的外径。

在本发明的一实施例中，上述的各第一输送件还具有止挡面，各第一输送件的第一斜面朝向相邻的另一第一输送件的止挡面，当这些第二输送件位于第一位置时，工件适于被定位于这些第一斜面的其中任一与另一第一输送件的止挡面之间。

在本发明的一实施例中，当这些第二输送件移动至第二位置时，工件越过另一第一输送件的止挡面并到达另一第一输送件的第一斜面。

在本发明的一实施例中，上述的各第一斜面平行于各第二斜面。

在本发明的一实施例中，当这些第二输送件位于第一位置与第二位置之间时，沿第四方向观察，这些第一输送件与这些第二输送件部分地重叠，第四方向垂直于第一方向且垂直于第二方向。

本发明的镀膜设备包括上述输送模块及靶源。靶源配置于基座上方且适于对工件进行镀膜。

基于上述，在本发明的输送模块中，这些第二输送件能够相对于这些第一输送件移动，而通过第二输送件的第二斜面将对应的第一输送件的第一斜面上的工件推往另一第一输送件的第一斜面，以带动工件沿第一输送件的排列方向被输送。在工件如上述般被输送的过程中，工件会沿这些第一斜面及这些第二斜面进行滚动，以使工件的表面能够随着工件的转动而完整地被镀膜。据此，不需如现有操作方式般以人工方式将多个工件分别固定至旋转治具，就能够带动工件转动而完整地对工件进行镀膜，藉以使镀膜处理的进行更为便利并节省处理成本。

为让本发明的上述特征和优点能更明显易懂，下文特举实施例，并配合所附附图作详细说明如下。

附图说明

图1是本发明一实施例的镀膜设备的侧视示意图；

图2是图1的镀膜设备的部分构件立体示意图；

图3A至图3C是图1的输送模块的运动流程图。

附图标记说明：

50：镀膜设备；

60：工件；

100：输送模块；

110：基座；

120a、120b、120c：第一输送件；

122a、122b、122c：第一斜面；

124b、124c：止挡面；

130a、130b：第二输送件；

132a、132b：第二斜面；

200：靶源；

A1、A2：夹角；

D1：第一方向；

D2：第二方向；

D3：第三方向；

D4：第四方向；

d1：外径；

d2：距离；

P1：第一位置；

P2：第二位置；

S：基准面。

具体实施方式

图1是本发明一实施例的镀膜设备的侧视示意图。图2是图1的镀膜设备的部分构件立体示意图。为使附图较为清楚，图2未示出图1的基座110及靶源200。请参考图1及图2，本实施例的镀膜设备50，例如为真空溅镀设备，包括输送模块100及靶源200。输送模块100包括基座110、多个第一输送件(示出三组第一输送件，分别标示为120a、120b、120c)及多个第二输送件(示出两组第一输送件，分别标示为130a、130b)。

第一输送件120a、120b、120c固定于基座110并沿第一方向D1依序排列，且分别具有第一斜面122a、122b、122c，第一斜面122a、122b、122c都高于基座110的基准面S。第二输送件130a、130b可动地配置于基座110并沿第一方向D1依序排列，且分别具有第二斜面132a、132b。第二斜面132a对应于第一斜面122a，且第二斜面132b对应于第一斜面122b。第一输送件120a、120b、120c及第二输送件130a、130b的材质例如为不锈钢或其它适当材料。靶源200配置于基座110上方且适于对工件60进行镀膜。

图3A至图3C是图1的输送模块的运动流程图。当第二输送件130a、130b如图1所示位于第一位置P1时，第二斜面132a、132b低于基准平面S，且工件60适于被承载于第一斜面122a、122b、122c的其中任一(图1及图2示出为工件60承载于第一输送件120a的第一斜面122a)，其中工件60例如为圆柱状工件。当第二输送件130a、130b如图3A所示沿垂直于第一方向D1的第二方向D2从第一位置P1往上移动，并如图3B所示移动至第二位置P2时，第二斜面132a、132b不低于第一斜面122a、122b、122c，且工件60被对应的第二斜面132a推离第一斜面122a并沿第二斜面132a往相邻的另一第一斜面122b滚动。当第二输送件130a、130b如图3C所示沿第三方向D3(即重力方向)从第二位置P2移动至第一位置P1时，工件60沿所述另一第一斜面122b滚动并被承载于第一斜面122b。第三方向D3反向于第二方向D2。

类似于上述运动方式，第二输送件130a、130b可从图3C所示的第一位置P1再次向上移动至第二位置P2，而将工件60推离第一斜面122b并使工件60往第一斜面122c滚动，并接着复位至第一位置P1而使工件60继续沿第一斜面122c滚动。在工件60沿第一斜面122a、122b、122c或第二斜面132a、132b移动的过程中，工件60除了进行滚动之外也可能在滚动的同时进行滑动，本发明不对此加以限制。

在上述配置方式之下，第二输送件130a、130b能够相对于第一输送件120a、120b、120c移动，而通过第二输送件130a的第二斜面132a将第一输送件120a的第一斜面122a上的工件60推往第一输送件120b的第一斜面122b，并通过第二输送件130b的第二斜面132b将第一输送件120b的第一斜面122b上的工件60推往第一输送件120c的第一斜面122c，以带动工件60沿第一输送件120a、120b、120c的排列方向(即上述第一方向D1)被输送。在工件60如上述般被输送的过程中，工件60会沿第一斜面122a、122b、122c及第二斜面132a、132b进行滚动，以使靶源200能够随着工件60的转动而完整地对工件60的表面进行镀膜。据此，不需如现有操作方式般以人工方式将工件固定至旋转治具，就能够带动工件转动而完整地对工件进行镀膜，藉以使镀膜处理的进行更为便利并节省处理成本。

本实施例所示出第一输送件及第二输送件的数量仅为示意，输送模块可具有更多数量的第一输送件及第二输送件，并通过驱动第二输送件持续往复地移动在第一位置P1与第二位置P2之间，而如上述运动方式般带动工件60沿第一方向D1依序到达各个第一输送件的第一斜面。在本实施例中，例如是通过马达带动连杆机构、凸轮或其它适当形式的驱动单元来驱动第二输送件移动在第一位置P1与第二位置P2之间，本发明不对此加以限制。此外，本实施例仅示出对一个工件60进行输送及镀膜，然本发明不以此为限，可利用输送模块100同时输送多个工件，使多个工件依序沿第一方向D1移动并滚动以进行镀膜。

请参考图1，在本实施例中，相邻的两第一输送件120a、120b之间的最短距离d2小于工件60的外径d1，以避免工件60通过两第一输送件120a、120b之间的间隙而往下掉落。详细而言，第一输送件120b、120c分别具有止挡面124b、124c，第一输送件120a的第一斜面122a朝向相邻的另一第一输送件120b的止挡面124b，且第一输送件120b的第一斜面122b朝向相邻的另一第一输送件120c的止挡面124c。当第二输送件130a、130b如图1所示位于第一位置P1时，工件60适于被定位于第一输送件120a的第一斜面122a与第一输送件120b的止挡面124b之间。接着，当第二输送件130a、130b如图3B所示移动至第二位置P2时，工件60会越过第一输送件120b的止挡面124b并到达第一输送件120b的第一斜面122b。类似地，当第二输送件130a、130b如图3C所示位于第一位置P1时，工件60适于被定位于第一输送件120b的第一斜面122b与第一输送件120c的止挡面124c之间。接着，当第二输送件130a、130b再次移动至第二位置P2时，工件60会越过第一输送件120c的止挡面124c并往第一输送件120c的第一斜面122c移动。

在本实施例中，第一斜面122a、122b、122c例如平行于第二斜面132a、132b。藉此，当第二输送件130a、130b如图3B所示位于第二位置P2时，工件60可顺畅地从第二斜面132a滚动至第一斜面122b(或顺畅地从第二斜面132b滚动至第一斜面122c)。此外，本实施例的第一斜面122a、122b、122c与第一方向D1之间的夹角A1以及第二斜面132a、132b与第一方向D1之间的夹角A2例如都为45度，以在第一斜面及第二斜面的延伸长度固定的情况下，避免第一斜面及第二斜面太过倾斜而使输送模块100沿第二方向D2的高度过大，或避免第一斜面及第二斜面不够倾斜而使输送模块100沿第一方向D1的长度过大。此外，如上述般将第一斜面122a、122b、122c及第二斜面132a、132b的倾角设计为45度，也可避免第一斜面及第二斜面过于倾斜而使工件60沿第一斜面或第二斜面移动时产生过多的滑动量，确保工件60具有足够的滚动量。在其它实施例中，可依需求将第一斜面122a、122b、122c及第二斜面132a、132b设计为具有其它适当倾角，本发明不对此加以限制。

在本实施例中，当第二输送件130a、130b运动于图1所示的第一位置P1与图3B所示的第二位置P2之间时，沿垂直于第一方向D1及第二方向D2的第四方向D4观察，第一输送件120a、120b、120c与第二输送件130a、130b部分地重叠，以确保工件60能够通过第二输送件130a、130b的运动而顺畅地沿第一方向D1被输送。

综上所述，在本发明的输送模块中，第二输送件能够相对于第一输送件移动，而通过第二输送件的第二斜面将对应的第一输送件的第一斜面上的工件推往另一第一输送件的第一斜面，以带动工件沿第一输送件的排列方向被输送。在工件如上述般被输送的过程中，工件会沿这些第一斜面及这些第二斜面进行滚动，以使靶源能够随着工件的转动而完整地对工件的表面进行镀膜。据此，不需如现有操作方式般设置各种规格的旋转治具并以人工方式将多个工件分别固定至旋转治具，就能够带动工件转动而完整地对工件进行镀膜，藉以使镀膜处理的进行更为便利并节省处理成本。

最后应说明的是：以上各实施例仅用以说明本发明的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述各实施例对本发明进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分或者全部技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例技术方案的范围。

Claims (10)

1.一种输送模块，其特征在于，包括：

基座；

多个第一输送件，固定于该基座且沿第一方向依序排列，其中各该第一输送件具有第一斜面；以及

多个第二输送件，可动地配置于该基座且沿该第一方向依序排列，其中各该第二输送件具有第二斜面，该些第二斜面分别对应于该些第一斜面，当该些第二输送件位于第一位置时，工件适于被承载于该些第一斜面的其中任一，当该些第二输送件沿第二方向从该第一位置移动至第二位置时，该工件被该对应的第二斜面推离该对应的第一斜面并沿该对应的第二斜面往相邻的另一该第一斜面滚动，当该些第二输送件沿第三方向从该第二位置移动至该第一位置时，该工件沿该另一第一斜面滚动并被承载于该另一第一斜面，该第三方向反向于该第二方向。

2.根据权利要求1所述的输送模块，其特征在于，该第一方向垂直于该第二方向。

3.根据权利要求1所述的输送模块，其特征在于，该第三方向为重力方向。

4.根据权利要求1所述的输送模块，其特征在于，各该第一斜面高于基准平面，当该些第二输送件位于该第一位置时，各该第二斜面低于该基准平面，当该些第二输送件位于该第二位置时，各该第二斜面不低于各该第一斜面。

5.根据权利要求1所述的输送模块，其特征在于，相邻的两该第一输送件之间的最短距离小于该工件的外径。

6.根据权利要求1所述的输送模块，其特征在于，各该第一输送件还具有止挡面，各该第一输送件的该第一斜面朝向相邻的另一该第一输送件的该止挡面，当该些第二输送件位于该第一位置时，该工件适于被定位于该些第一斜面的其中任一与该另一第一输送件的该止挡面之间。

7.根据权利要求6所述的输送模块，其特征在于，当该些第二输送件移动至该第二位置时，该工件越过该另一第一输送件的该止挡面并到达该另一第一输送件的该第一斜面。

8.根据权利要求1所述的输送模块，其特征在于，各该第一斜面平行于各该第二斜面。

9.根据权利要求1所述的输送模块，其特征在于，当该些第二输送件位于该第一位置与该第二位置之间时，沿第四方向观察，该些第一输送件与该些第二输送件部分地重叠，该第四方向垂直于该第一方向且垂直于该第二方向。

10.一种镀膜设备，其特征在于，包括：

如权利要求1～9任意一项所述的输送模块；以及

靶源，配置于该基座上方且适于对该工件进行镀膜。