TWI459495B - 基板處理裝置及基板搬送方法 - Google Patents

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Description

基板處理裝置及基板搬送方法
本發明係關於一種處理基板之基板處理裝置、及藉由上述基板處理裝置執行之基板搬送方法。作為處理及搬送之對象之基板中，例如包含：半導體晶圓、液晶顯示裝置用基板、電漿顯示器用基板、場發射顯示器(FED，Field Emission Display)用基板、光碟用基板、磁碟用基板、磁光碟用基板、光罩用基板、太陽電池用基板等。
半導體裝置或液晶顯示裝置等之製造步驟，係對半導體晶圓或液晶顯示裝置用玻璃基板等基板實施使用處理液之處理。逐片處理基板之單片式基板處理裝置揭示於例如美國專利申請公開案第2009/0252578 A1號(U.S.Patent Application Publication No.2009/0252578 A1)。
該基板處理裝置包括：載體保持部，其保持複數個載體；基板處理部，其處理基板；2個反轉單元，其係在載體保持部與基板處理部之間上下積層；分度機械手(indexer robot)，其係在各反轉單元與載體保持部之間搬送基板；及主搬送機械手，其係在各反轉單元與基板處理部之間搬送基板。各反轉單元係藉由使水平保持之基板圍繞水平軸線(旋轉軸線)旋轉180度，而使基板之表背反轉。分度機械手及主搬送機械手係可進入各反轉單元。
各反轉單元係包括水平保持基板之複數個基板保持部。於分度機械手一次搬送之基板之片數、與主搬送機械手一次搬送之基板之片數不同的情形時，個數為片數多者之2倍片數的基板保持部包含於各反轉單元中。又，於分度機械手一次搬送之基板之片數、與主搬送機械手一次搬送之基板片數相等的情形時，個數為各搬送機械手(分度機械手及主搬送機械手各自)一次搬送之基板之2倍片數的基板保持部包含於各反轉單元中。例如，於各搬送機械手一次搬送之基板片數為1之情形時，則2個基板保持部包含於各反轉單元中。進而，包含於各反轉單元之複數個基板保持部係夾著旋轉軸線對稱地配置。例如，於包含2個基板保持部之情形時，2個基板保持部夾著旋轉軸線上下對稱地配置。
於2個基板保持部包含於各反轉單元之情形時，當一面藉由一反轉單元而使基板之表背反轉，一面將複數片基板逐片地自載體保持部搬送至基板處理部時，重複進行例如以下之一系列動作。即，分度機械手將自載體搬出之基板搬入至一反轉單元之上側之基板保持部。其後，一反轉單元使2個基板保持部圍繞旋轉軸線旋轉180度。藉此，搬入有基板之上側基板保持部移動至旋轉軸線下側，而未搬入基板(空置)之下側基板保持部移動至旋轉軸線上側。主搬送機械手將藉由一反轉單元而使表背反轉之基板，自一反轉單元下側之基板保持部搬出。
同樣地，於2個基板保持部包含於各反轉單元之情形時，當一面藉由另一反轉單元而使基板之表背反轉，一面將複數片基板逐片地自基板處理部搬送至載體保持部時，重複進行例如以下之一系列動作。即，主搬送機械手將自基板處理部搬出之基板搬入至另一反轉單元上側之基板保持部。其後，另一反轉單元使2個基板保持部圍繞旋轉軸線旋轉180度。藉此，搬入有基板之上側之基板保持部移動至旋轉軸線下側，而未搬入基板(空置)之下側之基板保持部移動至旋轉軸線上側。分度機械手將藉由另一反轉單元而使表背反轉之基板自另一反轉單元之下側之基板保持部搬出。
較理想為，使基板處理裝置之產能率(每一單位時間內之基板之處理片數)增加。作為增加產能率之方法，例如考慮縮短基板之搬送時間。基板之搬送時間係例如藉由縮短分度機械手及主搬送機械手之待機時間而縮短。
如上述先前之基板處理裝置，若經由一反轉單元將複數片基板自載體搬送至基板處理部，則分度機械手可於利用主搬送機械手自一反轉單元搬出基板之前，將下一基板搬入至一反轉單元。藉此，便可縮短分度機械手之待機時間。
同樣地，如上所述，若經由另一反轉單元將複數片基板自基板處理部搬送至載體，則主搬送機械手可於利用分度機械手自另一反轉單元搬出基板之前，將下一基板搬入至另一反轉單元。藉此，便可縮短主搬送機械手之待機時間。
然而，上述先前之基板處理裝置中，各搬送機械手一次搬送之基板之2倍片數之基板保持部係包含於各反轉單元中。因此，隨著各搬送機械手一次搬送之基板之片數增加，各反轉單元將變得大型化。由於各反轉單元配置在基板處理裝置內之極其有限之空間內，故而較佳為小型。
因此，本發明之目的在於縮短搬送機械手之待機時間，並且抑制或者防止基板處理裝置之大型化。
本發明之一實施形態係提供一種包括第1保持部、第2保持部、n+m個(n為2以上之整數，m為小於n之正整數且為n之除數)基板保持部、旋轉機構、第1搬送機械手、第2搬送機械手、及控制單元之基板處理裝置。第1保持部用以保持基板。同樣地，第2保持部用以保持基板。n+m個基板保持部係構成為可在沿著預定之排列方向排列之狀態下分別保持基板。進而，n+m個基板保持部係構成為可以基板之表背進行反轉之方式共同地進行旋轉。旋轉機構係使基板之表背進行反轉，並且上述n+m個基板保持部以與旋轉前相反之順序沿上述排列方向排列，而使上述n+m個基板保持部進行旋轉。第1搬送機械手係用以搬送基板。同樣地，第2搬送機械手係用以搬送基板。
控制單元係執行如下步驟：第1搬入步驟，其藉由控制上述第1搬送機械手，而利用上述第1搬送機械手自上述第1保持部搬出n片基板，並同時地搬送該n片基板，將該n片基板搬入至自上述排列方向之一端起至第n個為止之n個上述基板保持部；反轉步驟，其係藉由控制上述旋轉機構，而於上述第1搬入步驟之後，利用上述旋轉機構，使基板之表背進行反轉，並且上述n+m個基板保持部以與旋轉前相反之順序沿上述排列方向排列，而使上述n+m個基板保持部進行旋轉；搬出步驟，其係藉由控制上述第2搬送機械手，而於上述反轉步驟之後，利用上述第2搬送機械手自位於上述排列方向之一端之基板起依序以m片為單位，將上述第1搬入步驟中搬入至上述n個基板保持部之n片基板搬出，且將該n片基板搬入至上述第2保持部；及第2搬入步驟，其係藉由控制上述第1搬送機械手，而於上述反轉步驟之後，利用上述第1搬送機械手自上述第1保持部搬出n片基板，並同時地搬送該n片基板，將該n片基板搬入至自上述排列方向之一端起至第n個為止之n個上述基板保持部。
根據該構成，經由基板保持部，在第1保持部與第2保持部之間搬送複數片基板。具體而言，由第1保持部保持之基板係藉由第1搬送機械手而搬送至基板保持部。而且，搬送至基板保持部之基板係藉由第2搬送機械手而搬送至第2保持部。另一方面，由第2保持部保持之基板係藉由第2搬送機械手而搬送至基板保持部。而且，搬送至基板保持部之基板係藉由第1搬送機械手而搬送至第1保持部。
控制單元係利用第1搬送機械手自第1保持部搬出n片基板。又，控制單元係利用第2搬送機械手自基板保持部搬出m片基板。n為2以上之整數，m為小於n之正整數且n之除數。基板保持部係設置為n+m個。n+m個基板保持部係沿著預定之排列方向排列。因此，n+m個基板保持部可在沿著排列方向排列之狀態下分別保持基板。進而，n+m個基板保持部可以基板之表背進行反轉之方式共同地進行旋轉。旋轉機構係以n+m個基板保持部以與旋轉前相反之順序沿排列方向排列，而使n+m個基板保持部進行旋轉。藉此，使由n+m個基板保持部保持之基板之表背進行反轉。
於一面使基板之表背進行反轉，一面在第1保持部與第2保持部之間搬送複數片基板之情形時，控制單元例如以下述方式控制第1搬送機械手等。
即，控制單元係藉由控制第1搬送機械手，而利用第1搬送機械手自第1保持部搬出n片基板，並同時地搬送該n片基板，將該n片基板搬入至自排列方向一端起至第n個為止之n個基板保持部(第1搬入步驟)。於第1搬入步驟實施之後，使基板分別被搬入排列方向一側之n個基板保持部，而基板不被搬入剩餘之m個基板保持部中。
控制單元係藉由控制旋轉機構，而於第1搬入步驟之後，利用旋轉機構，使基板之表背進行反轉，並且n+m個基板保持部以與旋轉前相反之順序沿排列方向排列，而使n+m個基板保持部進行旋轉(反轉步驟)。於反轉步驟實施之後，排列方向一側之n個基板保持部移動至排列方向之另一側。因此，於反轉步驟實施之後，基板不被搬入排列方向一側之m個基板保持部中，而使基板分別被搬入剩餘之n個基板保持部中。
控制單元係藉由控制第2搬送機械手，而於反轉步驟之後，利用第2搬送機械手，自位於排列方向之一端之基板起依序以m片為單位，將第1搬入步驟中搬入至n個基板保持部之n片基板搬出，且將該n片基板搬入至第2保持部(搬出步驟)。即，於反轉步驟實施之後，使n片基板被搬入排列方向另一側之n個基板保持部中。控制單元係利用第2搬送機械手將該n片基板中自位於排列方向一端之基板起至第m個為止之m片基板搬出。其後，控制單元利用第2搬送機械手搬出剩餘之(n-m)片基板中自位於排列方向一端之基板起至第m個為止之m片基板。控制單元以此方式重複地執行第2搬送機械手之m片基板搬出。由於m為小於n之正整數且為n之除數，因此，n片基板將自n個基板保持部中搬出。
另一方面，控制單元係藉由控制第1搬送機械手，而於反轉步驟之後，利用第1搬送機械手自第1保持部搬出n片基板，並同時地搬送該n片基板，將該n片基板搬入至自排列方向一端起至第n個為止之n個基板保持部中(第2搬入步驟)。於反轉步驟實施之後且第2搬送機械手自基板保持部搬出基板之前，基板未被搬入排列方向一側之m個基板保持部中，而使基板分別被搬入剩餘之n個基板保持部。亦即，由於基板被搬入在排列方向一側之n個基板保持部之任一個中，故而，控制單元於再次利用第1搬送機械手將n片基板搬入之前，執行1次或多次第2搬送機械手之m片基板搬出，從而使排列方向一側之n個基板保持部空置。
具體而言，假設n=2、m=1之情形。於該情形時，因n+m=3，故設置有3個基板保持部。因此，第1搬入步驟係將基板搬入至排列方向一側之2個(n個)基板保持部中。因此，於反轉步驟實施之後且利用第2搬送機械手進行基板之搬出之前，位於排列方向一端之1個(m個)基板保持部中未搬入基板，而使基板被搬入剩餘之2個(n個)基板保持部中。藉此，於第2搬送機械手最初搬出1片(m片)基板之後，自排列方向一端起至第2個(第m+m個)為止之2個(2m個)基板保持部中未搬入基板，而使基板被搬入剩餘之1個(n-m個)基板保持部中。即，於將由第1搬送機械手搬入所有之基板(n片基板)搬出之前，排列方向一側之2個(n個)基板保持部成為空置。因此，控制單元於第2搬送機械手之1片(m片)基板之搬出執行1次之後，利用第1搬送機械手將2片(n片)基板搬入至排列方向之一側之2個(n個)基板保持部(第2搬入步驟)。
繼而，假設n=3、m=1之情形。於該情形時，於反轉步驟實施之後且利用第2搬送機械手進行基板之搬出之前，基板不被搬入位於排列方向一端之1個(m個)基板保持部中，而使基板被搬入剩餘之3個(n個)基板保持部中。由該3個(n個)基板保持部保持之3片(n片)基板係藉由第2搬送機械手而自排列方向一側依次以1片(m片)為單位搬出。因此，於第2搬送機械手之1片(m片)基板之搬出實施2次之後，基板不被搬入自排列方向之一端起至第3個(第m+2m個)為止之3個(3m個)基板保持部中，而使基板被搬入剩餘之1個(n-2m個)基板保持部中。即，將由第1搬送機械手搬入之所有之基板(n片基板)搬出之前，排列方向一側之3個(n個)基板保持部成為空置。因此，控制單元係於第2搬送機械手之1片(m片)基板之搬出執行2次之後，利用第1搬送機械手將3片(n片)基板搬入至排列方向一側之3個(n個)基板保持部(第2搬入步驟)。
如此般，控制單元於由第1搬送機械手搬入之所有之基板搬出之前，使排列方向一側之n個基板保持部空置。因此，控制單元可於由第1搬送機械手搬入之所有基板搬出之前，再次利用第1搬送機械手將n片基板搬入至自排列方向之一端起至第n個為止之n個基板保持部。因此，控制單元可不必使第1搬送機械手待機至由第1搬送機械手搬入之所有基板搬出為止。藉此，可縮短第1搬送機械手之待機時間。又，基板保持部之個數係為n+m(m為小於n之正整數)，且少於第1搬送機械手一次搬送之基板之2倍片數(n片)(2n)。因此，與設置有個數為第1搬送機械手一次搬送之基板之2倍片數的基板保持部的情形相比，可抑制或防止基板處理裝置之大型化。
於本發明之上述一實施形態中，上述控制單元亦可構成為與上述搬出步驟並行地執行上述第2搬入步驟。於該情形時，與第2搬送機械手之基板搬出並行地實施第1搬送機械手之基板搬入。因此，與由第1搬送機械手搬入之所有之基板由第2搬送機械手搬出之後，實施第1搬送機械手之基板搬入情形相比，可縮短基板之搬送時間。藉此，可增加基板處理裝置之產能率。
又，於本發明之上述一實施形態中，上述控制單元可構成為於上述第1搬入步驟及第2搬入步驟之至少一步驟中，利用上述第1搬送機械手將n片基板分成多次地搬入至n個上述基板保持部，且上述控制單元亦可構成為於上述第1搬入步驟及第2搬入步驟之至少一步驟中，利用上述第1搬送機械手將n片基板分別同時地搬入至n個上述基板保持部。可藉由同時地搬送n片基板，而縮短基板之搬入時間。
又，於本發明之上述一實施形態中，n亦可為m乘以2所得之值。
於反轉步驟實施之後且第2搬送機械手之基板搬出實施之前(搬出步驟實施前)，基板不被搬入排列方向一側之m個基板保持部中，而使基板被搬入剩餘之n個基板保持部中。於搬出步驟中，由n個基板保持部保持之n片基板，係藉由第2搬送機械手而自位於排列方向之一端之基板起依序以m片為單位搬出。因此，若第2搬送機械手之基板搬出實施1次，則排列方向一側之(m+m)個基板保持部成為空置。亦即，由於m+m=2×m=n，故而，若第2搬送機械手之m片基板搬出實施1次，則排列方向一側之n個基板保持部成為空置。因此，控制單元可於第2搬送機械手之m片基板搬出實施1次之後，開始進行第1搬送機械手之基板搬入(第2搬入步驟)。即，控制單元可不必使第1搬送機械手待機至實施多次第2搬送機械手之m片基板搬出為止。藉此，可縮短第1搬送機械手之待機時間。
又，於本發明之上述一實施形態中，上述第1保持部亦可包含保持收納複數片基板之複數個收納構件之收納構件保持部。上述第2保持部亦可包含保持基板並處理所保持之基板之基板處理部。上述基板處理裝置亦可更包含使上述第1搬送機械手移動之移動機構。上述控制單元亦可構成為藉由控制上述移動機構，而使上述第1搬送機械手在上述複數個收納構件與上述基板保持部之間移動。
於該情形時，經由基板保持部在收納構件保持部與基板處理部之間搬送複數片基板。具體而言，收納於由收納構件保持部保持之各收納構件之基板係藉由第1搬送機械手而搬送至基板保持部。繼而，搬送至基板保持部之基板係藉由第2搬送機械手而搬送至基板處理部。藉此，對基板進行處理。經基板處理部處理之基板係藉由第2搬送機械手而搬送至基板保持部。繼而，搬送至基板保持部之基板係藉由第1搬送機械手而搬送至由收納構件保持部保持之各收納構件。
控制單元係藉由控制移動機構而使第1搬送機械手在複數個收納構件與基板保持部之間移動。因此，第1搬送機械手搬送基板之範圍比第2搬送機械手搬送基板之範圍廣。因此，第1搬送機械手之搬送負載高於第2搬送機械手。故而，可藉由縮短第1搬送機械手之待機時間，而抑制或防止第1搬送機械手制約基板處理裝置之處理速度。
又，於本發明之上述一實施形態中，上述基板處理裝置亦可更包含保持基板之基板交接部。上述控制單元亦可構成為進而執行於基板之表面朝向固定方向之狀態下，在上述第1保持部與上述第2保持部之間搬送該基板的搬送步驟。上述搬送步驟可包括：第1搬送步驟，其係上述控制單元利用上述第1搬送機械手，在基板之表面朝向上述固定方向之狀態下，於上述第1保持部與上述基板交接部之間搬送該基板；及第2搬送步驟，其係上述控制單元利用上述第2搬送機械手，在基板之表面朝向上述固定方向之狀態下，於上述第2保持部與上述基板交接部之間搬送該基板。上述基板交接部既可為上述基板保持部，亦可為與上述基板保持部不同之單元。上述基板交接部亦可包含上述基板保持部。
於該情形時，於基板之表面朝向固定方向之狀態下，該基板藉由第1搬送機械手而在第1保持部與基板交接部之間進行搬送(第1搬送步驟)。進而，於基板之表面朝向固定方向之狀態下，該基板藉由第2搬送機械手而在第2保持部與基板交接部之間進行搬送(第2搬送步驟)。因此，控制單元可藉由執行第1搬送步驟而利用第1搬送機械手將基板自第1保持部搬送至基板交接部。進而，控制單元可藉由執行第2搬送步驟而利用第2搬送機械手將搬送至基板交接部之基板搬送至第2保持部。因此，控制單元可於使基板之表面朝向固定方向之狀態下，將該基板自第1保持部搬送至第2保持部(搬送步驟)。又，控制單元係於執行第2搬送步驟之後，執行第1搬送步驟，藉此，便可於使基板之表面朝向固定方向之狀態下，將該基板自第2保持部搬送至第1保持部(搬送步驟)。如此般，本發明之一實施形態之基板處理裝置亦可不使基板之表背反轉而在第1保持部與第2保持部之間搬送該基板。
又，於本發明之上述一實施形態中，上述第1搬送機械手亦可包含沿上述排列方向可移動之第1手部、及使上述第1手部沿上述排列方向移動之第1手部移動機構。上述第2搬送機械手亦可包含沿上述排列方向可移動之第2手部、及使上述第2手部沿上述排列方向移動之第2手部移動機構。上述控制單元可構成為於上述第1搬入步驟及第2搬入步驟之至少一步驟中，藉由利用上述第1手部移動機構使上述第1手部移動，而使上述第1手部與上述n+m個基板保持部對向。進而，上述控制單元亦可構成為於上述搬出步驟中，藉由利用上述第2手部移動機構使上述第2手部移動，而使上述第2手部與上述n+m個基板保持部對向。
於該情形時，控制單元係藉由控制第1手部移動機構，而使第1手部沿排列方向移動，從而使第1手部與任一基板保持部對向。同樣地，控制單元係藉由控制第2手部移動機構，而使第2手部沿排列方向移動，從而使第2手部與任一基板保持部對向。如上所述，本發明之一實施形態中，可使基板保持部之個數減少，故而，可縮短自位於排列方向一端之基板保持部起至位於排列方向另一端之基板保持部之距離。因此，於第1搬送機械手將基板搬入至任一基板保持部時、或將基板自任一基板保持部搬出時，可減少使第1手部移動之距離。同樣地，可減少第2搬送機械手使第2手部移動之距離。藉此，可使第1搬送機械手及第2搬送機械手搬送基板之範圍減小，從而縮短基板之搬送時間。
又，於本發明之上述一實施形態中，上述第1搬送機械手及第2搬送機械手之至少一者，亦可在與上述排列方向正交之對向方向，相對於上述n+m個基板保持部呈對向。上述n+m個基板保持部可圍繞與上述排列方向及對向方向呈正交之旋轉軸線進行旋轉。上述控制單元亦可構成為於上述反轉步驟中，使上述n+m個基板保持部圍繞上述旋轉軸線旋轉180度。
於該情形時，若控制單元利用旋轉機構使n+m個基板保持部圍繞旋轉軸線旋轉，則位於排列方向一端之基板保持部靠近與n+m個基板保持部對向之搬送機械手(第1搬送機械手或第2搬送機械手)。因此，必需充分地確保基板保持部與搬送機械手之間的距離，以避免基板保持部與搬送機械手碰撞。若基板保持部之個數增加，則n+m個基板保持部將沿排列方向大型化，故而，必需使基板保持部與搬送機械手之間的距離隨著基板保持部之個數增加而增加。然而，若基板保持部與搬送機械手之間的距離增加，則存在基板處理裝置之佔據面積(佔有面積)增加之情形。如上所述，本發明之一實施形態可減少基板保持部之個數。因此，可抑制或防止基板保持部與搬送機械手之間的距離增加。藉此，便可抑制或防止基板處理裝置之佔據面積增加。
又，本發明之另一實施形態係提供一種藉由包含第1保持部、第2保持部、n+m個(n為2以上之整數，m為小於n之正整數且n之除數)基板保持部、旋轉機構、第1搬送機械手、及第2搬送機械手之基板處理裝置來執行之基板搬送方法。第1保持部係保持基板。同樣地，第2保持部係保持基板。n+m個基板保持部係構成為可在沿預定之排列方向排列之狀態下分別保持基板。進而，n+m個基板保持部係可以基板之表背進行反轉之方式共同地旋轉。旋轉機構係使基板之表背進行反轉，並且上述n+m個基板保持部以與旋轉前相反之順序沿上述排列方向排列，而使上述n+m個基板保持部進行旋轉。第1搬送機械手係搬送基板。同樣地，第2搬送機械手係搬送基板。
上述基板搬送方法係包括如下步驟：第1搬入步驟，其利用上述第1搬送機械手自上述第1保持部搬出n片基板，並同時地搬送該n片基板，將該n片基板搬入至自上述排列方向之一端起至第n個為止之n個上述基板保持部；反轉步驟，其係於上述第1搬入步驟之後，利用上述旋轉機構，使基板之表背進行反轉，並且上述n+m個基板保持部以與旋轉前相反之順序沿上述排列方向排列，而使上述n+m個基板保持部進行旋轉；搬出步驟，其係於上述反轉步驟之後，利用上述第2搬送機械手，自位於上述排列方向一端之基板起依序以m片為單位，將上述第1搬入步驟中搬入至上述n個基板保持部之n片基板搬出，並將該n片基板搬入至上述第2保持部；及第2搬入步驟，其係於上述反轉步驟之後，利用上述第1搬送機械手，自上述第1保持部搬出n片基板，並同時地搬送該n片基板，將該n片基板搬入至自上述排列方向一端起至第n個為止之n個上述基板保持部。根據該方法，可獲得與上述效果同樣之效果。
於本發明之上述另一實施形態中，上述第2搬入步驟亦可與上述搬出步驟並行地執行。於該情形時，可獲得與上述效果同樣之效果。
又，於本發明之上述另一實施形態中，上述第1搬入步驟及第2搬入步驟之至少一步驟，亦可包括利用上述第1搬送機械手將n片基板分別同時地搬入至n個上述基板保持部之步驟。於該情形時，可獲得與上述效果同樣之效果。
又，於本發明之上述另一實施形態中，n亦可為m乘以2所得之值。於該情形時，可獲得與上述效果同樣之效果。
又，於本發明之上述另一實施形態中，上述第1保持部亦可包含保持收納複數片基板之複數個收納構件之收納構件保持部。上述第2保持部亦可包含保持基板並對所保持之基板進行處理之基板處理部。上述基板處理裝置亦可更包含使上述第1搬送機械手移動之移動機構。上述基板搬送方法亦可更包括利用上述移動機構使上述第1搬送機械手在上述複數個收納構件與上述基板保持部之間移動的步驟。於該情形時，可獲得與上述效果同樣之效果。
又，於本發明之上述另一實施形態中，上述基板處理裝置亦可更包含保持基板之基板交接部。上述基板搬送方法亦可更包括於基板之表面朝向固定方向之狀態下，在上述第1保持部與上述第2保持部之間搬送該基板之搬送步驟。上述搬送步驟亦可包括如下步驟：第1搬送步驟，其係於基板之表面朝向上述固定方向之狀態下，利用上述第1搬送機械手在上述第1保持部與上述基板交接部之間搬送該基板；及第2搬送步驟，其係於基板之表面朝向上述固定方向之狀態下，利用上述第2搬送機械手在上述第2保持部與上述基板交接部之間搬送該基板。於該情形時，可獲得與上述效果同樣之效果。
又，於本發明之上述另一實施形態中，上述第1搬送機械手亦可包含沿上述排列方向可移動之第1手部、及使上述第1手部沿上述排列方向移動之第1手部移動機構。上述第2搬送機械手亦可包含沿上述排列方向可移動之第2手部、及使上述第2手部沿上述排列方向移動之第2手部移動機構。上述第1搬入步驟及第2搬入步驟之至少一步驟，亦可包括藉由利用上述第1手部移動機構使上述第1手部移動，而使上述第1手部與上述n+m個基板保持部對向之步驟。上述搬出步驟亦可包括藉由利用上述第2手部移動機構使上述第2手部移動，而使上述第2手部與上述n+m個基板保持部對向之步驟。於該情形時，可獲得與上述效果同樣之效果。
又，於本發明之上述另一實施形態中，上述第1搬送機械手及第2搬送機械手之至少一者亦可在與上述排列方向正交之對向方向，相對於上述n+m個基板保持部呈對向。上述n+m個基板保持部亦可圍繞與上述排列方向及對向方向呈正交之旋轉軸線進行旋轉。上述反轉步驟亦可包括利用上述旋轉機構使上述n+m個基板保持部圍繞上述旋轉軸線旋轉180度之步驟。於該情形時，可獲得與上述效果同樣之效果。
本發明之上述或進而其他之目的、特徵及效果係藉由以下參照隨附圖式所述之實施形態之說明而明確。
 [第1實施形態]
圖1係本發明第1實施形態之基板處理裝置1之平面圖。圖2係自圖1中之箭頭II所示之方向觀察本發明第1實施形態之基板處理裝置1所得的圖，圖3係沿著圖1中之III-III線之基板處理裝置1之概略圖。
基板處理裝置1係逐片處理半導體晶圓等基板W之單片式基板處理裝置。如圖1所示，基板處理裝置1係包括分度器塊2、與分度器塊2結合之處理塊3、及控制基板處理裝置1之控制部4(控制單元)。於分度器塊2與處理塊3之交界部分設置有基板交接部5。
分度器塊2係包括載體保持部6(第1保持部、收納構件保持部)、分度機械手IR1(第1搬送機械手)、及IR移動機構7(移動機構)。載體保持部6係保持複數個載體C(收納構件)。複數個載體C係於沿水平延伸之載體排列方向U排列之狀態下由載體保持部6保持。分度機械手IR1係配置於載體保持部6與處理塊3之間。IR移動機構7係使分度機械手IR1沿載體排列方向U水平移動。分度機械手IR1係藉由IR移動機構7而配置在與各載體C對向之位置、及與基板交接部5對向之位置。分度機械手IR1係在各載體C與基板交接部5之間進行基板W之搬送。進而，分度機械手IR1進行將基板W搬入至載體C及基板交接部5之搬入動作、及自載體C及基板交接部5搬出基板W之搬出動作。
如圖1所示，分度機械手IR1例如包括2個臂部8、及2個第1手部9。分度機械手IR1可使2個臂部8相互獨立地水平伸縮。於各臂部8之前端安裝有1個第1手部9。2個第1手部9係沿上下方向D1(排列方向)隔開間隔地水平配置(圖1中，2個第1手部9為上下相互疊合)。分度機械手IR1係可藉由利用各第1手部9支持基板W而水平地保持2片基板W。包含於分度機械手IR1之第1手部9之數量並不限於2個，亦可為1個或3個以上。於包含3個以上之第1手部9之情形時，既可使複數個第1手部9沿上下方向D1隔開間隔地安裝於1個臂部8，亦可於每個第1手部9中設置專用之臂部8。
又，如圖3所示，分度機械手IR1係包括分度機械手IR1中內置之第1轉動機構M1a及第1升降機構M1b。第1轉動機構M1a係使2個第1手部9與所對應之臂部8一併圍繞鉛垂軸線進行旋轉。又，第1升降機構M1b(第1手部移動機構)係使2個第1手部9與對應之臂部8一併沿上下方向D1進行升降。藉此，分度機械手IR1可使各第1手部9與各載體C及基板交接部5呈對向。
另一方面，處理塊3包括對基板W進行處理之複數個(例如8個)基板處理部12(第2保持部)、及主搬送機械手TR1(第2搬送機械手)。8個基板處理部12之中4個基板處理部12係構成第1處理單元13，剩餘之4個基板處理部12係構成第2處理單元14。如圖2所示，構成第1處理單元13之4個基板處理部12為上下積層，構成第2處理單元14之4個基板處理部12為上下積層。如圖1所示，第1處理單元13及第2處理單元14係沿著載體排列方向U隔開間隔地配置。進而，第1處理單元13及第2處理單元14係對於載體保持部6在與載體排列方向U正交之水平方向(對向方向D2)隔開間隔地配置。主搬送機械手TR1係配置於第1處理單元13及第2處理單元14之間。主搬送機械手TR1係在各基板處理部12與基板交接部5之間進行基板W之搬送。進而，主搬送機械手TR1係進行將基板W搬入至基板處理部12及基板交接部5之搬入動作、及自基板處理部12及基板交接部5中搬出基板W之搬出動作。
如圖1所示，主搬送機械手TR1係包括2個臂部15、及2個第2手部16。主搬送機械手TR1可使2個臂部15相互獨立地水平伸縮。於各臂部15之前端安裝有1個第2手部16。2個第2手部16係沿著上下方向D1隔開間隔地水平配置(圖1中，2個第2手部16為上下相互疊合)。主搬送機械手TR1可藉由利用各第2手部16支持基板W而水平地保持2片基板W。主搬送機械手TR1中所包含之第2手部16之數量並不限定於2個，亦可為1個或3個以上。於包含3個以上之第2手部16之情形時，複數個第2手部16既可沿著上下方向D1隔開間隔地安裝於1個臂部15，亦可於每一第2手部16中設置專用之臂部15。
又，如圖3所示，主搬送機械手TR1係包括主搬送機械手TR1中內置之第2轉動機構M2a及第2升降機構M2b。第2轉動機構M2a係使2個第2手部16與所對應之臂部15一併圍繞鉛垂軸線旋轉。又，第2升降機構M2b(第2手部移動機構)係使2個第2手部16與對應之臂部15一併沿上下方向D1升降。藉此，主搬送機械手TR1可使各第2手部16與各基板處理部12及基板交接部5對向。
又，各基板處理部12係對基板W逐片進行處理。各基板處理部12係進行清洗、蝕刻、剝離處理等各種處理。於第1實施形態中，例如於各基板處理部12中進行一面對基板W供給處理液，一面用毛刷擦刷，清洗該基板W之擦刷清洗。第1處理單元13係例如用以對基板W之表面進行擦刷清洗之表面處理單元，第2處理單元14係例如用以對基板W之背面進行擦刷清洗之背面處理單元。即，構成第1處理單元13之各基板處理部12係對基板W之表面進行擦刷清洗之表面處理部12a，構成第2處理單元14之各基板處理部12係對基板W之背面進行擦刷清洗之背面處理部12b。
如圖2所示，表面處理部12a係包含使基板W保持水平地進行旋轉之第1旋轉夾頭19、對基板W上面(表面)供給處理液之噴嘴20、及壓緊在基板W上面之毛刷21。又，背面處理部12b係包括使基板W保持水平地進行旋轉之第2旋轉夾頭22、對基板W上表面(背面)供給處理液之噴嘴20、及壓緊在基板W上面之毛刷21。第1旋轉夾頭19係例如藉由吸附基板W下面(背面)而水平地保持基板W，並使基板W圍繞穿過基板W中心之鉛垂軸線進行旋轉之真空式旋轉夾頭。又，第2旋轉夾頭22係例如藉由自周圍夾持基板W而保持基板W，並使基板W圍繞穿過過基板W之中心之鉛垂軸線進行旋轉之夾持式旋轉夾頭。
又，如圖1所示，基板交接部5係於俯視時配置在載體保持部6與主搬送機械手TR1之間。主搬送機械手TR1係於水平方向(對向方向D2)，相對於基板交接部5呈對向。如圖2及圖3所示，基板交接部5係包含第1反轉單元23、上下積層之複數個送出側載置部24、上下積層之複數個返回側載置部25、及第2反轉單元26。第1反轉單元23、複數個送出側載置部24、複數個返回側載置部25、及第2反轉單元26係以此順序自上而下地上下積層。第1反轉單元23係構成為可自主搬送機械手TR1側進入而無法自分度機械手IR1側進入。又，各送出側載置部24、各返回側載置部25、及第2反轉單元26係構成為可自分度機械手IR1側及主搬送機械手TR1側之任一方向進入。第1反轉單元23及第2反轉單元26係藉由使水平地保持之基板W圍繞水平軸線旋轉180度，而使基板W之表背反轉。又，各送出側載置部24及各返回側載置部25係藉由分度機械手IR1及主搬送機械手TR1而載置保持基板W。
各載體C係收納有構成共同批次之複數片基板W。對於基板W之處理內容(製程參數)係例如設定於每一批次中。設定為僅處理基板W之背面或表面之批次係僅背面或表面進行處理，設定為處理基板W之兩面(表面及背面)之批次係對兩面進行處理。控制部4係按照設定於每一批次中之製程參數，控制基板處理裝置1。
例如，於僅對複數片基板W之背面進行逐片處理之情形時，控制部4係控制分度機械手IR1及主搬送機械手TR1等重複執行例如以下之一系列動作。即，使各載體C以作為元件形成面之基板W之表面朝上之方式保持有複數片基板W。收納於載體C之未處理之基板W係藉由分度機械手IR1而自載體C搬出，且於表面朝上之狀態下搬入至第2反轉單元26(第1搬入步驟)。搬入至第2反轉單元26之未處理之基板W係藉由第2反轉單元26而使表背反轉(反轉步驟)。其後，基板W藉由主搬送機械手TR1而自第2反轉單元26搬出，且於背面朝上之狀態下搬入至任一基板處理部12(背面處理部12b)(搬出步驟)。藉此，進行基板W之背面處理。
又，經基板處理部12(背面處理部12b)處理之處理完畢之基板W係藉由主搬送機械手TR1而自基板處理部12搬出，且搬入至第1反轉單元23。搬入至第1反轉單元23之處理完畢之基板W，係藉由第1反轉單元23而使表背反轉之後由主搬送機械手TR1搬出。繼而，自第1反轉單元23搬出之處理完畢之基板W，係藉由主搬送機械手TR1而於表面朝上之狀態下搬入至任一返回側載置部25。搬入至返回側載置部25之處理完畢之基板W，係藉由分度機械手IR1而自返回側載置部25搬出，且於表面朝上之狀態下搬入至任一載體C。重複進行如此之一系列動作，僅對複數片基板W之背面進行處理。
又，於僅對複數片基板W之表面進行逐片處理之情形時，控制部4係控制分度機械手IR1及主搬送機械手TR1等重複執行例如以下之一系列動作。即，收納於載體C之未處理之基板W係於表面朝上之狀態下，亦即，表面朝向固定方向之狀態下，藉由分度機械手IR1而自載體C搬出，且搬入至任一送出側載置部24(第1搬送步驟)。此時，搬入基板W之部位並不限於送出側載置部24，亦可為第2反轉單元26。繼而，搬入至送出側載置部24之未處理之基板W係於表面朝上之狀態下由主搬送機械手TR1搬出，且搬入至任一基板處理部12(表面處理部12a)(第2搬送步驟)。藉此，進行基板W之表面處理。
其次，經基板處理部12(表面處理部12a)處理之處理完畢之基板W係於表面朝上之狀態下，藉由主搬送機械手TR1而自基板處理部12搬出，且搬入至任一返回側載置部25(第2搬送步驟)。繼之，搬入至返回側載置部25之處理完畢之基板W係於表面朝上之狀態下，藉由分度機械手IR1而自返回側載置部25搬出，且搬入至任一載體C(第1搬送步驟)。重複進行如此之一系列動作，僅對複數片基板W之表面進行處理。
又，於對複數片基板W之表面及背面進行逐片處理之情形時，控制部4控制分度機械手IR1及主搬送機械手TR1等重複進行例如以下之一系列動作。即，收納於載體C之未處理之基板W係藉由分度機械手IR1而自載體C搬出，且於表面朝上之狀態下搬入至第2反轉單元26(第1搬入步驟)。搬入至第2反轉單元26之未處理之基板W，係藉由第2反轉單元26而使表背反轉(反轉步驟)。其後，基板W係藉由主搬送機械手TR1而自第2反轉單元26搬出，且於背面朝上之狀態下搬入至任一基板處理部12(背面處理部12b)(搬出步驟)。藉此，對基板W之背面進行處理。
其次，經基板處理部12(背面處理部12b)處理之基板W，係於背面朝上之狀態下藉由主搬送機械手TR1而自基板處理部12搬出，且搬入至第1反轉單元23。搬入至第1反轉單元23之基板W，係藉由第1反轉單元23而使表背反轉之後由主搬送機械手TR1搬出。繼而，自第1反轉單元23搬出之基板W，係藉由主搬送機械手TR1而於表面朝上之狀態下搬入至任一基板處理部12(表面處理部12a)。藉此，對基板W之表面進行處理。
繼而，經基板處理部12(表面處理部12a)處理之處理完畢之基板W係於表面朝上之狀態下藉由主搬送機械手TR1而自基板處理部12搬出，且搬入至任一返回側載置部25(第2搬送步驟)。繼而，搬入至返回側載置部25之處理完畢之基板W係於表面朝上之狀態下，藉由分度機械手IR1而自返回側載置部25搬出，且搬入至任一載體C(第1搬送步驟)。重複進行如此之一系列動作，對複數片基板W之表面及背面進行處理。
圖4係自圖3中箭頭IV所示之方向觀察本發明第1實施形態之第2反轉單元26所得的圖。
第2反轉單元26係包括保持基板W之複數個基板保持部27、及使複數個基板保持部27旋轉之旋轉機構28。複數個基板保持部27係沿著預定之排列方向排列。旋轉機構28係使複數個基板保持部27圍繞與排列方向交叉之軸線旋轉180度。若旋轉機構28使複數個基板保持部27旋轉，則複數個基板保持部27以與旋轉前相反之順序沿著排列方向排列。
於第1實施形態中，例如3個基板保持部27(第1基板保持部27a、第2基板保持部27b、及第3基板保持部27c)設置於第2反轉單元26。第1基板保持部27a、第2基板保持部27b、及第3基板保持部27c，係例如以此順序自上而下地沿上下方向D1排列。即，於第1實施形態中，上下方向D1係為排列方向。旋轉機構28係例如使3個基板保持部27圍繞穿過位於3個基板保持部27中間之基板保持部27(第2基板保持部27b)之水平旋轉軸線L1旋轉180度。旋轉軸線L1係例如與載體排列方向U平行之軸線，且與排列方向D1及對向方向D2正交。因此，旋轉機構28使3個基板保持部27沿著與載體排列方向U正交之平面旋轉180度。
各基板保持部27係包括例如上下對向之活動板29及固定板30、以及使活動板29沿上下方向D1平行移動之致動器31。各活動板29係為例如矩形板，各固定板30係為例如大小與活動板29大致相等之矩形板。3個基板保持部27之活動板29及固定板30係以俯視時相互疊合之方式，以水平之姿勢沿著上下方向D1排列。進而，3個基板保持部27之活動板29及固定板30，係以活動板29及固定板30交替排列之方式沿著上下方向D1排列。
第2反轉單元26係包括沿鉛垂面配置之支持板32、及沿上下方向D1延伸之複數個(例如3個)導軌34。各固定板30及活動板29係對於支持板32配置在與旋轉機構28相反一側。3個固定板30係上下隔開等間隔地水平固定於支持板32。又，各活動板29係介隔導軌34水平地安裝於支持板32。各活動板29可沿著導軌34於上下方向D1上平行移動。旋轉機構28係在與各固定板30及活動板29相反一側安裝於支持板32。
致動器31係包含例如氣缸。各致動器31係使對應之活動板29在開啟位置(圖4所示之位置)與關閉位置之間沿上下方向D1平行移動。開啟位置係可供分度機械手IR1之各第1手部9及主搬送機械手RT1之各第2手部16進入成對之活動板29及固定板30之間的位置。又，關閉位置係相較活動板29位於開啟位置時成對之活動板29及固定板30之間隔較窄的位置。又，旋轉機構28係包含例如馬達。旋轉機構28係使支持板32圍繞旋轉軸線L1旋轉180度。藉此，使3個基板保持部27共同地旋轉。
又，於各活動板29之與固定板30對向之面(圖4中為各活動板29之下表面)，設置有自該面突出之複數根第1支持銷35。又，於與各固定板30之活動板29對向之面(圖4中為各固定板30之上面)，設置有自該面突出之複數根第2支持銷36。複數根第1支持銷35係在與基板W之外周形狀對應之圓周上隔開適當間隔地配置。同樣地，複數根第2支持銷36係在與基板W之外周形狀對應之圓周上隔開適當間隔地配置。
在各對活動板29及固定板30以固定板30配置成位於成對之活動板29下側的狀態(圖4所示之狀態)下，各固定板30可使複數根第2支持銷36之前端與基板W之下面周緣部點接觸，從而支持基板W。又，在各對活動板29及固定板30以活動板29配置成位於成對之固定板30下側的狀態下，各活動板29可使複數根第1支持銷35之前端與基板W之下表面周緣部點接觸，從而支持基板W。各基板保持部27係包括基板探測感測器37，且各基板保持部27內有無基板W由基板探測感測器37進行探測。各基板探測感測器37之檢測值係輸入至控制部4。
在各活動板29位於開啟位置(圖4所示之位置)之狀態下，各搬送機械手(分度機械手IR1及主搬送機械手TR1各者)可將基板W以1片為單位同時地搬入至上下鄰接之2個基板保持部27，或者自上下鄰接之2個基板保持部27中同時地搬出2片基板W。又，在各活動板29位於開啟位置之狀態下，各搬送機械手可將1片基板W搬入至3個基板保持部27中之任意1個基板保持部27，或者自1個基板保持部27中搬出1片基板W。
各搬送機械手搬送之基板W係在活動板29位於開啟位置之狀態下，搬入至成對之活動板29及固定板30之間，且由活動板29或固定板30支持。控制部4係藉由控制致動器31，而在由活動板29或固定板30支持著基板W之狀態下使活動板29移動至關閉位置，從而減小成對之活動板29及固定板30之間隔。藉此，各第1支持銷35及第2支持銷36之前端與基板W點接觸，從而由成對之活動板29及固定板30夾持基板W。
又，控制部4係藉由控制旋轉機構28，而於基板W受到夾持之狀態下使支持板32圍繞旋轉軸線L1旋轉180度，從而使基板W之表背反轉。繼而，控制部4藉由控制致動器31，而使活動板29移動至開啟位置，從而使一對活動板29及固定板30之間隔增加。藉此，將成對之活動板29及固定板30對基板W之夾持解除。其後，由活動板29或固定板30支持之基板W藉由分度機械手IR1或主搬送機械手TR1而自第2反轉單元26中搬出。
圖5A、圖5B、圖5C、及圖5D係用以說明一面利用本發明第1實施形態之第2反轉單元26使基板W之表背反轉，一面將複數片基板W自載體保持部6搬送至基板處理部12時之分度機械手IR1、主搬送機械手TR1、及第2反轉單元26之動作一例的概略圖。
控制部4係利用分度機械手IR1將n(n為2以上之整數)片基板W自載體C同時地搬送至第2反轉單元26，並將該n片基板W搬入至第2反轉單元26。繼而，控制部4利用第2反轉單元26使各基板W之表背反轉之後，利用主搬送機械手TR1以m(m為小於n之正整數且n之除數)片為單位，將由第2反轉單元26保持之n片基板W自第2反轉單元26中搬出。
於第1實施形態中，控制部4係例如利用分度機械手IR1將2片基板W自載體C同時地搬送至第2反轉單元26，並將該2片基板W搬入至第2反轉單元26。繼而，控制部4利用第2反轉單元26使各基板W之表背反轉之後，利用主搬送機械手TR1，將由第2反轉單元26保持之2片基板W自第2反轉單元26中逐片搬出。即，於第1實施形態中，n為2且m為1。又，第2反轉單元26中所含之基板保持部27之個數係為n+m，且於第1實施形態中為3個。
以下，具體地對一面利用第2反轉單元26使基板W之表背反轉，一面將複數片基板W自載體保持部6搬送至基板處理部12時之分度機械手IR1、主搬送機械手TR1、及第2反轉單元26之動作之一例進行說明。
控制部4係利用分度機械手IR1將2片基板W自載體C中搬出，且如圖5A所示，將該2片基板W自載體C同時地搬送至第2反轉單元26。繼而，如圖5A所示，控制部4利用分度機械手IR1將該2片基板W同時地搬入至自上下方向D1之一端起至第2個為止之2個基板保持部27(圖5A中為第1基板保持部27a及第2基板保持部27b)(第1搬入步驟)。
其後，如圖5B所示，控制部4係利用旋轉機構28，使3個基板保持部27圍繞旋轉軸線L1旋轉180度，從而使基板W之表背反轉(反轉步驟)。藉此，如圖5C所示，3個基板保持部27以與旋轉前相反之順序沿上下方向D1排列。即，以第1基板保持部27a、第2基板保持部27b、第3基板保持部27c之順序自上而下地沿上下方向D1排列之3個基板保持部27係以第3基板保持部27c、第2基板保持部27b、第1基板保持部27a之順序自上而下地沿上下方向D1排列。
控制部4係使3個基板保持部27旋轉180度之後，利用主搬送機械手TR1將分別搬入至2個基板保持部27之2片基板W搬出，並將該2片基板W搬入至基板處理部12(搬出步驟)。具體而言，如圖5C所示，控制部4係利用主搬送機械手TR1，將由第2基板保持部27b保持之基板W(第1片基板W)搬出，並將該基板W搬入至任一基板處理部12。其後，如圖5D所示，控制部4利用主搬送機械手TR1，將由第1基板保持部27a保持之基板W(第2片基板W)搬出，並將該基板W搬入至任一基板處理部12。如此般，控制部4自位於上下方向D1之一端之基板W起依序逐片地搬出基板W。
如圖5D所示，於由第2基板保持部27b保持之基板W(第1片基板W)藉由主搬送機械手TR1而搬出之後，自上方起至第2個為止之2個基板保持部27(圖5D中為第3基板保持部27c及第2基板保持部27b)成為空置。如圖5D所示，控制部4利用主搬送機械手TR1搬出第1片基板W之後，利用分度機械手IR1將2片基板W同時地搬入至自上下方向D1之一端起至第2個為止之2個基板保持部27(圖5D中為第3基板保持部27c及第2基板保持部27b)(第2搬入步驟)。
又，控制部4係再次利用分度機械手IR1將2片基板W同時搬入，並利用主搬送機械手TR1將由第1基板保持部27a保持之基板W(第2片基板W)搬出之後，利用旋轉機構28使3個基板保持部27圍繞旋轉軸線L1旋轉180度，從而使基板W之表背反轉。繼而，控制部4係再次利用主搬送機械手TR1自第2基板保持部27b搬出基板W。控制部4係重複實施如此之一系列動作，從而將複數片基板W自載體C搬送至基板處理部12。
主搬送機械手TR1搬出第1片基板W之後進行之分度機械手IR1之2片基板W之搬入，既可於主搬送機械手TR1將第2片基板W搬出之前進行，亦可於主搬送機械手TR1將第2片基板W搬出之後進行。又，分度機械手IR1之2片基板W之搬入、與主搬送機械手TR1之第2片基板W之搬出亦可並行地實施。
如上所述，於第1實施形態中，當一面利用第2反轉單元26使基板W之表背反轉，一面將複數片基板W自載體保持部6搬送至基板處理部12時，控制部4利用分度機械手IR1將基板W以1片為單位搬入至沿上下方向D1排列之3個基板保持部27中上側之2個基板保持部27(第1搬入步驟)。繼而，控制部4使3個基板保持部27圍繞旋轉軸線L1旋轉180度(反轉步驟)。藉此，搬入有基板W上側之2個基板保持部27移動至下側。控制部4利用主搬送機械手TR1自移動至下側之2個基板保持部27中上側之基板保持部27搬出基板W(第1片基板W)(搬出步驟之一部分)。藉此，上側之2個基板保持部27成為空置。控制部4利用主搬送機械手TR1搬出第1片基板W之後，再次利用分度機械手IR1將基板W以1片為單位搬入至上側之2個基板保持部27(第2搬入步驟)。
如此般，控制部4於由分度機械手IR1搬入之所有之基板W(2片基板W)搬出之前，使上側之2個基板保持部27成為空置。因此，控制部4可於由分度機械手IR1搬入之所有基板W搬出之前，再次利用分度機械手IR1將2片基板W搬入至上側之2個基板保持部27。因此，控制部4可不必使分度機械手IR1待機至由分度機械手IR1搬入之所有之基板W搬出為止。藉此，便可縮短分度機械手IR1之待機時間。因此，可縮短基板W之搬送時間。由此，可使基板處理裝置1之產能率(每一單位時間內之基板W之處理片數)增加。
又，於第1實施形態中，由於分度機械手IR1一次搬送之基板W之片數為2，因此，若設置4個基板保持部27，則於一面利用第2反轉單元26使基板W之表背反轉，一面將複數片基板W自載體保持部6搬送至基板處理部12時，可縮短分度機械手IR1之待機時間。即，於沿上下方向D1排列之4個基板保持部27設置在第2反轉單元26之情形時，若於利用分度機械手IR1將基板W以1片為單位搬入至上側之2個基板保持部27之後，使4個基板保持部27圍繞旋轉軸線L1旋轉180度，則未搬入基板W(空置)之下側之2個基板保持部27移動至上側。因此，控制部4可於利用主搬送機械手TR1將基板W搬出之前，利用分度機械手IR1將基板W以1片為單位搬入至上側之2個基板保持部27。
如此般，若設置有個數為分度機械手IR1一次搬送之基板W之片數2倍的基板保持部27，則可縮短分度機械手IR1之待機時間。然而，於該情形時，因基板保持部27之個數較多，而將導致第2反轉單元26大型化。具體而言，於第1實施形態中，複數個基板保持部27係沿上下方向D1排列，故導致第2反轉單元26之高度增加。另一方面，第1實施形態係使用比分度機械手IR1一次搬送之基板W之片數2倍之個數(4個)少的3個基板保持部27，縮短分度機械手IR1之待機時間。因此，可抑制或防止第2反轉單元26之大型化。藉此，便可抑制或防止基板處理裝置1之大型化。
又，第2反轉單元26係使複數個基板保持部27在分度機械手IR1與第2反轉單元26對向之位置(圖1所示之位置，以下僅稱為「對向位置」)及主搬送機械手TR1之間沿著與載體排列方向U正交之平面進行旋轉。因此，於第2反轉單元26之高度較高之情形時，必需充分地確保對向位置與主搬送機械手TR1之間的距離，以避免第2反轉單元26隨著複數個基板保持部27旋轉而與分度機械手IR1及主搬送機械手TR1碰撞。然而，若對向位置與主搬送機械手TR1之間的距離增加，則存在基板處理裝置1之佔據面積(佔有面積)增加之情形。因此，可藉由抑制或防止第2反轉單元26之高度增加而抑制或防止基板處理裝置1之佔據面積增加。
又，於第1實施形態中，控制部4可與搬出步驟並行地執行第2搬入步驟。即，控制部4可於利用主搬送機械手TR1將第2片基板W搬出之前、或主搬送機械手TR1將第2片基板W搬出之期間，利用分度機械手IR1將2片基板W搬入。因此，與將第2片基板W搬出之後(搬出步驟之後)，利用分度機械手IR1進行2片基板W之搬入(第2搬入步驟)的情形相比，可縮短基板W之搬送時間。藉此，可進一步增加產能率。
又，於第1實施形態中，控制部4係於第1搬入步驟及第2搬入步驟之各步驟中，利用分度機械手IR1將基板W以1片為單位同時地搬入至2個基板保持部27。因此，與將2片基板W依序搬入至2個基板保持部27之情形相比，可縮短基板W之搬入時間。藉此，可縮短基板W之搬送時間。
又，於第1實施形態中，n=2、m=1，且n為m乘以2所得之值。於反轉步驟實施之後且進行主搬送機械手TR1之基板W搬出之前(進行搬出步驟之前)，基板W不被搬入位於最上方之1個(m個)基板保持部27中，而使基板W被搬入剩餘之2個(n個)基板保持部27中。於搬出步驟中，由2個(n個)基板保持部27保持之2片(n片)基板W藉由主搬送機械手TR1而自位於最上方之基板W起依序以1片(m片)為單位搬出。因此，若主搬送機械手TR1之基板W搬出進行1次，則上側之2個(m+m個)基板保持部27成為空置。因此，控制部4可於主搬送機械手TR1之1片(m片)基板W之搬出進行1次之後，開始進行分度機械手IR1之基板W搬入(第2搬入步驟)。即，控制部4可不必使分度機械手IR1待機至主搬送機械手TR1之1片(m片)基板W搬出進行多次為止。藉此，便可縮短分度機械手IR1之待機時間。
又，於第1實施形態中，控制部4係藉由控制IR移動機構7而使分度機械手IR1在複數個載體C與基板交接部5之間水平移動。因此，分度機械手IR1水平搬送基板W之範圍比主搬送機械手TR1搬送基板W之範圍廣。因此，分度機械手IR1之搬送負載高於主搬送機械手TR1。因此，可藉由縮短分度機械手IR1之待機時間，而抑制或防止分度機械手IR1制約基板處理裝置1之處理速度。進而，於第1實施形態中，由於可抑制或防止第2反轉單元26之高度之增加，故可抑制或防止分度機械手IR1使2個第1手部9沿上下方向D1移動之範圍之增加。藉此，可抑制或防止分度機械手IR1搬送基板W之範圍之增加，從而抑制或防止分度機械手IR1之基板W之搬送時間之增加。
[第2實施形態]
圖6A、圖6B、圖6C、及圖6D係用以說明一面利用本發明第2實施形態之第2反轉單元226使基板W之表背反轉，一面將複數片基板W自載體保持部6搬送至基板處理部12時之分度機械手IR2、主搬送機械手TR1、及第2反轉單元226之動作一例的概略圖。於該圖6A、圖6B、圖6C、及圖6D中，對與上述圖1～圖5D所示之各部分同等之構成部分，標註與圖1等相同之參照符號並省略其說明。
該第2實施形態與上述第1實施形態之主要不同之處在於分度機械手IR2一次搬送之基板W之片數、與第2反轉單元226中所含之基板保持部27之個數。
即，於第2實施形態中，分度機械手IR2一次搬送之基板W片數為3。又，與第1實施形態相同控制部4利用主搬送機械手TR1自第2反轉單元226逐片地搬出基板W。因此，於第2實施形態中，n為3且m為1。因此，第2反轉單元226中所含之基板保持部27之個數(n+m)為4。因此，4個基板保持部27(第1基板保持部27a、第2基板保持部27b、第3基板保持部27c、及第4基板保持部27d)包含於第2反轉單元226中。
以下，具體地說明一面利用第2反轉單元226使基板W之表背反轉，一面將複數片基板W自載體保持部6搬送至基板處理部12時之分度機械手IR2、主搬送機械手TR1、及第2反轉單元226動作之一例。
如圖6A所示，控制部4係利用分度機械手IR2將3片基板W自載體C同時地搬送至第2反轉單元226。繼而，如圖6A所示，控制部4利用分度機械手IR2將該3片基板W同時地搬入至自上下方向D1之一端起至第3個為止之3個基板保持部27(圖6A中為第1基板保持部27a、第2基板保持部27b、及第3基板保持部27c)(第1搬入步驟)。
其後，如圖6B所示，控制部4利用旋轉機構28使4個基板保持部27圍繞旋轉軸線L1旋轉180度，從而使基板W之表背反轉。藉此，如圖6C所示，4個基板保持部27以與旋轉前相反之順序沿上下方向D1排列。即，使以第1基板保持部27a、第2基板保持部27b、第3基板保持部27c、第4基板保持部27d之順序自上而下地沿上下方向D1排列之4個基板保持部27，是以第4基板保持部27d、第3基板保持部27c、第2基板保持部27b、第1基板保持部27a之順序自上而下地沿上下方向D1排列。
控制部4係於使4個基板保持部27旋轉180度之後，利用主搬送機械手TR1將分別搬入至3個基板保持部27之3片基板W搬出，並將該3片基板W搬入至基板處理部12(搬出步驟)。具體而言，如圖6C所示，控制部4利用主搬送機械手TR1將由第3基板保持部27c保持之基板W(第1片基板W)搬出，並將該基板W搬入至任一基板處理部12。其後，控制部4利用主搬送機械手TR1將由第2基板保持部27b保持之基板W(第2片基板W)搬出，並將該基板W搬入至任一基板處理部12。以此方式，控制部4自位於上下方向D1之一端之基板W起依序逐片地搬出基板W。
如圖6D所示，在由第2基板保持部27b保持之基板W(第2片基板W)由主搬送機械手TR1搬出之後，自上方起至第3個為止之3個基板保持部27(圖6D中為第4基板保持部27d、第3基板保持部27c、及第2基板保持部27b)成為空置。如圖6D所示，控制部4係於利用主搬送機械手TR1將第2片基板W搬出之後，利用分度機械手IR2將3片基板W同時地搬入至自上下方向D1一端起至第3個為止之3個基板保持部27(第2搬入步驟)。
又，控制部4係於再次利用分度機械手IR2將3片基板W同時地搬入，並利用主搬送機械手TR1將由第1基板保持部27a保持之基板W(第3片基板W)搬出之後，利用旋轉機構28使4個基板保持部27圍繞旋轉軸線L1旋轉180度，從而使基板W之表背反轉。繼而，控制部4再次利用主搬送機械手TR1自第2反轉單元226搬出基板W。控制部4重複實施如此之一系列動作，從而將複數片基板W自載體C搬送至基板處理部12。
主搬送機械手TR1將第2片基板W搬出之後進行之分度機械手IR2之3片基板W之搬入，既可在主搬送機械手TR1將第3片基板W搬出之前，亦可在搬出之後。又，分度機械手IR2之3片基板W之搬入、與主搬送機械手TR1之第3片基板W之搬出亦可並行地實施。
[第3實施形態]
圖7A、圖7B、圖7C、及圖7D，係用以說明一面利用本發明第3實施形態之第2反轉單元326使基板W之表背反轉，一面將複數片基板W自載體保持部6搬送至基板處理部12時之分度機械手IR3、主搬送機械手TR1、及第2反轉單元326之動作一例的概略圖。於該圖7A、圖7B、圖7C、及圖7D中，對與上述圖1～圖6D所示之各部分同等之構成部分，標註與圖1等相同之參照符號並省略其說明。
該第3實施形態與上述第1實施形態之主要不同之處在於分度機械手IR3一次搬送之基板W片數、與第2反轉單元326中所含之基板保持部27之個數。
即，於第3實施形態中，分度機械手IR3一次搬送之基板W之片數為4。又，與第1實施形態相同，控制部4係利用主搬送機械手TR1自第2反轉單元326逐片地搬出基板W。因此，於第3實施形態中，n為4且m為1。因此，第2反轉單元326中所含之基板保持部27之個數(n+m)為5。因此，5個基板保持部27(第1基板保持部27a、第2基板保持部27b、第3基板保持部27c、第4基板保持部27d、及第5基板保持部27e)包含於第2反轉單元326。
以下，具體地說明一面利用第2反轉單元326使基板W之表背反轉，一面將複數片基板W自載體保持部6搬送至基板處理部12時之分度機械手IR3、主搬送機械手TR1、及第2反轉單元326動作之一例。
如圖7A所示，控制部4係利用分度機械手IR3將4片基板W自載體C同時地搬送至第2反轉單元326。繼而，如圖7A所示，控制部4利用分度機械手IR3將該4片基板W同時地搬入至自上下方向D1之一端起至第4個為止之4個基板保持部27(圖7A中為第1基板保持部27a、第2基板保持部27b、第3基板保持部27c、及第4基板保持部27d)(第1搬入步驟)。
其後，如圖7B所示，控制部4利用旋轉機構28使5個基板保持部27圍繞旋轉軸線L1旋轉180度，從而使基板W之表背反轉。藉此，如圖7C所示，5個基板保持部27以與旋轉前相反之順序沿上下方向D1排列。即，使以第1基板保持部27a、第2基板保持部27b、第3基板保持部27c、第4基板保持部27d、第5基板保持部27e之順序自上而下地沿上下方向D1排列之4個基板保持部27，是以第5基板保持部27e、第4基板保持部27d、第3基板保持部27c、第2基板保持部27b、第1基板保持部27a之順序自上而下地沿上下方向D1排列。
控制部4於使5個基板保持部27旋轉180度之後，利用主搬送機械手TR1將分別搬入至4個基板保持部27之4片基板W搬出，並將該4片基板W搬入至基板處理部12(搬出步驟)。具體而言，如圖7C所示，控制部4利用主搬送機械手TR1，將由第4基板保持部27d保持之基板W(第1片基板W)搬出，並將該基板W搬入至任一基板處理部12。其後，控制部4利用主搬送機械手TR1，將由第3基板保持部27c保持之基板W(第2片基板W)搬出，並將該基板W搬入至任一基板處理部12。以此方式，控制部4自位於上下方向D1一端之基板W起依序逐片地搬出基板W。
如圖7D所示，於由第2基板保持部27b保持之基板W(第3片基板W)藉由主搬送機械手TR1而搬出之後，自上方起至第4個為止之4個基板保持部27(圖7D中為第5基板保持部27e、第4基板保持部27d、第3基板保持部27c、及第2基板保持部27b)成為空置。如圖7D所示，控制部4利用主搬送機械手TR1將第3片基板W搬出之後，利用分度機械手IR3將4片基板W同時地搬入至自上下方向D1一端起至第4個為止之4個基板保持部27(第2搬入步驟)。
又，控制部4於再次利用分度機械手IR3將4片基板W同時地搬入，並利用主搬送機械手TR1將由第1基板保持部27a保持之基板W(第4片基板W)搬出之後，利用旋轉機構28使5個基板保持部27圍繞旋轉軸線L1旋轉180度，從而使基板W之表背反轉。繼而，控制部4再次利用主搬送機械手TR1自第2反轉單元326搬出基板W。控制部4重複實施如此之一系列動作，從而將複數片基板W自載體C搬送至基板處理部12。
主搬送機械手TR1將第3片基板W搬出之後進行之分度機械手IR3之4片基板W之搬入既可在主搬送機械手TR1將第4片基板W搬出之前，亦可在搬出之後。又，分度機械手IR3之4片基板W之搬入、與主搬送機械手TR1之第4片基板W之搬出可並行地實施。
[第4實施形態]
圖8A、圖8B、圖8C、及圖8D係用以說明一面利用本發明第4實施形態之第2反轉單元426使基板W之表背反轉，一面將複數片基板W自載體保持部6搬送至基板處理部12時之分度機械手IR4、主搬送機械手TR1、及第2反轉單元426動作之一例的概略圖。於該圖8A、圖8B、圖8C、及圖8D中，對與上述圖1～圖7D所示之各部分同等之構成部分，標註與圖1等相同之參照符號並省略其說明。
該第4實施形態與上述第1實施形態之主要不同之處在於分度機械手IR4一次搬送之基板W之片數、與第2反轉單元426中所含之基板保持部27之個數。
即，於第4實施形態中，分度機械手IR4一次搬送之基板W片數為5。又，與第1實施形態相同，控制部4係利用主搬送機械手TR1自第2反轉單元426逐片地搬出基板W。因此，於第4實施形態中，n為5且m為1。因此，第2反轉單元426中所含之基板保持部27之個數(n+m)為6。因此，6個基板保持部27(第1基板保持部27a、第2基板保持部27b、第3基板保持部27c、第4基板保持部27d、第5基板保持部27e、及第6基板保持部27f)係包含於第2反轉單元426。
以下，具體說明一面利用第2反轉單元426使基板W之表背反轉，一面將複數片基板W自載體保持部6搬送至基板處理部12時之分度機械手IR4、主搬送機械手TR1、及第2反轉單元426動作之一例。
如圖8A所示，控制部4係利用分度機械手IR4將5片基板W自載體C同時地搬送至第2反轉單元426。繼而，如圖8A所示，控制部4利用分度機械手IR4將該5片基板W同時地搬入至自上下方向D1之一端起至第5個為止之5個基板保持部27(圖8A中為第1基板保持部27a、第2基板保持部27b、第3基板保持部27c、第4基板保持部27d、及第5基板保持部27e)(第1搬入步驟)。
其後，如圖8B所示，控制部4利用旋轉機構28使6個基板保持部27圍繞旋轉軸線L1旋轉180度，從而使基板W之表背反轉。藉此，如圖8C所示，6個基板保持部27以與旋轉前相反之順序沿上下方向D1排列。即，使以第1基板保持部27a、第2基板保持部27b、第3基板保持部27c、第4基板保持部27d、第5基板保持部27e、第6基板保持部27f之順序自上而下地沿上下方向D1排列之6個基板保持部27，是以第6基板保持部27f、第5基板保持部27e、第4基板保持部27d、第3基板保持部27c、第2基板保持部27b、第1基板保持部27a之順序自上而下地沿上下方向D1排列。
控制部4於使6個基板保持部27旋轉180度之後，利用主搬送機械手TR1將分別搬入至5個基板保持部27之5片基板W搬出，並將該5片基板W搬入至基板處理部12(搬出步驟)。具體而言，如圖8C所示，控制部4利用主搬送機械手TR1將由第5基板保持部27e保持之基板W(第1片基板W)搬出，並將該基板W搬入至任一基板處理部12。其後，控制部4利用主搬送機械手TR1，將由第4基板保持部27d保持之基板W(第2片基板W)搬出，並將該基板W搬入至任一基板處理部12。如此一來，控制部4自位於上下方向D1一端之基板W起依序逐片地搬出基板W。
如圖8D所示，於由第2基板保持部27b保持之基板W(第4片基板W)由主搬送機械手TR1搬出之後，自上方起至第5個為止之5個基板保持部27(圖8D中為第6基板保持部27f、第5基板保持部27e、第4基板保持部27d、第3基板保持部27c、及第2基板保持部27b)成為空置。如圖8D所示，控制部4於利用主搬送機械手TR1將第4片基板W搬出之後，利用分度機械手IR4將5片基板W同時地搬入至自上下方向D1之一端起至第5個為止之5個基板保持部27(第2搬入步驟)。
又，控制部4於再次利用分度機械手IR4將5片基板W同時搬入，並利用主搬送機械手TR1將由第1基板保持部27a保持之基板W(第5片基板W)搬出之後，利用旋轉機構28使6個基板保持部27圍繞旋轉軸線L1旋轉180度，從而使基板W之表背反轉。繼而，控制部4再次利用主搬送機械手TR1自第2反轉單元426搬出基板W。控制部4重複實施如此之一系列動作，從而將複數片基板W自載體C搬送至基板處理部12。
主搬送機械手TR1將第4片基板W搬出之後進行之分度機械手IR4之5片基板W之搬入，既可在主搬送機械手TR1將第5片基板W搬出之前，亦可在搬出之後。又，分度機械手IR4之5片基板W之搬入、與主搬送機械手TR1之第5片基板W之搬出可並行地實施。
[第5實施形態]
圖9A、圖9B、圖9C、及圖9D係用以說明一面利用本發明第5實施形態之第2反轉單元526使基板W之表背反轉，一面將複數片基板W自載體保持部6搬送至基板處理部12時之分度機械手IR5、主搬送機械手TR1、及第2反轉單元526動作之一例的概略圖。於該圖9A、圖9B、圖9C、及圖9D中，對與上述圖1～圖8D所示之各部分同等之構成部分，標註與圖1等相同之參照符號並省略其說明。
該第5實施形態與上述第1實施形態之主要不同之處在於分度機械手IR5一次搬送之基板W之片數、與第2反轉單元526中所含之基板保持部27之個數。
即，於第5實施形態中，分度機械手IR5一次搬送之基板W片數為4。又，與第1實施形態不同，控制部4係利用主搬送機械手TR1自第2反轉單元526以2片為單位搬出基板W。因此，於第5實施形態中，n為4且m為2。因此，第2反轉單元526中所含之基板保持部27之個數(n+m)為6。因此，6個基板保持部27(第1基板保持部27a、第2基板保持部27b、第3基板保持部27c、第4基板保持部27d、第5基板保持部27e、及第6基板保持部27f)係包含於第2反轉單元526。
以下，具體說明一面利用第2反轉單元526使基板W之表背反轉，一面將複數片基板W自載體保持部6搬送至基板處理部12時之分度機械手IR5、主搬送機械手TR1、及第2反轉單元526動作之一例。
如圖9A所示，控制部4係利用分度機械手IR5將4片基板W自載體C同時地搬送至第2反轉單元526。繼而，如圖9A所示，控制部4利用分度機械手IR5將該4片基板W搬送到自上下方向D1之一端起至第4個為止之4個基板保持部27(圖9A中為第1基板保持部27a、第2基板保持部27b、第3基板保持部27c、及第4基板保持部27d)(第1搬入步驟)。
其後，如圖9B所示，控制部4利用旋轉機構28使6個基板保持部27圍繞旋轉軸線L1旋轉180度，從而使基板W之表背反轉。藉此，如圖9C所示，6個基板保持部27以與旋轉前相反之順序沿上下方向D1排列。即，使以第1基板保持部27a、第2基板保持部27b、第3基板保持部27c、第4基板保持部27d、第5基板保持部27e、第6基板保持部27f之順序自上而下地沿上下方向D1排列之6個基板保持部27以第6基板保持部27f、第5基板保持部27e、第4基板保持部27d、第3基板保持部27c、第2基板保持部27b、第1基板保持部27a之順序自上而下地沿上下方向D1排列。
控制部4於使6個基板保持部27旋轉180度之後，利用主搬送機械手TR1將分別搬入至4個基板保持部27之4片基板W搬出，並將該4片基板W搬入至基板處理部12(搬出步驟)。具體而言，如圖9C所示，控制部4利用主搬送機械手TR1，將由第4基板保持部27d保持之基板W(第1片基板W)、及由第3基板保持部27c保持之基板W(第2片基板W)同時搬出，並將該2片基板W搬入至2個基板處理部12。其後，控制部4利用主搬送機械手TR1，將由第2基板保持部27b保持之基板W(第3片基板W)、及由第1基板保持部27a保持之基板W(第4片基板W)同時搬出，並將該2片基板W搬入至2個基板處理部12。如此一來，控制部4自位於上下方向D1之一端之基板W起用以2片為單位搬出基板W。
如圖9D所示，於分別由第4基板保持部27d及第3基板保持部27c保持之2片基板W(第1片基板W與第2片基板W)由主搬送機械手TR1搬出之後，自上方起至第4個為止之4個基板保持部27(圖9D中為第6基板保持部27f、第5基板保持部27e、第4基板保持部27d、及第3基板保持部27c)成為空置。如圖9D所示，控制部4於利用主搬送機械手TR1將第1片及第2片基板W搬出之後，利用分度機械手IR5將4片基板W同時地搬入至自上下方向D1之一端起至第4個為止之4個基板保持部27(第2搬入步驟)。
又，控制部4於再次利用分度機械手IR5將4片基板W同時搬入，並利用主搬送機械手TR1將分別由第2基板保持部27b及第1基板保持部27a保持之2片基板W(第3片基板W與第4片基板W)搬出之後，利用旋轉機構28使6個基板保持部27圍繞旋轉軸線L1旋轉180度，從而使基板W之表背反轉。繼而，控制部4再次利用主搬送機械手TR1自第2反轉單元526搬出基板W。控制部4重複實施如此之一系列動作，從而將複數片基板W自載體C搬送至基板處理部12。
主搬送機械手TR1將第1片及第2片基板W搬出之後進行之分度機械手IR5之4片基板W之搬入，既可在主搬送機械手TR1將第3片及第4片基板W搬出之前，亦可在搬出之後。又，分度機械手IR5之4片基板W之搬入、與主搬送機械手TR1之第3片及第4片基板W之搬出可並行地實施。
如上所述，即便於第1～第5實施形態之任一實施形態中，控制部4均於將由分度機械手IR1～IR5搬入之所有基板W(n片基板W)搬出之前，使上側之n個基板保持部27空置。因此，控制部4可於將由分度機械手IR1～IR5所搬入之所有之基板W搬出之前，再次利用分度機械手IR1～IR5將n片基板W搬入至上側之n個基板保持部27。因此，控制部4可不必使分度機械手IR1～IR5待機至將由分度機械手IR1～IR5搬入之所有之基板W搬出為止。藉此，可縮短分度機械手IR1～IR5之待機時間。又，基板保持部27之個數為n+m(m為小於n之正整數)，且少於分度機械手IR1一次搬送之基板W之2倍片數(n片)(2n)。因此，與設置有個數為分度機械手IR1一次搬送之基板W之2倍片數的基板保持部27的情形相比，可抑制或防止基板處理裝置1之大型化。
[其他實施形態]
本發明之實施形態之說明係如上所述，但本發明並不限定於上述實施形態之內容，於申請專利範圍所述之範圍內可進行各種變更。
例如，上述實施形態係對經由第2反轉單元將複數個基板自分度機械手側搬送至主搬送機械手側，從而縮短分度機械手之待機時間之情形已進行說明。然而，與經由第2反轉單元將複數個基板自分度機械手側搬送至主搬送機械手側的情形相同，亦可經由第2反轉單元將複數個基板自主搬送機械手側搬送至分度機械手側。
具體而言，控制部4亦可利用主搬送機械手將n片基板W自基板處理部12同時地搬送至第2反轉單元，並將該n片基板W搬入至第2反轉單元。繼而，控制部4亦可於利用第2反轉單元使各基板W之表背反轉之後，利用分度機械手將由第2反轉單元保持之n片基板W以m片為單位自第2反轉單元搬出。藉此，可縮短主搬送機械手之待機時間。
又，上述實施形態係對在第2反轉單元之上方設置有僅可自主搬送機械手側進入之第1反轉單元的情形已進行說明。然而，第1反轉單元亦可具有與第2反轉單元相同之構成，且構成為可自分度機械手側及主搬送機械手側之兩側進入。於該情形時，當將複數個基板自分度機械手側搬送至主搬送機械手側時，可使用一反轉單元，當將複數個基板自主搬送機械手側搬送至分度機械手側時，可使用另一反轉單元。
又，上述實施形態係對複數個基板保持部27沿上下方向D1排列之情形已進行說明。然而，複數個基板保持部27亦可沿除上下方向D1以外之預定方向排列。
進而，上述實施形態係對各基板保持部27具有夾持著保持基板W之構成之情形已進行說明。然而，各基板保持部27亦可構成為不僅利用夾持而且利用吸附等其他方法保持基板W。
此外，上述實施形態係對各基板保持部27具有相同之構成之情形已進行說明。然而，構成相異之複數種基板保持部亦可包含於第2反轉單元。
又，上述實施形態係對控制部4於第1搬入步驟及第2搬入步驟之2個步驟中利用分度機械手將n片基板W同時地搬入至n個基板保持部27之情形已進行說明。然而，控制部4亦可於第1搬入步驟及第2搬入步驟之至少一步驟中，利用分度機械手分成多次地將n片基板W搬入至n個基板保持部27。
又，上述實施形態係對在第1搬入步驟及第2搬入步驟中，利用分度機械手IR1將基板W以1片為單位搬入至沿上下方向D1排列之複數個基板保持部27中上側之基板保持部27之情形已進行說明。然而，控制部4亦可在第1搬入步驟及第2搬入步驟之至少一步驟中，將基板W搬入至沿上下方向D1排列之複數個基板保持部27中下側之基板保持部27。
雖對本發明之實施形態進行詳細說明，但該等僅為用以明確本發明之技術內容之具體例，本發明並非由此等具體例限定地進行解釋，本發明之精神及範圍僅由隨附之申請專利範圍限定。
本申請案係與2010年7月14日向日本專利局提交之日本專利特願2010-159708號相對應，且該申請案之全部揭示內容係藉由引用而併入本文中。
1．．．基板處理裝置
2．．．分度器塊
3．．．處理塊
4．．．控制部
5．．．基板交接部
6．．．載體保持部
7．．．IR移動機構
8、15．．．臂部
9．．．第1手部
12．．．基板處理部
12a．．．表面處理部
12b．．．背面處理部
13．．．第1處理單元
14．．．第2處理單元
16．．．第2手部
19．．．第1旋轉夾頭
20．．．噴嘴
21．．．毛刷
22．．．第2旋轉夾頭
23．．．第1反轉單元
24．．．送出側載置部
25．．．返回側載置部
26．．．第2反轉單元
27．．．基板保持部
27a．．．第1基板保持部
27b．．．第2基板保持部
27c．．．第3基板保持部
27d．．．第4基板保持部
27e．．．第5基板保持部
27f．．．第6基板保持部
28．．．旋轉機構
29．．．活動板
30．．．固定板
31．．．致動器
32．．．支持板
34．．．導軌
35．．．第1支持銷
36．．．第2支持銷
37．．．探測感測器
226、326、426、526．．．第2反轉單元
C．．．載體
D1．．．上下方向
D2．．．對向方向
IR1、IR2、IR3、IR4、IR5．．．分度機械手
L1．．．旋轉軸線
M1a．．．第1轉動機構
M1b．．．第1升降機構
M2a．．．第2轉動機構
M2b．．．第2升降機構
TR1．．．主搬送機械手
U．．．載體排列方向
W．．．基板
圖1係本發明第1實施形態之基板處理裝置之平面圖。
圖2係自圖1中箭頭II所示之方向觀察本發明第1實施形態之基板處理裝置所得的圖。
圖3係沿著圖1中III-III線之基板處理裝置之概略圖。
圖4係自圖3中箭頭IV所示之方向觀察本發明第1實施形態之第2反轉單元所得的圖。
圖5A、圖5B、圖5C及圖5D係用以說明一面利用本發明第1實施形態之反轉單元使基板之表背反轉，一面將複數片基板自載體保持部搬送至基板處理部時之分度機械手、主搬送機械手、及第2反轉單元之動作一例之概略圖。
圖6A、圖6B、圖6C及圖6D係用以說明一面利用本發明第2實施形態之反轉單元使基板之表背反轉，一面將複數片基板自載體保持部搬送至基板處理部時之分度機械手、主搬送機械手、及第2反轉單元之動作一例的概略圖。
圖7A、圖7B、圖7C及圖7D係用以說明一面利用本發明第3實施形態之反轉單元使基板之表背反轉，一面將複數片基板自載體保持部搬送至基板處理部時之分度機械手、主搬送機械手、及第2反轉單元之動作一例的概略圖。
圖8A、圖8B、圖8C及圖8D係用以說明一面利用本發明第4實施形態之反轉單元使基板之表背反轉，一面將複數片基板自載體保持部搬送至基板處理部時之分度機械手、主搬送機械手、及第2反轉單元之動作一例的概略圖。
圖9A、圖9B、圖9C及圖9D係用以說明一面利用本發明第5實施形態之反轉單元使基板之表背反轉，一面將複數片基板自載體保持部搬送至基板處理部時之分度機械手、主搬送機械手、及第2反轉單元之動作一例的概略圖。
9．．．第1手部
26．．．第2反轉單元
27．．．基板保持部
27a．．．第1基板保持部
27b．．．第2基板保持部
27c．．．第3基板保持部
D1．．．上下方向
IR1．．．分度機械手
W．．．基板

Claims (16)

  1. 一種基板處理裝置，其包括：第1保持部及第2保持部，其等分別保持基板；n+m個(n為2以上之整數，m為小於n之正整數且n之除數)基板保持部，其係可在沿著預定之排列方向排列之狀態下，分別保持基板，且可以基板之表背進行反轉之方式共同地旋轉；旋轉機構，其係以基板之表背進行反轉，並且上述n+m個基板保持部以與旋轉前相反之順序沿上述排列方向排列，而使上述n+m個基板保持部進行旋轉；第1搬送機械手，其係搬送基板；第2搬送機械手，其係搬送基板；以及控制單元，其執行如下步驟：第1搬入步驟，其藉由控制上述第1搬送機械手，而利用上述第1搬送機械手自上述第1保持部搬出n片基板，並同時地搬送該n片基板，將該n片基板搬入至自上述排列方向之一端起至第n個為止之n個上述基板保持部；反轉步驟，其係藉由控制上述旋轉機構，而於上述第1搬入步驟之後，利用上述旋轉機構，以基板之表背進行反轉，並且上述n+m個基板保持部以與旋轉前相反之順序沿上述排列方向排列，而使上述n+m個基板保持部進行旋轉；搬出步驟，其係藉由控制上述第2搬送機械手，而於上述反轉步驟之後，利用上述第2搬送機械手，自位於上述排列方向之一端之基板起依序以m片為單位，將上述第1搬入步驟中搬入至上述n個基板保持部之n片基板搬出，且將該n片基板搬入至上述第2保持部；及第2搬入步驟，其係藉由控制上述第1搬送機械手，而於上述反轉步驟之後，利用上述第1搬送機械手，自上述第1保持部搬出n片基板，並同時地搬送該n片基板，將該n片基板搬入至自上述排列方向之一端起至第n個為止之n個上述基板保持部。
  2. 如申請專利範圍第1項之基板處理裝置，其中，上述控制單元係構成為與上述搬出步驟並行地執行上述第2搬入步驟。
  3. 如申請專利範圍第1或2項之基板處理裝置，其中，上述控制單元係構成為於上述第1搬入步驟及第2搬入步驟之至少一步驟中，利用上述第1搬送機械手，將n片基板分別同時地搬入至n個上述基板保持部。
  4. 如申請專利範圍第1項之基板處理裝置，其中，n係為m乘以2所得之值。
  5. 如申請專利範圍第1項之基板處理裝置，其中，上述第1保持部係包括保持收納複數片基板之複數個收納構件之收納構件保持部，上述第2保持部係包括保持基板對所保持之基板進行處理之基板處理部，上述基板處理裝置更包括使上述第1搬送機械手移動之移動機構，上述控制單元係構成為藉由控制上述移動機構，而使上述第1搬送機械手在上述複數個收納構件與上述基板保持部之間移動。
  6. 如申請專利範圍第1項之基板處理裝置，其中，該基板處理裝置更包括保持基板之基板交接部，上述控制單元係進而執行於基板之表面朝向固定方向之狀態下，在上述第1保持部與上述第2保持部之間搬送該基板的搬送步驟，且該搬送步驟包括如下步驟：第1搬送步驟，其係利用上述第1搬送機械手，在基板之表面朝向上述固定方向之狀態下，於上述第1保持部與上述基板交接部之間搬送該基板；及第2搬送步驟，其係利用上述第2搬送機械手，在基板之表面朝向上述固定方向之狀態下，於上述第2保持部與上述基板交接部之間搬送該基板。
  7. 如申請專利範圍第1項之基板處理裝置，其中，上述第1搬送機械手係包括沿上述排列方向可移動之第1手部、及使上述第1手部沿上述排列方向移動之第1手部移動機構，上述第2搬送機械手係包括可沿上述排列方向移動之第2手部、及使上述第2手部沿上述排列方向移動之第2手部移動機構，且上述控制單元係於上述第1搬入步驟及第2搬入步驟之至少一步驟中，藉由利用上述第1手部移動機構使上述第1手部移動，而使上述第1手部與上述n+m個基板保持部對向，且於上述搬出步驟中，藉由利用上述第2手部移動機構使上述第2手部移動，而使上述第2手部與上述n+m個基板保持部對向。
  8. 如申請專利範圍第1項之基板處理裝置，其中，上述第1搬送機械手及第2搬送機械手之至少一者係於與上述排列方向正交之對向方向，相對於上述n+m個基板保持部呈對向，上述n+m個基板保持部係可圍繞與上述排列方向及對向方向呈正交之旋轉軸線進行旋轉，上述控制單元係於上述反轉步驟中，使上述n+m個基板保持部圍繞上述旋轉軸線旋轉180度。
  9. 一種基板搬送方法，其係藉由基板處理裝置來執行，該基板處理裝置包括：第1保持部及第2保持部，其等分別保持基板；n+m個(n為2以上之整數，m為小於n之正整數且n之除數)基板保持部，其可於沿預定之排列方向排列之狀態下分別保持基板，且可以基板之表背反轉之方式共同地旋轉；旋轉機構，其係以基板之表背進行反轉，並且上述n+m個基板保持部以與旋轉前相反之順序沿上述排列方向排列，而使上述n+m個基板保持部進行旋轉；第1搬送機械手，其係搬送基板；及第2搬送機械手，其係搬送基板；且，上述基板搬送方法之特徵在於包括如下步驟：第1搬入步驟，其利用上述第1搬送機械手自上述第1保持部搬出n片基板，並同時地搬送該n片基板，將該n片基板搬入至自上述排列方向之一端起至第n個為止之n個上述基板保持部；反轉步驟，其係於上述第1搬入步驟之後，利用上述旋轉機構使基板之表背進行反轉，並且上述n+m個基板保持部以與旋轉前相反之順序沿上述排列方向排列，而使上述n+m個基板保持部進行旋轉；搬出步驟，其係於上述反轉步驟之後，利用上述第2搬送機械手，自位於上述排列方向一端之基板起依序以m片為單位，將上述第1搬入步驟中搬入至上述n個基板保持部之n片基板搬出，並將該n片基板搬入至上述第2保持部；及第2搬入步驟，其係於上述反轉步驟之後，利用上述第1搬送機械手，自上述第1保持部搬出n片基板，並同時地搬送該n片基板，將該n片基板搬入至自上述排列方向之一端起至第n個為止之n個上述基板保持部。
  10. 如申請專利範圍第9項之基板搬送方法，其中，上述第2搬入步驟係與上述搬出步驟並行地執行。
  11. 如申請專利範圍第9或10項之基板搬送方法，其中，上述第1搬入步驟及第2搬入步驟之至少一步驟係包括利用上述第1搬送機械手而將n片基板分別同時地搬入至n個上述基板保持部之步驟。
  12. 如申請專利範圍第9項之基板搬送方法，其中，n係為m乘以2所得之值。
  13. 如申請專利範圍第9項之基板搬送方法，其中，上述第1保持部係包括保持收納複數片基板之複數個收納構件之收納構件保持部，上述第2保持部係包括保持基板並對所保持之基板進行處理之基板處理部，上述基板處理裝置更包括使上述第1搬送機械手移動之移動機構，該基板搬送方法更包括：利用上述移動機構，使上述第1搬送機械手在上述複數個收納構件與上述基板保持部之間移動的步驟。
  14. 如申請專利範圍第9項之基板搬送方法，其中，上述基板處理裝置更包括保持基板之基板交接部，該基板搬送方法更包括：於基板之表面朝向固定方向之狀態下，在上述第1保持部與上述第2保持部之間搬送該基板的搬送步驟，且，該搬送步驟包括：第1搬送步驟，其係利用上述第1搬送機械手，於基板之表面朝向上述固定方向之狀態下，在上述第1保持部與上述基板交接部之間搬送該基板；及第2搬送步驟，其係利用上述第2搬送機械手，於基板之表面朝向上述固定方向之狀態下，在上述第2保持部與上述基板交接部之間搬送該基板。
  15. 如申請專利範圍第9項之基板搬送方法，其中，上述第1搬送機械手係包括：沿上述排列方向可移動之第1手部、及使上述第1手部沿上述排列方向移動之第1手部移動機構，上述第2搬送機械手係包括：可沿上述排列方向移動之第2手部、及使上述第2手部沿上述排列方向移動之第2手部移動機構，上述第1搬入步驟及第2搬入步驟之至少一步驟，係包括藉由利用上述第1手部移動機構使上述第1手部移動，而使上述第1手部與上述n+m個基板保持部對向之步驟，上述搬出步驟係包括藉由利用上述第2手部移動機構使上述第2手部移動，而使上述第2手部與上述n+m個基板保持部對向之步驟。
  16. 如申請專利範圍第9項之基板搬送方法，其中，上述第1搬送機械手及第2搬送機械手之至少一者，係於與上述排列方向正交之對向方向，相對於上述n+m個基板保持部呈對向，上述n+m個基板保持部可圍繞與上述排列方向及對向方向呈正交之旋轉軸線旋轉，上述反轉步驟係包括利用上述旋轉機構使上述n+m個基板保持部圍繞上述旋轉軸線旋轉180度之步驟。
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