JPH10172939A - 基板処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 装置全体の小型化およびスループットの向上
を図ることができる基板処理装置を提供する。 【解決手段】 基板Ｗに一連の処理を施す基板処理装置
において、基板ＷをＸ方向に搬送する２つの搬送ロボッ
ト３ａ、３ｂを設けて、Ｘ方向に並んだ４つの処理部４
ａ〜４ｄと両搬送ロボット３ａ、３ｂとの間で基板Ｗの
受渡を行う。また、両搬送ロボット３ａ、３ｂにはそれ
ぞれ一対の保持板３１を設けてこれらの保持板３１の表
裏を反転可能とし、保持板３１の表裏を異なる表面状態
の基板Ｗを保持する面として使い分ける。以上の構成に
より、各搬送ロボット３ａ、３ｂの保持板３１の表裏２
面はそれぞれ異なる処理部からの基板を受け取るように
することができ、保持板３１を洗浄したり乾燥したりす
る必要をなくすことができる。その結果、装置全体を小
型化すると共にスループットを向上を図ることができ
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、半導体基板や液
晶ディスプレイなどの製造に用いられるガラス基板など
（以下、「基板」という。）を製造する際に、複数の処
理部を用いて基板に処理を施す基板処理装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】複数の処理部において基板を処理する基
板処理装置の例として、基板の表面にエッチングやレジ
スト膜剥離などの薬液処理を行う基板処理装置がある。
このような基板処理装置では多槽型基板処理装置とし
て、薬液を貯留した薬液槽と純水を貯留した純水洗浄槽
とを備え、基板を薬液槽、純水洗浄槽に順次、浸漬させ
て基板に対して処理を施すものがある（以下、薬液槽
や、純水洗浄槽を単に「薬液・純水洗浄槽」とい
う。）。また、このような基板処理装置では最終の純水
洗浄処理が完了した基板に乾燥処理を施す乾燥室も備え
ている。

【０００３】一方、基板処理装置の中には単槽型基板処
理装置として、１つの薬液・純水洗浄槽に薬液、純水を
順次、交互に供給して薬液・純水洗浄槽内の薬液と純水
とを順次、交互に置換することで基板を空気に触れさせ
ることなく薬液処理、純水洗浄処理を行うものもある。
また、このような基板処理装置では最終の純水洗浄が完
了した基板に乾燥処理を施す乾燥室を備えるものや、前
記１つの薬液・純水洗浄槽にて乾燥処理まで行うものも
ある（以下、薬液処理や、純水洗浄処理、そして、乾燥
処理を単に「処理」という。）。

【０００４】以上のような基板処理装置では、処理槽や
乾燥室などに基板を搬送する搬送ロボットを有している
が、搬送ロボットの基板を保持する保持部には処理後の
基板を保持する度に基板に付着している薬液や純水が付
着することとなる。しかし、基板は僅かな汚染に対して
も品質として大きな影響を受けるものであるため、搬送
ロボットの保持部には基板を汚染しないようにする様々
な工夫が必要となる。

【０００５】そこで、基板処理装置に保持部を洗浄した
り乾燥したりする機構を設け、常に洗浄や乾燥を行った
保持部を用いて基板を保持し、搬送を行うようにしてい
る。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかし、基板処理装置
に保持部を洗浄したり乾燥したりする機構を設けたので
は基板処理装置全体が大きくなってしまうと共に装置自
体も複雑なものとなってしまう。また、基板を保持する
度に保持部を洗浄していたのではスループットが低減し
てしまうこととなる。

【０００７】そこで、この発明は、上記課題に鑑みなさ
れたもので、搬送ロボットの保持部の洗浄および乾燥を
不要とするととにより、基板処理装置の機構を複雑なも
のとすることなく、装置の小型化およびスループットの
向上を図ることができる基板処理装置を提供することを
目的とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】請求項１の発明は、基板
に所定の一連の処理を施す基板処理装置であって、前記
基板に所定の処理を施す複数の処理部と、前記複数の処
理部の間において前記基板を搬送する複数の搬送手段と
を備え、前記複数の処理部のそれぞれが、前記複数の搬
送手段と前記基板の受渡を行う受渡手段を有し、前記複
数の搬送手段のそれぞれが、前記複数の処理部のうちあ
らかじめ当該搬送手段について割り当てられた一部の受
渡手段からのみ前記基板を受け取る。

【０００９】請求項２の発明は、請求項１記載の基板処
理装置であって、前記複数の処理部のそれぞれの受渡手
段が、前記複数の搬送手段のうちの特定の一の搬送手段
のみに前記基板を渡す。

【００１０】請求項３の発明は、請求項１または２記載
の基板処理装置であって、前記複数の処理部が所定の方
向に配列されており、前記複数の搬送手段が前記基板を
前記所定の方向にのみ搬送する。

【００１１】請求項４の発明は、基板に所定の一連の処
理を施す基板処理装置であって、所定の方向に配列さ
れ、前記基板に所定の処理を施す複数の処理部と、前記
所定の方向に前記基板を搬送する第１および第２の搬送
手段とを備え、前記複数の処理部のそれぞれが、前記第
１および第２の搬送手段と前記基板の受渡を行う受渡手
段を有し、前記第１および第２の搬送手段のそれぞれ
が、前記基板の前記所定の方向の搬送を案内する直線状
の案内手段を有し、前記第１および第２の搬送手段の前
記案内手段が互いに平行に配置され、前記第１および第
２の搬送手段のそれぞれが、前記複数の処理部のうちの
一部の受渡手段からのみ前記基板を受け取る。

【００１２】請求項５の発明は、請求項４記載の基板処
理装置であって、前記所定の方向が水平方向を向いてお
り、前記第１および第２の搬送手段の前記案内手段が互
いに上下に平行に配置されている。

【００１３】請求項６の発明は、請求項４記載の基板処
理装置であって、前記所定の方向が水平方向を向いてお
り、前記第１および第２の搬送手段の前記案内手段が互
いに段違平行に配置されている。

【００１４】請求項７の発明は、請求項４記載の基板処
理装置であって、前記所定の方向が水平方向を向いてお
り、前記第１および第２の搬送手段の前記案内手段の間
に前記複数の処理部が配置されている。

【００１５】請求項８の発明は、請求項４ないし７のい
ずれかに記載の基板処理装置であって、前記受渡手段
が、前記基板を昇降させる昇降手段である。

【００１６】請求項９の発明は、請求項４ないし８のい
ずれかに記載の基板処理装置であって、前記第１の搬送
手段が、前記基板に接触して保持する複数の保持面群を
有する保持部と、前記受渡手段から受け取る前記基板の
処理段階に応じて前記複数の保持面群を切り替える切替
手段とをさらに有する。

【００１７】請求項１０の発明は、請求項９記載の基板
処理装置であって、前記保持部が、水平方向を向く互い
に平行な１対の回転軸と、前記１対の回転軸のそれぞれ
に沿って取り付けられ、表裏各面が保持面となっている
１対の保持板とを有し、前記１対の保持板のそれぞれの
一保持面が対をなすことにより前記複数の保持面群の一
保持面群となっており、前記基板の外縁部が前記一保持
面群に当接して前記基板の主面の法線が前記１対の回転
軸とほぼ同じ方向を向くように前記基板が保持され、前
記切替手段が、前記１対の保持板を前記１対の回転軸を
中心としてそれぞれ回転させる手段である。

【００１８】請求項１１の発明は、請求項９記載の基板
処理装置であって、前記保持部が、水平方向を向く互い
に平行な１対の回転軸と、前記１対の回転軸のそれぞれ
を中心軸とする略正多角柱状であって、前記中心軸に平
行な面を保持面とする１対の保持体とを有し、前記１対
の保持体のそれぞれの一保持面が対をなすことにより前
記複数の保持面群の一保持面群となっており、前記基板
の外縁部が前記一保持面群に当接して前記基板の主面の
法線が前記１対の回転軸とほぼ同じ方向を向くように前
記基板が保持され、前記切替手段が、前記１対の保持体
を前記１対の回転軸を中心としてそれぞれ回転させる手
段である。

【００１９】

【発明の実施の形態】

＜１． 第１の実施の形態＞ ＜１．１ 全体構成＞図１はこの発明の一の実施の形態
である基板処理装置１を示す斜視図である。また、図２
は基板処理装置１を（＋Ｘ）方向から（−Ｘ）方向を向
いて見たときの各構成要素の配置の概略を示した図であ
る。

【００２０】この基板処理装置１は複数枚の基板Ｗ（以
下、単に「基板Ｗ」という。）を一括して処理する装置
であり、この装置は図１に示すようにカセットＣにセッ
トされた基板Ｗを装置外部との間で受け渡しする搬出入
部２、搬出入部２に搬入された基板Ｗを受け取って搬送
する搬送部３、搬送部３から基板Ｗを受け取って所定の
一連の処理を施す処理ユニット４から構成されている。

【００２１】搬出入部２は、搬入された（あるいは搬出
直前の）基板ＷをカセットＣにセットして一時的にＹ方
向に並べて載置しておくカセット台２１、Ｙ方向に移動
するとともにＺ方向に昇降可能とされ、また、Ｚ軸に平
行な軸を中心に回転可能となっている移載ロボット２
２、移載ロボット２２により載置されたカセットＣから
基板Ｗを下方より突き上げて搬送部３に渡す突上部２
３、および、空のカセットＣを洗浄するカセット洗浄部
２４から構成される。

【００２２】搬送部３は、Ｘ方向にのみ移動可能であ
り、突上部２３から受け取った基板Ｗを処理ユニット４
に渡し、所定の処理が完了した基板を突上部２３に返却
する第１搬送ロボット３ａおよび第２搬送ロボット３ｂ
から構成され、第２搬送ロボット３ｂは第１搬送ロボッ
トの３ａの直上位置に配置されている。

【００２３】第１および第２搬送ロボットは３ａ、３ｂ
は、それぞれＹ方向に伸びる保持板３１を１対ずつ有し
ており、１対の保持板３１に挟まれるようにして起立姿
勢の複数の基板をＹ方向に並べて保持するようになって
いる。また、これらの１対の保持板３１はそれぞれＹ方
向に伸びる軸３３に取り付けられており（図２参照）、
これらの軸を中心として回転するようになっている。

【００２４】図３(a)および(b)は基板Ｗを保持した状態
の保持板３１の様子を（＋Ｙ）方向から（−Ｙ）方向を
向いて見たときの側面図である。２つの保持板３１は矢
印Ｒ１に示すように軸３３を中心に互いに反対方向に同
じ回転角だけ回転するようになっており、それぞれの保
持板３１の表裏両面である保持面３１ａ、３１ｂは対と
なって基板Ｗを保持するようになっている。すなわち、
図３(a)に示すように基板Ｗが保持されるときに一方の
保持板３１が基板Ｗに対して保持面３１ａを向けている
ときは常に他方の保持板３１も保持面３１ａを基板Ｗに
向けており、図３(b)に示すように一方の保持板３１が
基板Ｗに対して保持面３１ｂを向けているときは常に他
方の保持板３１も保持面３１ｂを基板Ｗに向けるように
なっている。これにより、例えば、図３(a)に示すよう
に乾燥した基板Ｗ１は１対の保持面３１ａを用いて保持
し、図３(b)に示すように薬液が付着した基板Ｗ２は１
対の保持面３１ｂを用いて保持するようにすると、基板
Ｗへの不要な液を付着を考慮することなく１対の保持板
３１を用いて２つの表面状態の基板Ｗ１、Ｗ２を保持す
ることが可能となる。

【００２５】なお、各保持板３１の表裏両面である２つ
の保持面３１ａ、３１ｂには基板Ｗをその主面の法線が
Ｙ方向を向いて保持されるように複数の溝ＧがＹ方向に
垂直な方向に形成されており、２つの保持板３１がＹ−
Ｚ面に平行な状態で基板Ｗをその間に配置し、その後両
保持板３１を回転させて基板Ｗを挟み込むようにして保
持するようになっている。

【００２６】第１および第２搬送ロボット３ａ、３ｂの
各保持板３１は軸３３を介してＸ方向に伸びる直動手段
３２（駆動源と案内手段とを兼ね備えたもの）によりＸ
方向に移動するようになっている（図１、図２参照）。
したがって、突上部２３において突き上げられた基板Ｗ
は第１および第２搬送ロボット３ａ、３ｂにより保持さ
れて処理ユニット４上をＸ方向に搬送されることとな
る。

【００２７】処理ユニット４は、基板Ｗに薬液処理を施
す薬液処理部４ａ、基板Ｗに純水洗浄処理を施す純水洗
浄処理部４ｂ、薬液・純水処理部４ｃ、および、基板Ｗ
に乾燥処理を施す乾燥処理部４ｄ（以下、これらを総称
して「処理部」という。）から構成されている。また、
これらの処理部はＸ方向に並んで配置されており、この
上を第１および第２搬送ロボット３ａ、３ｂの保持板３
１が移動するようになっている。

【００２８】薬液処理部４ａは薬液を貯留する薬液槽４
３ａを有し、薬液槽４３ａは図２に示すように薬液を供
給する処理液供給部４４に接続されている。また、薬液
槽４３ａからあふれ出した薬液は排出部４５から排出さ
れ図示しない温度調節手段、濾過手段を通じて再び処理
液供給部４４を通じて薬液槽４３ａに循環される。この
薬液槽４３ａでは温度調節手段が設けられてかつ薬液を
循環させていることから、比較的高温度、高濃度の薬液
による薬液処理が行われる。

【００２９】純水洗浄処理部４ｂは純水洗浄槽４３ｂを
有する。純水洗浄槽４３ｂは下部から純水が供給され上
部から純水があふれ出すようになっており、薬液槽４３
ａで薬液処理が施された後の基板Ｗが持ち込まれたと
き、該基板Ｗに付着した薬液を純水で洗い流して除去す
る。

【００３０】薬液・純水洗浄処理部４ｃは１つの薬液・
純水洗浄槽４３ｃを有する。薬液・純水洗浄槽４３ｃの
下部からは薬液、純水がそれぞれ順次、交互に所定時間
供給される。これによって、薬液・純水洗浄槽４３ｃ内
は薬液、純水に交互に置き換わる。よって、純水洗浄槽
４３ｂにて純水洗浄処理が施された後、この薬液・純水
洗浄槽４３ｃに浸漬された基板Ｗは空気に触れることな
く薬液処理、純水洗浄処理を施される。

【００３１】この薬液・純水洗浄槽４３ｃでは薬液と純
水とが交互に置換されることから薬液槽４３ａで用いら
れる薬液に比べて低温度、低濃度の薬液による薬液処理
が行われる。なお、乾燥処理部４ｄについては乾燥処理
が行われる乾燥室４３ｄが設けられている。

【００３２】また、薬液槽４３ａ、純水洗浄槽４３ｂ、
薬液・純水洗浄槽４３ｃはそれぞれ基板Ｗを保持する保
持台４１と保持台４１を上下に昇降させる昇降手段４２
を有している。乾燥処理部４ｄも形態は異なるが、乾燥
室４３ｄから基板Ｗを出し入れする昇降手段および保持
台を有している（図示省略）。これにより、各処理部と
第１および第２搬送ロボット３ａ、３ｂとは基板Ｗの受
け渡しが可能とされており、基板Ｗに薬液処理、純水洗
浄処理、および、乾燥処理を施すことができるようにな
っている。

【００３３】＜１．２ 動作＞次に、この基板処理装置
１の動作について図１および図４を用いて説明する。

【００３４】まず、図１に示すように基板Ｗはカセット
Ｃにセットされた状態で装置外部から搬送車などの手段
により搬送されてカセット台２１上に載置される。カセ
ット台２１に載置されたカセットは移載ロボット２２に
より突上部２３に載置される。なお、突上部２３にはカ
セットＣが同時に２つ載置可能になっており、ここで、
カセットＣがＺ方向を向く軸を中心として９０度回転さ
れた後、２つのカセットＣ内部の基板Ｗが同時に上方へ
と突き上げ取り出される。空になったカセットＣは、再
び移載ロボット２２に把持されてカセット洗浄部２４へ
と格納され、基板Ｗに所定の一連の処理が施されている
間に洗浄処理が施される。

【００３５】突上部２３により突き上げられた基板Ｗは
図４に示すように第１搬送ロボット３ａに保持されなが
ら矢印Ｐ１１に示すように薬液処理部４ａへと搬送され
る。なお、このとき基板Ｗは第１搬送ロボット３ａの保
持板３１の１対の保持面３１ａ（図３(a)参照）により
保持される。

【００３６】薬液処理部４ａへと搬送された基板Ｗは第
１搬送ロボット３ａから保持台４１へと受け渡しされ、
昇降手段４２により薬液槽４３ａ内部の薬液に浸漬され
る。ここで基板Ｗには薬液処理が施され、その後、昇降
手段４２により取り出される。

【００３７】薬液槽４３ａから取り出された基板Ｗは保
持台４１から第１搬送ロボット３ａへと再び渡される。
このとき、第１搬送ロボット３ａは保持板３１の１対の
保持面３１ｂ（図３(b)参照）にて受け取る。したがっ
て、保持面３１ｂには基板Ｗに付着している薬液が付着
するが保持面３１ａには付着することはない。

【００３８】薬液処理部４ａから基板Ｗを受け取った第
１搬送ロボット３ａは、次に、矢印Ｐ１２に示すように
純水洗浄処理部４ｂへと基板Ｗを搬送し、薬液処理部４
ａと同様、基板Ｗを保持台４１に渡す。そして第１搬送
ロボット３ａは次の処理されるべき基板Ｗを受け取るた
めに矢印Ｐ１４に示すように再び突上部２３へと移動す
る。純水洗浄処理部４ｂは受け取った基板Ｗに純水洗浄
処理を施し、基板Ｗに付着した薬液を洗い流す。そし
て、第２搬送ロボットへ３ｂへと基板Ｗを渡す。このと
き、第２搬送ロボット３ｂは保持面３１ａにて基板Ｗを
受け取り、該保持面３１ａには純水が付着する。

【００３９】純水洗浄処理部４ｂから基板Ｗを受け取っ
た第２搬送ロボット３ｂは矢印Ｐ１３に示すように薬液
・純水洗浄処理部４ｃに基板Ｗを渡す。

【００４０】以上のように第１搬送ロボット３ａでは、
保持板３１の１対の保持面３１ａは基板処理装置１へ搬
入された直後の基板Ｗを保持するためにのみ用いられ、
１対の保持面３１ｂは薬液処理部４ａでの薬液処理後の
基板Ｗを受け取るためにのみ用いられている。したがっ
て、保持面３１ａには液が付着することはなく、保持面
３１ｂには薬液のみが付着することとなる。

【００４１】基板Ｗを第２搬送ロボット３ｂから受け取
った薬液・純水洗浄処理部４ｃは基板Ｗを昇降させてさ
らに他の薬液処理および純水洗浄処理を基板Ｗに施し、
この基板Ｗを第２搬送ロボット３ｂに渡す。このとき、
第２搬送ロボット３ｂは２つの保持板３１の１対の保持
面３１ａを用いて基板Ｗを保持する。このとき保持面３
１ａは純水洗浄処理部４ｂから渡された基板Ｗに接触し
ているので純水が付着しているが、薬液・純水洗浄処理
部４ｃから渡される基板Ｗも純水が付着しているので問
題はない。

【００４２】第２搬送ロボット３ｂは薬液・純水洗浄処
理部４ｃから受け取った基板Ｗを矢印Ｐ１５に示すよう
に乾燥処理部４ｄの上方へと搬送する。ここで、乾燥処
理部４ｄの保持台が基板Ｗを受け取って乾燥処理を施
し、乾燥した基板Ｗを再び第２搬送ロボット３ｂに渡
す。このとき、第２搬送ロボット３ｂは保持板３１の１
対の保持面３１ｂを用いて基板Ｗを受け取る。すなわ
ち、第２搬送ロボット３ｂにおいては保持面３１ａは純
水洗浄処理部４ｂ、薬液・純水洗浄処理部４ｃにて純水
洗浄処理が施された後の純水が付着した基板Ｗを保持す
るためにのみ用いられ、保持面３１ｂは乾燥処理が施さ
れた後の乾燥した基板Ｗを保持するためにのみ用いられ
ることとなる。なお、基板Ｗを乾燥処理部４ｄから受け
取った第２搬送ロボット３ｂは矢印Ｐ１６に示すように
突上部２３へと基板Ｗを搬送して突上部２３に基板Ｗを
返却する。そして、次の基板を受け取るために矢印Ｐ１
７に示すように純水洗浄処理部４ｂへと移動する。

【００４３】突上部２３ではカセット洗浄部２４にて洗
浄されたカセットＣが移載ロボット２２を用いて配置さ
れ、処理後の基板Ｗがこの中に格納される（図１参
照）。そして、処理が施された基板Ｗがセットされたカ
セットＣはカセット台２１に載置されて装置外部へと搬
出されていく。

【００４４】＜１．３ 効果＞以上、第１の実施の形態
における基板処理装置１の構成および動作について説明
してきたが、この基板処理装置１はこのように第１およ
び第２搬送ロボット３ａ、３ｂを有し、かつ、各搬送ロ
ボットは基板Ｗを保持する保持面の対を２つ有している
ので、これらの保持面３１ａ、３１ｂを使い分けること
により、各保持面は特定の表面状態の基板Ｗのみを保持
することができる。その結果、保持板３１自体に洗浄や
乾燥を施すことなく、基板Ｗに悪影響を与える液や汚染
物質の付着を防止することができる。また、これによ
り、装置の小型化およびスループットの向上を図ること
ができる。

【００４５】さらに、この基板処理装置１では第１およ
び第２搬送ロボット３ａ、３ｂが上下に配置されている
ので、装置の占有床面積の低減も図ることができる。ま
た、この基板処理装置１では、各処理部がＸ方向に配列
されており、直動手段３２や昇降手段４２は１軸の移動
機構であるので、基板Ｗの受渡の際の位置決めを正確に
行うことができ、迅速で信頼性の高い受渡を容易に実現
することができる。

【００４６】＜１．４ 搬送ロボットの配置変形例＞図
５はこの発明の第１の実施の形態である基板処理装置１
において第２搬送ロボット３ｂの配置が変更されたもの
（図中符号３ｃ）を示す図であり、第１の実施の形態に
おける図２に相当する図である。

【００４７】この第２搬送ロボット３ｃは図２に示され
る第２搬送ロボット３ｂと異なり、直動手段３２が第１
搬送ロボット３ａの直動手段３２に対して側方上方に平
行に（段違平行に）に配置されている。したがって、第
２搬送ロボット３ｃの保持板３１が取り付けられた軸３
３は第１搬送ロボット３ａのものよりも長いものとなっ
ている。

【００４８】このように、第１および第２搬送ロボット
３ａ、３ｃを段違い平行に配置することにより、両搬送
ロボットの保持板３１の上下方向の距離を第１の実施の
形態の基板処理装置１に比べて小さくすることができ
る。また、各処理部に設けられている昇降手段４２ｓは
第１の実施の形態のものに比べて低く押さえることがで
きる。その結果、この基板処理装置は第１の実施の形態
の基板処理装置１に比べて高さ方向に対して低く押さえ
られている。これにより、搬送ロボットを２つ有するた
めに装置全高が高くなるという問題が克服されている。
また、基板Ｗの高さ方向の搬送経路も短く押さえられる
こととなり、スループットも向上される。

【００４９】さらに、第１の実施の形態では搬送ロボッ
トは２つであるが、これは説明の便宜上２つのものを示
したに過ぎず、もちろん３つ以上であってもよい。この
場合、特定の種類の処理部から取り出される特定の表面
状態の基板を受け取る搬送ロボットを特定のものに決め
ておけば（２つ以上であってもよい）、基板Ｗを保持す
る部位の洗浄・乾燥を不要とすることが可能であり、上
記効果を得るようにすることができる。なお、処理内容
によっては任意の搬送ロボットが受け取るようにしても
よい。このような場合であっても搬送ロボットが多いほ
どスループットの向上を図ることができる。

【００５０】＜１．５ 処理ユニットの変形例＞図６は
第１の実施の形態に示す基板処理装置１の処理ユニット
４の構成を変形した例を示す動作図である。この変形例
では、処理ユニット４は薬液処理のみを行う薬液処理部
４ｅ、純水洗浄処理のみを行う純水洗浄処理部４ｆ、お
よび、乾燥処理を行う乾燥処理部４ｄから構成されてい
る。薬液処理部４ｅは第１の実施の形態と同様、薬液槽
を有している。また、純水洗浄処理部４ｆも純水のみが
供給されて貯留されている洗浄槽を有している。なお、
搬出入部２および搬送部３については第１の実施の形態
と同様である。

【００５１】この基板処理装置では、第１搬送ロボット
３ａが保持板３１の１対の保持面３１ａを用いて突上部
２３から基板Ｗを受け取り、矢印Ｐ２１に示すように搬
送して薬液処理部４ｅに基板Ｗを渡す。基板Ｗは薬液処
理部４ｅの薬液槽にて浸漬されて処理された後再び第１
搬送ロボット３ａに基板Ｗを渡すが、このとき第１搬送
ロボット３ａは１対の保持面３１ｂを用いて基板Ｗを保
持する。第１搬送ロボット３ａは基板Ｗを矢印Ｐ２２に
示すように搬送して純水洗浄処理部４ｆに渡し、次の基
板を受け取りに矢印Ｐ２３に示すように再び突上部２３
へと移動する。

【００５２】第２搬送ロボット３ｂは、純水洗浄処理が
施された基板Ｗを純水洗浄処理部４ｆから保持板３１の
１対の保持面３１ａを用いて受け取り、矢印Ｐ２４に示
すように搬送して乾燥処理部４ｄに渡す。乾燥処理が施
された基板Ｗは再び第２搬送ロボット３ｂに渡され、矢
印Ｐ２５に示すように突上部２３へと搬送される。この
とき、第２搬送ロボット３ｂは１対の保持面３１ｂを用
いて基板Ｗを搬送する。そして、突上部２３に基板Ｗを
渡すと次の基板を受け取るために純水洗浄処理部４ｆへ
と矢印Ｐ２６に示すように移動する。

【００５３】このように、この変形例では、第１搬送ロ
ボット３ａの１対の保持板３１の１対の保持面３１ａは
未処理の基板Ｗを搬送するために用いられ、１対の保持
面３１ｂは薬液処理後の基板Ｗを搬送するために用いら
れている。また、第２搬送ロボット３ｂの１対の保持板
３１の１対の保持面３１ａは純水洗浄処理後の基板Ｗを
搬送するために用いられ、１対の保持面３１ｂは乾燥処
理後の基板Ｗを搬送するために用いられている。

【００５４】＜２． 第２の実施の形態＞図７はこの発
明の第２の実施の形態である基板処理装置を第１の実施
の形態における図２と同様（＋Ｘ）方向から（−Ｘ）方
向を向いて見た図であり、図２と同様の構成要素のみ図
示している。また、図８は第１搬送ロボット３ｄにおい
て第１の実施の形態における保持板３１に代えて取り付
けられている保持体３４を示す図であり、図９は第２搬
送ロボット３ｅに同様に取り付けられている保持アーム
３５を示す図である。さらに、図１０はこの基板処理装
置の動作を示す図である。

【００５５】図７に示すように、第１搬送ロボット３ｄ
は第１の実施の形態における２つの保持板３１に代えて
Ｙ方向に伸びる２つの正三角柱の保持体３４となってい
る。すなわち、保持板３１では表裏２面である保持面３
１ａ、３１ｂが基板Ｗの表面状態に応じて切り替えられ
たが、この実施の形態では三角柱の３つの側面である保
持面３４ａ、３４ｂ、３４ｃがその役割を果たすように
なっている。この保持体３４を（＋Ｙ）方向から（−
Ｙ）方向を向いて見た状態を示したものが図８である。
２つの保持体３４のそれぞれの３つの保持面は第１の実
施の形態と同様に軸３３を中心に矢印Ｒ２の方向に回転
して対となって切り替えられるようになっており、それ
ぞれの保持面には基板Ｗを起立姿勢にて保持できるよう
に複数の溝Ｇが形成されている。

【００５６】また、第２搬送ロボット３ｅは処理ユニッ
ト４を挟んで第１搬送ロボット３ｄと対向して設けられ
ており、各処理部の昇降手段４２ｓの上方を通って伸び
る１対の軸３３のそれぞれに保持アーム３５が取り付け
られたものとなっている。この保持アーム３５を（−
Ｙ）方向から（＋Ｙ）方向を向いて見た状態を示したも
のが図９であり、保持アーム３５が矢印Ｒ３に示すよう
に開閉することにより、基板Ｗを抱え込んで保持するよ
うになっている。

【００５７】この基板処理装置の処理ユニット４は図１
０に示すように、第１薬液処理部４ｇ、第１純水洗浄処
理部４ｈ、第２薬液処理部４ｉ、第２純水洗浄処理部４
ｊ、および、乾燥処理部４ｄがこの順で（−Ｘ）方向か
ら（＋Ｘ）方向に向かって配置されており、各薬液処理
部および各純水洗浄処理部には薬液や純水が貯留されて
いる。なお、第１および第２薬液処理部４ｇ、４ｉに貯
留されている薬液は同種または混合しても問題を生じな
い（有害ガスを発生しないなど）ものとなっている。ま
た、他の構成要素は第１の実施の形態と同様である。

【００５８】以下、この基板処理装置の動作を図１０を
用いて説明する。

【００５９】まず、第１搬送ロボット３ｄは１対の保持
面３４ａを用いて突上部２３から基板Ｗを受け取って矢
印Ｐ３１に示すように搬送して第１薬液処理部４ｇに渡
す。そして、矢印Ｐ３２、Ｐ３３、Ｐ３４、Ｐ３５に示
すように順に、第１薬液処理部４ｇから１対の保持面３
４ｂを用いて基板Ｗを受け取り第１純水洗浄処理部４ｈ
に渡し、第１純水洗浄処理部４ｈから１対の保持面３４
ｃを用いて基板Ｗを受け取り第２薬液処理部４ｉに渡
し、第２薬液処理部４ｉから１対の保持面３４ｂを用い
て基板Ｗを受け取り第２純水洗浄処理部４ｊに渡し、第
２純水洗浄処理部４ｊから１対の保持面３４ｃを用いて
基板Ｗを受け取り乾燥処理部４ｄに渡す。その後、矢印
Ｐ３６に示すように第１薬液処理部４ｇへと戻る。

【００６０】一方、第２搬送ロボット３ｅは、乾燥処理
部４ｄから基板Ｗを受け取って矢印Ｐ３７に示すように
搬送して突上部２３に渡し、矢印Ｐ３８に示すように元
の位置に戻る。

【００６１】このような動作を行うことにより、保持体
３４の保持面３４ａは未処理の基板Ｗのみと接触し、保
持面３４ｂは薬液が付着した基板Ｗのみと接触し、保持
面３４ｃは純水が付着した基板Ｗのみと接触することと
なる。また、第１および第２薬液処理部４ｇ、４ｉの薬
液は同種または混合可能なものであるので、これらの処
理部から保持面３４ｂを用いて基板Ｗを受け取るように
しても問題は生じない。したがって、第１の実施の形態
と同様、保持体３４や保持アーム３５の洗浄や乾燥を不
要とし、装置の小型化やスループットの向上を図ること
ができる。

【００６２】また、この実施の形態では第１および第２
搬送ロボット３ｄ、３ｅは十分離れて配置することがで
きるので、各搬送ロボットの配置を容易に決定すること
ができ、かつ、保持体３４と保持アーム３５とに保持さ
れる基板Ｗの距離を小さくすることができ、装置全高を
低く押さえたり短い上下移動によるスループットの向上
を図ることができる。

【００６３】＜３． 第３の実施の形態＞図１１はこの
発明の第３の実施の形態である基板処理装置の保持体３
６を示す図であり、図１２は動作を示す図である。

【００６４】この基板処理装置では、第１の実施の形態
の基板処理装置１と比べて、第１搬送ロボット３ｆが保
持板３１に代えて図１１に示すような底面が正方形の角
柱をした保持体３６を有している点で相違し、また、処
理ユニット４も第２の実施の形態と同様の形態となって
いる。ただし、第１および第２薬液処理部４ｇ、４ｉに
貯留されている薬液は例えば酸とアルカリ等互いに混合
してはならないものである。

【００６５】図１１に示すように保持体３６が四角柱で
あるので、第２の実施の形態における保持体３４に対し
てさらに１対の保持面を多く有している。すなわち、各
保持体３６は保持面３６ａ，３６ｂ、３６ｃ、３６ｄの
４つの保持面を有しており、両保持体３６が矢印Ｒ４に
示すように軸３３を中心として反対方向に回転すること
により、両保持体３６の対応する保持面が対をなして基
板Ｗを保持するようになっている。したがって、４つの
異なる表面状態の基板Ｗを保持することができるように
なっている。

【００６６】また、第２搬送ロボット３ｂは第１の実施
の形態と同様に２つの保持面３１ａ、３１ｂを有する保
持板３１を１対有している。

【００６７】このような第１および第２搬送ロボット３
ｆ、３ｂを備えたこの基板処理装置の動作は図１２に示
すように、まず、突上部２３から第１搬送ロボット３ｆ
が１対の保持面３６ａを用いて基板Ｗを受け取り、矢印
Ｐ４１に示すように搬送して第１薬液処理部４ｇに渡
す。以下、順に矢印Ｐ４２、Ｐ４３、Ｐ４４に示すよう
に第１薬液処理部４ｇから第１純水洗浄処理部４ｈへ保
持面３６ｂを用いて搬送し、第１純水洗浄処理部４ｈか
ら第２薬液処理部４ｉへ保持面３６ｃを用いて搬送し、
第２薬液処理部４ｉから第２純水洗浄処理部４ｊへ保持
面３６ｄを用いて搬送する。その後、次の基板を受け取
るために矢印Ｐ４５に示すように突上部２３へと移動す
る。

【００６８】次に、第２搬送ロボット３ｂは矢印Ｐ４
６、Ｐ４７に示すように第２純水洗浄処理部４ｊから乾
燥処理部４ｄへ保持面３１ａを用いて基板Ｗを搬送し、
乾燥処理部４ｄから突上部２３へと保持面３１ｂを用い
て搬送する。その後、次の基板を受け取るために矢印Ｐ
４８に示すように第２純水洗浄処理部４ｊへと移動す
る。

【００６９】以上のような搬送動作により、各処理部か
らの基板Ｗの受け取りは第１および第２搬送ロボット３
ｆ、３ｂの異なった保持面で行われるので、たとえ第１
および第２薬液処理部４ｇ、４ｉに貯留されている薬液
が混ざってはならないものであっても保持体３６や保持
板３１の洗浄などを行うことなく基板Ｗを安全に取り扱
うことができる。もちろん、第１の実施の形態と同様、
装置の小型化やスループットの向上も図ることができ
る。

【００７０】＜４． 変形例＞以上この発明の実施の形
態について説明してきたが、この発明は上記実施の形態
に限定されるものではない。

【００７１】例えば、上記実施の形態では搬送ロボット
が２つであったが、既述のように３つ以上であってもよ
い。また、処理ユニット４の処理部の数も上記実施の形
態に限定されるものではない。これらは処理内容に応じ
て適宜決定されるものである。

【００７２】また、搬送ロボットの保持板３１や保持体
３４、３６も上記実施の形態に限定されるものではな
く、複数の表面状態の基板を搬送できるのであれば、ど
のような形態であってもよい。例えば、保持体として正
六角柱状のものを用い、１対の保持体間の間隔を変更可
能とすると共に、６つの側面を切り替えて保持するよう
にしてもよい。なお、１対の保持体間の間隔を変更可能
とするのは、基板の下方に保持体を移動させるために両
保持体間の間隔を基板の直径より大きくするためであ
る。

【００７３】また、基板Ｗの処理が完了する前に次の基
板の処理を開始するようにしてももちろんよい。

【００７４】また、保持板３１や保持体３４、３６など
の保持面を有する搬送ロボットにおいて、可能であれば
異なった表面状態の基板Ｗを同一の保持面で保持するよ
うにしてもよいし、異なった保持面において同じ表面状
態の基板Ｗを保持するようにしてもよい。

【００７５】その他、処理内容や搬送ロボットへの基板
Ｗの受け渡しなどについても適宜変更が可能である。

【００７６】

【発明の効果】以上説明したように、請求項１記載の発
明では、複数の搬送手段のそれぞれが、複数の処理部の
うちあらかじめ割り当てられた一部の処理部の受渡手段
からのみ基板を受け取るので、各搬送手段は所定の処理
を終えた特定の表面状態の基板のみを搬送することがで
きる。これにより、各搬送手段の基板を保持する保持部
を洗浄したり乾燥したりする必要をなくすことができ、
基板処理装置の小型化やスループットの向上を図ること
ができる。

【００７７】請求項２記載の発明では、各処理部の受渡
手段は特定の一の搬送手段のみに基板を渡すので、各搬
送手段は所定の処理を終えた特定の表面状態の基板のみ
を搬送することとなる。これにより、請求項１記載の発
明と同様、各搬送手段の基板を保持する保持部を洗浄し
たり乾燥したりする必要をなくすことができ、基板処理
装置の小型化やスループットの向上を図ることができ
る。

【００７８】請求項３記載の発明では、複数の処理部が
所定の方向に配列されており、複数の搬送手段が基板を
所定の方向にのみ搬送するので、簡易な構造にて基板を
各処理部へと搬送することができる。

【００７９】請求項４記載の発明では、第１および第２
の搬送手段のそれぞれが、複数の処理部の一部の処理部
の受渡手段からのみ基板を受け取るので、各搬送手段は
所定の処理を終えた特定の表面状態の基板のみを搬送す
ることができる。これにより、各搬送手段の基板を保持
する保持部を洗浄したり乾燥したりする必要をなくすこ
とができ、基板処理装置の小型化やスループットの向上
を図ることができる。

【００８０】請求項５記載の発明では、第１および第２
の搬送手段の案内手段が上下に平行に配置されているの
で、基板処理装置が占める床面積を小さく押さえること
ができる。

【００８１】請求項６記載の発明では、第１および第２
の搬送手段の案内手段が段違平行に配置されているの
で、第１の搬送手段に保持される基板と第２の搬送手段
に保持される基板との上下方向の距離を小さくすること
ができ、基板処理装置の全高を低く押さえることができ
ると共に、各処理部から基板を受け取るために基板を移
動しなければならない距離を短くすることができ、スル
ープットの向上を図ることができる。

【００８２】請求項７記載の発明では、第１および第２
の搬送手段の案内手段の間に複数の処理部が配置されて
いるので、請求項６記載の発明の効果に加えて各搬送手
段の配置の設計を容易に行うことができる。

【００８３】請求項８記載の発明では、受渡手段が基板
を昇降させる昇降手段であるので、基板の受渡における
基板の位置決めを正確に行うことができる。

【００８４】請求項９記載の発明では、保持面群を切り
替えて基板を保持するので、異なる表面状態の基板を汚
染することなく１つの搬送手段にて容易に保持すること
ができる。

【００８５】請求項１０記載の発明では、１対の保持板
の表裏面である保持面を切り替えて基板を保持するの
で、２つの表面状態の基板を汚染することなく容易に保
持することができる。

【００８６】請求項１１記載の発明では、１対の略正多
角柱状の保持体を中心軸を中心に回転させることにより
保持面を切り替えて基板を保持するので、３以上の異な
る表面状態の基板を汚染することなく容易に保持するこ
とができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明の第１の実施の形態における基板処理
装置全体の斜視図である。

【図２】図１に示す基板処理装置の構成を示す側面図で
ある。

【図３】保持板を示す側面図である。

【図４】図１に示す基板処理装置の動作を示す図であ
る。

【図５】図１に示す基板処理装置の一の変形例を示す側
面図である。

【図６】図１に示す基板処理装置の他の変形例の動作を
示す図である。

【図７】この発明の第２の実施の形態における基板処理
装置の構成を示す側面図である。

【図８】保持体を示す側面図である。

【図９】保持アームを示す側面図である。

【図１０】図７に示す基板処理装置の動作を示す図であ
る。

【図１１】保持体を示す側面図である。

【図１２】この発明の第３の実施の形態における基板処
理装置の動作を示す図である。

【符号の説明】

１ 基板処理装置 ３ａ、３ｄ、３ｆ 第１搬送ロボット ３ｂ、３ｃ、３ｅ 第２搬送ロボット ４ 処理ユニット ４ａ 薬液処理部 ４ｂ 純水洗浄処理部 ４ｃ 薬液・純水洗浄処理部 ４ｄ 乾燥処理部 ４ｅ 薬液処理部 ４ｆ 純水洗浄処理部 ３１ 保持板 ３１ａ、３１ｂ 保持面 ３２ 直動手段 ３３ 軸 ３４ 保持体 ３４ａ、３４ｂ、３４ｃ 保持面 ３６ 保持体 ３６ａ、３６ｂ、３６ｃ、３６ｄ 保持面 ４１ 保持台 ４２ 昇降手段 Ｇ 溝 Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３ 矢印 Ｗ 基板

Claims (11)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板に所定の一連の処理を施す基板処理
   装置であって、 前記基板に所定の処理を施す複数の処理部と、 前記複数の処理部の間において前記基板を搬送する複数
   の搬送手段と、を備え、 前記複数の処理部のそれぞれが、 前記複数の搬送手段と前記基板の受渡を行う受渡手段、
   を有し、 前記複数の搬送手段のそれぞれが、前記複数の処理部の
   うちあらかじめ当該搬送手段について割り当てられた一
   部の受渡手段からのみ前記基板を受け取ることを特徴と
   する基板処理装置。
2. 【請求項２】 請求項１記載の基板処理装置であって、 前記複数の処理部のそれぞれの受渡手段が、前記複数の
   搬送手段のうちの特定の一の搬送手段のみに前記基板を
   渡すことを特徴とする基板処理装置。
3. 【請求項３】 請求項１または２記載の基板処理装置で
   あって、 前記複数の処理部が所定の方向に配列されており、 前記複数の搬送手段が前記基板を前記所定の方向にのみ
   搬送することを特徴とする基板処理装置。
4. 【請求項４】 基板に所定の一連の処理を施す基板処理
   装置であって、 所定の方向に配列され、前記基板に所定の処理を施す複
   数の処理部と、 前記所定の方向に前記基板を搬送する第１および第２の
   搬送手段と、を備え、 前記複数の処理部のそれぞれが、 前記第１および第２の搬送手段と前記基板の受渡を行う
   受渡手段、を有し、 前記第１および第２の搬送手段のそれぞれが、 前記基板の前記所定の方向の搬送を案内する直線状の案
   内手段、を有し、前記第１および第２の搬送手段の前記
   案内手段が互いに平行に配置され、 前記第１および第２の搬送手段のそれぞれが、前記複数
   の処理部のうちの一部の受渡手段からのみ前記基板を受
   け取ることを特徴とする基板処理装置。
5. 【請求項５】 請求項４記載の基板処理装置であって、 前記所定の方向が水平方向を向いており、 前記第１および第２の搬送手段の前記案内手段が互いに
   上下に平行に配置されていることを特徴とする基板処理
   装置。
6. 【請求項６】 請求項４記載の基板処理装置であって、 前記所定の方向が水平方向を向いており、 前記第１および第２の搬送手段の前記案内手段が互いに
   段違平行に配置されていることを特徴とする基板処理装
   置。
7. 【請求項７】 請求項４記載の基板処理装置であって、 前記所定の方向が水平方向を向いており、 前記第１および第２の搬送手段の前記案内手段の間に前
   記複数の処理部が配置されていることを特徴とする基板
   処理装置。
8. 【請求項８】 請求項４ないし７のいずれかに記載の基
   板処理装置であって、 前記受渡手段が、前記基板を昇降させる昇降手段である
   ことを特徴とする基板処理装置。
9. 【請求項９】 請求項４ないし８のいずれかに記載の基
   板処理装置であって、 前記第１の搬送手段が、 前記基板に接触して保持する複数の保持面群を有する保
   持部と、 前記受渡手段から受け取る前記基板の処理段階に応じて
   前記複数の保持面群を切り替える切替手段と、をさらに
   有することを特徴とする基板処理装置。
10. 【請求項１０】 請求項９記載の基板処理装置であっ
    て、 前記保持部が、 水平方向を向く互いに平行な１対の回転軸と、 前記１対の回転軸のそれぞれに沿って取り付けられ、表
    裏各面が保持面となっている１対の保持板と、を有し、 前記１対の保持板のそれぞれの一保持面が対をなすこと
    により前記複数の保持面群の一保持面群となっており、 前記基板の外縁部が前記一保持面群に当接して前記基板
    の主面の法線が前記１対の回転軸とほぼ同じ方向を向く
    ように前記基板が保持され、 前記切替手段が、前記１対の保持板を前記１対の回転軸
    を中心としてそれぞれ回転させる手段であることを特徴
    とする基板処理装置。
11. 【請求項１１】 請求項９記載の基板処理装置であっ
    て、 前記保持部が、 水平方向を向く互いに平行な１対の回転軸と、 前記１対の回転軸のそれぞれを中心軸とする略正多角柱
    状であって、前記中心軸に平行な面を保持面とする１対
    の保持体と、を有し、 前記１対の保持体のそれぞれの一保持面が対をなすこと
    により前記複数の保持面群の一保持面群となっており、 前記基板の外縁部が前記一保持面群に当接して前記基板
    の主面の法線が前記１対の回転軸とほぼ同じ方向を向く
    ように前記基板が保持され、 前記切替手段が、前記１対の保持体を前記１対の回転軸
    を中心としてそれぞれ回転させる手段であることを特徴
    とする基板処理装置。