TWI451210B - 標記系統及標記方法 - Google Patents

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Description

標記系統及標記方法
本發明有關標記媒介物之照射。它連同一照射系統發現特別應用，其中紫外光(UV)輻射被選擇性施加至印刷媒介物之一影像區域以熔合、固化或乾燥該影像。然而，其將能瞭解到本實施例亦可對其它類似應用作用。
印刷方法，如靜電印刷與噴墨印刷方法，使用熔合或固化作為提供影像性能之方式。噴墨印刷方法經常使用一水系標記材料或印墨，其被施加至一基材，如紙。該印墨保持濕的直至空氣乾燥或加熱乾燥。假如經印刷頁面堆積而無充分乾燥時間，印墨將玷污或轉移至相鄰頁面。乾燥時間因此對高速印刷將是一大阻礙。在雙面印刷使用應用中，或印刷被實施在非吸收性基材中，緩慢的乾燥時間對高印刷速度將是更大阻礙。
UV可固化印墨已被開發以針對噴墨印刷系統中影像永久性與乾燥問題。印墨使用UV光點固化。UV可固化印墨已被開發用於印刷系統，其射出熔合在外界溫度為固態之印墨。對於這些印墨，UV固化與其非照射狀態相比硬化該印墨藉以改善對刮除、玷污與移印之抵抗性。此對印刷品為特別重要的，其可能被曝露至較一般為高之壓力與/或溫度。而且，該化學交鏈可藉UV固化達成可對經印刷印墨產生欲求的材料特性，其係以通常加熱基礎之固化方式所無法達成的。
在通常靜電印刷裝置中，一乾燥標記材料，如調色劑粒子摩擦帶電地黏附以攜有微粒，被用以在一導光表面上產生一影像，該影像接著移轉至基材。該調色劑影像通常以一加熱輥施加熱度至調色劑且施加壓力以熔合或要不然熔合該乾標記材料被熔合至基材。該熔合製程作為二個功用，即是將影像永久黏附至基材與得到一欲求的微粒程度。
在多彩印刷中，對應不同顏色之連續潛伏影像被記錄在導光表面上且以對應顏色調色劑顯影。單一顏色調色劑影像被連續地移轉至影印紙以在該紙上產生多層調色劑影像。該多層調色劑影像在熔合過程中被永遠地附加至影印紙上。
熔合器，因為它們操作於高溫與經常進行加熱與冷卻循環，傾向會易於失效或遭遇信賴度問題。該信賴度問題在印刷系統為特別重要的，該印刷系統中使用多個小型標記裝置。這些系統能在多部印刷機上藉印刷相同文件之部分達成高整體輸出，其中電子印刷工作可藉不同的標記裝置被分解用於經分配的較高生產力，如彩色與單色頁面之個別印刷。然而，因為印刷系統中每一標記裝置有其自身專用的熔合器，該信賴度問題為複雜的。
替代熔合器已被開發其使用光用於熔合影像。例如，高能雷射束已被使用以熔合調色劑粒子。
用於熔合與固化影像之該些方法全部涉及曝露整個基材至能量源，其為能量消耗且產生過多能量二者以藉該熔合系統消散，且亦可造成基材收縮與或捲曲。
【參考文獻】
Ingram的美國專利號碼5,459,561專利，發明名稱為「用於將調色劑熔入一印刷媒介物之方法與設備」，其以全文併入於此供作參考，揭示使用光掃瞄器以高能雷射光熔化一調色劑影像.
Uchiyama的美國專利號碼5,436,710專利，發明名稱為「具有經凝聚LED光的固定裝置」，其以全文併入於此供作參考，揭示含有一LED陣列與一柱形鏡的固定裝置該鏡片凝聚從LED陣列射出之光至調色劑影像且將它熔化至該薄片.
Biegelsen等人的美國專利號碼6,536,889專利，發明名稱為「用於排出或沉積含有多項光起始劑之系統與方法」，其以全文併入於此供作參考，揭示使用於噴墨印刷之印墨，該印墨包括對不同UV波長反應之UV感光光起始劑。
【相關發明之交互參考文獻】
以下未審定申請案，其揭示以全文併入於此供作參考。
David G.Anderson等人之美國暫時專利申請案序號No.60/631,651(律師檔案號碼No.20031830－US－PSP)，申請於2004年11月30日，發明名稱為「使用合併色彩與單色引擎之緊密整合平行印刷架構」。
David G.Anderson等人之美國暫時專利申請案序號No.60/631,918(律師檔案號碼No.20031867－US－PSP)，申請於2004年11月30日，發明名稱為「具有多重操作用於最終外觀與永久性之印刷系統」。
David G.Anderson等人之美國暫時專利申請案序號No.60/631,921(律師檔案號碼No.20031867Q－US－PSP)，申請於2004年11月30日，發明名稱為「具有多重操作用於最終外觀與永久性之印刷系統」。
Robert M.Lofthus等人之美國專利申請案序號No.10/999,450(律師檔案號碼No.20040985－US－NP)，申請於2004年11月30日，發明名稱為「用於一體式印刷系統之可定址熔合」。
David K.Biegelsen等人之美國專利申請案序號No.11/000,168(律師檔案號碼No.20021985－US－NP)，申請於2004年11月30日，發明名稱為「可定址熔合與加熱方法及設備」。
Robert A.Clark等人之美國專利申請案序號No.11/089,854(律師檔案號碼No.20040241－US－NP)，申請於2005年3月25日，發明名稱為「在一媒介物變流器內之印刷物配準」。
Michael C.Mongeon等人之美國專利申請案序號No.11/090,502(律師檔案號碼No.20031468－US－NP)，申請於2005年3月25日，發明名稱為「用於多項標記引擎系統之影像品質控制方法與設備」。
Steven R.Moore等人之美國專利申請案序號No.11/095,378(律師檔案號碼No.20040446－US－NP)，申請於2005年3月31日，發明名稱為「紙張配準聯合上之影像」。
Michael R.Furst等人之美國專利申請案序號No.11/109,558(律師檔案號碼No.19971059－US－NP)，申請於2005年4月19日，發明名稱為「用於減低影像配準誤差之系統與方法」。
在本說明書實施例之觀點包含一標記系統與一種標記方法。在一觀點中，該標記系統包含至少一影像施加元件用於施加一標記材料至一基材以在該基材上形成一影像。該標記材料包含一輻射感光材料。一可定址照射裝置從該影像施加構件接收該經標記基材。該照射裝置提供可定址照射元件之一陣列，該可定址照射元件照射該經標記基材。至少一些照射元件為選擇性可致動的。該照射裝置在一波長範圍內射出輻射，其中輻射感光材料對該波長範圍為感光的。
在另一觀點中，該標記系統包含至少一標記裝置用於施加一標記材料至一基材以在該基材上形成一影像。該標記材料包含一輻射感光材料。一照射裝置包含一可定址照射元件陣列，該照射裝置接收該基材且照射該基材之一面積，當基材相對於該陣列移動時，該面積為大體上不大於藉可定址照射元件之陣列的選擇性致動之該影像涵蓋的面積。於另一觀點中，該標記方法包含施加一標記材料至一基材以在該基材上形成一影像，該標記材料包含一輻射感光材料。該標記基材使用一可定址照射元件陣列照射，在波長範圍內至少複數個照射元件射出輻射，在該波長範圍內該輻射感光材料起反應。複數個照射元件被選擇性致動。
例示實施例之觀點為有關一種標記系統，其包括至少一標記裝置，該標記裝置施加一標記材料至一基材，如印刷媒介物，該標記材料包括一輻射感光材料其在波長之一範圍內對輻射曝露反應，與一照射裝置以波長範圍內輻射照射該基材，該照射裝置包含選擇性可定址照射元件之陣列。
該標記系統可為一印刷系統，如靜電印刷系統，其中乾調色劑被施加至一基材，或一噴印、照相凹板或平版印刷系統，其中一液體標記材料被施加至該基材。在液體印墨系統與固體調色劑系統二者中，該標記材料形成基材上一影像。該標記系統可包含一個或複數個標記裝置，如一個、二個、三個、四個、六個、八個或更多標記裝置。在各種不同觀點中，每一標記裝置可聯合其自身專用照射裝置。在其它觀點中，該標記裝置包含一初級固定(例如，熔合)裝置，其作為至少黏附該經標記媒介物至該基材，該照射裝置進一步施加一固定處理至該經標記基材。在一特定觀點中，該照射裝置為一普通熔合裝置，其增大位於複數個標記裝置中初級熔合元件之熔合性能。
基材可通常為一張薄實體紙片、塑膠片，或其它用於影像之合適實體印刷媒介物，無論是預印或薄片饋入。
可定址照射元件之陣列可包含單一照射源，如雷射，例如掃瞄過該薄片之光柵輸出掃瞄器(ROS)。例如，在Ingram美國專利號碼No.5,459,561說明書中描述此類型掃瞄雷射束，全文併入於此供作參考。或者，該陣列可包含複數個照射源，如垂直腔表面射出雷射(VCSEL)陣列，或光射出二極體或雷射二極體之陣列，二者在此參引為LED。在一實施例中，一陣列以一串螺旋形捲繞一圓柱核之可定址元件形成，其相對該基材被旋轉。類似地，可定址元件之陣列可以單一照射源達成，其遵循一螺旋路徑，該路徑相對於該基材被旋轉。
每一可定址照射元件可獨立地控制。例如，一可定址系統選擇性定址該陣列元件以使該元件改變狀態。以此方式，當該基材相對該陣列移動時，該陣列能選擇性照射一經標記基材之部分。在各種觀點中，該可定址照射元件每一者具有至少二種強度狀態，如開與關。從二個或多個可定址照射元件之輻射可被結合以提供不同程度照射至一基材上的單一點。在其它方面，至少一些可定址熔合元件具有狀態範圍，使得該輻射能量可在最大與最小值間強度範圍變化。在各種不同觀點中，該些元件可在一時間內改變狀態，該時間為大體上小於一薄片通過該陣列所需時間，藉以允許一影像之多重部份被選擇性地照射。
在一實施例中，該可定址照射元件被致動以曝露一基材之經標記區域至輻射，同時未標記區域為大體上未曝露的。在一觀點中，數個標記材料被施加至一基材，如標記材料分別包括藍綠色、紫紅色、黃色與黑色染料，該基材之經照射部分僅包含該經施加標記材料之緊接鄰近，其可為最小地較大於該基材之該些部分之聯合，該些部分已以標記材料標示。因此位於緊鄰該經施加標記材料外部部分接受一些或無照射。此減低施加至一基材之輻射量，該基材具有標記媒介之不完全覆蓋。又，其將瞭解到不同影像被施加，該個別基材之不同部分可被照射。此外，藉改變輻射強度，受益於較高輻射之標記部分，如具有較大噴墨液滴或調色劑堆高度可被曝露至較少強度為足夠者較高輻射強度。該輻射之強度亦可被改變以配合不同基材重量，其可從較高輻射強度受益。通常需要固化該不透明印墨之UV亮度為在1－20watts/cm2 範圍。
在不同觀點中，標記系統包含一通訊系統連通該定位址系統，該定位址系統辨識數位影像之部分，或對應標記基材由此影像被產生，該些部分被標記或將被標記，使該定位址系統決定那些複數個可定址元件致動以產生影像之輻射。為記錄固化之區域至已標記之區域，已存有不同的技術。例如，影像路徑電子記錄(ViPER)，其已開發用於色彩分離之記錄可適用於此目的。影像之電子記錄，例如Kelly等人的”對一掃瞄器之電子影像記錄”之美國專利申請案號No.2004/0212,853，出版於2004年10月28日，併入於此供作參考。
該標記材料可包括乾調色劑粒子、液體印墨或液化印墨，該液化印墨於施加至基材前被熔合(經常參引為固態印墨，因為該印墨在室溫下為固態的)。該標記材料，是否包括調色劑粒子，通常聯合一載體材料或液體或液化印墨，包含至少一輻射感光材料，該輻射感光材料對電磁輻射之一範圍波長曝露反應。接著，該標記系統使用有效使輻射感光材料反應之波長範圍的一定量電磁輻射照射。在靜電印刷系統情形中，此效果通常參引為熔合。在印墨噴射系統中，此結果可表示為固化。在二者情形中，照射可影響該標記基材之永久性，使得標記材料更穩固地黏接至基材。另外地或附加地，標記材料之黏滯性可被改變以縮短標記材料之乾燥時間或使標記材料在達到其最終狀態前對即時堆疊或處理充份固化。材料特性如色彩、硬度或標記材料之導電性亦可以照射改變。
輻射感光材料可包括一感光樹脂，其對輻射感光材料特定之輻射波長範圍曝露聚合。複數個輻射感光材料存在於標記材料中，這些可每一者對應一不同、獨特的波長範圍。在印墨情形，該標記材料可包括散佈於液態或有機溶液如水、甲苯、丁酮或相類物之顏料。輻射感光材料可包括一可聚合樹脂，其包括一單體或多數單體，該些單體在輻射下通常連同技藝中已知之一合適光起始劑聚合。例示性樹脂包含胺基甲酸酯與丙烯酸酯，如，脂肪族胺基甲酸酯系低聚物，酯系丙烯酸酯與相類物等。或者，該溶劑本身可為可聚合材料。在乾調色劑成份情形，輻射感光材料可被併入或包括用於調色劑粒子之樹脂材料。例如，合適的UV可固化印墨描述於Chieng的美國專利案號No.4,978,969，Noguchi等人的美國專利案號No.6,790,875與Vanmaele等人的美國專利案號No.6,310,115等，在此以索引併入。例如，使用於液體或固體印墨之UV可固化凝膠因子被描述於Breton申請於2005年1月14日的美國專利申請序號11/034,866(律師檔案號碼A3594－US－NP)，“含有可固化凝膠因子添加劑的輻射可固化印墨”。該凝膠因子可包含親水性結構，如，N－醯－1，n－氨基酸衍生物，順式－1,2－双(脲基)環己烷衍生物與原－双(脲基)苯衍生物。
該標記材料可被沉積於基材上作為單一材料或分別材料。例如，調色劑或印墨每一者包括不同顏料，如藍綠色、紫紅色、黃色或黑色顏料，可分別地沉積在基材上。
該標記材料可包含第一光起始劑，其對電磁輻射之第一波長範圍曝露反應，且第二起始劑對不同於電磁輻射之第二波長範圍曝露反應。接著，該標記材料使用有效使第一光起始劑反應之第一波長範圍的電磁輻射量照射，且接著使用有效使第二光起始劑反應之第二波長範圍的電磁輻射量照射，例如已描述於上述美國專利案號No.6,536,889中。
該可定址元件可在一波長範圍射出電磁輻射，該波長範圍含有可使輻射感光材料反應之一波長或波長範圍。在一觀點中，可定址照射元件在光譜之紫外光(UV)範圍射出電磁輻射，且輻射感光材料對光譜之紫外光(UV)範圍的電磁輻射反應。UV範圍通常被視為是介於柔和X光與可見紫外光範圍間，範圍從約10奈米(nm)至約375或400nm。該範圍包含波長等級UV－A(315－400nm)，UV－B(280－315nm)，與UV－C(100－280nm)。一例示性波長範圍從約250至約300nm。在一特定實施例中，至少以可定址元件射出之約80%輻射落入此範圍。合適的元件包含紫外光射出半導體元件如Alx Ga1 － x NLEDs，其中改變Al與Ga之相對特質可影響射出光之波長。此等元件，例如，描述於Philip電子公司之美國專利案號No.5,777,350與世界專利97/48138，其揭示全文以索引併入於此。
該陣列可包含可定址元件群，每一群在不同波長範圍照射。例如，該陣列可包含以第一波長範圍輻射照射基材的複數個元件，與以第二波長範圍輻射照射基材的複數個元件。例如，第一組元件在第一輻射感光材料反應之波長範圍發出輻射，如在藍綠色標記材料中之光起始劑，與對黃色與黑色標記材料等。每一元件可被致動以大體上僅照射包括該對應標記材料之影像的該些部分。
在另一實施例中，一可定址照射裝置包含類似於習知ROS的光學與輻射源。在此實施例中，具有一面旋轉UV鏡之可切換UV源在該標記薄板被導向。該源可在不同輻射程度寫入且可具有稍大於該標記裝置之像素尺寸的斑點尺寸。
在例示實施例之不同觀點中，一標記方法包含使用一定量波長範圍輻射照射該標記材料，該波長範圍使輻射感光材料反應。該方法包含使用一標記材料標記一基材，該標記材料含有輻射感光材料以在基材上形成一影像，且使用一陣列可定址照射元件照射該標記基材，該陣列可操作照射該基材之一面積，該面積為僅最低限度稍大於該影像。該標記方法可作為達到人眼不同可見過程色彩，例如，在藍綠色、紫紅色、黃色或黑色(CMYK)系統或紅色、綠色、藍色與黑色(RGBK)系統，其在透明基材上印刷為有用的。
在不同例示實施例中，描述於此之系統與方法可包含在照射該標記材料後，從基材轉移該標記材料至第二基材。在不同例示實施例中，從第一基材轉移該物質至第二基材包含從一中間轉移帶或滾筒轉移該物質至一片紙。
藉由例示，第1圖顯示此型式之一標記系統10，其使用液體標記媒介物。該標記系統10包含使用印墨14形式之一個或多個標記材料標記基材13的標記裝置12。至少印墨14之一者包含如上述之一輻射可固化材料。該標記裝置10含有一影像施加構件16，作為施加該印墨至基材13之上表面18。如將瞭解者，在單一標記裝置12中會有數個影像產生裝置16。照射系統20，可被併入於標記裝置12護位於該標記裝置之下游以收納經標記基材，照射在基材上從沉積印墨所形成之影像22以形成經照射影像24。該影像施加構件16可為噴印系統，轉移輥將印墨沉積在基材上之任何其它裝置。該影像施加構件16對沉積至少一標記材料至基材上為有用的。至少一標記材料14可包含一輻射感光材料，其可包含至少對第一UV波長範圍曝露反應的第一光起始劑。該照射系統18對使用位於第一光起始劑特定之波長範圍內的UV輻射照射標記材料14為有用的。
參考第2圖，為簡明參考故具有X－Y－Z軸之座標系統被顯示。通常地，X軸對應機器方向或行進方向，且Y軸為交會機器方向，同時Z方向在基材13之上方與下方延伸。如第2圖所示，描述於上之類型照射系統20包含可定址照射元件之N*M陣列30，其中N為機器方向(X)中元件數目且M為交會機器方向(Y)中元件數目且N≧1且M≧1。例如，N與M分別可為1，2，3，4，5，10，20或更多，或相類物，且至少N與M之一者>1。該例示陣列30為4*21線性陣列，雖然在其它實施例中，N可為1。該例示照射元件可排列成在機器方向列34與在交會機器方向欄36，雖然實務上，會較例示具有更多列以提供較大解析度。陣列30在Y方向具有長度，且被排列成使得當基材13通過時，可定址照射元件32與基材上表面18輻射傳遞。通常，該陣列與基材表面18在z方向稍微相隔距離d(第1圖)。或者，基材對輻射傳導處，陣列30可位於鄰接該基材之相反側。
在另一實施例中，可定址元件32之相鄰欄相對彼此被移動，例如移動一元件之一半寬度。此安排允許藉重疊該該相鄰移位元件之照射面積在欲獲得之照射面積得到較高的解析度，且提供一定量功率給每一元件，使得該重疊照射面積具有充份的照射以在基材上處理標記材料(例如，固化該標記材料之熔合)。
該例示陣列30為LED陣列(例如，LED桿)，一垂直腔表面射出雷射(VCSEL)陣列，以線性發光器發光之液晶像素或邊緣射出雷射二極體陣列，例如，如聯合光柵輸出掃瞄器(ROS)構形。陣列30包含如與影像形成構件16之解析度相比，可定址照射元件32的相對粗糙分佈，其通常以像素或每吋點數(dpi)表示。如此，例示陣列每公分包含約1至20個可定址照射元件32，如約2至10個。
如第1圖所示，一聚焦鏡40可選擇性鄰接陣列30設置以在與影像一致的聚焦面聚焦輻射42，其可包含複數個小透鏡，如一者用於每一照射元件32，例如顯示於共未審定申請序號No.11/000,168中。擇一或另外地，該聚焦鏡40相對該陣列為可移動的以調整聚焦，如在X或Z方向。例如，陣列30與聚焦鏡40對陣列30與/或聚焦鏡40可操作性耦合至一驅動系統44(第1圖)。該驅動系統可包含用於陣列與/或聚焦鏡之一者或二者的驅動器。
在一實施例中，該驅動系統包含一驅動器用於陣列之Y方向移動，其可小於該影像之全部寬度且藉以提供橫跨該影像全部寬度之選取性可定址元件。
再次參考第2圖，陣列30為操作性(例如，電氣地)耦接至一可程式元件驅動器(以下稱為”驅動器”)50，其依序操作性耦接至一動力源52。在例示實施例中，每一個別元件32藉一分別連桿54被個別連接至驅動器50，其可為有線或無線連結，用於個別致動。驅動器50亦可操作性(例如，電氣地)耦接至一電子影像儲存裝置56(例如，一緩衝器)，其為操作性(例如，電氣地)耦接至標記裝置12。電子影像儲存裝置56被適以儲存電(數位)影像，如由標記裝置12所產生之標記影像之電子影像且以提供至儲存裝置之電子影像訊號58具體化(例如，電氣訊號)以允許使用該影像經輻射面積之配準。
在例示實施例中，驅動器50與電子影像儲存裝置56為單一控制器60之部分，該控制器亦含有一可程式處理器62。控制器60被耦接至標記裝置12與耦接至陣列30及透鏡驅動系統44，且可被適於整合標記系統中這些與其他元件之操作，如上所述。在一實施例中，控制器60之整合操作經由一組輸入程式進入可程式處理器62之操作指示(例如，軟體)達成。
在標記系統10之操作中，標記影像22之電子影像經由產生該標記影像中聯合標記裝置12之操作的已知技術，在照射裝置20之上游被得到。該得到的電子影像以電子影像訊號58具體化，其接著提供給電子影像儲存裝置56，於該處電子影像被儲存。相對於產生標記影像22之標記製程上游基材13關於標記影像22之(X，Y，θ)配準資訊被記錄或要不然被包含於電子影像訊號58中。例如，電子影像以光柵化形式如使用一光柵輸書掃瞄器(ROS)被儲存。或者，電子影像以位元映像被儲存。電子影像接著被提供至控制器60與驅動器50。
基材13從標記裝置12前進至照射裝置20。當基材13在可定址元件32底下前進，或先於影像抵達該些元件32前，陣列32中可定址元件32以驅動器50基於電子影像中資訊被選擇性致動，使得大體上僅包含標記材料14之基材表面18該些部分被照射。
在照射元件32之選擇性致動中，如上所述，應留意以每一可定址元件所提供之輻射量(在例示實施例中UV輻射)對全部元件32不必須是相同的，且一些元件可照射影像22之部分，該部分較其它元件以較大或較小強度輻射接觸通過。在其它實施例中，在單一列34之二個或多個元件之選擇性致動可提供對一像素輻射強度範圍，其中該像素以二個或三個元件32照射。在一些情形，對每一元件32提供固定輻射量可為有利的。此等固定輻射可適於，例如當未處理的影像22在本質上為相對均勻的。
藉由例示，在第2圖中顯示在基材表面18上之影像22由細水平線64(延伸於X方向)與細垂直線(延伸於Y方向)組成。當基材13通過陣列30，對齊水平線64(即具有相同Y座標軸)之陣列30之一個或多個可定址元件32A，32B等被致動，同時該些未對齊垂直線之元件保持未作用的。類似地，陣列30之可定址元件32D，32E，32F等，在其底下至少垂直線66之一部分將通過在每次一水平線通過該陣列底下被致動，且要不然當線間之空間通過該陣列之此部分底下時保持未作用。以此方式，大體上僅該標記影像22當基材通過陣列30時被照射。將瞭解到線66對可定址元件32D，32E，32F等相隔太近使不能在每一線間致動與去致動，這些元件對數條線可保持作用的。可定址元件被致動於照射製程中以形成於上游之標記影像22控制。此允許圖形相依影像照射，而不是基材之全面照射。在一觀點中，僅最低限度較大於標記影像22之面積所界定者之基材表面18的一區域被照射。
在一實施例中，該影像之配準當它抵達陣列18時被假定與在標記製程中相同。此假定可達成合理的公差。校準印刷可被使用作該配準公差之一量測。在另一實施例中，該調色劑影像先於基材抵達陣列30直接被感測。在另一實例中，具有印刷資料之影像22的局部自動校正(或關於此之資訊)被使用以決定影像特質如(X，Y，θ)配準與翹曲。
在可量測動態與靜態配準之一更強健實施例中，基材13上之影像22的(X，Y，θ)配準當它抵達陣列30時被量測且與影像22之配準相比，如在上游標記製程中形成於基材表面18上。例如，此藉經由一影像感測器70如設在陣列30且光學耦接至基材13之上游的數位相機，補獲該影像之第二電子影像被實現，此當它通過該影像感測器底下時被實現。影像感測器70為操作性(例如，電氣地)耦接至驅動器50，例如如所示經由電子影像儲存裝置56。第二電子影像藉從影像感測器70至儲存裝置56所提供之第二電子影像訊號72被具體化。第一與第二電子影像之相對(X，Y，θ)配準接著被比較(例如，藉處理器62之助)且任何平版印刷或翹曲說明可定址照射元件32之選取致動。
在其它各種觀點中，影像22包含藍綠色、黃色、紫紅色與黑色影像，且可定址元件32被致動，使得至多僅最小限度較大於這些影像之聯合的基材表面18上之面積被照射。
從陣列30之輻射使標記材料14中之輻射感光材料藉使用在輻射感光材料反應之波長範圍內之波長的輻射照射標記材料14反應，使用在至少一標記材料中有效達到欲求特性之輻射量。二個或多個光起始劑被使用，元件32之不同者可以匹配二個或多個光起始劑之不同波長範圍射出輻射。
標記系統10亦可包含其他構件，如標記裝置12上游之紙饋進器(未顯示)與至少一輸出目的地(未顯示)，如一堆疊機、熔合器下游等。
在例示性實施例之不同觀點中，可定址熔合或照射被實施於經處理之基材的二側上。該照射裝置被構形用於該基材之二側照射或分別照射裝置可照射個別側，如所揭示者，例如揭示在上述未審定申請序號11/000,168中。
第3圖顯示一例示靜電印刷系統100，除另外指出者外可類似系統10構形。系統100包含一靜電印刷標記裝置112與包含陣列30與透鏡40之一照射裝置120。陣列30與透鏡40可類似第1與2圖中所例示者構形，且因此在此不特別詳細描述。該照射裝置120亦包含包括有用於該些元件之驅動器、一處理器與一電子影像儲存裝置(未顯示)，其可類似第2圖之控制器60、驅動器50、處理器62與電子影像儲存裝置56構形。該照射裝置120作為一熔合裝置用於熔合該標記材料，在此情形，為調色劑粒子。熔合影響影像之耐久性與外觀(典型地為色澤)。熔合可如在基材上形成一永久影像或足以至少黏附影像至基材上。一影像被熔合的程度通常為施加於此之能量程度的函數，其為從可定址熔合元件射出之該施加輻射的持久性與強度函數，其中該標記媒介被曝露至該可定址熔合元件。
熔合器120包含輥126形式之中空圓柱形熔合器構件，其具有一外表面128、一縱軸130與一內裝132。熔合器126亦包含一具有外表面136與平行及與軸130共平面之縱軸138的相反圓柱壓力輥134。軸130，138可通常對齊於Y方向。熔合器輥126，例如可以傳導UV玻璃，如熔合石英或耐熱矽硼玻璃(例如，從紐約康寧公司之PYREXT M )。或者，該熔合器構件可為撓性帶形式。該帶可連接在終端以形成一連續環圈且藉合適壓力施加構件，或一可棄式帶，接觸壓力輥134，如經描述者，例如描述於未審定申請序號No.11/000,168中。
熔合器輥126與壓力輥134壓力接觸於它們個別外表面128，136上一點，藉以在中間形成一壓軋140，且在以個別箭頭指示之方向經由個別馬達或其它驅動源(未顯示)繞其個別軸被旋轉驅動。
基材13，分別具有相反上與下表面18，38，經由該壓軋被傳送。上表面18包含標記材料114，如調色劑，其共同形成一調色劑影像122。該標記材料包括一輻射感光材料，如上所述。該標記材料可以未熔合狀態或部分熔合狀態抵達熔合器120。調色劑影像122可為黑與白(K)影像、製程色彩(P)影像、磁印墨字母辨識(MICR)影像、定製色彩影像(C)，上述結合或相類物。
調色劑影像122使用習知靜電印刷製程可被形成於熔合器120上游。通常，標記裝置112包含靜電印刷子系統，其一同包括能形成一影像在基材上之一影像形成構件150。該影像形成構件150通常含有一電荷保持表面，如光導體帶或滾筒，一充電站用於欲施加之每一色彩，形成一潛在影像於光感受器之一影像輸入裝置，聯合每一充電站之調色劑顯影站，用於藉施加一調色劑顯影形成在光感受器表面上之隱像以得到一調色劑影像。一預傳送充電單元充電該經顯影隱像。一轉移單元轉移如此形成之調色劑影像至該基材之表面18。
陣列30被安排使得當基材13通過該壓軋時，或該基材通過該壓軋前，可定址照射元件(未顯示)與基材上表面18輻射傳遞。在例示實施例中，一聚焦透鏡40可選擇地被排列鄰接陣列30以在與壓軋140一致之焦點平面聚焦輻射。當該例示陣列照射該壓軋，其亦可想到該陣列可照射該壓軋之基材上游，使得當調色劑抵達該壓軋時，它已至少部分熔合。在一實施例中，陣列30可為輥126之外部，例如，位於該壓軋之上游(即，至第3圖中輥126之左邊)。
離開熔合器120之調色劑影像124至少部分被熔合。在一實施例中，當它離開熔合器時，該影像至少黏附至該基材。進一步熔合處理可接著以熔合器120施加之熔合處理被施加。
標記系統100在熔合器120下游可進一步包含一潔淨單元154。在基材通過熔合器120後，潔淨單元154被適以從基材上表面18除去未熔合調色劑114。潔淨單元154可包含，例如，空氣噴射、空氣刀、吸塵器、靜電轉移元件、毛刷或相類物(未顯示)。
在靜電印刷系統100操作中，調色劑影像122之電子影像122可經由聯合產生調色劑影像中標記裝置112之操作的已知技術在熔合器上游被得到，如第2圖之實施例所描述者。
基材13從標記裝置112前進且接著饋入熔合器120之壓軋140。當基材13前進通過壓軋140，或在抵達該壓軋前，陣列30中之可定址元件32基於電子影像中資訊以驅動器50被選擇性致動，使得大體上僅含有未熔合調色劑114之基材表面18之該些部分被照射。當基材13通過且離開壓軋140，該照射結合熔合器輥126之經施加壓力，且壓力輥134固定先前未熔合的調色劑122至基材表面18，藉以在其上形成固定的調色劑與一對應固定調色劑影像124。此可藉僅照射基材表面18之一面積達成，該面積為最低限度較大於以未熔合調色劑114所覆蓋面積所界定者。
在一實施例中，當它抵達熔合器該影像之配準被假定與在標記製程中相同。此假定合理的公差可被達成。校準印刷可被使用作為配準公差之一量測。在另一實施例中，該調色劑影像使用感測器70先於基材進入壓軋140被直接感測。在另一實施例中，具有印刷資料之調色劑影像22的局部自我校正(或關於此之資訊)被使用以決定影像特質如(X，Y，θ)配準與翹曲。
在可量測動態與靜態配準之一更強健實施例中，基材13之(X，Y，θ)配準當它進入壓軋140被量測且比較標記製程上游中形成在基材表面34上之調色劑影像40之配準。此藉，例如藉經由設在熔合器120上游且光學耦接至基材13之一影像感測器70，如數位相機，得到該調色劑影像之第二電子影像達成，其係當它通過該影像感測器時產生。
在各種觀點中，調色劑影像22包含藍綠色、黃色、紫紅色與黑色影像且可定址元件32被致動，使得在基材表面18上之一面積為至多僅最低限度較大於以這些影像之聯合所界定者被照射。
依據上述之一個或多個例示實施例以熔合器120處理後，基材13接著通過潔淨單元154，其與基材上表面18可作業性連通。控制器60指揮潔淨單元154以從基材上表面18除去未熔合調色劑(例如，經由全面清潔)。藉熔合基材上表面18之一面積，其是至多僅最低限度較大於以未熔合調色劑影像22所界定之面積，任何未熔合調色劑殘餘物(例如，背景條紋、條紋與斑點)落入該熔合面積之外部在潔淨之中將被除去。若無選取熔合，此等殘餘物將被熔合至基材且非以潔淨單元可移除。
在一例示實施例中，以可定址照射元件32提供至基材表面18之UV輻射的量與分佈以驅動器50改變以接納調色劑之型式與量及/或所需的表面塗飾(色澤程度)。關於基材表面18之塗飾的型式可經由輸入裝置160被輸入至控制器60。因此，不同的表面塗飾可提供至基材不同的部分或將形成之影像型式的觀點，例如，對期刊之無光澤塗飾與對內文之色澤塗飾，或反之亦然。在某些印刷應用中，調色劑與基材之吸收特性變異可導致印刷品質之不想要的變化。在此等例子中至基材之熱移轉未視調色劑與/或基材之表面特性而定將是較佳的。
在另一實施例中，可定址加熱元件32被使用以使在熔合調色劑影像22中之色澤不均勻，藉以達到不同色澤效果。例如，使一影像之黑色(內文)部分較彩色部分照射為少，使得黑色部分可相對地無光澤且彩色部分可具有較多色澤。
印刷系統10，100可併有”串列引擎”印刷機，“平行”印刷機，“集群印刷”，“輸出合併”，或”，插入器”系統等，例如，如美國專利號碼No.4,579,446，4,587,532，5,489,969，5,568,246，5,570,172，5,596,416，5,995,721，6,554,276，6,654,136，6,607,320所揭示，與在2004年8月23日申請之未審定美國申請序號No.10/924,459，Mandel等人的”使用影像標記裝置模組的平行印刷架構，與在2004年8月13日Robert,Lofthus申請之申請序號No.10/917,768的”由貨櫃化影像標記裝置與媒介物饋入器模組組成之平行印刷架構”，全部這些參考資料揭示併入於此供作參考。通常，一平行印刷系統從一共同紙張上游饋入紙張至複數個印刷機，該些印刷機可為平行與/或垂直堆疊。從不同印刷機之印刷媒介物接著從印刷機取出至一整軋機，於該處聯合單一印刷工作之這些印刷物被組合。可變的垂直高度，而非水平的，輸入與輸出印刷物路徑介面連接可被使用，例如，如Sollitt的美國專利號碼5,326,093所揭示者。
第4圖示意地例示一標記系統200，其中複數個照射裝置220，221(在例示實施例中為二個)，每一者類似裝置20或120構形排成串列。每一照射裝置包含一陣列30，230，對第1至3圖之陣列30類似構形與控制。第一裝置220之陣列30可使用第一波長範圍之輻射照射基材13且第二照射裝置221之陣列230可使用第二波長之輻射照射相同基材。一標記裝置212包含含有第一影像形成構件216與第二影像形成構件217之複數個影像形成構件，其中第一影像形成構件沉積第一標記材料14在基材上且第二影像形成構件217沉積第二標記材料214在基材上。第一標記材料14包含在第一波長範圍內對輻射反應，如UV輻射之一光起始劑，且第二標記材料214包含在第二波長範圍內對輻射反應，如UV輻射之一光起始劑。在另一實施例中，單一標記材料包含二個光起始劑或單一影像形成構件沉積影像材料114與214。
作業中，經標記基材使用致動可定址元件之驅動器50以第一照射裝置220照射，以大體地僅照射從包括第一起始劑之第一標記材料14所形成之影像22的該些部分。經標記基材使用致動可定址元件之驅動器50以第二照射裝置照射，以大體地僅照射從包括第二起始劑之第二標記材料214所形成之影像22的該些部分。其將瞭解到可能會多於二個影像形成構件216，217，如三個、四個或更多，如對欲施加之每一色彩，例如，對藍綠色、紫紅色、黃色與黑色標記材料之每一者。
在另一實施例中，照射裝置220，221二者可使用相同波長照射，且標記材料二者可包括相同光起始劑。在此實施例中，照射裝置220，221可以選擇地定址適當照射元件選擇地照射該影像之不同部分，使得照射裝置之一者照射以第一影像形成構件216施加之部分，且另一照射裝置照射以第二影像形成構件217施加之部分。
第5圖示意地例示另一例示性標記系統300，如靜電印刷系統或噴墨印刷系統，其中一輸送帶系統302從饋入器304輸送基材12至複數個模組標記裝置312，313。輸送帶系統302可包含驅動元件314，如輥、球體球形物或空氣噴射，用於輸送基材12通過系統300。饋入器304可包含複數個托盤316，318用於儲存不同基材13。每一標記裝置分別併有一照射裝置320，321，如一熔合裝置，每一者可類似裝置20或120構形。熔合裝置320，321每一者包含一陣列30，330，類似第2至4圖之陣列30。一共同輸出目的地344，在此例示為含有複數個托盤346，348，350從標記裝置312與313接收基材，其已使用一個或多個照射裝置照射。輸送帶系統302被構形使得基材可被輸送至複數個標記裝置312，313之任一者用以標記，接著輸送至個別照射裝置320，321用以照射。該例示輸送帶系統302被構形，使得該標記裝置之一個或多個可以旁通。它亦能使單一基材以二個或多個標記裝置312，313標記，且以照射裝置320，321之二個或多個照射。
其將瞭解到，在第5圖之系統300中，可有任意數目之標記裝置312，313，如一個、二個、四個、六個或多個標記裝置且標記裝置可為相同或不同模態，如黑色、製程色彩、定製色彩等之一個或多個。其亦考慮輸送帶系統302可包含一更複雜路徑系統，藉此標記基材可被輸送於任意二個或多個標記裝置之間。該標記系統可包含反相器、回復器、開關等，如技藝中已知者。
印刷系統300包含與一標記裝置控制器361，362聯繫之一控制系統360，聯合有每一標記裝置312，313。標記裝置控制器361，362可類似第2圖所顯示之控制器60構形。該控制系統360可負責規劃與安排一印刷工作，其中印工作之部分被分配至第一與第二標記裝置312，313用於印刷該印刷工作之個別部分。控制系統經由個別標記裝置控制器361，362可控制標記裝置以標記與照射基材以符合印刷工作之需求。
標記裝置312，313每一者分別包括一影像施加構件16，370，作為施加該標記材料，如印墨或調色劑，至基材13之基材且可類似第1至4圖之影像施加構件16構形。以標記裝置312，313施加之標記材料可為相同或不同的，且照射裝置320，321可以相同波長範圍或不同波長範圍輻射照射。在一實施例中，照射裝置320之可定址元件經由控制器361被選擇性控制以大體地僅照射施加在第一標記裝置312中影像面積，且照射裝置321之可定址元件經由控制器362被選擇性控制以大體地僅照射施加在第二標記裝置313中影像面積。因此，在一例示實施例中UV燈可僅視需要的數量與位置被施加。此藉UV源密度之調變最小化全部輻射產生。從一標記裝置312之輻射固化頁面可以輸送帶系統與一接續標記裝置313更容易地處理。
在習知系統中，成影與熔合二次或多次之印刷物傾向具有較僅熔合一次之印刷物具有較高色澤，導致在一成品文件之頁面間影像外觀差異。在本系統中，二個標記引擎312，313施加一影像至相同印刷物，藉大體上僅照射成像於每一標記裝置之部分，經二次熔合印刷物之色澤可更接近匹配經一次熔合印刷物的色澤。
第6圖示意地例示另一標記系統400，如一靜電印刷系統或噴墨印刷系統，其中一輸送帶系統402輸送該基材18從饋入器404至複數個標記裝置412，413。饋入器404可包含複數個托盤414，416，418用於儲存不同基材。每一標記裝置分別聯合一初級熔合裝置420，421，每一者可類似熔合裝置20或120構形，或如對一習知熔合器(例如，使用熱以熔合至少形成在該基材上之一影像的部分)構形。輸送帶系統402輸送該標記基材從主熔合裝置420，421到至少一共同第二熔合裝置440。該共同第二熔合裝置440可類似熔合裝置420或120構形，或為一習知熔合裝置。至少熔合裝置320，421與440之一者包含一陣列類似第1與2圖中之陣列30。一共同輸出目的地444，如一堆疊機，在此例示為包含複數個托盤446，448，450，從標記裝置412與413接收基材，該些標記裝置已經一個或多個照射裝置420，421，440照射。輸送帶系統402被構形，使得基材可輸送至複數個標記裝置412，413之任一者用於標記，接著輸送至該主要個別照射裝置420，421用於照射且輸送至第二照射裝置440用於第二照射處理。該例示輸送帶系統402被構形使得一個或多個標記裝置可以旁通。它亦使單一基材以二個或多個標記裝置412，413標記且以二個或多個初級照射裝置420，421照射，且假如需要的話允許第二照射裝置旁通。系統400亦可類似2004年11月30日申請之未審定申請序號60/631,921與60/631,921中描述且例示之印刷系統，以索引併入於此供作參考。在此情形，至少陣列30,430,431之一者可使用電磁光譜之UV範圍輻射照射。
如將所瞭解者，在第6圖之系統400中，可能有任意數目標記裝置412，413，如，一個、二個、四個、六個或多個標記裝置，且該標記裝置可相同或不同於印刷模態，如黑色、製程色彩、定製色彩等。
在靜電印刷系統情形，初級照射裝置412，413藉影像形成構件16，470施加執行該影像之至少部份熔合。部分熔合，其意指影像之固定未達到最至終印刷媒介物之欲求程度與/或影像之外觀，例如色澤程度未位於所欲求之公差內，超過至少該影之部分。例如，初級熔合裝置至少黏附調色劑影像至印刷媒介物(即，部分固定)之方式以允許印刷媒介物與調色劑影像被傳送至第二熔合裝置440，其完成影像熔合，例如以色澤與/或進一步固定修正完成。在此實施例中初級與第二熔合裝置二者有助於在至少基材印刷物之部分上影像熔合。初級熔合裝置可因此作為提供將參引為”臨場耐久性”者，同時第二熔合裝置被使用以產生欲求的檔案保存永久性程度與最終影像外觀。在此實施例中，初級與第二熔合裝置二者貢獻影像之固定與/或至少印刷物之部分的影像品質，與/或個別印刷物之部分的影像品質。
為最小化一體熔合裝置420之需求，在一實施例中，僅足夠的熱(在熔合裝置結合有熱之情形)或其它熔合參數，如壓力、光或其他電磁輻射，被使用以提供臨場永久性。抵達第二熔合裝置440成像媒介物之色澤程度可因此較低於對其最終外觀所欲求者。因此，固定之程度可低於對檔案保存永久性所欲求者。因此，個別標記裝置之信賴度與壽命被改善。此外，較高的產出可藉減低置放在標記裝置412，413上之整合熔合裝置420之限制達成。在習知印刷系統中，熔合裝置之產出經常限制個別標記裝置之產出，且因此整體印刷系統之產出。提供一第二熔合器或多數第二熔合器440，其承擔一些熔合功能允許對每一標記裝置之較高產出且因此達成一較高總生產力。此外或擇一地，第二熔合器可被使用以減低第一與第二標記裝置之輸出中的影像不一致，例如，減低以第一標記裝置施加之影像與以第二標記裝置施加之影像間的色澤變異。
第二熔合裝置440可僅於具有最初熔合裝置之熔合不足情形時被請求施加。在此實施例中，第二熔合裝置440不處理全部經印刷印刷品。例如，最初熔合裝置可具有足夠的熔合能力，使得在一特別紙張類型上之影像的全部熔合，在一選定色澤程度與欲求的固定程度，且在一既定生產力，無需第二熔合裝置之操作達成。因此，在印刷中之一些時刻，最初熔合裝置420，421可具有完成該印刷影像之熔合(經由固定與欲求外觀特徵二者)，而不需第二熔合裝置440。在此等情形，第二熔合裝置440為選擇地旁通且該印刷媒介物從個別標記裝置直接導向至整軋機444。在其它時刻，例如，為維持全部生產力與/或當欲使用之基材或欲求的色澤程度為使得最初熔合裝置不能維持完全熔合，一個或多個標記裝置之最初熔合裝置引起一部分熔合，例如，當印刷品以輸送帶系統402輸送至第二熔合裝置440時，它以避免影像擾亂之方式至少作為黏附調色劑影像至該基材。該第二熔合裝置440可被設計為使得它具有熔合自由以完成特定的最終影像固定與媒介物外觀。
在另一實施例中，全部印刷媒介物被導向通過第二熔合裝置440。在此實施例中，第二熔合裝置可施加一熔合處理至全部媒介物，至僅選取的基材媒介物，與/或印刷物選取的部分。
第二熔合裝置440允許將指定之高色澤模式。在此模式中，一色澤程度較高於在欲求的生產力下可以個別標記裝置對特定選取之印刷媒介物達成。
印刷系統400包含一控制系統460，其與一標記裝置控制器461，462聯繫，聯合每一標記裝置。標記裝置控制器461，462可類似第2圖所示之控制器60構形。控制系統460可負責規劃與排定一印刷工作，其中印刷工作之部分被分配至第一與第二標記裝置用於印刷該印刷工作之個別部分。控制系統可控制標記裝置，其係經由個別標記裝置控制器461，462，以標記與照射該基材且亦可控制第二熔合裝置440以提供第二熔合處理，以符合該印刷工作之需求。
例如，控制系統460指示第二熔合裝置以校正在從不同標記裝置橫跨該印刷物與印刷物間二者之色澤中不想要的變異。控制系統460可決定第二熔合之適當程度以施加至基材達到預選定的最終熔合特色(外觀與/或固定程度)。
在一實施例中，第二熔合或固化裝置440藉提供該基材成像表面之一面積被使用以施加一浮水印同等物至該基材，其具有一修正的特性，例如，不是可見的就是機器可讀取的經改變標記材料特性，如較高色澤程度、色彩變化、經修正的UV反射比或導電性改變。該面積可為預選形狀之面積，例如，公司標誌之形狀，或可攜有用於驗證目的之經編碼資訊或工作完整性控制。例如當基材以充分角度傾斜，不同色澤之面積可以眼睛區分。色澤浮水印之形狀與位置資訊可被儲存於控制系統演算法中。色澤浮水印包括較周遭面積之一較高色澤面積，控制系統指示第二熔合裝置以選擇地施加UV輻射至基材之面積，於該處色澤浮水印將被形成。另一例子使用一機器讀取記錄於一UV寫入型態形式之影像的一部分的不可見確認碼，其中UV曝露修正材料之UV反射比。
在其它觀點，影像內之色澤變異使用不同輻射強度選擇性照射影像之部分減低。例如，一些染料或染料結合可提供色澤差異，其可藉以較其他部分為高或低之強度選擇性照射影像之部分被減低。
一感測器470，如色澤計，偵測該標記基材之一特性，如色。該感測器可位於輸送帶系統402中任意處，其可接近以第一與第二標記裝置412，413標記之基材。在例示實施例中，感測器470位於第二熔合裝置440之上游。在另一實施例中，感測器470位於第二熔合裝置440之下游，如位於第二熔合裝置440與整軋機444之間。在又一實施例中，感測器為一離線感測器。感測器470可周期性評估該些基材，例如，測試印刷物，以第一與第二標記裝置412，413標記與照射，且可聯繫連接至控制系統之該些量測，控制系統以演算法從感測器儲存資訊。色澤上與/或其他熔合特性之量測可因此以控制系統被使用以決定第二熔合裝置440之合適裝置，且或提供指示給標記裝置控制器461，462，以調整照射系統420，420之操作。
例示性標記系統10、100、200、300與400可從一電腦網路、掃瞄器、數位相機或其它影像產生裝置(未顯示)接收影像資料。
參考第7圖，顯示標記系統500之另一實施例。該標記系統包含一影像施加構件512，其類似影像施加構件12或112構形。一照射系統520從影像施加構件512接受經標記基材。該照射系統520包含一UV輻射源522，其以驅動器550選擇性地處理。源522可為高能雷射源。一刻面旋轉UV反射鏡552被定位以導向UV輻射從源朝該標記基材，不是直接就是間接，經由一中間光學系統，如鏡554。鏡552可具有從約4到12道刻面556且成正多角形。驅動器550使源522在不同時間被致動，對每一影像時間為被預定的，以造成一光點558照射基材之已標記該些部分，且使未標記部份大體上未照射的。光點558在Y方向移動且如此作為選擇性可定址元件之一陣列。該光點在Y方向橫越該基材之速度可為許多倍較快於基材在X方向移動之速度。例如，鏡552可以從約10至20000rpm或更高之速度旋轉，每一旋轉對應相等於刻面數目之橫越數目。最佳轉速將視源520被致動與接著去致動所花之時間而定。在一實施例中，致動與去致動所需時間僅是橫跨時間之一部分，例如小於橫跨時間之十分之一。源522可以不同UV能量位準寫入且通常具有一個點尺寸有點較大於聯合影像施加構件(未顯示)之像素尺寸。在利用固體標記媒介物(調色劑粒子)之影像施加構件512情形，鏡544(且選項地鏡552與源522)可位於UV傳導之一熔合器輥(未顯示)內，其係以類似第3圖中所示方式。或者，鏡554可被定位以將UV輻射導至熔合器輥之基材上游上以在進入該壓軋前熔化調色劑。
參考第8圖，顯示一照射系統620之另一實施例。照射系統620可併入在此例示與描述之具有任何影像施加構件之一標記系統10、100、200、300或400內。照射系統620包含類似元件32構形之可定址照射元件632的陣列630，其中在Y方向可小於基材之寬度。該陣列以驅動系統644平行Y軸被傳送，當基材13通過陣列底下時。驅動器650，類似驅動器50構形，選擇地定址元件632。當使用其它實例，每一元件可以單一UV照射能量致動或具有二個或多個可選取UV照射能量位準。Y方向移動可至少數倍較快於基材之速度，例如，至少10倍較快，使得單一印刷物以可定址陣列630被橫交多次。此外，當陣列正移動於第一Y方向與在第二相反Y方向時，元件632可被定址。其將瞭解到當基材13以該陣列在一方向穿越時，單一元件632可被致動且去致動多次。由於連續致動間基材的移動，接續的致動在一先前致動的上游位置在X方向照射基材。
其將瞭解到以上揭示的不同與其它特色與功能，或替代方式可需求地併入許多其他不同系統或應用。而且各種目前未預見或未預期替代方式、修改、變化或改善可接著由熟知技人士完成，其亦意欲包含於以下申請專利範圍內。
10．．．標記系統
12．．．標記裝置
13．．．基材
14．．．印墨
16．．．影像產生裝置
18．．．上表面
20．．．照射系統
22．．．影像
24．．．經照射影像
30．．．陣列
32．．．可定址照射元件
32A．．．可定址元件
32B．．．可定址元件
32D．．．可定址元件
32E．．．可定址元件
32F．．．可定址元件
34．．．列
36．．．欄
38．．．下表面
40．．．聚焦鏡
42．．．輻射
44．．．驅動系統
50．．．可程式元件驅動器
52．．．動力源
54．．．連桿
56．．．電子影像儲存裝置
58．．．電子影像訊號
60．．．控制器
62．．．可程式處理器
64．．．水平線
66．．．垂直線
70．．．影像感測器
72．．．第二電子影像訊號
100．．．靜電印刷系統
112．．．靜電印刷標記裝置
114．．．未熔合調色劑
120．．．照射裝置
122．．．調色劑影像
124．．．調色劑影像
126．．．輥
128．．．外表面
130．．．縱軸
134．．．相反圓柱壓力輥
136．．．外表面
138．．．軸
140．．．壓軋
150．．．影像形成構件
154．．．潔淨單元
160．．．輸入裝置
200．．．標記系統
212．．．標記裝置
214．．．第二標記材料
216．．．第一影像形成構件
217．．．第二影像形成構件
220．．．第一裝置
221．．．第二照射裝置
230．．．陣列
300．．．標記系統
302．．．輸送帶系統
304．．．饋入器
312．．．模組標記裝置
313．．．模組標記裝置
314．．．驅動元件
316．．．托盤
318．．．托盤
320．．．照射裝置
321．．．照射裝置
330．．．陣列
344．．．共同輸出目的地
346．．．托盤
348．．．托盤
350．．．托盤
360．．．控制系統
361．．．標記裝置控制器
362．．．標記裝置控制器
370．．．影像施加構件
400．．．標記系統
402．．．輸送帶系統
404．．．饋入器
412．．．標記裝置
413．．．標記裝置
414．．．托盤
416．．．托盤
418．．．托盤
420．．．熔合裝置
421．．．熔合裝置
430．．．陣列
431．．．陣列
440．．．第二熔合裝置
444．．．共同輸出目的地
446．．．托盤
448．．．托盤
450．．．托盤
460．．．控制系統
461．．．標記裝置控制器
462．．．標記裝置控制器
470．．．感測器
500．．．標記系統
512．．．影像施加構件
520．．．照射系統
522．．．源
550．．．驅動器
552．．．反射鏡
554．．．鏡
556．．．刻面
558．．．光點
620．．．照射系統
630．．．陣列
632．．．可定址照射元件
644．．．驅動系統
650．．．驅動器
第1圖為依據該例示實施例之第一觀點，一標記系統之示意側視圖。
第2圖為第1圖含有一標記裝置與一照射裝置之標記系統之放大上平面視圖，其中該照射裝置包含一可定址照射元件陣列。
第3圖為併有第2圖之照射裝置的靜電印刷標記系統的示意側視圖。
第4圖為依據本例示實施例之第二觀點之標記系統的示意側視圖。
第5圖為依據本例示實施例之第三觀點之標記系統的示意側視圖。
第6圖為依據本例示實施例之第四觀點之標記系統的示意側視圖。
第7圖為依據本例示實施例之第五觀點之標記系統的立體圖。
第8圖為依據本例示實施例之第六觀點之標記系統的立體圖。
10．．．標記系統
12．．．標記裝置
13．．．基材
14．．．印墨
16．．．影像產生裝置
18．．．上表面
20．．．照射系統
22．．．影像
24．．．經照射影像
38．．．下表面
40．．．聚焦鏡
42．．．輻射
44．．．驅動系統

Claims (23)

  1. 一種標記系統，其包括：一第一影像施加構件，用於施加一標記材料至一基材以在該基材上形成一影像，該標記材料包括一輻射感光材料；一第一可定址照射裝置，其從該第一影像施加構件接收經標記的該基材，該第一可定址照射裝置提供可定址照射元件之陣列，以於照射經標記的該基材，該等照射元件之至少若干為可選擇性致動的，該第一可定址照射裝置在一波長範圍內射出輻射，其中該輻射感光材料對該波長範圍為感光的；一第二影像施加構件，用於施加一標記材料至一基材以在該基材上形成一影像，該標記材料包括一輻射感光材料；一第二可定址照射裝置，從該第二影像施加構件接收經標記的該基材，該第二可定址照射裝置提供可定址照射元件之一陣列用於照射經標記的該基材，至少一些照射元件為可選擇性致動的，該第二可定址照射裝置射出在一波長範圍內之輻射，其中該輻射感光材料對該波長範圍為感光的；一第二照射裝置，其接收來自第一與第二照射裝置之經標記與照射的基材；一控制系統，其係與第二照射裝置聯繫，該控制系統決定一合適的第二照射處理以減少以第一照射 裝置照射之基材與以第二照射裝置照射之基材間外觀的變化。
  2. 如申請專利範圍第1項之標記系統，其中該可定址照射元件在頻譜之紫外光區中產生輻射，且其中該輻射感光材料在存有紫外光輻射下反應。
  3. 如申請專利範圍第1項之標記系統，其中進一步包括操作性耦接該第一照射裝置之控制器，該控制器包括至少一驅動器，該驅動器選擇性致動該可定址照射元件。
  4. 如申請專利範圍第3項之標記系統，其中該控制器接收基材上該影像位置之資訊及定址元件，以照射該基材之區域，當該基材相對於該陣列移動時，該區域為大體上不大於可定址照射元件之陣列的選擇性致動該影像所涵蓋的區域。
  5. 如申請專利範圍第1項之標記系統，其中該可定址照射元件之每一者具有複數個選擇性輻射強度。
  6. 如申請專利範圍第1項之標記系統，其中標記系統包括一靜電印刷標記系統且其中該標記材料包括調色劑。
  7. 如申請專利範圍第6項之標記系統，其中該第一照射裝置包括一熔合器，該熔合器包含第一與第二輥，該等輥在其中間界定一壓軋，該壓軋由此接受該基材。
  8. 如申請專利範圍第7項之標記系統，其中可定址照 射元件之陣列被設於第一輥內且其中該第一輥對該輻射為可傳送的。
  9. 如申請專利範圍第1項之標記系統，其中該標記系統包括一噴墨標記系統，且其中該標記材料包括印墨。
  10. 如申請專利範圍第1項之標記系統，其中進一步包括一輸送帶，該輸送帶在該影像施加構件與該陣列之間輸出基材。
  11. 如申請專利範圍第1項之標記系統，其中該陣列包括複數欄元件，該等元件通常垂直該基材之行進方向延伸，每一欄包括複數個可定址元件。
  12. 如申請專利範圍第11項之標記系統，其中該陣列包含至少三欄可定址元件。
  13. 如申請專利範圍第1項之標記系統，其中該陣列包含至少40個獨立可定址元件。
  14. 如申請專利範圍第1項之標記系統，其中該等選擇性可致動元件之每一者包括一個別輻射源。
  15. 如申請專利範圍第1項之標記系統，其中該陣列之選擇性可致動元件以一選擇性定址輻射點提供，該選擇性定址輻射點以通常垂直該基材之行進方向的方向移動。
  16. 一種標記系統，包含有：至少一影像施加構件，用於施加一標記材料至一基材以在該基材上形成一影像，該標記材料包括一 輻射感光材料；一可定址第一照射裝置，從該影像施加構件接收經標記的該基材，該可定址第一照射裝置提供可定址照射元件之一陣列用於照射經標記的該基材，至少一些照射元件為可選擇性致動的，該照射裝置射出在一波長範圍內之輻射，其中該輻射感光材料對該波長範圍為感光的；該陣列包括複數列元件，該等元件通常平行該基材行進方向延伸，每一列包括複數個獨立地可定址元件；一第二照射裝置，其接收來自該可定址第一照射裝置經標記與照射基材；及一控制系統，其係與第二照射裝置聯繫，該控制系統決定一合適的第二照射處理以減少以一第一照射裝置照射之基材與以一第二照射裝置照射之基材間外觀的變化。
  17. 如申請專利範圍第16項之標記系統，其中該陣列包含至少十列可定址元件。
  18. 如申請專利範圍第16項之標記系統，包括與第一照射裝置相關聯之第一影像施加構件以及與第二照射裝置相關聯之第二影像施加構件。
  19. 一種標記方法，其包括：施加一標記材料至一基材，以在該基材上形成一影像，該標記材料包括一輻射感光材料； 使用可定址照射元件之陣列照射該經標記基材，至少複數個照射元件在一波長範圍射出輻射，在該波長範圍內該輻射感光材料反應，該等複數個照射元件被選擇性地致動施加一標記材料至一第二基材以在該基材上形成一影像，該標記材料包括一輻射感光材料；使用可定址照射元件之第二陣列照射經標記的該第二基材，至少複數個照射元件射出在一波長範圍內之輻射，在該些波長範圍內該輻射感光材料反應，複數個照射元件為選擇性可致動的；及使用可定址照射元件之第三陣列照射至少該經標記第一與第二基材之一者，至少複數個照射元件射出在一波長範圍內之輻射，在該波長範圍內該輻射感光材料反應，複數個照射元件為選擇性可致動的以減少在第一與第二基材之間外觀的變異。
  20. 如申請專利範圍第19項之標記方法，其中該照射包含照射該基材之面積，當該基材相對於該陣列移動時，該基材之面積為大體上不大於以可定址照射元件之陣列選擇性致動該影像所涵蓋的面積。
  21. 如申請專利範圍第19項之標記方法，其中該照射包含使用比該影像之其它部分還大的照射強度照射該影像之某些部分。
  22. 如申請專利範圍第21項之標記方法，其中藉使用較大強度之輻射選擇性照射該影像之一部分的資訊加 至該影像。
  23. 如申請專利範圍第21項之標記方法，其中在該影像內之色澤變化藉使用不同輻射強度選擇性照射該影像之部分被減低。
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