TWI449037B - Optical pickup, optical drive, light irradiation method - Google Patents

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Description

光學拾取器、光學驅動裝置、光照射方法
本發明係有關於光學拾取器，其係被構成為，是對具有：基準面，其係具有位置引導子是被形成為螺旋狀或同心圓狀的反射膜；和記錄層，係被設在與上記基準面不同之層位置，藉由相應於光照射的標記形成而進行資訊記錄的光記錄媒體，透過將用來進行以上記記錄層為對象之資訊之記錄或再生所需之第1光、和與上記第1光不同之第2光進行照射的共通之接物透鏡而進行照射，並且將透過了上記接物透鏡的上記第1光之合焦位置，藉由改變入射至上記接物透鏡的上記第1光的視準度而加以調整。又，是有關於具備此種光學拾取器的光學驅動裝置、和光照射方法。
[先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本特開2008-135144號公報
[專利文獻2]日本特開2008-176902號公報
作為藉由光的照射而進行訊號記錄/再生的光記錄媒體，例如CD(CompactDisc)、DVD(Digital Versatile Disc)、BD(Blu-ray Disc：註冊商標)等之所謂的光碟，已經普及。
關於這些CD、DVD、BD等現況下已經普及的光記錄媒體的下一世代的光記錄媒體，之前本申請人係提出了上記專利文獻1或上記專利文獻2所記載的所謂體積記錄型的光記錄媒體。
此處，所謂體積記錄，就是例如圖25所示，對至少具有覆蓋層101與體積層(記錄層)102的光記錄媒體(體積型記錄媒體100)，逐次改變焦點位置而進行雷射光照射，而在體積層102內進行多層記錄，以謀求大記錄容量化之技術。
關於此種體積記錄，在上記專利文獻1中係揭露有，一種稱作微全像方式的記錄技術。
微全像方式，係如以下圖26所示，大致區分成正片型微全像方式和負片型微全像方式。
在微全像方式中，作為體積層102的記錄材料，係採用所謂的全像記錄材料。作為全像記錄材料係例如光聚合型光聚合物等廣為人知。
正片型微全像方式，係如圖26的(a)所示，將對向的2道光束(光束A、光束B)聚光在同位置而形成微細的干涉條紋(全像)，將其當作記錄標記的手法。
又，圖26的(b)所示的負片型微全像方式，係與正片型微全像方式的想法相反，將預先形成好的干涉條紋以雷射光照射予以抹除，將該當抹除部分視為記錄標記的手法。
圖27係用來說明負片型微全像方式的圖。
在負片型微全像方式中，是在進行記錄動作之前，如圖27的(a)所示般地預先對體積層102進行用以形成干涉條紋所需的初期化處理。具體而言，如圖中所示，將平行光所成的光束C、D進行對向的照射，在體積層102的全體逐漸形成兩者的干涉條紋。
藉由進行如此初期化處理而預先形成了干涉條紋之後，如圖27的(b)所示，藉由抹除標記之形成，而進行資訊記錄。具體而言，在使聚焦對合於任意層位置的狀態下，進行相應於記錄資訊的雷射光照射，以進行抹除標記所致之資訊記錄。
又，本申請人係作為與微全像方式不同之體積記錄手法，也曾經提出過，例如專利文獻2所揭露的形成氣泡(空孔)來作為記錄標記的記錄手法。
氣泡記錄方式，係例如對光聚合型光聚合物等之記錄材料所構成的體積層102，以較高的功率進行雷射光照射，在上記體積層102內記錄下空孔(氣泡)的手法。如專利文獻2所記載，如此形成的空孔部分，係為與體積層102內其他部分的折射率不同的部分，在它們的交界部分，光的反射率會被提高。因此，上記空孔部分係成為記錄標記而發揮機能，藉此以實現空孔標記之記錄所致之資訊記錄。
因為此種氣泡記錄方式並非形成全像，因此在記錄時只需從單側進行光照射即可。亦即，可不必像正片型微全像方式那樣必須使2道光束聚光在同位置而形成記錄標記。
又，相較於負片型微全像方式，具有不須初期化處理之優點。
此外，專利文獻2中雖然揭露，在進行氣泡記錄時要進行記錄前的預塑光照射之例子，但即使省略此種預塑光照射也還是能進行氣泡的記錄。
順便一提，雖然是如上記被提出各種記錄手法的體積記錄型(亦簡稱為體積型)的光碟記錄媒體，但此種體積型之光碟記錄媒體的記錄層(體積層)，係並非具有例如反射膜被複數形成之意思的明示性的多層構造者。亦即，於體積層102中，並不像是一般的多層碟片所具備的那樣，並未設置每一記錄層的反射膜及引導溝。
因此，如果只是之前圖25所示的體積型記錄媒體100的構造本身，則在標記未形成的記錄時，是無法進行聚焦伺服或循軌伺服。
因此實際上，對於體積型記錄媒體100是設置了，具有如後面圖28所示之引導溝的作為基準之反射面(基準面)。
具體而言，在覆蓋層101的下面側係例如有凹坑或凹軌之形成所致之引導溝(位置引導子)是被形成為螺旋狀或同心圓狀，在該處成膜了選擇反射膜103。然後，對於如此成膜有選擇反射膜103的覆蓋層102的下層側，隔著圖中作為中間層104的例如UV硬化樹脂等之接著材料，層積了體積層102。
此處，藉由如上述之凹坑或凹軌等所致之引導溝的形成，以進行例如半徑位置資訊或旋轉角度資訊等之絕對位置資訊(位址資訊)之記錄。在以下的說明中，將形成有此種引導溝而進行絕對位置資訊之記錄的面(此時係為上記選擇反射膜103的形成面)，稱作「基準面Ref」。
又，在如上記之媒體構造上，對於體積型記錄媒體100，係如後面圖29所示，另外以不同於標記記錄(或再生)所需雷射光(以下稱作「錄再用雷射光」、或單純簡稱為「錄再光」)，將作為位置控制用的伺服用雷射光(亦簡稱為「伺服光」)進行照射。
如圖示，這些錄再用雷射光與伺服用雷射光，係透過共通的接物透鏡而照射至體積型記錄媒體100。
此時，假設若上記伺服用雷射光到達體積層102，則有可能對該當體積層102內的標記記錄帶來不良影響。因此，在先前的體積記錄方式中，作為上記伺服用雷射光，是使用與錄再用雷射光不同波長帶的雷射光，而且作為被形成在基準面Ref的反射膜，係設置使伺服用雷射光反射、讓錄再用雷射光穿透的具有如此波長選擇性的選擇反射膜103。
在了解以上的前提後，參照圖29，說明對體積型記錄媒體100的標記記錄時之動作。
首先，當對尚未形成引導溝或反射膜的體積層102進行多層記錄時，會預先在體積層102內的深度方向上，決定要記錄標記之層位置是落在哪個層位置。在圖中，作為在體積層102內形成標記之層位置(標記形成層位置：亦稱作資訊記錄層位置)，例示了設定有第1資訊記錄層位置L1～第5資訊記錄層位置L5之總計5個資訊記錄層位置L的情形。如圖示，第1資訊記錄層位置L1是被設定在最上部的資訊記錄層位置L，以後則為以L2→L3→L4→L5之順序而被設定在下層側的資訊記錄層位置L。
於標記尚未形成的記錄時，無法基於錄再用雷射光的反射光而進行以體積層102內之各層位置為對象的聚焦伺服、循軌伺服。因此，記錄時的接物透鏡之聚焦伺服控制、循軌伺服控制，係基於伺服用雷射光之反射光，使該當伺服用雷射光的光點位置在基準面Ref上追隨於引導溝的方式而進行之。
但是，上記錄再用雷射光係為了標記記錄，因此必須要到達被形成在基準面Ref下層側的體積層102，而且要使體積層102內的合焦位置之選擇成為可能。因此，此情況的光學系裡，係有別於接物透鏡的聚焦機構，另外設置了用來獨立調整錄再用雷射光之合焦位置所需的錄再光用聚焦機構。
此處，包含此種用來獨立調整錄再光用雷射光之合焦位置所需的機構，用來進行體積型記錄媒體100之記錄再生所需之光學系的概要，示於圖30。
在圖30中，圖29中也有圖示的接物透鏡，係如圖所示，藉由2軸致動器而可在體積型記錄媒體100的半徑方向(循軌方向)、及體積型記錄媒體100的遠近方向(聚焦方向)上做位移。
於該圖30中，用來獨立調整錄再用雷射光的合焦位置所需之機構，係該當於圖中的錄再光用聚焦機構(擴束器)。具體而言，該錄再光用聚焦機構，係可表現成是具備固定透鏡、和藉由透鏡驅動部而被保持成可在錄再用雷射光之光軸平行方向上位移的可動透鏡所構成，藉由上記透鏡驅動部來驅動上記可動透鏡，入射至圖中之接物透鏡的錄再用雷射光的視準度會有變化，藉此，錄再用雷射光的合焦位置就可獨立於伺服用雷射光而被調整。
又，如上述，由於錄再用雷射光與伺服用雷射光各自係為波長帶不同的光，因此對應於此，在此情況的光學系裡，藉由圖中的雙色稜鏡，錄再用雷射光、伺服用雷射光的來自體積型記錄媒體100之反射光，會被分離成各自的系統(亦即各自的反射光偵測是獨立進行)。
又，若以往路光來考慮時，上記雙色稜鏡係具有，將錄再用雷射光與伺服用雷射光予以合成在同一軸上，然後入射至接物透鏡之機能。具體而言，此情況下，錄再用雷射光係如圖示般地透過上記擴束器而被反射鏡所反射後，被上記雙色稜鏡的選擇反射面所反射，然後對接物透鏡進行入射。另一方面，伺服用雷射光係穿透過上記雙色稜鏡之選擇反射面而對接物透鏡進行入射。
圖31係體積型記錄媒體100之再生時的伺服控制的說明圖。
針對已經進行過標記記錄的體積型記錄媒體100進行再生之際，並沒有必要像記錄時那樣，將接物透鏡之位置基於伺服用雷射光的反射光而加以控制。亦即，於再生時，只要以再生對象之資訊記錄層位置L(再生時則亦稱為資訊記錄層L、標記形成層L)上所被形成的標記列為對象，基於錄再用雷射光的反射光而進行接物透鏡的聚焦伺服控制、循軌伺服控制即可。
如上記所說明，在體積記錄方式中，對體積型記錄媒體100，將進行標記記錄/再生所需之錄再用雷射光與作為位置控制用光之伺服光，透過共通的接物透鏡而(在同一光軸上做合成然後)進行照射，然後在記錄時，以使得伺服用雷射光追隨於基準面Ref之位置引導子的方式來進行接物透鏡的聚焦伺服控制、循軌伺服控制，且藉由錄再光用聚焦機構而將錄再用雷射光的合焦位置做獨立調整，藉此，即使體積層102內沒有形成引導溝，仍可對體積層102內的所要位置(深度方向及循軌方向)，進行標記記錄。
又，在再生時，係使錄再用雷射光之焦點位置追隨於已被記錄之標記列而基於該當錄再用雷射光之反射光來進行接物透鏡的聚焦伺服控制、循軌伺服控制，然後就可進行體積層102內所被記錄之標記的再生。
然而，在採用如上記的將透過共通之接物透鏡進行照射的錄再用雷射光與伺服用雷射光的合焦位置，在聚焦方向上分別調整成不同位置之構成的情況下，如以下的圖32所示，會因為體積型記錄媒體100的偏芯而導致資訊記錄位置在循軌方向上從原本的位置偏離之問題。
圖32的(a)係表示體積型記錄媒體100未發生偏芯的理想狀態下的接物透鏡之位置、基準面Ref之位置、記錄對象之資訊記錄層位置Ln、及資訊記錄位置p-rec(錄再用雷射光之合焦位置)的關係，又，圖32的(b)係圖示了發生了偏芯時的上述各位置之關係。
首先，在圖32的(a)所示的無偏芯之狀態下，接物透鏡不會發生透鏡平移，因此接物透鏡係位於基準位置(接物透鏡之中心與入射至該接物透鏡之各雷射光的光軸c是呈一致之狀態)。光學系係被設計成，在如此接物透鏡位於基準位置之狀態下，各雷射光的循軌方向上的光點位置是呈一致。
相對於此，藉由循軌伺服控制而如圖32的(b)所示會追隨於碟片偏芯而導致接物透鏡從基準位置平移開來的情況(此例中係為朝紙面左方平移)，則會產生如圖中所示的光點位置偏誤Δx。
此種起因於透鏡平移的光點位置偏誤Δx，係起因於對接物透鏡的伺服用雷射光與錄再用雷射光之入射樣態的差異所產生。具體而言，在圖中的例子中，伺服用雷射光係對接物透鏡以略平行光進行入射，相對於此，錄再用雷射光係以非平行光而入射，此差異是對相同接物透鏡的平移量造成各個光的合焦位置的位移量會有差異，其結果為，在錄再用雷射光與伺服用雷射光，會產生循軌方向上的光點位置偏誤Δx。
因為此種伴隨碟片偏芯(透鏡平移)而產生的伺服用雷射光與錄再用雷射光之光點位置偏誤Δx，而會導致體積層102內的資訊記錄位置p-rec發生偏誤。亦即，其結果為，導致無法在體積層102內意圖之位置上，進行記錄。
此時，隨著偏芯的發生量或軌距(基準面Ref上的位置引導子之形成間隔)之設定，而在相鄰軌道間，資訊記錄位置p-rec會有發生重疊之疑慮。具體而言，碟片之偏芯係隨著對碟片對轉軸馬達的抓鉗等，每次碟片被裝填時就會以不同樣的樣態而發生，因此例如當對某碟片做了碟片換裝而進行追記時，換裝前之記錄時所產生的偏芯樣態與換裝後的追記時所產生的偏芯樣態會有所不同，已經記錄部分的標記列與追記部分的標記列會發生重疊，隨著情況輕重，有時甚製造成交叉之問題。
若發生此事，則無法正確地再生記錄訊號。
為了防止此種標記列的重疊或交叉，先前以來係偵測接物透鏡的透鏡平移量，隨著其結果來補正資訊記錄位置p-rec之偏誤。
然而，若光點位置偏誤Δx的發生量過大，則此種補正有可能無法有效作用。具體而言，如上述的隨著透鏡平移量偵測結果來進行資訊記錄位置p-rec之補正時，光點位置偏誤Δx的最大發生量係被亦製程例如標記列之記錄間距(半徑方向之間距)的1/10左右，較為理想。
為了解決如上記之課題，在本發明中作為光學拾取器係構成如下。
亦即，本發明的光學拾取器，係具備：光學系，其係具有接物透鏡和第1合焦位置調整部，該接物透鏡係對具有：基準面，其係具有位置引導子是被形成為螺旋狀或同心圓狀的反射膜、和記錄層，係被設在與上記基準面不同之層位置，藉由相應於光照射的標記形成而進行資訊記錄的光記錄媒體，照射用來進行以上記記錄層為對象之資訊之記錄或再生所需之第1光、和與上記第1光不同之第2光，而該第1合焦位置調整部係將透過了上記接物透鏡的上記第1光之合焦位置，藉由改變入射至上記接物透鏡的上記第1光的視準度而加以調整；和上記接物透鏡的聚焦機構；和上記接物透鏡的循軌機構。
然後，上記光學系是被設計成，關於以從上記接物透鏡觀看的上記第2光之物點位置與上記接物透鏡之主平面之間的距離、和上記接物透鏡之主平面與上記第2光之合焦位置之間的距離之比率的方式而被定義的上記第2光之倍率，和以從上記接物透鏡觀看的上記第1光之物點位置與上記接物透鏡之主平面之間的距離、和上記接物透鏡之主平面與上記第1光之合焦位置之間的距離之比率的方式而被定義的上記第1光之倍率，使得上記第2光之倍率會落在隨著上記第1合焦位置調整部所致之合焦位置調整範圍而定的上記第1光之倍率範圍內。
又，在本發明中，作為光學驅動裝置係構成如下。
亦即，具備光學拾取器，其係具備：光學系，其係具有接物透鏡和第1合焦位置調整部，該接物透鏡係對具有：基準面，其係具有位置引導子是被形成為螺旋狀或同心圓狀的反射膜、和記錄層，係被設在與上記基準面不同之層位置，藉由相應於光照射的標記形成而進行資訊記錄的光記錄媒體，照射用來進行以上記記錄層為對象之資訊之記錄或再生所需之第1光、和與上記第1光不同之第2光，而該第1合焦位置調整部係將透過了上記接物透鏡的上記第1光之合焦位置，藉由改變入射至上記接物透鏡的上記第1光的視準度而加以調整；和上記接物透鏡的聚焦機構；和上記接物透鏡的循軌機構；並且，關於以從上記接物透鏡觀看的上記第2光之物點位置與上記接物透鏡之主平面之間的距離、和上記接物透鏡之主平面與上記第2光之合焦位置之間的距離之比率的方式而被定義的上記第2光之倍率，和以從上記接物透鏡觀看的上記第1光之物點位置與上記接物透鏡之主平面之間的距離、和上記接物透鏡之主平面與上記第1光之合焦位置之間的距離之比率的方式而被定義的上記第1光之倍率，上記光學系是被設計成，使得上記第2光之倍率會落在，隨著上記第1合焦位置調整部所致之合焦位置調整範圍而定的上記第1光之倍率範圍內。
並具備聚焦伺服控制部，係基於上記第2光的來自上記基準面之反射光來控制上記聚焦機構，使得上記第2光之合焦位置會追隨於上記基準面上。
並具備循軌伺服控制部，係基於上記第2光的來自上記基準面之反射光來控制上記循軌機構，使得上記第2光之合焦位置會追隨於上記基準面上的上記位置引導子。
並具備合焦位置設定控制部，係控制上記第1合焦位置調整部，以進行上記第1光之合焦位置的設定控制。
此處，由之前圖32的說明也可理解，上記第1光與上記第2光的光點位置偏誤Δx，係因為相對於同一接物透鏡之平移量的第1光之合焦位置之位移量與第2光之合焦位置之位移量的差所產生。
此時，相對於接物透鏡之平移量的第1光(錄再光)之合焦位置的位移量，是隨著上記第1光之倍率而變化。同樣地，相對於接物透鏡之平移量的第2光(伺服光)之合焦位置的位移量，是隨著上記第2光之倍率而變化。
因此，若如上述般地使第2光之倍率落在第1光之倍率的範圍內，則可以縮小相對於同一接物透鏡之平移量的第1光之合焦位置之位移量與第2光之合焦位置之位移量的差，結果可以抑制光點位置偏誤Δx之發生量。
藉由可以如此抑制光點位置偏誤Δx，相應於偏芯之透鏡平移所造成資訊記錄位置之偏誤(第1光之合焦位置之循軌方向上的偏誤)的補正，就可有效發揮作用。
如上述，若依據本發明，則可抑制因偏芯所帶來之接物透鏡之透鏡平移所造成的第1光與第2光之光點位置偏誤。
因為可如此抑制第1光與第2光之光點位置偏誤，所以可使資訊記錄位置偏誤之補正能有效發揮作用，其結果為，可達成更穩定之再生動作之實現。
以下，逐一說明用以實施發明的最佳形態(以下稱作實施形態)。
此外，說明是按照以下順序進行。
＜1.第1實施形態＞
[1-1.作為記錄/再生對象的光記錄媒體]
[1-2.光學驅動裝置之構成]
～光學拾取器的內部構成～
～光學驅動裝置的全體內部構成～
[1-3.伺服光用聚焦機構之功用]
[1-4.DOE的第1功用]
[1-5.作為實施形態的倍率設定]
～循軌方向上的光點位置偏誤之抑制～
～聚焦方向上的資訊記錄位置偏誤之抑制～
～具體的倍率設定例～
[1-5.DOE的第2功用]
＜2.第2實施形態＞
＜3.第3實施形態＞
＜4.第4實施形態＞
＜5.變形例＞
＜1.第1實施形態＞
[1-1.作為記錄/再生對象的光記錄媒體]
圖1係圖示了，第1實施形態中作為記錄/再生對象之光記錄媒體的剖面構造圖。
本實施形態中作為記錄/再生對象的光記錄媒體，係為所謂體積記錄型的光記錄媒體，以下稱作體積型記錄媒體1。
體積型記錄媒體1，係為碟片狀的光記錄媒體，對被旋轉驅動之體積型記錄媒體1進行雷射光照射以進行標記記錄(資訊記錄)。又，在記錄資訊之再生，也是對被旋轉驅動之體積型記錄媒體1照射雷射光而進行之。
此外，所謂光記錄媒體，係為藉由光的照射而可進行資訊記錄/再生之記錄媒體的總稱。
如圖1所示，體積型記錄媒體1中係從上層側起依序形成有覆蓋層2、選擇反射膜3、中間層4、體積層5。
此處，本說明書中的所謂「上層側」，係把後述作為實施形態之光學驅動裝置(記錄再生裝置10)側所發出的雷射光所入射的面當作上面時所指的上層側。
又，本說明書中係採用「深度方向」之用語，但該所謂「深度方向」，係指在上記「上層側」的定義下，與上下方向一致之方向(亦即來自光學驅動裝置側的雷射光的入射方向之平行方向；聚焦方向)。
於體積型記錄媒體1中，上記覆蓋層2，係由例如聚碳酸酯或聚丙烯酸等樹脂所成，如圖示，在其下面側，係形成有引導溝來作為用來誘導記錄/再生位置所需的位置引導子，如圖所示般地被賦予凹凸的剖面形狀。位置引導子，係被形成為螺旋狀或同心圓狀。在本例中，上記位置引導子係被形成為螺旋狀而繼續以下說明。
作為上記引導溝，係以連續溝(凹軌)、或凹坑列而形成之。例如當引導溝是由凹坑列所形成時，藉由凹坑與凸軌之長度的組合，而記錄下位置資訊(絕對位置資訊：作為用來表示碟片上之旋轉角度位置之資訊的旋轉角度資訊、或半徑位置資訊等)。或者，當引導溝是凹軌時，藉由使該當凹軌週期性地蛇行(搖擺)而形成，就可藉由該蛇行之週期資訊來進行位置資訊之記錄。
覆蓋層2，例如藉由使用形成有此種引導溝(凹凸形狀)的印模，以射出成形等而被生成。
又，形成有上記引導溝的上記覆蓋層2的下面側，係成膜有選擇反射膜3。
此處，如前面也有說明，在體積記錄方式中，有別於對作為記錄層的體積層5進行標記記錄/再生所需的光(錄再用雷射光)，用來根據如上記之引導溝而獲得循軌或聚焦之錯誤訊號所需的光(伺服用雷射光)，是另外照射。
此時，假設若上記伺服用雷射光到達體積層5，則有可能對該當體積層5內的標記記錄帶來不良影響。因此必須要有，讓伺服用雷射光反射、讓錄再用雷射光穿透的具有如此選擇性之反射膜。
在先前以來的體積記錄方式中錄再用雷射光與伺服用雷射光係分別使用波長帶不同的雷射光，為了對應於此，作為上記選擇反射膜3，係採用會反射與伺服用雷射光同波長帶的光線、其以外之波長的光會穿透的具有此種波長選擇性的選擇反射膜。
在上記選擇反射膜3的下層側，係隔著例如UV硬化樹脂等作為接著材料所構成的中間層4，而接著(層積)了作為記錄層的體積層5。
作為體積層5的形成材料(記錄材料)，係例如之前所說明過的正片型微全像方式或負片型微全像方式、氣泡記錄方式等，只要隨著所採用之體積記錄方式而採用最適宜者即可。
此外，本發明中對於對象光記錄媒體之標記記錄方式並不應作特別限定，只要在體積記錄方式之範疇中採用任意的方式即可。於以下說明中係例示了採用氣泡記錄方式的情形來作為一例。
此處，於具有如上記構成的體積型記錄媒體1中，上述作為引導溝之位置引導子所被形成的選擇反射膜3，係如後面也有說明般地，在基於伺服用雷射光進行錄再用雷射光之位置控制時，用來作為基準的反射面。在這層意義上，將選擇反射膜3所被形成的面，以下稱之為基準面Ref。
如之前圖29中也有說明，體積型的光記錄媒體中，為了在體積層內進行多層記錄，而預先設定有，應進行資訊記錄之各層位置(資訊記錄層位置L)。於本實施形態的體積型記錄媒體1中，作為資訊記錄層位置L，係如圖所示，例如從上層側起依序設定有：第1資訊記錄層位置L1、第2資訊記錄層位置L2、第3資訊記錄層位置L3、...、第19資訊記錄層位置L19、第20資訊記錄層位置L20總計20個。
此處，若說明各層位置的具體例，關於位於最上部的第1資訊記錄層位置L1，係被設定成為，從體積型記錄媒體1之表面(最上面)起算大約100μm之位置。又，位於最下部之第20資訊記錄層位置L20，係被設定成為從上記表面起算大約300μm之位置。然後，這些第1資訊記錄層位置L1至第20資訊記錄層位置L20之間的各資訊記錄層位置L係被設定成，其與相鄰之各資訊記錄層位置L之間隔，平均為10μm。順便一提，基準面Ref之位置係為從上記表面起算約50μm之位置，因此從基準面Ref至第1資訊記錄層位置L1為止的間隔係約為50μm。
[1-2.光學驅動裝置之構成]
圖2及圖4係對具有如圖1所示構造之體積型記錄媒體1進行記錄/再生的第1實施形態之光學驅動裝置(總稱為記錄再生裝置10)的內部構成的說明圖。圖2係記錄再生裝置10所具備之光學拾取器OP之內部構成的主要圖示(體積型記錄媒體1也一併圖示)，圖4係圖示了記錄再生裝置10的全體內部構成。
～光學拾取器的內部構成～
首先根據圖2，來看光學拾取器OP的內部構成。圖中的體積型記錄媒體1，係在記錄再生裝置10的所定位置上，使其中心孔被抓持地裝載，藉由省略圖示的轉軸馬達而被保持成可旋轉驅動之狀態。光學拾取器OP係被設置來，為了對藉由上記轉軸馬達而被旋轉驅動的體積型記錄媒體1，照射錄再用雷射光、伺服用雷射光。在光學拾取器OP內，係設有：用來進行標記所致之資訊記錄、及以標記所被記錄之資訊再生所需的錄再用雷射光的光源亦即錄再用雷射11，和利用被形成在基準面Ref之引導溝進行位置控制所需之光亦即伺服用雷射光之光源的伺服用雷射24。
此處，如前述，錄再用雷射光與伺服用雷射光，係各自波長不同。本例的情況下，錄再用雷射光的波長係設為大約405nm左右(所謂藍紫色雷射光)，伺服用雷射光的波長係設為大約650nm左右(紅色雷射光)。又，在光學拾取器OP內係設有，作為錄再用雷射光與伺服用雷射光往體積型記錄媒體1之輸出端的接物透鏡20。
而且還設有，用來接受上記錄再用雷射光的來自體積型記錄媒體1之反射光所需的錄再光用受光部23，和用來接受伺服用雷射光的來自體積型記錄媒體1之反射光所需的伺服光用受光部34。然後，於光學拾取器OP內係形成有，用來將錄再用雷射11所射出之錄再用雷射光導入接物透鏡20，並且將入射至接物透鏡20的來自上記體積型記錄媒體1的錄再用雷射光的反射光引導至錄再光用受光部23所需的光學系。
具體而言，從上記錄再用雷射11所射出的錄再用雷射光，係以發散光之狀態而入射至偏光分束器12。偏光分束器12係被構成為，讓如此從錄再用雷射11所入射之錄再用雷射光穿透過去。穿透過偏光分束器12的錄再用雷射光，係透過了1/4波長板13之後，於準直透鏡14被轉換成平行光，入射至錄再光用聚焦機構(擴束器)15。如圖示，錄再光用聚焦機構15，係具有凹透鏡16、透鏡驅動部17、及凸透鏡18所構成。
透過了準直透鏡14的錄再用雷射光，係透過凹透鏡16、及凸透鏡18，然後往錄再光用聚焦機構15外部射出。
於錄再光用聚焦機構15中，凹透鏡16是被透鏡驅動部17朝錄再用雷射光之光軸平行方向驅動，針對錄再用雷射光是進行獨立的聚焦控制。
透鏡驅動部17係基於來自後述之控制器42(圖4)的驅動訊號Dex-rp來驅動凹透鏡16。入射至圖中之接物透鏡20的錄再用雷射光的視準度會有變化，伴隨於此，錄再用雷射光的合焦位置會被調整。此處，使用以下的圖3，先來說明許用錄再光用聚焦機構15的合焦位置之具體調整手法。
首先，以體積層5內的各層位置L為對象而進行記錄時，會預先設定好基準層位置Lpr。該基準層位置Lpr，係為錄再用雷射光之合焦位置之調整(設定)時應被用來當作基準之層位置，具體而言在本例的情況下，是將資訊記錄層位置L1～L20當中大約位於中間位置之資訊記錄層位置L(從表面起算約200μm之位置：例如L9或L10)當作基準層位置Lpr而設定。此時的錄再光用聚焦機構15，係以往如此之基準層位置Lpr的合焦狀態為基準，來進行錄再用雷射光的合焦位置之調整。
具體而言，針對此時之錄再用雷射光的光學系，是被設計成如圖3的(b)所示，在錄再用雷射光是合焦於基準層位置Lpr的狀態下，透鏡驅動部17所致之凹透鏡16的驅動位置，會落在基準位置。具體而言，此時所謂的凹透鏡16之基準位置，是指往透鏡驅動部17之驅動訊號Dex-rp的位準是零位準的狀態。
而且，此時的光學系是被設計成，在如此凹透鏡16位於基準位置之狀態下，從該凹透鏡16透過凸透鏡18而射出(亦即入射至接物透鏡20)的錄再用雷射光，是如圖所示般地呈平行光。
以該圖3的(b)所示之狀態為基準，當在比基準層位置Lpr下層側的資訊記錄層位置L，設定錄再用雷射光的合焦位置時，如圖3的(a)所示，將凹透鏡16往接近接物透鏡20方向而驅動(例如作為驅動訊號Dex-rp是給予正極性之訊號)。藉此，入射至接物透鏡20的錄再用雷射光係成為發散光，其結果為，錄再用雷射光的合焦位置係被調整成比基準層位置Lpr還下層側。
此時，與凹透鏡16的從上記基準位置起算之驅動量成比例，入射至接物透鏡20的錄再用雷射光的發散角會變大，錄再用雷射光的合焦位置會被調整成基準層位置Lpr的下層側。
另一方面，當在比基準層位置Lpr上層側的資訊記錄層位置L，設定錄再用雷射光的合焦位置時，如圖3的(c)所示，藉由將凹透鏡16往遠離接物透鏡20方向(光源側方向)做驅動(例如作為驅動訊號Dex-rp是給予負極性之訊號)，以使入射至接物透鏡20的錄再用雷射光變化成收束光。藉此，就可將錄再用雷射光的合焦位置，調整成比基準層位置Lpr還上層側。此時，藉由把凹透鏡16的從上記基準位置起算之驅動量更為加大，入射至接物透鏡20的錄再用雷射光的收束角就會變得更大，就可將錄再用雷射光的合焦位置調整成更為上層側。
回到圖2說明。
透過了上記錄再光用聚焦機構15的錄再用雷射光，係入射至雙色稜鏡19。
雙色稜鏡19係被構成為，其選擇反射膜是讓與錄再用雷射光同波長帶的光線穿透，其以外波長的光則會反射。因此如上述所而入射的錄再用雷射光，係會穿透雙色稜鏡19。
穿透過雙色稜鏡19的錄再用雷射光，係如圖所示，透過了DOE(Diffractive Optical Element：繞射型光學元件)32之後，被接物透鏡20聚光而照射至體積型記錄媒體1。
此處，如圖示，DOE32係可藉由2軸致動器21而與接物透鏡20一起(一體地)驅動。此外，關於設置DOE32所帶來的作用，將於後述。
對於接物透鏡20係設有，將該當接物透鏡20保持成可在聚焦方向(對體積型記錄媒體1接近遠離之方向)、及循軌方向(正交於上記聚焦方向之方向；體積型記錄媒體1的半徑方向)作位移的2軸致動器21。
在2軸致動器21中係具備有聚焦線圈、循軌線圈，藉由分別給予驅動訊號(後述的驅動訊號FD、TD)，就可使接物透鏡20分別往聚焦方向、循軌方向作位移。
此處，於再生時，隨著如上記般地對體積型記錄媒體1照射錄再用雷射光，從體積型記錄媒體1(體積層5內的再生對象之資訊記錄層L中所記錄的標記列)可獲得上記錄再用雷射光的反射光。如此所得的錄再用雷射光的反射光，係透過接物透鏡20→DOE32而被引導至雙色稜鏡19，並穿透該當雙色稜鏡19。
穿透過雙色稜鏡19的錄再用雷射光的反射光，係透過錄再光用聚焦機構15(凸透鏡18→凹透鏡16)→準直透鏡14→1/4波長板13之後，入射至偏光分束器12。
此處，如此入射至偏光分束器12的錄再用雷射光的反射光(返路光)，係藉由1/4波長板13之作用與體積型記錄媒體1上的反射作用，變成與從錄再用雷射光11側入射至偏光分束器12之錄再用雷射光(往路光)的偏光方向，有90度的差異。此結果為，如上記所入射的錄再用雷射光的反射光，係被偏光分束器12反射。
如此被偏光分束器12反射的錄再用雷射光之反射光，係透過柱面透鏡22而聚光在錄再光用受光部23的受光面上。
又，在光學拾取器OP內，係除了上記所說明的關於錄再用雷射光的光學系之構造外，還形成有用來把伺服用雷射24所射出之伺服用雷射光引導至接物透鏡20，且將入射至上記接物透鏡20的來自體積型記錄媒體1的伺服用雷射光的反射光引導至伺服光用受光部34所需的光學系。
如圖示，上記伺服用雷射24所所射出的伺服用雷射光，係以發散光之狀態而入射至偏光分束器25。偏光分束器25係被構成為，會讓如此從伺服用雷射24所入射的伺服用雷射光(往路光)穿透過去。
穿透過偏光分束器25的伺服用雷射光，係透過了1/4波長板26之後，被準直透鏡27轉換成平行光，入射至伺服光用聚焦機構28。
伺服光用聚焦機構28，係具有凹透鏡29、透鏡驅動部30、及凸透鏡31所構成。於該伺服光用聚焦機構28中，透過了準直透鏡28的伺服用雷射光，係透過凹透鏡29、及凸透鏡31，然後往伺服光用聚焦機構28外部射出。
作為此伺服光用聚焦機構28，也是和之前的錄再光用聚焦機構15同樣地，凹透鏡29係藉由透鏡驅動部30而在平行於伺服用雷射光之光軸的方向上被驅動，藉此，針對伺服用雷射光而進行獨立的聚焦控制。
透鏡驅動部30係基於來自後述之控制器42的驅動訊號Dex-sv來驅動凹透鏡29。入射至圖中之接物透鏡20的伺服用雷射光的視準度會有變化，伴隨於此，伺服用雷射光的合焦位置會被獨立調整。
此處，關於以伺服光用聚焦機構28來獨立調整伺服用雷射光之合焦位置的意義，將於後述。
透過了伺服光用聚焦機構28的伺服用雷射光，係如圖示，入射至雙色稜鏡19。
如之前所述，雙色稜鏡19係被構成為，讓與錄再用雷射光同波長帶的光線穿透，並反射其以外波長的光，因此上記伺服用雷射光係被雙色稜鏡19所反射，在透過了DOE32之後，被接物透鏡20聚光而照射至體積型記錄媒體1。
又，如此對體積型記錄媒體1照射伺服用雷射光而得的該當伺服用雷射光的反射光(來自基準面Ref之反射光)，係在透過了接物透鏡20→DOE32之後，被雙色稜鏡19所反射，透過伺服光用聚焦機構28(凸透鏡31→凹透鏡29)→準直透鏡27→1/4波長板26，入射至偏光分束器25。
和之前錄再用雷射光的情況同樣地，如此從體積型記錄媒體1側所入射的伺服用雷射光的反射光(返路光)，係藉由1/4波長板26之作用與體積型記錄媒體1上的反射時之作用，其偏光方向會變成與往路光有90度差異，因此作為返路光的伺服用雷射光的反射光，係被偏光分束器25所反射。
被偏光分束器25所反射的伺服用雷射光之反射光，係透過柱面透鏡33而聚光在伺服光用受光部34的受光面上。
此處，雖然省略圖示的說明，但實際上，在記錄再生裝置10，係如上述所說明，設有將光學拾取器OP全體往循軌方向滑移驅動的滑移驅動部，藉由該當滑移驅動部所作的光學拾取器OP之驅動，可使雷射光的照射位置廣範圍地位移。
～光學驅動裝置的全體內部構成～
記錄再生裝置10的全體內部構成，係示於圖4。此外，在該圖4中，關於光學拾取器OP的內部構成，係僅抽出一部分來圖示。
於圖4中，在記錄再生裝置10裡，作為用來進行以體積層5為對象之記錄/再生、或標記記錄/再生時的接物透鏡20之聚焦/循軌控制所需的訊號處理系之構成，係設置有圖中的記錄處理部35、錄再光用矩陣電路36、再生處理部37、錄再光用伺服電路38、伺服光用矩陣電路39、位置資訊偵測部40、及伺服光用伺服電路41。對記錄處理部35係輸入著，要對體積型記錄媒體1記錄之資料(記錄資料)。記錄處理部35，係對已被輸入之記錄資料施行錯誤訂正碼的附加或所定之記錄調變編碼等，獲得要對體積型記錄媒體1實際記錄的例如「0」「1」的2值資料列亦即記錄調變資料列。記錄處理部35，係根據如此所生成之記錄調變資料列為基礎的記錄脈衝RCP，而進行光學拾取器OP內的錄再用雷射11之發光驅動。
錄再光用矩陣電路36，係對應於作為圖2所示之錄再光用受光部23的複數受光元件所送來的受光訊號DT-rp(輸出電流)而具備電流電壓轉換電路、矩陣演算/增幅電路等，藉由矩陣演算處理而生成必要之訊號。
具體而言，係生成上述記錄調變資料列再生後的相當於再生訊號的高頻成分(以下稱作再生訊號RF)、聚焦伺服控制所需的聚焦錯誤訊號FE-rp、循軌伺服控制所需的循軌錯誤訊號TE-rp。被錄再光用矩陣電路36所生成的上記再生訊號RF，係被供給至再生處理部37。
又，上記聚焦錯誤訊號FE-rp、上記循軌錯誤訊號TE-rp，係對錄再光用伺服電路38做供給。再生處理部37，係針對上記再生訊號RF，進行2值化電路或記錄調變編碼的解碼、錯誤訂正處理等用來復原上述記錄資料所需的再生處理，獲得再生上記記錄資料的再生資料。
又，錄再光用伺服電路38，係基於從矩陣電路36所供給之聚焦錯誤訊號FE-rp、循軌錯誤訊號TE-rp，而分別生成聚焦伺服訊號FS-rp、循軌伺服訊號TS-rp，基於以這些聚焦伺服訊號FS-rp、循軌伺服訊號TS-rp為基礎的聚焦驅動訊號FD-rp、循軌驅動訊號TD-rp，驅動2軸致動器21的聚焦線圈、循軌線圈，以實現關於錄再用雷射光的聚焦伺服控制、循軌伺服控制。此外，由之前圖29～圖31的說明也可理解，此種基於錄再用雷射光之反射光的2軸致動器21(接物透鏡20)之伺服控制，係於再生時進行。
又，錄再光用伺服電路38，係對應於再生時而隨著從控制器42所下達之指示，作為把循軌伺服迴圈關閉而對上記循軌線圈給予跳躍脈衝以實現軌道跳躍動作，或進行循軌伺服的誘導控制等。又，也會進行聚焦伺服的誘導控制等。
又，伺服用雷射光之反射光的訊號處理系中，伺服光用矩陣電路39係基於圖2所示之伺服光用受光部34中的複數受光元件所送來的受光訊號DT-sv，而生成必要之訊號。
具體而言，伺服光用矩陣電路39係生成，聚焦/循軌之各伺服控制所需的聚焦錯誤訊號FE-sv、循軌錯誤訊號TE-sv。
又，還會生成，用來進行基準面Ref上所被記錄之絕對位置資訊(位址資訊)之偵測所需的位置資訊偵測用訊號Dps。例如，當絕對位置資訊是藉由凹坑列而被記錄時，係生成和訊號來作為位置資訊偵測用訊號Dps。或者，當絕對位置資訊是藉由搖擺凹軌而被記錄時，係生成推挽訊號來作為位置資訊偵測用訊號Dps。
上記位置資訊偵測用訊號Dps，係被供給至位置資訊偵測部40。位置資訊偵測部40係基於上記位置資訊偵測用訊號Dps，而偵測出被記錄在基準面Ref的絕對位置資訊。已被偵測出來的絕對位置資訊，係對控制器42進行供給。
又，已被伺服光用矩陣電路39所生成的聚焦錯誤訊號FE-sv、循軌錯誤訊號TE-sv，係對伺服光用伺服電路41進行供給。
伺服光用伺服電路41，係基於聚焦錯誤訊號FE-sv、循軌錯誤訊號TE-sv而分別生成聚焦伺服訊號FS-sv、循軌伺服訊號TS-sv。
然後，在記錄時，隨著來自控制器42之指示，基於以上記聚焦伺服訊號FS-sv、循軌伺服訊號TS-sv為基礎所生成的聚焦驅動訊號FD-sv、循軌驅動訊號TD-sv，來驅動2軸致動器21的聚焦線圈、循軌線圈，以實現關於伺服用雷射光的聚焦伺服控制、循軌伺服控制。
又，伺服光用伺服電路41，係對應於記錄時而隨著從控制器42所下達之指示，作為把循軌伺服迴圈關閉而對2軸致動器21的循軌線圈給予跳躍脈衝以實現軌道跳躍動作，或進行循軌伺服的誘導控制等。又，也會對基準面Ref進行聚焦伺服的誘導控制等。
控制器42，係由例如具備CPU(Central Processing Unit)或ROM(Read Only Memory)、RAM(Random Access Memory)等之記憶體(記憶裝置)的微電腦所構成，例如依照上記ROM中所記憶的程式而執行控制、處理，以進行記錄再生裝置10的整體控制。
具體而言，控制器42係進行用來實現如之前圖29～圖31所說明的記錄/再生時之接物透鏡20的伺服控制切換所需之控制。亦即，控制器42，係在記錄時，對伺服光用伺服電路41指示聚焦驅動訊號FD-sv、循軌驅動訊號TD-sv之輸出，並對錄再光用伺服電路38指示停止聚焦驅動訊號FD-rp、循軌驅動訊號TD-rp之輸出。
另一方面，在再生時，係對錄再光用伺服電路38指示聚焦驅動訊號FD-rp、循軌驅動訊號TD-rp之輸出，對伺服光用伺服電路41指示停止聚焦驅動訊號FD-sv、循軌驅動訊號TD-sv之輸出。
又，控制器42，係對伺服光用伺服電路41進行找尋動作控制。亦即，為了使伺服用雷射光的光點位置移動至基準面Ref上的所定位址，而進行對伺服電路41之指示。
又，控制器42，係藉由進行錄再光用聚焦機構15中的透鏡驅動部17之驅動控制與伺服光用聚焦機構28中的透鏡驅動部30之驅動控制，而使錄再用雷射光合焦至所要的資訊記錄層位置L並且使伺服用雷射光合焦至基準面Ref，但是關於此種合焦位置調整的具體手法，會再說明如下。
[1-3.伺服光用聚焦機構之功用]
此處，於本實施形態的記錄再生裝置10中，設置有錄再光用聚焦機構15，並且也設置有伺服光用聚焦機構28，但關於這其中的意義，先參照圖5、圖6來說明之。
圖5係未設置伺服光用聚焦機構28時的問題點的說明圖。
首先於圖5中，圖5的(b)係圖示了，將錄再用雷射光的合焦位置調整成，體積層5內所被設定之基準層位置Lpr上的狀態。如之前圖3中所說明，此情況的光學系，是被如此設計成，當錄再用雷射光合焦於基準層位置Lpr時，錄再用雷射光是以平行光而入射至接物透鏡20，且是被如此設計成，在錄再用雷射光合焦於基準層位置Lpr之狀態下，接物透鏡20是位於其基準位置。
又，此情況下，如上述，接物透鏡20位於基準位置之狀態下，如圖示，伺服用雷射光是以平行光而入射至接物透鏡20時，該伺服用雷射光的合焦位置是與基準面Ref一致，來設計接物透鏡20。
從圖5的(b)所示之狀態，把錄再用雷射光的合焦位置調整至被形成在比上記基準層位置Lpr還下層側的資訊記錄層位置Lp1上時，如圖5的(a)所示，會使錄再用雷射光以發散光而入射至接物透鏡20。亦即，如之前圖3的(a)中所說明，在錄再光用聚焦機構15中藉由將凹透鏡16往接物透鏡20側驅動，而使錄再用雷射光以發散光入射至接物透鏡20。
又，當把錄再用雷射光的合焦位置調整至被形成在比上記基準層位置Lpr還上層側的資訊記錄層位置Lpu上時，如圖5的(c)所示，會使錄再用雷射光以收束光而入射至接物透鏡20。亦即如之前圖3的(c)中所說明，只要將凹透鏡16往光源側驅動即可。
如此一來，藉由設置錄再光用聚焦機構15，就可將錄再用雷射光的合焦位置作任意調整，但這裡要注意的地方是，單純僅藉由以錄再光用聚焦機構15改變入射至接物透鏡20之錄再用雷射光的視準度而進行合焦位置之調整的情況下，伴隨著合焦位置之調整，接物透鏡20的主平面Som與錄再用雷射光的合焦位置之間的距離Do-rp會產生較大的變化。
具體而言，當從圖5的(b)所示之基準層位置Lpr的選擇狀態，變成圖5的(a)所示之下層側的資訊記錄層位置Lpl之選擇狀態時，距離Do-rp會產生圖中+Δ所示的變化，又，當從圖5的(b)所示之基準層位置Lpr的選擇狀態，變成圖5的(c)所示之上層側的資訊記錄層位置Lpu之選擇狀態時，距離Do-rp會產生圖中-Δ所示的變化。
此處，通常來說，接物透鏡20係被設計成，在圖5的(b)所示之狀態下，針對錄再用雷射光可獲得良好的像差性能(例如球面像差或彗星像差等)。
因此，若發生了如圖5的(a)或圖5的(c)所示的距離Do-rp之變化Δ，則隨著其發生量，而會發生像差性能的降低，有可能無法在例如實施形態這種200μm左右之比較廣範圍中進行多層記錄。亦即，多層記錄的層數會有限制，難以達成大記錄容量化。
於是，設置如之前圖2所示的伺服光用聚焦機構28，以謀求此種問題之解決。
圖6係伺服光用聚焦機構28所致之作用的說明圖。此外，此圖6中也是，(b)圖係表示選擇了基準層位置Lpr的基準狀態，(a)圖係表示選擇了比基準層位置Lpr下層側之資訊記錄層位置Lpl的狀態，(c)圖係表示選擇了比基準層位置Lpr上層側之資訊記錄層位置Lpu的狀態。
在抑制如前述伴隨距離Do-rp之變化的像差性能之降低時，只要使得該距離Do-rp無論資訊記錄層位置L之選擇狀態為何皆呈一定即可。
具體而言，以圖6的(b)所示之基準層位置Lpr的選擇狀態為基準，而要選擇較下層側之資訊記錄層位置Lp1之際，如圖6的(a)所示，只要使接物透鏡20比該基準位置更靠近體積型記錄媒體1側即可。
同樣地，在選擇比基準層位置Lpr上層側的資訊記錄層位置Lpu之際，則只要使接物透鏡20配置在比該基準位置更靠近光源側(從體積型記錄媒體1遠離的一側)即可。
藉此，就可抑制距離Do-rp之變化Δ，可抑制錄再用雷射光的像差性能降低。亦即，其結果為，多層記錄之層數限制可被緩和，因此可謀求記錄容量的擴大化。
此時，如前述，接物透鏡20係在如(b)圖所示位於基準位置的狀態下，伺服用雷射光是以所定發散/收束角(在此例子中係設為平行光)而入射之際，該伺服用雷射光是被設計成合焦於基準面Ref。因此，如上記，為了距離Do-rp之調整，而使接物透鏡20的位置從基準位置作位移時，為了使伺服用雷射光合焦於基準面Ref，必須要使入射至接物透鏡20的伺服用雷射光的視準度，隨著接物透鏡20的驅動位置而變化。具體而言，如圖6的(a)所示般地選擇資訊記錄層位置Lp1的情況下，如上記般地接物透鏡20是被往靠近體積型記錄媒體1側驅動(亦即使伺服用雷射光的合焦位置往更下層側平移方向的接物透鏡20之驅動)，對應此一事實，而令伺服用雷射光以收束光方式入射至接物透鏡20。此時，當選擇更為下層側之資訊記錄層位置L之際，入射至接物透鏡20的伺服用雷射光之收束角就會變得更大。又，如圖6的(c)所示般地選擇資訊記錄層位置Lpu的情況下，如上記般地接物透鏡20是被往靠近光源側驅動(亦即使伺服用雷射光的合焦位置往更上層側平移方向的接物透鏡20之驅動)，對應此一事實，而令伺服用雷射光以發散光方式入射至接物透鏡20。此時也是，當選擇更為上層側之資訊記錄層位置L之際，入射至接物透鏡20的伺服用雷射光之發散角就會變得更大。
為了如此隨著接物透鏡20之驅動位置來改變伺服用雷射光的視準度，必須要有圖2所示的伺服光用聚焦機構28。
此處，為了避免誤解而說明，此時的錄再光用聚焦機構15所致之錄再用雷射光的發散/收束角的設定量，係如上述會隨著接物透鏡20被驅動之事實，而會小於之前圖5的情形。具體而言，如圖6的(a)所示般地選擇比基準層位置Lpr下層側的資訊記錄層位置Lp1的情況下，使接物透鏡20是被從基準位置往體積型記錄媒體1側(亦即資訊記錄層位置Lp1側)驅動，因此錄再用雷射光的發散角係可以小於圖5的(a)之情形。
同樣地，如圖6的(c)所示般地選擇比基準層位置Lpr上層側的資訊記錄層位置Lpu的情況下，由於接物透鏡20是被從其基準位置往光源側驅動，因此，錄再用雷射光的收束角係可以小於圖5的(c)之情形。
在了解以上的前提後，說明錄再光用聚焦機構15、伺服光用聚焦機構28、及2軸致動器21的具體驅動手法。
首先，在圖4所示的控制器42中，係分別預先設定了，把錄再用雷射光的合焦位置調整至各資訊記錄層位置L時所應設定的凹透鏡16之驅動量(驅動訊號Dex-rp之值)之資訊、及用來抑制距離Do-rp之變化Δ所需的各資訊記錄層位置L的接物透鏡20之驅動位置之資訊(2軸致動器21的聚焦線圈的驅動量之資訊)、及該每一資訊記錄層位置L的接物透鏡20之驅動位置所應分別對應設定的凹透鏡29之驅動量之資訊(透鏡驅動部30的驅動訊號Dex-sv之值)。
控制器42，係基於這些設定資訊，控制透鏡驅動部17、伺服光用伺服電路41、及透鏡驅動部30，藉此以一面抑制距離Do-rp的變化Δ，一面使錄再用雷射光合焦於對象的資訊記錄層位置L，且使伺服用雷射光合焦於基準面Ref。具體而言，控制器42，係藉由對伺服光用伺服電路41之指示，將基於上記用來抑制距離Do-rp之變化Δ所需的各資訊記錄層位置L的接物透鏡20之驅動位置之資訊所致之位準的聚焦驅動訊號FD，給予聚焦線圈。又，與此同時，藉由對應於記錄對象之資訊記錄層位置L而設定的值所致之驅動訊號Dex-rp、驅動訊號Dex-sv，分別控制透鏡驅動部17、透鏡驅動部30，以使錄再用雷射光合焦於對象的資訊記錄層位置L，且使伺服用雷射光合焦於基準面Ref。
[1-4.DOE的第1功用]
順便一提，如之前的圖2所示，在本實施形態的光學拾取器OP中，係在雙色稜鏡19與接物透鏡20之間，設置有DOE32。具體而言，係設置了，會被透過了雙色稜鏡19的光所入射，且與接物透鏡20被2軸致動器21一體驅動而插入的DOE32。
該DOE32，其第1功用係為，為了確保關於伺服用雷射光的接物透鏡20之視野振動容忍度之範圍，而被插入。
於圖2中，DOE32係為，從雙色稜鏡19所入射之錄再用雷射光與伺服用雷射光當中，僅使伺服用雷射光被選擇性收束，是被構成為具有如此波長選擇性的繞射型光學元件。具體而言，DOE32係例如由HOE(Holographic Optical Element)所構成。
藉由此種DOE32的插入，尤其如圖6的(a)所示，下層側的資訊記錄層位置L被選擇且接物透鏡20是被往體積型記錄媒體1側驅動，伺服用雷射光的收束角會變大而將合焦位置拉近至前方側，可謀求伺服光用聚焦機構28所致之伺服用雷射光收束角的縮小化。
此處，假設若不設置DOE32，則伺服用雷射光會從平行光之狀態而變大其收束角，這會導致伺服用雷射光的接物透鏡20的視野振動容忍度降低。
此時，如上記藉由DOE32之插入而可縮小伺服用雷射光之收束角這件事，意味著可使入射至DOE32的伺服用雷射光呈現接近平行光之狀態。然後，如前述，DOE32係與接物透鏡20被2軸致動器21一體驅動，因此DOE32與接物透鏡20不會發生橫向錯開。
如此可使入射至DOE32的伺服用雷射光呈現接近平行光之狀態，且可防止DOE32與接物透鏡20不會發生橫向錯開，藉此可謀求關於伺服用雷射光的視野振動容忍度之提升。
此外，為了避免誤解而說明，如上述被控制器42所設定的凹透鏡29的驅動量之資訊，是也有考慮如此藉由DOE32使伺服用雷射光之光束被收束而作的設定。
此處，如上述，DOE32係具有僅使伺服用雷射光收束的波長選擇性，但以下，針對實現此種波長選擇性的DOE32之具體構造，先參照圖7～圖9來說明。
圖7係DOE32中的1週期之凹凸圖案之形成例的說明圖。
首先，在圖7的(a)中，圖示了被形成在DOE32上的凹凸圖案、空氣之折射率n0 與DOE32之折射率n與深度d之關係。
如圖示，若n0 =1、n=N，則相對於在空氣中的深度d，DOE32中的深度d係記作dN。
圖7的(b)係具體的1週期之凹凸圖案之形成例的說明圖。
此處，於本例中DOE32的折射率n係為1.66。又，錄再用雷射光的波長係為405nm，伺服用雷射光的波長係為660nm。
為了不獲得錄再用雷射光收束作用，只要將受到DOE32的凹凸圖案(落差部分)所致之調變的波長=405nm的光的相位差，設成正好360°或360°的整數倍即可。因此，此情況下的落差的深度d(凹凸圖案的1step之高度)，係設成
(N-1)d=m×405nm
d=m×405nm/(N-1)
即可。其中，在上式中，m係意味著整數。
在本例中，DOE32的階數係如圖所示為「2」，因此各落差部的深度d係如圖所示，d=0.6136μm、d=1.2272μm。
圖8係在設定了此種落差的情況下，伺服用雷射光所被給予之相位差的例示圖。
如圖7的(b)所示，將1step的深度d設成0.6136時，伺服用雷射光所被給予的1step份的落差所致之相位差Φ (wave：波數)，係若對錄再用雷射光與伺服用雷射光之DOE32的折射率n是分別相等時，則
Φ =(1-405/660)×m=0.3864×m
可如此表示。
因此，藉由如圖所示之DOE32的第1step之落差所賦予的相位差Φ 係為0.3864(wave)，第2step之落差所賦予的相位差Φ 係為0.7728(wave)。
藉由如此落差的深度d之值得設定而實現波長選擇性的前提下，作為DOE32的全體之凹凸的形成圖案，係設定如圖9。
作為用來使伺服用雷射光收束所需的凹凸之形成圖案，係如圖所示以同心圓狀的同心圓狀為基本，同時使凹凸(本例的情形係為2階段的落差部)之形成間距隨著越往外緣側就越緩緩變窄。
此情況下，藉由凹凸之形成間距之調整，就可任意調整伺服用雷射光的收束角。
[1-5.作為實施形態的倍率設定]
～循軌方向上的光點位置偏誤之抑制～
此處，由目前為止的說明也可理解，作為本實施形態的記錄再生裝置10也是，在對體積型光記錄媒體進行記錄時，是設計為：‧錄再用雷射光與伺服用雷射光是透過共通的接物透鏡而照射‧接物透鏡的聚焦伺服控制，係使伺服用雷射光合焦於被形成在光記錄媒體之反射膜上而進行‧使錄再用雷射光與伺服用雷射光被合焦至聚焦方向上的各自不同之位置‧接物透鏡的循軌伺服控制，係基於伺服用雷射光的反射光而使該伺服用雷射光之合焦位置追隨於基準面上的位置引導子而進行在採用如此構成時，藉由如之前圖32中所說明之原理，起因於體積型記錄媒體1之偏芯所伴隨而來的接物透鏡的透鏡平移，在伺服用雷射光與錄再用雷射光之間會發生循軌方向上的光點位置偏誤Δx。
此處，此種光點位置偏誤Δx，係隨著錄再用雷射光的倍率(以下稱作β_rp)、和伺服用雷射光的倍率(以下稱作β_sv)而變化。本說明書中所述的「倍率」，係被定義如下。
亦即，所謂錄再用雷射光的倍率β-rp係為，令從接物透鏡20所觀看之錄再用雷射光的物點OB(參照圖3的(a)(c))與接物透鏡20的主平面Som之間的距離為S1 (稱作S1 _rp)，接物透鏡20的主平面Som與接物透鏡20所致之錄再用雷射光的像點(合焦位置)之間的距離為S2 (稱作S2 _rp)時，係被定義成：
[數1]
同樣地，伺服用雷射光的倍率β_sv係為，令從接物透鏡20所觀看之伺服用雷射光的物點與接物透鏡20的主平面Som之間的距離為S1 (稱作S1 _sv)，接物透鏡20的主平面Som與接物透鏡20所致之錄再用雷射光的像點(合焦位置)之間的距離為S2 (稱作S2 _sv)時，係被定義成：
[數2]
亦即，此處所謂的「倍率」，係指所謂的橫倍率。
上述的光點位置偏誤Δx，具體而言，這些倍率β_rp與倍率β_sv之關係係如以下所表示。
首先，當令接物透鏡20的透鏡平移量為dx 時，透鏡平移所帶來的錄再用雷射光、伺服用雷射光各自在循軌方向上的合焦位置之位移量誤差(透鏡平移量dx 所致之接物透鏡20的平移所帶來的合焦位置之位移量與透鏡平移量dx 的差，分別稱作位移量誤差δx_rp、δx_sv)係為：
[數3]
[數4]
因此，透鏡平移所帶來的錄再用雷射光與伺服用雷射光之間的光點位置偏誤Δx，係可藉由：
[數5]
來表示之。
此處，如參照上記[式5]所理解，為了縮小光點位置偏誤Δx，只要使錄再用雷射光的倍率β_rp與伺服用雷射光的倍率β_sv相近即可。
於是，在本實施形態中，係使伺服用雷射光的倍率β_sv，被包含在錄再用雷射光的倍率β_rp之範圍內。亦即，圖2所示的光學系是如此被設計成，滿足伺服用雷射光的倍率β_sv是落在錄再用雷射光之倍率β_rp之範圍內的此一條件。
若伺服用雷射光的倍率β_sv是落在錄再用雷射光的倍率β_rp之範圍內，則對於相同透鏡平移量dx 的錄再用雷射光之合焦位置的位移量誤差δx_rp、與伺服用雷射光之合焦位置的位移量誤差δx_sv的差就會變小，結果可以抑制光點位置偏誤Δx。
藉由如此可抑制光點位置偏誤Δx，可使相應於透鏡平移偵測結果的資訊記錄位置p-rec之補正(例如錄再用雷射光的光軸補正)能夠有效發揮作用，其結果為，可更加強防止記錄標記列的重疊或交叉之發生，可謀求更穩定的再生動作之實現。
此外，為了避免誤解而說明，錄再用雷射光的倍率β_rp，係隨著體積層5內的資訊記錄層位置L之選擇，其值會跟著變化。上記所謂「倍率β_rp之範圍內」，係意味著會落在如此隨著資訊記錄層位置L之選擇而變化的錄再用雷射光之倍率β_rp之範圍內。
又，由之前圖6的說明也可理解，在本例的情況中，隨著資訊記錄層位置L之選擇，伺服用雷射光的倍率β_sv也會跟著變化。因此在本例的情況下，只要讓此種隨著資訊記錄層位置L之選擇而變化的伺服用雷射光的倍率β_sv(倍率β_sv之範圍)，是落在錄再用雷射光之倍率β_rp的範圍內，來設計光學系即可。
此外，即使由於距離Do-rp之變化Δ所致之像差性能的惡化並不會造成問題的情況等理由，而不設置伺服光用聚焦機構28的情形下(亦即把伺服用雷射光的倍率β_sv設為固定的情形)，在光點位置偏誤Δx之抑制時，仍然是只要使伺服用雷射光之倍率β_sv落在錄再用雷射光之倍率β_rp的範圍內即可，這點是不變的。
～聚焦方向上的資訊記錄位置偏誤之抑制～
又，在本實施形態中，關於倍率β_rp與倍率β_sv，是先使其滿足如上述的循軌方向上的光點位置偏誤Δx之抑制所需的條件，然後再為了抑制聚焦方向上的資訊記錄位置p-rec之偏誤(Δz)，而使其也要滿足如以下所說明之條件。
圖10係在聚焦方向上的資訊記錄位置偏誤(Δz)的說明圖。
圖10的(a)係表示體積型記錄媒體1未發生面振的理想狀態下的接物透鏡20之位置、基準面Ref之位置、記錄對象之資訊記錄層位置Ln、及資訊記錄位置p-rec(錄再用雷射光之合焦位置)的關係，圖10的(b)係圖示了發生了面振(往靠近接物透鏡20之方向的面振)時的上述各位置之關係。
首先作為前提，伺服用雷射光的合焦位置，係基於該伺服用雷射光的反射光所做的接物透鏡20之聚焦伺服控制，而被控制成落在基準面Ref上。亦即，在該聚焦伺服控制的進行下，接物透鏡20與基準面Ref的距離係會被維持在某一定之間隔。
在此圖的例子中係為了方便起見，假設伺服用雷射光係對接物透鏡20以平行光而入射，因此當往圖10的(b)所示的方向發生了面振dz 時，作為接物透鏡的聚焦方向上的位置也是會往面振發生方向的相同方向，平移了dz 。
另一方面，資訊記錄位置p-rec係由錄再光用聚焦機構15中的凹透鏡16之驅動而定。
如圖10的(a)所示，該資訊記錄位置p-rec，係在沒有面振的理想狀態下，是對記錄對象的資訊記錄層位置Ln呈一致。
此處，如前述發生了面振dz 時，為了使伺服用雷射光的合焦位置一致於基準面Ref，接物透鏡20在此情況下係被往與面振發生方向的同方向驅動了一dz 的量，但錄再用雷射光的合焦位置(資訊記錄位置p-rec)係即使如此接物透鏡被驅動了dz ，仍不會同樣地恰好位移一dz 的量。這是起因於，對接物透鏡20所入射的伺服用雷射光與錄再用雷射光中，存在有視準度的差異(此情況下係為平行光與非平行光之差異)所導致。亦即，如此，由於入射至接物透鏡20的伺服用雷射光與錄再用雷射光中存在有視準度的差異，對同一接物透鏡20之驅動量的伺服用雷射光之合焦位置位移量與錄再用雷射光之合焦位置位移量中會產生差異的緣故。
如此隨著面振之發生，在資訊記錄位置p-rec(錄再用雷射光的合焦位置)，會發生如圖10的(b)中表示為「Δz」的散焦(從對象之資訊記錄層位置Ln偏移開來之偏誤)。
該散焦(聚焦方向上的資訊記錄位置p-rec之偏誤)Δz，係如圖10的(b)所示，當面振是往靠近接物透鏡20之方向發生時，會以往對象之資訊記錄層位置Ln還要前方側(上層側)的散焦之方式而產生，反之，在發生了從接物透鏡20遠離方向的面振時，則是以往對象之資訊記錄層位置Ln還要深處的散焦之方式而產生。
若發生此種相應於面振的散焦Δz，則隨著面振的大小或各資訊記錄層位置L的層間隔之設定，有可能導致相鄰層彼此兼資訊記錄位置p-rec發生重疊的疑慮。若發生此事，就會無法正確地再生出記錄訊號。
此處，作為用來避免上述散焦Δz所造成之問題的1個對策，可舉出把各層的層間隔保持成面振所致資訊記錄位置p-rec之變動以上。
然而，在此手法中，無法把各層在聚焦方向上縮近，要謀求記錄容量的增大化，是非常的困難。
又，作為避免上記散焦Δz所造成之問題的其他手法可舉出有，設計成無法裝卸碟片的系統。
此處，作為面振的原因雖然可舉例如碟片的歪斜，但碟片的歪斜，係由於碟片抓鉗於旋轉驅動部時的歪斜、或抓鉗面上夾有雜物而導致歪斜等複合要因所產生。因此，若設計成無法裝卸碟片之系統，則由於各層上面振之影響大致相同，因此可避免記錄時各層記錄訊號重疊之問題。因此，可將各層在聚焦方向上縮近，其所換來的是，可謀求記錄容量的增大化。
然而，在此方法中，由於完全無法更換碟片，因此例如碟片不良時就無法只更換碟片。甚至，使某台記錄裝置所記錄之資料在別台記錄裝置上讀出這種事情也做不到。亦即由這些點來看，會導致損及便利性。
於是在本實施形態中，係也要滿足為了謀求這些問題之解決所需的倍率β_rp、β_sv之條件。
於是，作為如圖10所示的散焦Δz，也是會隨倍率β_rp與倍率β_sv之關係而變化。
具體而言，首先，令面振量為dz時，相應於該面振的接物透鏡20之位移所帶來的錄再用雷射光之散焦量δz_rp、和伺服用雷射光的散焦量δz_sv，係可如下記般地獨立考慮。此處，散焦量δz，係指將接物透鏡20驅動了dz 時的合焦位置之位移量與面振量dz 的差值。
[數6]
[數7]
此時，若著眼於伺服用雷射光的散焦量δz_sv來看，假設伺服用雷射光是如之前的圖10所示般地對接物透鏡20以平行光入射(亦即β_sv=∞)，則根據[式7]，散焦量δz_sv係為0。因此，當β_sv=∞時，聚焦伺服係只需要吸收面振成分即可，接物透鏡20係會被驅動一dz 之量(參照圖10的(b))。如此，在β_sv=∞之情況下，對於dz 的面振，接物透鏡20也僅驅動一dz 之量，因此其結果為，作為錄再用雷射光所致之資訊記錄位置p-rec之偏誤的散焦Δz，係根據[式6]而為Δz=1/β_rp2 ×dz 。
另一方面，當伺服用雷射光是以收束光或發散光入射時，根據[式　7]之伺服用雷射光的散焦量δz_sv係不會為0，因此這時的聚焦伺服中，除了對面振的追隨，還會進行如此散焦量δz_sv之吸收。亦即，此時的接物透鏡20係會被驅動dz +δz_sv，亦即dz +1/β_sv2 ×dz 。
如此，可表示成，隨著dz 所致之面振的發生，接物透鏡20是被驅動「dz +δz_sv」。亦即，隨著此種接物透鏡20之驅動而產生的錄再用雷射光的散焦Δz ，係可用
[數8]
來表示。
此處，若面振所帶來的散焦Δz之發生量是小到可忽視之程度，則可使資訊記錄位置p-rec的偏誤縮小到可忽視之程度。有鑑於此點，在本實施形態中，是以使得面振所致之散焦Δz會變成錄再用雷射光之焦點深度以下的方式，來設定倍率β_rp、倍率β_sv。
為了避免誤解而說明，錄再用雷射光的焦點深度係為，令錄再用雷射光之波長為λ、接物透鏡20之開口數(對於錄再用雷射光的開口數)為NA時，可以用
[數9]
來表示。
若根據[式8]，則可知要把面振所帶來之散焦Δz抑制成焦點深度以下時，只要
[數10]
即可。
此時，關於面振的發生量dz ，係只要考慮其最大量D即可，具體而言，例如只要是體積型記錄媒體1之規格所定之容許最大面振量即可。
如此令面振的最大量為D，然後還令焦點深度λ/NA2 為α，則上記[式10]係可改寫成：
[數11]
將其整理後，
[數12]
在本實施形態中，圖2所示的光學系，係被設計成也要滿足上記[式12]之條件。因此，記錄動作中的面振所造成的散焦Δz之發生量，一定會被抑制在焦點深度以下。
藉由把散焦Δz之發生量抑制在焦點深度以下這種非常小的值，就可使得相鄰層間不會因為面振而造成資訊記錄位置p-rec重疊之問題，可使記錄訊號被正確地再生。
又，藉由散焦Δz的發生量抑制成非常小的值，就可縮近各資訊記錄層位置L的層間隔，可謀求大記錄容量化。
又，若散焦Δz的發生量被抑制成非常小的值，則可容許體積型記錄媒體1的裝卸，可以防止設計成像是例如硬碟機(HDD)那樣無法裝卸碟片之系統時的便利性降低。
此處，雖然也想到可偵測出面振所帶來的接物透鏡20之位移量，隨著其偵測結果而使錄再用雷射光的合焦位置做偏置以補正面振所造成的散焦Δz，但在進行如此補正時，如上述，散焦Δz的發生量是被抑制成非常小的值，這樣一來其補正就可較為有利地進行。
順便一提，若參照之前的[式12]，則可知在散焦Δz之發生量的抑制目的上，倍率β的絕對值是越大越理想。
此處，如參照之前的圖3所說明，在本實施形態中，以資訊記錄層位置L為對象的合焦位置之調整，係使入射至接物透鏡20的錄再用雷射光以平行光(β_rp=∞)之狀態為基準而變化成收束光/發散光，而進行之。
藉由如以設計，可將倍率β_rp的絕對值設定成較大，可更有利地進行用來縮小散焦Δz之光學系的設計。
如之前所說明，倍率β係被定義成，從接物透鏡20所觀看的物點OB與接物透鏡20之主平面Som之間的距離S1 、和接物透鏡20的主平面Som與錄再用雷射光之像點之間的距離為S2 之比率(β=S1 /S2 )。
此處，例如圖3的(a)所示，若考察錄再用雷射光以發散光入射至接物透鏡20而進行合焦位置之設定的狀態下倍率β_rp，則此時從接物透鏡20所觀看之錄再用雷射光的物點OB，係可視為圖中的黑點所示之位置。此時，上記距離S1 係取正的值。
若從該圖3的(a)所示之狀態起，再把凹透鏡16往接物透鏡20側驅動(亦即把錄再用雷射光的發散角更為加大；選擇更下層側的資訊記錄層位置L)，則距離S1 之值係變得更小。另一方面，距離S2 之值(正的值)係變得更大。
由此事實也可理解，使錄再用雷射光以發散光入射至接物透鏡20，而調整其發散角而進行合焦位置之調整的那一側，倍率β_rp之值係為，越是加大上記發散角而選擇更下層側之層位置，就會變得越小。換言之，越縮小上記發散角而接近平行光(選擇越上層側之層位置)，則倍率β_rp之值係會變得越大。
另一方面，圖3的(c)所示，若錄再用雷射光以收束光入射至接物透鏡20時，從接物透鏡20所觀看之錄再用雷射光的物點OB，係可視為圖中的黑點所示之位置。此時，上記距離S1 係取負的值。
若從該圖3的(b)所示之狀態起，再把凹透鏡16往接遠離物透鏡20側驅動(亦即把錄再用雷射光的收束角更為加大；選擇更上層側的層位置)，則距離S1 之值(絕對值)係變得更小。另一方面，距離S2 之值(正的值)係變得更大。
因此，即使錄再用雷射光以收束光而入射至接物透鏡20而調整收束角以調整合焦位置的那一側，也是越加大上記收束角(選擇越上層側之層位置)則倍率β_rp之值(絕對值)會變得越小，反之，越縮小收束角而接近平行光(選擇越下層側之層位置)則倍率β_rp之值(絕對值)會變得越大。
由以上的說明也可理解，若依據使入射至接物透鏡20的錄再用雷射光以平行光(β=∞)之狀態為基準而變化成收束光/發散光，來進行對資訊記錄層位置L之合焦位置之調整的本實施形態，則可將倍率β_rp的絕對值設定得較大，結果為，可更有利地進行用來縮小散焦Δz之光學系的設計。
此處，在本實施形態中，由於是將位在體積層5內的大略中間位置的資訊記錄層位置L，設定成基準層位置Lpr，因此從位於最上部的資訊記錄層位置L1到位於最下部的資訊記錄層位置L20為止的層選擇進行時的倍率β_rp之變化幅度，可以抑制在最小幅度。亦即，藉此，可最有利於進行用來縮小散焦Δz之光學系的設計。
為了避免誤解而說明，所謂對於進行用來縮小散焦Δz之光學系的設計上最不利的是，例如將基準層位置Lpr設定在最上部的資訊記錄層位置L1或最下部的資訊記錄層位置L20等，使入射至接物透鏡20的錄再用雷射光，僅在平行光～擴散光之範圍，或僅在平行光～收束光之範圍中變化而進行合焦位置之調整的情形。
因此，相較於這些狀態，為了使用來縮小散焦Δz之光學系的設計更為有利地進行，則只要至少在錄再用雷射光的合焦位置是被調整在最上部之資訊記錄層位置L1的狀態下，使錄再用雷射光以收束光入射至上記接物透鏡20，或是在錄再用雷射光的合焦位置是被調整在最下部之資訊記錄層位置L20的狀態下，使錄再用雷射光以發散光入射至接物透鏡20即可。
換言之，只要設計成，藉由使入射至接物透鏡20的錄再用雷射光以平行光之狀態為基準而變化成收束光/發散光，來進行以體積層5內的從最上部之資訊記錄層位置L1至最下部之資訊記錄層位置L20為止來當作對象的合焦位置之調整即可。
～具體的倍率設定例～
圖11係用來說明，滿足上記所說明之本實施形態的倍率設定條件的倍率β_rp與倍率β_sv之設定例。
圖11的(a)係對應於從資訊記錄層位置L1(表面起算距離100μm)至資訊記錄層位置L20(表面起算距離300μm)為止之間的每50μm之各層位置，分別表示了倍率β_sv之值、倍率β_rp之值、散焦量δz_sv之值、及散焦Δz之值。此處，關於散焦量δz_sv與散焦Δz，係表示面振量dz =300μm時的數值。
又，圖11的(b)係同樣地每50μm的各層位置地表示倍率β_sv之值、倍率β_rp之值，並且表示了透鏡平移量dx =100μm時的各層位置的錄再用雷射光的合焦位置的位移量誤差δx_rp之值、伺服用雷射光之合焦位置的位移量誤差δx_sv之值、及光點位置偏誤Δx之值。
又，在圖12中作為比較，表示了若進行了不滿足本實施形態之倍率設定條件的倍率β_rp與倍率β_sv之設定時的結果。
在圖12的(a)中係表示了，面振量dz =300μm的情況下，關於倍率β_rp=30倍‧倍率β_sv=-10倍之組合與倍率β_rp=43倍‧倍率β_sv=-10倍之組合的散焦量δz_sv、及散焦Δz的計算結果。
又，在圖12的(b)中係表示了，透鏡平移量dx =100μm的情況下，關於倍率β_rp=30倍‧倍率β_sv=-10倍之組合與倍率β_rp=43倍‧倍率β_sv=-10倍之組合的合焦位置位移量誤差δx_rp、δx_sv、及光點位置偏誤Δx的計算結果。
首先在圖11中，如圖示，此時的錄再用雷射光的倍率β_rp之範圍，係為43.868～-30.884。相對於此，伺服用雷射光的倍率β_sv係為-58.902～132.336。因此可知，伺服用雷射光的倍率β_sv，是落在錄再用雷射光的倍率β_rp之範圍內。
藉由如此使倍率β_sv落在倍率β_rp之範圍內，如圖11的(b)所示，光點位置偏誤Δx係為，層位置300μm=3.978μm、層位置250μm=2.086μm、層位置200μm=0.136μm、層位置150μm=1.880μm、層位置100μm=3.994μm。
其結果為，相較於圖12的(b)所示的β_rp=30、β_sv=-10之時的Δx=13.33 μm，以及β_rp=-43、β_sv=-10之時的Δx=7.67 μm，是大幅縮小。
又，在本實施形態中，是將光學系設計成滿足之前[式12]所示的條件。
藉此，如圖11的(a)所示，作為聚焦方向上之資訊記錄位置p-rec之偏誤的散焦Δz係為，層位置300μm=0.156μm、層位置250μm=0.041μm、層位置200μm=0.000μm、層位置150μm=-0.068μm、層位置100μm=-0.315μm。
其結果為，相較於圖12的(a)所示的β_rp=30、β_sv=-10之時的Δz=0.337μm，以及β_rp=-43、β_sv=-10之時的Δz=-0.164μm，是較為縮小。
[1-5.DOE的第2功用]
此處，在本實施形態中，作為體積型記錄媒體1，是使用基準面Ref被設置在比體積層5上層側為前提，但以如此把基準面Ref設在體積層5之上層側的體積型記錄媒體1為對象的時候，就必須要插入DOE32。
這是因為，若無DOE32，則無法滿足使伺服用雷射光的倍率β_sv落在錄再用雷射光之倍率β_rp之範圍內的此一條件。
圖13係例示了，對接物透鏡20，錄再用雷射光(實線)與伺服用雷射光(虛線)一起以平行光而入射之狀態下，各光的焦點位置。
通常，作為接物透鏡20的折射率，係相較於對錄再用雷射光(波長=405nm左右)之折射率，伺服用雷射光(波長=650nm左右)之折射率較小。因此，如圖13所示，伺服用雷射光的焦點位置，係被形成在比錄再用雷射光的焦點位置更為深側(下層側)。
像這樣把伺服用雷射光的焦點位置設在比較深側，因此為了使該當伺服用雷射光合焦於比體積層5上層側的基準面Ref(亦即合焦於比錄再用雷射光的合焦位置上層側)，必須要使入射至接物透鏡20的伺服用雷射光之收束角，大於錄再用雷射光之收束角。
由此事也可理解，當基準面Ref是被設在體積層5的上層側時，若沒有使伺服用雷射光收束的DOE32，則無法滿足使伺服用雷射光的倍率β_sv落在錄再用雷射光之倍率β_rp之範圍內的此一條件。
亦即，換言之，若依據有設置DOE32的本實施形態，則對應於把基準面Ref設在體積層5之上層側的體積型記錄媒體1當作對象之情形，可以滿足使伺服用雷射光的倍率β_sv落在錄再用雷射光之倍率β_rp之範圍內的此一條件。
＜2.第2實施形態＞
接著說明第2實施形態。
第2實施形態的記錄再生裝置(光學驅動裝置)，係對第1實施形態的記錄再生裝置，再賦予用來抑制接物透鏡20之透鏡平移所帶來的產生在錄再用雷射光側的彗星像差之發生的機能。具體而言，是用來抑制，錄再用雷射光不是以平行光之狀態入射至接物透鏡20時，在該當錄再用雷射光中所產生的彗星像差。
此外，在第2實施形態中也是，對象之光記錄媒體係和第1實施形態的體積型記錄媒體1相同，因此省略重複說明。
圖14係第2實施形態的記錄再生裝置(光學驅動裝置)所具備之光學拾取器的內部構成之圖示(體積型記錄媒體1也一併圖示)。
此外，關於第2實施形態的記錄再生裝置中的光學拾取器OP以外之部分的構成，係和之前參照圖4所說明過的第1實施形態之記錄再生裝置10的情形相同，因此省略重複圖示的說明。
又，於第2實施形態中，已經在第1實施形態中說明過的部分，係標示同一符號並省略說明。
圖14中，此時的光學拾取器OP，係與圖2所示的光學拾取器OP中的錄再光用聚焦機構15所涉及之部分、和伺服光用聚焦機構28所涉及之部分，有所變更。
具體而言，此時，準直透鏡14與凹透鏡16係被省略，然後設有固定透鏡50。如圖示，此時，透鏡驅動部17係被構成為，會驅動著凸透鏡18。
又，關於伺服用雷射光側，係省略了準直透鏡27與凹透鏡29，然後由透鏡驅動部30來驅動凸透鏡31。
在第2實施形態中，如上述，將固定透鏡50插入至，從錄再用雷射光之光源亦即錄再用雷射11至接物透鏡20為止的光路中，然後藉由該當固定透鏡50來產生所定量的球面像差。
又，同時，在第2實施形態中，係使從接物透鏡20至錄再用雷射光的焦點位置為止之間的光路中產生所定量的球面像差，藉此，錄再用雷射光不是以平行光之狀態入射至接物透鏡20之際，可謀求該當錄再用雷射光中所產生的彗星像差之抑制。
圖15係第2實施形態中的彗星像差抑制手法的說明圖。
例如如圖15所示，藉由固定透鏡50，使錄再用雷射11至接物透鏡20為止之光路中產生W40的球面像差，使從接物透鏡20至錄再用雷射光的焦點位置(圖中fp)為止之光路中，產生-W40的球面像差。
此外，從接物透鏡20至焦點位置fp為止之光路中的-W40之球面像差，係藉由調整接物透鏡20的走行距離(Working Distance：以下亦簡稱為WD)，亦即從接物透鏡20至體積型記錄媒體1之表面為止的距離，就可產生之。
當接物透鏡20的透鏡平移量是零的時候，上記各個球面像差就可彼此抵消。
相對於此，若接物透鏡20發生了例如距離S的透鏡平移，則如圖所示，從錄再用雷射11至接物透鏡20為止的光路中所產生的球面像差與從接物透鏡20至焦點位置fp為止的光路中所產生的球面像差，會發生偏誤。
在第2實施形態中，由於此種球面像差之偏誤而產生彗星像差，藉由該當彗星像差，錄再用雷射光不是以平行光之狀態入射至接物透鏡20之際，可謀求該當錄再用雷射光中所產生的彗星像差之抑制。
圖16～圖19、及圖21，係藉由上記手法而謀求彗星像差之抑制之後所設定的具體之光學系的設計值的說明圖。
首先，圖16係接物透鏡20的具體設計值的說明圖。
作為接物透鏡20，係使用玻璃材料，透鏡直徑係為3.2mm，第1面至第3面的距離、亦即光軸上的透鏡厚度係為2.3mm。又，從第1面頂點至STO(光圈)面亦即第2面，係為0.5mm。有效焦距係為1.62mm。
此處，圖中的第4面係為體積型記錄媒體1的表面，從該當第4面至第3面為止的距離係意味著上述的WD。
如以下圖17所示，在本例的情況中，WD係相對於錄再用雷射光所做之記錄位置(圖中藍色系記錄深度)的0.05mm～0.30mm之範圍，設定為0.475mm～0.427mm。
以下表示了接物透鏡20的具體設計例。
面數據
非球面數據
第1面
K=0.0000,A2=6.033061E-02,A4=4.110059E-03,A6=1.577992E-04,A8=3.361266E-04
第3面
K=0.0000,A2=-3.130214E-01,A4=2.320173E-01,A6=-2.841429E-01,A8=1.483011E-01
又，關於凹透鏡18，係令其光源側(錄再用雷射11側)的面為第1面，相反側的面(接物透鏡20側的面)為第2面，而設計如下。
面數據
非球面數據
第1面
K=0.0000,A2=-9.312825E-06,A4=-1.015113E-05
第2面
K=0.875969,A2=4.279362E-04,A4=4.787842E-06
又，關於固定透鏡50，係同樣地令其光源側的面為第1面，相反側的面為第2面，而設計如下。
面數據
非球面數據
第2面
A2=5.0017045E-03,A4=-1.0916955E-03,
A6=1.3797693E-3
又，圖18係第2實施形態中的伺服用雷射光側的設計例的說明圖，具體而言，是模式性圖示了伺服用雷射光的光路中所配置的伺服用雷射24、凸透鏡31、DOE32、接物透鏡20之關係。
首先，關於DOE32之厚度，係如圖所示般地設定0.5mm。又，從接物透鏡20之第1面頂點至DOE32為止的距離係為2.5mm。
又，如圖所示，令凸透鏡31的光源側的面為第1面，其相反側的面為第2面時，該當凸透鏡31的設計例係如以下。
面數據
非球面數據
第1面
K=0.0000
第2面
K=-0.87200
此處，在第2實施形態中，係給予DOE32把伺服用雷射光加以收束之機能，並且還給予了對伺服用雷射光的球面像差補正機能。
由之前圖6的(a)～(c)的說明也可理解，在實施形態中，藉由使接物透鏡20的WD改變，以抑制接物透鏡20的主平面Som與錄再用雷射光的合焦位置之間的距離Do-rp之變化，謀求錄再用雷射光的像差性能之提升。然而，隨著WD改變，如參照圖6的(a)～(c)可知，針對伺服用雷射光的主平面Som-合焦位置間的距離(以下稱作距離Do-sv)就會跟著變化。亦即，起因於此種距離Do-sv之變化，而會導致伺服用雷射光側的像差性能之惡化。
為了防止這點，在第2實施形態中，係還對DOE32賦予了針對伺服用雷射光的球面像差補正機能。
圖19係為了藉由DOE32而實現針對伺服用雷射光之收束機能與球面像差補正機能之雙方，DOE32所應給予伺服用雷射光的相位差之樣態(相應於半徑位置R的相位差)的說明圖。
圖19的(a)係連同僅實現球面像差補正機能時所應給予伺服用雷射光的相位差之樣態的模擬結果(上段)，一起圖示出DOE32通過前/後之伺服用雷射光的波面變化之樣子(下段)。
又，圖19的(b)係圖示，實現球面像差補正機能與收束機能時所應給予伺服用雷射光的相位差之樣態的模擬結果(上段)，以及DOE32通過前/後之伺服用雷射光的波面變化之樣子(下段)。
本例中，係為了以圖19的(b)所示之樣態而對伺服用雷射光賦予相位差，而設定了DOE32的凹凸圖案(參照圖9)的形成間距(週期)或形成圖案。
因此，藉由本例的DOE32，就可貴現伺服用雷射光收束機能與針對伺服用雷射光之球面像差補正機能兩者。
圖20係上記所說明之使用本例的DOE32時之效果的說明圖。
圖20的(a)係為了做比較而圖示了，作為DOE32採用只有收束機能時，對其透鏡平移量(mm)之波面像差(WFA：wave-rms單位)的模擬結果。
然後，圖20的(b)係圖示了，和使用了上記所說明的第2實施形態之DOE32時相同的結果。
於這些圖20的(a)(b)中，◆之記號係表示錄再用雷射光所做的記錄深度為0.05mm時的結果，■之記號係表示錄再用雷射光所做的記錄深度為0.15mm時的結果。又，▲之記號係表示錄再用雷射光所做的記錄深度為0.3mm時的結果。
此處，若考慮體積型記錄媒體1上實際可能發生的偏芯的發生量，用來追隨該當偏芯所致之軌道之位移所需的接物透鏡20之透鏡平移量的最大值，係可大致預估為0.1mm左右。其中，若考慮2軸致動器21等之誤差所致之幅度，則必須要想定透鏡平移量的最大值是0.15mm左右。
若以該透鏡平移量=0.15mm為基準來看，則未對DOE32賦予球面像差補正機能的圖20的(a)的情況下，當記錄深度=0.3mm時，波面像差就會超過相當於馬雷夏基準像差(Marechal Criterion)的0.07wave-rms。
相對於此，圖20的(b)所示的本例之情況係可確認到，相較於圖20的(a)，在記錄深度為0.05mm時、0.15mm時、0.3mm時的全部情況中，波面像差係有被改善，而且在這些全部情況中，透鏡平移量為0.30mm以下之範圍內的波面像差，係可抑制成小於0.07wave-rms。
根據此結果可以理解，若依據第2實施形態的DOE32，則針對伺服用雷射光的波面像差，係可良好抑制。
接著，藉由圖21，說明第2實施形態中所設定之關於錄再用雷射光之倍率β-rp(圖21的(a))與關於伺服用雷射光之倍率β-sv(圖21的(b))。
此外，這些圖21的(a)(b)中，在表示錄再用雷射光所做的記錄深度之範圍=0.05mm～0.3mm所對應的各倍率β之範圍時，是使用了倍率β的倒數(1/β-rp,1/β-sv)。
在圖21的(a)中，此時的記錄深度0.05mm～0.3mm之範圍所相對的錄再用雷射光之倍率β-rp之範圍，大約為-34.5～34.5(1/β-rp=-0.029左右～0.029左右)。
又，在圖21的(b)中，對相同記錄深度之範圍的伺服用雷射光之倍率β-sv之範圍，大約為125.0～-50.0(1/β-sv=0.008左右～-0.02左右)。
可以理解，藉由如此各倍率β的設定值，在第2實施形態中，伺服用雷射光的倍率β-sv也是落在錄再用雷射光的倍率β-rp之範圍內。
又，和第1實施形態的情況同樣地，若面振的最大量D=300μm，則可知藉由第2實施形態，也是可以滿足之前的[式12]。亦即，即使藉由第2實施形態，也可將記錄動作中的面振所造成的錄再用雷射光之散焦Δz的發生量，抑制在焦點深度以下的如此非常小的值。
此外，在如上記所說明的第2實施形態中，雖然例示了，關於錄再用雷射光的彗星像差之抑制時，從錄再用雷射11至接物透鏡20為止的光路中所應產生的球面像差，是以固定透鏡50來令其產生的情形，但從錄再用雷射11至接物透鏡20為止之光路中的球面像差，係亦可藉由例如液晶元件或擴束器等其他手段來產生之。
＜3.第3實施形態＞
圖22係作為第3實施形態的光學驅動裝置(記錄再生裝置)所具備之光學拾取器OP之一部分予以抽出之圖示(體積型記錄媒體1’也一併圖示)。
此外，和第2實施形態同樣地，光學拾取器OP以外之部分的構成是和第1實施形態的記錄再生裝置10相同，因此省略重複圖示的說明。
又，於第3實施形態中，目前為止已經說明過的部分，係標示同一符號並省略說明。
第3實施形態的記錄再生裝置，係對應於基準面Ref是對體積層5之下層側設置的體積型記錄媒體1’，進行記錄/再生。
圖23的(a)係模式性圖示體積型記錄媒體1’的剖面構造。
如該圖23的(a)所示，在體積型記錄媒體1’中，係在覆蓋層2的下層側，形成有體積層5，對體積層5的下層側，隔著作為中間層4’的接著材料而形成了具有基準面Ref的反射膜。
此外，雖然省略圖示的說明，但此時的基準面Ref，係在形成有作為位置引導子的例如凹坑列或凹軌列的基板上，將上記反射膜予以成膜而被形成。如此，在已被成膜有反射膜的基板上，隔著上記中間層4’而形成(接著)了體積層5。
此處，此情況下的形成基準面Ref的上記反射膜，係沒有必要具備波長選擇性。為了避免誤解而說明，在本例中係由於對錄再用雷射光之波長(405nm左右)與伺服用雷射光之波長(650nm左右)賦予了充分的差異，因此伺服用雷射光通過體積層5內所造成的影響(例如記錄性能之降低等)係為極低。
如圖23的(a)所示，此時的基準面Ref，係被設定在從體積型記錄媒體1’之表面起算深度420μm的位置。
此外，此情況下也是，體積層5內的最下層側的資訊記錄層位置L，係被設定在深度300μm之位置。
此處，使伺服用雷射光對體積層5的下層側所被形成的基準面Ref進行合焦的第3實施形態的記錄再生裝置中，取代了具有使伺服用雷射光之光束選擇性收束之機能的DOE32，改為設置了具有使伺服用雷射光之光束選擇性發散之機能的DOE32’(圖22)。
這是因為，當基準面Ref是被形成在體積層5的下層側時，與第1、第2實施形態相反地，是藉由使入射至接物透鏡20的伺服用雷射光之光束更為發散，以謀求關於伺服用雷射光的視野振動容忍度之提升。
作為DOE32’，為了使其具備針對伺服用雷射光的發散機能，係使該當DOE32’的凹凸圖案之設定(形成間距或形成圖案)與DOE32不同。具體而言，關於DOE32’的凹凸圖案係為，會使伺服用雷射光之光束被選擇性發散所定量，而設定其形成間距或形成圖案(也包含1step份的深度d之設定)。
圖23的(b)，係第3實施形態的記錄再生裝置中的伺服用雷射光之倍率β-sv的設定例的說明圖。具體而言，在圖23的(b)中，係將錄再用雷射光所做的記錄深度=0.05mm～0.3mm之範圍所對應的倍率β-sv之範圍，以該當倍率β-sv的倒數來表示。
此處，錄再用雷射光的倍率β-rp之範圍的圖示省略的原因是，此情況的倍率β-rp之範圍是和第2實施形態的情況相同。
又，在第3實施形態中，關於接物透鏡20的折射率係為，對錄再用雷射光(405nm)的折射率=1.78007，對伺服用雷射光(660nm)的折射率=1.75035。又，至於WD係設定成0.4288mm～0.4739mm。
如圖23的(b)所示，在第3實施形態中，記錄深度=0.05mm～0.3mm之範圍所對應之倍率β-sv，係設定成大約為62.5～-71.4(1/β-sv=0.016左右～-0.014左右)。
可知此倍率β-sv之範圍，係落在倍率β-rp之範圍(約-34.5～34.5)內。
又，在第3實施形態中也是，對於面振的最大量D=300μm，有滿足之前的[式12]。
＜4.第4實施形態＞
圖24係第4實施形態的光學驅動裝置(記錄再生裝置)所具備之光學拾取器OP之一部分予以抽出之圖示(體積型記錄媒體1’也一併圖示)。
此外，第4實施形態中也是，光學拾取器OP以外之部分的構成是和第1實施形態的記錄再生裝置10相同，因此省略重複圖示的說明。
又，於第4實施形態中，目前為止已經說明過的部分，係標示同一符號並省略說明。
第4實施形態，係和第3實施形態同樣地，是以基準面Ref被形成在體積層5之下層側的體積型記錄媒體1’為對象而進行記錄/再生，但省略了DOE32’，這點是和第3實施形態不同。
此處，於之前的圖13中說明了，因為接物透鏡20的折射率之關係，伺服用雷射光的焦點位置是被形成在比錄再用雷射光的焦點位置更為深側(下層側)，但若依據此事，當基準面Ref是被形成在比體積層5下層側時，則為了使倍率β-sv落在倍率β-rp之範圍內，就沒有必要像是第3實施形態那樣特別設置使伺服用雷射光之光束發散的DOE32’。
根據這點，第4實施形態的記錄再生裝置中，係省略了第3實施形態之記錄再生裝置中所設置的DOE32’。
＜5.變形例＞
以上雖然說明本發明的實施形態，但作為本發明係不應被限定於目前為止所說明的具體例。
例如，關於倍率β之設定值係不應限定於目前為止的例子，只要在本發明的範圍內，隨著實際的實施形態來設定被認為最適宜的值即可。
又，雖然例示了體積層5內所設定的資訊記錄層位置L的數目是20的情形，但資訊記錄層位置L的數目並不應被限定如此。
又，在目前為止的說明中，再生時的錄再用雷射光的聚焦控制，係基於該錄再用雷射光的來自已記錄標記列之反射光，控制接物透鏡20而進行之，但於再生時亦可設計成和記錄時同樣地，基於伺服用雷射的來自基準面Ref之反射光來進行接物透鏡20的聚焦控制，使用錄再光用聚焦機構15來進行錄再用雷射光的聚焦控制。
此處，在如此於再生時也是進行和記錄時同樣之聚焦控制的情況下，在再生時，隨著相應於面振之散焦Δz，而會發生對已記錄標記列的錄再用雷射光之合焦位置之偏誤，有可能會因此而導致無法適切進行資訊再生。然而，若依照之前[式12]所示的本實施形態的倍率β_rp、β_sv之設定，則可和記錄時同樣地使散焦Δz被抑制在焦點深度以內這種非常小的值(亦即可視作錄再用雷射光是被合焦於再生對象之標記列的狀態是可以維持下去)，因此可不受面振左右而進行適切的資訊再生。
又，在目前為止的說明中，雖然例示了，把完全不具備位置引導子或形成其之反射膜的具有如此記錄層(體積狀記錄層)的體積型記錄媒體1(1’)當作記錄/再生對象之情形，但本發明係亦可理想適用於，作為記錄層，是在其內部的複數層位置上形成有記錄膜(半透明記錄膜)之具有多層構造之記錄層的光記錄媒體(多層光記錄媒體)為對象的情形。
具體而言，該多層光記錄媒體的上記記錄層中所被形成的記錄膜上，沒有形成凹坑列或凹軌等所成的位置引導子，如此一來，可謀求記錄媒體的製造工程之簡略化，可謀求製造成本之削減。
在針對此種多層光記錄媒體進行記錄時，關於錄再用雷射光的循軌伺服控制，係基於伺服用雷射光的來自基準面Ref之反射光，使得該當伺服用雷射光的焦點位置會追隨於被形成在基準面Ref之位置引導子，而控制接物透鏡20之位置，藉此而進行之。
此外在此情況下，於記錄時也是可由上記記錄膜得到錄再用雷射光的反射光，因此記錄時的關於錄再用雷射光之聚焦伺服控制，係亦可基於該當錄再用雷射光的反射光而進行之。
又，在目前為止的說明中，雖然例示了，錄再用雷射光與伺服用雷射光各自的反射光是在裝置側被獨立受光，設置雙色稜鏡19，利用各個光的波長差異來進行分割的手法，但亦可取而代之，改為採用，例如，利用p偏光/s偏光等偏光方向之差異來進行分光之構成等，以其他手法來進行分光。
又，在目前為止的說明中，雖然例示了對記錄層的記錄光、與用來再生記錄層中所被記錄之訊號所需的再生光，是從同一光源(錄再用雷射11)所獲得之構成，但亦可為這些記錄光與光源之光源係亦可個別具備的構成。
又，在目前為止的說明中，雖然例示了適用於會對進行記錄層之標記記錄與記錄標記之再生雙方的記錄再生裝置的情形，但本發明係對於，僅對記錄層進行標記記錄的記錄裝置(記錄專用裝置)、或僅進行已被記錄之標記的再生的再生裝置(再生專用裝置)，也能理想適用。
1,1'．．．體積型記錄媒體
2．．．覆蓋層
3．．．選擇反射膜
Ref．．．基準面
4,4'．．．中間層
5．．．體積層
L．．．資訊記錄層位置
OP．．．光學拾取器
10．．．記錄再生裝置
11．．．錄再用雷射
12,25．．．偏光分束器
13,26．．．1/4波長板
14,27．．．準直透鏡
15．．．錄再光用聚焦機構
16,28．．．凹透鏡
17,30．．．透鏡驅動部
18,31．．．凸透鏡
19．．．雙色稜鏡
20．．．接物透鏡
21．．．2軸致動器
22,33．．．柱面透鏡
23．．．錄再光用受光部
24．．．伺服用雷射
32,32'．．．DOE
34．．．伺服光用受光部
35．．．記錄處理部
36．．．錄再光用矩陣電路
37．．．再生處理部
38．．．錄再光用伺服電路
39．．．伺服光用矩陣電路
40．．．位置資訊偵測部
41．．．伺服光用伺服電路
42．．．控制器
50．．．固定透鏡
100．．．體積型記錄媒體
101．．．覆蓋層
102．．．體積層
103．．．選擇反射膜
104．．．中間層
L1．．．第1資訊記錄層位置
L2．．．第2資訊記錄層位置
L3．．．第3資訊記錄層位置
L4．．．第4資訊記錄層位置
L5．．．第5資訊記錄層位置
[圖1]第1實施形態中作為記錄/再生對象之光記錄媒體的剖面構造圖。
[圖2]第1實施形態的光學驅動裝置所具備之光學拾取器的內部構成之圖示。
[圖3]使用錄再光用聚焦機構的合焦位置調整手法的說明圖。
[圖4]實施形態的光學驅動裝置之全體內部構成之圖示。
[圖5]未設置伺服光用聚焦機構時的問題點的說明圖。
[圖6]伺服光用聚焦機構所致之作用的說明圖。
[圖7]DOE中的1週期之凹凸圖案之形成例的說明圖。
[圖8]在設定了圖7所例示之落差的情況下，伺服用雷射光所被給予之相位差的例示圖。
[圖9]DOE之凹凸圖案之設定例之圖示。
[圖10]隨面振而在聚焦方向上的資訊記錄位置偏誤(Δz)的說明圖。
[圖11]倍率之設定例的說明圖。
[圖12]實施形態的不滿足倍率設定條件時的說明圖。
[圖13]對接物透鏡，錄再用雷射光與伺服用雷射光一起以平行光而入射之狀態下，各光的焦點位置之例示圖。
[圖14]第2實施形態的光學驅動裝置所具備之光學拾取器的內部構成之圖示。
[圖15]第2實施形態中的彗星像差抑制手法的說明圖。
[圖16]第2實施形態中的接物透鏡之具體設計值的說明圖。
[圖17]第2實施形態中所設定之接物透鏡之WD的說明圖。
[圖18]伺服用雷射光側的設計例的說明圖。
[圖19]為了實現針對伺服用雷射光之收束機能與球面像差補正機能之雙方，DOE所應給予伺服用雷射光的相位差之樣態的說明圖。
[圖20]使用第2實施形態的DOE時之效果的說明圖。
[圖21]第2實施形態中所設定之關於錄再用雷射光之倍率與關於伺服用雷射光之倍率的說明圖。
[圖22]第3實施形態的光學驅動裝置所具備之光學拾取器之一部分予以抽出之圖示。
[圖23]第3實施形態中作為記錄/再生對象的光記錄媒體之剖面構造、與第3實施形態中的伺服用雷射光之倍率之設定例的說明圖。
[圖24]第4實施形態的光學驅動裝置所具備之光學拾取器之一部分予以抽出之圖示。
[圖25]體積記錄方式的說明圖。
[圖26]微全像方式的說明圖。
[圖27]負片型微全像方式的說明圖。
[圖28]具備基準面的實際之體積型記錄媒體的剖面構造之例示圖。
[圖29]對體積型記錄媒體進行標記記錄時之動作的說明圖。
[圖30]用來進行體積型記錄媒體之記錄再生所需之光學系之概要的圖示。
[圖31]體積型記錄媒體再生時的伺服控制的說明圖。
[圖32]隨著碟片偏芯而在伺服用雷射光與錄再用雷射光中發生合焦位置偏誤(Δx)的說明圖。
1．．．體積型記錄媒體
Ref．．．基準面
11．．．錄再用雷射
12、25．．．偏光分束器
13、26．．．1/4波長板
14、27．．．準直透鏡
15．．．錄再光用聚焦機構
16、28．．．凹透鏡
17、30．．．透鏡驅動部
18、31．．．凸透鏡
19．．．雙色稜鏡
20．．．接物透鏡
21．．．2軸致動器
22、33．．．柱面透鏡
23．．．錄再光用受光部
24．．．伺服用雷射
29．．．凹透鏡
32．．．DOE
34．．．伺服光用受光部
Dex-rp、Dex-sv、FD、TD．．．驅動訊號
DT-sv．．．受光訊號
DT-rp．．．受光訊號
OP．．．光學拾取器
RCP．．．記錄脈衝

Claims (6)

  1. 一種光學拾取器，其特徵為，具備：光學系，其係具有接物透鏡和第1合焦位置調整部，該接物透鏡係對具有：基準面，其係具有位置引導子是被形成為螺旋狀或同心圓狀的反射膜、和記錄層，係被設在與上記基準面不同之層位置，藉由相應於光照射的標記形成而進行資訊記錄的光記錄媒體，照射用來進行以上記記錄層為對象之資訊之記錄或再生所需之第1光、和與上記第1光不同之第2光，而該第1合焦位置調整部係將透過了上記接物透鏡的上記第1光之合焦位置，藉由改變入射至上記接物透鏡的上記第1光的視準度而加以調整；和上記接物透鏡的聚焦機構；和上記接物透鏡的循軌機構；並且，上記光學系是被設計成，關於以從上記接物透鏡觀看的上記第2光之物點位置與上記接物透鏡之主平面之間的距離、和上記接物透鏡之主平面與上記第2光之合焦位置之間的距離之比率的方式而被定義的上記第2光之倍率，和以從上記接物透鏡觀看的上記第1光之物點位置與上記接物透鏡之主平面之間的距離、和上記接物透鏡之主平面與上記第1光之合焦位置之間的距離之比率的方式而被定義的上記第1光之倍率，使得上記第2光之倍率會落在隨著上記第1合焦位置調整部所致之合焦位置調整範圍而定的上記第1光之倍率 範圍內；在上記光學系中還設有：第2合焦位置調整部，係將透過了上記接物透鏡的上記第2光之合焦位置，藉由改變入射至上記接物透鏡的上記第2光的視準度而加以調整；上記光學系是被設計成，令藉由上記第1光之波長λ與上記接物透鏡對於上記第1光之開口數NA而定的上記第1光之焦點深度λ/NA2 為α、上記光記錄媒體的最大面振量的絕對值為D時，上記第1光之倍率β1 、上記第2光之倍率β2 係滿足：
  2. 如申請專利範圍第1項所記載之光學拾取器，其中，上記光學系是被設計成，藉由上記第1合焦位置調整部而把上記第1光之合焦位置調整在上記記錄層內的上限層位置之狀態下，上記第1光是以收束光的方式，入射至上記接物透鏡；藉由上記第1合焦位置調整部而把上記第1光之合焦位置調整在上記記錄層內的下限層位置之狀態下，上記第1光是以發散光的方式，入射至上記接物透鏡。
  3. 如申請專利範圍第1項所記載之光學拾取器，其中， 在上記光記錄媒體中，上記基準面是對上記記錄層的上層側而設置；上記上層側係為，上記第1光及第2光的入射側；在上記光學系中，設有繞射型光學元件，係使入射至上記接物透鏡20的上記第2光之光束，做所定量之收束。
  4. 如申請專利範圍第3項所記載之光學拾取器，其中，上記循軌機構係被構成為，將上記接物透鏡與上記繞射型光學元件做一體性驅動。
  5. 一種光學驅動裝置，其特徵為，具備：光學拾取器，其係具備：光學系，其係具有接物透鏡和第1合焦位置調整部，該接物透鏡係對具有：基準面，其係具有位置引導子是被形成為螺旋狀或同心圓狀的反射膜、和記錄層，係被設在與上記基準面不同之層位置，藉由相應於光照射的標記形成而進行資訊記錄的光記錄媒體，照射用來進行以上記記錄層為對象之資訊之記錄或再生所需之第1光、和與上記第1光不同之第2光，而該第1合焦位置調整部係將透過了上記接物透鏡的上記第1光之合焦位置，藉由改變入射至上記接物透鏡的上記第1光的視準度而加以調整；和上記接物透鏡的聚焦機構；和上記接物透鏡的循軌機構；並且，關於以從上記接物透鏡觀看的上記第2光之物點位置與上記接物透鏡之主平面之間的距離、和上記接物透鏡之主平面與上記第2光之合焦位置之間的距離之比率的方式而被定義的上記第2光之倍率， 和以從上記接物透鏡觀看的上記第1光之物點位置與上記接物透鏡之主平面之間的距離、和上記接物透鏡之主平面與上記第1光之合焦位置之間的距離之比率的方式而被定義的上記第1光之倍率，上記光學系是被設計成，使得上記第2光之倍率會落在，隨著上記第1合焦位置調整部所致之合焦位置調整範圍而定的上記第1光之倍率範圍內；和聚焦伺服控制部，係基於上記第2光的來自上記基準面之反射光來控制上記聚焦機構，使得上記第2光之合焦位置會追隨於上記基準面上；和循軌伺服控制部，係基於上記第2光的來自上記基準面之反射光來控制上記循軌機構，使得上記第2光之合焦位置會追隨於上記基準面上的上記位置引導子；和合焦位置設定控制部，係控制上記第1合焦位置調整部，以進行上記第1光之合焦位置的設定控制；在上記光學系中還設有：第2合焦位置調整部，係將透過了上記接物透鏡的上記第2光之合焦位置，藉由改變入射至上記接物透鏡的上記第2光的視準度而加以調整；上記光學系是被設計成，令藉由上記第1光之波長λ與上記接物透鏡對於上記第1光之開口數NA而定的上記第1光之焦點深度λ/NA2 為α、上記光記錄媒體的最大面振量的絕對值為D時，上記第1光之倍率β1 、上記第2光之倍率β2 係滿足：
  6. 一種光照射方法，係屬於一種光學拾取器中的光照射方法，該光學拾取器係具備：光學系，其係具有接物透鏡和第1合焦位置調整部，該接物透鏡係對具有：基準面，其係具有位置引導子是被形成為螺旋狀或同心圓狀的反射膜、和記錄層，係被設在與上記基準面不同之層位置，藉由相應於光照射的標記形成而進行資訊記錄的光記錄媒體，照射用來進行以上記記錄層為對象之資訊之記錄或再生所需之第1光、和與上記第1光不同之第2光，而該第1合焦位置調整部係將透過了上記接物透鏡的上記第1光之合焦位置，藉由改變入射至上記接物透鏡的上記第1光的視準度而加以調整；和上記接物透鏡的聚焦機構；和上記接物透鏡的循軌機構；該光照射方法的特徵係為，使用上記光學系來進行對上記光記錄媒體的光照射；該光學系是被設計成，關於以從上記接物透鏡觀看的上記第2光之物點位置與上記接物透鏡之主平面之間的距離、和上記接物透鏡之主平面與上記第2光之合焦位置之間的距離之比率的方式而被定義的上記第2光之倍率，和以從上記接物透鏡觀看的上記第1光之物點位置與上記接物透鏡之主平面之間的距離、和上記接物透鏡之主平面與上記第1光之合焦位置之間的距離之比率的方式而被定義的上 記第1光之倍率，使得上記第2光之倍率會落在隨著上記第1合焦位置調整部所致之合焦位置調整範圍而定的上記第1光之倍率範圍內；在上記光學系中還設有：第2合焦位置調整部，係將透過了上記接物透鏡的上記第2光之合焦位置，藉由改變入射至上記接物透鏡的上記第2光的視準度而加以調整；上記光學系是被設計成，令藉由上記第1光之波長λ與上記接物透鏡對於上記第1光之開口數NA而定的上記第1光之焦點深度λ/NA2 為α、上記光記錄媒體的最大面振量的絕對值為D時，上記第1光之倍率β1 、上記第2光之倍率β2 係滿足：
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