TWI436052B

TWI436052B - 缺陷檢查裝置及缺陷檢查方法

Info

Publication number: TWI436052B
Application number: TW099125778A
Authority: TW
Inventors: Xiaodi Tan
Original assignee: Sony Corp
Priority date: 2009-09-04
Filing date: 2010-08-03
Publication date: 2014-05-01
Also published as: US8441651B2; TW201122465A; KR20110025602A; US20110058160A1; CN102012376A; CN102012376B; JP2011053176A; JP5560628B2

Description

缺陷檢查裝置及缺陷檢查方法

本發明係關於一種用於偵測一量測物件(諸如，一光學膜)之一缺陷之缺陷檢查裝置且亦係關於一種由該缺陷檢查裝置選用之缺陷檢查方法。

近年來，一液晶顯示裝置作為表示電視接收機組及PC(個人電腦)之一顯示裝置已變得極普遍。該液晶顯示裝置採用各種光學膜中之一者來充當一偏光板之表面。該等光學膜之一主要實例係一TAC(三乙醯基纖維素)膜。一般而言，該光學膜(諸如，TAC膜)係撓性且易受損害。因此，如圖13中所示，通常在一TAC膜15上形成一硬塗佈層16以便改良能抵抗可造成損害之撞擊之特性。如圖14A中所示，在充當起始膜之TAC膜15之表面上沿稱為一移動方向之一方向敷設一硬塗佈層16。為在TAC膜15之表面上敷設一硬塗佈層16，使用一塗佈區段(諸如，一刮刀110)來將一硬塗佈材料連續地施加至TAC膜15之表面。當施加至TAC膜15之表面之該硬塗佈材料變硬時，在TAC膜15之表面上形成一硬塗佈層16。

然而，雖然正將該硬塗佈材料連續地施加至TAC膜15之表面，但如圖14B中之一位置P處之一標記X所示，在某些情形下可堵塞該塗佈區段(諸如，刮刀110)之一部分。因此，如圖14B中所示，形成塗佈不均勻性以具有沿刮刀110在TAC膜15之表面上之移動方向定向之一線形狀。因此，在施加至TAC膜15之表面之該硬塗佈材料變硬之後，在某些情形下，可在敷設於TAC膜15之表面上之硬塗佈層16上留下具有一固定長度及沿刮刀110在TAC膜15之表面上之移動方向定向之一線形狀之一條紋。若將此一TAC膜15用於一偏光器件中，則採用該偏光器件之一液晶顯示裝置之顯示特性在某些情形下可受到不良影響以使得期望得到改良。

附帶地，已提出一種用以充當基於用於獲取一微結構上之資訊或一實體本體(諸如，一面板、一基板或一晶圓)之表面之結構上之資訊之一現存技術之一系統之系統。所提出系統利用用於將輻射至一量測物件之光之波表面分成兩個部分波表面且使該兩個部分波表面相互干涉之一共用干涉儀。針對關於所提出系統之更多資訊，建議讀者參考諸如日本專利特許公開案第2006-516737號(下文中稱為專利文件1)等文件。

另外，亦已提出一種欲用作用於偵測充當一量測物件之一光學膜之一缺陷之一方法之方法。根據所提出方法，藉由利用(通常)一CCD(電荷耦合器件)相機來拍攝該光學膜之一影像且藉由偵測色調變化或陰影變化來偵測該光學膜之一缺陷。針對關於所提出方法之更多資訊，建議讀者參考諸如日本專利特許公開案第2006-208196號(下文中稱為專利文件2)等文件。

然而，在上述專利文件1中所揭示之系統中，難以在一製造製程期間在沿一光學膜之寬度方向伸展之一寬範圍內偵測一缺陷之存在。另外，此系統利用用於基於由一量測物件之表面反射之光偵測該量測物件上之一缺陷之存在之一技術。專利文件1亦未闡述存在於具有一良好光透射特性之一光學膜上之一缺陷之偵測。具有一良好光透射特性之光學膜之一典型實例係上述TAC膜。

另外，根據上述專利文件2中所揭示之缺陷偵測方法，難以觀察正移動之一光學膜之一寬範圍。

處理上述問題，本發明之發明者已提出一種用於在關於一量測物件之一寬範圍內偵測一缺陷之缺陷檢查裝置且亦係關於一種由該缺陷檢查裝置選用之缺陷檢查方法。

為解決上述問題，根據本發明之一第一實施例，提供一種缺陷檢查裝置，該缺陷檢查裝置採用：一光源，其用於發射雷射光；一反射鏡群組，其用於將由該光源發射之入射雷射光之波表面分成複數個分量波表面、配置該等分量波表面以形成沿一個方向定向之一陣列且使該等分量波表面對準以在使該雷射光傳播穿過一移動量測物件之後形成一單個波表面；一干涉板，其用於將該單個波表面分成兩個部分波表面且利用該兩個部分波表面來形成一干涉條帶；一成像區段，其用於拍攝由該干涉板形成之該干涉條帶之一影像；及一分析區段，其用於基於已由該成像區段拍攝作為該干涉條帶之該影像之隨時間過去該影像之變化來偵測存在於該移動量測物件之表面上之一缺陷。

為解決上述問題，根據本發明之一第二實施例，提供一種偵測檢查方法，該方法包含以下步驟：驅動一光源以發射雷射光；驅動一反射鏡群組以將由該光源發射之入射雷射光之波表面分成複數個分量波表面、配置該等分量波表面以形成沿一個方向定向之一陣列且使該等分量波表面對準以在使該雷射光傳播穿過一移動量測物件之後形成一單個波表面；將該單個波表面分成兩個部分波表面且利用該兩個部分波表面來形成一干涉條帶；拍攝所形成干涉條帶之一影像；及基於該干涉條帶之所拍攝影像隨時間過去之變化來偵測存在於該移動量測物件之表面上之一缺陷。

如上所述，根據本發明之第一及第二實施例，該光源用於發射雷射光而該反射鏡群組用於將由該光源發射之入射雷射光之波表面分成複數個分量波表面、配置該等分量波表面以形成沿一個方向定向之一陣列且使該等分量波表面對準以在使該雷射光傳播穿過一移動量測物件之後形成一單個波表面。當使其波表面分成該等分量波表面之該雷射光行進穿過該移動量測物件時，該雷射光之該波表面可因可能存在於該量測物件之表面上之一缺陷而起皺。然後，在該雷射光已行進穿過該移動量測物件之後，該反射鏡群組使該等分量波表面對準以形成一單個波表面。然後，該干涉板用於將該單個波表面分成兩個部分波表面且利用該兩個部分波表面來形成一干涉條帶。隨後，該成像區段用於拍攝由該干涉板形成之該干涉條帶之一影像。最後，該分析區段用於基於已由該成像區段拍攝作為該干涉條帶之影像隨時間過去該影像之變化來偵測存在於該移動量測物件之表面上之一缺陷。因此，可能在沿該量測物件之寬度方向延伸之一寬範圍內偵測存在於該移動量測物件之表面上之一缺陷。

如上所述，根據本發明，可能在沿該量測物件之寬度方向伸展之一寬範圍內偵測一量測物件之一缺陷。

藉由參考圖示在配置如下之章節中闡釋本發明之較佳實施例。

1：偵測一光學膜上之缺陷之原理

2：第一實施例(採用第一及第二反射鏡群組之實施例)

3：第二實施例(亦採用第三及第四反射鏡群組之實施例)

1：偵測一光學膜上之缺陷之原理

首先，為使對本發明之實施例之闡釋易於理解，以下說明闡釋透過使用一共用干涉儀偵測存在於一光學膜10上之一缺陷之原理

[缺陷檢查裝置之組態]

圖1係顯示一缺陷檢查裝置1之一典型組態之一圖。如圖1中所示，缺陷檢查裝置1採用一光源2、一光束擴展器3、一楔板4、一反射鏡5、一影像形成透鏡6、一成像區段7及一分析區段8。將充當量測物件之一光學膜10放置於楔板4與反射鏡5之間。光學膜10通常包含諸如一TAC膜15之一光學膜及形成於TAC膜15上之另一光學膜(諸如，一硬塗佈層16)。

光源2向光束擴展器3發射充當相干光之雷射光。光束擴展器3將來自光源2之入射雷射光之波表面擴展至預先確定之一量級。然後，光束擴展器3將該雷射光作為平行雷射光光束引導至楔板4。

藉由沿相對於來自光束擴展器3之入射雷射光光束之方向傾斜以結合雷射光光束之方向形成預先確定之一角之一方向定向來提供楔板4。楔板4將來自光束擴展器3之該等雷射光光束透射至用於反射該等雷射光光束之反射鏡5。楔板4亦將由反射鏡5反射之雷射光之波表面(一所偵測波表面)分成兩個部分波表面、提供該兩個部分波表面之間的一空間位移且使該兩個部分波表面相互干涉。

圖2A係顯示楔板4之一典型形狀之一圖。如圖2A中所示，楔板4具有一楔形狀。更具體而言，楔板4具有相互面對之第一表面S1及第二表面S2。使第二表面S2相對於第一表面S1傾斜，從而結合第一表面S1形成一預定角α。

在具有此一組態之楔板4中，自反射鏡5反射之該雷射光之一部分由第一表面S1反射至影像形成透鏡6。另一方面，自反射鏡5反射之該雷射光之剩餘部分未由第一表面S1反射至影像形成透鏡6。替代地，自反射鏡5反射之該雷射光之剩餘部分傳播至楔板4之內側中且到達第二表面S2。然後，第二表面S2反射該雷射光之剩餘部分。

由楔板4自光束擴展器3透射之雷射光藉由充當一量測物件之光學膜10之方式傳播至反射鏡5。反射鏡5亦藉由光學膜10之方式將該雷射光反射回至楔板4。反射鏡5係垂直於來自楔板4之雷射光之入射方向地安置，藉此反射該入射雷射光。

影像形成透鏡6在成像區段7上形成已藉由楔板4形成之一干涉條帶作為一影像。成像區段7通常係一CCD(電荷耦合器件)相機。成像區段7拍攝已由影像形成透鏡6形成於成像區段7中所採用之成像器件上之干涉條帶之一影像。該等成像器件之一典型實例係CCD(電荷耦合器件)。成像區段7將該干涉條帶之影像作為影像資料供應至分析區段8。分析區段8藉由選用一預定演算法來分析作為該干涉條帶之資料自成像區段7接收之該影像資料以便偵測存在於光學膜10上之一缺陷。

[缺陷檢查裝置之操作]

以下說明闡釋由具有上述組態之缺陷檢查裝置1執行以便偵測存在於光學膜10上之一缺陷之典型操作。如上所述，光源2向光束擴展器3發射雷射光。光束擴展器3將該入射雷射光之波表面擴展至預先確定之一量級。然後，光束擴展器3將該雷射光作為平行雷射光光束引導至楔板4。楔板4將該雷射光透射至用於反射該雷射光之反射鏡5。由楔板4透射之該雷射光藉由光學膜10之方式傳播至反射鏡5。反射鏡5亦藉由光學膜10之方式將該雷射光反射回至楔板4。

圖2B係顯示楔板4反射雷射光之一圖。圖2C係顯示已由楔板4形成之一典型干涉條帶之一圖。如圖2B中所示，楔板4將由反射鏡5藉由光學膜10之方式反射回至楔板4之雷射光之波表面分成兩個部分波表面。更具體而言，自反射鏡5反射之雷射光之一部分作為具有該等部分波表面中之一者之雷射光由楔板4之第一表面S1反射至影像形成透鏡6。另一方面，自反射鏡5反射之雷射光之剩餘部分未由第一表面S1反射至影像形成透鏡6。而是，自反射鏡5反射之雷射光之剩餘部分傳播至楔板4之內側中且到達第二表面S2。然後，第二表面S2將已自反射鏡5反射之雷射光之剩餘部分作為具有另一部分波表面之雷射光反射至影像形成透鏡6。

如上所述，藉由將自反射鏡5到達楔板4之雷射光之波表面分成兩個部分波表面，在該兩個部分波表面之間產生一空間位移。然後，藉由將具有該兩個部分波表面中之一者之雷射光疊加於具有另一部分波表面之雷射光上，在成像區段7上形成一干涉條帶之一影像，如圖2C中所示。

圖2C係顯示針對其中光學膜10不具有一缺陷之一情形之一典型干涉條帶之部分波表面之一圖。一干涉條帶間距d可由下文給出之Ex.(1)表達。在此方程式中，參考符號α指示楔板4之楔角而參考符號λ指示雷射光之波長。

由楔板4形成之干涉條帶作為一影像形成於然後將該影像轉換成一電信號之成像區段7中。成像區段7隨後將該電信號作為表示影像資料之一信號供應至分析區段8。最後，分析區段8藉由選用一預定演算法來分析作為該干涉條帶之資料自成像區段7接收之該影像資料以便偵測可存在於光學膜10上之一缺陷。

[光學膜上之缺陷之偵測]

藉由參考如下圖3A至3C之圖來闡釋由分析區段8選用之一典型缺陷偵測方法。圖3A係粗略地顯示產生於藉由在一TAC膜15之表面上形成一硬塗佈層16獲得之一光學膜10上之一典型缺陷之一說明性圖。以下說明闡釋用於偵測產生於硬塗佈層16上之一典型缺陷之一缺陷偵測方法。產生於硬塗佈層16上之該典型缺陷係具有一凹陷形狀之一條紋。如圖3A中所示，該凹陷具有沿相對於光學膜10之移動方向之水平方向定向之一寬度w及一深度t。然而，可由缺陷檢查裝置1偵測之一缺陷之形狀並不限於圖3A之說明性圖中所示之典型形狀。舉例而言，缺陷檢查裝置1亦能夠偵測係具有一突起形狀之一條紋之缺陷。

若光學膜10具有如同圖3A之說明性圖中所示之缺陷之一缺陷，則行進穿過該缺陷之雷射光之波表面自行進穿過除該缺陷以外之部分之光之波表面移位。在此情形中，如圖3B中所示，一波表面經形成而彎曲以在其之一部分上形成一突起。因此，該雷射光之波表面起皺。該彎曲波表面之曲率寬度a由EX.(2)表達如下。

a=2(n-1)t　...　(2)

以上方程式中使用之參考符號n及t指示以下量：

n：硬塗佈層16之折射率

t：形成於硬塗佈層16上之一缺陷之深度

如圖3B中所示，當由反射鏡5反射之雷射光作為具有此一波表面之雷射光到達楔板4時，自反射鏡5反射之入射雷射光之一部分作為具有該兩個部分波表面中之一者之雷射光由楔板4之第一表面S1反射至影像形成透鏡6。另一方面，自反射鏡5反射之雷射光之剩餘部分未由第一表面S1反射至影像形成透鏡6。而是，自反射鏡5反射之雷射光之剩餘部分傳播至楔板4之內側中且到達第二表面S2。然後，第二表面S2將已自反射鏡5反射之雷射光之剩餘部分作為具有另一部分波表面之雷射光反射至影像形成透鏡6。彼時，在兩個部分波表面(亦即，由楔板4之第一表面S1反射至影像形成透鏡6之雷射光之部分波表面與由楔板4之第二表面S2反射至影像形成透鏡6之雷射光之部分波表面)之間產生一空間位移。換言之，由第一表面S1反射之雷射光充當具有該兩個部分波表面中之一者之雷射光而由第二表面S2反射之雷射光充當具有另一部分波表面之雷射光。然後，藉由將具有該兩個部分波表面中之一者之雷射光疊加於具有另一部分波表面之雷射光上，在成像區段7上形成一干涉條帶之一影像，如圖3C中所示。

如上所述，當在光學膜10之硬塗佈層16上產生一條紋時，形成具有一波形狀之一干涉條帶。具有一波形狀之該干涉條帶具有一間距d及一位移Δd，該兩者與產生於形成於光學膜10上之硬塗佈層16上之條紋之深度t相關。產生於形成於光學膜10上之硬塗佈層16上之條紋之深度t由下文給出之Ex.(3)表達。在Ex.(3)中，參考符號d指示干涉條帶之間距、參考符號Δd指示干涉條帶之位移、參考符號n指示硬塗佈層16之折射率而參考符號λ指示雷射光之波長。

另外，下文給出之Ex.(4)表達產生於兩個部分波表面之間的一空間位移W。在Ex.(4)中，參考符號nw指示楔板4之折射率、參考符號h指示楔板4之厚度而參考符號θ指示由楔板4與入射於楔板4上之雷射光形成之入射角。應注意，在此典型表達式中，楔板4之厚度h係楔板4之高度之一平均值且產生於兩個部分波表面之間的空間位移W大於產生於形成於光學膜10上之硬塗佈層16上之條紋之寬度w。

如上所述，分析區段8藉由選用一預定演算法來分析作為該干涉條帶之資料自成像區段7接收之該影像資料以便偵測可或許存在於光學膜10上之一缺陷。舉例而言，若已在光學膜10上產生一缺陷，則該干涉條帶中形成之曲線之位移大於針對其中未在光學膜10上產生缺陷之一情形形成之曲線之位移。

在闡釋上述原理時使用之缺陷檢查裝置1中，由光束擴展器3擴展之雷射光波表面之寬度大致變成存在一缺陷之光學膜10之檢查之範圍。另一方面，亦稱為充當量測物件之起始膜之光學膜10之寬度通常具有一帶形狀。因此，缺陷檢查裝置1能夠僅檢查移動光學膜10之一小區域。

2：第一實施例

接下來，本發明之一第一實施例闡釋如下。在本發明之第一實施例中，反射鏡群組用於將雷射光之圓形波表面分成各自具有一大致矩形形狀之複數個分量波表面且該等分量波表面沿光學膜10之寬度方向配置以便允許在光學膜10之一寬範圍上偵測缺陷。

[光學膜]

首先，以下說明闡釋充當本發明之實施例中之量測物件之光學膜10。如先前所述，如圖13中所示，藉由在一TAC膜15之表面上形成一硬塗佈層16來獲得光學膜10。如圖14A(其係在闡述用以製造沒有缺陷產生之一光學膜之一製程時參考之一說明性圖)中所示，沿稱為一移動方向之一方向在充當起始膜之TAC膜15之表面上敷設一硬塗佈層16。為在TAC膜15之表面上輻射一硬塗佈層16，使用一塗佈區段(諸如，一刮刀110)來將一硬塗佈材料連續地施加至TAC膜15之表面。當施加至TAC膜15之表面之該硬塗佈材料變硬時，在TAC膜15之表面上形成一硬塗佈層16，從而形成光學膜10。

然而，雖然正將該硬塗佈材料連續地施加至TAC膜15之表面，但如圖14B(其係在闡述用以製造有一缺陷產生之一光學膜之一製程時參考之一說明性圖)中由在一位置P處之一標記X所示，在某些情形下可堵塞該塗佈區段(諸如，刮刀110)之一部分。因此，如圖14B中所示，形成塗佈不均勻性以具有沿刮刀110在TAC膜15之表面上之移動方向定向之一線形狀。因此，在施加至TAC膜15之表面之該硬塗佈材料變硬之後，在某些情形下，可在敷設於TAC膜15之表面上之硬塗佈層16上留下具有一固定長度及沿刮刀110在TAC膜15之表面上之移動方向定向之一線形狀之一條紋。

更具體而言，如圖14B中所示，使形成塗佈不均勻性以具有沿刮刀110在TAC膜15之表面上之移動方向定向之一線形狀。在此情形下，如圖4A中所示，在硬塗佈層16上留下具有沿刮刀110在TAC膜15之表面上之移動方向定向之一線形狀之一條紋作為硬塗佈層16之一部分上之一突起。作為一替代方案，如圖4B中所示，在硬塗佈層16上留下具有沿刮刀110在TAC膜15之表面上之移動方向定向之一線形狀之一條紋作為硬塗佈層16之一部分上之一凹陷。應注意，亦可將迄今給出之說明中使用之膜理解為一薄片膜。

[缺陷檢查裝置之組態]

圖5係粗略地顯示根據本發明之第一實施例之缺陷檢查裝置20之一典型組態之一圖。如圖5中所示，缺陷檢查裝置20採用一光源2、一光反射反射鏡11、一光束擴展器3、一楔板4、一第一反射鏡群組12、一第二反射鏡群組13、一影像形成透鏡6、一成像區段7及一分析區段8。在第一反射鏡群組12與第二反射鏡群組13之間放置充當量測物件之一光學膜10。光學膜10正以一固定速度沿自該繪製頁下方之一位置至該繪製頁上方之一位置之一方向(亦即，沿相對於該繪製頁之一向上方向)移動。作為一替代方案，光學膜10正以一固定速度沿自該繪製頁上方之一位置至該繪製頁下方之一位置之一方向(亦即，沿相對於該繪製頁之一向下方向)移動。應注意，缺陷檢查裝置20採用圖1之圖中所示之缺陷檢查裝置1中亦採用之共同元件。該等共同元件由與圖1之圖中使用之彼等參考編號相同之參考編號指示且未在以下說明中再次詳細闡釋以便避免詳細闡釋之重複。

使光反射反射鏡11傾斜以結合由光源2發射之雷射光入射於光反射反射鏡11上之方向形成預先確定之一角。光反射反射鏡11將由光源2發射之雷射光反射至光束擴展器3。

第一反射鏡群組12經組態以通常採用第一反射鏡12a至12d。反射鏡群組12將來自楔板4之入射雷射光之圓形波表面分成各自具有一大致矩形形狀之複數個分量波表面且沿光學膜10之寬度方向配置該等分量波表面。

圖6係粗略地顯示第一反射鏡12a至12d之一典型佈局之一圖。使第一反射鏡12a至12d各自傾斜以結合由楔板4發射之雷射光入射於第一反射鏡群組12上之方向形成預先確定之一角。第一反射鏡12d至12a係以在反射鏡之間逐步增加之距楔板4之距離放置。第一反射鏡12d至12a係以預先確定之間隔放置於亦隨其等距楔板4之距離在反射鏡之間逐步增加而逐步增加之高程處。換言之，自一第一反射鏡至楔板4之距離越長，該第一反射鏡之高程越高。因此，第一反射鏡12a至12d係放置於使第一反射鏡12a至12d相互不重疊之此等位置處。

圖7係顯示第一反射鏡12a至12d、到達第一反射鏡群組12之入射雷射光之欲由第一反射鏡12a至12d分裂之圓形波表面A與由第一反射鏡12a至12d輸出之雷射光之四個矩形波表面A1至A4之間的關係之一圖。入射於第一反射鏡群組12上之雷射光之圓形波表面A係自雷射光之入射側上之一位置觀看之雷射光之截面。如圖7之圖之頂部處所示，可將圓形波表面A視為由四個矩形波表面A1至A4組成之一波表面。如圖7中所示，如上所述佈置之第一反射鏡12a至12d藉由將該雷射光之圓形波表面A中囊括之四個矩形波表面A1至A4分成圖7之圖之右側上之底部處所示之四個矩形波表面A1至A4來反射入射雷射光。更詳細而言，在最接近於楔板4之一位置處提供之第一反射鏡12d反射作為具有矩形波表面A4之一雷射光光束之入射雷射光。同樣地，在相對接近於楔板4之一位置處提供之第一反射鏡12c然後反射作為具有矩形波表面A3之一雷射光光束之入射雷射光。以相同方式，在相對遠離楔板4之一位置處提供之第一反射鏡12b隨後反射作為具有矩形波表面A2之一雷射光光束之入射雷射光。同樣，在最遠離楔板4之一位置處提供之第一反射鏡12a最後反射作為具有矩形波表面A1之一雷射光光束之入射雷射光。

分別由第一反射鏡12a至12d反射以充當分別具有矩形波表面A1、A2、A3及A4之四個雷射光光束之四個雷射光光束在沿光學膜10之寬度方向相互毗鄰地分離之不同位置處行進穿過移動光學膜10。換言之，將入射於第一反射鏡群組12上之雷射光沿一個方向散佈成四個雷射光光束。因此，可加寬存在一缺陷之光學膜10之檢查之範圍。

第二反射鏡群組13經組態以通常採用先前所提及之第二反射鏡13a至13d。如圖6中所示，第二反射鏡13a至13係放置於分別對應於第一反射鏡12a至12d之高程處之高程處。另外，如圖5中所示，第二反射鏡13a至13d係各自沿垂直於分別由第一反射鏡12a至12d反射之入射雷射光光束之入射方向之一方向定向。因此，自第二反射鏡13a至13d反射之雷射光光束透過與分別來自第一反射鏡12a至12d之入射雷射光光束相同之路線分別傳播至第一反射鏡12a至12d。換言之，由於將入射於第一反射鏡群組12上之雷射光分裂而獲得之四個雷射光光束各自行進穿過光學膜10上之相同線兩次。

另外，將第一反射鏡12a至12d與結合第一反射鏡12a至12d形成反射鏡對之第二反射鏡13a至13d之間的距離設定為根據第一反射鏡12a至12d與楔板4之間的距離之值。換言之，將第一反射鏡12a至12d與第二反射鏡13a至13d之間的距離設定為使由楔板4發射之一雷射光光束在由第一反射鏡12a至12d及第二反射鏡13a至13d透過具有預先確定之一長度之一光學路徑反射之後返回至楔板4之此一值。

更具體而言，將放置於最遠離楔板4之一位置處之第一反射鏡12a與結合第一反射鏡12a形成一反射鏡對之第二反射鏡13a之間的距離設定為提供結合第一反射鏡12a與楔板4之間的距離預先確定之前述長度之一最小值。

同樣，將放置於最接近於楔板4之一位置處之第一反射鏡12d與結合第一反射鏡12d形成一反射鏡對之第二反射鏡13d之間的距離設定為提供結合第一反射鏡12d與楔板4之間的距離預先確定之前述長度之一最大值。

因此，來自楔板4之入射雷射光之波表面分別由第一反射鏡12a至12d分成四個雷射光光束之四個分量波表面。在四個雷射光光束行進穿過其等之各別光學路徑之後，分別由第二反射鏡13a至13d反射之四個雷射光光束再次分別到達第一反射鏡12a至12d。因此，四個雷射光光束之四個分量波表面再次對準成一個波表面。具有所對準波表面之雷射光由第一反射鏡群組12輻射回至楔板4。

如上所述，分別結合第二反射鏡13a至13d形成反射鏡對之第一反射鏡12a至12d用於將入射於第一反射鏡群組12上之雷射光之波表面分成(通常)四個分量波表面。然而，應注意，分量波表面之數目決不限於四個。換言之，期望適當地將分量波表面之數目設定為適合於充當量測物件之光學膜10之寬度之一值。舉例而言，可將雷射光之分量波表面之數目設定為並非四個之一適合值。

[缺陷檢查裝置之操作]

接下來，由缺陷檢查裝置20執行之操作闡釋如下。應注意，以下說明闡釋其中基於光學膜10之寬度確定量測之範圍且由楔板4發射之雷射光之波表面由第一反射鏡群組12分成八個分量波表面之一情形。然後，具有八個分量波表面之八個雷射光光束輻射至光學膜10。

詳細而言，由光源2發射之雷射光以光反射反射鏡11之方式傳播至光束擴展器3。光束擴展器3將該雷射光之波表面擴展至預先確定之一量級且將該雷射光作為平行雷射光光束輻射至楔板4。入射於楔板4上之雷射光行進穿過楔板4且傳播至第一反射鏡群組12。

如圖8中所示，入射於第一反射鏡群組12上之雷射光之波表面由第一反射鏡群組12之第一反射鏡12a至12h分成然後輻射至光學膜10之八個分量波表面。第一反射鏡12a至12h係以預先確定之間隔放置於亦隨其等距楔板4之距離逐步增加而逐步增加之高程處。因此，第一反射鏡12a至12h係放置於使第一反射鏡12a至12h相互不重疊之此等位置處。因此，由第一反射鏡12a至12h反射之雷射光光束沿光學膜10之寬度方向配置，從而加寬存在一缺陷之光學膜10之檢查之範圍。

應注意，在圖8之圖中所示之典型組態中，八個分量波表面中之任一特定一者與毗鄰於該特定分量波表面之一分量波表面稍微重疊。藉由將八個分量波表面中之任一特定一者稍微疊加於毗鄰於該特定分量波表面之一分量波表面上，即使一缺陷存在於光學膜10上任何兩個毗鄰分量波表面之間的一邊界上之一位置處，亦可偵測該缺陷。

由第一反射鏡12a至12h輻射至光學膜10之雷射光光束之分量波表面行進穿過光學膜10且分別到達第二反射鏡13a至13h。由於第二反射鏡13a至13h係沿垂直於入射於第二反射鏡群組13上之雷射光光束之入射方向之一方向配置，因此入射於第二反射鏡群組13上之雷射光光束之分量波表面由第二反射鏡13a至13h反射且透過與入射於第二反射鏡群組13上之雷射光光束之分量波表面相同之光學路徑分別返回至第一反射鏡12a至12h。隨後，第一反射鏡12a至12h使由第二反射鏡群組13反射之該等分量波表面對準以形成然後輻射至楔板4之一單個波表面。

入射於楔板4上之雷射光之單個波表面由楔板4之第一表面S1及第二表面S2反射，從而分成兩個部分波表面。楔板4之第一表面S1係接近於第一反射鏡群組12之一表面而楔板4之第二表面S2係接近於光束擴展器3之一表面。詳細而言，自第一反射鏡群組12反射之雷射光之一部分由第一表面S1反射至影像形成透鏡6。另一方面，自第一反射鏡群組12反射之雷射光之剩餘部分未由第一表面S1反射至影像形成透鏡6。而是，自第一反射鏡群組12反射之雷射光之剩餘部分傳播至楔板4之內側中且到達第二表面S2。然後，第二表面S2將已自第一反射鏡群組12反射之雷射光之剩餘部分反射至影像形成透鏡6。

在自楔板4發射之兩個部分波表面之間產生一空間位移。如先前藉由參考圖3之圖所述，其間產生空間位移之兩個部分波表面在由成像區段7執行以拍攝一干涉條帶之一影像之一過程中相互疊加。然後，成像區段7將由成像區段7作為一干涉條帶之影像拍攝之影像作為影像資料供應至分析區段8。隨後，分析區段8分析該干涉條帶之該影像資料。

由分析區段8選用以充當用於分析影像資料之一方法之一影像分析方法藉由參考圖9(其係在闡述一影像分析方法時參考之複數個圖)闡釋如下。存在各種可想到之影像分析方法。在第一實施例之情形下，選用使用傅立葉變換(Fourier transform)之一影像分析方法。根據使用傅立葉變換之影像分析方法，利用一空間載波之頻率來提取關於一干涉條帶之振幅之資訊及關於相位變化之資訊。

更具體而言，藉由給出互相干涉之波表面之間的一無窮小角之傾斜，可獲得由Ex.(5)表達之一空間載波條帶作為基於一干涉條帶之一影像之一空間載波條帶圖案。

g (x ,y )=a (x ,y )+b (x ,y )cos[2π(f _X0 x +f _Y0 y )+Φ (x ,y )]　...　(5)

然後，對該空間載波條帶圖案應用一二維傅立葉變換以便獲得由Ex.(6)表達如下之一二維空間頻譜。

G (f _X ,f _Y )=A (f _X ,f _Y )+C (f _X -f _0X ,f _Y -f _0Y )+C *(-(f _X +f _0X ),-(f _Y +f _0Y ))...(6)

以上方程式中使用之符號C(fx,fy)指示一干涉條帶中之亮-暗變化之複合振幅之一傅立葉光譜。傅立葉光譜C(fx,fy)由Ex.(7)表達如下。

以此方式，如圖9A中所示，藉由載波之頻率將每一光譜分離。因此，藉由選用一過濾技術僅提取Ex.(6)之右手側上之表達式之第二項(如圖9B中所示)，圖9B係粗略地顯示藉由選用一過濾技術所提取之一典型預定光譜之一圖。然後，將Ex.(6)之右手側上之表達式之所提取之第二項移動至起始點(如圖9C中所示)。因此，移除空間載波頻率f_X0 及f_Y0 且可獲得傅立葉光譜C(f_X ,f_Y )。

然後，對所提取光譜應用反傅立葉變換以便給出由Ex.(7)表達之一複合振幅。因此，可自表達該複合振幅之對數之Ex.(8)之右手側上之表達式之實部獲得一干涉條帶之振幅b(x,y)。另外，亦可自Ex.(8)之右手側上之表達式之虛部獲得該干涉條帶之相位φ(x,y)。

基於以干涉條帶之此方式獲得之振幅資訊及相位資訊，可確定是否已在光學膜10上產生一缺陷。

如上所述，在第一實施例中，將雷射光之波表面分成複數個分量波表面，然後，該複數個分量波表面沿光學膜10之寬度方向配置以便加寬存在一缺陷之光學膜10之檢查之範圍。

3：第二實施例

接下來，本發明之一第二實施例闡釋如下。在第二實施例之情形下，除第一實施例中採用之第一反射鏡群組12及第二反射鏡群組13之外，提供一第三反射鏡群組21及一第四反射鏡群組22以便使雷射光往復地傳播穿過光學膜10多於第一實施例之次數。

[缺陷檢查裝置之組態]

根據本發明之第二實施例之缺陷檢查裝置30之一典型組態闡釋如下。圖10係顯示根據本發明之第二實施例之缺陷檢查裝置30之一典型組態之一圖。自以上說明顯而易見，根據第二實施例之缺陷檢查裝置30不同於根據第一實施例之缺陷檢查裝置20，此乃因除根據第一實施例之缺陷檢查裝置20中採用之第一反射鏡群組12及第二反射鏡群組13之外，缺陷檢查裝置30亦包含第三反射鏡群組21及第四反射鏡群組22。

應注意，圖10之圖中所示之根據第二實施例之缺陷檢查裝置30中採用以充當與圖5之圖中所示之根據第一實施例之缺陷檢查裝置20中採用之其等各別對應物相同之元件之元件由與該等對應物相同之參考編號指示。另外，以下說明不闡釋圖10之圖中所示之根據第二實施例之缺陷檢查裝置30中採用以充當與根據第一實施例之缺陷檢查裝置20中採用之其等各別對應物相同之元件之元件之細節。以此方式，可避免說明之重複。

第二反射鏡13a至13d係以使第二反射鏡13a至13d亦藉由光學膜10之方式將藉由光學膜10之方式分別傳播自第一反射鏡12a至12d之入射雷射光光束分別反射至屬於下文所述之第三反射鏡群組21之第三反射鏡21a至21d之預先確定之此一角傾斜。

如上所述，第三反射鏡群組21經組態以包含第三反射鏡21a至21d，其等係提供於使第三反射鏡21a至21d分別自第一反射鏡12a至12d沿高度方向移位之此等上部位置處。換言之，當自光學膜10之位置觀看時，第三反射鏡21a至21d並非係分別疊加於第一反射鏡12a至12d上。另外，第三反射鏡21a至21d係以使第三反射鏡21a至21d藉由光學膜10之方式將分別傳播自第二反射鏡13a至13d之入射雷射光光束分別反射至屬於下文所述之第四反射鏡群組22之第四反射鏡22a至22d之預先確定之此一角傾斜。

如上所述，第四反射鏡群組22經組態以包含第四反射鏡22a至22d，其等係提供於使第四反射鏡22a至22d分別自第二反射鏡13a至13d沿高度方向移位之分別對應於第三反射鏡21a至21d之此等高程處。換言之，當自光學膜10之位置觀看時，第四反射鏡22a至22d並非係分別疊加於第二反射鏡13a至13d上。另外，第四反射鏡22a至22d係沿垂直於分別來自第三反射鏡21a至21d之入射雷射光光束之入射方向之一方向定向以使得第四反射鏡22a至22d藉由光學膜10之方式將分別來自第三反射鏡21a至21d之該等入射雷射光光束分別反射至第三反射鏡21a至21d。

因此，入射於第四反射鏡群組22上之雷射光光束由第四反射鏡22a至22d反射且透過與入射於第四反射鏡群組22上之雷射光光束相同之光學路徑分別返回至第三反射鏡21a至21d。由第四反射鏡22a至22d反射之雷射光光束藉由光學膜10之方式分別傳播至第三反射鏡21a至21d且藉由光學膜10之方式由第三反射鏡21a至21d分別反射至第二反射鏡13a至13d。最後，該等雷射光光束藉由光學膜10之方式由第二反射鏡13a至13d分別反射回至第一反射鏡12a至12d。

如上所述，在第二實施例中，第三反射鏡群組21具有四個第三反射鏡21a至21d而第四反射鏡群組22具有四個第四反射鏡22a至22d。然而，應注意，本發明之實施方案決不限於第二實施例。換言之，第三反射鏡之數目與(因此)第四反射鏡之數目可各自根據第一反射鏡之數目或(因此)第二反射鏡之數目來確定。

[缺陷檢查裝置之操作]

接下來，由缺陷檢查裝置執行之操作闡釋如下。圖11係粗略地顯示第一至第四反射鏡之一典型佈局之一圖。為防止闡釋變得複雜，在第三反射鏡21a至21d中，僅第三反射鏡21b顯示於圖11中，而在第四反射鏡22a至22d中，僅第四反射鏡22b顯示於圖11中。

由光源2發射之雷射光藉由光反射反射鏡11之方式傳播至光束擴展器3。光束擴展器3將該雷射光作為平行雷射光光束輻射至楔板4。入射於楔板4上之雷射光行進穿過楔板4且傳播至第一反射鏡群組12。第一反射鏡12a至12d將入射於第一反射鏡群組12上之雷射光之波表面分成四個分量波表面且將該四個分量波表面輻射至光學膜10。

輻射至光學膜10之該四個雷射光分量波表面行進穿過光學膜10且分別由第二反射鏡13a至13d反射。分別由第二反射鏡13a至13d反射之該四個雷射光分量波表面藉由光學膜10之方式分別傳播至第三反射鏡21a至21d以分別由第三反射鏡21a至21d反射。分別由第三反射鏡21a至21d反射之該四個雷射光分量波表面藉由光學膜10之方式分別傳播至第四反射鏡22a至22d以分別由第四反射鏡22a至22d反射。

第四反射鏡22a至22d係沿垂直於分別來自第三反射鏡21a至21d之四個入射雷射光分量波表面之入射方向之一方向定向以使得第四反射鏡22a至22d透過與入射於第四反射鏡群組22上之該四個雷射光分量波表相同之光學路徑將分別來自第三反射鏡21a至21d之該四個入射雷射光分量波表面分別反射至第三反射鏡21a至21d。

因此，入射於第四反射鏡群組22上之該四個雷射光分量波表面由第四反射鏡22a至22d反射且藉由光學膜10之方式分別返回至第三反射鏡21a至21d。由第四反射鏡22a至22d反射之該等雷射光光束藉由光學膜10之方式分別傳播至第三反射鏡21a至21d且亦藉由光學膜10之方式由第三反射鏡21a至21d分別反射至第二反射鏡13a至13d。最後，該等雷射光光束藉由光學膜10之方式由第二反射鏡13a至13d分別反射回至第一反射鏡12a至12d。第一反射鏡12a至12d使該四個雷射光分量波表面對準以便形成一單個雷射光波表面且將該單個雷射光波表面輻射至楔板4。

以與先前所述之第一實施例相同之方式，楔板4將輻射至其之該單個雷射光波表面分成兩個部分波表面，然後，該兩個部分波表面由影像形成透鏡6使用以形成一干涉條帶。

[光學膜上之缺陷之偵測]

在本發明之第二實施例之情形下，在偵測存在於光學膜10上之一缺陷之一過程中，雷射光經發射以往復地行進穿過光學膜10複數次。舉例而言，在本發明之第二實施例之情形下，除第一實施例中採用之第一反射鏡群組12及第二反射鏡群組13之外，提供第三反射鏡群組21及第四反射鏡群組22以便藉由光學膜10之方式使雷射光往復地傳播多於第一實施例之次數。因此，當將雷射光輻射至光學膜10時，第一反射鏡群組12、第二反射鏡群組13、第三反射鏡群組21及第四反射鏡群組22使該雷射光往復地傳播穿過光學膜10三次，如圖12A中所示。因此，該雷射光行進穿過包含光學膜10上之點X、Y及Z之相同線六次。

因此，若具有一線形狀之一條紋已沿相對於光學膜10之移動方向之水平方向產生於光學膜10上，則當雷射光行進穿過光學膜10時該雷射光之波表面之曲率增加。因此，在用以觀察一干涉條帶之一操作中，更強調由該條紋造成之曲率。因此，即使該條紋較淺，亦強調雷射光之波表面之曲率，從而使得可偵測由該條紋造成之一缺陷。

另外，考量其中光學膜10中之TAC膜15之某些部分之厚度變化之一情形。通常，TAC膜15之厚度部分地以與其中一條紋產生於硬塗佈層16上作為沿平行於光學膜10之移動方向之一方向具有某一長度之一條紋之方式不同之一方式變化。因此，即使雷射光之波表面往復地行進穿過光學膜10複數次，亦可想到很可能存在其中在存在於光學膜10上之所有點(如由雷射光之波表面行進穿過之點)處根本偵測不到TAC膜15之部分變化之一情形。

在本發明之第二實施例之情形下，使雷射光之波表面往復地傳播穿過光學膜10複數次以便強調僅由產生於硬塗佈層16上之一條紋造成之波表面之曲率。因此，可減小TAC膜15之厚度改變之效應。

舉例而言，考量其中已在光學膜10之硬塗佈層16上產生一條紋且TAC膜15之厚度未變化之一情形。在此情形下，在圖12A之圖中所示之點X、Y及Z處，雷射光之波表面行進穿過其處已產生條紋之一部分。因此，雷射光之波表面行進穿過其處已產生條紋之該部分六次，如圖12B所示。圖12B係粗略地顯示雷射光行進穿過有缺陷部分之一說明性圖。

作為另一實例，另一方面，考量其中在光學膜10之硬塗佈層16上未曾產生條紋但TAC膜15之厚度在圖12A之說明性圖中所示之點Y處變化之一情形。在此情形下，在點Y處，雷射光之波表面行進穿過其處TAC膜15之厚度已變化之一點。因此，雷射光之波表面行進穿過其處TAC膜15之厚度已變化之該點兩次，如圖12C中所示。

如上所述，雷射光之波表面往復地行進穿過光學膜10複數次。在此情形下，雷射光之波表面行進穿過硬塗佈層16上之一條紋部分之次數多於雷射光之波表面行進穿過其處TAC膜15之厚度已變化之一部分之次數。因此，當雷射光之波表面行進穿過硬塗佈層16上之條紋部分時，與雷射光之波表面行進穿過其處TAC膜15之厚度已變化之一部分之情形相比較，干涉條帶處產生之曲率增加地更多。

因此，僅強調由產生於硬塗佈層16中之條紋造成之曲率增加以使得可減小TAC膜15之厚度變化之效應。因此，可防止錯誤地偵測由TAC膜15之厚度之一變化造成之一缺陷。

如上所述，在第二實施例之情形下，即使產生於光學膜10之硬塗佈層16上之一條紋較淺，亦因雷射光往復地傳播穿過光學膜10複數次而強調該雷射光之波表面之曲率，從而使得可以甚至比第一實施例更高之一精確度偵測由該條紋造成之一缺陷。

另外，在第二實施例之情形下，雷射光往復地行進穿過光學膜10上之相同線複數次。因此，即使TAC膜15之厚度變化，亦僅強調由存在於光學膜10上之一缺陷造成之波表面曲率。因此，可防止錯誤地偵測由TAC膜15之厚度之一變化造成之一缺陷。

如上所述，在第二實施例之情形下，提供第三反射鏡群組21及第四反射鏡群組22。然而，應注意，本發明之實施方案決不限於第二實施例之組態。舉例而言，亦可提供其中僅將第三反射鏡群組21添加至第一實施例之一組態。在此一組態中，第三反射鏡群組21係沿垂直於傳播自第二反射鏡群組13之雷射光(作為入射於第三反射鏡群組21上之雷射光)之入射方向之一方向定向。因此，由第二反射鏡群組13輻射至第三反射鏡群組21以充當入射於第三反射鏡群組21上之雷射光之該雷射光由第三反射鏡群組21反射且透過與該入射雷射光相同之光學路徑自第三反射鏡群組21離開。因此，該雷射光往復地行進穿過光學膜10四次。因此，同樣，在此一組態之情形下，如同其中雷射光往復地行進穿過光學膜10六次之第二實施例之組態，僅強調由存在於光學膜10上之一缺陷造成之波表面曲率。因此，可防止錯誤地偵測由TAC膜15之厚度之一變化造成之一缺陷。

迄今已闡釋了本發明之第一及第二實施例。然而，應注意，本發明之實施方案決不限於以上所述之第一及第二實施例之組態。換言之，可使第一及第二實施例之組態變化成各種經修改版本，只要該等經修改版本歸屬於並不背離本發明之精神之一範圍內即可。另外，雖然以上所述之第一及第二實施例中之每一者皆在光學膜10中採用一TAC膜15，但本發明之實施方案決不限於此典型組態。換言之，可使用由任一材料製成之一膜，只要該膜能夠透射光即可。

除那之外，第一及第二實施例中之每一者實施包含利用楔板4來充當一干涉儀之一共用干涉儀之一典型組態。然而，應注意，本發明之實施方案決不限於由第一及第二實施例實現之此典型組態。換言之，亦可採用除此一共用干涉儀以外之一干涉儀。

本申請案含有與全部內容藉此皆以引用方式併入本文中之於2009年9月4日在日本專利局提出申請之日本優先權專利申請案JP 2009-204491中所揭示之標的物相關之標的物。

1．．．缺陷檢查裝置

2．．．光源

3．．．光束擴展器

4．．．楔板

5．．．反射鏡

6．．．影像形成透鏡

7．．．成像區段

8．．．分析區段

10．．．光學膜

11．．．光反射反射鏡

12．．．第一反射鏡群組

12a．．．第一反射鏡

12b．．．第一反射鏡

12c．．．第一反射鏡

12d．．．第一反射鏡

12e．．．第一反射鏡

12f．．．第一反射鏡

12g．．．第一反射鏡

12h．．．第一反射鏡

13．．．第二反射鏡群組

13a．．．第二反射鏡

13b．．．第二反射鏡

13c．．．第二反射鏡

13d．．．第二反射鏡

13e．．．第二反射鏡

13f．．．第二反射鏡

13g．．．第二反射鏡

13h．．．第二反射鏡

15．．．TAC(三乙醯基纖維素)膜

16．．．硬塗佈層

20．．．缺陷檢查裝置

21．．．第三反射鏡群組

21a．．．第三反射鏡

21b．．．第三反射鏡

21c．．．第三反射鏡

21d．．．第三反射鏡

22．．．第四反射鏡群組

22a．．．第四反射鏡

22b．．．第四反射鏡

22c．．．第四反射鏡

22d．．．第四反射鏡

30．．．缺陷檢查裝置

110．．．刮刀

圖1係粗略地顯示一缺陷檢查裝置之一典型組態之一圖；

圖2A係顯示楔板之一典型形狀之一圖；

圖2B係欲在闡述針對其中一光學膜不具有缺陷之一情形之一干涉條帶之產生之原理時參考之一圖；

圖2C係顯示針對其中一光學膜不具有缺陷之一情形之一典型干涉條帶之一圖；

圖3A係粗略地顯示產生於一光學膜上之一典型缺陷之一說明性圖；

圖3B係欲在闡述針對其中光學膜具有一缺陷之一情形之一干涉條帶之產生之原理時參考之一說明性粗略圖；

圖3C係粗略地顯示針對其中光學膜具有一缺陷之一情形之一典型干涉條帶之一說明性圖；

圖4A係粗略地顯示光學膜具有係一典型缺陷之一突起之一圖；

圖4B係粗略地顯示光學膜具有係另一典型缺陷之一凹陷之一圖；

圖5係粗略地顯示根據本發明之一第一實施例之一缺陷檢查裝置之一典型組態之一圖；

圖6係粗略地顯示根據本發明之一第一實施例之第一反射鏡之一典型佈局之一圖；

圖7係顯示第一反射鏡與藉由第一反射鏡分裂之矩形波表面之間的關係之一圖；

圖8係欲在闡述用以將雷射光之波表面分成複數個分量波表面之一過程時參考之一粗略圖；

圖9A係粗略地顯示每一光譜之典型分離之一圖；

圖9B係粗略地顯示藉由選用一過濾技術所提取之一典型預定光譜之一圖；

圖9C係粗略地顯示所提取光譜向起始點之典型移動之一圖；

圖10係顯示根據本發明之第二實施例之缺陷檢查裝置之一典型組態之一圖；

圖11係粗略地顯示根據本發明之一第二實施例之第一至第四反射鏡之一典型佈局之一圖；

圖12A係粗略地顯示雷射光之反射之一說明性圖；

圖12B係粗略地顯示雷射光行進穿過光學膜之一有缺陷部分之一說明性圖；

圖12C係粗略地顯示雷射光行進穿過其處一TAC膜之厚度已變化之一部分之一說明性圖；

圖13係粗略地顯示一光學膜之一典型組態之一圖；

圖14A係在闡述用以製造沒有缺陷產生之一光學膜之一製程時參考之一說明性圖；及

圖14B係在闡述用以製造有一缺陷產生之一光學膜之一製程時參考之一說明性圖。

2．．．光源

3．．．光束擴展器

4．．．楔板

6．．．影像形成透鏡

7．．．成像區段

8．．．分析區段

10．．．光學膜

11．．．光反射反射鏡

12．．．第一反射鏡群組

12a．．．第一反射鏡

12b．．．第一反射鏡

12c．．．第一反射鏡

12d．．．第一反射鏡

13．．．第二反射鏡群組

13a．．．第二反射鏡

13b．．．第二反射鏡

13c．．．第二反射鏡

13d．．．第二反射鏡

Claims

一種缺陷檢查裝置，其包括：一光源，其用於發射雷射光；一反射鏡群組，其用於將由該光源發射之入射雷射光之波表面分裂成複數個分量波表面、配置該等分量波表面以形成沿一個方向定向之一陣列且使該等分量波表面對準以在使該雷射光傳播穿過一移動量測物件之後形成一單個波表面；一干涉儀，其用於將該單個波表面分裂成兩個部分波表面且利用該兩個部分波表面來形成一干涉條帶；一成像區段，其用於拍攝由該干涉儀形成之該干涉條帶之一影像；及一分析區段，其用於基於已由該成像區段拍攝作為該干涉條帶之該影像之隨時間過去該影像之變化來偵測存在於該移動量測物件之表面上之一缺陷。
如請求項1之缺陷檢查裝置，其中該反射鏡群組至少兩次使該等經分裂分量波表面傳播穿過該量測物件上之相同線。
如請求項2之缺陷檢查裝置，其中該反射鏡群組至少四次使該等經分裂分量波表面傳播穿過該量測物件上之該相同線。
如請求項1之缺陷檢查裝置，其中該干涉儀：具有一第一表面及一第二表面；且利用一楔板將自該反射鏡群組到達之入射雷射光分裂成由該第一表面反射之雷射光及不由該第一表面反射而由該第二表面反射之雷射光。
如請求項1之缺陷檢查裝置，其中該量測物件係一光學膜或一基板。
如請求項1之缺陷檢查裝置，其中該分析區段藉由選用預先確定之一影像處理演算法來分析自該干涉條帶之該影像獲得之一干涉條帶圖案以偵測存在於該量測物件之該表面上之一缺陷。
如請求項6之缺陷檢查裝置，其中該分析區段選用傅立葉變換作為該影像處理演算法。
一種缺陷檢查方法，其包括以下步驟：驅動一光源以發射雷射光；驅動一反射鏡群組以將由該光源發射之入射雷射光之波表面分裂成複數個分量波表面、配置該等分量波表面以形成沿一個方向定向之一陣列且使該等分量波表面對準以在使該雷射光傳播穿過一移動量測物件之後形成一單個波表面；將該單個波表面分裂成兩個部分波表面且利用該兩個部分波表面來形成一干涉條帶；拍攝該所形成干涉條帶之一影像；及基於該干涉條帶之該所拍攝影像隨時間過去之變化來偵測存在於該移動量測物件之表面上之一缺陷。