TWI417345B - Optical recording medium and manufacturing method thereof - Google Patents

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TWI417345B
TWI417345B TW096103061A TW96103061A TWI417345B TW I417345 B TWI417345 B TW I417345B TW 096103061 A TW096103061 A TW 096103061A TW 96103061 A TW96103061 A TW 96103061A TW I417345 B TWI417345 B TW I417345B
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Toru Yano
Koichi Shigeno
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Description

光記錄媒體及其製造方法
本發明係關於一種光記錄媒體，尤其是一種使用有機色素作為記錄層之光記錄媒體及其製造方法。
將有機色素材料用於記錄層中之光記錄媒體(以下記作有機色素型光記錄媒體)，係於塑料等透明基板上，設置以有機色素作為主成分之記錄層，於記錄層之表面，以集束之雷射光進行掃描，僅於所照射之表面局部形成訊坑，藉此高密度地記錄資訊，已實用化有CD－R(追記型CD：Compact Disc，註冊商標)及DVD－R、DVD＋R(追記型DVD：Digital Versatile Disc，註冊商標)等。該等有機色素型光記錄媒體結構簡易，可廉價製造，故作為資料及圖像等之備份或音樂用途而為市場廣泛接受。
於日本專利廳所公開之日本專利特開2002－52829號公報及日本專利特開2003－231359號公報中，提出有各種可較好地應用於DVD－R等中之色素材料。
然而，隨著近年來電腦之快速進步，而期待記錄媒體進一步大容量化，因此銷售有使DVD－R或DVD＋R中之記錄層形成為雙層結構之可進行雙層記錄之光記錄媒體。
向有機色素型光記錄媒體中記錄資訊係利用熱致模式。於記錄層上照射雷射光，經照射之部分之有機色素會吸收雷射光，並因熱而分解。由於有機色素已分解之部分與未分解之部分之反射率不同，故而可於記錄層中形成訊坑。因此，於有機色素型光記錄媒體中，吸收熱之機制較為重要。為使記錄層中之有機色素分解而必需之熱量，係由雷射光量及吸光光譜確定。於有機色素型光記錄媒體中，該等之平衡將決定記錄層之反射率及記錄靈敏度。
於如上所述之記錄層為雙層結構之光記錄媒體中，為透過第1記錄層而記錄第2記錄層，必須開發出高靈敏度且高反射率之材料，以此將第1記錄層之透過率確保為約50%，並且可利用同一雷射光源而較好地記錄第1記錄層、第2記錄層兩者。
進而，於第1記錄層上，介隔極薄之半透射反射膜而積層有透光性材料層，即所謂間隔層，且第2記錄層係直接積層於該間隔層上，故而將記錄層製成雙層結構之光記錄媒體中，確保保存可靠性成為非常大之問題。
鑒於以上問題，本發明之目的在於，於將有機色素製成光記錄層之光記錄媒體中，尤其是於將記錄層製成雙層結構之光記錄媒體中，確保良好之記錄播放特性及記錄資訊之保存可靠性。
本發明之第1發明係一種光記錄媒體，該光記錄媒體係於透光性基板上至少形成第1記錄層、半透射性反射層、透光性材料層、第2記錄層、及反射層而成，且第1及第2記錄層係含有有機色素而成者；於第1記錄層中，至少含有以下述化1所示之通式(式中，R1表示碳數為1~4之烷基，R2、R3分別表示碳數為1~4之烷基、苯甲基或連結而形成3~6員環之基，Y1、Y2分別獨立地表示有機基，X表示ClO4 、BF4 、PF6 、SbF6 )所表示的有機色素、以及以下述化2所示之通式(式中，R1、R4表示碳數為1~4之烷基，R2、R3分別表示碳數為1~4之烷基、苯甲基或連結而形成3~6員環之基，Y1、Y2分別獨立地表示有機基，X表示ClO4 、BF4 、PF6 、SbF6 )所表示的有機色素，或者，於第1記錄層中，至少含有以下述化3所示之通式(式中，R1及R2表示碳數為1~4之烷基，Y1、Y2分別獨立地表示有機基，X表示ClO4 、BF4 、PF6 、SbF6 )所表示的有機色素、以及以下述化4所示之通式(式中，R1、R4表示碳數為1~4之烷基，R2、R3表示碳數為1~4之烷基、或連結而形成3~6員環之基，Y1、Y2分別獨立地表示有機基，X表示ClO4 、BF4 、PF6 、及SbF6 )所表示的有機色素，於第2記錄層中，至少含有以下述化3所示之通式所表示的有機色素、及以下述化4所示之通式所表示的有機色素。
本發明之第2發明係一種光記錄媒體，其係具有至少一層以上之含有有機色素之記錄層者，於該記錄層中，至少含有以述化3所示之通式所表示的有機色素、及以上述化4所示之通式所表示的有機色素。
本發明之第3發明之光記錄媒體之製造方法係利用所謂2P(Photo Polymerization，光聚合)法之光記錄媒體之製造方法，即，於形成有溝槽之透光性基板上，積層形成至少第1記錄層、及半透射性反射層，於半透射性反射層上，沈積光硬化性材料層，且於按壓形成有溝槽圖案之壓模的狀態下，於光硬化性材料層上照射光，使上述光硬化性材料層硬化，而形成透光性材料層，自該透光性材料層剝離壓模後，至少積層形成第2記錄層、及反射層，從而製造出光記錄媒體；並且，於第1記錄層中，使用至少含有以上述化1所示之通式所表示的有機色素、及以上述化2所示之通式所表示的有機色素的材料，或者，於第1記錄層中，使用至少含有以上述化3所示之通式所表示的有機色素、及以上述化4所示之通式所表示的有機色素的材料。並且，於第2記錄層中，使用至少含有以上述化3所示之通式所表示的有機色素、及以上述化4所示之通式所表示的有機色素的材料，藉此製造光記錄媒體。
本發明之第4發明之光記錄媒體之製造方法係利用所謂反向堆疊(Inverted Stack)法之光記錄媒體之製造方法，即，於形成有溝槽之透光性第1基板上，至少積層形成第1記錄層、及半透射性反射層，於形成有與第1基板之溝槽具有反極性之溝槽的第2基板上，至少積層形成反射層、及第2記錄層，且以夾持透光性材料部之方式，使第1基板上之半透射性反射層與第2基板上之第2記錄層相接合，藉此製造光記錄媒體；並且，該光記錄媒體之製造方法，於第1記錄層中，使用至少含有以上述化1所示之通式所表示的有機色素、及以上述化2所示之通式所表示的有機色素之材料，或者，於第1記錄層中，使用至少含有以上述化3所示之通式所表示的有機色素、及上述化4所示之通式所表示的有機色素之材料，於第2記錄層中，使用至少含有以上述化3所示之通式所表示的有機色素、及以上述化4所示之通式所表示的有機色素之材料，而製造光記錄媒體。
如上所述，於本發明之光記錄媒體及其製造方法中構成如下，即，於第1記錄層中，含有以上述化1及化2所示之通式所表示的有機色素，或者，含有以上述化3及化4所示之通式所表示的有機色素，且於第2記錄層中，含有以上述化3及化4所示之通式所表示的有機色素。
藉由形成為如此之構成，能夠以良好之記錄播放特性而對第1記錄層進行記錄，並且，亦可對第2記錄層實現良好之記錄播放特性，且可確保該等第1及第2記錄層之耐久性，尤其是與先前相比，可顯著提昇第2記錄層之耐久性。
即，於利用2P法及反向堆疊法所製造之記錄層為雙層結構的光記錄媒體中，對於該第1及第2記錄層該兩層記錄層，可確保良好之記錄播放特性及記錄資訊之保存可靠性。
又，於具有至少一層以上含有有機色素之記錄層的光記錄媒體中，可藉由於其記錄層中，使用含有以上述化3及化4所示之通式所表示的有機色素之材料，而確保良好之記錄播放特性及記錄資訊之保存可靠性。
根據本發明之光記錄媒體及其製造方法，於將有機色素製成光記錄層之光記錄媒體中，可確保良好之記錄播放特性及記錄資訊之保存可靠性。
尤其是，於將記錄層製成雙層結構之光記錄媒體中，可藉由使第2記錄層中包含含有以上述化3及化4所示之通式所表示的有機色素之材料，而確保第2記錄層中之良好的記錄播放特性及記錄資訊之保存可靠性。
以下，對實施本發明之最佳形態之例進行說明，但本發明並不限定於以下之例。
本發明係關於一種具有包含有機色素之記錄層的例如碟片型光記錄媒體，尤其是提供一種如下所述之光記錄媒體，即，可應用於記錄層為單層之DVD－R及DVD＋R，進而，於利用後文所述之2P法或反向堆疊法而形成的DVD－R DL及DVD＋R DL(記錄層為雙層型結構之追記型DVD，註冊商標)中可進行高速記錄，且資料之保存可靠性較高。
首先，就於利用2P法而製造之光記錄媒體中應用本發明的實施形態例進行說明。
於圖1中表示將本發明應用於利用2P法而製造之光記錄媒體中之一實施形態例的概略剖面結構圖。該例中，於包含PC(polycarbonate，聚碳酸酯)等之透光性基板1上，至少積層含有有機色素之第1記錄層2、包含銀合金等之半透射性反射層3、包含UV(紫外線)硬化樹脂等之透光性材料層4、含有有機色素之第2記錄層6、以及包含銀合金等之反射層7。於此情形時，於反射層7上設置保護層8。對於如此之光記錄媒體，自基板1側照射記錄或播放用之光L，而進行記錄或播放。
再者，於該光記錄媒體中，所謂透光性材料部4，係以所需之透過率而使記錄及播放用之波長頻帶的透光之材料即可，例如，亦可形成為積層有介電體層及UV硬化樹脂之構造。因此，亦可如下構成，即，使具有所需之波長頻帶之透光性的介電體層，插入半透射性反射層3與透光性材料層4之間及/或透光性材料層4與第2記錄層之間。如此，於使介電體層插入記錄層與透光性材料層之間之情形時，可抑制透光性材料層對記錄層所造成之影響，且可提昇耐久性。
參照圖2A~圖2C及圖3及圖3B之製造步驟圖，對該光記錄媒體之製造方法之一實施形態例進行說明。
如圖2A所示，首先準備透光性第1基板，該透光性第1基板具有軌距及深度特定之溝槽1G，且包含PC等。該基板1例如藉由射出成型而製造。並且，於其上藉由旋塗法等塗佈第1記錄層2，進而，藉由濺鍍法而積層半透射反射層3。
繼而，如圖2B所示，於該半透射反射層3之上，藉由旋塗法等塗佈UV硬化樹脂等透光性材料層4。並且，如圖2C所示，如箭頭a所示，將與形成於基板1上之溝槽1G具有反極性、即凹凸相反形成之壓模，推壓於基板1上之透光性材料層4上。於此狀態下，即於圖3A所示之狀態下，照射例如紫外線，使透光性材料層4硬化。如此，於透光性材料層4、即所謂間隔層上，形成具有特定軌距及深度之溝槽4G。
其後，剝離壓模5，且如圖3B所示，藉由旋塗法等而塗佈第2記錄層6，進而，藉由濺鍍法而形成反射層7，並且，介隔UV硬化樹脂等而於其上接著透光性基板等，形成保護層8，而獲得利用2P法製造之光記錄媒體。
其次，藉由如此之製造方法而製造本發明構成之光記錄媒體，並說明對其特性進行研究之結果。
於以下之例中，準備厚度為0.575 mm之包含PC之基板作為基板1，於該基板上使含有後文所述之材料的第1記錄層2成膜，並藉由濺鍍法於其上積層包含銀合金之半透射反射層3。其次，為形成透光性材料層即所謂間隔層，而藉由旋塗法塗佈50 μm之UV硬化樹脂，並預先推壓壓模5，該壓模5形成有與基板1之溝槽1G具有反極性的溝槽且包含日本Zeon(株)製造之Zeonor，進行UV照射而使UV硬化樹脂硬化，以製成透光性材料層4。其後，剝離該壓模，且於透光性材料層4上形成第2記錄層用之溝槽4G。進而於此後藉由旋塗法而使含有後文所述之材料的第2記錄層6成膜，並藉由濺鍍法於其上積層包含銀之反射膜7。並且，與通常之單層光記錄媒體同樣，介隔UV硬化樹脂而接著厚度為0.6 mm之透明基板，形成保護層8，以製成本發明構成之光記錄媒體。
又，如圖4之概略剖面結構圖所示，亦製作記錄層為單層型結構之光記錄媒體，其於基板31上形成有含有有機色素之記錄層32、反射層33、及保護層34。
上述記錄層為雙層型結構之光記錄媒體中的第1及第2記錄層2及6、以及單層型結構之光記錄媒體中的記錄層32之塗佈過程中所使用的塗佈液，係使用將有機色素溶解於作為塗佈溶劑之四氟丙醇(TFP,tetrafluoropropanol)中而形成之溶液。作為記錄層材料中所使用之有機色素，分別使用具有上述化5所示之結構式的色素作為上述化1所示之通式中之一例，使用具有上述化6所示之結構式的色素作為上述化2所示之通式中之一例，使用具有上述化7所示之結構式的色素作為上述化3所示之通式中之一例，進而，使用具有上述化8所示之結構式的色素作為上述化4所示之通式中之一例。又，去活劑係使用日本化藥(株)製造之IRG022(商品名)，酞菁色素係使用於高速記錄用CD－R之記錄膜中廣泛使用的Ciba Specialty Chemicals(株)公司製造之Ultra Green MX(商品名)作為一例。
又，對於各記錄層之光學濃度(Optical Density)而言，於將所吸收之最大波長λmax下之透過率設為T時，定義為OD＝－log(T)，且設為0.50。所使用之第1基板31，形成為如圖5之概略剖面結構圖所示之形狀，作為其一例，將軌距Tp設為0.74 μm，將溝槽G之槽深度D(L0)及寬度Wg(L0)分別設為160 nm、220 nm。再者，將溝槽之槽寬度Wg(L0)定義為側面傾斜之槽部的底邊之寬度。又，於記錄層為雙層型結構之光記錄媒體中的透光性材料層4上所形成之第2記錄層6用溝槽4G，形成為圖6之概略剖面結構圖所示之形狀，作為其一例，將軌距Tp設為0.74 μm，將溝槽4G之槽深度D(L1)及寬度Wg(L1)分別設為160 nm、220 nm。於此情形時，亦同樣地將溝槽4G之槽寬度Wg(L1)定義為側面傾斜之槽部的底邊之寬度。
信號之記錄播放時，使用有Pulstec工業(株)公司製造之ODU．1000(商品名)。該評估機之雷射光之波長為650 nm，聚光透鏡之數值孔徑NA為0.65，且隨機記錄DVD中所使用之EFM plus信號，而測定播放信號之抖動值。記錄條件係使用DVD＋R(記錄層單層)、及DVD＋R DL(記錄層雙層)之記錄方式之規格之Pulse Strategy，設為2.4倍速記錄(線速：記錄層單層8.4 m/s，記錄層雙層9.2 m/s)，及使用Castle Strategy，設為8倍速(線速：記錄層單層27.9 m/s，記錄層雙層30.7 m/s)，測定相對於以1倍速(線速：記錄層單層3.5 m/s，記錄層雙層3.8 m/s)進行播放時之記錄功率的抖動值。向記錄層雙層型之光記錄媒體之第2記錄層進行記錄，係於第1記錄層之記錄後進行。
由於抖動值表示播放時之記錄標記與間隔在時間軸上之不均，故而成為表示所記錄之標記及間隔之精度的指數，抖動值越小，意味著信號品質越高。於下述表1及表2中，分別表示最佳記錄功率下之2.4倍速及8倍速記錄時之抖動值。
又，於上述表1中，將上述化1所示之有機色素即該例中上述化5所示之有機色素的重量設為W1，將上述化2所示之有機色素即該例中上述化6所示之有機色素的重量設為W2，將上述化3所示之有機色素即該例中上述化7所示之有機色素的重量設為W3，上述化4所示之有機色素即該例中上述化8所示之有機色素的重量為W4，將上述去活劑之重量設為W5，將上述酞菁色素之重量設為W6時，使各記錄層中之各材料的重量比為下述條件而進行製作。
首先，記錄層為單層型之光記錄媒體中的記錄層，係以如下方式選定下述各重量比而構成，即，上述化7及化8所示之有機色素的重量W3、W4之重量比W4/(W3＋W4)，及去活劑之重量W5之重量比W5/(W3＋W4＋W5)，進而酞菁色素之重量W6之重量比W6/(W3＋W4＋W5＋W6)。
W4/(W3＋W4)＝0.6 W5/(W3＋W4＋W5)＝0.12 W6/(W3＋W4＋W5＋W6)＝0.03
又，製作包含以下2種材料之光記錄媒體，作為記錄層雙層型光記錄媒體。將該等表示為光記錄媒體(1)及光記錄媒體(2)。
於光記錄媒體(1)中，第1記錄層(1)係以如下方式選定下述各重量比而構成，即，上述化5及化6所示之有機色素的重量W1、W2之重量比W2/(W1＋W2)，及去活劑之重量W5的重量比W5/(W3＋W4＋W5)，進而酞菁色素之重量W6的重量比W6/(W3＋W4＋W5＋W6)。
W2/(W1＋W2)＝0.6 W5/(W1＋W2＋W5)＝0.12 W6/(W1＋W2＋W5＋W6)＝0.03
又，光記錄媒體(2)之第1記錄層(2)係以如下方式選定下述各重量比而構成，即，上述化7及化8所示之有機色素的重量W3、W4之重量比W4/(W3＋W4)，及去活劑之重量W5的重量比W5/(W3＋W4＋W5)，進而酞菁色素之重量W6之重量比W6/(W3＋W4＋W5＋W6)。
W4/(W3＋W4)＝0.4 W5/(W3＋W4＋W5)＝0.12 W6/(W3＋W4＋W5＋W6)＝0.03
另一方面，光記錄媒體(1)之第2記錄層(1)係以如下方式選定下述各重量比而構成，即，上述化5及化6所示之有機色素之重量W1、W2的重量比W2/(W1＋W2)，以及去活劑之重量W5的重量比W5/(W3＋W4＋W5)，進而酞菁色素之重量W6的重量比W6/(W3＋W4＋W5＋W6)。
W2/(W1＋W2)＝0.4 W5/(W1＋W2＋W5)＝0.12 W6/(W1＋W2＋W5＋W6)＝0.03
進而，光記錄媒體(2)之第2記錄層(2)係以如下方式選定下述各重量比而構成，即，上述化7及化8所示之有機色素之重量W3、W4的重量比W4/(W3＋W4)，及去活劑之重量W5的重量比W5/(W3＋W4＋W5)，進而酞菁色素之重量W6的重量比W6/(W3＋W4＋W5＋W6)。
W4/(W3＋W4)＝0.2 W5/(W3＋W4＋W5)＝0.12 W6/(W3＋W4＋W5＋W6)＝0.03
將以上述材料構成而製作之各光記錄媒體之各記錄層的抖動值表示於下述表1及表2中。
根據DVD＋R、及DVD＋RDL之規格，最佳記錄功率下之抖動的上限值為9%，故可知上述所有組合，對應單層、及雙層追記型DVD媒體而言，自低速記錄至高速記錄均具有非常良好之抖動特性。
其次，將為確認記錄資訊之保存可靠性而進行之加速測試的結果示於圖7中。測試條件為設溫度為70℃，濕度為85%，對於第1記錄層及第2記錄層中分別製作下述2種混合膜作為樣品，即，於以上述化5及上述化6所示之結構式所表示的有機色素中添加有酞菁色素及去活劑之混合膜，或於以上述化7及上述化8所示之結構式所表示的有機色素中添加有酞菁色素及去活劑之混合膜，且分別進行耐久測試。其結果，確認包含以上述化5及化6所示之結構式所表示的材料之第2記錄層，於第150小時時，抖動超過12%而劣化，除此以外，至400小時為止均保持良好之抖動。因此可知，於第1記錄層中，可使用包含以上述化1及上述化2所示之通式所表示的有機色素之材料，或者可使用包含以上述化3及上述化4所示之通式所表示的有機色素之材料，對於第2記錄層而言，可藉由形成包含以上述化3及上述化4所示之通式所表示的有機色素之記錄層，而獲得記錄資訊之保存可靠性優異之光記錄媒體。
又，製作包含以上述化3及化4所示之通式所表示的有機色素之記錄層為單層的光記錄媒體，且進行同樣之耐久測試，其結果，同樣可獲得400小時以上之耐久性。因此，記錄層為單層之光記錄媒體，可藉由於記錄層中使用包含以上述化3及化4所示之通式所表示的有機色素之材料，而獲得耐久性優異且記錄播放特性良好之光記錄媒體。
其次，將對記錄層雙層型之光記錄媒體中的第1及第2記錄層之各溝槽的槽深度D(L0)、D(L1)進行研究之結果表示於圖8中。使用利用與前文所述之光記錄媒體(1)之第1記錄層(1)、及第2記錄層(1)之組成相同的重量比而形成各記錄層之光記錄媒體，對溝槽之槽深度D(L0)、D(L1)分別為130 nm≦D(L0)、D(L1)≦190 nm的區域中之2.4倍速記錄時的抖動谷值加以測定。其結果，根據圖8可知，於第1記錄層、第2記錄層之130 nm≦D≦190 nm之範圍中，抖動值均足以小於9%。因此，可知信號特性良好之溝槽深度為：130 nm≦D(L0)≦190 nm及130 nm≦D(L1)≦190 nm。
於此情形時，抖動可達到8%以下。
進而，為將抖動抑制在7%左右，較理想的是140 nm≦D(L0)≦180 nm 140 nm≦D(L1)≦180 nm。
又，亦對溝槽寬度Wg加以研究。使用與前文所述之光記錄媒體(1)之第1記錄層及第2記錄層相同之組成而形成的記錄層，將第1及第2記錄層之溝槽的槽深度D(L0)及D(L1)分別設為D(L0)＝160 nm、D(L1)＝160 nm，而對各自之溝槽寬度Wg(L0)、Wg(L1)進行研究。設記錄條件為2.4倍速記錄，且將相對於各寬度而將最佳記錄功率下之抖動值繪製成曲線的結果表示於圖9中。根據該圖9可知，可獲得小於9%之抖動的溝槽寬度Wg(L0)、Wg(L1)之條件為160 nm≦Wg(L0)≦300 nm及140 nm≦Wg(L1)≦300 nm。
進而，為使抖動為8%以下，較理想的是170 nm≦Wg(L0)≦290 nm及150 nm≦Wg(L1)≦290 nm，為使抖動為7%以下，較理想的是180 nm≦Wg(L0)≦270 nm及170 nm≦Wg(L1)≦280 nm。
其次，對第1記錄層、第2記錄層各自之有機色素之調配比的最佳範圍進行研究。溝槽之槽深度分別如下設定，即，於第1記錄層中D(L0)＝160 nm，於第2記錄層中D(L1)＝160 nm，又，設溝槽之槽寬度於第1記錄層中設為Wg(L0)＝220 nm，於第2記錄層中設為Wg(L1)＝220 mn。首先，對以上述化1及化2所示之通式所表示之有機色素的重量W1與W2之調配比、及以上述化3及化4所示之通式所表示之有機色素的重量W3與W4之調配比進行研究。由於該等調配比主要依存於記錄靈敏度，故對相對於調配比之2.4倍速記錄時的記錄靈敏度Po(2.4X)進行了評估。
將其結果表示於圖10中。
記錄靈敏度根據上述化1~化4所示之有機色素的調配比之變化而變化，但若靈敏度過高，則存在於進行播放時於播放功率下會引起資料劣化之危險。因此，較理想的是記錄靈敏度之下限為20 mW以上。又，根據DVD＋R DL之規格，記錄靈敏度之上限為30 mW，故記錄靈敏度之較好範圍為20 mW≦Po(2.4X)≦30 mW。
根據圖10可知，於第1記錄層中滿足該條件之調配比例為0.5≦W2/(W1＋W2)≦0.9及0.4≦W4/(W3＋W4)≦0.8。
又，可知於第2記錄層中滿足該條件之調配比例為0.1≦W4/(W3＋W4)≦0.5。
其次，說明對去活劑之重量比加以研究之結果。通常，菁色素之耐光性較差，但可藉由於記錄層中添加去活劑而克服此問題。於圖11中表示使用日本化藥(株)製造之IRG022作為去活劑時耐光性測試前後的抖動變化量。此時，於第1記錄層中，使用含有以上述化1及化2所示之通式所表示之有機色素之材料(設各有機色素之重量為W1、W2)，於第2記錄層中，使用含有以上述化3及化4所示之通式所表示的有機色素之材料(設各有機色素之重量為W3、W4)，且分別將其組成比設為W2/(W1＋W2)＝0.6、W4/(W3＋W4)＝0.4。耐光性測試係以下述方式進行，即，於ATLAS公司製造之SUNTEST CPS＋中，自光記錄媒體之記錄面側照射氙氣燈，直至相當於Blue Scale(JIS規格)之5級褪色為止。根據圖11可知，燈照射前後之抖動相對於去活劑之添加量的變化量如下，當添加量為0.05以上時，抖動減小至2~3%左右。因此，去活劑之添加量較好的是，第1記錄層、第2記錄層均在下述範圍中選定0.05≦W5/(W1＋W2＋W5)≦0.30 0.05≦W5/(W3＋W4＋W5)≦0.30。
再者，由於加入去活劑會使色素材料之重量比相對減少，故而存在抖動谷值上升，調變度降低之傾向。為將該影響抑制至更低，較好的是儘量減少去活劑之添加量，故去活劑之重量比更理想的是0.05≦W5/(W1＋W2＋W5)≦0.20 0.05≦W5/(W3＋W4＋W5)≦0.20。
進而，為抑制由光引起之劣化，而嘗試以酞菁色素替換上述去活劑IRG022之一部分，以此改善記錄信號之耐光性。通常，酞菁色素對於光較穩定，故期待可使資料之記錄部與未記錄部之分界部對於光穩定化。以下之研究中所使用之光記錄媒體，作為一例係使用作為適合高速記錄之CD－R的記錄膜材料而廣泛應用的Ciba Specialty Chemicals(株)公司製造之Ultra Green MX(商品名)。記錄膜材料之調配比例為，將第1記錄層設為含有以上述化1及化2所示之通式所表示的有機色素之材料(設各有機色素之重量為W1、W2)，將第2記錄層設為含有以上述化3及化4所示之通式所表示的有機色素之材料(設各有機色素之重量為W3、W4)，且設其組成比分別如下，即，將第1記錄層設為W2/(W1＋W2)＝0.6，將第2記錄層設為W4/(W3＋W4)＝0.4。又，準備如下光記錄媒體，若將上述去活劑之重量設為W5，則設其重量比於第1記錄層中為W5/(W1＋W2＋W5)＝0.13，於第2記錄層中為W5/(W3＋W4＋W5)＝0.13，且相對於該等而改變Ultra Green MX(商品名)之重量比而添加該Ultra Green MX作為酞菁色素。於此情形時，耐光性測試係以下述方式進行，即，於ATLAS公司製造之SUNTEST CPS＋中，自光記錄媒體之記錄面側照射氙氣燈，直至相當於Blue Scale(JIS規格)之5級褪色為止。其結果如圖12所示，可知可藉由添加重量比為0.01以上之酞菁色素，而將抖動變化抑制為2%以下。因此，酞菁色素之添加量較理想的是，於第1記錄層、第2記錄層中均於下述範圍內選定0.01≦W6/(W1＋W2＋W5＋W6)≦0.10 0.01≦W6/(W3＋W4＋W5＋W6)≦0.10。
於以上之研究例中，使用上述Ultra Green MX(商品名)作為酞菁色素，但本發明者確認使用對於光較穩定之其他酞菁亦可獲得相同之效果。
再者，與去活劑同樣，於添加酞菁色素之情形時，色素材料之重量比亦相對降低，故亦存在抖動谷值上升，而調變度下降之傾向。為將該影響抑制至更低，較好的亦是儘量減少酞菁色素之添加量，因此酞菁色素之重量比較理想的是：0.01≦W6/(W1＋W2＋W5＋W6)≦0.07 0.01≦W6/(W3＋W4＋W5＋W6)≦0.07。
其次，對記錄層之膜厚所對應之光學濃度(OD)進行研究。以下之例中，將第1記錄層設為含有以上述化1及化2所示之通式所表示的有機色素之材料(設各有機色素之重量為W1、W2)，將第2記錄層設為含有以上述化3及化4所示之通式所表示的有機色素之材料(設各有機色素之重量為W3、W4)，又，分別添加日本化藥(株)製造之IRG022(設重量為W5)作為去活劑，添加Ciba Specialty Chemicals(株)公司製造之Ultra Green MX(商品名)(設重量為W6)作為酞菁色素。上述各材料之組成比，於第1記錄層中分別設為W2/(W1＋W2)＝0.6 W5/(W1＋W2＋W5)＝0.13 W6/(W1＋W2＋W5＋W6)＝0.03，於第2記錄層中設為W4/(W3＋W4)＝0.4 W5/(W3＋W4＋W5)＝0.13 W6/(W3＋W4＋W5＋W6)＝0.03。
使第1記錄層、第2記錄層各層之光學濃度OD在0.3至0.75之範圍內變化，測定2.4倍速記錄時之抖動谷值。其結果示於圖13。根據圖13可知，將第1記錄層及第2記錄層之光學濃度OD分別設為OD(L0)、OD(L1)時，藉由於如下範圍內進行選定0.35≦OD(L0)≦0.70 0.35≦OD(L1)≦0.70，可使抖動特性良好。
再者，為使抖動為8%以下，較理想的是使第1記錄層之光學濃度OD(L0)為0.4≦OD(L0)≦0.65，進而，為使抖動為7%以下，更理想的是0.45≦OD(L0)≦0.60 0.40≦OD(L1)≦0.65。
其次，於與上述使光學濃度OD變化之例同樣對第1及第2記錄層之組成比進行選定而製作的光記錄媒體中，將光學濃度OD(L0)、OD(L1)均設為0.50，測定反射率相對於半透射反射膜之膜厚變化的變化。於記錄層雙層型之光記錄媒體中，第1記錄層必須可進行記錄及透過兩者，故形成為非常薄之膜。因此，成膜時粒徑較大之純Ag膜，無法於形成間隔層時保護色素膜，故而於本發明中，半透射反射膜之材料必須使用粒徑較小之Ag合金。由於最受半透射反射膜之膜厚影響的係反射率，故對第1記錄層及第2記錄層各層之反射率相對於膜厚的變化進行評估。並且，將其結果示於圖14。可知，由於滿足DVD＋R DL規格之反射率為16%以上，故而較理想的是，半透射反射膜包含Ag合金，且其膜厚T為11 nm≦T≦16 nm。
如上所述，根據本發明可提供一種實用性光記錄媒體，其於使用有菁系色素之單層型光記錄媒體、或利用2P法製造之雙層記錄型光記錄媒體中，於DVD規格之1倍速至8倍速之變化範圍較大的記錄速度下，均可獲得分別充分滿足追記型單層DVD、追記型雙層DVD規格之信號特性，並且，尤其是於第2記錄層中，記錄資訊之保存耐久性不存在問題。
其次，就於利用反向堆疊法而製造之光記錄媒體中應用本發明之示例進行說明。
於圖15中，表示於利用反向堆疊法而製造之光記錄媒體中應用本發明之一實施形態例的概略剖面結構圖。於該例中，於包含PC(聚碳酸酯)等之透光性第1基板11上，積層形成有含有有機色素之第1記錄層12、包含銀合金等之半透射性反射層13、包含UV(紫外線)硬化樹脂等之透光性材料部25、介電體層24、含有有機色素之第2記錄層23、包含銀合金等之反射層22、以及第2基板21。對於如此之光記錄媒體自基板11側照射記錄或播放用之光L，藉此進行記錄或播放。
再者，於該光記錄媒體中，所謂透光性材料部25，係以所需之透過率而使記錄及播放用之波長頻帶的透光之材料即可，例如，亦可形成將介電體層及UV硬化樹脂進行積層之構造。於此情形時，既可使具有所需之透光性的介電體層插入半透射性反射層3與透光性材料部25之間，或者亦可如後文所述，並不使介電體層24插入第2記錄層24與透光性材料部25之間。於使介電體層插入第2記錄層24與透光性材料部25之間之情形時，與上述利用2P法而製造之光記錄媒體同樣，可抑制透光性材料部對記錄層之影響，提昇耐久性。
參照圖16A~圖16C及圖17之製造步驟圖，對該光記錄媒體之製造方法之一實施形態例進行說明。
如圖16A所示，首先，準備透光性第1基板11，該透光性第1基板11具有具備特定軌距及深度之溝槽11G，且包含PC等。該第1基板11係藉由例如射出成型等進行製造。並且，於其上藉由旋塗法等塗佈第1記錄層12，進而藉由濺鍍法而積層半透射反射層13。
並且，如圖16B所示，準備獨立於第1基板11之第2基板21。於該第2基板21上，預先藉由射出成形等，形成與上述第1基板11上所形成之溝槽11G具有反極性之溝槽21G。繼而，於該第2基板21上，藉由濺鍍法而形成反射層22，且於其上藉由旋塗法等而形成第2記錄層23，進而於其上形成介電體層24作為保護層。
即，於此情形時，根據圖16B可知，首先利用濺鍍法等物理成膜法，於溝槽21G上使反射層22成膜，藉此，反射層22以循著溝槽21G之凹凸形狀的凹凸形狀而形成。相對於此，於利用上述2P法之情形時，第2記錄層包含含有有機色素之液狀材料，藉由塗佈等而形成該第2記錄層，之後使反射層成膜，藉此，反射層與第2記錄層同樣，以較溝槽之凹凸形狀平緩之形狀而形成。
並且，如圖16C所示，分別形成有第1及第2記錄層12及23之基板11及21，於使半透射反射層13與第2記錄層23上之介電體層24對向之狀態下，介隔UV硬化樹脂等透光性材料部25，如箭頭b及c所示而接合各基板，並且藉由例如紫外線照射而使透光性材料部25硬化，使得第1及第2基板11及21牢固接著，藉此，如圖17所示，可製造出利用有反向堆疊法之記錄層雙層型結構的光記錄媒體。於此情形時，使記錄或播放用之光Li自第1基板11側入射，以進行記錄或播放。又，透光性材料部25成為所謂之間隔層。
再者，於此情形時，對於介電體層24而言，於使用例如UV樹脂作為透光性材料部25時，其係為使第2記錄層23與液狀UV樹脂等不混合而設置者，於使用例如片狀UV硬化樹脂等作為透光性材料部25之情形時，由於不存在與第2記錄層12相混合之危險，故而亦可不形成介電體層。於此情形時，可於使半透射反射層13與第2記錄層23對向之狀態下，介隔片狀等固體之透光性材料部25而進行接合板，從而獲得光記錄媒體。
其次，藉由如此之製造方法而製造本發明構成之光記錄媒體，且說明對其特性進行研究之結果。
以下之例中，準備厚度為0.575 mm之包含PC的基板，作為第1基板11，於其上使包含後文所述之材料的第1記錄層12成膜，且於其上藉由濺鍍法而積層銀合金之半透射反射層13。其次，於形成有與第1基板11上之溝槽11G具有反極性的第2記錄層用之溝槽21G的第2基板21上，藉由濺鍍法而形成包含Ag合金之反射層22，其後藉由旋塗法而塗佈形成包含後文所述之材料的第2記錄層，進而藉由濺鍍法而積層厚度例如為10 nm之包含ZnS系材料之介電體層，作為保護膜。其後，介隔厚度為50 μm之透光性材料部、即所謂間隔層，藉由例如UV照射而使該等第1及第2基板11及21硬化且加以貼合，從而製作出光記錄媒體。
上述第1及第2記錄層12及23之塗佈過程中所使用之塗佈液，係使用將有機色素溶解於作為塗佈溶劑之四氟丙醇(TFP)中而獲得者。作為記錄層之材料中所使用之有機色素，分別使用具有上述化5所示之結構式的色素，作為上述化1所示之通式中的一例，使用具有上述化6所示之結構式的色素，作為上述化2所示之通式中的一例，使用具有上述化7所示之結構式的色素，作為上述化3所示之通式中的一例，進而，使用具有上述化8所示之結構式的色素，作為上述化4所示之通式中的一例。又，去活劑之一例係使用日本化藥(株)製造之IRG022(商品名)，酞菁色素之一例係使用廣泛應用於高速記錄用CD－R之記錄膜中的Ciba Specialty Chemicals(株)公司製造之Ultra Green MX(商品名)。
關於第1及第2記錄層之光學濃度OD(L0)、OD(L1)，當將吸收之最大波長λmax之透過率設為T時，定義為OD＝－log(T)，且均設為0.50。所使用之第1基板11，製成圖18之概略剖面結構圖所示之形狀，作為其一例，軌距Tp設為0.74 um，溝槽11G之槽深度D(L0)及寬度Wg(L0)分別設為160 nm、220 nm。將溝槽之槽寬度Wg(L0)定義為側面傾斜之槽部之底邊的寬度。又，形成於第2基板21上之第2記錄層23用之溝槽21G，製成圖19之概略剖面結構圖所示之形狀，作為其一例，設軌距Tp設為0.74 μm，溝槽21G之槽深度D(L1)及寬度Wg(L1)分別設為25 nm、370 nm。於此情形時，由於基板21側上下顛倒而積層於基板11上，故成為凹凸顛倒之圖案的反極性，因此將作為記錄軌道之溝槽21G的寬度Wg(L1)定義為凸部之上邊的寬度。
再者，根據圖18及圖19可知，將設置於第2基板21上之溝槽21G的深度，選定為淺於設置於第1基板11上的溝槽11G。
其理由如下。由於第2基板21係如上所述上下顛倒而接合於第1基板上，故而記錄軌道變成溝槽21G之凸部。因此，當藉由塗佈等而使液狀有機色素材料形成於溝槽21G上時，若該溝槽深度不相對較淺，則無法確保凸部之有機色素材料的厚度，而無法獲得良好之記錄播放特性。
此處，選定溝槽21G之溝槽深度為25 nm左右作為一例。
對上述構成之光記錄媒體之信號的記錄播放，係使用Pulstec工業(株)製造之ODU．1000。該評估機之雷射光之波長為650 nm，NA為0.65，隨機記錄DVD中所使用之EFM plus信號，而測定播放信號之抖動值。記錄條件為，使用DVD＋R DL之Pulse Strategy，且設為2.4倍速記錄(線速為9.2 m/s)，並對相對於以1倍速進行播放時之記錄功率的抖動值加以測定。第2記錄層，係於對第1記錄層進行記錄後加以記錄。抖動值，由於其表示播放時之記錄標記與間隔在時間軸上之不均，故而成為表示所記錄之標記及間隔之精度的指標，抖動值越小，意味著信號品質越高。於下述表3中，表示最佳記錄功率下之2.4倍速記錄時之抖動值。
上述表3中，將上述化1所示之有機色素即該例中上述化5所示之有機色素的重量設為W1，將上述化2所示之有機色素即該例中上述化6所示之有機色素的重量設為W2，將上述化3所示之有機色素即該例中上述化7所示之有機色素的重量設為W3，將上述化4所示之有機色素即該例上述化8所示之有機色素的重量設為W4，將上述去活劑之重量設為W5，將上述酞菁色素之重量設為W6時，使各記錄層中之各材料的重量比為下述條件而進行製作。
即，於此情形時，對於第1記錄層12而言，將上述材料之重量比設為W2/(W1＋W2)＝0.6 W5/(W1＋W2＋W5)＝0.12 W6/(W1＋W2＋W5＋W6)＝0.03，對於第2記錄層而言，將上述材料之重量比設為W4/(W3＋W4)＝0.4 W5/(W3＋W4＋W5)＝0.12 W6/(W3＋W4＋W5＋W6)＝0.03。
根據DVD＋R DL之規格，最佳記錄功率下之抖動之上限值為9%，據此可知本實施形態例之光記錄媒體之第1及第2記錄層，作為雙層追記型DVD媒體均具有非常良好之抖動特性。
再者，如上所述，於利用反向堆疊法之情形時，必須使第2基板之溝槽深度相對較淺，於上述之例中可知，於使第2基板之溝槽深度與第1基板同為160 nm，以此構成光記錄媒體之情形時，抖動達到20%，且無法確保作為記錄軌道之第2基板上之凸部的記錄層膜厚，故無法獲得實用之記錄播放特性。
其次，就第2記錄層之溝槽寬度Wg(L1)進行研究。使用與前文所述之第1及第2記錄層相同之組成的記錄層，將第2記錄層之溝槽之溝槽深度設為D(L1)＝25 nm，對第2記錄層之溝槽寬度Wg(L1)進行研究。記錄條件設為2.4倍速記錄，且相對於各寬度將最佳記錄功率下之抖動值繪製成曲線。其結果示於圖20。根據圖20可知，藉由於如下範圍內選定可獲得小於9%之抖動的溝槽寬度Wg(L1)之條件190 nm≦Wg(L1)≦550 nm，可獲得良好之抖動特性。
又，可以認為，為進一步將抖動抑制在8%以內，較理想的是200 nm≦Wg(L1)≦550 nm，為使抖動為7%以內，更理想的是250 nm≦Wg(L1)≦500 nm。
其次，對記錄膜之膜厚所對應之光學濃度(OD)進行研究。以下之例中，對於第1記錄層、第2記錄層之色素的調配比而言，設為與上述表3中所說明之例相同的組成比，使第2記錄層之光學濃度OD(L1)於0.62至0.95之範圍內變化，且將2.4倍速記錄時之抖動值繪製成曲線。其結果示於圖21。根據圖21可知，當將可獲得小於9%之抖動的光學濃度OD(L1)之範圍選定如下時0.7≦OD(L1)<1.0，可獲得良好之抖動特性。
又，為使抖動為8%以內，較理想的是0.75≦OD(L1)<1.0，
進而，為使抖動為7%以內，更理想的是0.8≦OD(L1)<1.0。
如上所述，根據本發明可知，於使用菁系色素且藉由反向堆疊法而製造之雙層記錄型之光記錄媒體中，於DVD規格之1倍速至8倍速之範圍較大的記錄速度下，均可獲得分別充分滿足追記型單層DVD、追記型雙層DVD規格的信號特性。又確認，於此情形時，與藉由2P法而製造之光記錄媒體同樣，亦可於第2記錄層中確保記錄資訊之保存耐久性。
再者，本發明之光記錄媒體並不限定於上述各例，將記錄層為單層之本發明構成之光記錄媒體應用於依照DVD＋R型之規格或大致依照DVD＋R型之規格的光記錄媒體中、或者依照DVD－R型之規格或大致依照DVD－R型之規格的光記錄媒體中之情形時，亦可獲得相同之效果。
又，將記錄層為雙層之本發明構成的光記錄媒體應用於依照DVD＋R DL型之規格或大致依照DVD＋R DL型之規格的光記錄媒體中、或者依照DVD－R DL型之規格或大致依照DVD－R DL型之規格的光記錄媒體中之情形時，亦可獲得相同之效果。
於下述表4及表5中，表示DVD＋R型及DVD＋R DL型光記錄媒體、與DVD－R型及DVD－R DL型光記錄媒體的各規格之包括記錄播放用波長、聚光透鏡之數值孔徑、1倍速線速、最短標記長、軌距之公差的數值，進而，表示包括折射率為1.58時的基板或第1基板之厚度、保護層或第2基板之厚度、間隔層(透光性材料層或透光性材料部)之厚度的公差之數值。
再者，於上述表4及表5中，所謂DVD＋R及DVD＋R DL之記錄及播放用光波長655 nm＋10 nm/－5 nm，係表示公差為＋10 nm及－5 nm，同樣地，所謂DVD－R及DVD－R DL之記錄用光波長650 nm＋10 nm/－5 nm，係表示公差為＋10 nm及－5 nm。
又，本發明之光記錄媒體及其製造方法，並不限定於上述各實施形態例中所說明之光記錄媒體，勿庸置疑，例如記錄層以外之基板、保護層及介電體層之材料構成等，亦可於不脫離本發明構成之範圍內，進行各種變形及變更。
根據本發明之光記錄媒體及其製造方法，於以有機色素製成記錄層之光記錄媒體中，可確保良好之記錄播放特性及記錄資訊之保存可靠性。
尤其是，於記錄層為雙層結構之光記錄媒體中，利用含有上述化3及化4所示之通式所表示的有機色素之材料而構成第2記錄層，可確保第2記錄層中之良好的記錄播放特性及記錄資訊之保存可靠性。
1、11．．．第1基板
1G、4G、11G、21G．．．溝槽
2、12．．．第1記錄層
3、13．．．半透射性反射層
4．．．透光性材料層
5．．．壓模
6、23．．．第2記錄層
7、22、33．．．反射層
8、34．．．保護層
21．．．第2基板
24．．．介電體層
25．．．透光性材料部
31．．．基板
32．．．記錄層
圖1係本發明之一實施形態例之光記錄媒體的概略剖面結構圖。
圖2A~圖2C係本發明之一實施形態例之光記錄媒體的製造方法之概略製造步驟圖。
圖3A、圖3B係本發明之一實施形態例之光記錄媒體的製造方法之一製造步驟圖。
圖4係本發明之一實施形態例之光記錄媒體的主要部分之概略剖面結構圖。
圖5係本發明之一實施形態例之光記錄媒體的主要部分之概略剖面結構圖。
圖6係本發明之一實施形態例之光記錄媒體的主要部分之概略剖面結構圖。
圖7係表示對本發明之實施形態例及比較例之光記錄媒體的耐久性加以研究而獲得之結果之圖。
圖8係表示本發明之實施形態例之光記錄媒體之溝槽深度與抖動的關係之圖。
圖9係表示本發明之實施形態例之光記錄媒體之溝槽寬度與抖動的關係之圖。
圖10係表示本發明之實施形態例之光記錄媒體的記錄層材料之重量比與記錄靈敏度之關係之圖。
圖11係表示本發明之實施形態例之光記錄媒體的記錄層中之去活劑之重量比與抖動變化的關係之圖。
圖12係表示本發明之實施形態例之光記錄媒體的記錄層中之去活劑之重量比與抖動變化的關係之圖。
圖13係表示本發明之實施形態例之光記錄媒體的記錄層之光學濃度與抖動的關係之圖。
圖14係表示本發明之實施形態例之光記錄媒體的半透射反射層之膜厚與反射率的關係之圖。
圖15係本發明之一實施形態例之光記錄媒體的概略剖面結構圖。
圖16A~圖16C係本發明之一實施形態例之光記錄媒體的製造方法之概略製造步驟圖。
圖17係本發明之一實施形態例之光記錄媒體的製造方法之一製造步驟圖。
圖18係本發明之一實施形態例之光記錄媒體的主要部分的概略剖面結構圖。
圖19係本發明之一實施形態例之光記錄媒體的主要部分的概略剖面結構圖。
圖20係表示本發明之實施形態例之光記錄媒體的溝槽寬度與抖動之關係之圖。
圖21係表示本發明之實施形態例之光記錄媒體的記錄層之光學濃度與抖動的關係之圖。
1．．．第1基板
2．．．第1記錄層
3．．．半透射性反射層
4．．．透光性材料層
6．．．第2記錄層
7．．．反射層
8．．．保護層
L．．．光

Claims (34)

  1. 一種光記錄媒體，其係於透光性基板上，至少形成第1記錄層、半透射性反射層、透光性材料層、第2記錄層、以及反射層而成者，且上述第1及第2記錄層含有有機色素，其特徵在於：於上述第1記錄層中，至少含有以下述化1所示之通式(式中，R1表示碳數為1~4之烷基，R2、R3分別表示碳數為1~4之烷基、苯甲基或連結而形成3~6員環之基，Y1、Y2分別獨立地表示有機基，X表示ClO4 、BF4 、PF6 或SbF6 )所表示的有機色素、以及以下述化2所示之通式(式中，R1、R4表示碳數為1~4之烷基，R2、R3分別表示碳數為1~4之烷基、苯甲基或連結而形成3~6員環之基，Y1、Y2分別獨立地表示有機基，X表示ClO4 、BF4 、PF6 或SbF6 )所表示的有機色素，或者，於第1記錄層中，至少含有以下述化3所示之通式(式中，R1及R2表示碳數為1~4之烷基，Y1、Y2分別獨立地表示有機基，X表示ClO4 、BF4 、PF6 或SbF6 )所表示的有機色素、以及以下述化4所示之通式(式中，R1、R4表示碳數為1~4之烷基，R2、R3表示碳數為1~4之烷基、或連結而形成3~6員環之基，Y1、Y2分別獨立地表示有機基，X表示ClO4 、BF4 、PF6 或SbF6 )所表示的有機色素，於上述第2記錄層中，至少含有以下述化3所示之通式所表示的有機色素、及以下述化4所示之通式所表示的有機色素： [化4]
  2. 如請求項1之光記錄媒體，其中設置於上述基板上之上述第1記錄層的溝槽之槽深度D(L0)為130nm≦D(L0)≦190nm。
  3. 如請求項1之光記錄媒體，其中設置於上述基板上之上述第1記錄層的溝槽之槽寬度Wg(L0)為160nm≦Wg(L0)≦300nm。
  4. 如請求項1之光記錄媒體，其中設置於上述透光性材料層上之上述第2記錄層的溝槽之槽深度D(L1)為130nm≦D(L1)≦190nm。
  5. 如請求項1之光記錄媒體，其中設置於上述透光性材料層上之上述第2記錄層的溝槽之槽寬度Wg(L1)為140nm≦Wg(L1)≦300nm。
  6. 如請求項1之光記錄媒體，其中上述化1所示之有機色素為具有下述化5所示之結構式的材料：[化5]
  7. 如請求項1之光記錄媒體，其中上述化2所示之有機色素為具有下述化6所示之結構式的材料：
  8. 如請求項1之光記錄媒體，其中上述化3所示之有機色素為具有下述化7所示之結構式的材料：[化7]
  9. 如請求項1之光記錄媒體，其中上述化4所示之有機色素為具有下述化8所示之結構式的材料：
  10. 如請求項1之光記錄媒體，其中於上述第1記錄層中，上述化1所示之有機色素之重量設為W1，上述化2所示之有機色素之重量設為W2時，其重量比為0.5≦W2/(W1+W2)≦0.9，或者，上述化3所示之有機色素的重量設為W3，上述化4所示之有機色素的重量設為W4時，其重量比為0.4≦W4/(W3+W4)≦0.8。
  11. 如請求項1之光記錄媒體，其中於上述第1記錄層中添加 有去活劑。
  12. 如請求項11之光記錄媒體，其中於上述第1記錄層中，上述化1所示之有機色素之重量設為W1，上述化2所示之有機色素之重量設為W2，上述去活劑之重量設為為W5時，其重量比為0.05≦W5/(W1+W2+W5)≦0.30，或者，上述化3所示之有機色素之重量設為W3，上述化4所示之有機色素之重量設為W4，上述去活劑之重量設為W5時，其重量比為0.05≦W5/(W3+W4+W5)≦0.30。
  13. 如請求項1之光記錄媒體，其中於上述第1記錄層中添加有酞菁色素。
  14. 如請求項13之光記錄媒體，其中於上述第1記錄層中，上述化1所示之有機色素之重量設為W1，上述化2所示之有機色素之重量設為W2，去活劑之重量設為W5，上述酞菁色素之重量設為W6時，其重量比為0.01≦W6/(W1+W2+W5+W6)≦0.10，或者，上述化3所示之有機色素之重量設為W3，上述化4所示之有機色素之重量設為W4，上述去活劑之重量設為W5，上述酞菁色素之重量設為W6時，其重量比為0.01≦W6/(W3+W4+W5+W6)≦0.10。
  15. 如請求項1之光記錄媒體，其中上述第1記錄層所吸收之最大波長下之光學濃度設為OD(L0)時，OD(L0)為0.35≦OD(L0)≦0.70。
  16. 如請求項1之光記錄媒體，其中於上述第2記錄層中，上述化3所示之有機色素之重量設為W3，上述化4所示之有機色素之重量設為W4時，其重量比為0.1≦W4/(W3+W4)≦0.5。
  17. 如請求項1之光記錄媒體，其中於上述第2記錄層中添加有去活劑。
  18. 如請求項17之光記錄媒體，其中於上述第2記錄層中，上述化3所示之有機色素之重量設為W3，上述化4所示之有機色素之重量設為W4，上述去活劑之重量設為W5時，其重量比為0.05≦W5/(W3+W4+W5)≦0.30。
  19. 如請求項1之光記錄媒體，其中於上述第2記錄層中添加有酞菁色素。
  20. 如請求項19之光記錄媒體，其中於上述第2記錄層中，上述化3所示之有機色素之重量設為W3，上述化4所示之有機色素之重量設為W4，去活劑之重量設為W5，上述酞菁色素之重量設為W6時，其重量比為0.01≦W6/(W3+W4+W5+W6)≦0.10。
  21. 如請求項1之光記錄媒體，其中上述第2記錄層所吸收之最大波長下之光學濃度設為OD(L1)時，OD(L1)為0.35≦OD(L1)≦0.70。
  22. 如請求項1之光記錄媒體，其中上述光記錄媒體之半透射反射層之材料為Ag合金，將其膜厚設為T時，T為11nm≦T≦16nm。
  23. 一種光記錄媒體，其具有至少一層以上之含有有機色素之記錄層，其特徵在於：於上述記錄層中，至少含有以如請求項1所述之上述化3所示之通式(式中，R1、R2表示碳數為1~4之烷基，Y1、Y2分別獨立地表示有機基，X表示ClO4 、BF4 、PF6 或SbF6 )所表示的有機色素、以及以如請求項1所述之上述化4所示之通式(式中，R1、R4表示碳數為1~4之烷基，R2、R3表示碳數為1~4之烷基、或連結而形成3~6員環之基，Y1、Y2分別獨立地表示有機基，X表示ClO4 、BF4 、PF6 或SbF6 )所表示的有機色素。
  24. 一種光記錄媒體之製造方法，其特徵在於：於形成有溝槽之透光性基板上，至少積層形成第1記錄層、及半透射性反射層，於上述半透射性反射層上沈積光硬化性材料層，於將形成有溝槽圖案之壓模按壓於上述光硬化性材料層上之狀態下，照射光而使上述光硬化性材料層硬化，形成透光性材料層，自上述透光性材料層剝離上述壓模後，至少積層形成第2記錄層、及反射層，藉此製造光記錄媒體；並且，於上述第1記錄層中，使用至少含有下述有機色素之材料：以如請求項1所述之上述化1所示之通式(式中，R1表示碳數為1~4之烷基，R2、R3分別表示碳數為1~4之烷基、苯甲基或連結而形成3~6員環之基，Y1、Y2分別獨立地表示有機基，X表示ClO4 、BF4 、PF6 或SbF6 ) 所表示的有機色素、以及以如請求項1所述之上述化2所示之通式(式中，R1、R4表示碳數為1~4之烷基，R2、R3分別表示碳數為1~4之烷基、苯甲基或連結而形成3~6員環之基，Y1、Y2分別獨立地表示有機基，X表示ClO4 、BF4 、PF6 或SbF6 )所表示的有機色素，或者，於上述第1記錄層中，使用至少含有下述有機色素之材料：以如請求項1所述之上述化3所示之通式(式中，R1、R2表示碳數為1~4之烷基，Y1、Y2分別獨立地表示有機基，X表示ClO4 、BF4 、PF6 或SbF6 )所表示的有機色素、以及以如請求項1所述之上述化4所示之通式(式中，R1、R4表示碳數為1~4之烷基，R2、R3表示碳數為1~4之烷基、或連結而形成3~6員環之基，Y1、Y2分別獨立地表示有機基，X表示ClO4 、BF4 、PF6 或SbF6 )所表示的有機色素；並且，於上述第2記錄層中，使用至少含有以如請求項1所述之上述化3所示之通式所表示的有機色素、以及以如請求項1所述之上述化4所示之通式所表示的有機色素之材料。
  25. 一種光記錄媒體，其係以下述方式形成者：於形成有溝槽之透光性第1基板上，至少積層形成第1記錄層、及半透射性反射層，且於形成有與上述溝槽具有反極性之溝槽的第2基板上，至少積層形成反射層、及第2記錄層，並以夾持透光性材料部之方式使上述第1基板上之上述半透射性反射層側與上述第2基板上之上述第2記錄層側 接合，其特徵在於：於上述第1記錄層中，至少含有以如請求項1所述之上述化1所示之通式(式中，R1表示碳數為1~4之烷基，R2、R3分別表示碳數為1~4之烷基、苯甲基或連結而形成3~6員環之基，Y1、Y2分別獨立地表示有機基，X表示ClO4 、BF4 、PF6 或SbF6 )所表示的有機色素、以及以如請求項1所述之上述化2所示之通式(式中，R1、R4表示碳數為1~4之烷基，R2、R3分別表示碳數為1~4之烷基、苯甲基或連結而形成3~6員環之基，Y1、Y2分別獨立地表示有機基，X表示ClO4 、BF4 、PF6 或SbF6 )所表示的有機色素，或者，於上述第1記錄層中，至少含有以如請求項1所述之上述化3所示之通式(式中，R1及R2表示碳數為1~4之烷基，Y1、Y2分別獨立地表示有機基，X表示ClO4 、BF4 、PF6 或SbF6 )所表示的有機色素、以及以如請求項1所述之上述化4所示之通式(式中，R1、R4表示碳數為1~4之烷基，R2、R3表示碳數為1~4之烷基、或連結而形成3~6員環之基，Y1、Y2分別獨立地表示有機基，X表示ClO4 、BF4 、PF6 或SbF6 )所表示的有機色素，且於上述第2記錄層中，至少含有以上述化3所示之通式所表示的有機色素、及以上述化4所示之通式所表示的有機色素。
  26. 如請求項25之光記錄媒體，其中設置於上述光記錄媒體之透光性材料部上的上述第2記錄層之溝槽的槽寬度Wg(L1)為 190nm≦Wg(L1)≦550nm。
  27. 如請求項25之光記錄媒體，其中上述化1所示之有機色素為具有如請求項6所述之上述化5所示之結構式的材料。
  28. 如請求項25之光記錄媒體，其中上述化2所示之有機色素為具有如請求項7所述之上述化6所示之結構式的材料。
  29. 如請求項25之光記錄媒體，其中上述化3所示之有機色素為具有如請求項8所述之上述化7所示之結構式的材料。
  30. 如請求項25之光記錄媒體，其中上述化4所示之有機色素為具有如請求項9所述之上述化8所示之結構式的材料。
  31. 如請求項25之光記錄媒體，其中於上述第2記錄層中添加有去活劑。
  32. 如請求項25之光記錄媒體，其中於上述第2記錄層中添加有酞菁色素。
  33. 如請求項25之光記錄媒體，其中上述第2記錄層所吸收之最大波長下之光學濃度設為OD(L1)時，OD(L1)為0.70≦OD(L1)<1.0。
  34. 一種光記錄媒體之製造方法，其特徵在於：於形成有溝槽之透光性第1基板上，至少積層形成第1記錄層、及半透射性反射層，於形成有與上述溝槽具有反極性之溝槽的第2基板 上，至少積層形成反射層、及第2記錄層，以夾持透光性材料部之方式，使上述第1基板上之上述半透射性反射層側、與上述第2基板上之上述第2記錄層側相接合，藉此製造光記錄媒體；並且，於上述第1記錄層中，使用至少含有下述有機色素之材料：以如請求項1所述之上述化1所示之通式(式中，R1表示碳數為1~4之烷基，R2、R3分別表示碳數為1~4之烷基、苯甲基或連結而形成3~6員環之基，Y1、Y2分別獨立地表示有機基，X表示ClO4 、BF4 、PF6 或SbF6 )所表示的有機色素、以及以所述請求項1所述之上述化2所示之通式(式中，R1、R4表示碳數為1~4之烷基，R2、R3分別表示碳數為1~4之烷基、苯甲基或連結而形成3~6員環之基，Y1、Y2分別獨立地表示有機基，X表示ClO4 、BF4 、PF6 或SbF6 )所表示的有機色素，或者，於上述第1記錄層中，使用至少含有下述有機色素之材料：以如請求項1所述之上述化3所示之通式(式中，R1及R2表示碳數為1~4之烷基，Y1、Y2分別獨立地表示有機基，X表示ClO4 、BF4 、PF6 或SbF6 )所表示的有機色素、以及以如請求項1所述之上述化4所示之通式(式中，R1、R4表示碳數為1~4之烷基，R2、R3表示碳數為1~4之烷基、或連結而形成3~6員環之基，Y1、Y2分別獨立地表示有機基，X表示ClO4 、BF4 、PF6 或SbF6 )所表示的有機色素；並且，於上述第2記錄層中，使用至少含有以如請求 項1所述之上述化3所示之通式所表示的有機色素、以及以如請求項1所述之上述化4所示之通式所表示的有機色素之材料。
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