JP2008217955A - 光記録媒体及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】第1及び第2の情報記録層のいずれからも良好な記録信号特性が得られる、片面記録再生タイプの2層型光記録媒体を提供する。
【解決手段】第1基板上に少なくとも第1色素記録層、第1光反射層を積層した第1の記録構成体と、第2基板上に少なくとも第2光反射層、第2色素記録層、無機保護層を積層した第2の記録構成体とが、前記第1光反射層側と前記無機保護層側とが対向し接着剤層を介して貼り合わされてなり、かつ、前記無機保護層は、ケイ素、酸素および炭素を含み、その組成比SixOyCzが、20≦x≦45、40≦y≦65、1≦z≦30(x、y、zの単位は原子%)である光記録媒体。
【選択図】図1
【解決手段】第1基板上に少なくとも第1色素記録層、第1光反射層を積層した第1の記録構成体と、第2基板上に少なくとも第2光反射層、第2色素記録層、無機保護層を積層した第2の記録構成体とが、前記第1光反射層側と前記無機保護層側とが対向し接着剤層を介して貼り合わされてなり、かつ、前記無機保護層は、ケイ素、酸素および炭素を含み、その組成比SixOyCzが、20≦x≦45、40≦y≦65、1≦z≦30(x、y、zの単位は原子%)である光記録媒体。
【選択図】図1
Description
本発明は、光ビームを照射することにより光記録層に透過率、反射率等の光学的な変化を生じさせて情報の記録、再生を行ない且つ追記が可能な光記録媒体及びその光記録媒体の製造方法に関する。また、本発明は、追記型情報記録層を2つ有する2層DVD(Digital Video Disc又はDigital Versatile Disc)にも応用される光記録媒体及びその光記録媒体の製造方法に関する。
近時、再生専用のDVD−ROMなどの光記録媒体に加えて、記録可能なDVD(DVD+RW、DVD+R、DVD−R、DVD−RW、DVD−RAMなど)が実用化されている。このDVD+R、DVD+RWなどは、従来の記録可能なCD−R、CD−RW(記録型コンパクトディスク)技術の延長上に位置するもので、再生専用DVDとの再生互換性を確保するために、記録密度(トラックピッチ、信号マーク長)と基板厚さがCD条件からDVD条件に合うように設計されている。
例えばDVD+Rでは、CD−Rと同様に、基板上にシアニン色素、アゾ金属キレート色素等の色素系材料をスピンコーティングして光記録層を設け、その背後に金属反射層を設けた情報記録用基板を、貼り合せ材を介して同形状の基板と貼り合せるという構成が採用されている。CD−RはCDの規格を満足する高反射率(65%)を有することが特徴の一つであるが、上記構成により高反射率を得るためには、光吸収層が記録再生光波長で特定の複素屈折率を満足する必要があり、色素の光吸収特性が適している必要がある。これはDVDにおいても同様に必要とされる特性である。
ところで、読み出し専用DVDでは、記録容量を増大させるために2層の情報記録層を有するものが提案されている。第1基板の内側の面には、第1の情報記録層である半透明層が形成されており、第2基板の内側の面には、第2の情報記録層である反射層が形成されている。
半透明層は誘電体膜又は薄い金属膜からなり、反射層は金属膜などからなる。半透明層と反射層を形成した基板表面には凸凹状の記録マークが形成され、これら第1基板と第2基板を紫外線硬化樹脂で形成された透明中間層を介して貼り合わせ、透明な第1基板側からの入射光再生レーザー光を反射・干渉する効果により記録信号を読み取ることができる。2つの情報記録層から信号を読み取るため、最大8.5GB程度の記憶容量が得られる。
また、第1基板及び第2基板の厚みはそれぞれおよそ0.6mmであり、透明中間層の厚みは約50μmである。第1の情報記録層は、その反射率が30%程度となるように形成されており、第2の情報記録層を再生するために照射されるレーザー光は第1の情報記録層で全光量の約30%が反射して減衰したのち、第2の情報記録層で反射し、更に第1の情報記録層で減衰を受けた後、ディスクから出ていく。再生光であるレーザー光を、それぞれ第1の情報記録層又は第2の情報記録層上に焦点が位置するように絞って反射光を検出することにより、それぞれの情報記録層の信号を再生することができる。なお、DVDの場合記録再生に用いるレーザー光波長は約650nmである。
最近になって、2層の色素記録層を有する追記可能なDVDが開発され、グルーブを形成した第1基板上に第1色素記録層、第1半透過反射層を積層し、第1色素記録層を形成した上に紫外線硬化樹脂を塗布し未硬化状態の樹脂にスタンパを密着、紫外線照射により硬化させ剥離することによって第2記録層のグルーブを転写し第2色素記録層、反射層を積層し第2記録層を形成し、第2の基板と貼合わせることにより作製した2P(Photo Polymerization)方式2層追記型DVDが実用化された。また、グルーブを形成した第1基板上に第1色素記録層、第1半透過反射層を積層し第1記録層を形成した第1の基板と、グルーブを形成した第2基板上に反射層、第2色素記録層、保護層を積層し第2記録層を形成した第2の基板とを紫外線硬化樹脂から成る接着層(中間層)により貼り合せることにより作製したIS(Inversed Stack)方式2層追記型DVDも実用化されている(例えば特許文献2)。
通常の記録層を1層しか有さないDVD±R及び2層DVD±RにおけるL0記録層(光入射側からみて近い位置の記録層)のように、透明基板上にスピンコート法により作製された色素を記録層とする光記録媒体では、基板の凹部の色素膜厚が凸部より厚くなっており、記録トラックである凹部に記録する際には凸部の断熱効果により隣接トラックへのピットの広がりが抑制される。
しかし、IS方式2層追記型DVD±RのL1記録層(光入射側からみて奥側に位置する記録層)では、第2基板面にウォブルした凸部を有し(更に必要に応じてアドレス情報を有し)、第2基板上に形成した第2の記録構成体が、反射層、上部保護層、第2色素記録層、下部保護層をこの順に有し、第2基板の凸部を記録トラックとして情報を記録する場合には、十分な信号振幅と反射率を得るために、通常の凹部に記録する場合に比べて平均膜厚を厚くする必要がある。また凸部に形成される色素記録層膜厚が、トラック間である凹部に形成される色素記録層膜厚とほぼ同じか又はやや薄いため、連続するトラックに記録した場合に、記録レーザー照射による加熱及び色素分解時の発熱が隣接トラックに伝達し、記録マークが過度に広がってしまう(熱変形)。この場合、ジッタが増加すると共にウォブル信号品質を悪化させる現象が見られる。特に、上記現象は高速記録の場合により顕著になり、DVD基準線速度(3.83m/sec)の8〜16倍速で記録する場合にはジッタ値を9%の規格値以下にすることは非常に困難である。
通常の記録層を1層しか有さないDVD±R及び2層DVD±RにおけるL0記録層(光入射側からみて近い位置の記録層)のように、透明基板上にスピンコート法により作製された色素を記録層とする光記録媒体では、基板の凹部の色素膜厚が凸部より厚くなっており、記録トラックである凹部に記録する際には凸部の断熱効果により隣接トラックへのピットの広がりが抑制される。
しかし、IS方式2層追記型DVD±RのL1記録層(光入射側からみて奥側に位置する記録層)では、第2基板面にウォブルした凸部を有し(更に必要に応じてアドレス情報を有し)、第2基板上に形成した第2の記録構成体が、反射層、上部保護層、第2色素記録層、下部保護層をこの順に有し、第2基板の凸部を記録トラックとして情報を記録する場合には、十分な信号振幅と反射率を得るために、通常の凹部に記録する場合に比べて平均膜厚を厚くする必要がある。また凸部に形成される色素記録層膜厚が、トラック間である凹部に形成される色素記録層膜厚とほぼ同じか又はやや薄いため、連続するトラックに記録した場合に、記録レーザー照射による加熱及び色素分解時の発熱が隣接トラックに伝達し、記録マークが過度に広がってしまう(熱変形)。この場合、ジッタが増加すると共にウォブル信号品質を悪化させる現象が見られる。特に、上記現象は高速記録の場合により顕著になり、DVD基準線速度(3.83m/sec)の8〜16倍速で記録する場合にはジッタ値を9%の規格値以下にすることは非常に困難である。
このため、IS方式2層追記型DVDでは、第2色素記録層と中間層との間に、第2色素記録層(記録マーク)の熱変形を防止すべく、無機保護層を設けることが知られている。また、色素成分と接着剤成分との混和を防止するために、この無機保護層を設けることも行われている。
例えば、特許文献1には、中間層(接着層)と第2光吸収層の間に第2バリア層(無機保護層)を設けた構成の光記録媒体が開示されている。
特許文献3には、基板上に反射層、色素を含有する記録層及び保護被膜を有し、記録層と保護被膜との間に記録層と保護被膜の混和を防止するための障壁層(無機保護層)が設けられ、前記障壁層が酸化珪素、硫化亜鉛、酸化亜鉛、窒化珪素、炭化珪素、酸化セリウム、酸化イットリウム、硫化イットリウム及び酸化物とイオウの混合物から選ばれた少なくとも1種からなる光記録媒体が開示されている。
特許文献4には、第1基板と、該第1基板上に設けられた少なくとも第1記録層を有する第1情報層と、第2基板と、該第2基板上に設けられた少なくとも反射層、有機色素を含有する第2記録層及び保護層をこの順に有する第2情報層とが、中間層を介して第1記録層及び第2記録層が内側になるように積層された光記録媒体であって、第2記録層に用いた有機色素を熱分熱分解温度、色素の最大吸収波長に関する記載がある。
しかしながら、特許文献1のように、無機保護層に金属を用いた場合には、複素屈折率n−ikの吸収係数が大きくなるため、2組の記録構成体に記録した際に高い反射率と十分な変調度を得ることができなかった。また、特許文献3のように、無機保護層を炭化ケイ素で構成した場合には、スパッタリングにより形成されたアモルファス薄膜の光吸収が大きく、炭化ケイ素を5nm以上の薄膜で光透過膜として機能させようとしても、第2記録構成体からの反射率を高くすることができなかった。
さらに、特許文献3のように、無機保護層を酸化ケイ素で構成した場合には、Siターゲットは割れやすく、またスパッタリングレートが小さいため、短時間で、色素成分と接着剤成分との混和防止に十分な厚さの無機保護層を形成することが困難であった。
さらに、特許文献3のように、無機保護層を酸化ケイ素で構成した場合には、Siターゲットは割れやすく、またスパッタリングレートが小さいため、短時間で、色素成分と接着剤成分との混和防止に十分な厚さの無機保護層を形成することが困難であった。
本発明の目的は、無機保護層を備えた場合にも、高い反射率と十分な変調度を得ることができると共に、その無機保護層が、色素成分と接着剤成分との混和を防止可能な厚さとなるように、スパッタリングにより効率よく形成されることを可能とする光記録媒体を提供することである。
前記課題は、次の(1)〜(4)の発明によって解決される。
(1)第1基板上に少なくとも第1色素記録層、第1光反射層を積層した第1の記録構成体と、第2基板上に少なくとも第2光反射層、第2色素記録層、無機保護層を積層した第2の記録構成体とが、前記第1光反射層側と前記無機保護層側とが対向し接着剤層を介して貼り合わされてなり、かつ、前記無機保護層は、ケイ素、酸素および炭素を含み、その組成比SixOyCzが、20≦x≦45、40≦y≦65、1≦z≦30(x、y、zの単位は原子%)であることを特徴とする光記録媒体。
(2)前記無機保護層の膜厚が5nm以上30nm以下である前記(1)に記載の光記録媒体。
(3)前記(1)又は(2)に記載の光記録媒体の製造方法であって、前記無機保護層を作製する際に、少なくともケイ素および炭素を含むターゲットを用い、かつ少なくとも酸素ガスを導入した反応性スパッタリングを用いることを特徴とする光記録媒体の製造方法。
(4)前記反応性スパッタリングが、直流電圧またはパルス状電圧を印加することによって放電させスパッタリングを行なうものである前記(3)に記載の光記録媒体の製造方法。
(1)第1基板上に少なくとも第1色素記録層、第1光反射層を積層した第1の記録構成体と、第2基板上に少なくとも第2光反射層、第2色素記録層、無機保護層を積層した第2の記録構成体とが、前記第1光反射層側と前記無機保護層側とが対向し接着剤層を介して貼り合わされてなり、かつ、前記無機保護層は、ケイ素、酸素および炭素を含み、その組成比SixOyCzが、20≦x≦45、40≦y≦65、1≦z≦30(x、y、zの単位は原子%)であることを特徴とする光記録媒体。
(2)前記無機保護層の膜厚が5nm以上30nm以下である前記(1)に記載の光記録媒体。
(3)前記(1)又は(2)に記載の光記録媒体の製造方法であって、前記無機保護層を作製する際に、少なくともケイ素および炭素を含むターゲットを用い、かつ少なくとも酸素ガスを導入した反応性スパッタリングを用いることを特徴とする光記録媒体の製造方法。
(4)前記反応性スパッタリングが、直流電圧またはパルス状電圧を印加することによって放電させスパッタリングを行なうものである前記(3)に記載の光記録媒体の製造方法。
請求項1に記載の光記録媒体は、2組の記録構成体を有する光記録媒体において、光入射側からみて奥側の第2の記録構成体の無機保護層が少なくともケイ素、酸素、炭素を特定の割合で含むことで、無機保護層を、記録再生波長(例えば660nm)に対する低屈折率の材料を構成することができ、膜厚変動による反射率、変調度、ジッタ等の変動を極めて小さくすることができる。しかも、スパッタリングレードが高い材料で効率よく形成することが可能となる。このため、短時間で、第2色素記録層の色素成分と接着剤層の接着剤成分との混和防止に十分な厚さの無機保護層を形成することができる。
請求項2に記載の光記録媒体は、前記無機保護層の膜厚を5〜30nmとしたので、2つの記録構成体を接着剤で貼り合わしたときに、前記接着剤が色素記録層に浸透する及び無機保護層を剥離することがなくので、良好な記録信号特性を得ることができる。
請求項3に記載の光記録媒体の製造方法は、珪素素および炭素を含むターゲットを用い、酸素ガスの存在下で反応性スパッタリングを行っているので、所望のSixOyCzからなる無機保護層を形成することができる。
請求項4に記載の光記録媒体の製造方法は、無機保護層の形成を直流電圧またはパルス状電圧を印加することによって放電させ前記反応性スパッタリングを行なっているので、確実に所望のSixOyCzからなる無機保護層を形成することができる。
以下、本発明を図面を参照しながら更に詳細に説明する。
図1は、本発明の光記録媒体の層構成の一例を示す模式的断面図であり、第2基板8/反射層7/第2色素記録層6/無機保護層5/中間層4(接着剤層)/半透明反射層3(第1光反射層)/第1色素記録層2/第1基板1の層構成を有している。
図1は、本発明の光記録媒体の層構成の一例を示す模式的断面図であり、第2基板8/反射層7/第2色素記録層6/無機保護層5/中間層4(接着剤層)/半透明反射層3(第1光反射層)/第1色素記録層2/第1基板1の層構成を有している。
第1の記録構成体100は、第1基板1と、第1色素記録層2と、半透明反射層3とからなる。第2の記録構成体200は、無機保護層(下部保護層)5と、第2色素記録層6と、反射層7と、第2基板8とからなる。そして、本実施形態の光記録媒体は、第1の記録構成体100と、第2の記録構成体200とが、半透明反射層3と無機保護層5とを対向させ且つ中間層4(紫外線硬化型接着剤などの有機樹脂を)介して貼り合わせたものである(IS方式2層追記型DVD).
第1の記録構成体100については、第1色素記録層2、半透明反射層3を形成した第1基板1を単板の第2基板8と貼り合わせた従来の単一記録層媒体(DVD+R、DVD−Rなど)から単板を除いた層構成と同様にすることにより、第1色素記録層2の両界面の多重干渉効果とマーク形成時の第1基板1の変形により反射率と記録信号変調度(コントラスト)を得る。
また、第2の記録構成体200については、基板溝形状と色素の光吸収特性により、必要な反射率と記録信号変調度(コントラスト)を得ると共に、光透過性の無機保護層5を第2色素記録層6と有機樹脂などからなる透明な中間層4との間に配置することにより、有機樹脂などによって色素が溶出することを防止すると共にマーク形状を整えることができる。
また、第2の記録構成体200については、基板溝形状と色素の光吸収特性により、必要な反射率と記録信号変調度(コントラスト)を得ると共に、光透過性の無機保護層5を第2色素記録層6と有機樹脂などからなる透明な中間層4との間に配置することにより、有機樹脂などによって色素が溶出することを防止すると共にマーク形状を整えることができる。
上記のように、本発明は第1の記録構成体100及び第2の記録構成体200を有する光記録媒体であり、無機保護層5が主として特性組成の珪素、炭素、酸素からなる薄膜を用いることにより隣接トラック間のクロストークを減少させ、記録特性、特に高速記録での特性を向上させるとともに保存信頼性の高い光記録媒体とすることができる。また、無機保護層5の膜厚変動による反射率、変調度の均一性を改善することができる。
通常のDVD±R及び2層記録媒体の第1色素記録層(L0)の場合、第1基板の形成された深さ100〜200nmのグルーブを有する面の凹状グルーブ内に厚さ40〜100nmの色素記録層を塗布手段により設ける。その結果、光照射により情報を記録するグルーブ部の色素膜厚は相対的に厚くなり、情報を記録しないランド部の色素膜厚は相対的に薄くなるため、隣接グルーブ間の熱干渉が小さくなっている。熱干渉は記録に用いるレーザーパワーが大きいほど影響が大きく、信号品質、即ちジッタを悪化させる原因となる。したがって、記録速度が速いほど高いパワーが必要となり熱干渉の影響を受け易いことが分かっている。
本発明の構成において、第2色素記録層(L1)6を形成するには、通常のCD−R、DVD±Rとは逆順で、第2基板8上に反射層7をスパッタリングし、この上に第2色素記録層6を塗布し、保護層7をスパッタリングする必要がある。そこで、第2基板8面に交互に並んだランドとグルーブのうち、記録再生ピックアップからみて手前のランド部、即ち第2基板8の凸部の第2色素記録層6に記録することになるが、第2色素記録層6の膜厚は、上記の第1色素記録層2の場合と同様に、グルーブ部の方が相対的に厚くなるため、隣のランドに対する熱拡散の影響がより大きくなり、記録品質を示すジッタが上昇し易い。
本発明は上記のような不具合を生じさせないために、第2色素記録層6と中間層4との間に、色素と接着剤の混和を防止し第2色素記録層6を化学的及び物理的に保護する目的で無機保護層5を設ける必要がある。
無機保護層5の材料としては、金属酸化物、金属窒化物、金属硫化物、金属フッ化物、半導体酸化物、半導体窒化物、極薄の金属、半金属、半導体或いはこれら物質の混合物が使用可能である。
一般的に最も使用されているZnS(80at%)SiO2(20at%)やSiNx、スパッタリングレートが高い透明導電膜(例えばIn2O3、SnO2、Nb2O5、ZnO単体及び混合物)、その他の透明な酸化物、窒化物、硫化物は波長660nmでの屈折率が1.8以上と高いため、膜厚が変動すると光路長が変動するため反射率、変調度が大きく変動してしまう(以後特に記載がない限り、屈折率、吸収係数は波長660nmでの測定値とする)。
本発明者の研究によれば、光学シミュレーションの結果、未記録反射率は高屈折率材料ほど無機保護層の膜厚によって反射率の変動幅が増大し、変動周期が短くなる結果が得られた。したがって、無機保護層5としては低屈折率(1.45<n<1.6)の材料が膜厚による反射率変動が抑えられるため好ましい。
本発明者の研究によれば、光学シミュレーションの結果、未記録反射率は高屈折率材料ほど無機保護層の膜厚によって反射率の変動幅が増大し、変動周期が短くなる結果が得られた。したがって、無機保護層5としては低屈折率(1.45<n<1.6)の材料が膜厚による反射率変動が抑えられるため好ましい。
透明で低屈折率な材料としては、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、フッ化マグネシウム、フッ化ストロンチウム等が挙げられるが、一般にフッ化物は屈折率が小さいものの、熱的に不安定であり、結合が弱く容易に分解するため、スパッタリングレートが高い条件でスパッタリングすることは困難である。
また、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム単体及びこれらの混合物をスパッタリングすることにより低屈折率薄膜を形成することは可能であるが、これらの物質は比抵抗が大きくDCスパッタリングすることは不可能である。13.56MHz等の高周波スパッタリングは可能であるが、RF電源は装置が高価なため、コストの増大を招く。また、RF電源は装置の信頼性も低いため設備稼働率が低下しがちである。さらにRFスパッタリングはDCスパッタリングに比べスパッタリングレートが低いため実用的生産性が得られない。
また、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム単体及びこれらの混合物をスパッタリングすることにより低屈折率薄膜を形成することは可能であるが、これらの物質は比抵抗が大きくDCスパッタリングすることは不可能である。13.56MHz等の高周波スパッタリングは可能であるが、RF電源は装置が高価なため、コストの増大を招く。また、RF電源は装置の信頼性も低いため設備稼働率が低下しがちである。さらにRFスパッタリングはDCスパッタリングに比べスパッタリングレートが低いため実用的生産性が得られない。
更に本発明者の研究によれば、結晶状態の波長660nmで測定されたSiCの屈折率は2.7、吸収係数0.02であるが、スパッタリングにより形成されたアモルファス薄膜の屈折率は3.0から3.3程度、吸収係数は0.2から0.3程度となるため、光吸収が大きくSiCを5nm以上の膜厚で光透過膜として使用しても第2の記録構成体200からの反射率を高くすることはできない。
また、低屈折率(n=約1.5)の酸化ケイ素膜は、SiOx(x=1〜2)をスパッタリングターゲットとしたRF(例えば13.56MHz)スパッタリング、またはSiをスパッタリングターゲットして酸素を含むスパッタリングガス用いたRFまたDCスパッタリングを行なうことにより作製されるが、スパッタリングレートが0.3〜1.0nm/kW/secと小さく、Siターゲットは割れやすいため2秒程度の製膜時間で5nm以上の薄膜を形成することは困難である。
また、低屈折率(n=約1.5)の酸化ケイ素膜は、SiOx(x=1〜2)をスパッタリングターゲットとしたRF(例えば13.56MHz)スパッタリング、またはSiをスパッタリングターゲットして酸素を含むスパッタリングガス用いたRFまたDCスパッタリングを行なうことにより作製されるが、スパッタリングレートが0.3〜1.0nm/kW/secと小さく、Siターゲットは割れやすいため2秒程度の製膜時間で5nm以上の薄膜を形成することは困難である。
しかしながら、ケイ素と炭素を含むターゲット用いて酸素反応性スパッタリングを行なうことによって、高いスパッタリングレートで屈折率n<1.55、吸収係数k<0.01程度の良好な光学特性のSixOyCz膜を形成することができる。その結果、前記低屈折率のSixOyCz膜を無機保護層として用いることにより無機保護層5の膜厚変動による反射率、変調度、ジッタ等の変動が極めて小さくなる。そのため、無機保護層の膜厚によらず優れた特性の光記録媒体を作製することができる。また、膜厚管理が不要または膜厚管理幅を極めて大きくすることができるため、製造マージンを広くすることができる。
無機保護層5に含まれるケイ素は、20原子%以上45原子%以下が好ましい。20原子%より少ないと屈折率が大きくなって好ましくなく、45原子%より多いと吸収が大きくなり好ましくない。
無機保護層5に含まれる酸素は、40原子%以上65原子%以下が好ましい。40原子%より少ないと吸収が大きくなって好ましくなく、65原子%より多いと化学量論組成から外れるため無機保護層5の作製は困難である。
無機保護層5に含まれる炭素は、1原子%以上30原子%以下が好ましい。炭素はSiCとしてスパッタリングターゲット中に含まれる炭素がプラズマ中で酸素と反応するため酸素分圧にも依存するが、基板上に堆積した膜中の炭素は少なくとも1原子%以上になる。また30原子%より以上では吸収が大きくなるため、透過率が下がってしまうため好ましくない。
無機保護層5に含まれる酸素は、40原子%以上65原子%以下が好ましい。40原子%より少ないと吸収が大きくなって好ましくなく、65原子%より多いと化学量論組成から外れるため無機保護層5の作製は困難である。
無機保護層5に含まれる炭素は、1原子%以上30原子%以下が好ましい。炭素はSiCとしてスパッタリングターゲット中に含まれる炭素がプラズマ中で酸素と反応するため酸素分圧にも依存するが、基板上に堆積した膜中の炭素は少なくとも1原子%以上になる。また30原子%より以上では吸収が大きくなるため、透過率が下がってしまうため好ましくない。
なお、炭素に代えてアルミニウムまたは炭素と共にアルミニウムを、炭素単独の場合と同様に1原子%以上30原子%以下の組成比率で用いることができる。スパッタリングターゲットに1原子%以上入れることによってスパッタリングターゲットの比抵抗を下げてDCスパッタリングを容易にすることが可能である。30原子%以上では屈折率が高くなり好ましくない。
無機保護層5の膜厚は3〜40nmの範囲が好ましく、5〜30nmの範囲がより好ましい。膜厚が3nm未満では中間層4の材料が無機保護層5の欠陥から第2色素記録層6に浸透してしまい色素の変質が生じる場合がある。無機保護層5の形成後に溶媒により無機保護層形成領域の外側及び基板端面の色素を除去する場合には、比較的低粘度の低級アルコール系溶媒を用いるため、無機保護層5の膜厚は5nm以上であることが好ましい。無機保護層5の膜厚が40nmを超えると無機保護層の応力が大きくなり、無機材料と比較して柔らかい有機色素記録層からの剥離が生じる場合があり、また膜厚が30nmを超えると製膜時間が10秒以上必要となり著しく生産性が劣るため、30nm以下がさらに好ましい。
第1色素記録層2及び第2色素記録層6に用いる有機色素材料には特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、シアニン系色素、テトラアザポルフィラジン色素、フタロシアニン系色素、ピリリウム系・チオピリリウム系色素、アズレニウム系色素、スクアリリウム系色素、スクアリリウム金属キレート化合物、ホルマザンキレート系色素、Ni、Cr等の金属錯塩系色素、ナフトキノン系・アントラキノン系色素、インドフェノール系色素、インドアニリン系色素、トリフェニルメタン系色素、トリアリルメタン系色素、アミニウム系・ジインモニウム系色素、ニトロソ化合物及びこれらの混合物などが挙げられる。これらの中でも、膜の光吸収スペクトルの最大吸収波長又は吸収ピーク波長は550nmから620nm程度、熱分解温度は250℃から350℃程度のものが好適に用いられ、レーザー光波長(約650nm)において所望の光学特性が得やすく、溶剤塗布による成膜性、光学特性の調整のし易さの点から、シアニン系色素、アゾ系色素、スクアリリウム系色素、スクアリリウム金属キレート化合物から選択される少なくとも1種の色素が好ましく用いられる。前記色素は安定性を改善するためにキレート化することも可能であり、特に、第2色素記録層6には、熱分解特性が得やすいスクアリリウム金属キレート化合物の使用が好ましい。
第1及び第2の色素記録層には、色素化合物の他に、必要に応じてその他成分、例えば高分子材料、安定剤、分散材、難燃剤、滑剤、帯電防止剤、界面活性剤、可塑剤ラジカル捕捉剤、酸化防止剤、耐光性付与剤等を含有させることができる。
第1及び第2の色素記録層の膜厚は、通常、30〜150nmとする。30nm未満では十分なコントラストを得難く、モジュレーションが小さくなる傾向がある。一方、150nmを超えると小さい記録マークが書き難くなる。
また、最短マーク長が0.5μm以下となるような高密度記録では、第1及び第2の色素記録層の膜厚は、40〜100nmとすることが好ましい。40nm未満では変調度を大きくすることが困難になり、また膜厚が不均一になり易いので好ましくない。一方、100nmより厚いと熱容量が大きくなり記録感度が悪くなるし、熱伝導率の不均一によりエッジが乱れジッタが高くなる傾向にある。
また、最短マーク長が0.5μm以下となるような高密度記録では、第1及び第2の色素記録層の膜厚は、40〜100nmとすることが好ましい。40nm未満では変調度を大きくすることが困難になり、また膜厚が不均一になり易いので好ましくない。一方、100nmより厚いと熱容量が大きくなり記録感度が悪くなるし、熱伝導率の不均一によりエッジが乱れジッタが高くなる傾向にある。
更に、第2色素記録層6の膜厚を第1色素記録層2の膜厚に対して約1.0〜2.0倍とすることが好ましい。色素記録層の膜厚差がこの範囲からずれると、記録マークの広がり易さが異なることにより、両層に対して同様の記録ストラテジ(記録レーザーの発光パルスパターン)で記録することが困難になることがある。
本発明の第1及び第2の色素記録層の形成にあたっては特に制限を受けないが、一般には、低級アルコール類、エーテルアルコール類、ケトン類、エステル類、アクリル酸エステル類、フッ化アルコール類、炭化水素類、塩素化炭化水素類等の有機溶媒に溶解した溶液を基板上にスピンコート、スプレー、ディッピング等で塗布する湿式塗布法が用いられる。
スピンコート法を用いた場合の色素記録層はほぼ均一な状態であるが、記録により、色素記録層の変形や穴あき及び基板変形を生じ、その部分の反射率変化から記録マークを判断することができる。通常、記録前後の反射率差は5%より大きい。なお、案内溝を形成した基板上に製膜した場合は、溝部と溝間部で色素膜厚に差が生じる。
スピンコート法を用いた場合の色素記録層はほぼ均一な状態であるが、記録により、色素記録層の変形や穴あき及び基板変形を生じ、その部分の反射率変化から記録マークを判断することができる。通常、記録前後の反射率差は5%より大きい。なお、案内溝を形成した基板上に製膜した場合は、溝部と溝間部で色素膜厚に差が生じる。
第1基板1及び第2基板8の材料としては、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリスチレン樹脂、アクリロニトリル−スチレン共重合体樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、シリコーン系樹脂、フッ素系樹脂、ABS樹脂、ウレタン樹脂、透明ガラスなどが挙げられるが、光学特性、コストの点で優れるポリカーボネート樹脂、アクリル系樹脂が好ましい。
第1及び第2基板には、通常、記録再生光を案内するピッチ0.8μm以下の溝を設けるが、この溝は必ずしも幾何学的に矩形又は台形状の溝である必要はなく、例えばイオン注入などによって、屈折率の異なる導波路のようなものを形成して光学的に溝が形成されていてもよい。
第1及び第2基板の厚さは、評価系のピップアップのNAに応じて色収差をとるために変化させる。通常NAが0.6〜0.65程度では0.6mmが好ましい。
第1基板1と第2基板8に形成する溝形状は同一ではない。
例えば4.7GB、0.74μmピッチのDVD+RやDVD−Rの場合、第1基板1の溝形状は、溝深さ:1000〜2000Å、溝幅(底幅):0.2〜0.3μmが好ましい。スピンコート製膜の場合には溝内に色素が充填される傾向があり、第1色素記録層2と半透明反射層3の界面形状は色素の充填量と基板溝形状により決定されるので、界面反射を利用するには上記範囲が適している。
一方、第2基板8の溝形状は、溝深さ:200〜600Å、溝幅:0.2〜0.4μmが好ましい。図1に示したように、第二色素記録層6と反射層7の界面形状は基板溝形状で決定されるので、界面反射を利用するには上記範囲が適している。
例えば4.7GB、0.74μmピッチのDVD+RやDVD−Rの場合、第1基板1の溝形状は、溝深さ:1000〜2000Å、溝幅(底幅):0.2〜0.3μmが好ましい。スピンコート製膜の場合には溝内に色素が充填される傾向があり、第1色素記録層2と半透明反射層3の界面形状は色素の充填量と基板溝形状により決定されるので、界面反射を利用するには上記範囲が適している。
一方、第2基板8の溝形状は、溝深さ:200〜600Å、溝幅:0.2〜0.4μmが好ましい。図1に示したように、第二色素記録層6と反射層7の界面形状は基板溝形状で決定されるので、界面反射を利用するには上記範囲が適している。
第1基板1、第2基板8はいずれも上記溝形状範囲よりも溝深さが深いと反射率が低下し易い。また、上記溝形状範囲よりも溝深さが浅いか又は溝幅がずれると、記録中のトラッキングが不安定になり、形成される記録マークの形状が揃い難くジッタが増加し易い。
本発明の光記録媒体は、記録層が1層タイプのDVD+R、CD−Rと同様に色素を含有する記録層(色素記録層)の両界面の多重干渉効果により高反射率を得る構成となっており、色素記録層としては記録再生波長λにおいて複素屈折率n−ikの屈折率nが大きく、吸収係数kが比較的小さい光学特性が必要である。n、kの範囲は、n>2、0.02<k<0.2であり、好ましくは、nが2.2〜2.8、kが0.03〜0.07である。kが0.02未満の場合は記録用レーザー光の吸収が小さいため感度が悪くなり、0.2を超えると反射率が低下し、記録層を2層有する場合には光入射方向からみて奥側の記録層(L1)の反射率を十分高くすることが難しくなるからである。
このような光学特性は色素膜の光吸収帯の長波長端部の特性を利用することにより得られる。なお、本発明の光記録媒体は600〜800nmの赤色レーザー光に対応するものであり、好ましい記録再生波長λは650〜670nmである。光記録媒体の設計に当っては、まず上記波長範囲から記録再生に用いるレーザー光の波長を決定し、次いで本発明の条件を満足するように各層の材料と膜厚を選択すれば良い。
半透明反射層3及び反射層7の材料としては、レーザー光波長に対する反射率が高いものが好ましく、例えばAu、Ag、Cu、Al、Ti、V、Cr、Ni、Nd、Mg、Pd、Zr、Pt、Ta、W、Si、Zn、Inなどの金属及び半金属を挙げることができる。中でも、Au、Ag、Cu、Alの何れかを主成分とし、これら4元素とは異なるAu、Ag、Cu、Al、Ti、V、Cr、Ni、Nd、Mg、Pd、Zr、Pt、Ta、W、Si、Zn、Inの中から選ばれた少なくとも1種を0.2〜5重量%添加した合金が好ましい。0.2重量%以上添加することにより結晶粒が微細化し耐蝕性に優れた薄膜となる。しかし,5重量%よりも多く添加すると反射率が低下するため好ましくない。
半透明反射層3は、第2色素記録層6に十分な光が到達するように、透過率30〜60%程度、反射率15〜30%程度となるようにする。また、その膜厚は5〜30nmの範囲が好ましい。
反射層7の膜厚は80〜200nmが好ましく、十分に高い反射率を得るためには100nm以上が更に好ましい。第二の記録構成体の放熱性を良くするためには厚い方が好ましいが、反射層7の膜厚が200nmを超えると、成膜に時間がかかり材料費も増えるため製造コストの観点から好ましくなく、しかも膜表面の微視的な平坦性も悪くなってしまう。
第1色素記録層2と、アクリル樹脂などからなる透明な中間層4とが、膜厚30nm以下の極めて薄い半透明反射層3を介して接する場合には、色素とアクリル樹脂などが互いに半透明反射層3を通過して相溶しないようにする必要がある。純金属薄膜のように結晶粒が大きい材料からなる半透明反射層3の場合には、薄膜が島状になり易く、また粒界から樹脂が浸透し易いので注意する必要がある。
以下、実施例及び比較例により本発明を更に具体的に説明するが、本発明は、これらの実施例により限定されるものではない。例えば、記録再生条件をDVDの8X(線速30.6m/sec)として評価したが、更に高速設計を行えば高速化可能である。
また、SixOy(C、Al)zの物性については、それぞれの実施例または比較例と同一の条件で、基板上にSixOy(C、Al)z膜を製膜し、次のようにして分析した。組成はICP(Induced Coupled Plasma)、RBS(ラザフォード後方散乱)、SIMS(Secondary Ion Mass Spectropy)などを用いて分析した。また分光特性は分光光度計、分光エリプソメータ及びSteag ETA Optic社のETA−RTを用いて測定した。
また、SixOy(C、Al)zの物性については、それぞれの実施例または比較例と同一の条件で、基板上にSixOy(C、Al)z膜を製膜し、次のようにして分析した。組成はICP(Induced Coupled Plasma)、RBS(ラザフォード後方散乱)、SIMS(Secondary Ion Mass Spectropy)などを用いて分析した。また分光特性は分光光度計、分光エリプソメータ及びSteag ETA Optic社のETA−RTを用いて測定した。
(実施例1)
溝深さ160nm、溝幅0.35μm、トラックピッチ0.74μmの凹状グルーブを形成した板厚0.57mmのポリカーボネート製第1基板上に、下記式(1)で表されるスクアリリウム色素化合物を2,2,3,3−テトラフルオルプロパノールに溶解した塗布液をスピンコートすることにより、厚さ約40nmの第1の色素記録層を設けた。
溝深さ160nm、溝幅0.35μm、トラックピッチ0.74μmの凹状グルーブを形成した板厚0.57mmのポリカーボネート製第1基板上に、下記式(1)で表されるスクアリリウム色素化合物を2,2,3,3−テトラフルオルプロパノールに溶解した塗布液をスピンコートすることにより、厚さ約40nmの第1の色素記録層を設けた。
更にその上に、Inを0.5原子%含むAg合金をスパッタして厚さ9nmの半透明反射層を形成し、第1の記録構成体を形成した第一の情報基板を得た。
次に、溝深さ34nm、溝幅0.3μm、トラックピッチ0.74μmの凸状グルーブを形成した板厚0.6mmのポリカーボネート製第2基板上に、Ag反射層を120nmの厚さにスパッタリングにより形成し、その上に下記式(2)で表されるシアニン色素と下記式(3)で表されるスクアリリウム色素化合物を6:4の重量比で2,2,3,3−テトラフルオルプロパノールに溶解した塗布液をスピンコートすることにより、厚さ約60nmの第2色素記録層を設けた。
更にその第2色素記録層上に、表1に記載の条件で10nmの膜厚で無機保護層を形成し、第2の記録構成体を形成した第二の情報基板を得た。
次いで、上記第一の情報基板第と第二の情報基板とを、紫外線硬化型接着剤(日本化薬製、KARAYAD DVD576M)を用いて、中間層の厚さがほぼ50μmになるように貼り合わせて、図1に示す層構成の2層型の光記録媒体を作製した。
なお前記式(1)、(2)及び(3)に示した化合物の熱分解温度と薄膜でのλmaxは表2に示すとおりである。
この光記録媒体の第二の記録構成体に対して、パルステック工業社製の評価装置ODU1000(波長657nm、NA:0.65)を用いて、線速度30.64m/s(8倍速記録)の条件でDVD(8−16)信号を記録した後、線速度3.83m/sで再生評価を行ったところ、反射率(図2におけるI14Hは記録後反射率%)19%、変調度I14/I14H(図2における(I14H −I14L)/I14H)65%が得られた。また,パワーマージン(ジッタ値が9%以下となるパワー下限値P1と上限値P1について(P2−P1)×2/(P2+P1)を計算した値)は20%であった。
(実施例2〜8及び比較例1〜3)
無機保護層の製膜条件を上記表2に記載のようにした以外は同様にして、実施例2〜8及び比較例1〜3の2層型の光記録媒体を作製した。
無機保護層の製膜条件を上記表2に記載のようにした以外は同様にして、実施例2〜8及び比較例1〜3の2層型の光記録媒体を作製した。
作製された各光記録媒体を評価装置ODUでの評価した結果を表3に示した。表3から前記無機保護層の組成比SixOy(C、Al)zが、20≦x≦45、40≦y≦60、1≦z≦30(x、y、zの単位は原子%)の範囲では反射率18%以上、変調度0.60以上、パワーマージン10%以上の良好な特性が得られることがわかった。
(実施例9)
実施例1と同じ条件で無機保護層の成膜のためのスパッタリング時間のみを変更して、無機保護層の膜厚を3nm、
5nm、30nm、40nmで2層型の光記録媒体を作製しところ、膜厚が3nmでは無機保護層上に接着剤を塗布した時に外周で接着剤が第2色素記録層上に浸透し、正常に光記録媒体を作製することができない場合があった。また、膜厚40nmで作製すると無機保護層のスパッタリング直後に第2色素記録層上の無機保護層が剥離を生じたために光記録媒体を作製することができない場合があった。よって、無機保護層の厚さは、特に限定されるものではないが、生産効率の観点からは、5nm以上30nm以下であることが好ましい。
実施例1と同じ条件で無機保護層の成膜のためのスパッタリング時間のみを変更して、無機保護層の膜厚を3nm、
5nm、30nm、40nmで2層型の光記録媒体を作製しところ、膜厚が3nmでは無機保護層上に接着剤を塗布した時に外周で接着剤が第2色素記録層上に浸透し、正常に光記録媒体を作製することができない場合があった。また、膜厚40nmで作製すると無機保護層のスパッタリング直後に第2色素記録層上の無機保護層が剥離を生じたために光記録媒体を作製することができない場合があった。よって、無機保護層の厚さは、特に限定されるものではないが、生産効率の観点からは、5nm以上30nm以下であることが好ましい。
本発明の光記録媒体は、基板および前記記録層の間に介設された無機保護層が特定の厚さ、及び特定のスパッタリンググレードが高い材料で構成されているため、良好な記録信号特性を得ることができ、特に追記型の光記録媒体として有用である。
1 第1基板
2 第1記録層
3 半透明反射層
4 中間層
5 無機保護層(下部保護層)
6 第2記録層
7 反射層
8 第2基板
100 第1の記録構成体
200 第2の記録構成体
2 第1記録層
3 半透明反射層
4 中間層
5 無機保護層(下部保護層)
6 第2記録層
7 反射層
8 第2基板
100 第1の記録構成体
200 第2の記録構成体
Claims (4)
- 第1基板上に少なくとも第1色素記録層、第1光反射層を積層した第1の記録構成体と、第2基板上に少なくとも第2光反射層、第2色素記録層、無機保護層を積層した第2の記録構成体とが、前記第1光反射層側と前記無機保護層側とが対向し接着剤層を介して貼り合わされてなり、かつ、前記無機保護層は、ケイ素、酸素および炭素を含み、その組成比SixOyCzが、20≦x≦45、40≦y≦65、1≦z≦30(x、y、zの単位は原子%)であることを特徴とする光記録媒体。
- 前記無機保護層の膜厚が5nm以上30nm以下であることを特徴とする請求項1記載の光記録媒体。
- 請求項1又は2記載の光記録媒体の製造方法であって、前記無機保護層を作製する際に、少なくともケイ素および炭素を含むターゲットを用い、かつ少なくとも酸素ガスを導入した反応性スパッタリングを用いることを特徴とする光記録媒体の製造方法。
- 前記反応性スパッタリングが、直流電圧またはパルス状電圧を印加することによって放電させスパッタリングを行なうものであることを特徴とする請求項3記載の光記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007058196A JP2008217955A (ja) | 2007-03-08 | 2007-03-08 | 光記録媒体及びその製造方法 |
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JP (1) | JP2008217955A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2015053055A1 (ja) * | 2013-10-07 | 2015-04-16 | コニカミノルタ株式会社 | 機能性膜 |
KR101549146B1 (ko) | 2015-03-04 | 2015-09-02 | (주)마이크로켐 | 발광체 및 이의 제조방법 |
-
2007
- 2007-03-08 JP JP2007058196A patent/JP2008217955A/ja active Pending
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WO2015053055A1 (ja) * | 2013-10-07 | 2015-04-16 | コニカミノルタ株式会社 | 機能性膜 |
CN105764845A (zh) * | 2013-10-07 | 2016-07-13 | 柯尼卡美能达株式会社 | 功能性膜 |
CN105764845B (zh) * | 2013-10-07 | 2018-04-17 | 柯尼卡美能达株式会社 | 功能性膜 |
KR101549146B1 (ko) | 2015-03-04 | 2015-09-02 | (주)마이크로켐 | 발광체 및 이의 제조방법 |
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