TWI417237B - Production of Inorganic Crystals - Google Patents

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TWI417237B
TWI417237B TW095120051A TW95120051A TWI417237B TW I417237 B TWI417237 B TW I417237B TW 095120051 A TW095120051 A TW 095120051A TW 95120051 A TW95120051 A TW 95120051A TW I417237 B TWI417237 B TW I417237B
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Naoto Hirosaki
Takayuki Suehiro
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Nat Inst For Materials Science
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Description

無機結晶之製造方法
本發明係關於氮化物或氮氧化物粉末之製造。更詳言之，係關於CaAlSiN3 結晶粉末、或賦活光學活性元素之CaAlSiN3 結晶等之適用於螢光體之粉末之製造。
螢光體被用於螢光顯示管(VFD)、場發射顯示器(FED)、電漿顯示面板(PDP)、陰極線管(CRT)、白色發光二極體(LED)等。於該等任一用途中，為了使螢光體發光，需要對螢光體供給用以激發螢光體之能量，藉由螢光體藉由真空紫外線、紫外線、電子線、藍色光等之具有高能量之激發源激發而產生可見光線。然而，螢光體被曝露於如上述之激發源之結果，由於螢光體之亮度降低，因此要求亮度不會降低之螢光體。由此，取代先前之矽酸鹽螢光體、磷酸鹽螢光體、鋁酸鹽螢光體、硫化物螢光體等螢光體，提案有賽龍(sialon)螢光體作為亮度降低少之螢光體。
於以藍色LED作為激發源之白色LED中，為提高演色性，要求以藍色光激發，發光為橙色及紅色之螢光體。
發明者之一(廣崎)發現：作為回應該要求者，以具有與已知作為耐熱材料之CaAlSiN3 結晶相同結晶構造之無機化合物作為母體結晶，添加光學活性之元素，尤其添加Eu之結晶時，可以藍色光有效地激發，而成為發出自600 nm至680 nm之紅色光之螢光體。再者，基於發現藉由使用該螢光體，得到高亮度、富於紅色成分之高演色性之白色LED，先前已提出專利申請(例如，專利文獻1)。
於專利文獻1，以氮化鉀、氮化鋁、氮化矽、及氮化銪等氮化物粉末作為原料，合成以CaAlSiN3 結晶作為母體之螢光體，然而，該等原料中，氮化鉀與氮化銪於空氣中不穩定，粉末之混合調製作業需要於隔絕空氣之手套箱中進行，生產程序複雜。再者，氮化鉀及氮化銪粉末，難以獲得高純度之高品質原料，合成製品之品質容易降低。
另一方面，作為使用氧化物原料合成氮氧化物粉末之手法，提案有利用碳粉末之還原氮化法。例如，作為α賽龍之製造方法，已知有在氧化矽、氧化鋁、及M金屬的氧化物中添加碳粉末者於氮氣流中加熱至1400~1700℃得到粉末之碳還原氮化法(例如，專利文獻2)。然而，以碳還原氮化法，製得粒徑0.1~2 μm之微細之α－賽龍粉體者因添加之碳殘留於最終生成物而引起著色，於光學用途未必適合。
作為製得適於光學用途之無著色粉末之方法，發明者們提案有，以使用檸檬酸之以溶膠凝膠法合成之複合氧化物作為起始原料之氣體還原氮化法。利用該方法，以6.9%CaO－10.34%Al2 O3 －82.76%SiO2 組成之氧化物混合物作為前驅體，藉由一邊流入氨氣氣體與甲烷氣體，一邊熱處理至1500℃歷時2小時，前驅體中之氧含量減少，並且氮含量增加，成功地合成Ca－α－賽龍(Ca－Si－Al－O－N)(例如，專利文獻3)。
作為α賽龍以外之高純度氮化物粉末之合成法，已知有將氧化鋁粉末於氨氣與烴之混合氣體中還原氮化，製得氮化鋁粉末之方法(例如，專利文獻4)。再者，報導有將氧化矽粉末於氨氣與烴之混合氣體中還原氮化製得氮化矽粉末之方法(例如，專利文獻5)。
專利文獻1：日本專利特開2006－8721號公報專利文獻2：日本專利特公平4－60050號公報專利文獻3：日本專利特開2005－306692號公報專利文獻4：日本專利特開2002－97006號公報專利文獻5：日本專利特公平7－91043號公報
然而，關於α賽龍以外之多成分之氮化物及氮氧化物之無機結晶，使用氧化物原料合成適於光學用途之著色少者之手法未有開發。
本發明目的在於提供一種適用於螢光體之無因雜質混入而著色之微細氮化物及氮氧化物粉末。
本發明者們，於如此之狀況下，對包含構成氮化物及氮氧化物之元素之前驅體化合物，關於使還原氮化氣氛之氣體反應之手法反復銳意研究之結果，發現：具有特定之前驅體組成者，藉由煅燒反應，成為CaAlSiN3 結晶等適於螢光體用途之氮化物及氮氧化物粉末，將該發現推進之結果，發現藉由記載於以下(1)~(20)之構成，可製得微細且對光學特性帶來影響之碳雜質少之粉末。本發明係基於該發現而成者。其構成記載於以下(1)至(20)。
(1)一種以氮化物或氮氧化物作為主成分之無機結晶之製造方法，係對至少包含M、Si、Al、O之元素(其中，M為選自Mg、Ca、Sr、Ba之1種或2種以上之元素)、根據需要包含R之元素(其中，R為選自Mn、Ce、Pr、Nd、Eu、Tb、Dy、Er、Tm、Yb之1種或2種以上之元素)、根據需要包含N之元素之前驅體化合物，於還原氮化氣氛中實施加熱處理，藉由使前驅體中之氧含量減少並且使氮含量增加而合成者。
(2)如上述(1)之無機結晶之製造方法，其中於該前驅體化合物含有之M、R、Si、Al、O、N之原子數之比，a、b、c、d、e、f(其中a＋b＋c＋d＋e＋f＝1)滿足下列關係：0.1≦a≦0.3 0≦b≦0.1 0.1≦c≦0.3 0.1≦d≦0.3 0.01≦e≦0.6 0≦f≦0.6。
(3)如上述(1)或(2)之無機結晶之製造方法，其中該前驅體化合物係氧化物或氫氧化物之混合物。
(4)如上述(1)至(3)中任一項之無機結晶之製造方法，其中於係合成物之以氮化物或氮氧化物作為主成分之無機結晶中包含之氧與氮之量滿足下列關係：0≦O/(O＋N)≦0.20。
(5)如上述(4)之無機結晶之製造方法，其中係合成物之以氮化物或氮氧化物作為主成分之無機結晶為粉末形態。
(6)如上述(4)之無機結晶之製造方法，其中以該氮化物或氮氧化物作為主成分之無機結晶係具有與CaAlSiN3 或SrAlSiN3 相同之結晶構造之無機結晶。
(7)如上述(6)之無機結晶之製造方法，其中以該氮化物或氮氧化物作為主成分之無機結晶係CaAlSiN3 、SrAlSiN3 或(Ca、Sr)AlSiN3 結晶、或者該等之固溶體結晶。
(8)如上述(1)至(7)中任一項之無機結晶之製造方法，其中前驅體化合物，係至少包含藉由加熱成為二氧化矽、氧氮化矽或氮化矽之化合物(化合物SiX)、藉由加熱成為M之氧化物、氮氧化物或氮化物之化合物(化合物MX)、藉由加熱成為氧化鋁、氧氮化鋁或氮化鋁之化合物(化合物AlX)、及根據需要藉由加熱成為R之氧化物、氮氧化物或氮化物之化合物(化合物RX)之混合物。
(9)如上述(8)之無機結晶之製造方法，其中化合物SiX係選自二氧化矽(SiO2 )、氧氮化矽(Si2 N2 O)、氮化矽(Si3 N4 )之1種或2種以上之混合物，化合物MX係選自M之氧化物、氫氧化物、烷氧化物、碳酸鹽、硝酸鹽、氯化物之1種或2種以上之混合物，化合物AlX係選自鋁之氧化物、氫氧化物、烷氧化物、碳酸鹽、硝酸鹽、氯化物之1種或2種以上之混合物，化合物RX係選自R之氧化物、氫氧化物、烷氧化物、碳酸鹽、硝酸鹽、氯化物之1種或2種以上之混合物。
(10)如上述(8)或(9)之任一項之無機結晶之製造方法，其中SiX之平均粒徑為500 nm以下。
(11)如上述(8)至(10)中任一項之無機結晶之製造方法，其中MX粒子、AlX粒子、RX粒子之平均粒徑較SiX粒子之平均粒徑小，MX粒子、AlX粒子、RX粒子附著於SiX粒子之表面。
(12)如上述(8)至(11)中任一項之無機結晶之製造方法，其中前驅體化合物，係於使MX、AlX及根據需要之RX溶解於溶劑之溶液中使SiX粒子分散後，乾燥、脫溶劑而製得之將M、Al及根據需要之R之化合物附著於SiX粒子表面之形態之混合物。
(13)如上述(8)至(12)中任一項之無機結晶之製造方法，其中前驅體化合物，係於使MX、AlX及根據需要之RX溶解之水溶液中使SiX分散後，添加檸檬酸、乾燥、脫水而製得之複合檸檬酸鹽。
(14)如上述(8)至(13)中任一項之無機結晶之製造方法，其中前驅體化合物，係於溶解MX、AlX及根據需要之RX之水溶液中使SiX分散後，添加檸檬酸、乾燥、脫水而得、對複合檸檬酸鹽實施加熱處理分解除去檸檬酸之化合物。
(15)如上述(1)至(14)中任一項之無機結晶之製造方法，其中於還原氮化氣氛中至少包含氨氣氣體或氫與氮之混合氣體。
(16)如上述(1)至(15)中任一項之無機結晶之製造方法，其中於還原氮化氣氛中至少包含烴氣體。
(17)如上述(15)或(16)之無機結晶之製造方法，其中還原氮化氣氛係氨氣氣體與甲烷或丙烷氣體之混合氣體。
(18)如上述(1)至(17)中任一項之無機結晶之製造方法，其中加熱處理溫度為1000℃以上1800℃以下。
(19)如上述(1)至(18)中任一項之無機結晶之製造方法，其中係合成物之以氮化物或氮氧化物作為主成分之無機結晶，係以Cax Sry SiAlSiN3 ：Euz 表示，且參數x、y、z滿足下列關係：x＋y＋z＝1 0≦x≦1－z 0≦y≦1－z 0.0001≦z≦0.1。
(20)一種無機結晶之製造方法，其特徵在於：對以如上述(1)至(19)中任一項之方法所製造之包含MSiAlN3 結晶(其中，M為選自Mg、Ca、Sr、Ba之1種或2種以上之元素)之無機化合物，添加包含R之元素(其中，R為選自Mn、Ce、Pr、Nd、Eu、Tb、Dy、Er、Tm、Yb之1種或2種以上之元素)之化合物後，藉由在含氮氣氛中於1200℃以上2000℃以下之溫度煅燒，製得將R賦活於MSiAlN3 結晶之螢光體。
藉由本發明之製造方法製得之無機結晶螢光體，較先前之無機結晶粉末微細且高純度，適於作為螢光體。如此微細之螢光體粉末，適用於VFD、FED、PDP、CRT及白色LED等，於該種領域之材料設計，提供具有新穎性有用材料之意義重大，可望對產業發展貢獻大。
以下基於實施例詳細說明本發明。
於本發明，作為前驅體化合物，使用至少包含M、Si、Al、O之元素(其中，M為選自Mg、Ca、Sr、Ba之1種或2種以上之元素)、根據需要包含R之元素(其中，R為選自Mn、Ce、Pr、Nd、Eu、Tb、Dy、Er、Tm、Yb之1種或2種以上之元素)、根據需要包含N之元素者。由於氧化物或氫氧化物、或者其混合物係可以高純度獲得之原料，因此，若將該等作為前驅體使用，則可製得適於光學用途之高純度之無機結晶。
M、Si、Al之元素係構成光學用途之無機結晶之金屬元素。作為無機結晶，合成具有與CaAlSiN3 或SrAlSiN3 相同之結晶構造之無機結晶之情形，使用Ca、Sr或其混合組成作為M，選定M、Si、Al之含量至成為目的組成為佳。構成前驅體之元素中，M、R、Si、Al之大部分於煅燒中不會揮散而殘留於反應物中。另一方面，O之一部分於煅燒中與氣氛氣體反應，被排除到反應物之外，取而代之，N自反應氣體被導入反應物中。如此，由前驅體化合物合成由M－R－Si－Al－O－N而成之無機結晶。
氧之除去及氮之導入，根據處理溫度、處理氣體之組成及流量、反應時間加以控制，在係合成物之以氮化物或氮氧化物作為主成分之無機結晶中含有之氧與氮之量滿足0≦O/(O＋N)≦0.20之關係進行處理為佳。於該範圍內可製得螢光體或適於螢光體用之主體結晶之氮化物或者氮氧化物。
雖並不限定合成物之以氮化物或氮氧化物作為主成分之無機結晶之形態，但為使之為高亮度之螢光體時以粉末形態為佳。其粒度，雖因用途而異，但成為奈米螢光體之情形，作為起始原料使用50 nm~500 nm左右之奈米粉末為佳。為製得通常螢光體之1 μm~10 μm之粒徑，可使用50 nm~5 μm粒徑之原料粉末、於熱處理中使粒生長至1 μm~10 μm之粒徑。又，於熱處理後亦可進而藉由在高溫進行熱處理進行粒生長處理。
於該前驅體化合物之中，成為目的之無機結晶尤其可以高產率製得之組成，係其中含有之M、R、Si、Al、O、N之原子數之比，a、b、c、d、e、f(其中a＋b＋c＋d＋e＋f＝1)滿足0.1≦a≦0.3 0≦b≦0.1 0.1≦c≦0.3 0.1≦d≦0.3 0.01≦e≦0.6 0≦f≦0.6之關係之組合物。
作為滿足該等關係之組合物，例如可列舉2CaCO3 －Al2 O3 －2SiO2 、1.992CaO－0.008EuO－Al2 O3 －2SiO2 、或3SrO－3AlN－Si3 N4 之組成之混合物。
作為前驅體化合物，除了可使用M、R、Si、Al各自之元素之化合物之混合體之外，可使用M－Al－O及Si－Al－O－N等之複數元素之無機化合物及其混合物。
作為前驅體化合物，使用M、R、Si、Al各自之元素之化合物之混合體之情形，可藉由以下之方法準備前驅體化合物。
即，作為前驅體化合物，可使用至少包含藉由加熱成為二氧化矽、氧氮化矽或氮化矽之化合物(化合物SiX)、藉由加熱成為M之氧化物、氮氧化物或氮化物之化合物(化合物MX)、藉由加熱成為氧化鋁、氧氮化鋁或氮化鋁之化合物(化合物AlX)、及根據需要藉由加熱成為R之氧化物、氮氧化物或氮化物之化合物(化合物RX)之混合物。
所謂藉由加熱成為二氧化矽之化合物，係於空氣中及含氧之氣氛中或惰性氣氛中加熱時成為二氧化矽之化合物，所謂藉由加熱成為氧氮化矽或氮化矽之化合物，係於構成氮及氨氣等氣體之分子中含氮元素之氣體之氣氛中或惰性氣氛中加熱時，成為氧氮化矽或氮化矽之化合物。作為SiX，可列舉二氧化矽(SiO2 ：氧化矽玻璃、氧化矽溶膠、氧化矽凝膠、結晶質氧化矽等)、氧氮化矽(Si2 N2 O等)、及氮化矽(Si3 N4 ：α型結晶、β型結晶、無定形等)等。
所謂藉由加熱成為M之氧化物之化合物，係於空氣中及含氧之氣氛中或惰性氣氛中加熱時成為M之氧化物之化合物，所謂藉由加熱成為M之氮氧化物或氮化物之化合物，係於構成氮及氨氣等氣體之分子中含氮元素之氣體之氣氛中或惰性氣氛中加熱時，成為M之氮氧化物或氮化物之化合物。作為MX，可列舉M之氧化物、氫氧化物、烷氧化物、碳酸鹽、硝酸鹽、氯化物、氟化物、有機酸鹽、檸檬酸鹽等。
所謂藉由加熱成為氧化鋁之化合物，係於空氣中及含氧之氣氛中或惰性氣氛中加熱時成為氧化鋁之化合物，所謂藉由加熱成為氧氮化鋁或氮化鋁之化合物，係於構成氮及氨氣等氣體之分子中含氮元素之氣體之氣氛中或惰性氣氛中加熱時，成為氧氮化鋁或氮化鋁之化合物。作為AlX，可列舉Al之氧化物、氫氧化物、烷氧化物、碳酸鹽、硝酸鹽、氯化物、氟化物、有機酸鹽、檸檬酸鹽等。
所謂藉由加熱成為R之氧化物之化合物，係於空氣中及含氧之氣氛中或惰性氣氛中加熱時成為R之氧化物之化合物，所謂藉由加熱成為R之氮氧化物或氮化物之化合物，係於構成氮及氨氣等氣體之分子中含氮元素之氣體之氣氛中或惰性氣氛中加熱時，成為R之氮氧化物或氮化物之化合物。作為RX，可列舉R之氧化物、氫氧化物、烷氧化物、碳酸鹽、硝酸鹽、氯化物、氟化物、有機酸鹽、檸檬酸鹽等。
其次，作為前驅體化合物，使用M－Al－O及Si－Al－O－N等複數元素之無機化合物及其混合物之情形，例如利用Ca2 Al2 O5 、CaSiO3 、Al2 Ca2 SiO7 、Al2 Ca3 Si3 O1 2 、Al2 CaSi2 O8 等，根據需要，將CaO、SiO2 、Al2 O3 等混合調整組成為佳。
即使於上述中，前驅體化合物係選定為以Ma Rb Sic Ald Oe Nf (a＋b＋c＋d＋e＋f＝1)表示之結晶質或非晶質或者其混合物係與目的組成接近之組成時，由於目的物可以高產率製得而較佳。
尤其，以參數a、b、c、d、e、f滿足0.1≦a≦0.3 0≦b≦0.1 0.1≦c≦0.3 0.1≦d≦0.3 0.01≦e≦0.6 0≦f≦0.6之關係之組成，目的物可以高產率製得。
前驅體中之O與N之比為比最終製品之比例之O更多之組成為佳。如此，對於將確定組成之前驅體煅燒，藉由控制煅燒反應之時間使O/N之比成特定值時使反應終止，可製得特定之組成。
作為反應終止時之O/N比，在為合成物之以氮化物或氮氧化物作為主成分之無機結晶中含有之氧與氮之量滿足0≦O/(O＋N)≦0.20關係之組成，由於作為螢光體之主體之情形的亮度增高，因此作為光學用途較好。
於欲製得尤其微細之粉末之情形，藉由以下之方法為佳。使用SiX之平均粒徑2 μm以下者，使MX粒子及AlX粒子之平均粒徑較SiX粒子之平均粒徑小，進而更佳為，使用具有MX及AlX附著於SiX之表面之形態之前驅體為佳。以如此形態之前驅體起始，則可藉由於加熱中在SiX表面使MX與AlX反應，於比較低之溫度高效率地形成成為目的之無機結晶，合成與SiX之尺寸接近之微細無機結晶。以該手法，作為SiX，由反應性與得到微細之粉末觀之，尤其以二氧化矽與氮化矽作為起始原料最佳。
又，於本說明書中，所謂平均粒徑係定義如下。粒子徑被定義為：於藉由沈降法之測定中，沈降速度作為等價之球的直徑，於雷射散射法中散射特性作為等價之球的直徑。又，將粒子徑之分布稱為粒度(粒徑)分佈。於粒徑分布中，將較某粒子徑大之質量之總和占全粉體之質量之50%時之粒子徑定義為平均粒徑D50。該定義及用語均於本技藝所週知，例如，記載於JISZ8901"試驗用粉體及試驗用粒子"、或粉體工學會編"粉體之基礎物性"(ISBN4－526－05544－1)之第1章等諸文獻中。於本發明中，於添加有作為分散劑之六甲基丙烯酸鈉之水中使試料分散，使用雷射散射式測定裝置，測定對粒子徑之體積換算之累積次數分布。又，體積換算與重量換算之分布相等。求出於該積算(累積)頻度分布相當於50%之粒子徑，作為平均粒徑D50。以下，於本說明書中，請留意，平均粒徑係基於藉由上述之雷射散射法之粒度分布測定手段而測定之粒度分布之中央值(D50)。至於求出平均粒徑之手段，除了上述以外，已有開發多種手段，現在亦持續之現狀，可能會產生與測定值若干不同，但平均粒徑其本身之意思、意義明確，請理解並非必要限於上述手段。
雖然未特別規定製得如此形態之前驅體之方法，若藉由以下之方法，可高效率地製得可控制附著形態之前驅體。藉由在使含M、R之化合物與含鋁之化合物溶解於溶劑之溶液中，使SiX粒子(較好為二氧化矽或氮化矽粒子)分散後，乾燥、脫溶劑，製得M、R與Al之鹽附著於SiX粒子表面之形態之前驅體化合物。
作為該程序之一手法，可列舉：一邊使MX、RX與AlX之水溶液中均勻地分散SiX並攪拌，一邊添加檸檬酸，於SiX粒子之表面附著MX、RX與AlX之檸檬酸鹽後乾燥、脫水而製得複合檸檬酸鹽之前驅體化合物並使其煅燒而合成之手法。於此作為使用之MX，可列舉M之硝酸鹽及氯化物，作為RX，可列舉R之硝酸鹽及氯化物，作為AlX，可列舉鋁之硝酸鹽及氯化物。
作為其他手法，可列舉：使MX、RX與AlX溶解於水或溶劑並於其中使SiX均勻地分散後、霧乾燥製得之SiX粒子表面上附著MX、RX與AlX之前驅體化合物並使其煅燒之手法。
於本發明，藉由對前驅體化合物，於還原氮化氣氛中實施加熱處理，使前驅體中之氧含量減少，並且使氮含量增加，進行生成氮氧化物或氮化物之無機結晶之還原氮化處理。
於還原氮化處理所使用之氣氛氣體，可為含氮元素之氣體、及氫及烴等還原性氣體之混合氣體。以氨氣氣體或氨氣與烴氣體之混合氣體為佳。又，根據需要，可為與氮氣體及稀有氣體(例如，氬氣體)等比較惰性之氣體之混合氣體。使用氨氣氣體之情形，可認為：氨氣中之氫除去前驅體中之氧，氨氣中之氮取而代之可進入前驅體中。使用氨氣氣體與烴氣體之混合氣體之情形，可認為：烴氣體與前驅體中之氧反應，成為H2 O及CO去除，氨氣中之氮取而代之可進入前驅體中。
作為烴氣體，在反應條件下必須為氣體，可使用甲烷、丙烷及LNG等短鏈之烴氣體。相對於混合氣體中之氨氣之烴之比例，以3容積%以下為佳。若超過3容積%，則有於煅燒中碳析出殘留於粉體中之虞。最適宜氣體之流速雖因反應容器而異，但一般認為0.01~0.1m/秒為較好值。反應溫度為1200℃~1800℃，較好為1300℃~1600℃。於該溫度範圍內，若於低溫煅燒，則可製得微細之粉末，若於高溫煅燒，則容易製得粒徑稍大且結晶性良好之粉末。反應時間雖因原料粉末之組成及種類而異，但，藉由氣體還原氮化使氧量減少與氮量增加成為作為目的之無機結晶之理論值時終止為佳。典型之反應時間以0.5~5小時為佳。
於本發明，根據需要，為了促進氣體還原氮化反應，可於前驅體化合物中，添加選自鈣、鉀、鋁之元素之氟化物、氯化物、硫酸鹽、磷酸鹽、硼酸鹽之1種或2種以上之反應促進劑後，於還原氮化氣氛中實施加熱處理。該等反應促進劑，因於高溫生成液相，擴散變活躍，故反應高效率地進行。又，由於亦促進粒生長，尤其製造大粒徑之粉末之情形，添加該等反應促進劑為佳。上述之反應促進劑中，氟化鈣(CaF2 )、氯化鈣(CaCl2 )、氟化鋁(AlF3 )、氯化鋁(AlCl3 )效果顯著。反應促進劑之添加比例，相對於前驅體化合物100 g，以0.5 g至20 g之範圍為佳。由於若少於0.5 g，則反應促進效果小，若多於20 g，則容易生成其他組合物而不佳。又，根據需要，可於反應後，以溶解反應促進劑之溶劑(水、有機溶劑、酸)處理。其中，氫氟酸、硫酸、鹽酸、硝酸之1種或2種以上之混合物之水溶液對反應促進劑之除去效果高。
於本發明之製造方法，合成之無機結晶之種類及組成並無特別限定。使具有與CaAlSiN3 或SrAlSiN3 相同之結晶構造之無機結晶之光學活性元素(Mn、Ce、Pr、Nd、Eu、Tb、Dy、Er、Tm、Yb等)賦活合成螢光體之情形，可為M至少含Ca或Sr之組成。尤其，若使R包含Eu，則容易製得高亮度之螢光體。
於藉由上述記載之方法製造之具有與CaAlSiN3 或SrAlSiN3 相同之結晶構造之無機結晶之中，以Cax Sry SiAlSiN3 ：Euz 之組成表示且參數x、y、z滿足x＋y＋z＝1 0≦x≦1－z 0≦y≦1－z 0.0001≦z≦0.1關係之組成之粉末成為紅色發光之螢光體。於該組成之CaAlSiN3 或SrAlSiN3 粉末，2價之Eu離子成為發光中心，吸收紫外線或藍色之可見光，顯示紅色發光。此係適於與藍色LED組合之白色LED照明器具之螢光體。
作為本發明之製造方法，以氣體還原氮化法，有預先合成MSiAlN3 結晶(其中，M為選自Mg、Ca、Sr、Ba之1種或2種以上之元素)後，添加含R之元素(其中，R為選自Mn、Ce、Pr、Nd、Eu、Tb、Dy、Er、Tm、Yb之1種或2種以上之元素)之化合物，其後於含氮氣氛中於1200℃以上2000℃以下之溫度煅燒之方法。若藉由該方法，由於可將碳含量少之MSiAlN3 結晶之合成、與將R賦活之螢光體之合成分別進行，因此具有可適用適於各自之合成爐及合成條件之優點。將R賦活之螢光體之合成，係於含氮氣氛中，於1200℃以上2000℃以下之溫度進行。由於在較1200℃低之溫度下反應無法充分地進行，因此R元素無法進入MSiAlN3 結晶中。由於若較2000℃高，則發生顯著粒生長，因此，光學特性降低。作為含氮氣氛，可列舉氮氣體、氨氣氣體、氮與氫之混合氣體。於第二階段之煅燒，使氧含量降低之情形，可進一步混合甲烷氣體等烴氣體。煅燒溫度高之情形，可於2至100氣壓左右之高壓氮氣體中煅燒。
[實施例]
以下，雖然根據以下所示之實施例進一步詳細地說明本發明，但此始終係用以幫助容易地理解本發明。因此，不言而喻本發明並非限定於該等實施例。
(實施例1)
於圖4概述實施例1之合成流程。將由高純度烷氧基矽烷以溶膠凝膠法合成製得平均粒徑0.3 μm之球狀非晶質二氧化矽粉末，添加於含Ca及Al之水溶液中，一邊攪拌混合，一邊添加檸檬酸。藉由該操作，使Ca及Al之檸檬酸鹽吸附於二氧化矽表面後，一邊攪拌一邊加熱將水分除去使乾燥(水分之乾燥．除去)。其後，於空氣中加熱至700℃將檸檬酸鹽轉變成氧化物。將所製得之鍛燒物以瑪瑙乳缽搗碎製得粉末狀之前驅體化合物。前驅體之組成(單位莫耳%)為40.0%CaO－20.0%Al2 O3 －40.0%SiO2 。
將前驅體以－掃描電子顯微鏡(SEM)觀察，如圖1所示，僅觀察到球狀之二氧化矽，確認CaO與Al2 O3 未凝集而以層狀微細粉末吸附於二氧化矽之表面。
其次，將該前驅體化合物約0.5 g置入氧化鋁小舟內，放置於內徑24 mm之氧化鋁爐心管中，設置於在爐心管之外部具有發熱體之管狀爐中。由爐心管之一端以流量325 ml/分鐘導入氨氣氣體，以500℃/小時之速度升溫至700℃。由該溫度將氨氣氣體流量設定於1300 ml/分鐘，並且將甲烷氣體以流量19.5 ml/分鐘向爐內導入，繼續以200℃/小時之速度升溫至1300℃。於該溫度保持2小時後，停止甲烷氣體之供給，於氨氣氣流中冷卻至室溫。
製得之合成物保持前驅體之形態，可以瑪瑙乳缽簡單地搗碎。檢查製得之粉末之X射線繞射圖形(圖2)之結果，係Ca2 AlSi3 O2 N5 、AlN之混合物。該粉末之氮含量及氧含量分別為15.6%、16.9%。
(實施例2)
將由高純度烷氧基矽烷以溶膠凝膠法合成製得平均粒徑0.3 μm之球狀非晶質二氧化矽粉末，添加於含Ca及Al之水溶液中，一邊攪拌混合，一邊添加檸檬酸。藉由該操作，使Ca及Al之檸檬酸鹽吸附於二氧化矽表面後，一邊攪拌一邊加熱將水分除去使之乾燥。其後，於空氣中加熱至700℃將檸檬酸鹽轉變成氧化物。將所製得之鍛燒物以瑪瑙研缽搗碎製得粉末狀之前驅體化合物。前驅體之組成(單位莫耳%)為40.0%CaO－20.0%Al2 O3 －40.0%SiO2 。將前驅體以掃描電子顯微鏡(SEM)觀察，如圖1所示，僅觀察到球狀之二氧化矽，確認CaO與Al2 O3 未凝集而以層狀微細粉末吸附於二氧化矽之表面。
其次，將該前驅體化合物約0.5 g置入氧化鋁小舟內，放置於內徑24 mm之氧化鋁爐心管中，設置於在爐心管之外部具有發熱體之管狀爐中。由爐心管之一端以流量325 ml/分鐘導入氨氣氣體，以500℃/小時之速度升溫至700℃。由該溫度將氨氣氣體流量設定於1300 ml/分鐘，並且將甲烷氣體以流量19.5 ml/分鐘向爐內導入，繼續以200℃/小時之速度升溫至1375℃。於該溫度保持4小時後，停止甲烷氣體之供給，於氨氣氣流中冷卻至室溫。
製得之合成物保持前驅體之形態，可以瑪瑙乳缽簡單地搗碎。檢查製得之粉末之X射線繞射圖形(圖3)之結果，係CaAlSiN3 、AlN之混合物。該粉末之氮含量及氧含量分別為30.2%、1.82%。
(實施例3~6)
使用與實施例1相同之前驅體化合物，於各條件進行還原氮化反應處理，製得於表1所示之粉末。又，將相對於氮含量及氧含量合計的氧含量重量比概述於表2。
(實施例7)
進行欲得到添加有Eu之組成式Eu0 . 0 1 CaSiAlN3 之以下合成。
將與實施例1相同之前驅體化合物約0.5 g置入氧化鋁小舟內，放置於內徑24 mm之氧化鋁爐心管中，設置於在爐心管之外部具有發熱體之管狀爐中。由爐心管之一端以流量325 ml/分鐘導入氨氣氣體，以500℃/小時之速度升溫至700℃。由該溫度將氨氣氣體流量設定於1300 ml/分鐘，並且將甲烷氣體以流量19.5 ml/分鐘向爐內導入，繼續以200℃/小時之速度升溫至1375℃。於該溫度保持4小時後，停止甲烷氣體之供給，於氨氣氣流中冷卻至室溫。製得之合成物保持前驅體之形態，可以瑪瑙乳缽簡單地搗碎。檢查製得之粉末之X射線繞射圖形結果，係CaAlSiN3 、AlN之混合物，未檢測出SiO2 、Al2 O3 、CaO等。隨後，使用該粉末0.15 g，製得藉由超音波使之均勻地分散於乙醇中之膠狀溶液。於其中添加濃度1 mgEu/ml之硝酸銪水溶液1.66 ml後進行加熱乾燥，製得均一之粉體。將該粉體全量置入氧化鋁小舟內，放置於內徑24 mm之氧化鋁爐心管中，設置於在爐心管之外部具有發熱體之管狀爐中。由爐心管之一端以流量325 ml/分鐘導入氨氣氣體，以500℃/小時之速度升溫至700℃。由該溫度將氨氣氣體流量設定於1300 ml/分鐘，並且將甲烷氣體以流量19.5 ml/分鐘向爐內導入，繼續以200℃/小時之速度升溫至1500℃。於該溫度保持15分鐘後，停止甲烷氣體之供給，於氨氣氣流中冷卻至室溫。
製得之合成物保持前驅體之形態，可以瑪瑙乳缽簡單地搗碎。檢查製得之粉末之X射線繞射圖形結果，係CaAlSiN3 、AlN之混合物。使用日立高科技公司製之螢光分光光度計F4500型，進行製得之合成物之激發譜圖及螢光譜圖之測定，如於圖5所示，以300 nm至450 nm之紫外線至藍色光激發，確認係於620 nm具有發光峰值波長之紅色螢光體。因此，發現：使之與藍色LED組合，可適用於白色LED照明器具。
圖1係實施例1之前驅體之SEM照片。
圖2係實施例1之合成物之X射線繞射圖形。
圖3係實施例2之合成物之X射線繞射圖形。
圖4係揭示實施例1之順序之流程圖。
圖5係實施例7之合成物之激發光譜圖。

Claims (13)

  1. 一種以氮化物或氮氧化物作為主成分且具有與CaAlSiN3 或SrAlSiN3 相同之結晶構造之無機結晶之製造方法，係對至少包含M、Si、Al、O之元素(其中，M為選自Mg、Ca、Sr、Ba之1種或2種以上之元素)、根據需要包含R之元素(其中，R為選自Mn、Ce、Pr、Nd、Eu、Tb、Dy、Er、Tm、Yb之1種或2種以上之元素)、根據需要包含N之元素、且M、R、Si、Al、O、N之原子數之比a、b、c、d、e、f(其中a+b+c+d+e+f=1)滿足下列關係：0.1≦a≦0.3 0≦b≦0.1 0.1≦c≦0.3 0.1≦d≦0.3 0.01≦e≦0.6 0≦f≦0.6之前驅體化合物，於包含氨氣氣體與甲烷或丙烷氣體之混合氣體之還原氮化氣氛中實施加熱處理，藉由使該前驅體化合物中之氧含量減少並且使氮含量增加而合成者。
  2. 如請求項1之製造方法，其中該前驅體化合物係氧化物或氫氧化物之混合物。
  3. 如請求項1或2之製造方法，其中包含於所合成之上述無機結晶中之氧與氮之量，以重量比滿足下列關係：0≦O/(O+N)≦0.20。
  4. 如請求項3之製造方法，其中所合成之上述無機結晶為粉末形態。
  5. 如請求項1之製造方法，其中所合成之上述無機結晶係CaAlSiN3 、SrAlSiN3 或(Ca、Sr)AlSiN3 結晶、或者該等之固溶體結晶。
  6. 如請求項1或2之製造方法，其中上述前驅體化合物係：至少包含藉由加熱成為二氧化矽、氧氮化矽或氮化矽之化合物(化合物SiX)、藉由加熱成為M之氧化物、氮氧化物或氮化物之化合物(化合物MX)、藉由加熱成為氧化鋁、氧氮化鋁或氮化鋁之化合物(化合物AlX)、及根據需要之藉由加熱成為R之氧化物、氮氧化物或氮化物之化合物(化合物RX)之混合物，上述化合物SiX係選自二氧化矽(SiO2 )、氧氮化矽(Si2 N2 O)、氮化矽(Si3 N4 )之1種或2種以上之混合物，上述化合物MX係選自M之氧化物、氫氧化物、烷氧化物、碳酸鹽、硝酸鹽、氯化物之1種或2種以上之混合物，上述化合物AlX係選自鋁之氧化物、氫氧化物、烷氧化物、碳酸鹽、硝酸鹽、氯化物之1種或2種以上之混合物，上述化合物RX係選自R之氧化物、氫氧化物、烷氧化物、碳酸鹽、硝酸鹽、氯化物之1種或2種以上之混合物。
  7. 如請求項6之製造方法，其中上述化合物SiX之平均粒徑為500nm以下。
  8. 如請求項6之製造方法，其中上述化合物MX之粒子、上述化合物AlX之粒子、上述化合物RX之粒子之平均粒徑 較上述化合物SiX之粒子之2μm以下之平均粒徑小，上述化合物MX之粒子、上述化合物AlX之粒子、上述化合物RX之粒子附著於上述化合物SiX之粒子表面。
  9. 如請求項6之製造方法，其中上述前驅體化合物係：於使上述化合物MX、上述化合物AlX、及根據需要之上述化合物RX溶解於溶劑之溶液中使上述化合物SiX之粒子分散後，乾燥、脫溶劑而製得之將M、Al及根據需要之R之化合物附著於上述化合物SiX之粒子表面之形態之混合物。
  10. 如請求項6之製造方法，其中上述前驅體化合物，係於使上述化合物MX、上述化合物AlX、及根據需要之上述化合物RX溶解之水溶液中使上述化合物SiX分散後，添加檸檬酸、乾燥、脫水而製得之複合檸檬酸鹽。
  11. 如請求項6之製造方法，其中上述前驅體化合物係：於使上述化合物MX、上述化合物AlX、及根據需要之上述化合物RX溶解之水溶液中使上述化合物SiX分散後，添加檸檬酸、乾燥、脫水而製得複合檸檬酸鹽並對其實施加熱處理分解除去檸檬酸之化合物。
  12. 如請求項1或2之製造方法，其中上述進行加熱處理之溫度為1000℃以上1800℃以下。
  13. 一種螢光體之製造方法，其特徵在於：如請求項1或2之方法製造之無機結晶係包含MSiAlN3 結晶(其中，M為選自Mg、Ca、Sr、Ba之1種或2種以上之元素)，以該製造之無機結晶中進一步混合包含R元素(其中，R為選自 Mn、Ce、Pr、Nd、Eu、Tb、Dy、Er、Tm、Yb之1種或2種以上之元素)之化合物，藉由在含氮氣氛中於1200℃以上2000℃以下之溫度煅燒，製得將R賦活於MSiAlN3 結晶之螢光體。
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