TWI403467B - 含有有機硫化合物之排水之處理裝置 - Google Patents
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Description
本發明涉及對包含DMSO(二甲亞碸)、磺酸類等的有機硫化合物的排水進行生物處理的裝置,本發明特別是涉及降低對有機硫化合物進行生物處理時產生的臭氣,並且穩定地獲得良好的水質的處理水的包含有機硫化合物的排水的處理裝置。
近年,在半導體製造工序、液晶板製造工序中大量地採用DMSO。比如,在液晶板製造領域,採用在二甘醇單丁醚、2-胺基乙醇、2,2-胺乙基胺基乙醇(aminoethyl aminoethanol)等中添加DMSO而形成的清洗劑。由此,這些包含DMSO的排水的處理方法變得重要。
由於DMSO可生物分解,故進行生物處理是經濟的處理,但是,如果對包含DMSO的排水進行生物處理,則具有從曝氣槽和處理水產生臭氣的問題,該問題是由於DMSO生物分解的過程中產生的代謝物中,殘留有DMS(二甲硫)、MM(甲硫醇)。
於是,作為DMS和MM的殘留量少、充分實現應對它們的惡臭的措施的包含DMSO的排水的活性污泥處理裝置,人們提出有下述的需氧的處理裝置(JP特許第3331623號文獻),該需氧的處理裝置包括串聯的3個以上的多個曝氣槽;將包含氧的氣體散發到流入有被處理排水的第1曝氣槽中的機構;將下游側被連接曝氣槽的上游側的各曝氣槽排出的擴散排氣擴散到更下游側的曝氣槽中的機構;對上述第1曝氣槽的流出液進行固液分離的機構;將通過該固液分離機構分離的污泥返回到第1曝氣槽中的機構。
像一般的活性污泥處理設備那樣,如果要通過單一曝氣槽分解全部的有機物,則具有因有機物的分解性、分解速度的差,一部分在分解不充分的狀態流出的危險性。特別是,在DMSO分解的場合,預計與從DMSO到DMS的分解速度相比,從DMS到MM的分解速度要低,會導致DMS的處理尚不充分就流出。
相對該情況,在JP特許第3331623號文獻的需氧的處理裝置中,通過按照多段進行曝氣處理,即使因負荷量或濃度的變化,在前段的曝氣槽處理不充分的DMS,還可在後段的曝氣槽中有效地處理,降低殘留的DMS、MM造成的惡臭。
另外,在DMSO的生物分解的場合,由於不僅必須要求碳和氫氧化,而且還必須要求硫氧化,故必要的氧量非常多。另外,如果因生物反應槽內的氧不足,形成還原性氣氛,則像下述的反應式那樣,產生作為惡臭成分的DMS、MM。
(CH3
)2
SO+H2
→ (CH3
)2
S+H2
O 2(CH3
)2
SO+H2
→ 2(CH3
)2
SH+2H2
O
於是,人們還提出有以較高程度保持生物反應槽內的溶氧,並且使處理水循環的方法(JP特許第2769973號文獻)等。另外,人們也提出有可將大量的氧供到槽內的曝氣裝置(JP特許第3555557號文獻)。
專利文獻1:JP特許第3331623號文獻專利文獻2:JP特許第2769973號文獻專利文獻3:JP特許第3555557號文獻
不限於包含DMSO的排水的生物處理,由於生物處理反應槽一般必須要求採用較大的容量,故具有必須將生物反應槽分成多個槽,以便確保反應槽的強度的情況。另外,由於可通過串聯地設置多個反應槽來降低未處理水的短流(short pass)的影響,故人們希望還為了獲得良好的處理水質,串聯地設置多個反應槽。
但是,在將多個反應槽串聯,對包含DMSO的排水進行處理的場合,具有下述這樣的問題。
即,由於串聯的多個反應槽的第1段直接流入未處理水,故必須要求採用大量的氧,特別容易形成還原的氣氛,其結果是,容易產生DMS、MM的發生造成的臭氣的問題,而不容易將足夠的氧供給像這樣必須要求採用大量的氧的第1段的反應槽中。可通過JP特許第3555557號文獻所述的曝氣裝置,提高氧的溶解量,但是,人們希望採用這樣的特殊的裝置來應對。
另外,如果採用JP特許第3331623號文獻的裝置,則通過將前段的曝氣槽的排氣送給後段的曝氣槽進行曝氣,可解決惡臭的問題,但是,在該裝置的場合,吸引前段的曝氣槽的排氣的散氣設備容易腐蝕,另外,由於在前段的曝氣槽中消耗氧,氧濃度降低,故後段的散氣效率低,由此,散氣所必需的動力增加。另外,還具有因將曝氣槽的頂部密封,設備成本較高的不利情況。
另外,這樣的問題不限於DMSO,對於包含磺酸類等的有機硫化合物的排水的處理,同樣存在問題。
於是,本發明的目的在於提供一種包含有機硫化合物的排水的處理裝置,其通過串聯地設置2個以上的需氧性生物反應槽的裝置,每當對包含有機硫化合物的排水進行處理時,通過簡單的設備降低所產生的臭氣,並且進行穩定的處理,獲得良好的水質的處理水。
本發明(1)的包含有機硫化合物的排水的處理裝置將包含有機硫化合物的排水導入到需氧性生物反應槽內對其進行處理,其特徵在於按照將前段的反應槽的流出液供給下段的反應槽的方式串聯地設置2個槽或以上的需氧性生物反應槽,將包含有機硫化合物的排水分別注入到多個該反應槽中。
發明(2)涉及發明(1)所述的包含有機硫化合物的排水的處理裝置,其特徵在於需氧性生物反應槽設置3個或以上,至少在末段的反應槽中未注入包含有機硫化合物的排水。
發明(3)涉及發明(1)或(2)所述的包含有機硫化合物的排水的處理裝置,其特徵在於需氧性生物反應槽設置3個或以上,在至少任意一個該反應槽中未注入包含有機硫化合物的排水,將包含有機硫化合物的排水以外的包含有機物的排水供給到未注入包含有機硫化合物的排水的該反應槽中。
發明(4)涉及發明(3)所述的包含有機硫化合物的排水的處理裝置,其特徵在於未注入包含有機硫化合物的排水的需氧性生物反應槽為最前段的該反應槽。
發明(5)涉及發明(1)~(4)中的任何一項所述的包含有機硫化合物的排水的處理裝置,其特徵在於需氧性生物反應槽為添加了生物載體的曝氣槽。
發明(6)涉及發明(1)~(5)中的任何一項所述的包含有機硫化合物的排水的處理裝置,其特徵在於在分別注入包含有機硫化合物的排水的反應槽中,設置pH值調整機構。
按照本發明的包含有機硫化合物的排水的處理裝置,通過將包含有機硫化合物的排水分別注入到串聯設置的多個需氧性生物反應槽中,可通過下述的作用機構降低臭氣。
即,由於通過分別注入包含有機硫化合物的排水,每個所注入的反應槽的BOD負荷量降低,故每個反應槽的氧要求量降低,即使不採用特殊的曝氣裝置,仍可防止容易地處於缺氧的狀態的情況。比如,在串聯地設置4個反應槽的裝置中,如果在第1段的反應槽中注入全部量的包含有機硫化合物的排水,則各反應槽的必要氧量按照第1段:第2段:第3段:第4段=4:2:1:1的方式在前段偏多,在前段容易產生氧不足。相對該情況,按照本發明,如果將包含有機硫化合物的排水分別注入到第1段、第2段、第3段的反應槽中,則整體的氧必要量不變化,按照第1段:第2段:第3段:第4段=2:2:2:2的方式,必要氧量在各槽中平均,難以產生氧極端不足的情況。由此,減少因氧不足,還原氣氛造成的DMS、MM等的臭氣物質的產生所引起的臭氣。
本發明的包含有機硫化合物的排水的處理裝置可在按照多段設置的反應槽中,僅僅設置包含有機硫化合物的排水的分別注入管,也不必要求設置特殊的曝氣裝置和排氣吸引機構等,可通過簡單的設備實現低成本。
按照發明(2)所述的包含有機硫化合物的排水的處理裝置,設置3個以上的需氧性生物反應槽,不在未段的反應槽中注入包含有機硫化合物的排水,由此,防止有機硫化合物的短流,充分地分解而消除有機硫化合物,並且不對末段的反應槽施加有機硫化合物的負荷,由此,可在該反應槽中有效地分解殘留TOC,充分地降低所獲得的處理水的TOC。
按照發明(3)所述的包含有機硫化合物的排水的處理裝置,設置3個以上的需氧性生物反應槽,將包含有機硫化合物的排水以外的包含其他的有機物的排水供給到未分別注入包含有機硫化合物的排水的反應槽中,由此,還可同時對包含其他的有機物的排水進行處理。在該場合,將包含其他的有機物的排水供給到未分別注入包含有機硫化合物的排水的反應槽中,不將包含其他的有機物的排水供給到分別注入包含有機硫化合物的排水的反應槽中,由此,在分別注入包含有機硫化合物的排水的反應槽中,有機硫化合物同化菌佔優勢,可提高有機硫化合物的分解效率,並且抑制其他的有機物負荷,防止氧不足,促進有機硫化合物的分解,可充分地降低最終處理水的TOC。
按照發明(4)所述的包含有機硫化合物的排水的處理裝置,通過採用添加生物載體的曝氣槽中,將有機硫化合物同化菌附著於載體上,高濃度地保持於槽內,由此,可提高有機硫化合物的分解效率。
按照發明(5)所述的包含有機硫化合物的排水的處理裝置,通過在分別注入包含有機硫化合物的排水的各反應槽中進行pH值調整,由此,防止有機硫化合物的分解造成的pH的降低而引起的反應活性的減小。
下面對本發明的包含有機硫化合物之排水之處理裝置的實施形式進行具體描述。
另外,在下面的描述中,作為包含有機硫化合物的排水,以對包含DMSO的排水進行處理的場合為實例對本發明進行描述,但是,本發明不限於DMSO,本發明可同樣地用於包含磺酸類、包含其他的有機硫化合物的排水。
(包含DMSO的排水)在本發明中,作為處理物件的包含DMSO的排水為包含從半導體工廠、液晶工廠、其他的領域排出的DMSO的排水,既可為僅僅包含DMSO的排水,也可為同時還包含TMAH(四甲基氫氧化銨)、2-胺基乙醇、異丙醇等的排水,另外,還可為由包含DMSO的排水和包含其他的有機物的排水混合形成的排水。另外,包含DMSO的排水具有包含高濃度的DMSO的排水,經稀釋後作為中濃度、低濃度排水而排出的情況,它們均構成本發明的處理物件。
(需氧性生物反應槽)在本發明中,作為所採用的多個需氧性生物反應槽,沒有特別的限制,可採用通常使用的任意的生物反應槽。
具有比如,空氣擴散裝置、機械曝氣機等的供氧機構的曝氣槽可採用以浮游狀態保持污泥(微生物)的浮游方式、微生物保持載體與浮泥污泥一起存在的載體添加方式、填充活性炭等的微生物載體以形成固定床的生物過濾方式、使填充層流動的流動層方式、採用上浮載體的上浮填充層方式、形成微生物污泥層的污泥層方式等的各種方式的槽。
在採用生物載體的場合,載體可採用海綿小片、活性炭等的任意的載體。由於海綿的表面積較大,直至內部的通水性也優良,比重接近水,故適合保持DMSO同化菌。最好,按照表觀容積計,生物載體的添加量與反應槽的容積的比在20~50%的範圍內。
在必須採用浮游方式的反應槽等,將處理水和污泥分離的場合,比如,設置沉澱槽、膜篩檢程式等的固液分離機構。已分離的污泥的一部分作為返回污泥,返回到最前段的需氧性生物反應槽中。在將生物載體投入到需氧性生物反應槽內的場合,也可無需後段的沉澱槽等的固液分離機構。
另外,所採用的多個需氧性生物反應槽不必全部為相同類型的反應槽,也可將不同類型的反應槽組合而使用。
(營養源)為了微生物保持活性、實現繁殖,必須要求採用碳源、氮源、磷源,另外,各種微量金屬也不能缺少。在這些營養源存在於被處理排水中的場合不必添加,但是,在包含DMSO的排水的場合,通常必須添加氮、磷。
氮源可採用包含胺化合物、尿素、氮的有機化合物等,磷源可採用磷酸鹽等。另外,既可將包含胺或氮的有機化合物等的凱達爾測定氮(kjeldahl)方式得到氮成分的排水,比如將上述的TMAH排水用作氮源,也可將包含磷酸的排水用作磷源。
通常,按照被處理排水的BOD:N:P在100:2.5:0.5~100:5:1(重量比)的範圍內的方式,最好根據需要,在包含DMSO的排水中,添加氮源、磷源,將其導入需氧性生物反應槽中。
(需氧的處理條件)作為曝氣槽的處理條件通常按照下述方式調整,即,需氧性生物反應槽的負荷在0.5kg-BOD/m3
/天以下的範圍內,比如,按照0.3~0.4kg-BOD/m3
/天的範圍內,MLSS在3000~5000mg/L的範圍內,比如,為4000mg/L,反應時間在1小時或以上,比如,在2~8小時的範圍內,pH值在6.5~8.5的範圍內,特別是在7.0~8.0的範圍內較好。
在包含DMSO的排水的處理中,由於因DMSO的分解pH值降低,故最好通過添加氫氧化鈉等的減或鹼性排水等,進行上述pH值的調整,以便保持DMSO的分解效率。最好,該pH值調整在分別注入包含DMSO的排水的全部槽中進行,最好根據情況,還在分別注入包含DMSO的排水反應槽中的下一段的未注入包含DMSO的排水的反應槽中進行pH值調整。
另外,按照至少分別注入包含DMSO的排水的反應槽的溶氧(DO)濃度在0.5mg/L以上,特別是最好在1.5mg/L以上,比如,在1.5~2.0mg/L的範圍內方式進行曝氣處理。
(包含DMSO的排水的分別注入)在本發明的包含DMSO的排水的處理裝置中,必須按照前段的反應槽的流出液供給下段的反應槽的方式串聯地設置2個以上的需氧性生物反應槽,將包含DMSO的排水分別注入到2個以上的反應槽中。
在此場合,具有在分別注入包含DMSO的排水的反應槽中,產生部分的未處理水的短流,未處理的包含DMSO的排水的一部分流出,處理水質變差的危險。由此,為了防止這樣的短流造成的水質下降,最好不在末段的反應槽中注入包含DMSO的排水。另外,如後面所述,像將本發明的裝置的處理水用作純水製造用原水的場合那樣,在特別是必須要求高水質的處理水的場合,最好設置2段以上的不分別注入包含DMSO的排水的反應槽;特別是不在末段的反應槽與前一段的反應槽中,注入包含DMSO的排水。像這樣,通過不在末段的反應槽或其更前一段的反應槽中分別注入包含DMSO的排水,不僅防止包含DMSO的排水的短流,而且DMSO的負荷不作用於未分別注入包含DMSO的排水的反應槽,由此,可提高殘留的TOC的分解效率,同樣通過該方式,可降低處理水的TOC。
在本發明中,多個串聯的反應槽的數量沒有特別的限制,考慮所處理的包含DMSO的排水的水質或必要的臭氣降低效果、裝置設置空間和成本等而適當確定。在普通的場合,最好,設置2~6個反應槽,特別是最好4~5個反應槽。
可按照提高分別注入包含DMSO的排水的反應槽容量相對裝置整體的反應槽容量的比例的程度,提高臭氣降低效果,但是,如果該比例過高,則容易產生未處理水的短流造成的處理水的降低的問題。於是,分別注入包含DMSO的排水的反應槽容量相對裝置整體的反應槽的比例最好在30~90%,特別是50~80%的範圍內。另外,各反應槽的容量不必一定相同,也可不同。
最好,按照分別注入包含DMSO的排水的各反應槽的BOD槽負荷相同的方式,進行分別注入的包含DMSO的排水的量的調整。因此,最好各反應槽的未處理水注入機構可分別調節未處理水流量,另外,也可為了檢測流入水質的變化,設置TOC儀或導電率儀,此外,根據這些值控制向各反應槽的流入量。還有,還可在分別注入包含DMSO的排水的反應槽中設置DO儀、按照各反應槽的DO值平均的方式控制分別注入量。如後面所述,在對包含DMSO的排水和包含其他的有機物的排水進行處理的場合,在可根據TOC、導電率推定BOD時,最好根據這些測定值,按照各反應槽的BOD負荷相同的方式控制注入量。
因此,本發明的裝置按照下述方式設計,該方式為:按照多段串聯地設置反應槽,設置未處理水的分別注入管,但是,也可根據包含DMSO的排水的水質變化調整分別注入的反應槽的數量,或在特別是包含DMSO的排水中的DMSO濃度暫時地降低的場合,將包含DMSO的排水僅僅注入到1個反應槽中。另外,還可對應於包含其他的有機物的排水的導入的有無,改變分別注入的反應槽,也可自動地進行這些控制。
(包含其他的有機物的排水)在本發明的裝置中,可將作為包含TMAH的排水、包含MEA(一乙醇胺)的排水、包含醋酸的排水等的來自半導體製造工序及液晶板製造工序的其他工序的排水的,包含其他的有機物的排水與包含DMSO的排水一起送入,同時對它們進行處理,該其他的有機物也與DMSO一起分解。
在此場合,最好將包含其他的有機物的排水送入未分別注入包含DMSO的排水的反應槽中。特別是最好作為導入包含其他的有機物的排水的反應槽為最前段的反應槽,更好是將包含其他的有機物的排水送入最前段的反應槽,將包含DMSO的排水分別注入到第2段以後的反應槽。這樣做的目的在於希望事先在對包含DMSO的排水進行處理的反應槽中,降低包含其他的有機物的混合量,以便盡可能地使DMSO同化菌佔優勢,另外,通過事先抑制有機物負荷,防止氧不足、促進DMSO的分解。
即,比如,像包含TMAH的排水等那樣,包含具有TMAH的排水成分的排水構成氮源,另一方面,通過生物處理在硝酸氮中氧化用的氧的消耗量較多。因此,最好將這樣的包含其他的有機物的排水送入前段的反應槽中,不形成分別注入包含DMSO的排水的反應槽中的氧消耗源。最好像這樣即使在同時對包含其他的有機物的排水進行處理的情況下,通過區分包含有機物的排水的送入反應槽和包含DMSO的排水的分別注入反應槽,能降低最終處理水的TOC。另外,注入包含其他的有機物的排水,而不分別注入包含DMSO的排水的反應槽不必按照分別注入包含DMSO的排水的反應槽的程度,將DO濃度保持在較高程度,可稍稍降低該反應槽的DO濃度,降低曝氣槽成本。
(處理水的回收)也可在對包含DMSO的排水進行處理後將處理水排放,但是還可將其再次用於任意的用途。比如,在將處理水用作純水製造的原水的場合,可在本發明的裝置後,通過純水製造設備獲得純水,而該純水製造設備通過將逆浸透膜分離裝置等的膜分離裝置、混床型純水裝置、2床3塔型純水裝置、連續式電動脫鹽裝置等的離子交換裝置、紫外線氧化裝置等的氧化裝置、活性炭塔等的吸附裝置、空氣擴散裝置等的各種裝置任意地組合而形成。
在此場合,最好在本發明的裝置中盡可能地事先降低處理水的TOC,降低純水製造設備的負荷,因此,為了進一步降低處理水的TOC,最好進行如下的調整,即,如前面所述,不在末段的反應槽中注入包含DMSO的排水;另外,設置2段以上的不分別注入包含DMSO的排水的反應槽;在對包含其他的有機物的排水進行處理的場合,將包含其他的有機物的排水注入到最前段的反應槽中,將包含DMSO的排水分別注入到第2段以後的反應槽中。
(具體的裝置結構)第1圖~第3圖為表示本發明的包含DMSO的排水的處理裝置的實施形式的系統圖。
在第1圖~第3圖的裝置中,均串聯地設置4個需氧性生物反應槽(曝氣槽)1~4,通過配管21將第1曝氣槽1的流出液導入第2曝氣槽2,通過配管22將第2曝氣槽2的流出液導入第3曝氣槽3,通過配管23將第3曝氣槽3的流出液導入第4曝氣槽4,通過配管24將第4曝氣槽4的流出液導入沉澱槽5,通過配管25將沉澱槽5的上澄水作為處理水排到系統之外,通過配管26,將沉澱槽5的分離污泥的一部分作為剩餘污泥排到系統之外,通過配管20將剩餘部分作為返回污泥返回到第1曝氣槽1。另外,在第3圖的裝置中,將生物載體6投入到各曝氣槽1~4中。
在第1圖的裝置中,通過配管10導入的包含DMSO的排水通過配管11、12、13分別注入到各曝氣槽1~4中。在該裝置中,包含DMSO的排水分別注入到4個曝氣槽中,由此,謀求臭氣的減少。
在第2圖的裝置中,通過配管10導入的包含DMSO的排水通過配管11、12、13分別注入到末段的第4曝氣槽4以外的曝氣槽1~3中。在第2圖的裝置中,包含DMSO的排水分別注入到末段以外的3個曝氣槽中,由此,謀求臭氣的減少的同時處理水質的提高。
在第3圖的裝置中,通過配管30導入的包含TMAH的排水注入到第1曝氣槽中,通過配管10導入的包含DMSO的排水通過配管12、13導入第1曝氣槽1和第4曝氣槽4以外的第2、第3曝氣槽2、3中。在第3圖的裝置中,可將包含TMAH的排水與包含DMSO的排水一起進行處理,在此場合,可有效地將包含TMAH的排水用作氮源。另外,將包含TMAH的排水注入到不同於分別注入包含DMSO的排水的曝氣槽的前面的曝氣槽中,將包含DMSO的排水分別注入到注入有包含TMAH的排水的曝氣槽和末段的曝氣槽以外,並且採用生物載體,由此,可謀求臭氣的減少、處理水質的提高、實現穩定處理。
下面列舉實施例和比較例,對本發明進行更具體的描述。
另外,對於以下的實施例和比較例所採用的第1~第4曝氣槽1~4,均按照容量:100L,MLSS:4000mg/L,DO:0.1~2.5mg/L,pH值在7.0~8.0的範圍內的方式調整。沉澱槽5的分離面積:0.5m2
,從沉澱槽5到第1曝氣槽的返回污泥量為1440L/日。
此外,作為未處理水的包含DMSO的排水的水質如下所述,未處理水的處理量為1440L/日。
(包含DMSO的排水)溶解性TOC:45.2mg/L DMSO:62.3mg/L通過凱達爾測定法得到的氮:0.5mg/L
在第1圖所示的裝置中,每次按照15L/h的流速將未處理水分別注入到第1~第4曝氣槽1~4的各曝氣槽中,對其進行處理。另外,按照將TOC的3倍假定為BOD,BOD:N:P=100:5:1(重量比)的方式,在未處理水中添加氮、磷、進行通水。
調查已獲得的處理水的水質和各曝氣槽排氣中的DMS濃度,其結果列於表1中。
採用第2圖所示的裝置,每次按照20L/h的流速將未處理水分別注入到第1~第3曝氣槽1~3中,除此以外,按照與實施例1相同的方式對其進行處理,已獲得的處理水的水質和各曝氣槽排氣中的DMS濃度在表1中列出。
像第3圖所示的那樣,採用在各曝氣槽1~4中以表觀容量計,按照槽容量的30%添加邊長為3mm的正方形的海綿的裝置,每次按照30L/h的流速將未處理水分別注入到第2~第3曝氣槽2、3中,將下述的水質的包含TMAH的排水供給到第1曝氣槽中,在未處理水中,將TOC的3倍假定為BOD,以BOD:P=100:1(重量比)的比例添加磷,除此以外按照與實施例1相同的方式,對其進行處理,已獲得的處理水的水質和各曝氣槽排氣中的DMS濃度在表1中列出。
(包含TMAH的排水)溶解性TOC:32.8mg/L TMAH:53.8mg/L通過凱達爾測定法得到的氮:12.3mg/L
除了將未處理水全部注入到第1曝氣槽1中以外,按照與實施例1相同的方式進行處理,已獲得的處理水的水質和各曝氣槽排氣中的DMS濃度在表1中列出。
除了將未處理水全部注入到第1曝氣槽1中以外,按照與實施例3相同的方式進行處理,已獲得的處理水的水質和各曝氣槽排氣中的DMS濃度在表1中列出。
根據表1,便清楚以下的效果。
與比較例1相比較,對於實施例1、2,臭氣均大幅度地降低,特別是在實施例2的場合,獲得與比較例1相同的良好的處理水質。
另外,與比較例2相比較,在實施例3的場合,臭氣均大幅度地降低,獲得相同的良好的處理水質。
根據這些結果而知道,按照本發明,通過簡單的處理設備,能抑制惡臭的發生,獲得穩定的處理水質。
1...第1曝氣槽
2...第2曝氣槽
3...第3曝氣槽
4...第4曝氣槽
5...沈澱槽
6...載體
10,11,12,13,14,20,21,22,23,24,25,26...配管
第1圖為表示本發明的包含有機硫化合物之排水之處理裝置的實施形式的系統圖;第2圖為表示本發明的包含有機硫化合物之排水的另一處理裝置的實施形式的系統圖;第3圖為表示本發明的包含有機硫化合物的排水的還一處理裝置的實施形式的系統圖。
1...第1曝氣槽
2...第2曝氣槽
3...第3曝氣槽
4...第4曝氣槽
5...沈澱槽
10,11,12,13,14,20,21,22,23,24,25,26...配管
Claims (6)
- 一種含有有機硫化合物之排水之處理裝置,在該裝置中,將包含有機硫化合物的排水導入到需氧性生物反應槽內,對其進行處理,其特徵在於按照將前段的該反應槽的流出液供給下段的該反應槽的方式串聯地設置2個槽以上的需氧性生物反應槽,將包含有機硫化合物的排水分別注入到多個該反應槽中,且至少在末段的該反應槽中未分別注入包含有機硫化合物的排水。
- 如申請專利範圍第1項之含有有機硫化合物之排水之處理裝置,其中需氧性生物反應槽設置3個以上。
- 如申請專利範圍第1或2項之含有有機硫化合物之排水之處理裝置,其中需氧性生物反應槽設置3個以上,在至少任意一個該反應槽中未分別注入包含有機硫化合物的排水,將包含有機硫化合物的排水以外的包含有機物的排水供給到未分別注入包含有機硫化合物的排水的該反應槽中。
- 如申請專利範圍第3項之含有有機硫化合物之排水之處理裝置,其中未分別注入包含有機硫化合物的排水的需氧性生物反應槽為最前段的該反應槽。
- 如申請專利範圍第1項之含有有機硫化合物之排水之處理裝置,其中需氧性生物反應槽為添加了生物載體的曝 氣槽。
- 如申請專利範圍第1項之含有有機硫化合物之排水之處理裝置,其中在分別注入包含有機硫化合物的排水的該反應槽中,設置pH值調整機構。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004334793A JP4670322B2 (ja) | 2004-11-18 | 2004-11-18 | 有機硫黄化合物含有排水の処理装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW200624390A TW200624390A (en) | 2006-07-16 |
TWI403467B true TWI403467B (zh) | 2013-08-01 |
Family
ID=36622474
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW94140014A TWI403467B (zh) | 2004-11-18 | 2005-11-15 | 含有有機硫化合物之排水之處理裝置 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4670322B2 (zh) |
KR (1) | KR101294489B1 (zh) |
CN (1) | CN100595165C (zh) |
TW (1) | TWI403467B (zh) |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100722929B1 (ko) | 2006-07-28 | 2007-05-30 | 이인형 | 물리화학적 및 생물학적 복합공정에 기반한 에탄올아민폐수의 고도처리방법 |
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JP5468251B2 (ja) * | 2008-12-26 | 2014-04-09 | 株式会社西原環境 | 担体投入型生物反応装置 |
AU2010238834B2 (en) | 2009-04-23 | 2015-06-18 | Fresenius Medical Care Deutschland Gmbh | Device, external functional device and treatment device for treating medical fluids |
JP5782229B2 (ja) * | 2010-03-31 | 2015-09-24 | 株式会社神鋼環境ソリューション | 排水処理方法 |
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2004
- 2004-11-18 JP JP2004334793A patent/JP4670322B2/ja active Active
-
2005
- 2005-11-11 KR KR20050107931A patent/KR101294489B1/ko active IP Right Grant
- 2005-11-15 TW TW94140014A patent/TWI403467B/zh not_active IP Right Cessation
- 2005-11-16 CN CN200510114992A patent/CN100595165C/zh not_active Expired - Fee Related
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2006142192A (ja) | 2006-06-08 |
TW200624390A (en) | 2006-07-16 |
KR101294489B1 (ko) | 2013-08-07 |
KR20060055343A (ko) | 2006-05-23 |
CN100595165C (zh) | 2010-03-24 |
CN1789169A (zh) | 2006-06-21 |
JP4670322B2 (ja) | 2011-04-13 |
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Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
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