JP3331623B2 - 好気性処理装置 - Google Patents
好気性処理装置Info
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- aeration
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- Activated Sludge Processes (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は好気性処理装置に係り、
特にジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）を含む排水を好
気性処理するにあたり、ＤＭＳＯの分解過程で発生する
硫化メチル（ＤＭＳ）やメチルメルカプタン（ＭＭ）に
よる悪臭の発生を防止した好気性処理装置に関する。
特にジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）を含む排水を好
気性処理するにあたり、ＤＭＳＯの分解過程で発生する
硫化メチル（ＤＭＳ）やメチルメルカプタン（ＭＭ）に
よる悪臭の発生を防止した好気性処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、液晶パネル製造分野でジエチレン
グルコールモノブチルエーテル、２−アミノエタノー
ル、２，２−アミノエチルアミノエタノールなどにＤＭ
ＳＯを添加してなる洗浄剤が用いられている。このよう
な洗浄剤に含まれる各成分は、当該各成分で馴養した細
菌を用いることにより生物分解することが可能であり、
基本的に活性汚泥処理が可能である。
グルコールモノブチルエーテル、２−アミノエタノー
ル、２，２−アミノエチルアミノエタノールなどにＤＭ
ＳＯを添加してなる洗浄剤が用いられている。このよう
な洗浄剤に含まれる各成分は、当該各成分で馴養した細
菌を用いることにより生物分解することが可能であり、
基本的に活性汚泥処理が可能である。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】近年、半導体製造工程
や液晶パネル製造工程でＤＭＳＯが多く使用されるよう
になり、これらＤＭＳＯ含有排水の処理方法が重要とな
っているが、一般的な活性汚泥処理により、これらのＤ
ＭＳＯ含有排水を処理すると、ＤＭＳＯの生分解の過程
で発生する代謝物のうち、ＤＭＳ及びＭＭが残留し、曝
気槽や処理水から臭気が発生する。このため、従来、Ｄ
ＭＳＯ含有排水の活性汚泥処理は困難であるとされてい
た。
や液晶パネル製造工程でＤＭＳＯが多く使用されるよう
になり、これらＤＭＳＯ含有排水の処理方法が重要とな
っているが、一般的な活性汚泥処理により、これらのＤ
ＭＳＯ含有排水を処理すると、ＤＭＳＯの生分解の過程
で発生する代謝物のうち、ＤＭＳ及びＭＭが残留し、曝
気槽や処理水から臭気が発生する。このため、従来、Ｄ
ＭＳＯ含有排水の活性汚泥処理は困難であるとされてい
た。
【０００４】従って、ＤＭＳやＭＭの残留が少なく、こ
れらの悪臭対策が十分に行なえる、ＤＭＳＯ含有排水の
活性汚泥処理が要望されている。
れらの悪臭対策が十分に行なえる、ＤＭＳＯ含有排水の
活性汚泥処理が要望されている。
【０００５】本発明は上記従来の実情に鑑みてなされた
ものであって、曝気処理によりＤＭＳやＭＭ等の悪臭ガ
スが発生する物質を含む排水の好気性処理装置であっ
て、その分解過程で発生する悪臭の問題を解決した好気
性処理装置を提供することを目的とする。
ものであって、曝気処理によりＤＭＳやＭＭ等の悪臭ガ
スが発生する物質を含む排水の好気性処理装置であっ
て、その分解過程で発生する悪臭の問題を解決した好気
性処理装置を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】請求項１の好気性処理装
置は、曝気処理により悪臭ガスが発生する排水の好気性
処理装置であって、直列に連絡された３槽以上の複数の
曝気槽と、被処理排水が流入する第１の曝気槽に、酸素
含有ガスを散気する手段と、下流側に曝気槽が連絡され
ている上流側の各曝気槽から排出された散気排ガスを次
の下流側の曝気槽に散気する手段と、前記第１の曝気槽
の流出液を固液分離する手段と、該固液分離手段で分離
された汚泥を第１の曝気槽に返送する手段とを備えてな
ることを特徴とする。
置は、曝気処理により悪臭ガスが発生する排水の好気性
処理装置であって、直列に連絡された３槽以上の複数の
曝気槽と、被処理排水が流入する第１の曝気槽に、酸素
含有ガスを散気する手段と、下流側に曝気槽が連絡され
ている上流側の各曝気槽から排出された散気排ガスを次
の下流側の曝気槽に散気する手段と、前記第１の曝気槽
の流出液を固液分離する手段と、該固液分離手段で分離
された汚泥を第１の曝気槽に返送する手段とを備えてな
ることを特徴とする。
【０００７】請求項２の好気性処理装置は、請求項１の
装置において、被処理排水がジメチルスルホキシドを含
むものであることを特徴とする。
装置において、被処理排水がジメチルスルホキシドを含
むものであることを特徴とする。
【０００８】
【０００９】請求項３の好気性処理装置は、請求項３の
装置において、第２の曝気槽及び第２の曝気槽より後段
の曝気槽のうちの少なくとも１つの曝気槽の内部に充填
材を備えてなることを特徴とする。
装置において、第２の曝気槽及び第２の曝気槽より後段
の曝気槽のうちの少なくとも１つの曝気槽の内部に充填
材を備えてなることを特徴とする。
【００１０】なお、以下においては、被処理排水として
主にＤＭＳＯ含有排水を処理する場合について説明する
が、本発明の好気性処理装置は、ＤＭＳＯ含有排水に限
らず、曝気処理により悪臭ガスが発生する排水であれ
ば、他の排水にも有効である。
主にＤＭＳＯ含有排水を処理する場合について説明する
が、本発明の好気性処理装置は、ＤＭＳＯ含有排水に限
らず、曝気処理により悪臭ガスが発生する排水であれ
ば、他の排水にも有効である。
【００１１】
【作用】ＤＭＳＯの生分解経路は、ＤＭＳ、ＭＭを経由
して最終的には硫酸イオンまで、また、ＤＭＳからアル
デヒド、ギ酸を経由して炭酸ガスまで分解されること
が、Bont, Dijken等により報告されている（J.Gen.Micr
obiol., Vol.127(1981))。また、宮地、永見等により、
ＤＭＳＯとＤＭＳの分解に関与する酵素と、ＭＭに関与
する酵素は発現形態が異なり、ＤＭＳＯ、ＤＭＳ分解酵
素は基質が不足した状態においては早急に酵素の発現が
停止することが報告されている（第26回、第27回下水道
研究発表会講演集）。本発明者らの検討においても、Ｄ
ＭＳＯの分解はHypomicrobium に属するＤＭＳＯ分解菌
が存在する活性汚泥を用いることで分解はされるが、負
荷量や濃度の変動に対し、代謝物のＤＭＳが残留し悪臭
が発生し易い状況であった。また、前述した液晶パネル
製造工程で使用される有機物にＤＭＳＯを混合した場
合、ＤＭＳＯ単独の処理よりも、さらにＤＭＳの残留が
生じ易い傾向にあることも判明した。
して最終的には硫酸イオンまで、また、ＤＭＳからアル
デヒド、ギ酸を経由して炭酸ガスまで分解されること
が、Bont, Dijken等により報告されている（J.Gen.Micr
obiol., Vol.127(1981))。また、宮地、永見等により、
ＤＭＳＯとＤＭＳの分解に関与する酵素と、ＭＭに関与
する酵素は発現形態が異なり、ＤＭＳＯ、ＤＭＳ分解酵
素は基質が不足した状態においては早急に酵素の発現が
停止することが報告されている（第26回、第27回下水道
研究発表会講演集）。本発明者らの検討においても、Ｄ
ＭＳＯの分解はHypomicrobium に属するＤＭＳＯ分解菌
が存在する活性汚泥を用いることで分解はされるが、負
荷量や濃度の変動に対し、代謝物のＤＭＳが残留し悪臭
が発生し易い状況であった。また、前述した液晶パネル
製造工程で使用される有機物にＤＭＳＯを混合した場
合、ＤＭＳＯ単独の処理よりも、さらにＤＭＳの残留が
生じ易い傾向にあることも判明した。
【００１２】これらの報告例や検討結果から、ＤＭＳＯ
の分解は次のような特徴を持つものと推察される。 ＤＭＳＯからＤＭＳへの分解は容易に行なわれる
が、ＤＭＳからＭＭへの分解効率は、負荷量、濃度変
化、他の有機物との共存の有無などの条件により大幅に
低下する可能性がある。
の分解は次のような特徴を持つものと推察される。 ＤＭＳＯからＤＭＳへの分解は容易に行なわれる
が、ＤＭＳからＭＭへの分解効率は、負荷量、濃度変
化、他の有機物との共存の有無などの条件により大幅に
低下する可能性がある。
【００１３】 ＤＭＳＯからＤＭＳ、また、ＤＭＳか
らＭＭに分解する酵素は、基質濃度により酵素の発現量
が大きく異なり、基質の供給が停止したり、低濃度、低
負荷になったときには分解が停止する。
らＭＭに分解する酵素は、基質濃度により酵素の発現量
が大きく異なり、基質の供給が停止したり、低濃度、低
負荷になったときには分解が停止する。
【００１４】本発明の好気性処理装置は、ＤＭＳＯ含有
有機性排水を活性汚泥処理等の好気性処理するにあた
り、特にＤＭＳの残留による悪臭の発生を防止したもの
であり、３槽以上の複数の曝気槽を直列に連絡して、被
処理排水を３段階以上の多段処理にて曝気処理する。
有機性排水を活性汚泥処理等の好気性処理するにあた
り、特にＤＭＳの残留による悪臭の発生を防止したもの
であり、３槽以上の複数の曝気槽を直列に連絡して、被
処理排水を３段階以上の多段処理にて曝気処理する。
【００１５】これにより、排水中の生分解が容易な有機
物は第１曝気槽で分解され、後段の第２、第３………曝
気槽では、それぞれ、前段の第１、第２………曝気槽で
分解が不十分な有機物又は代謝物の分解が行なわれる。
物は第１曝気槽で分解され、後段の第２、第３………曝
気槽では、それぞれ、前段の第１、第２………曝気槽で
分解が不十分な有機物又は代謝物の分解が行なわれる。
【００１６】因みに、一般的な活性汚泥処理設備のよう
に、単一曝気槽で全ての有機物を分解しようとすると、
有機物の分解性、分解速度の差により、一部が分解不十
分な状態で流出する危険性がある。特に、ＤＭＳＯ分解
では、上述の如く、ＤＭＳＯからＤＭＳへの分解速度よ
り、ＤＭＳからＭＭへの分解速度が低いと予想され、Ｄ
ＭＳの処理が不十分のまま流出することとなる。
に、単一曝気槽で全ての有機物を分解しようとすると、
有機物の分解性、分解速度の差により、一部が分解不十
分な状態で流出する危険性がある。特に、ＤＭＳＯ分解
では、上述の如く、ＤＭＳＯからＤＭＳへの分解速度よ
り、ＤＭＳからＭＭへの分解速度が低いと予想され、Ｄ
ＭＳの処理が不十分のまま流出することとなる。
【００１７】これに対して、本発明の好気性処理装置で
は、多段にて曝気処理することにより、負荷量や濃度の
変動により前段の曝気槽で処理が不十分のＤＭＳについ
ても、後段の曝気槽で効率的に処理することが可能とな
る。
は、多段にて曝気処理することにより、負荷量や濃度の
変動により前段の曝気槽で処理が不十分のＤＭＳについ
ても、後段の曝気槽で効率的に処理することが可能とな
る。
【００１８】また、曝気槽の排ガスにはＤＭＳやＭＭが
含有され、これらは微量でも悪臭源となるため、脱臭処
理が不可欠となる。従って、曝気槽の排ガスはピートモ
スを充填した生物脱臭設備で別途処理することも考えら
れる。
含有され、これらは微量でも悪臭源となるため、脱臭処
理が不可欠となる。従って、曝気槽の排ガスはピートモ
スを充填した生物脱臭設備で別途処理することも考えら
れる。
【００１９】本発明の好気性処理装置では、前段の曝気
槽の排ガスを後段の曝気槽の通気源として散気すること
により、前段の曝気槽の排ガスをそれぞれ後段の曝気槽
で十分に脱臭処理することができる。
槽の排ガスを後段の曝気槽の通気源として散気すること
により、前段の曝気槽の排ガスをそれぞれ後段の曝気槽
で十分に脱臭処理することができる。
【００２０】このような本発明の好気性処理装置は、特
にＤＭＳＯ含有排水の処理に有効であり、ＤＭＳＯの分
解過程で発生するＤＭＳやＭＭを高度に処理してＤＭＳ
やＭＭに起因する悪臭を確実に防止することができる。
にＤＭＳＯ含有排水の処理に有効であり、ＤＭＳＯの分
解過程で発生するＤＭＳやＭＭを高度に処理してＤＭＳ
やＭＭに起因する悪臭を確実に防止することができる。
【００２１】特に、第１曝気槽の流出液を固液分離する
固液分離手段を設け、この固液分離手段で分離された汚
泥を第１曝気槽に返送することにより、第１曝気槽の細
菌相と第２曝気槽以降の曝気槽の細菌相とのそれぞれに
特徴をもたせ、第１曝気槽と第２曝気槽以降の曝気槽と
で異なる分解機能を付与し、より効率的な処理を行なえ
る。
固液分離手段を設け、この固液分離手段で分離された汚
泥を第１曝気槽に返送することにより、第１曝気槽の細
菌相と第２曝気槽以降の曝気槽の細菌相とのそれぞれに
特徴をもたせ、第１曝気槽と第２曝気槽以降の曝気槽と
で異なる分解機能を付与し、より効率的な処理を行なえ
る。
【００２２】また、この場合において、第２曝気槽以降
の曝気槽の少なくとも１つに充填材を設けることによ
り、当該曝気槽の細菌に特異性をもたせ、所定の物質を
優先的に分解するように機能させることにより、より一
層効率的な処理を行なえる。例えば、ＤＭＳＯ含有排水
の処理においては、第１曝気槽は各基質の濃度変動に抵
抗性のある完全混合方式が適しているが、後段の第２、
第３曝気槽では、主に第１曝気槽で処理できなかったＤ
ＭＳやＭＭを分解する細菌を優先的に保持することが重
要であり、そのために、充填材を用いた接触曝気方式と
するのが好適である。
の曝気槽の少なくとも１つに充填材を設けることによ
り、当該曝気槽の細菌に特異性をもたせ、所定の物質を
優先的に分解するように機能させることにより、より一
層効率的な処理を行なえる。例えば、ＤＭＳＯ含有排水
の処理においては、第１曝気槽は各基質の濃度変動に抵
抗性のある完全混合方式が適しているが、後段の第２、
第３曝気槽では、主に第１曝気槽で処理できなかったＤ
ＭＳやＭＭを分解する細菌を優先的に保持することが重
要であり、そのために、充填材を用いた接触曝気方式と
するのが好適である。
【００２３】
【実施例】以下に図面を参照して本発明の実施例につい
て詳細に説明する。図１は本発明の好気性処理装置の一
実施例を示す系統図である。
て詳細に説明する。図１は本発明の好気性処理装置の一
実施例を示す系統図である。
【００２４】本実施例の好気性処理装置は、直列に連絡
された３槽の曝気槽、即ち、第１曝気槽１、第２曝気槽
２、第３曝気槽３と、第１曝気槽１と第２曝気槽２との
間に設けられた中間沈殿槽４と、第３曝気槽３の後段に
設けられた最終沈殿槽５とを備えてなる。第１曝気槽
１、第２曝気槽２及び第３曝気槽３内には、それぞれ散
気板１Ａ、２Ａ、３Ａが設けられており、散気板１Ａに
は空気の導入管１１が接続されている。第１曝気槽１及
び中間沈殿槽４及び第２曝気槽２は密封槽とされてお
り、第１曝気槽１及び中間沈殿槽４の排ガスは第２曝気
槽２に散気されるように、散気板２Ａに配管１２、１
３、１４が接続されている。また、第２曝気槽２の排ガ
スは第３曝気槽３に散気されるように、散気板３Ａに配
管１５が接続されている。なお、第３曝気槽３及び最終
沈殿槽５は開放槽とされている。
された３槽の曝気槽、即ち、第１曝気槽１、第２曝気槽
２、第３曝気槽３と、第１曝気槽１と第２曝気槽２との
間に設けられた中間沈殿槽４と、第３曝気槽３の後段に
設けられた最終沈殿槽５とを備えてなる。第１曝気槽
１、第２曝気槽２及び第３曝気槽３内には、それぞれ散
気板１Ａ、２Ａ、３Ａが設けられており、散気板１Ａに
は空気の導入管１１が接続されている。第１曝気槽１及
び中間沈殿槽４及び第２曝気槽２は密封槽とされてお
り、第１曝気槽１及び中間沈殿槽４の排ガスは第２曝気
槽２に散気されるように、散気板２Ａに配管１２、１
３、１４が接続されている。また、第２曝気槽２の排ガ
スは第３曝気槽３に散気されるように、散気板３Ａに配
管１５が接続されている。なお、第３曝気槽３及び最終
沈殿槽５は開放槽とされている。
【００２５】６は被処理排水（本実施例ではＤＭＳＯ含
有排水）の貯留槽、２１は被処理排水を第１曝気槽１に
送給する配管、２２は第２曝気槽の流出水を中間沈殿槽
４に送給する配管、２３は中間沈殿槽４の分離水を第２
曝気槽２に送給する配管、２４は第２曝気槽２の流出水
を第３曝気槽３に送給する配管、２５は第３曝気槽３の
流出水を最終沈殿槽５に送給する配管、２６は最終沈殿
槽５の分離水を処理水として系外へ排出する配管であ
る。また、２７は中間沈殿槽４の沈降汚泥を第１曝気槽
１に返送する配管、２８は最終沈殿槽５の沈降汚泥を第
２曝気槽２に返送する配管である。
有排水）の貯留槽、２１は被処理排水を第１曝気槽１に
送給する配管、２２は第２曝気槽の流出水を中間沈殿槽
４に送給する配管、２３は中間沈殿槽４の分離水を第２
曝気槽２に送給する配管、２４は第２曝気槽２の流出水
を第３曝気槽３に送給する配管、２５は第３曝気槽３の
流出水を最終沈殿槽５に送給する配管、２６は最終沈殿
槽５の分離水を処理水として系外へ排出する配管であ
る。また、２７は中間沈殿槽４の沈降汚泥を第１曝気槽
１に返送する配管、２８は最終沈殿槽５の沈降汚泥を第
２曝気槽２に返送する配管である。
【００２６】なお、第１曝気槽１は、充填材のない完全
混合方式の曝気槽であるが、第２曝気槽２及び第３曝気
槽３はそれぞれ充填材２Ｂ、３Ｂを充填した接触曝気方
式とされている。
混合方式の曝気槽であるが、第２曝気槽２及び第３曝気
槽３はそれぞれ充填材２Ｂ、３Ｂを充填した接触曝気方
式とされている。
【００２７】本実施例の好気性処理装置により、ＤＭＳ
Ｏ含有排水を処理するには、まず、貯留槽６内のＤＭＳ
Ｏ含有排水を配管２１より第１曝気槽１に送給して、散
気板１Ａからの空気により曝気処理する。第１曝気槽１
の流出水は、配管２２より中間沈殿槽４に送給されて固
液分離され、沈降汚泥は配管２７より返送汚泥として第
１曝気槽１に返送され、一方、分離水は配管２３より第
２曝気槽２に送給される。第２曝気槽２においては、配
管１２、１３、１４を経て導入され、散気板２Ａより散
気された、第１曝気槽１及び中間沈殿槽４の排ガスによ
り、第２段目の曝気処理が行なわれる。第２曝気槽２の
流出水は、配管２４より第３曝気槽３に送給され、配管
１５を経て導入され散気板３Ａより散気された、第２曝
気槽２の排ガスにより、第３段目の曝気処理が行なわれ
る。第３曝気槽３の流出水は、配管２５より最終沈殿槽
５に送給されて固液分離され、沈降汚泥は配管２８より
返送汚泥として第２曝気槽２に返送され、一方、分離水
は処理水として配管２６より系外へ排出される。
Ｏ含有排水を処理するには、まず、貯留槽６内のＤＭＳ
Ｏ含有排水を配管２１より第１曝気槽１に送給して、散
気板１Ａからの空気により曝気処理する。第１曝気槽１
の流出水は、配管２２より中間沈殿槽４に送給されて固
液分離され、沈降汚泥は配管２７より返送汚泥として第
１曝気槽１に返送され、一方、分離水は配管２３より第
２曝気槽２に送給される。第２曝気槽２においては、配
管１２、１３、１４を経て導入され、散気板２Ａより散
気された、第１曝気槽１及び中間沈殿槽４の排ガスによ
り、第２段目の曝気処理が行なわれる。第２曝気槽２の
流出水は、配管２４より第３曝気槽３に送給され、配管
１５を経て導入され散気板３Ａより散気された、第２曝
気槽２の排ガスにより、第３段目の曝気処理が行なわれ
る。第３曝気槽３の流出水は、配管２５より最終沈殿槽
５に送給されて固液分離され、沈降汚泥は配管２８より
返送汚泥として第２曝気槽２に返送され、一方、分離水
は処理水として配管２６より系外へ排出される。
【００２８】このような３段階の曝気処理による処理に
あたり、第１曝気槽１は、完全混合方式であるため、導
入される各基質の濃度変動に抵抗性があり、主にＤＭＳ
ＯからＤＭＳへの分解が行なわれる。これに対して、接
触曝気方式の第２、３曝気槽２、３では、充填材２Ｂ、
３Ｂに、主にＤＭＳやＭＭを分解する細菌が優先的に保
持されて、主としてＤＭＳやＭＭの分解が行なわれる。
しかして、前段の曝気槽で処理不十分の物質をそれぞれ
後段の曝気槽で処理することにより、ＤＭＳＯ、ＤＭ
Ｓ、ＭＭが高度に分解処理された高水質の処理水が得ら
れる。
あたり、第１曝気槽１は、完全混合方式であるため、導
入される各基質の濃度変動に抵抗性があり、主にＤＭＳ
ＯからＤＭＳへの分解が行なわれる。これに対して、接
触曝気方式の第２、３曝気槽２、３では、充填材２Ｂ、
３Ｂに、主にＤＭＳやＭＭを分解する細菌が優先的に保
持されて、主としてＤＭＳやＭＭの分解が行なわれる。
しかして、前段の曝気槽で処理不十分の物質をそれぞれ
後段の曝気槽で処理することにより、ＤＭＳＯ、ＤＭ
Ｓ、ＭＭが高度に分解処理された高水質の処理水が得ら
れる。
【００２９】一方、第１曝気槽１や中間沈殿槽４の排ガ
ス中には、前述の如く、ＤＭＳやＭＭに起因する悪臭が
あるが、この排ガスを、第２、第３曝気槽２、３の散気
源として順次送給することにより、含有されるＤＭＳや
ＭＭを第２、３曝気槽２、３で処理し、悪臭を完全に除
去することができる。従って、第３曝気槽３において
は、排ガスの捕集、脱臭処理手段は不要となる。このよ
うに、前段の曝気槽の排ガスを後段の曝気槽の散気とし
て用いることから、本発明においては、第１曝気槽の酸
素供給源として、酸素濃度の高いものを用いるのが有利
である。
ス中には、前述の如く、ＤＭＳやＭＭに起因する悪臭が
あるが、この排ガスを、第２、第３曝気槽２、３の散気
源として順次送給することにより、含有されるＤＭＳや
ＭＭを第２、３曝気槽２、３で処理し、悪臭を完全に除
去することができる。従って、第３曝気槽３において
は、排ガスの捕集、脱臭処理手段は不要となる。このよ
うに、前段の曝気槽の排ガスを後段の曝気槽の散気とし
て用いることから、本発明においては、第１曝気槽の酸
素供給源として、酸素濃度の高いものを用いるのが有利
である。
【００３０】なお、図示の実施例は本発明の一実施例で
あって、本発明はその要旨を超えない限り、何ら図示の
ものに限定されるものではない。
あって、本発明はその要旨を超えない限り、何ら図示の
ものに限定されるものではない。
【００３１】例えば、曝気槽の設置数や充填材の有無な
どについても、被処理排水の濃度やＤＭＳＯ含有割合、
その他の条件等によって適宜設定され、第１曝気槽にも
充填材を設ける場合もある。
どについても、被処理排水の濃度やＤＭＳＯ含有割合、
その他の条件等によって適宜設定され、第１曝気槽にも
充填材を設ける場合もある。
【００３２】また、本実施例では、貯留槽６にＤＭＳＯ
含有排水を貯留した後、第１曝気槽１に送給するが、こ
のように被処理排水の貯留槽を設けることにより、処理
の安定化が図れ、極めて有利である。即ち、ＤＭＳＯ及
びＤＭＳ分解酵素は基質が不足すると機能発現性が低下
する誘導酵素であるため、ＤＭＳＯ含有排水は常に一定
濃度の均一化した状態で供給することが重要となる。従
って、被処理排水は、図示の如く、貯留槽６を経て第１
曝気槽１に送給するのが好ましい。
含有排水を貯留した後、第１曝気槽１に送給するが、こ
のように被処理排水の貯留槽を設けることにより、処理
の安定化が図れ、極めて有利である。即ち、ＤＭＳＯ及
びＤＭＳ分解酵素は基質が不足すると機能発現性が低下
する誘導酵素であるため、ＤＭＳＯ含有排水は常に一定
濃度の均一化した状態で供給することが重要となる。従
って、被処理排水は、図示の如く、貯留槽６を経て第１
曝気槽１に送給するのが好ましい。
【００３３】以下に具体的な実施例を挙げて本発明をよ
り詳細に説明する。
り詳細に説明する。
【００３４】実施例１ ＤＭＳＯ、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、
２−アミノエタノール、及び、２，２−アミノエチルア
ミノエタノールをそれぞれＴＯＣ濃度として５００ｍ／
ｌ含有した合成排水を、図１の装置で処理した。
２−アミノエタノール、及び、２，２−アミノエチルア
ミノエタノールをそれぞれＴＯＣ濃度として５００ｍ／
ｌ含有した合成排水を、図１の装置で処理した。
【００３５】なお、図１の装置の概要は次のとおりであ
る。 原水流量：１０リットル／日 第１曝気槽：容量３リットル、密閉式、完全混合型。 中間沈殿槽：容量３リットル、密閉式。 第２曝気槽：容量１リットル、密閉式、接触曝気（呉羽
化学（株）製：塩化ビニリデン不織繊維「バイオルー
プ」（同社商標）を槽内に充填）、苛性ソーダでｐＨ７
に調整。 第３曝気槽：第２曝気槽と同様。ただし開放式。 最終沈殿槽：容量３リットル 通気：第１曝気槽へは、空気と工業用酸素ガスとの１対
１混合ガスを２リットル／分通気し、第２、第３曝気槽
へは、それぞれ第１、第２曝気槽の通気排ガスを通気。
る。 原水流量：１０リットル／日 第１曝気槽：容量３リットル、密閉式、完全混合型。 中間沈殿槽：容量３リットル、密閉式。 第２曝気槽：容量１リットル、密閉式、接触曝気（呉羽
化学（株）製：塩化ビニリデン不織繊維「バイオルー
プ」（同社商標）を槽内に充填）、苛性ソーダでｐＨ７
に調整。 第３曝気槽：第２曝気槽と同様。ただし開放式。 最終沈殿槽：容量３リットル 通気：第１曝気槽へは、空気と工業用酸素ガスとの１対
１混合ガスを２リットル／分通気し、第２、第３曝気槽
へは、それぞれ第１、第２曝気槽の通気排ガスを通気。
【００３６】この処理の結果、第３曝気槽からの排ガス
には臭気は認められなかった。また、処理水中の硫酸イ
オン濃度は１９００ｍｇ／ｌであった。
には臭気は認められなかった。また、処理水中の硫酸イ
オン濃度は１９００ｍｇ／ｌであった。
【００３７】比較のため、容量５リットルの曝気槽と容
量３リットルの沈殿槽とを用いた従来の標準活性汚泥法
により、実施例１と同じ原水流量、通気量で処理したと
ころ、曝気槽からＤＭＳに起因する臭気の発生が激しか
った。また、処理水中の硫酸イオン濃度は１０００ｍｇ
／ｌであった。
量３リットルの沈殿槽とを用いた従来の標準活性汚泥法
により、実施例１と同じ原水流量、通気量で処理したと
ころ、曝気槽からＤＭＳに起因する臭気の発生が激しか
った。また、処理水中の硫酸イオン濃度は１０００ｍｇ
／ｌであった。
【００３８】
【発明の効果】以上詳述した通り、本発明の好気性処理
装置によれば、ＤＭＳＯ含有排水等の曝気処理により悪
臭ガスが発生する排水を高度に処理して高水質の処理水
を得ると共に、発生する悪臭をも高度に分解処理して、
臭気の発生を防止することができる。
装置によれば、ＤＭＳＯ含有排水等の曝気処理により悪
臭ガスが発生する排水を高度に処理して高水質の処理水
を得ると共に、発生する悪臭をも高度に分解処理して、
臭気の発生を防止することができる。
【００３９】このような本発明の好気性処理装置は、特
に、ＤＭＳＯ含有排水の処理に好適であり、ＤＭＳＯの
分解生成物であるＤＭＳやＭＭを確実に分解処理して悪
臭の発生を防止し、排ガスの脱臭処理を不要とすること
ができる。
に、ＤＭＳＯ含有排水の処理に好適であり、ＤＭＳＯの
分解生成物であるＤＭＳやＭＭを確実に分解処理して悪
臭の発生を防止し、排ガスの脱臭処理を不要とすること
ができる。
【００４０】請求項３の好気性処理装置によれば、より
一層処理効果に優れた好気性処理装置が提供される。
一層処理効果に優れた好気性処理装置が提供される。
【図１】本発明の好気性処理装置の一実施例を示す系統
図である。
図である。
１ 第１曝気槽 ２ 第２曝気槽 ３ 第３曝気槽 １Ａ，２Ａ，３Ａ 散気板 ２Ｂ，３Ｂ 充填材 ４ 中間沈殿槽 ５ 最終沈殿槽 ６ 貯留槽
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き 審査官 谷口 博 (56)参考文献 特開 昭56−136699（ＪＰ，Ａ) 特開 昭58−51991（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C02F 3/12
Claims (3)
- 【請求項１】 曝気処理により悪臭ガスが発生する排水
の好気性処理装置であって、 直列に連絡された３槽以上の複数の曝気槽と、 被処理排水が流入する第１の曝気槽に、酸素含有ガスを
散気する手段と、 下流側に曝気槽が連絡されている上流側の各曝気槽から
排出された散気排ガスを次の下流側の曝気槽に散気する
手段と、 前記第１の曝気槽の流出液を固液分離する手段と、 該固液分離手段で分離された汚泥を第１の曝気槽に返送
する手段と を備えてなることを特徴とする好気性処理装
置。 - 【請求項２】 被処理排水がジメチルスルホキシドを含
むものである請求項１に記載の好気性処理装置。 - 【請求項３】 第２の曝気槽及び第２の曝気槽より後段
の曝気槽のうちの少なくとも１つの曝気槽の内部に充填
材を備えてなる請求項１又は２に記載の好気性処理装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14739992A JP3331623B2 (ja) | 1992-06-08 | 1992-06-08 | 好気性処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14739992A JP3331623B2 (ja) | 1992-06-08 | 1992-06-08 | 好気性処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05337479A JPH05337479A (ja) | 1993-12-21 |
| JP3331623B2 true JP3331623B2 (ja) | 2002-10-07 |
Family
ID=15429409
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14739992A Expired - Fee Related JP3331623B2 (ja) | 1992-06-08 | 1992-06-08 | 好気性処理装置 |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3331623B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006289343A (ja) * | 2005-03-17 | 2006-10-26 | Sharp Corp | 排水処理方法および排水処理装置 |
| JP2010188347A (ja) * | 2010-04-28 | 2010-09-02 | Kurita Water Ind Ltd | 有機硫黄化合物含有排水の処理装置 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4670322B2 (ja) * | 2004-11-18 | 2011-04-13 | 栗田工業株式会社 | 有機硫黄化合物含有排水の処理装置 |
| JP5017854B2 (ja) * | 2005-12-14 | 2012-09-05 | 栗田工業株式会社 | 有機物含有排水の処理装置及び処理方法 |
| JP2011194305A (ja) * | 2010-03-18 | 2011-10-06 | Fuso Kensetsu Kogyo Kk | 汚水の膜分離活性汚泥処理方法及び装置 |
| JP5488166B2 (ja) * | 2010-04-26 | 2014-05-14 | Ｊｆｅスチール株式会社 | 硫黄系ｃｏｄ成分含有廃水の生物処理方法および装置 |
| CN113651417B (zh) * | 2021-08-27 | 2022-07-15 | 昆山皖源环境技术有限公司 | 一种用于环境工程的污水处理系统及方法 |
| CN113830888A (zh) * | 2021-10-21 | 2021-12-24 | 李龙才 | 一种污水处理系统及方法 |
-
1992
- 1992-06-08 JP JP14739992A patent/JP3331623B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JP4490908B2 (ja) * | 2005-03-17 | 2010-06-30 | シャープ株式会社 | 排水処理装置 |
| JP2010188347A (ja) * | 2010-04-28 | 2010-09-02 | Kurita Water Ind Ltd | 有機硫黄化合物含有排水の処理装置 |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH05337479A (ja) | 1993-12-21 |
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