TWI391151B - 滅菌物質供給裝置及隔離器 - Google Patents

Description

滅菌物質供給裝置及隔離器

本發明係有關隔離器(isolator)及隔離器用的滅菌物質供給裝置。

隔離器係於其內部具有處於無菌環境下之作業室，且為用以在作業室中實施要求為無菌環境之作業，例如以細胞培養等源自活體材料作為對象之作業者。在此，無菌環境係指為了避免作業室所進行之作業所需要之物質以外者混入而作成無限接近無塵無菌之環境。

作業室中具備氣體供給口及氣體排出口，而在作業室內係從氣體供給口供給空氣，並從氣體排出口排出空氣。一般，於隔離器中，為了確保作業室內的無菌環境，於氣體供給口設置有HEPA濾器(high efficiency particulate air filter(高效率粒子空氣濾器))，經由微粒子捕集濾器而對作業室供給空氣。又，於氣體排出口亦設置微粒子捕集濾器，經由微粒子捕集濾器而將作業室內的空氣從作業室排出。

又，於隔離器中，將過氧化氫等滅菌物質噴霧於作業室內，以進行將作業室內滅菌之滅菌處理(參照專利文獻1及2)

[先前技術文獻] [專利文獻]

專利文獻1：日本特開2006-320392號公報

專利文獻2：日本特開2005-312799號公報

於滅菌處理中，係對作業室供給氣體狀的滅菌物質。於習知的隔離器中，由於進行滅菌處理時，使滅菌物質成為氣體狀需要長時間之準備之故，拉長整個滅菌處理之時間，以致於有中之作業效率降低之問題。

本發明係鑑於此種問題所開發者，其目的在於提供一種能縮短滅菌處理所需要之時間，以提升隔離器中之作業效率之技術。

本發明之一種態樣，係一種滅菌物質供給裝置。該滅菌物質供給裝置，係由霧化部及氣化部所構成，前述霧化部係包含：收納構件，係於底部安裝超音波振動器，且於內部收納傳播由前述超音波振動器所產生之超音波振動之液體；以及容器，係將作為滅菌物質原料之過氧化氫水及前述液體分隔，且使經由前述液體所傳播的超音波振動傳播至前述過氧化氫水，以將前述過氧化氫水霧化，前述氣化部係將經霧化部所霧化之過氧化氫水加熱以使其氣化者，且係具備：加熱管，係直立地設置於霧化部上方，且下部開口與容器相連通，並具有：於下部側面使運送經霧化之過氧化氫水之載體氣體流入之載體氣體供給口、及於上部將載體氣體與過氧化氫一起供給至外部之過氧化氫供給口；以及加熱器，係設置於加熱管內部，並且藉由載體 氣體而將經霧化部所霧化之過氧化氫水運送至前述氣化部，並將於前述氣化部所氣化之過氧化氫氣體與載體氣體一起供給至外部。

根據此態樣之滅菌物質供給裝置，經由採用藉由具有超音波振動器之霧化部而使過氧化氫霧化(霧氣化)後，利用氣化部以使其氣化(氣體化)之二階段方式，即可迅速進行過氧化氫的氣體化。又，可使於氣化部所施加之熱量較習知更少。藉此，可縮短使過氧化氫氣體化所需要之時間，進而縮短整個滅菌處理之時間。此結果，可提升隔離器中之作業效率。

本發明之另一態樣係一種隔離器。該隔離器係具備有用以實施以源自活體材料作為對象之作業的作業室，其中，具備由霧化部及氣化部所構成之滅菌物質供給裝置，前述霧化部係包含：收納構件，係於底部安裝超音波振動器，且於內部收納傳播由前述超音波振動器所產生之超音波振動之液體；以及容器，係將作為滅菌物質原料之過氧化氫水及前述液體分隔，且使經由前述液體所傳播的超音波振動傳播至前述過氧化氫水，以將前述過氧化氫水霧化，前述氣化部係將經霧化部所霧化之過氧化氫水加熱以使其氣化者，且係具備：加熱管，係直立地設置於霧化部上方，且下部開口與容器相連通，並具有：於下部側面使運送經霧化之過氧化氫水之載體氣體流入之載體氣體供給口、及於上部將前述載體氣體與過氧化氫一起供給至外部之過氧化氫供給口；以及加熱器，係設置於加熱管內部， 並且藉由載體氣體而將經霧化部所霧化之過氧化氫水運送至前述氣化部，並將於前述氣化部所氣化之過氧化氫氣體與載體氣體一起從過氧化氫供給口供給至作業室。

根據本發明，則可縮短滅菌處理所需要之時間，以提升隔離器中的作業效率。

[發明之最佳實施形態]

以下，參照圖式來說明本發明之實施形態。在此，於所有圖式中，對同樣構成要件標示同樣符號，並適當省略其說明。

(實施形態1)

第1圖係表示實施形態1之隔離器100的構成之概略圖。如第1圖所示，實施形態1之隔離器100係具備有：用以實施細胞萃取、細胞培養等以源自活體材料為對象之作業的作業室10、對作業室10供給氣體之氣體供給部40、將作業室10的氣體排出之氣體排出部50、對作業室10供給滅菌物質之滅菌物質供給裝置200、以及實施對此等的控制之控制部90。在此，源自活體材料係指包括：包含細胞之生物本身、或構成生物之物質、或者生物所生產之物質等之材料。

於氣體供給部40，設置有吸氣口42、三通閥(three-way valve)44、以及送風機(fan)46。且係經由吸氣口42而從外部吸進空氣。三通閥44係經由管路70而與吸氣口42的氣流下游側連接，以及經由管路80而與滅菌氣體產生部202的氣流下游側連接。又，三通閥44，係經由管路72而與送風機46的氣流上游側連接。三通閥44係能實施將氣體流路排他性地切換為從管路70至管路72方向、或切換為從管路80至管路72方向者。經由吸氣口42所吸進之空氣、或者經由管路80所送出之含有滅菌物體之氣體，係經由三通閥44被送風機46所吸進。

送風機46係將經由管路72而從三通閥44方向所吸進之氣體，經由管路74而朝作業室10方向送出。送風機46係能藉由控制部90實施ON/OFF(導通/關斷)之切換控制者。再者，送風機46係能連續地調節排氣量者。

於作業室10中，以可開啟與關閉之方式設置有前面門12。又，於前面門12的預定位置，設置有用以在作業室10中進行作業的作業用手套(glove)14。作業人員可從設置於前面門12之未圖示之開口部將手插入作業用手套14中，而透過作業用手套14以於作業室10中實施作業。於作業室10中，由氣體供給口16吸進從送風機46所送出之氣體，並從氣體排出口18排出氣體。於氣體供給口16設置有HEPA濾器20，於氣體排出口18則設置有HEPA濾器22。藉由此等濾器，則可確保作業室10的無菌狀態。從作業室10出來之氣體，係經由氣體排出口18、HEPA濾器22、以及管路76而被氣體排出部50送出。

於氣體排出部50中，依照氣流而依序設置有三通閥52、滅菌物質降低處理部54、以及排氣口58。

三通閥52，係經由管路76而與作業室10的氣流下游側連接，且經由管路82而與滅菌物質降低處理部54的氣流上游側連接。又，三通閥52係經由管路78而與後述之滅菌物質供給裝置200的氣流上游側連接。三通閥52係能實施將氣體流路排他性地切換為從管路76至管路82、或切換為從管路76至管路78方向者，經由管路76所吸進之氣體係朝管路82方向或者管路78方向送出。

滅菌物質降低處理部54係實施經由三通閥52所送出之氣體中所含之滅菌物質的濃度的降低化處理。滅菌物質降低處理部54中，可含有例如鉑等金屬觸媒，亦可含有活性碳等。

於作業室10之外部，設置有對作業室10供給滅菌物質之滅菌物質供給裝置200。滅菌物質供給裝置200係可藉由對作業室10供給滅菌物質並使隔離器100內循環而使作業室10及管路成為無菌環境。在此，無菌環境係指為了避免作業室所進行之作業所需要之物質以外者之混入而作成無限接近無塵無菌之環境。於本實施形態中，滅菌物質即為過氧化氫。

如第1圖所示，滅菌物質供給裝置200係與三通閥52及管路78的氣流下游側連接，且與管路80及三通閥44的氣流上游側連接。滅菌物質供給裝置200係具有：滅菌物質儲存匣(cartridge)260、泵264、以及滅菌氣體產生部202。滅菌物質儲存匣260係儲存過氧化氫水作為滅菌物質。泵264係將抽取滅菌物質儲存匣260內所儲存之過氧化氫水並送出至滅菌氣體產生部202。滅菌氣體產生部202係使所供給之過氧化氫水氣化，以產生過氧化氫氣體。所產生之過氧化氫氣體係被管路80送出。

使用第2圖(A)及第2圖(B)，說明滅菌物質供給裝置200的具體構成。第2圖(A)係表示實施形態1之滅菌物質供給裝置200的構成之概略圖。第2圖(B)係沿著第2圖(A)的A-A線之剖面圖。

如第2圖(A)所示，滅菌物質供給裝置200係具有由霧化部210及氣化部220所構成之滅菌氣體產生部202。

霧化部210係具有：收納構件211、分隔構件212、超音波振動器213、以及相當於裝入作為滅菌物質原料之過氧化氫水之杯體(cup)214。

收納構件211係構成霧化部210之傳播液收納部。於收納構件211底面設置有超音波振動器213。超音波振動器213係將電能轉換為超音波振動之元件。本實施形態中，超音波振動器213，並非設置於收納構件211底面的中央部，而係設置於朝後述之開口252偏離之位置。

於收納構件211，沿著上部外周而形成有凸緣(flange)216。於凸緣216上面設置有用以嵌入O型環218a的溝槽217。

分隔構件212係設置於凸緣216上。分隔構件212係於中央部分形成有開口之甜甜圈狀的構件。分隔構件212的外徑係與凸緣216的外徑相同者。於分隔構件212上面設置有用以嵌入O型環218b的溝槽229。

杯體214係安裝於分隔構件212上所設之開口，而杯體214的底部係朝超音波振動器213側凸出。杯體214係例如厚度0.2mm左右的PET(聚對苯二甲酸乙二酯)等聚酯樹脂製、或者厚度0.05mm左右的不鏽鋼等金屬薄板製者。

於經收納構件211、分隔構件212及杯體214所封閉之空間234中，裝滿有傳播超音波振動器213所產生之超音波振動之超音波傳播用液240。在此，超音波傳播用液，係如水之黏性低的液體較為適合。

於如上述構成的霧化部210中，藉由在超音波傳播用液240中傳遞之超音波振動而將供給至杯體214之過氧化氫水霧化，並將經霧化之過氧化氫送入氣化部。此時，未經霧化而附著於氣化部220內側之過氧化氫的液滴係因重力而落下至杯體214中而再度被霧化。

再者，從超音波振動器213所發出之超音波振動的波面的進行方向，換言之，超音波振動器213的振動器面中心的法線，係朝杯體214的最下部或者朝後述之加熱器222的最下部方向傾斜者。振動器面中心的法線，較佳為相對於鉛垂方向(霧化部210的上下方向)傾斜例如約7度。如作成此方式，則因杯體214中所儲存之過氧化氫水所成之水柱會傾斜豎起之故，可穩定進行過氧化氫水的霧化。

氣化部220係設置於霧化部210上部，主要具有：加熱管221、加熱器222、管線224、以及溫度計225、227。

加熱管221係以使軸方向成為鉛垂方向之方式組裝於收納構件211上部之筒狀構件，且其下部開口與杯體214相連通。更詳言之，沿著加熱管221的下部外周而形成有凸緣228。凸緣228的外徑係與分隔構件212及凸緣216的外徑相同者。

於凸緣216、分隔構件212以及凸緣228，於預定位置設置有螺孔251。在溝槽217、229中分別嵌入有O型環218a、218b之狀態下，在螺孔251中栓上螺絲255，藉以組裝霧化部210與氣化部220。凸緣216與分隔構件212之間的封閉性係因O型環218a而提高。又，凸緣228與分隔構件212之間的封閉性係因O型環218b而提高。

於加熱管221的下部側面，設置有開口250及開口252。於本實施形態中，開口250及開口252係設置於互相相對向之位置。於開口250中，插入有用以將滅菌物質儲存匣260內所儲存之過氧化氫水供給至杯體214中之管線262。再者，於開口250部分，管線262的外側係經密封，而形成為外氣不致於摻入加熱管221中。於管線262的中間，設置有用以抽取滅菌物質儲存匣260內所儲存之過氧化氫水的泵264(例如蠕動泵(peristaltic pump)。

另一方面，於開口252，連接有使從供給空氣送風機(未圖示)所送出之空氣(載體氣體)流入之管線275而構成載體氣體供給口。在此，亦可將管路78連接於開口252。如作成此種方式，則可以由霧化部210及氣化部220所成之滅菌氣體產生部202作為經由作業室10之循環管路的一部分，並依需要而對循環管路供給過氧化氫。

於加熱管221內部，形成有過氧化氫及空氣由下方往上方流動之流路226。

於本實施形態中，加熱管221係設置於杯體214的正上方。因此，即使霧狀的過氧化氫在加熱管221內再結合而液滴化時，亦會因重力而落下至杯體214中。回到杯體214之過氧化氫係經超音波振動而再度霧化後，送至加熱管221。藉此，經由將加熱管221內所液化之過氧化氫以簡便的構造送回杯體214，並再度使其霧化，即可不浪費地使杯體214內的過氧化氫水確實地氣體化。

沿著加熱管221之軸而於加熱管221內部設置有加熱器222。加熱器222係藉由以控制部90控制開啟與關閉而調節溫度為約180℃。加熱器222的溫度係由溫度計227所測出，並將所測出之溫度傳送至控制部90。如加熱器222的溫度超過220℃，則藉由控制部90而切斷對加熱器222的電力供給。在此，於加熱器222宜設置有複數片散熱片(fin)223。藉由散熱片，即可增加加熱器222與在流路226中流動之過氧化氫之間的接觸面積以促進過氧化氫的氣體化。

於加熱器222上部，設置有固定用之凸緣270。於蓋構件273，沿著加熱器222的周圍而設置有溝槽236，並在此溝槽236中嵌入有O型環218c。又，於蓋構件273設置有開口，並在此開口中插入有加熱器222上部。使用螺絲232而將加熱器222固定在蓋構件273，並藉由O型環218c而提高有凸緣230與蓋構件273的封閉性。

又，於加熱管221上部，設置有凸緣238。於凸緣238，於與蓋構件273相對向之面設置有溝槽241，並在此溝槽241中嵌入有O型環218d。藉由螺絲239而將凸緣238與蓋構件273固定。藉此，可在藉由O型環218d之使用而提高封閉性之下將蓋構件273安裝於加熱管221之同時，保持加熱管221內部插入有加熱器222之狀態。

於加熱管221的上部側面，設置有經連接管線224的一邊的端部之開口254，以構成將載體氣體與過氧化氫一起供給至外部之過氧化氫供給口。於管線224，設置有用以測定管線224的內部溫度的溫度計225。於溫度計225所測定之管線224的內部溫度係傳送至控制部90。管線224的另一邊的端部係連接於管路78的最下游側及管路80的最上游側。

使用第3圖所示之時間圖，說明於如上述之構成的滅菌物質供給裝置200中產生滅菌氣體之運作。在此，藉由滅菌物質供給裝置200進行滅菌氣體之產生，係藉由控制部90而加以控制。

首先，於時刻t1，將加熱器222的開關設定為導通(ON)，而開始藉由加熱器222進行加熱，並且驅動泵264以抽取儲存於滅菌物質儲存匣260中之過氧化氫水，並朝杯體214送出過氧化氫水。

當加熱器222的開關成為導通(ON)時，管線224的內部溫度即從常溫開始上升。又，於時刻t2，當過氧化氫水通過管線262而到達杯體214時，則過氧化氫水開始儲存於杯體214底部，而杯體214內的過氧化氫水量即開始增多。

於時刻t3，當管線324內部溫度到達過氧化氫的氣化溫度時，開始驅動超音波振動器213，並經由超音波傳播用液240而將超音波振動傳播至杯體214。又，開始藉由空氣供給送風機送風，而從外部朝杯體214送入空氣。於是，過氧化氫於杯體214霧化，藉由來自空氣供給送風機之送風而將經霧化之過氧化氫供給加熱管221。供給至加熱管221之霧狀過氧化氫，經加熱器222所加熱而氣體化。成為氣體狀之過氧化氫係經由管線224而供給至管路80。

再者，已知於採用超音波振動器之霧化裝置中，霧化效率會因振動器面與受到霧化之液面之間的距離而變動之故，需要維持適當的距離。因此，在時刻t3後，以補充因霧化及氣體化的進行所消耗之杯體214內的過氧化氫水之方式，藉由泵264來調節朝杯體214所送出之過氧化氫水的流量為宜。藉此，可於時刻t3後，有效率地將杯體214內的過氧化氫水霧化。朝杯體214所送出之過氧化氫水的總量為預先決定者，經過依泵264的能力而定之預定時間後，停止泵264的驅動。

如於時刻t3後，停止泵264的驅動時，則於時刻t4，停止對杯體214的過氧化氫水的補充。時刻t4後，杯體214內的過氧化氫水量緩緩減少，於時刻t5，杯體214內的過氧化氫水的餘量即成為零。

在時刻t5後，由於從霧化部210送至氣化部220之霧狀的過氧化氫的量緩緩減少之故，於加熱管221中因過氧化氫之氣化所消耗之熱量緩緩減少。藉此，管線224的內部溫度再從過氧化氫的氣化溫度上升。換言之，管線224的內部溫度之上升，係表示杯體214內的過氧化氫的餘量成為零之現象者，可藉由觀察到此種現象，推測杯體214的過氧化氫的餘量是否成為零。於時刻t6，如由溫度計225所測得之管線224內部溫度到達預定的判定溫度時，則停止超音波振動器213的驅動，並且將加熱器222的開關設定為關斷(OFF)，而停止藉由加熱器222進行加熱。在此，該預定溫度係加熱管221內的過氧化氫的氣體化完成且僅空氣開始在加熱管221內移動時的管線224的內部溫度。亦即，管線224內部溫度到達預定的判定溫度，表示杯體214內的過氧化氫水的餘量成為零，而滅菌物質供給裝置200中不存在應進行氣體化之過氧化氫水。

時刻t6後，管線224內部溫度在持續上升之後，開始緩緩下降，於時刻t7回到常溫。

在此，從時刻t1至t3為準備產生滅菌氣體所需要之時間。從時刻t3至時刻t4，於霧化部210進行過氧化氫的霧化。從時刻t1至時刻t7，係於包含作業室10之管路中曝露有滅菌氣體(後述之前處理步驟及滅菌步驟)。於時刻t7後，即從包含作業室10之管路排出滅菌氣體(後述之置換步驟)。

回到第1圖，進行控制部90之說明。控制部90係如上述，藉由滅菌物質供給裝置200進行滅菌氣體之送出的控制。又，控制部90係藉由控制三通閥44及52的閥的開啟與關閉，而實施氣體流路的切換。

具體而言，控制部90係控制三通閥44的閥的開啟與關閉，以控制將氣體流路排他性地切換為從管路70至管路72方向、或切換為從管路80至管路72方向。又，控制部90係控制三通閥52的閥的開啟與關閉，以控制將氣體流路排他性地切換為從管路76至管路82方向、或切換為從管路76至管路78方向。

(氣體流路之切換)

隔離器100的氣體流路係經由控制三通閥44及52的閥的開啟與關閉，而將控制部90切換為如下述兩方式。亦即，如欲使過氧化氫氣體在隔離器100內循環時，則三通閥44係僅在從管路80至管路72方向為開啟狀態，而在從管路70至管路72方向為關閉狀態。又，三通閥52係僅在從管路76至管路78方向為開啟狀態，而在從管路76至管路82方向為關閉狀態。

另一方面，如欲進行作業室內的空氣之置換時，三通閥44係僅在從管路70至管路72方向為開啟狀態，而在從管路80至管路72方向為關閉狀態。又，三通閥52係僅在從管路76至管路82方向為開啟狀態，而在從管路76至管路78方向為關閉狀態。藉此，形成空氣即從吸氣口42透過管路70、三通閥44、管路72、送風機46、管路74、HEPA濾器20、以及氣體供給口16進入作業室10，並透過氣體排出口18、HEPA濾器22、管路76、三通閥52、管路82、以及滅菌物質降低處理部54從排氣口58排出之管路。

(滅菌處理)

於隔離器100中，在作業室10中之1次作業(前次作業)完成後，當進行下次的作業時實施作業室10及前次作業所用之流通路的滅菌處理。滅菌處理係包含：前處理步驟、滅菌步驟、以及置換步驟。

於前處理步驟中，從滅菌物質供給裝置200對作業室10供給過氧化氫氣體，而將作業室10中之過氧化氫氣體的濃度維持於作業室10的滅菌所需要的濃度以上。於前處理步驟中，作業室10中之過氧化氫氣體成為預定濃度以上後，開始滅菌步驟。

滅菌步驟中，藉由從滅菌物質供給裝置200將過氧化氫氣體送至作業室10後再度回到滅菌物質供給裝置200之循環，而實施作業室10的滅菌。此時，三通閥44係切換為僅在從管路80至管路72方向為開啟狀態，而在從管路70至管路72方向為關閉狀態。另一方面，三通閥52係切換為僅在從管路76至管路78方向為開啟狀態，在從管路76至管路82方向為關閉狀態。藉此，於隔離器100內，形成從三通閥44經由作業室10內、三通閥52回到三通閥44之氣體流路，藉由控制送風機46的運作，即可使導入至作業室10之過氧化氫氣體在隔離器100內循環。藉由此種流路控制、送風機控制，即可依需要而實施HEPA濾器20、22或管路74、76等的滅菌。

於置換步驟中，藉由將經由吸氣口42所吸進之空氣供給至作業室10，以擠出作業室10的氣體，而置換作業室10的氣體。更具體而言，於置換步驟中，控制部90係將三通閥44切換為僅在從吸氣口42至作業室10方向為開啟狀態，並將三通閥52切換為僅在從作業室10至排氣口58方向為開啟狀態。又，控制部90係將送風機46設定為導通(ON)。藉此，於隔離器100內，形成從吸氣口42所吸進之空氣從管路70通過HEPA濾器20到達作業室10，從作業室10通過HEPA濾器22從排氣口58排出之方式之氣體流路。其結果，作業室10的氣體經空氣所置換，而將作業室10的過氧化氫氣體從作業室10去除。

此時，從作業室10所擠出之過氧化氫氣體，係藉由滅菌物質降低處理部54而進行降低處理，即可降低過氧化氫氣體從排氣口58朝隔離器100的外部流出。又，於置換步驟中，亦將隔離器100內的作業室10以外的區域，例如氣體供給部40內所殘留之過氧化氫氣體、或吸附於前次作業所用之流通路內的HEPA濾器20及22之過氧化氫去除。

如藉由以上所說明之隔離器100，則可獲得如下述之效果。

由於經霧化部210霧化之過氧化氫經氣化部220氣體化之故，於氣化部220中之過氧化氫的氣體化迅速進行，因而可使氣化部220的加熱器222所施加之熱量較習知者減少。藉此，可縮短使過氧化氫水氣體化所需要之時間，進而可縮短整個滅菌處理的時間。其結果，可提升隔離器100中的作業效率。

又，經由確認藉由泵264而對杯體214供給預定量的過氧化氫水後，管線224的內部溫度是否到達預定的判定溫度，即可掌握杯體214內的過氧化氫水的餘量成為零。藉此，可不浪費地進行加熱器222的溫度調整，而可抑制隔離器100的能量消耗。又，由於杯體214內的過氧化氫水的餘量成為零之後，可迅速從滅菌步驟切換為置換步驟之故，可減少浪費的時間，而可縮短整個滅菌處理的時間。

(滅菌物質供給裝置的變形例1)

使用第4圖(A)及第4圖(B)，說明滅菌物質供給裝置200的變形例1。第4圖(A)係表示滅菌物質供給裝置200的變形例1之概略圖。第4圖(B)係沿著第4圖(A)的A-A線之剖面圖。

在此，滅菌物質供給裝置200的變形例的基本構成，係與實施形態1所說明之滅菌物質供給裝置200相同，故對與實施形態1之滅菌物質供給裝置200相同的構成則適當省略其說明，而以與實施形態1之滅菌物質供給裝置200不同之構成作為中心加以說明。

於滅菌物質供給裝置200的變形例1中，經由連接構件280(連接部)而組裝有加熱管221及收納構件211。在此，連接構件280的直徑係與收納構件211的直徑相同，且較加熱管221的直徑為粗。

具體而言，沿著連接構件280的下部外周而設置有凸緣281。凸緣281的外徑係與分隔構件212及凸緣216的外徑相同。

於凸緣216、分隔構件212以及凸緣281，在預定位置設置有螺孔251。在溝槽217、229中分別嵌入有O型環218a、218b之狀態下，在螺孔251栓上螺絲255，藉以組裝霧化部210與連接構件280。凸緣216與分隔構件212之間的封閉性，係因O型環218a而提高。又，凸緣281與分隔構件212之間的封閉性係因O型環218b而提高。

於本實施形態中，在連接構件280的下部側面，以相對向之方式設置有開口250及開口252。

又，沿著連接構件280上部外周，設置有凸緣282。於凸緣282上面，設置有用以嵌入O型環218a的溝槽283、及用以嵌入插入於連接構件280內部之內塔管272的端部的切口部285。內塔管272的直徑係與加熱管221的直徑相同，而內塔管272係扮演作為加熱管221的延長構件之角色。

凸緣282係沿著加熱管221下部外周而使用凸緣228及螺絲286加以固定。此時，因O型環218e，而提高凸緣282與凸緣228間的封閉性。

於上述構成的滅菌物質供給裝置200的變形例1中，連接構件280內部係因內塔管272而成為雙重構造，而於內塔管272與連接構件280之間的部分，過氧化氫水從管線262朝杯體214向下滴下。又，於內塔管272與連接構件280之間的部分，從管線275所供給之載體氣體朝杯體214向下流動。在此，內塔管272的最下端係位於較載體氣體流入之開口(載體氣體供給口)252的最下端(開口252的內徑的最低處)為下面為宜。

另一方面，於內塔管272內側，經霧化部210所霧化之過氧化氫與載體氣體一起向上流動，而經霧化之過氧化氫經由內塔管272朝加熱管221流入。

如此方式，因經由採用內塔管272而使連接構件280內部成為雙重構造，載體氣體在內塔管272與連接構件280之間的部分向下流動，於杯體214的外周部分折回後，在內塔管272的內部向上流動，而能在儲存於杯體214中之過氧化氫水表面穩定形成水柱。因而，藉由載體氣體將過氧化氫有效供給至加熱管221。又，因內塔管272最下端係位於較載體氣體所流入之開口252的最下端更下面，而可抑制上述之載體氣體的流動發生混亂。

(滅菌物質供給裝置之變形例2)

利用第5圖(A)及第5圖(B)，說明滅菌物質供給裝置200的變形例2。第5圖(A)係表示滅菌物質供給裝置200的變形例2之概略圖。第5圖(B)係沿著第5圖(A)的A-A線之剖面圖。

由於滅菌物質供給裝置200的變形例2的基本構成，係與滅菌物質供給裝置200的變形例1相同之故，僅說明與滅菌物質供給裝置200的變形例1不同之構成。

於滅菌物質供給裝置200的變形例2中，如第5圖(B)所示，管線275的中心係偏離通過加熱器222的中心(或連接構件280的中心)之線P。藉此，於內塔管272與連接構件280之間的部分，載體氣體向下流動，並且如第5圖(B)所示剖面圖，成為順時針方向。藉此，如載體氣體在杯體214的外周部份折回時，則將在內塔管272內部漩渦狀地向上流動。藉此，可於儲存於杯體214中之過氧化氫水表面更穩定形成水柱。

10．．．作業室

12．．．前面門

14．．．作業用手套

16．．．氣體供給口

18．．．氣體排出口

20、22．．．HEPA濾器

40．．．氣體供給部

42．．．吸氣口

44、52．．．三通閥

46．．．送風機

50．．．氣體排出部

54．．．滅菌物質降低處理部

58．．．排氣口

70、72、74、76、78、80、82．．．管路

90．．．控制部

100．．．隔離器

200．．．滅菌物質供給裝置

202．．．滅菌氣體產生部

210．．．霧化部

211．．．收納構件

212．．．分隔構件

213．．．超音波振動器

214．．．杯體

216、228、238、270、281、282．．．凸緣

217、229、236、241．．．溝槽

218a、218b、218c、218d、218e．．．O型環

220．．．氣化部

221．．．加熱管

222．．．加熱器

223．．．散熱片

224、262、275、324．．．管線

225、227．．．溫度計

226．．．流路

234．．．空間

232、239、255、286．．．螺絲

240．．．超音波傳播用液

250、252、254．．．開口

251．．．螺孔

260．．．滅菌物質儲存匣

264．．．泵

272．．．內塔管

273．．．蓋構件

280．．．連接構件

t1、t2、t3、t4、t5、t6、t7．．．時刻

第1圖係表示實施形態1之隔離器的構成之概略圖。

第2圖(A)係表示實施形態1之隔離器所具有之滅菌物質供給裝置的構成之概略圖。第2圖(B)係沿著第2圖(A)的A-A線之剖面圖。

第3圖係於實施形態1之隔離器所具有之滅菌物質供給裝置中產生滅菌氣體時的時間圖。

第4圖(A)係表示滅菌物質供給裝置的變形例1之概略圖。第4圖(B)係沿著第4圖(A)的A-A線之剖面圖。

第5圖(A)係表示滅菌物質供給裝置的變形例2之概略圖。第5圖(B)係沿著第5圖(A)的A-A線之剖面圖。

200．．．滅菌物質供給裝置

202．．．滅菌氣體產生部

210．．．霧化部

211．．．收納構件

212．．．分隔構件

213．．．超音波振動器

214．．．杯體

216、228、238、270．．．凸緣

217、229、236、241．．．溝槽

218a、218b、218c、218d．．．O型環

220．．．氣化部

221．．．加熱管

222．．．加熱器

223．．．散熱片

224、262、275．．．管線

225、227．．．溫度計

226．．．流路

234．．．空間

232、239、255．．．螺絲

240．．．超音波傳播用液

250、252、254．．．開口

251．．．螺孔

260．．．滅菌物質儲存匣

264．．．泵

273．．．蓋構件

Claims (4)

1. 一種滅菌物質供給裝置，係由霧化部及氣化部所構成，前述霧化部係包含：收納構件，係於底部安裝超音波振動器，且於內部收納傳播由前述超音波振動器所產生之超音波振動之液體；以及容器，係將作為滅菌物質原料之過氧化氫水及前述液體分隔，且使經由前述液體所傳播的超音波振動傳播至前述過氧化氫水，以將前述過氧化氫水霧化，前述氣化部係將經前述霧化部所霧化之過氧化氫水加熱以使其氣化者，且係具備：加熱管，係直立地設置於前述霧化部上方，且其下部開口與前述容器相連通，並具有：於下部側面使運送經霧化之前述過氧化氫水之載體氣體流入之載體氣體供給口、及於上部將前述載體氣體與過氧化氫一起供給至外部之過氧化氫供給口；以及加熱器，係設置於前述加熱管內部，並且藉由前述載體氣體而將經前述霧化部所霧化之過氧化氫水運送至前述氣化部，並將於前述氣化部所氣化之過氧化氫氣體與載體氣體一起供給至外部。
2. 如申請專利範圍第1項之滅菌物質供給裝置，其中，設置有連接前述霧化部與前述氣化部之連接部，該連接部係具有較前述加熱管的直徑更大的直徑，並於側面具備有前述載體氣體供給口，且於前述連接部內前述加熱管 下端係延伸至較前述載體氣體供給口下端更下方者。
3. 如申請專利範圍第1項或第2項之滅菌物質供給裝置，其中，前述超音波振動器之振動器面中心的法線方向，係相對於鉛垂方向傾斜地朝向前述容器者。
4. 一種隔離器，係具備有用以實施以源自活體材料作為對象之作業的作業室之隔離器，其中，具備由霧化部及氣化部所構成之滅菌物質供給裝置，前述霧化部係包含：收納構件，係於底部安裝超音波振動器，且於內部收納傳播由前述超音波振動器所產生之超音波振動之液體；以及容器，係將作為滅菌物質原料之過氧化氫水及前述液體分隔，且使經由前述液體所傳播的超音波振動傳播至前述過氧化氫水，以將前述過氧化氫水霧化，前述氣化部係將經前述霧化部所霧化之過氧化氫水加熱以使其氣化者，且係具備：加熱管，係直立地設置於前述霧化部上方，且下部開口與前述容器相連通，並具有：於下部側面使運送經霧化之前述過氧化氫水之載體氣體流入之載體氣體供給口、及於上部將前述載體氣體與過氧化氫一起供給至外部之過氧化氫供給口；以及加熱器，係設置於前述加熱管內部，並且藉由前述載體氣體而將經前述霧化部所霧化之過氧化氫水運送至前述氣化部，並將於前述氣化部所 氣化之過氧化氫氣體與載體氣體一起從前述過氧化氫供給口供給至前述作業室。