TWI382105B - 有機沈積裝置與使用該有機沈積裝置沈積有機物之方法 - Google Patents

Description

有機沈積裝置與使用該有機沈積裝置沈積有機物之方法

本發明提供一種有機沉積裝置與使用該裝置之一沉積方法，且更特定言之，係提供一種於一基板上沉積一有機薄膜之有機沉積裝置與一種使用該裝置之沉積方法。

近來向資訊社會之轉變使得顯示技術日顯重要，該顯示技術以用戶能視覺感知之圖文形式顯示資料，使得資料可於任何時候與任何地點獲取。由於先前技術之陰極射線管(CRT)顯示器尺寸相對較大且重量大，顯示裝置市場之消費趨勢表明，對平板顯示裝置-諸如液晶顯示器(LCD)、電漿顯示器(PDP)與有機電致發光顯示器(有機發光二極體，OLED)-之需求增加。

一液晶顯示器(LCD)係一使用一獨立光源之被動型裝置。液晶顯示器在視角、回應時間、對比度等方面存在一些技術侷限。電漿顯示器(PDP)在視角與回應時間方面可提供比液晶顯示器更為良好之性能。然而，電漿顯示器可能更難於小型化，其能耗更高，且製造成本更昂貴。

一有機電致發光顯示器(下文稱為一有機發光二極體，OLED)係自發光，因此不需要一單獨之光源。有機電致發光顯示器能耗低、回應時間更快、視角侷限小或無視角侷限，且實際上能複製任何類型之微型移動圖像為大螢幕格式。同樣，OLED之結構便於製造，且主要允許製造一超薄(厚度為1mm或小於1mm)與一超光顯示器。此外，為生產更薄、更輕與不易破碎之柔性顯示器，正在進行於一柔性基板(舉例而言諸如塑膠)上製造此類 型顯示器之研究。若干改良之製造系統與方法，包括此等致力於基板上沉積材料之製造系統與方法，將有助於此技術之發展。

本發明提供一種有機沉積裝置與使用該裝置之一沉積方法，其能利用一具有簡單結構之裝置沉積一厚度均勻之有機薄膜。

根據本發明之一方面，一有機沉積裝置具有一其中提供一處理空間之腔室，該有機沉積裝置包括：一原料供給裝置，其被構造成藉由蒸發一有機物質而產生將被沉積於一基板上之有機原料，且被構造成經由一設置於該處理空間下側之一蓮蓬頭朝該處理空間之上側注射與散佈該有機原料；一工作臺裝置，其設置於該處理空間之上側，用於支撐被傳遞進該處理空間之基板，且上下移動該基板，用以調整該基板與該蓮蓬頭間之距離；及一泵浦排氣口，其設置於該腔室之上側，用於提供一通至該處理空間之真空排氣通道，以便朝該工作臺裝置引導該處理空間之一空氣流。

該工作臺裝置可包括一基板夾頭與一支撐軸，該基板夾頭設置於該處理空間之上側，用於支撐該基板，而該支撐軸之一側耦合至該基板夾頭，而其另一側延伸穿過該腔室之上側。

該有機沉積裝置可進一步包括一平板，該平板固定至該支撐軸之另一側且平行於該基板夾頭。

該有機沉積裝置可進一步包括一對準單元，該對準單元被構造成支撐該平板且在一平面上移動該平板。

該工作臺裝置可進一步包括：一設置於該腔室與該平板間之升降臺，其用於支撐該基板；與一夾頭升降外設組件，其被耦合至該腔室之一側面，用於支撐該升降臺與上下移動該升降臺。

該工作臺裝置可進一步包括：一升降臂，其被構造成支撐該處理空間內之一圖像掩模；與一掩模升降外設組件，其包括一被 構造成朝該基板夾頭移動該升降臂之升降驅動單元。

可提供複數個掩模升降外設組件用於支撐該掩模之邊緣部分，其中可單獨操作該等複數個掩模升降外設組件，以單獨調整該升降臂之升降距離。

該有機沉積裝置可進一步包括：一原料產生器，其被構造成藉由蒸發一有機物質而產生有機原料；與一混合器，其設置於該原料產生器與該蓮蓬頭之間，用於混合該原料產生器所產生之有機原料與運送該有機原料之運載氣體。

該蓮蓬頭可包括：一散佈室，其被構造成散佈自該原料產生器供給之有機原料；與複數個自該散佈室延伸至該處理空間之注入孔。

根據本發明之另一方面，一種沉積一有機物質之方法包括：實施一引導一基板進入一處理空間並支撐該基板之基板支撐操作；實施一遮罩該處理空間之遮罩操作；經由該處理空間之上下側實施一使該處理空間被抽成真空之排氣操作；與在停止經由該處理空間之下側抽空該處理空間之操作後，且同時維持經由該處理空間之上側抽空該處理空間之操作時，實施一注射一有機原料至該基板之沉積操作。

在該基板支撐操作與該遮罩操作之間，該方法可進一步包括：實施一引導一圖像掩模進入該處理空間之掩模導入操作；與實施使該掩模與該基板接觸之接觸操作。

該接觸操作可包括：實施一測量該基板與該掩模間之對準狀態之測量操作；與實施一對準操作，其係藉由單獨上下移動該掩模之邊緣部分而調整該掩模與該基板間之距離，且藉由相對於該掩模在一平面上移動該基板而使該基板與該掩模對準。

在該沉積操作之前，該方法可進一步包括實施一基板升降操 作，其係藉由上下移動該基板而調整該有機原料之注射距離。

一OLED典型地可具有一包括一氧化銦錫(ITO)陽極、一有機薄膜與一陰極之結構。一有機薄膜可由單一材料形成，但可具有一多層結構，該多層結構含有一空穴傳輸層(HTL)、一發射層(EML)、一電子傳遞層(ETL)等。在一具有如此一多層結構之OLED中，若干空穴自該空穴傳輸層提供，而電子自該電子傳遞層提供，且該等空穴與電子可移動至該發射層，用以形成耦合之空穴-電子激子(exitons)，因此該等激子(exitons)恢復至接地狀態，用以放出發光之能量。

製造具有一多層結構之OLED時，一氣相沉積(VD)方法可用於薄膜沉積。氣相沉積過程中，可加熱一存儲有機材料之原料供應器，用以自該有機材料產生一有機原料，運載氣體可被注入該原料供應器中，且該有機原料可被供給至其中實施沉積製程之一腔室內。基於該有機原料之供給位置，此類沉積方法可分類為一向上方法、一向下方法或一側向方法。

該向上方法包括：在該處理空間之一上部分內定位該基板；及自該處理空間之底部向上卸載該有機原料。該向下方法包括：在該處理空間之一下部分內定位該基板；及自該處理空間之頂部向下卸載該有機原料。該側向方法包括：在該處理空間之一下部分內定位該基板；及自該處理空間之一側面卸載該有機原料至定位於該處理空間內之基板上。

儘管此等方法在沉積薄膜時可能有效，但該向上方法與該側向方法可旋轉該基板以使沉積之薄膜之厚度均勻，因此使得該裝置之結構更為複雜。此等方法亦可能難於應用於大尺寸基板應用中。在該向下方法中，顆粒自該處理空間之上部降至該基板上， 因此可能污染該基板。為在各種不同尺寸與類型之基板上提供厚度均勻之沉積薄膜，圖1-3中圖示之該有機材料沉積裝置100可包括一腔室110、一原料供給裝置130、一工作臺裝置150與一真空形成裝置190。

該腔室110可藉由一抑制振動之減振底座110a支撐，且其可提供一用於在一基板S上沉積有機材料之處理空間101。該腔室110可分成一上腔室111與一下腔室113。該上腔室111可藉由一腔室打開外設組件110b支撐，舉例而言，外設組件110b諸如在該下腔室113之一邊緣部提供之一液壓缸、一升降絲杠或其他合適之機械裝置。該上腔室111可朝該下腔室113降低，用以密封該處理空間101，且該上腔室111可自該下腔室113升離，用以打開該處理空間101。在一替代具體實施例中，該腔室可改為設置在一具有一內處理空間之整體結構中，且一門可安裝於如此一整體腔室之一側表面，用以允許一基板S與一掩模M被裝載進如此一處理空間101中。

該原料供給裝置130可蒸發一將被沉積於一基板S上之有機材料，且提供該有機原料至該處理空間101。該原料供給裝置130可包括一原料產生器131、一混合器133與一散佈裝置或沉積裝置135，舉例而言，該沉積裝置135具有與一蓮蓬頭或噴嘴相似之結構。該原料產生器131可提供於該處理空間101之外側，且可蒸發一有機材料以產生一氣態有機原料。該混合器133可混合一運載氣體(有助於自該原料產生器131傳遞該有機原料至該處理空間101)與該有機原料，且供給該混合物至該蓮蓬頭135。

舉例而言，該蓮蓬頭135可定位於該處理空間101之下部分，用以朝該工作臺裝置150散佈與排出經由該混合器133供給之該有機原料。該蓮蓬頭135可包括：一散佈室135a，在該散佈室135a 中該有機原料藉由該等內壁反射與散佈(見圖7)；及複數個注入孔135b，該有機原料可經由該等孔排出，故該有機原料均勻地排入該處理空間101內。

在替代具體實施例中，一加熱器(未顯示)可配備有該蓮蓬頭135與該腔室110，用以防止該氣態有機原料不小心沉積於該蓮蓬頭135與該腔室110之內壁上。

該工作臺裝置150可支撐裝載於該處理空間101內之一基板S，且可附著一其上形成一圖案之掩模M至該基板S。該工作臺裝置150可包括一基板夾頭151、一支撐軸153、一平板155、一移動台157與一掩模移動外設組件159。

該基板夾頭151可提供於該處理空間101之上部分，用以支撐裝載於該處理空間101內之該基板S。舉例而言，該基板夾頭151可為一利用靜電力固持該基板S之靜電夾頭(ESC)，且在替代具體實施例中，其可包括若干內嵌磁鐵，該等內嵌磁鐵利用其離附著至該靜電夾頭之基板S最近時所施加之磁力支撐該掩模M。如此一掩模M中可包括若干磁性組分。

該支撐軸153之一端可耦合至該處理空間101內之基板夾頭151，且其另一端可穿過該上腔室111之頂部。

在替代具體實施例中，一冷卻裝置(未顯示)可配備有該基板夾頭151，用以藉由冷卻附著至該基板夾頭151之基板S，使處於氣態之該有機原料易於沉積於該基板S上。舉例而言，該冷卻裝置(未顯示)可包括一插入該基板夾頭151內之循環管道，用以容許沿該支撐軸153供給之諸如冷卻水或氦氣之冷卻劑在其中循環。

該平板155與該上腔室111間隔開且與該基板夾頭151平行，該平板155可被固定至該支撐軸153之另一端。利用一稍後 將描述之對準裝置173，該平板155可於縱向上對準該基板S與該掩模M。

該移動台157可與該上腔室111間隔開，且設置於該上腔室111與該平板155之間。該移動台157可包括一位於其中央處之通孔，供該支撐軸153穿過。該移動台157可藉由一夾頭移動外設組件157a支撐，舉例而言，外設組件157a諸如一液壓缸或一升降絲杠，該液壓缸或升降絲杠耦合至該上腔室111之一邊緣部分。該移動台157可以如此一方式安裝，即其可根據實際需要相對於該上腔室111升高與降低。

該對準裝置173可設置於該移動台157與該平板155之間，以便該移動台157支撐該對準裝置173，且該對準裝置173支撐該平板155。因此，該移動台157可藉由該夾頭移動外設組件157a升高與降低，從而使該基板夾頭151升高與降低。藉此該工作臺裝置150可調整該蓮蓬頭135與附著至該基板夾頭151之基板S間之距離，因為該基板夾頭151在該移動台157升高與降低時亦升高與降低。

該掩模移動外設組件159可包括：一臂159a，其在該處理空間101內支撐該掩模M；與一驅動器159b，其朝該基板夾頭151升高與降低該臂159a。該驅動器159b可安裝於該移動台157上。可安裝該臂159a，使其穿過該移動台157與該上腔室111，且在該處理空間101內升高與降低。可提供複數個該掩模移動外設組件159與臂159a，以便藉由單獨或共同調整每一臂159a之位置而支撐該掩模M之各邊緣部分。

可安裝該支撐軸153與該臂159a，使得其穿過該移動台157與該上腔室111升高與降低。因此，一密封構件157b，舉例而言諸如伸縮軟管，可設置於該上腔室111與該移動台157之間以密 封該處理空間101，因為該支撐軸153與該臂159a自其間穿過。

儘管在上述之具體實施例中用於形成一有機薄膜圖案之該掩模M被傳送進該處理腔室101內，且該工作臺裝置150包括一調整該掩模M位置之掩模移動外設組件159，但在替代具體實施例中，若無必要形成沉積於該基板S上之有機薄膜圖案，則可省略該掩模移動外設組件159。

複數個相機171可設置於該上腔室111之頂部。該等相機171經由一穿透該上腔室111之一拍攝孔111a與一形成於該基板S內之對準孔Sa可拍攝該掩模M之一對準標記Ma之圖像，因此使得可能測量該基板S與該掩模M間之一對準狀態。

在根據藉由該相機171所攝之圖像之一平面上該基板夾頭151/基板S之平面內，該對準裝置173可相對於該掩模M沿縱向移動該基板夾頭151，藉此在一平面上對準該基板S與該掩模M。可藉由單獨調整該等臂159a之位置實施調整該基板S與該掩模M間之空間。同樣地，利用該對準裝置173，該有機沉積裝置100可對準該基板S與該掩模M，且利用該掩模移動外設組件159可調整該基板S與該掩模M間之該空間。

一真空形成裝置190可包括一設置於該上腔室111上之上泵浦排氣口191與一設置於該下腔室113上之下泵浦排氣口193。該上泵浦排氣口191與該下泵浦排氣口193可被連接至一將該處理空間101抽成真空之真空泵(未顯示)，且可提供一在該密封之處理空間101內形成一真空之排氣通道。此外，在該處理空間101之真空排氣過程中，該等上、下泵浦排氣口191與193可控制該處理空間101內之空氣流向。

在該處理空間101中實現真空狀態後，注射有機原料期間該上泵浦排氣口191可允許該處理空間101之空氣自底部流動至頂 部。另外，該上泵浦排氣口191可加速經由該蓮蓬頭135注射之有機原料之上升速度，藉此減少該有機原料沉積至該基板S上之沉積時間。由此使得該有機原料相似地沉積於該基板S上。此外，該等上、下泵浦排氣口191與193可實施一排氣操作，用以在該有機原料沉積之前與/或沉積之後清潔該處理空間101。

參照圖4~7將更詳盡地描述依照此處概括描述之一具體實施例之一基板附著裝置之操作。

在操作S11(同樣見圖5)中，在該上腔室111被升高且該處理空間101被打開之狀態下，該基板S被傳遞進該處理空間101內，且然後該基板S可附著至該基板夾頭151。一旦該基板S被附著至該基板夾頭151，則該掩模M可被引導入該處理空間101內，該掩模M藉由該等臂159a支撐。

此時，經由該上腔室111內之該拍攝孔111a與該基板S內之該對準孔Sa，該相機171拍攝形成於該掩模M內之該對準標記之圖像，故該相機171拍攝該基板S與該掩模M之間對準狀態之圖像。

若該對準標記Ma未對準該拍攝孔111a與該對準孔Sa，則該掩模移動外設組件159與該對準裝置173皆實施該基板S與該掩模M間之對準操作。即該等複數個掩模移動外設組件159可單獨操作或共同操作，用以升高/降低該掩模M之每一邊緣部分，藉此調整該掩模M與該基板S之間的空間。同樣，該對準裝置173可在其平面範圍內縱向移動該平板155，以藉此在其平面範圍內縱向移動該基板夾頭151。如此，可調整與控制該基板S相對於該掩模M之位置。

當實施該基板S與該掩模M間之對準時，均衡每一臂159a之位置後，該等複數個掩模移動外設組件159可升高該掩模M， 然後使得該掩模M接觸該基板S。

其後，在操作S13(同樣見圖6)中，當該掩模M被升高以接觸該基板S時，該上腔室111下降，且該處理空間101被遮罩或被密封。當該處理空間101被遮罩時，該真空形成裝置190實施真空排氣該處理空間。

在操作S15中，經由該等上下泵浦排氣口191與193該真空形成裝置190實施該處理空間101之真空排氣。因此，藉由同時使用該等上下泵浦排氣口191與193，可能減少該處理空間101之真空排氣時間與提高該處理空間101之真空效率，因為該處理空間101之真空排氣係經由該等上下泵浦排氣口191與193同時實施。

在該處理空間101內實現真空後，該移動台157藉由該夾頭移動外設組件157a降低。在該移動台157降低時，藉由該移動台157支撐之該對準裝置173降低，且藉由該對準裝置173支撐之該平板155降低。當該平板155降低時，該支撐軸153降低，且耦合至該支撐軸153之基板夾頭151亦降低。

因此，如圖6所示，該基板夾頭151與該蓮蓬頭135間之距離減小，從而導致經由該蓮蓬頭135注射之該有機原料移動達到該基板S之距離減小，因此該有機原料之注射效率提高。

隨後，如圖7所示，該原料供給裝置130蒸發存儲於該原料產生器131內之有機物質，且供給該已蒸發之有機原料至配備有運載氣體之該混合器133。在該混合器113內與該運載氣體混合之該有機原料被供給至該蓮蓬頭135，於此處其散佈於該散佈室135a內，且由於供給至該混合器133之運載氣體之壓力，其實質上經由該等注入孔135b平均散佈。在特定具體實施例中，該蓮蓬頭135可藉由一加熱器(未顯示)加熱，使得該有機原料不會不小心沉 積於該蓮蓬頭135之內壁上。

當該有機原料最初自該蓮蓬頭135分散時，該下泵浦排氣口193停止實施真空排氣，但該上泵浦排氣口191繼續實施真空排氣。加上施加至該有機原料之該運載氣體之壓力，使得該氣流穿過該處理空間101向上移動，導致該有機原料之流速加速並沉積於該基板S上，並且使得可能映射地將有機原料沉積到基板S上。在特定具體實施例中，該基板夾頭151可藉由一冷卻裝置(未顯示)冷卻，使得該有機原料可更為有效地沉積於該基板S上。

此處具體表達與概括描述之一有機沉積系統與方法能利用一具有相對簡單結構之裝置沉積厚度均勻之有機薄膜。

此處具體表達與概括描述之一有機沉積系統與方法同樣能易於在一大尺寸基板上實施有機薄膜沉積。

提供一有機沉積裝置與使用該裝置之一沉積方法，該裝置與方法能利用一結構簡單之裝置沉積厚度均勻之有機薄膜。

此處具體表達與概括描述之一有機沉積裝置可包括：一原料供給裝置，其被構造成藉由蒸發一將沉積於一基板上之有機物質而產生一有機原料，且被構造成經由設置於該處理空間之一下側處之蓮蓬頭朝該處理空間之一上側注射與散佈該有機原料；一工作臺裝置，其設置於該處理空間之上側，用於支撐被傳遞進該處理空間之基板且上下移動該基板，用以調整該基板與該蓮蓬頭間之距離；與一泵浦排氣口，其設置於該腔室之一上側，用於提供一通至該處理空間之真空排氣通道，以便朝該工作臺裝置引導該處理空間之空氣流。

該工作臺裝置包括：一基板夾頭，該基板夾頭設置於該處理空間之上側，用於支撐該基板；與一支撐軸，其一側耦合至該基板夾頭，而另一側延伸穿過該腔室之上側。

該有機沉積裝置亦可包括一平板，該平板固定至該支撐軸之另一側且與該基板夾頭平行。

該有機沉積裝置亦可包括一對準單元，該對準單元被構造成支撐該平板且在一平面上移動該平板。

該工作臺裝置亦可包括：一升降臺，其設置於該腔室與該平板之間，用於支撐該基板；與一夾頭升降外設組件，其耦合至該腔室之一側面，用於支撐該升降臺且上下移動該升降臺。

該工作臺裝置亦可包括：一升降臂，其被構造成支撐該處理空間內之一圖像掩模；與一掩模升降外設組件，其包括一被構造成朝該基板夾頭移動該升降臂之升降驅動單元。

可提供複數個掩模升降外設組件用於支撐該掩模之一邊緣部分，其中該等複數個掩模升降外設組件可單獨操作，用於單獨調整該升降臂之升降距離。

該有機沉積裝置亦可包括：一原料產生器，其被構造成藉由蒸發一有機物質產生一有機原料；與一混合器，其設置於該原料產生器與該蓮蓬頭之間，用於使該原料產生器產生之有機原料與運送該有機原料之一運載氣體混合。

該蓮蓬頭可包括：一散佈室，其被構造成散佈自該原料產生器供給之該有機原料；與複數個注入孔，其自該散佈室延伸至該處理空間。

此處具體表達與概括描述之一沉積有機物質之方法可包括：實施一引導一基板進入一處理空間並支撐該基板之基板支撐操作；實施一遮罩該處理空間之遮罩操作；經由該處理空間之上下側使該處理空間被抽成真空之排氣操作；以及在停止經由該處理空間之下側抽空該處理空間之操作後，且同時維持經由該處理空間之上側抽空該處理空間之操作時，實施一注射有機原料至該基 板之沉積操作。

在該基板支撐操作與該遮罩操作之間，該方法亦可進一步包括：實施一引導一圖像掩模進入該處理空間之掩模引入操作；以及實施使該掩模與該基板接觸之接觸操作。

該接觸操作可包括：實施一測量該基板與該掩模間之對準狀態之測量操作；與實施一對準操作，用於藉由單獨上下移動該掩模之邊緣部分而調整該掩模與該基板間之距離，且藉由相對於該掩模在一平面上移動該基板而使該基板與該掩模對準。

在該沉積操作之前，該方法亦可包括實施一基板升降操作，用於藉由上下移動該基板而調整該有機原料之注射距離。

此說明書中任何涉及“一具體實施例”、“示例具體實施例”、“特定具體實施例”、“替代具體實施例”等，皆指結合該具體實施例描述之特定特徵、結構或特性包括於此處概括描述之至少一具體實施例內。該說明書中各處出現此等術語並不一定皆涉及相同之具體實施例。此外，當結合任何具體實施例描述一特定特徵、結構或特性時，皆主張其在熟悉此項技藝之人士之知識範圍內，用以結合該等具體實施例之其他具體實施例實現此等特徵、結構或特性。

儘管已參照其一定數量之說明性具體實施例描述具體實施例，但是應瞭解熟悉此項技藝之人士可設計眾多其他更改與具體實施例，其將落在此揭示內容之原則之精神與範圍之內。更特定言之，在此揭示內容、該等圖式與所附申請專利範圍之範圍內，對組成部件與/或該主體組合配置之配置實施眾多變更與更改是可能的。除對組成部件與/或佈置之變更與更改外，對於熟悉此項技藝之人士而言，替換使用亦係顯而易見的。

100‧‧‧有機材料沉積裝置

101‧‧‧處理空間

110‧‧‧腔室

110a‧‧‧減振底座

110b‧‧‧腔室打開外設組件

111‧‧‧上腔室

111a‧‧‧拍攝孔

113‧‧‧下腔室

130‧‧‧原料供給裝置

131‧‧‧原料產生器

133‧‧‧混合器

135‧‧‧蓮蓬頭

135a‧‧‧散佈室

135b‧‧‧注入孔

150‧‧‧工作臺裝置

151‧‧‧基板夾頭

153‧‧‧支撐軸

155‧‧‧平板

157‧‧‧移動台

157a‧‧‧夾頭移動外設組件

157b‧‧‧密封構件

159‧‧‧掩模移動外設組件

159a‧‧‧臂

159b‧‧‧驅動器

171‧‧‧相機

173‧‧‧對準裝置

190‧‧‧真空形成裝置

191‧‧‧上泵浦排氣口

193‧‧‧下泵浦排氣口

M‧‧‧掩模

Ma‧‧‧對準標記

S‧‧‧基板

Sa‧‧‧對準孔

將參照該等圖式詳細描述該等具體實施例，其中相同之圖式符號指代相同之元件，其中：圖1係此處具體表達與概括描述之一有機材料沉積裝置之透視圖；圖2_係圖1所示之該有機材料沉積裝置之一邊緣部分之分解透視圖；圖3係沿直線I-I’所截取之圖1所示之該有機材料沉積裝置之橫截面視圖；圖4係此處具體表達與概括描述之一有機材料沉積方法之流程圖；及圖5至圖7係圖式說明此處具體表達與概括描述之一有機材料沉積裝置之操作原理圖。

101‧‧‧處理空間

110‧‧‧腔室

110a‧‧‧減振底座

110b‧‧‧腔室打開外設組件

111‧‧‧上腔室

111a‧‧‧拍攝孔

113‧‧‧下腔室

130‧‧‧原料供給裝置

131‧‧‧原料產生器

133‧‧‧混合器

135‧‧‧蓮蓬頭

135a‧‧‧散佈室

135b‧‧‧注入孔

150‧‧‧工作臺裝置

151‧‧‧基板夾頭

153‧‧‧支撐軸

155‧‧‧平板

157‧‧‧移動台

157a‧‧‧夾頭移動外設組件

157b‧‧‧密封構件

159‧‧‧掩模移動外設組件

159a‧‧‧臂

159b‧‧‧驅動器

171‧‧‧相機

173‧‧‧對準裝置

190‧‧‧真空形成裝置

191‧‧‧上泵浦排氣口

193‧‧‧下泵浦排氣口

M‧‧‧掩模

Ma‧‧‧對準標記

S‧‧‧基板

Sa‧‧‧對準孔

Claims (17)

1. 一種有機沉積裝置，其包括：一其中形成一處理空間之腔室，該處理空間包括一第一端及一與該第一端相對之第二端；一產生一有機原料之原料供給裝置，其經由設置於該處理空間之第二端處之一散佈裝置供給該有機原料進入該處理空間；一工作臺裝置，其設置於該處理空間之第一端處，其與該散佈裝置相對，其中該工作臺裝置支撐該處理空間內之一基板且移動該基板，以便調整該基板與該散佈裝置間之一距離；及一第一口與一第二口，其分別設置於與該處理空間之第一端與第二端，其中該第一口與該第二口在真空操作期間皆打開以進行真空排氣，而該第一口與該第二口在該有機原料經由該散佈裝置供給進該處理空間內時，該第一口保持打開狀態進行真空排氣，而該第二口關閉，以便自該第二端朝該第一端引流而在該處理空間內形成一真空排氣通道，該真空排氣通道引導該有機原料朝該工作臺裝置固持之基板移動且離開該處理空間。
2. 如申請專利範圍第1項所述之裝置，其中該工作臺裝置包括：一支撐該基板之基板夾頭；及一支撐軸，其具有一延伸穿出與該處理空間之第一端相對應之該腔室之一外壁之第一端，以及一被耦合至該基板夾頭之第二端。
3. 如申請專利範圍第2項所述之裝置，其中該工作臺裝置進一步包括：一板，其耦合至該支撐軸之第一端且平行於該基板夾頭定向；一移動台，其位於該腔室與該板之間；及一夾頭移動外設組件，其耦合至該腔室之一側，其中該夾頭移 動外設組件支撐該移動台且上下移動該移動台。
4. 如申請專利範圍第2項所述之裝置，其中該工作臺裝置進一步包括至少一掩模移動外設組件，其包含有：至少一臂，其支撐該處理空間內之一圖像掩模；及至少一移動該至少一臂之驅動器，以便相對於該基板移動該掩模。
5. 如申請專利範圍第4項所述之裝置，其中該至少一掩模移動外設組件係為複數個移動對應之複數個臂之掩模移動外設組件，該等複數個臂支撐該掩模的邊緣部分，其中該等複數個掩模移動外設組件獨立操作，以便調整一對應臂之突出距離。
6. 如申請專利範圍第1項所述之裝置，其中該原料供給裝置包括：一蒸發一有機物質而產生有機原料之原料產生器；及一混合器，其設置於該原料產生器與該散佈裝置之間，其中該混合器混合藉由該原料產生器產生之該有機原料與一運載氣體，該運載氣體運送該有機原料經過該散佈裝置並進入該處理空間。
7. 如申請專利範圍第1項所述之裝置，其中該散佈裝置包括：一自該原料產生器接收與散佈該有機原料之散佈空間；及複數個散佈孔，該等散佈孔自該散佈室延伸進入該處理空間，以便散佈該有機原料進入該處理空間。
8. 如申請專利範圍第1項所述之裝置，其中該處理空間之第一端位於該腔室之一上部分，而該處理空間之第二端位於該腔室之一下部分，使得該有機原料散佈進入該處理空間之一下部分，且朝打開之該第一口被向上吸引越過該基板。
9. 一種於一平板顯示面板之一基板上沉積一有機物質之方法，該方法包括： 提供一基板至一處理空間，且支撐定位於該處理空間內之一夾頭上之該基板；密封該處理空間；經由提供於該處理空間之第一與第二端處之第一與第二口對該處理空間真空排氣，以便在該處理空間中形成一真空；關閉該第二口，以便終止經由其排氣，同時仍使該第一口保持打開狀態，以便維持經由其排氣；及經由一散佈裝置注射一有機原料進入該處理空間，且沉積該有機原料至該基板上。
10. 如申請專利範圍第9項所述之方法，其進一步包括：在支撐該基板於該夾頭上後及密封該處理空間之前，引導一掩模進入該處理空間且移動該掩模使其與該基板接觸。
11. 如申請專利範圍第10項所述之方法，其中移動該掩模使其與該基板接觸包括：測量該基板與該掩模之間的一對準狀態；及調節該基板與該掩模之間的一距離，且調整該基板相對於該掩模之一縱向位置，以便對準該基板與該掩模。
12. 如申請專利範圍第11項所述之方法，其中調整該基板與該掩模間之一距離包括相對於該基板單獨上下移動該掩模之邊緣部分，且其中調整該基板相對於該掩模之一縱向位置包括在其相對於該掩模之平面內縱向移動該基板。
13. 如申請專利範圍第11項所述之方法，其中測量該基板與該掩模間之一對準包括比較該基板上對準標記與該掩模上對準標記之位置。
14. 如申請專利範圍第9項所述之方法，其進一步包括在注射該有機原料進入該處理空間與沉積該有機原料於該基板上之前， 調整該基板與該散佈裝置間之一距離。
15. 如申請專利範圍第14項所述之方法，其中調整該基板與該散佈裝置間之一距離包括，相對於該散佈裝置之一散佈表面向上或向下移動該基板。
16. 如申請專利範圍第9項所述之方法，其中經由一散佈裝置注射一有機原料進入該處理空間且沉積該有機原料至該基板上包括：在一原料產生器內蒸發一有機物質且產生該有機原料；在一混合器內混合該有機原料與一運載氣體，且供給該有機原料至該散佈裝置；及經由形成於該散佈裝置內之若干散佈孔注射該有機原料進入該處理空間，且沉積該有機原料至該基板上。
17. 如申請專利範圍第16項所述之方法，其中該第一口與該基板定位於該處理空間之一上端，且該第二口與該散佈裝置定位於該處理空間之一下端，且其中關閉該第二口以便終止經由該第二口排氣，與此同時仍使該第一口處於打開狀態，以便維持經由該第一口排氣，包括：經由該散佈裝置注射該有機原料進入該處理空間；藉由該關閉之第二口與該打開之第一口形成一流動通道，以自該處理空間之下部分朝該處理空間之上部分向上吸引該有機原料；在該有機原料經由該處理空間受向吸引經過該基板時，沉積該有機原料於該基板上；及經由該打開之第一口對該處理空間真空排氣。