JP2005240121A - 真空蒸着用アライメント装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】装置自体の製造コストが安価で且つ高精度な位置決めを維持し得る真空蒸着用アライメント装置を提供する。
【解決手段】真空容器3内に保持されたマスクの上方に、真空容器3の上壁面である取付用フランジ1aに形成された貫通穴1bを挿通された吊持部材12を介して保持された基板ホルダ11と、真空容器の外部に設けられるとともに吊持部材に連結された連結用板体13と、この連結用板体を移動させて基板ホルダに保持された蒸着室2内の基板5のマスクに対する位置を調整し得る位置調整手段14と、吊持部材に外嵌されるとともに取付用フランジの貫通穴1bの外周と連結用板体との間に設けられて真空側と大気側とを遮断する伸縮式筒状遮断部材15と、この筒状遮断部材の内側が真空状態であることにより発生する連結用板体への押圧力と逆方向の付勢力を発生させる付勢手段16とを具備したもの。
【選択図】 図4

Description

本発明は、真空蒸着用アライメント装置に関するものである。
従来、半導体基板などを製造する際に、真空容器内で半導体材料が蒸発されるとともに、基板表面に蒸着されて所定の導体パターンが形成されている。
この導体パターンを形成する場合、通常、基板の表面に導体パターンが形成されたマスクを配置し、その表面に塗布されたフォトレジストが露光されることにより行われている(例えば、特許文献1参照)。
特開2003−157973
ところで、真空容器内において、マスクに対して基板を所定位置に配置する必要があり、この位置合わせのためのアライメント装置が設けられている。
このアライメント装置は真空容器内に配置されることになるが、位置決め精度が高いアライメント装置を真空容器内に配置する場合、ガス放出が少ない特種な材料の部品、潤滑剤、放熱対策などを必要とするため、装置そのものが非常に高価なものとなる。
一方、このような事態を回避するために、アライメント装置を真空容器の外部に配置することが考えられる。
このように、アライメント装置を真空容器の外部に配置する場合には、アライメント装置におけるマスク保持部材の真空容器内への挿入部分における真空維持機構が必要となり、したがって特殊なシール機構、または加工が必要となり、やはり装置が高価なものとなる。
さらに、マスク保持部材の真空容器内への挿入部分には、真空力により、言い換えれば、大気圧による大きい外力を受けて、歪が生じ位置合わせ精度が低下する虞れがあった。
そこで、上記課題を解決するため、本発明は、装置自体の製造コストが安価で且つ高精度な位置決めを維持し得る真空蒸着用アライメント装置を提供することを目的とする。
上記課題を解決するため、本発明の請求項1に係る真空蒸着用アライメント装置は、真空容器内に保持された基板の表面に蒸着材料を所定パターンでもって蒸着させる際に用いられるマスクに対して当該基板の位置決めを行うアライメント装置であって、上記真空容器内に保持されたマスクの上方に、当該真空容器の壁体部に形成された貫通穴を挿通された吊持部材を介して保持された基板の保持体と、上記真空容器の外方に設けられるとともに上記吊持部材に連結された連結用板体と、この連結用板体を移動させて保持体に保持された蒸着室内の基板のマスクに対する位置を調整し得る位置調整手段と、上記吊持部材に外嵌されるとともに壁体部の貫通穴の外周と上記連結用板体との間に設けられて真空側と大気側とを遮断する伸縮式筒状遮断部材と、上記筒状遮断部材の内側が真空状態であることにより発生する連結用板体への押圧力と逆方向の付勢力を発生させる付勢手段とを具備したものである。
また、請求項2に係る真空蒸着用アライメント装置は、請求項1に記載のアライメント装置の位置調整手段が、連結用板体が、吊持部材および保持体を介して保持された基板がマスク表面と平行に移動し得るように構成されたものである。
また、請求項3に係る真空蒸着用アライメント装置は、請求項2に記載の位置調整手段に、連結用板体を基板表面と直交する軸心方向で移動し得る機能を具備させたものである。
さらに、請求項4に係る真空蒸着用アライメント装置は、請求項1乃至3のいずれかに記載のアライメント装置の付勢手段による付勢力を調整可能に構成したものである。
上記の各真空蒸着用アライメント装置の構成によると、所定の真空下でマスクに対する基板の位置合わせを行う際に、真空容器の外部に基板のアライメント装置を配置したので、真空下を考慮した材料等を用いる必要がないとともに、特殊なシール機構などについても必要とせず、したがって装置自体の製造コストを安価にすることができる。
また、真空下で大気圧による押圧力に対向し得る付勢力を付与し得る付勢手段を具備したので、アライメント装置に余分な外力が作用するのを防止することができ、したがってマスクに対する基板の位置合わせを高精度に維持することができる。
本発明の実施の形態に係る真空蒸着用アライメント装置について説明する。
この真空蒸着用アライメント装置は真空蒸着装置に設けられるもので、例えば有機ELディスプレイの表示部の製造時に、マスクを用いてガラス基板の表面に有機材料を所定のパターンでもって蒸着させて導体パターンを得る際に、ガラス基板を保持するとともにマスクに対する当該ガラス基板の位置調整(アライメント)を行うためのものである。
[実施の形態1]
以下、実施の形態1に係る真空蒸着用アライメント装置を、図1〜図6に基づき説明する。
図1に示すように、このアライメント装置1は、真空下でガラス基板の表面に有機材料を蒸着させるための蒸着室2を有する真空容器3の上壁部3aに取付用フランジ(壁体部の一例である)1aを介して設けられている。なお、取付用フランジを介さずに、真空容器の上面全体に亘って設けられる上壁部に、直接、取り付けるようにしてもよい。
また、真空容器3の蒸着室2の下部には蒸発源4が配置されるとともに、真空容器3の蒸着室2内の上方位置には、アライメント装置1を介してガラス基板(以下、基板という)5が保持されるとともに、この基板5の下方には、所定の導体パターンを形成するためのマスク6がその取付枠7を介してマスク保持体8により保持されている。なお、真空容器3の側壁部3bには、基板5およびマスク6の搬入出用開口部9が設けられており、基板5およびマスク6の搬入および搬出については、ロボットハンド(図示せず)が用いられる。
上記アライメント装置1には、図2〜図4に示すように、板状のホルダ本体部11aに基板5を吸着し得るシート状の静電チャック部11bが設けられてなる例えば平面視が矩形状の基板ホルダ(基板の保持体)11と、この基板ホルダ11の左右2箇所に下端部が連結されるとともに上端部が取付用フランジ1aに形成された貫通穴1bを挿通されて真空容器3の外部に突出された2本の円筒状の吊持部材12と、真空容器3の外部に設けられて上記2本の吊持部材12の上端部に且つその上端開口部が上面に開口するように貫通して連結された例えば平面視矩形状の連結用板体13と、上記取付用フランジ1aの上面に配置されて連結用板体13を移動させて基板ホルダ11に保持された蒸着室3内における基板5のマスク6に対する位置を調整し得る位置調整手段14と、上記各吊持部材12に外嵌されるとともに取付用フランジ1aの貫通穴1bの外周と上記連結用板体13との間に設けられて真空側と大気側とを遮断する伸縮式筒状遮断部材(例えば、真空ベローズが用いられる)15と、この筒状遮断部材15の内側が真空状態であることにより発生する連結用板体13への押圧力(押付力)と逆方向の付勢力を発生させる(付与する)付勢手段16とが具備されている。なお、上記筒状遮断部材15と取付用フランジ1a側および連結用板体13側とは、それぞれ所定内径の下部環状取付座17および上部環状取付座18を介して連結されており、取付用フランジ1a側に設けられる上部環状取付座18への筒状遮断部材15における取付部開口面積(接触面積)に真空による力(大気圧による押圧力)が作用することになる。
上記位置調整手段14は、連結用板体13を、マスク6の表面と平行な平面内で平行移動、回転(板体の中心を回転中心とした回転)および旋回(板体の中心とは異なる位置を中心にした回転)させ得る平面内移動装置21と、マスク6(連結用板体の表面でもある)と直交する鉛直方向(軸心方向)で移動させ得る鉛直移動装置22とから構成されている。
上記平面内移動装置21は、図4および図5に示すように、平面視が矩形状の支持板31と、この支持板31上の4隅の内、3箇所に配置された駆動用支持機構32および残りの1箇所に配置された案内用支持機構33と、これら各支持機構32,33に設けられた連結具34を介して支持された移動板35とから構成されており、またこの移動板35と連結用板体13とは昇降用案内機構36を介して鉛直方向での移動を許容するとともに水平面内での移動が連動(追従)するように構成されている。
上記駆動用支持機構32は、公知の技術であり、図5に示すように、水平面内で、すなわちX−Y軸方向でリニアガイド機構37を介して移動し得るとともに、サーボモータ38により一方の軸方向(X軸またはY軸方向)に沿って強制移動を行い得るもので、また案内用支持機構33は、上記と同様のリニアガイド機構39を介してX−Y軸方向で自由に移動し得るようにされたものである。
そして、3個の駆動用支持機構32の内、2個については、同一方向で強制移動し得るように配置されるとともに、残りの1個については、上記2個の強制移動方向と直交する方向で強制移動し得るように配置されて、これら3個の内、所定(1個、2個または3個)の駆動用支持機構32におけるサーボモータ38を駆動することにより、移動板35を、X軸方向(図5(b)参照)、Y軸方向(図5(c)参照)、X軸およびY軸に対して斜め方向(図5(d)参照)、並びに移動板35の中心を回転軸とする回転方向でもって(図5(e)参照)、また任意の支持機構32側を中心として旋回させる旋回方向でもって(図5(f)参照)、移動板35を水平面内で任意の方向並びに任意の回転角または旋回角でもって移動させ得るものである。
上記昇降用案内機構36は、図3および図4に示すように、移動板35の上面に一体に設けられた平面視矩形状の取付板41と、この取付板41の前後で且つ左右位置で立設された4本のガイド軸42と、連結用板体13側に設けられてこれら各ガイド軸42に外嵌して上下方向で移動自在に案内される4個のガイド筒43とから構成されている。なお、図面上では、前部または後部に係る左右のガイド軸42およびガイド筒43だけを示している。
そして、鉛直移動装置22として、電動シリンダ(サーボモータにより駆動されるもの)が用いられ、この電動シリンダの出退用ロッド部22aが上記取付板41に連結されており、その出退用ロッド部22aを出退させることにより、連結用板体13を介して基板ホルダ11が昇降されて、マスク6に対する基板5の間隔が調整される。
上記付勢手段16は、貫通穴1bを介して蒸着室3に連通されて真空状態になる筒状遮断部材15内の端面側に作用する大気圧による押圧力を打ち消す(または、軽減する)ためのものである。
すなわち、この付勢手段16は、連結用板体13を跨ぐように取付用フランジ1a上に立設された側面視が門形状の取付用フレーム51と、上記連結用板体13の左右位置に設けられた台座部52の上面に設けられた所定内径の下部環状取付座53と上記取付用フレーム51の水平部51aの下面に設けられた所定内径の上部環状取付座54と、これら上下部の環状取付座53,54同士に亘って接続された伸縮式筒状遮断部材(例えば、真空用ベローズが用いられる)55とから構成されるとともに、これら左右における各筒状遮断部材55内は、取付用フレーム51内に形成された連通用穴56を介して真空容器3内に連通されており、したがって、この連通用穴56の基端側は取付用フランジ1aに形成された連通穴1cを介して真空容器3内に連通されるとともに、他端側は取付用フレーム51の水平部51aに設けられた上部環状取付座54に対応する位置に開口されている。
そして、少なくとも、連結用板体13の上面(実際には、台座部52の上面)に設けられた下部環状取付座53とその下面に設けられた上部環状取付座18とにおける開口面積同士が等しくなるようにされている。すなわち、連結用板体13の上下面には、同一面積の真空接触部が設けられることになり、真空に起因して発生する押圧力が連結用板体13の上下面から均等に作用するため、連結用板体13に余分な外力が働くのが防止されている。
また、図4に示すように、上記吊持部材12としては筒状のものが用いられるとともに、基板ホルダ11には両吊持部材12内の連通用穴12aに接続される通路(穴部である)11cが設けられて、吊持部材12の上端開口から水などの冷却流体を供給することにより、基板5を冷却し得るようにされており、またこれらの連通用穴12aの上端から静電チャック部11bへの電気配線が行われる。
さらに、図1および図3に示すように、マスク保持体8に保持されたマスク6に対して基板5の位置合わせを行うために、すなわち図6に示すように、マスク6の対角線上の隅部に設けられた円形のマスク側マークM1内に、基板5側に設けられた点状の基板側マークM2が入るように位置合わせを行うためのCCDカメラ装置57が連結用板体13側に設けられており、勿論、取付用フランジ1a側には、覗き窓58が設けられている。
上記構成において、真空容器3内にてマスク6に対する基板5の位置合わせを行う作業について説明する。
まず、図1に示すように、真空容器3の側壁部3bに形成された搬入出用開口部9より、ロボットハンドを用いて、基板5をマスク保持体8により保持されたマスク6の上方に挿入するとともに、静電チャック部11bにて基板5を保持した後、ロボットハンドを真空容器3から出し、そして搬入出用開口部9を閉じる。なお、真空容器3内にマスク等を搬入または搬出する際には、少なくとも搬入出用開口部9(正確に言えば、搬入出用開口部9に接続された空間側)については、真空容器32内と同じ真空度に保たれた状態にされている。
この真空下では、上述したように、連結用板体13の上下面には、筒状遮断部材15,55(正確には、環状取付座18,53)により、同一面積の真空接触部が設けられたことになるため、当該連結用板体13には、真空による余分な外力が働くことはない。
次に、マスク保持体8により蒸着室2内に保持されたマスク6に対して、上記基板ホルダ11により保持された基板5の位置合わせが行われる。
このマスク6に対する基板5の位置合わせには、対角線上に配置された2台のCCDカメラ装置57が用いられる。
すなわち、図6に示すように、マスク6側に設けられた円形のマスク側マークM1内に、基板5側に設けられた点状の基板側マークM2が入るように、位置調整手段14の平面内移動装置21が駆動された後、鉛直移動装置22により、マスク6の表面に、殆ど接触するように基板5が移動される。
マスク6に対する基板5の位置合わせが完了すると、蒸発源4の加熱により、蒸着材料がマスク6のパターンに応じて基板5の表面に付着されて所定の導体パターンが形成される。
所定の導体パターンが形成されると、ロボットアームにより搬入出用開口部9から基板5を取り出した後、新しい基板5を真空容器3内に挿入して基板ホルダ11に保持させ、そして上述したように、位置合わせを行い導体パターンを形成すればよい。
このように、所定の真空下で、マスク6に対する基板5の位置合わせを行う際に、真空容器3の外部に基板5のアライメント装置1を配置したので、装置自体の構成を安価なものにすることができる。
また、このアライメント装置1における基板5の吊持部材12を真空容器3の外部に導くための貫通穴1bを形成した際に、この貫通穴1bを大気側と遮断するための筒状遮断部材15の連結用板体13への取付部分の反対側に、当該筒状遮断部材15と同一の断面積を有するとともに真空容器3の真空下に連通された筒状遮断部材55(環状取付座18の開口面積)を接続するようにしたので、すなわち真空下で大気圧による押圧力に対向し得る付勢手段16を具備したので、アライメント装置1に余分な外力が作用するのを防止することができ、したがって装置に歪が発生することがないので、マスクに対する基板の位置合わせを高精度でもって行うことができる。
詳しく説明すると、下記のような効果が得られる。
1.基板5を水平面内で移動させる平面内移動装置21および鉛直方向で移動させる鉛直移動装置22を真空容器3の外部(大気圧下)に配置したので、特殊な真空用機械要素や、モータの冷却装置を必要としないので、安価で且つ高精度なアライメント装置を提供することができる。
2.各移動装置21,22を真空容器3の外部(大気圧下)に配置するとともに、真空下で作用する押圧力に対向し得る付勢力を付与し得る付勢手段16を具備したので、真空により生じる各移動装置21,22に作用する力を軽減することができ、したがって移動装置におけるモータなどの駆動機器として容量の小さいものを用いることができるので、より安価な構成にし得る。
3.また、各移動装置21,22を真空容器3の外部(大気圧下)に配置するとともに、真空下で作用する押圧力に対向し得る付勢力を付与し得る付勢手段16を具備したので、装置自体に歪が発生するのを抑制し得るとともに、基板5の位置合わせ用のカメラ装置57における視野ずれを防止でき、したがって高精度な位置合わせを行うことができる。
4.静電チャック部11bにより基板5を保持するようにしているので、基板5の平面度を維持することが可能となり、したがってマスク6との距離を非常に小さくすることができるので、より高精度な位置合わせを行うことができる。
5.また、静電チャック部11bにより基板5を保持するようにしているので、基板5の平面度を維持して基板5をマスク6に均等な面圧で接触させることが可能となり、したがってより高精度な位置合わせを行うことができる。
6.基板ホルダ11を支持する吊持部材12およびホルダ本体部11a内に連通用穴12aおよび通路11cを形成するとともに、これら連通用穴12aおよび通路11c内を大気圧下としたので、基板ホルダ11の冷却を容易に行い得るとともに、静電チャック部11bへの電気配線についても容易に行うことができる。
[実施の形態2]
次に、実施の形態2に係る真空蒸着用アライメント装置を、図7に基づき説明する。
上記実施の形態1においては、付勢手段16として、真空容器3内の真空(真空力)を利用したものとして説明したが、本実施の形態2においては、ばね力を利用したものである。
なお、実施の形態1と実施の形態2と異なる箇所は、この付勢手段の部分であるため、本実施の形態2においては、この部分に着目して説明するとともに、他の構成部材については、実施の形態1と同一の番号を付して説明を行うものとする(後述する実施の形態3においても同様とする)。
すなわち、図7に示すように、連結用板体13の左右に設けられた台座部52と取付用フレーム51との間に、真空による押圧力と同等の引張力を発揮し得る付勢手段として例えばコイルばね61が設けられたものである。
この付勢手段であるコイルばね61によると、取付用フレーム51内に真空用の連通用穴56を形成する場合に比べて、その構成が簡単になるため、より安価なアライメント装置を提供することができる。
また、図8に示すように、コイルばねの替わりに、空気ばね71を用いた場合でも、上記実施の形態2と同様の効果が得られる。
さらに、図9に示すように、コイルばねの替わりに、カウンタウエイト81を用いてもよい。
すなわち、一端部がカウンタウエイト81に接続された索体(例えば、ワイヤ、ロープなど)82の他端部が、取付用フレーム51の水平部51aに配置された複数個(例えば、2個)の案内用滑車83を介して連結用板体13の各端部側に設けられた台座部52に連結されたものである。
勿論、上記カウンタウエイト81の合計重さは、真空による押圧力に対向し得るようにされている。
この構成についても、上記実施の形態2と同様の効果が得られる。
[実施の形態3]
次に、実施の形態3に係る真空蒸着用アライメント装置を、図10に基づき説明する。
上記実施の形態1においては、付勢手段16として真空容器3内の真空(真空力)を利用したものとして説明したが、本実施の形態3においては、空気圧シリンダを用いたものである。
すなわち、図10に示すように、連結用板体13の左右に設けられた台座部52と取付用フレーム51との間に空気圧シリンダ91が配置され、またこの空気圧シリンダ91としては、例えば片ロッド式のものが用いられるとともに、そのロッド側シリンダ室92の空気供給口93には、途中に圧力調整器94を有する空気配管95を介して空気供給ポンプ96が接続されたものである。
したがって、蒸着室2内を真空下にする際には空気供給ポンプ96を作動させて、空気圧シリンダ91に、真空による押圧力に対向し得る引張力を発生させるようにすればよい。
この場合も、実施の形態1と同様の効果が得られ、また空気圧シリンダ91に供給する空気圧を調整することにより、押圧力に対向し得る引張力の大きさを調整することができる。
また、本実施の形態3においては、連結用板体13を上方に付勢するのに、当該連結用板体13の上方に配置された空気圧シリンダ91により行うようにしたが、図11に示すように、連結用板体13と取付用フランジ1aとの間に空気圧シリンダ91を配置して、連結用板体13を下方から上方に付勢するように構成してもよい。
この構成によれば、図11に示すように、取付用フレームおよび台座部が不要となり、装置のコンパクト化、軽量化および製作コストの低減化を図ることができる。
なお、図10および図11に示した空気圧シリンダ91については、連結用板体13の台座部52と取付用フレーム51との間、または連結用板体13と取付用フランジ1aとの間に配置されるが、連結用板体13側が少なくとも水平方向に移動し得るため、空気圧シリンダ91の両端部には自在継手が介装される。また、図11において、空気圧シリンダ91の下側であるシリンダ本体を取付用フランジ1a側に固定するとともに、上側であるロッド部の先端に転動用ボール(ボール軸受)を配置して、単に、下側から連結用板体13を支持するだけの構成にしてもよい。
ところで、上述した各実施の形態においては、有機EL材料をガラス基板に蒸着させる真空蒸着装置におけるアライメント装置として説明したが、勿論、真空蒸着の対象としては、この有機EL材料に限定されるものでもなく、例えば半導体装置の製造に際して、真空容器内でマスクを用いて基板上に導体パターンを形成するための装置であれば、どのような真空蒸着装置にでも適用し得るものである。
本発明の実施の形態1に係るアライメント装置が設けられた真空蒸着装置の概略構成を示す断面図である。 同アライメント装置における基板ホルダおよびマスクの概略斜視図である。 同アライメント装置の概略斜視図である。 同アライメント装置の断面図である。 同アライメント装置における平面内移動装置の平面図で、(a)は平面内移動装置の構成を示すもので、(b)〜(f)はその動作を説明するものである。 同アライメント装置における基板とマスクとの位置合わせ動作を説明する平面図である。 本発明の実施の形態2に係るアライメント装置の断面図である。 同実施の形態2に係るアライメント装置の変形例を示す断面図である。 同実施の形態2に係るアライメント装置の他の変形例を示す断面図である。 本発明の実施の形態3に係るアライメント装置の断面図である。 同実施の形態3に係るアライメント装置の変形例の断面図である。
符号の説明
1 アライメント装置
1a 取付用フランジ
1b 貫通穴
2 蒸着室
3 真空容器
5 ガラス基板
6 マスク
11 基板ホルダ
12 吊持部材
12a 連通用穴
13 連結用板体
14 位置調整手段
15 筒状遮断部材
16 付勢手段
18 上部環状取付座
21 平面内移動装置
22 鉛直移動装置
51 取付用フレーム
52 台座部
53 下部環状取付座
55 筒状遮断部材
56 連通用穴
61 コイルばね
71 空気ばね
81 カウンタウエイト
91 空気圧シリンダ

Claims (4)

  1. 真空容器内に保持された基板の表面に蒸着材料を所定パターンでもって蒸着させる際に用いられるマスクに対して当該基板の位置決めを行うアライメント装置であって、
    上記真空容器内に保持されたマスクの上方に、当該真空容器の壁体部に形成された貫通穴を挿通された吊持部材を介して保持された基板の保持体と、
    上記真空容器の外方に設けられるとともに上記吊持部材に連結された連結用板体と、
    この連結用板体を移動させて保持体に保持された蒸着室内の基板のマスクに対する位置を調整し得る位置調整手段と、
    上記吊持部材に外嵌されるとともに壁体部の貫通穴の外周と上記連結用板体との間に設けられて真空側と大気側とを遮断する伸縮式筒状遮断部材と、
    上記筒状遮断部材の内側が真空状態であることにより発生する連結用板体への押圧力と逆方向の付勢力を発生させる付勢手段とを具備したことを特徴とする真空蒸着用アライメント装置。
  2. 位置調整手段は、連結用板体が、吊持部材および保持体を介して保持された基板がマスク表面と平行に移動し得るように構成したことを特徴とする請求項1に記載の真空蒸着用アライメント装置。
  3. 位置調整手段に、連結用板体を基板表面と直交する軸心方向で移動し得る機能を具備させたことを特徴とする請求項2に記載の真空蒸着用アライメント装置。
  4. 付勢手段による付勢力を調整可能に構成したことを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の真空蒸着用アライメント装置。
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Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2007023552A1 (ja) * 2005-08-25 2007-03-01 Hitachi Zosen Corporation 真空蒸着用アライメント装置
WO2007023553A1 (ja) * 2005-08-25 2007-03-01 Hitachi Zosen Corporation 真空蒸着用アライメント装置
WO2007145402A1 (en) * 2006-06-16 2007-12-21 Doosan Mecatec Co., Ltd. Substrate alignment apparatus and method for aligning substrate using the same
US20120006264A1 (en) * 2010-07-06 2012-01-12 Hitachi Displays, Ltd. Film formation apparatus
WO2012043150A1 (ja) * 2010-09-30 2012-04-05 トッキ株式会社 成膜装置
JP2012246506A (ja) * 2011-05-25 2012-12-13 Ulvac Japan Ltd 移動装置
TWI382105B (zh) * 2008-04-14 2013-01-11 Advanced Display Processor Engineering Co Ltd 有機沈積裝置與使用該有機沈積裝置沈積有機物之方法
CN116121697A (zh) * 2022-11-04 2023-05-16 南方科技大学 超高真空薄膜样品的电极对准和生长系统以及方法
JP7379072B2 (ja) 2019-01-11 2023-11-14 キヤノントッキ株式会社 成膜装置、電子デバイスの製造装置、成膜方法及び電子デバイスの製造装置

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004027291A (ja) * 2002-06-25 2004-01-29 Tokki Corp 蒸着装置
JP2004176124A (ja) * 2002-11-27 2004-06-24 Ulvac Japan Ltd アライメント装置、成膜装置及びアライメント方法

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004027291A (ja) * 2002-06-25 2004-01-29 Tokki Corp 蒸着装置
JP2004176124A (ja) * 2002-11-27 2004-06-24 Ulvac Japan Ltd アライメント装置、成膜装置及びアライメント方法

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2007023552A1 (ja) * 2005-08-25 2007-03-01 Hitachi Zosen Corporation 真空蒸着用アライメント装置
WO2007023553A1 (ja) * 2005-08-25 2007-03-01 Hitachi Zosen Corporation 真空蒸着用アライメント装置
WO2007145402A1 (en) * 2006-06-16 2007-12-21 Doosan Mecatec Co., Ltd. Substrate alignment apparatus and method for aligning substrate using the same
TWI382105B (zh) * 2008-04-14 2013-01-11 Advanced Display Processor Engineering Co Ltd 有機沈積裝置與使用該有機沈積裝置沈積有機物之方法
US8617314B2 (en) 2008-04-14 2013-12-31 Adp Engineering Co., Ltd. Organic deposition apparatus and method of depositing organic substance using the same
US20120006264A1 (en) * 2010-07-06 2012-01-12 Hitachi Displays, Ltd. Film formation apparatus
WO2012043150A1 (ja) * 2010-09-30 2012-04-05 トッキ株式会社 成膜装置
KR101846982B1 (ko) * 2010-09-30 2018-04-10 캐논 톡키 가부시키가이샤 성막 장치
JP2012246506A (ja) * 2011-05-25 2012-12-13 Ulvac Japan Ltd 移動装置
JP7379072B2 (ja) 2019-01-11 2023-11-14 キヤノントッキ株式会社 成膜装置、電子デバイスの製造装置、成膜方法及び電子デバイスの製造装置
CN116121697A (zh) * 2022-11-04 2023-05-16 南方科技大学 超高真空薄膜样品的电极对准和生长系统以及方法

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