TW202239532A - 薄型光學裝置的最小接觸保持 - Google Patents

Abstract

本文所述的實施例提供了用於保持光學装置的裝置及方法。本文所述的裝置及方法提供用於保持基板，而不接觸基板的敏感部分。該等裝置及方法利用保持墊或真空銷來接觸禁止區，亦即基板的無源區，以保持基板並防止基板橫向移動。此外，保持力在豎直方向上保持基板，而不接觸基板。該等方法提供用於調節裝置以考慮到基板的多種幾何形狀。該等方法進一步提供用於調節裝置，諸如調節光學裝置與抽吸墊之間的間隙，以改變光學裝置上的裝置的保持力。

Description

薄型光學裝置的最小接觸保持

本揭露案的實施例大體而言係關於光學裝置。更特定言之，本文所述的實施例係關於用於保持光學裝置及方法。

使用包括波導組合器（諸如增強現實波導組合器）及平面光學裝置（諸如超穎表面）的光學裝置來幫助重疊圖像。使產生的光傳播穿過光學裝置，直到該光離開光學裝置並重疊在周圍環境上。

光學裝置通常包括設置在光學裝置上的結構。光學裝置及結構由薄而脆的材料形成，該等材料當暴露於外部應力或外部污染物時可能被損壞。此外，施加在結構上的一些塗層很敏感，並且可能在處理期間被損壞。因此，當在不同的處理工具之間傳送光學裝置時，光學裝置容易損壞。很難在不損壞、偏轉或在光學裝置上留下標記及殘留物的情況下保持（例如，夾持）光學裝置。此外，期望用單個裝置保持光學裝置的不同輪廓。因此，本領域需要的是用於保持光學裝置的裝置及方法。

在一個實施例中，提供了一種裝置。該裝置包括基底板。該基底板耦接至桿。該裝置進一步包括設置在桿上的抽吸墊。抽吸墊可操作以向待保持的基板提供保持力。該裝置進一步包括複數個臂，該複數個臂從桿及抽吸墊徑向延伸。該複數個臂耦接至複數個致動器。致動器可操作以在橫向方向或豎直方向上延伸該複數個臂。該裝置進一步包括保持墊，該保持墊設置在該複數個臂中的每一個臂上。

在另一個實施例中，提供了一種裝置。該裝置包括基底板。該裝置進一步包括凸耳，該凸耳沿裝置的周邊設置。該周邊具有與要保持在凸耳上的基板對應的形狀。基底板從凸耳凹陷。該裝置進一步包括複數個真空銷，該複數個真空銷設置在凸緣上。該複數個真空銷耦接至真空源。當基板被保持時，該複數個真空銷可操作以向設置在凸耳上的基板提供真空力。

在又一實施例中，提供了一種用於保持基板的方法。該方法包括調節設置在保持裝置的複數個臂上的保持墊。該等保持墊限定了與待保持的基板的表面區域對應的保持區域。該複數個臂從抽吸墊徑向設置，並且該抽吸墊可操作以向基板提供保持力。該方法進一步包括調節抽吸墊與待保持的基板之間的間隙。該方法進一步包括啟動抽吸墊以向待保持的基板提供保持力。

本揭露案的實施例大體而言係關於光學裝置。更特定言之，本文所述的實施例係關於用於保持光學裝置及方法。在一個實施例中，用於保持光學裝置的裝置包括耦接到桿的基底。設置在桿上的抽吸墊及該抽吸墊可操作以向待由裝置保持的基板提供保持力。複數個臂從桿及抽吸墊徑向延伸。該複數個臂耦接至複數個致動器，該複數個致動器可操作以在橫向方向或豎直方向上延伸該複數個臂。保持墊設置在該複數個臂中的每一個臂上。

在另一個實施例中，用於保持光學裝置的裝置包括基底板。該裝置進一步包括凸耳，該凸耳沿該裝置的周邊設置，該周邊具有與要保持在該凸耳上的基板對應的形狀。基底板從凸耳凹陷。複數個真空銷設置在凸耳上並耦接至真空源。當基板被保持時，該複數個真空銷可操作以向設置在凸耳上的基板提供真空力。

第1A圖是根據本文所述的實施例的保持裝置100的示意性剖視圖。保持裝置100可操作以保持基板102。保持裝置100可操作以傳送及處理基板102。此外，保持裝置100可操作以在處理期間保持基板102。

基板102可以是本領域中使用的任何基板，並且取決於基板的用途可以是不透明的或透明的。此外，基板選擇可進一步包括改變基板102的形狀、厚度及直徑。在可以與本文所述的其他實施例組合的一個實施例中，基板102包括但不限於玻璃、碳化矽或其組合。在可以與本文所述的其他實施例組合的另一實施例中，基板102是波導組合器或平坦光學裝置（諸如超穎表面）。在可與本文所述的其他實施例組合的又一實施例中，基板102可具有在基板102的第一表面103或第二表面105上圖案化的光學裝置結構。

保持裝置100包括基底板104、桿106、抽吸墊110、複數個臂108、及保持墊112。在可以與本文所述的其他實施例組合的一個實施例中，基底板104耦接至裝置（諸如傳送機器人）的表面。在可以與本文所述的其他實施例組合的另一實施例中，基底板104被配置為把手。例如，基底板104可被配置為用於手動使用保持裝置100的把手。基底板104耦接至桿106。桿106支撐複數個臂108。該複數個臂108耦接至桿106，並且圍繞桿106徑向設置。

該複數個臂108各自包括保持墊112。保持墊112被配置為保持基板102。在可以與本文所述的其他實施例組合的一個實施例中，基板102是表面積在約18 cm ²與約20 cm ²之間的光學裝置透鏡。保持裝置100具有由保持墊112限定的保持區域。保持區域對應於光學裝置透鏡的表面區域，使得光學裝置透鏡被保持裝置100保持。

保持墊112利用拐角接觸或基板102的禁止區（亦即，基板102的無源區）上的接觸。因此，基板102的敏感部分，諸如光學裝置結構及塗層，在傳送或處理期間不會被損壞。如第3A圖及第3B圖所示，保持墊112可以被配置為包括接觸墊114（如第1A圖所示）或真空墊302中的一者。儘管在第1A圖及第1B圖中僅圖示了三個保持墊112，但是可以利用任何數量的保持墊112來保持基板102。此外，可以利用任何數量的複數個臂108來支撐保持墊112。

桿106支撐抽吸墊110。抽吸墊110在不與基板102實體接觸的情況下向基板102提供抽吸。在可以與本文所述的其他實施例組合的一個實施例中，抽吸墊110可以利用白努利原理（Bernoulli's principle）在基板102上產生保持力。當來自抽吸墊110的力將基板102保持在豎直方向，亦即Z方向上時，保持墊112防止基板102橫向移動，亦即在X方向上移動。桿106可進一步包括入口118。該入口118從外部空氣源或從外部真空源向抽吸墊110提供空氣或從抽吸墊110移除空氣，以使得能夠產生保持力。抽吸墊110可以是任何可操作以向基板102提供保持力而不接觸基板102的裝置。

在可以與本文所述的其他實施例組合的一個實施例中，該複數個臂108可包括致動器。該複數個臂108中的每個臂108可包括致動器。該複數個臂中的致動器可調節徑向距離109。徑向距離109是複數個臂從桿106延伸的長度，亦即從桿106至該複數個臂108的外邊緣111的長度。該複數個臂108的徑向距離109可以基於基板102的幾何形狀來調節。另外，該複數個臂108的徑向距離可以基於基板102上的禁止區的位置來調節。致動器可以是微致動器。在可以與本文所述的其他實施例組合的另一實施例中，包括致動器的複數個臂108可豎直地調節，亦即沿Z方向調節。該複數臂108中的致動器可以調節間隙116。間隙116是從抽吸墊110至基板102的第二表面105的長度。隨著間隙116減小，基板102上的保持力的強度增加。間隙116可經調節以確保基板102沒有偏轉。

第1B圖是保持裝置100的示意性俯視圖。保持裝置100包括基底板104、桿106、抽吸墊110、複數個臂108、及保持墊112。在可以與本文所述的其他實施例組合的一個實施例中，基底板104可以經由複數個通孔119耦接至表面。例如，該複數個通孔119允許保持裝置100耦接至可操作來傳送及處理基板102的裝置，諸如傳送機器人。

在可以與本文所述的其他實施例組合的一個實施例中，保持裝置100包括光源120。光源120耦接至保持裝置100。光源120可以為基板102的額外處理提供光。例如，光源120可以為固化製程提供光，諸如藉由向基板102提供紫外光。光源120可用於向保持裝置100的周圍環境提供照明。在可以與本文所述的其他實施例組合的另一實施例中，光源120是環形光，亦即光源120是環形形狀，使得光被等同地或基本上等同地提供至基板102。

在可以與本文所述的其他實施例組合的一個實施例中，保持裝置100包括視覺系統122。該視覺系統122包括複數個埠123，該複數個埠設置在複數個臂108上。該複數個埠123可操作以容納一或多個裝置，諸如一或多個相機或感測器。視覺系統122可包括控制器，該控制器耦接至該複數個埠123。控制器隨後可利用視覺系統122來促進處理及傳送基板102的操作。容納在該複數個埠123中的一或多個相機可操作以輔助計量過程並在圍繞基板102定位保持墊112時提高定位精度。容納在該複數個埠123中的該一或多個感測器可以是鄰近感測器，並且可操作以與控制器通訊。例如，當基板102由保持裝置100保持時，感測器可以與控制器通訊。儘管第1B圖圖示了具有複數個埠123中的三個埠的視覺系統122，但是亦可以利用複數個埠123中的一或多個埠。任何數量的裝置，諸如一或多個相機及感測器，可以與保持裝置100一起使用。另外，該複數個埠123可以設置在保持裝置100的其他部分上，並且不限於設置在該複數個臂108上。

第2A圖是根據本文所述的實施例的保持裝置200的示意性剖視圖。保持裝置200可操作以保持基板102。保持裝置200可操作以傳送及處理基板102。此外，保持裝置200可操作以在處理期間保持基板102。

基板102可以是本領域中使用的任何基板，並且取決於基板的用途可以是不透明的或透明的。此外，基板選擇可進一步包括改變基板102的形狀、厚度及直徑。在可以與本文所述的其他實施例組合的一個實施例中，基板102包括但不限於玻璃、碳化矽或其組合。在可以與本文所述的其他實施例組合的另一實施例中，基板102是波導組合器或平坦光學裝置（諸如超穎表面）。在可與本文所述的其他實施例組合的又一實施例中，基板102可具有在第一表面103或第二表面105上圖案化的光學裝置結構。

保持裝置200包括基底板204、桿206、抽吸墊210、複數個臂208、及保持墊212。在可以與本文所述的其他實施例組合的一個實施例中，基底板204耦接至裝置（諸如傳送機器人）的表面。在可以與本文所述的其他實施例組合的另一實施例中，基底板204被配置為把手。例如，基底板204可被配置為用於手動使用保持裝置200的把手。基底板204耦接至桿206。桿206支撐複數個臂208。複數個臂208耦接至桿206，並且圍繞桿206徑向設置。

複數個臂208各自包括保持墊212。保持墊212被配置為保持基板102。在可以與本文所述的其他實施例組合的一個實施例中，基板102是表面積在約18 cm ²與約20 cm ²之間的光學裝置透鏡。保持裝置200具有由保持墊212限定的保持區域。保持區域對應於光學裝置透鏡的表面區域，使得光學裝置透鏡被保持裝置200保持。

保持墊212利用拐角接觸或基板102的禁止區（亦即，基板102的無源區）上的接觸。因此，基板102的敏感部分，諸如光學裝置結構及塗層，在傳送或處理期間不會被損壞。如第3A圖及第3B圖所示，保持墊212可以被配置為包括接觸墊114（如第2A圖所示）或真空墊302中的一者。儘管在第2A圖及第2B圖中僅圖示了三個保持墊212，但是可以利用任何數量的保持墊212來保持基板102。

此外，可以利用任何數量的複數個臂208來支撐保持墊212。

桿106支撐抽吸墊210。抽吸墊210在不與基板102實體接觸的情況下向基板102提供抽吸。在可以與本文所述的其他實施例組合的一個實施例中，抽吸墊210可以利用附壁效應(Coandă effect)在基板102上產生保持力。當來自抽吸墊210的力將基板102保持在豎直方向，亦即Z方向上時，保持墊212防止基板102橫向移動，亦即在X方向上移動。桿206可進一步包括入口218。該入口218從外部空氣源或從外部真空源向抽吸墊210提供空氣或從抽吸墊110移除空氣，以使得能夠產生保持力。抽吸墊210可以是任何可操作以向基板102提供保持力而不接觸基板102的裝置。

在可以與本文所述的其他實施例組合的一個實施例中，該複數個臂208可包括致動器。該複數個臂208中的每個臂208可包括致動器。該複數個臂中的致動器可調節徑向距離209。徑向距離209是複數個臂從桿206延伸的長度，亦即，從桿206至複數個臂208的外邊緣211的長度。該複數個臂208的徑向距離209可以基於基板102的幾何形狀來調節。另外，該複數個臂208的徑向距離209可以基於基板102上的禁止區的位置來調節。致動器可以是微致動器。在可以與本文所述的其他實施例組合的另一實施例中，包括致動器的複數個臂108可豎直地調節，亦即沿Z方向調節。該複數臂208中的致動器可以調節間隙216。間隙216是從抽吸墊210至基板102的第二表面105的長度。隨著間隙216減小，基板102上的保持力的強度增加。間隙216可經調節以確保基板102沒有偏轉。

第2B圖是保持裝置200的示意性俯視圖。保持裝置200包括基底板204、桿206、抽吸墊210、複數個臂208、及保持墊212。在可以與本文所述的其他實施例組合的一個實施例中，基底板204可以經由複數個通孔219耦接至表面。例如，該複數個通孔219允許保持裝置200耦接至可操作來傳送及處理基板102的裝置，諸如傳送機器人。

抽吸墊210包括複數個孔隙224。該複數個孔隙與入口218連通。因此，可以經由該複數個孔隙224提供或移除空氣，以在基板102上產生保持力。例如，可以諸如藉由利用附壁效應，經由該複數個孔隙224施加真空力來產生基板上的保持力。

在可以與本文所述的其他實施例組合的一個實施例中，保持裝置200包括光源220。光源220耦接至保持裝置100。光源220可以為基板102的額外處理提供光。例如，光源220可以為固化製程提供光，諸如藉由向基板102提供紫外光束。光源220可用於向保持裝置200的周圍環境提供照明。在可以與本文所述的其他實施例組合的另一實施例中，光源220是環形光，亦即光源220是環形形狀，使得光被等同地或基本上等同地提供至基板102。

在可以與本文所述的其他實施例組合的一個實施例中，保持裝置200包括視覺系統222。該視覺系統222包括複數個埠223，該複數個埠設置在複數個臂208上。該複數個埠223可操作以容納一或多個裝置，諸如一或多個相機或感測器。視覺系統222可包括控制器，該控制器耦接至該複數個埠223。控制器隨後可利用視覺系統222來促進處理及傳送基板102的操作。容納在該複數個埠223中的一或多個相機可操作以輔助計量過程並以在圍繞基板102定位保持墊212時提高定位精度。容納在該複數個埠中的該一或多個感測器可以是鄰近感測器，並且可操作以與控制器通訊。例如，當基板102由保持裝置100保持時，感測器可以與控制器通訊。儘管第2B圖圖示了具有複數個埠223中的三個埠的視覺系統222，但是亦可以利用複數個埠223中的一或多個埠。任何數量的裝置，諸如一或多個相機及感測器，可以與保持裝置200一起使用。另外，該複數個埠223可以設置在保持裝置200的其他部分上，並且不限於設置在該複數個臂208上。

第3A圖是保持墊112、212的示意性透視圖。保持墊112、212可操作以在保持裝置100或保持裝置200中利用來接觸基板102。保持墊112、212設置在複數個臂108、208中的一個臂上。保持墊112、212在基板102的禁止區或無源區上接觸基板102。

在可以與本文所述的其他實施例組合的一個實施例中，保持墊112、212被配置為包括接觸墊114。接觸墊114提供摩擦並防止基板102的橫向移動。在可以與本文所述的其他實施例組合的一個實施例中，接觸墊114是位於基板102的處理區下方的低接觸摩擦墊。接觸墊114在禁止區上向基板102提供真空力，使得對基板102的有源區的損傷最小。接觸墊114包含但不限於聚合物材料，諸如碳填充的聚醚醚酮(polyetheretherketone, PEEK)材料或未填充的PEEK材料。

第3B圖是保持墊112、212的示意性透視圖。保持墊112、212可操作以在保持裝置100或保持裝置200中利用來接觸基板102。保持墊112、212在基板102的禁止區或無源區上接觸基板102。

在可以與本文所述的其他實施例組合的一個實施例中，保持墊112、212被配置為包括真空墊302。真空墊302可以用來代替接觸墊114（如第1A圖、第1B圖、第2A圖、及第2B圖所示）。真空墊在基板102上提供真空力。真空墊302可以與入口118、218連通。在可以與本文所述的其他實施例組合的另一實施例中，真空墊的直徑為約1 mm。真空墊302在禁止區上向基板102提供真空力，使得對基板102的有源區的損傷最小。

第4圖是根據本文所述的實施例的保持裝置400的示意性俯視圖。保持裝置400可操作以保持基板102。保持裝置400可操作以傳送及處理基板102。此外，保持裝置400可操作以在處理期間（諸如在後端處理中）保持基板102。

保持裝置400包括凸耳402。凸耳402係沿著保持裝置400的周邊401設置。在可以與本文所述的其他實施例組合的一個實施例中，凸耳402係約0.5 mm至約1 mm寬。在可以與本文所述的其他實施例組合的一個實施例中，基板102是表面積在約18 cm ²與約20 cm ²之間的光學裝置透鏡。保持裝置400具有由周邊401限定的保持區域。保持區域對應於光學裝置透鏡的表面區域，使得光學裝置透鏡被保持裝置400保持。凸耳402可操作以防止基板102的橫向移動。基板102坐落於凸耳402上，使得凸耳402僅接觸基板102的禁止區。基板102坐落於凸耳402上，使得凸耳足夠平坦。保持裝置400可以在凸耳402上具有啞光飾面。凸耳402具有約1.6 μm至約3.2 μm的表面紋理。

凸耳進一步包括真空區404。真空區404對應於基板102的禁止區。真空區404包括進一步複數個真空銷406。可以對該複數個真空銷406進行機械加工。當放置在凸耳402上時，該複數個真空銷406支撐基板102。複數個真空銷406能夠向基板102提供真空力。例如，複數個真空銷406與真空源連通。因此，該複數個真空銷406向基板102提供真空力，以將基板102保持在凸耳402上。在可以與本文所述的其他實施例組合的一個實施例中，該複數個真空銷406具有設置在其上的封裝塗層。當接觸該複數個真空銷406時，封裝塗層保護基板102。封裝塗層包括但不限於聚醯亞胺材料或其他熱固性材料。

保持裝置400包括進一步基底板408。基板從凸耳402凹陷。基底板408是凹陷的，使得基板102的敏感部分，諸如光學裝置結構及塗層，在傳送期間或藉由接觸基底板408進行處理期間不會被損壞。在可以與本文所述的其他實施例組合的一個實施例中，基底板408可以經由複數個通孔418耦接至表面。例如，該複數個通孔418允許保持裝置400耦接至可操作來傳送及處理基板102的裝置，諸如傳送機器人。

在可以與本文所述的其他實施例組合的一個實施例中，保持裝置400包括光源420。光源420耦接至保持裝置400。光源420可以為基板102的額外處理提供光。例如，光源420可以為固化製程提供光，諸如藉由向基板102提供紫外光束。光源420可用於向保持裝置400的周圍環境提供照明。在可以與本文所述的其他實施例組合的另一實施例中，光源420是環形光，亦即光源420是環形形狀，使得光被等同地或基本上等同地提供至基板102。

在可以與本文所述的其他實施例組合的一個實施例中，保持裝置400包括視覺系統422。視覺系統422包括設置在基底板408上的複數個埠423。該複數個埠423可操作以容納一或多個裝置，諸如一或多個相機或感測器。視覺系統422可包括控制器，該控制器耦接至該複數個埠423。控制器隨後可利用視覺系統422來促進處理及傳送基板102的操作。當將複數個真空銷406定位在基板102上時，容納在複數個埠423中的一或多個相機可操作以輔助計量過程並提高定位精度。容納在該複數個埠423中的該一或多個感測器可以是鄰近感測器，並且可操作以與控制器通訊。例如，當基板102由保持裝置400保持時，感測器可以與控制器通訊。儘管第4圖圖示了具有複數個埠423中的三個埠的視覺系統422，但是亦可以利用複數個埠423中的一或多個埠。任何數量的裝置，諸如一或多個相機及感測器，可以與保持裝置400一起使用。另外，複數個埠423可以設置在保持裝置400的其他部分上，並且不限於設置在基底板408上。

本文描述了一種用保持裝置100或200保持（例如，夾持）基板102的方法。在第一操作處，取決於基板102的幾何形狀調節複數個臂108、208。該複數個臂108、208經調節為使得設置在該複數個臂108、208上的保持墊112、212接觸基板102的拐角或禁止區。保持墊112、212限定了保持裝置100、200的保持區域。保持區域對應於待保持的基板102的表面區域。調節複數個臂108、208包括改變徑向距離109、209。在第二操作處，調節間隙116、216。間隙116、216是從抽吸墊110至基板102的第二表面105的長度。間隙116、216經調節以增加或減少藉由抽吸墊110、210放置在基板102上的保持力。在第三操作處，基板102由保持裝置100、200保持。基板102與保持墊112、212接觸。在啟動時，抽吸墊110、210向基板102提供保持力。在可以與本文所述的其他實施例組合的一個實施例中，在該方法期間利用光源120、220及視覺系統122、222來執行過程，諸如計量、基板102的紫外線固化、或提高保持基板102的定位精度。

本文描述了一種用保持裝置400保持（例如，夾持）基板102的方法。在第一操作處，將基板102放置在保持裝置400的凸耳402上。凸耳402係沿著保持裝置400的周邊401設置。保持裝置400具有由周邊401限定的保持區域。保持區域對應於待保持的基板102的表面區域。基底板408從凸耳402凹陷，使得基板102僅在禁止區上接觸。在第二操作處，啟動複數個真空銷406。複數個真空銷406向基板102提供保持力，以將基板102保持在保持裝置400上。在可以與本文所述的其他實施例組合的一個實施例中，在該方法期間利用光源420及視覺系統422來執行過程，諸如計量、基板102的紫外線固化、或提高保持基板102的定位精度。

總之，本文圖示並描述了用於保持光學装置的裝置及方法。保持裝置及用於保持本文所述的光學裝置的方法提供用於保持基板，而不接觸基板的敏感部分。例如，基板上的光學裝置結構及塗層在傳送或處理期間不會被損壞。此外，保持裝置防止基板偏轉。保持裝置及保持光學裝置的方法利用拐角接觸或禁止區（亦即基板的無源區）上的接觸來保持基板並防止基板橫向移動。此外，保持力在豎直方向上保持基板，而不接觸基板。本文所述的保持裝置可以是可調節的以考慮到基板的多種幾何形狀，因此改進了工具生產量並減少了處理基板時的誤差。

儘管前面針對本揭示案的實例，但是在不脫離本揭示案的基本範疇的情況下可以設計本揭示案的其他和進一步實例，並且本揭示案的範疇由所附申請專利範圍確定。

100:保持裝置 102:基板 103:第一表面 104:基底板 105:第二表面 106:桿 108:臂 109:徑向距離 110:抽吸墊 111:外邊緣 112:保持墊 114:接觸墊 116:間隙 118:入口 119:通孔 120:光源 122:視覺系統 123:埠 200:保持裝置 204:基底板 206:桿 208:臂 209:徑向距離 210:抽吸墊 211:外邊緣 212:保持墊 216:間隙 218:入口 219:通孔 220:光源 222:視覺系統 223:埠 224:孔隙 302:真空墊 400:保持裝置 401:周邊 402:凸耳 404:真空區 406:真空銷 408:基底板 418:通孔 420:光源 422:視覺系統 423:埠

為了能夠詳細理解本揭示案的上述特徵，可以參考實施例對以上簡要概述的本揭露案進行更特別的描述，實施例中的一些實施例在附圖中圖示。然而，應當注意的是，附圖僅圖示了示例性實施例，並且因此不應被視為是對其範疇的限制，並且可以允許其他同等有效的實施例。

第1A圖是根據實施例的保持裝置的示意性剖視圖。

第1B圖是根據實施例的保持裝置的示意性俯視圖。

第2A圖是根據實施例的保持裝置的示意性剖視圖。

第2B圖是根據實施例的保持裝置的示意性俯視圖。

第3A圖是根據實施例的保持墊的示意性透視圖。

第3B圖是根據實施例的保持墊的示意性透視圖。

第4圖是根據實施例的保持裝置的示意性俯視圖。

為了促進理解，在可能的情況下，使用相同的附圖標記來表示附圖中共用的元件。預期一個實施例的元件和特徵可以有益地結合到其他實施例中，而無需進一步敘述。

國內寄存資訊(請依寄存機構、日期、號碼順序註記) 無 國外寄存資訊(請依寄存國家、機構、日期、號碼順序註記) 無

100:保持裝置

102:基板

103:第一表面

104:基底板

105:第二表面

106:桿

108:臂

109:徑向距離

110:抽吸墊

111:外邊緣

112:保持墊

114:接觸墊

116:間隙

118:入口

Claims (20)

1. 一種裝置，包括： 一基底板，該基底板耦接至一桿； 一抽吸墊，該抽吸墊設置在該桿上，該抽吸墊可操作以向一待保持的基板提供一保持力； 複數個臂，該複數個臂從該桿及該抽吸墊徑向延伸，該複數個臂耦接至複數個致動器，該複數個致動器可操作以在一橫向方向或一豎直方向上移動該複數個臂；以及 一保持墊，該保持墊設置在該複數個臂中的每一個臂上。
2. 如請求項1所述之裝置，該裝置進一步包括一入口，該入口耦接至該桿，該入口與一空氣源及該抽吸墊連通。
3. 如請求項2所述之裝置，其中該抽吸墊包括複數個孔隙，該複數個孔隙經由該入口與該空氣源連通的，該複數個孔隙穿過該抽吸墊設置。
4. 如請求項1所述之裝置，其中該等保持墊中的每個保持墊接觸該基板的一拐角。
5. 如請求項1所述之裝置，其中該抽吸墊與該待保持的基板之間的一間隙可操作地經調節，以增加或減少待放置在該基板上的該保持力。
6. 如請求項1所述之裝置，其中一光源耦接至該複數個臂。
7. 如請求項1所述之裝置，其中一視覺系統耦接至該複數個臂，該視覺系統包括耦接至一控制器的一或多個相機。
8. 如請求項1所述之裝置，其中一視覺系統耦接至該複數個臂，該視覺系統包括耦接至一控制器的一或多個感測器。
9. 如請求項1所述之裝置，其中該保持墊被配置為包括一接觸墊，當該基板被保持時，該接觸墊可操作以接觸該基板的一拐角。
10. 如請求項1所述之裝置，其中該保持墊被配置為包括一真空墊，當該基板被保持時，該真空墊可操作以向該基板的一無源部分提供一真空力。
11. 一種裝置，包括： 一基底板； 一凸耳，該凸耳沿著該裝置的一周邊設置，該周邊具有與待保持在該凸耳上的一基板對應的一形狀，該基底板從該凸耳凹陷；以及 複數個真空銷，該複數個真空銷設置在該凸耳上，該複數個真空銷耦接至一真空源，當該基板被保持時，該複數個真空銷可操作以向設置在該凸耳上的該基板提供一真空力。
12. 如請求項11所述之裝置，其中一封裝塗層設置在該複數個真空銷上。
13. 如請求項11所述之裝置，其中一光源耦接至該基底板。
14. 如請求項11所述之裝置，其中一視覺系統設置在該基底板中。
15. 一種用於保持一基板的方法，包括以下步驟： 調節設置在一保持裝置的複數個臂上的保持墊，該等保持墊限定與該待保持的基板的一表面區域對應的一保持區域，該複數個臂從一抽吸墊徑向設置，該抽吸墊可操作以向該基板提供一保持力； 調節該抽吸墊與該待保持的基板之間的一間隙；以及 啟動該抽吸墊以向該待保持的基板提供該保持力。
16. 如請求項15所述之方法，其中該等保持墊接觸該基板的拐角。
17. 如請求項15所述之方法，其中該調節該抽吸墊與該基板之間的該間隙之步驟增加或減少了待放置在該基板上的該保持力。
18. 如請求項15所述之方法，其中當該基板被保持時，該等保持墊接觸該基板的一拐角。
19. 如請求項15所述之方法，其中當該基板被保持時，該等保持墊向該基板的一無源部分提供一真空力。
20. 如請求項15所述之方法，進一步包括以下步驟：用耦接至該保持裝置的一光源或一視覺系統執行一計量過程或一固化製程。

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