TWI378278B - Method of making an optical substrate having cavities - Google Patents

Description

' 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 ^本發明係有關於在基板中切割或是形成一個或多個光 I元件形狀的凹穴以在光學基板上或是其中形成相應的光 ··_牛圖木的方法，光學基板包括膜、元件或是波導等等。 L先前技術】 在光學基板的一個或多個表面上或是内提供多個光4 凡件以導引光穿過光學基板是普 ^ 主 牛或疋波導。至少-些光學元件可以具有至少a 面’其共同形成背脊’並且至少一些光學元件相對方 先子基板的長度及寬度是十分小的。 使用研磨或是雷射切判來切刻少i1 p」丄 _ 刀。』木切割在平坦溥片或是平板j 廷種光學元件形狀之凹穴 θ 旳預疋圖案，以及使用在薄片读 疋平板上的切割光學元#形 ,^ _ 件形狀以在光學基板中或是上形成 相應的光學元件圖案，是普.从▲.爱a β > 疋θ遍地知道的。這種方法的缺點 疋切割或是形成特定外形 _ Α > u 先予兀件的凹穴是很難及很賓 的，14些光學元件形狀特 J匕括具有至少兩個表面，且丑 同形成一個背脊並且相對 ,A ^ 、先于基板的長度及寬度是比較 小的。而且用來製造这此 二成何形狀的旋轉工具是十分 及難做的，並且因為如 卞刀P貝 s 丰μ ^ 4而只有比較短的使用壽命， 更進一步增加製造這些幾 戏仃形狀之凹穴的成本。 【發明内容】 5 1378278 η. 製造包含—個或更多光學元件圖案的光學基板，這些 光學元件具有至少兩個表面，其共同形成一個背脊並且相 對於光學基板的長度及寬度是比較小的，其中使用一個工 具以在基板中切割或是形成此種光學元件形狀之圖案的凹 穴，在切割或是形成期間沒有工具或是基板的旋轉，並且 之後使用基板以形占目士 p /成具有光學兀件的光學基板，光 在光學基板的至少—個矣品u斗，B 元干兀件 個表面上或是内部，而相應於在基板 内的凹穴’如此實質降低了此製造上的因難和成本。 用來在基板内切割或是形成光學元件形狀 二在切割或是形成期間，可以垂直或不垂直於工具路二 11::具有對稱或是非對稱的切割或形成尖端， 邊具有對稱或是非對稱士里 )之千面的任意一 任意-邊具有對具的切割運動平面的 %的知廓，凹穴在切割或 同形成一個背脊的至小Α伽主工s 1疋形成期間之共 果工旦切”是η 具有對稱的表面，而如 /、次疋形成路徑平面的任何— 廓，凹穴在切割或是形成期間之共同形成^非對稱的輪 兩個表面是具有非對稱的表面。而且至背脊的至少 有一個平面及—個曲面或是兩個曲面…些凹穴可以具 可以只具有兩個表面，其中一個是平的至少-些凹六 的。替代地，兩個表面可以都是彎曲的。另—個是彎曲 在切割或是形成期間中，工具和 者可以彼此相對運動而沒有彼此相對的轉的4或是兩 是工具，以在每個切割或是形成過 4動。放置基板或 夂別使每個凹穴產生 6 1378278 一個特定的位移。此外基板或 丨甘^ 一具可以在切割或形忐5 夕某些凹穴之前彼此相對旋轉， < 成至 指向。具有相同指向的其他凹 生不同的 1 八可以被接續切割式θ r 成，使得基板或是工具只需要在— ：疋形 在一些凹穴的切割 之間才旋轉。 j 4疋形成 工具可以具有切割或是形成邊 八哎緣，其位於—個 基板表面垂直向量的平面中，咨β 丁於 一於目认 成疋在切割或是形成期間平 仃於工具的路徑的平面中。此外工罝

_ j以/〇 t —個非綠料 路徑移動或是一個線性路徑移動進 J疋八暴板，非線性路徑可 以是一條曲線，而線性路徑可以在 刀oj驭疋形成期間在離 散點改變方向。 基板上要切割或是形成凹穴的表面可以是平垣彎曲' 圓錐形或是圓柱形。此外至少一些凹穴可以在尺寸、形狀、 角度、旋轉、指向、密度、深度、高度，類型或是位移中 變化，並且可以與其他凹穴重疊 '相交或是連鎖。甚至， 至少一些凹穴可以在基板中隨機變化，且至少—些背脊可 以大致地朝著相同的方向，並且可以在外形上被脊曲、分 段或是混合。 基板本身或是基板之沉積或是鏡像複製品可以用來形 成這種光學基板，透過模造 '熱形成、熱壓印、浮凸壓印、 壓擠、或是輻射固化等等來製造。使用根據本發明之基板（或 是基板沉積或是鏡像複製品）製造的光學基板可以具有一個 光線入口表面以及具有一個相對的光線出口表面，而在至 少一個表面上形成至少一些光學元件’其具有在60到80 7 丄378278 方向以經由背反射片反射回到外面，其在期望的觀看角度 内增加顯示器的亮度。光重新導向膜2可以貼附、層合或 是其他方式固定在液晶顯示器的頂部。 圖4顯示穿透反射式液晶顯示器D，包括放置在顯示 器及背光之間的穿透反射片T，以反射進入顯示器前 面的周邊光線回到顯不器外面，以增加顯示器在明亮環境 裡的亮度，並且從背光傳送光線穿過穿透反射片以及到顯 示器的外面’來在一個暗環境裡照亮顯示器。在這個實施 例中’光重新導向膜2可以相鄰於顯示器的頂部或是相鄰 ^顯示器的底部放置’或是用示意圖4顯示的頂部以及底 都有，以更垂直膜平面地將周邊光線及/或來自背光的 光重新導向或是重新分佈，使光線輸出分佈更可接受地穿 越顯示器而增加顯示器的亮度。 光重新導向膜2包括—個薄透明膜或是基板8，兑且 有離散之個別光學元件5的圖案，其在光出口表面6上且 :良好定義的形狀以折射入射光分佈，使膜射出的光線分 佈在一個與膜表面更垂直的方向。 “的每—個具有比膜寬度及長度小很多 =度及長度，並且可以凹入或是凸出於膜的出口表面 射… 別先學7°件5包括至少-個傾斜表面以折 上個別^向垂直於光出°表面的方向。®5顯示在膜2 ==件5的—個圖案。這些光學元件可以帶有很 12的絲^例如’ 11 5a顯示—個具有總共兩個表面10、 一，’主光學几件5，其令兩面都是斜的。在圖5a裡顯 9 不的衣fflj 10是平坦的戎是 —的次疋十面而另一表面12是彎曲的。 而且，兩個表面1 〇 丄 12彼此相父也與膜的表面相交。 二’個:光學元件中的兩個表面⑺、η可以是彎曲如 圖5b不思圖戶斤示〇 .替代地，每—個光皋元侔 的表面，並且盘膜相ίΓ 只具有—個彎曲且斜 這種光學元件:二二5::示-個圓… 而圖5 d顯不另—伽且古ψ ιψ ttv » 形狀個具有+球形或是圓蓋 /狀14的廷種光學元件。此外 — 多於-個與膜表面相交的斜面。 ^ ^ ^ :5e顯示一個具有總共三個表面的光學元件5,所有 ^、膜相交並且彼此相交。兩表面15以及16彎曲，而 弟三個表面17是平坦的。 考曲，而 圖5f顯示金字塔形1 8的光學；^t . 角形邊】Q油" >、 〕九予7"件5，其具有4個三 彼此相父並且與膜相交。 可以且右金子塔18的邊19都 八有如圖5f中所示的相同大 的邊1〇~r、 办狀，或疋金字塔18 /可以伸展，因此邊具如圖 狀。此外，亦與分杜、 g中所不的不同周邊形 5h顯亍： 乂八有任何數量的平坦斜邊。圖 -員不—個具有4個平坦斜邊2〇 顧，干@去 〕光子兀件5’而圖5i .一、”有8個平坦斜邊20的光學元件5。 個別光學元件5也可以且有 一個的丰+ 有不止一個的彎曲以及不止 個的+垣斜表面，全部都與 元株ς 乂圖5j顯不一個光學 具有一對相對相交平ia斜邊 彎曲的i 以及㈣圓化或是 木鸲或疋邊23。甚至，平垣斜 端或是邊23可以具有如圖”及“ /及.4.曲的末 中所示的不同傾斜角 10 1378278 度。而且，光學元件5可以具有至少一個不與膜相交的曲 面 個这種光學兀件5在ϋ 5m中顯示，其包括一對相 對傾斜的平坦邊22，以及相對圓化或是彎曲的末端或是邊 以及與相對斜邊及相對圓化末端相交的圓化或彎曲頂 而24甚至，光學兀件5可以如5n所示沿著他們的長 彎曲。 提供具有平面及曲面組合的個別光學元件5，重新導 向或是重新分佈一個比由溝槽膜可能產生的更大可見區 域此外，纟面的靑曲率，或是個別光學元件彎曲區域對 平面區域的比率可以變化，以設計膜的光輪出分佈，以客 衣化配合膜所使用之顯示元件的可見區域。 膜2的光入口表面7可以具有光鍍膜25(參閱圖2)， 例如一層抗反射鍍膜、反射偏光膜、延遲鍍膜或是偏光片。 此外，取決於視覺外表需求，可以在光入口表面7上面提 供一個S面或是擴散紋路。#面產生柔軟的影像如但不是 那麼明亮。本發明個別光學元件5的平面以及曲面的結合 可加以建構，以不同方向來重新導向一些衝擊其上的光 線，以產生一個更柔軟的影像，而在膜的入口表面上不需 要另外的擴散片或是霧面。 光重新導向膜2的個別光學元件5最好也彼此重疊在 -個錯開的' 連鎖的以及/或是相交的構造，以產生具：極 好的表面區域覆蓋之光學結構。例如在圖6、7、】3以及Μ 顯示了光學元件5彼此相互的交錯位移；圖81〇顯示彼此 相交的光學元件5 ;以及圖U以及12顯示彼此相交的光 1378278 學元件5。 而且光重新導向膜2的光學元件5的斜面角度、密度、 位置向、高度或是深度、形狀以及/或是大小可以匹配 或是調整到背光BL或是其他光源的特別光線輸出以應 付背光發射之光分伟的變異，而在一個期望的觀看角度内 重新分佈更多由背光發射的光線。例#，隨著離背：bl 光源26的距離增加，光學元件5斜表面（例如表面ι〇、i2) 與光重新導向m 2之間的角度可以更改，以應付當從光源 的距離增加時在不同角度之背光發射光線R的方式，如圖 2顯示。此外，背光BL本身可以設計為在較低角度發射更 多光線以增加背光發射的光量，並且倚賴光重新導向膜2 而在一個想要觀看角度内重新分佈更多的發射光線。以這 種方法，可以選擇光重新導向膜2的個別光學元件5，以 與背光的光學形變物合作來產生一個來自系統的優化輸出 光線角度分佈。 圖2、5以及9顯示具有相同高度或是深度之個別光學 元件5的不同圖案，而圖7、8、1〇、13以及μ顯示具有 不同升ν狀尺寸以及尚度或是深度之個別光學元件5的不 同圖案。 個別光學元件5在膜2上也可以是隨機的，如用示意 地以圖1 6以及17顯不的，以消除由液晶顯示器的晝素間 距產生之任何干涉。這消除圖1以及2顯示用來克服波紋 以及相似效應的光學擴散片30的需要。而且，至少一些 個別光學it件5可以安排成組32而穿過膜，其中在每組 12 1378278 . ♦ p至少一些光學元件5具有不同尺寸或是形狀特性，這些 特性集合地在每一組中產生一個平均大小或是形狀特性， 士用不思圖7、13 Λ 15顯示，以獲得超過機器加工公差 的特徵值，而克服液晶顯示器畫素間距所造成的波紋以及 干涉效應。例如，在每組32中的至少一些光學元件5可 以具有不同的深度或是高度’其對於穿過膜變化的每*且乃 集合地產生平均深度或是高度特性。此外，在每組裡的至 少-些光學元件可以具有一個不同的斜面角度，其對於穿 過膜變化的每組乃集合地產生一個平均斜面角度。甚至， 在每組裡個別光學元件的至少一個斜表面可以具有一個不 冋的寬度或是長度，其在穿過膜變化的每組裡乃集合地產 生一個平均寬度或是長度特性。 於個別光學元件5包括平面以及 卜主π 及曲面丨〇、12的組合的 十月形下，曲面12的曲率或是個別 兀干兀件的彎曲區域掛 平面區域的比以及彎曲及平面* 十面表面的周邊形狀，都可以改 變，以設計膜的光輸出分佈。另外， 乃外，曲面的曲率岑县伽2|丨 光學元件彎曲區域對平面區域的比 卞j以憂化，以重新婁 向在-個平面内傳播的更多或是’ ,,, 干面半分於 棱柱型或是溝槽透鏡膜的溝槽，以部 — ' .. 也或疋元全替施兹 —層光重新導向膜的需要。此外， 、 认 少—些個別的光皋元 件可以在相對於彼此的不同角度定 〜w 如用不意圖13以 及16顯示的那樣，以重新分佈更

— 7田光源發射的井以-VL 者兩個不同軸而在一個更垂直膜表 ^ Λ/σ ^ ^ 胰衣面的方向，部分或是b 王#代第一層光重新導向膜的需要 ""70 而安但疋，應該理解這種 13 1378278 上面都具有個別光學 心….a y v wv '•口 -鬥固茶的二a φ ,°奴’可以放置在光源以及可見區域之間， 層彼此㈣轉動90度（或是大於〇度及小於9〇度的其= 度）’使仔在個別膜層上的個別光學元件重新分佈 源發射的不同平面方向傳播之光線，而在更為垂直：個別 膜表面的方向上。 …光重新導向膜2可以具有光學元件5的圖案， 其如用不意圖η顯示在膜上的不同位置變化，以從背光 _或其他光源之不同的位置重新分佈光線輸出分佈，而從不 同位置重新分佈光線朝向垂直膜的方向。 甚至，可以客製光重新導向膜之光學元件的特性以及 圖案’以優化針對發射不同光分佈之不同類型光源的光重 新導向膜，例如單燈管的膝上型電腦用一個圖案、雙燈管 平面顯示器用另一個圖案等等。 圖17顯示光學元件5安排在從膜2外邊緣朝著中心之 徑向的圖案，以重新分佈背光BL的光線輸出分佈，其接 毫|收伙冷陰極螢光燈26沿著背光bL所有四個邊緣來的光 •線0 圖18顯π安排在跨過膜2之有角度之組32圖案的光 學元件5，其被設計以重新分佈背光B]L的光線輸出分佈， 其沿著为光的一個輪入邊緣接收從冷陰極螢光燈2 6或是 多個發光二極體26來的光。 圖1 9顯tf光學元件5安排為面對膜2角落的徑向類型 圖案，以重新分佈背光BL的光線輸出分佈，其以發光二 14 Γ :二ΐ \落點亮。圖2 0顯示光學元件5安排為面對膜 佈，t向類型圖案，以重新分佈背光BL的光線輪出分 ”以早一發光二極體26在背光一輸入緣的中點點亮。 伸21顯示—個光重新導向膜2’其具有以彎曲圖ί延 二匕肤的光學溝槽35，該圖案面對膜的角落，以重新分 佈背光BL的光線輸出分佈，其由發光二極體26 : 冗，而圖22-24顯示一個光重新導向膜2,其具有延伸跨 過膜的光學科35圖案，其沿著膜—邊緣而面對—個中 而圖案隨著離開邊緣的距離增加而曲率減少，以重新 分佈背光BL的光線輸出分佈，其由發光二極體％在背光 —輸入邊緣的_點點壳。 當光重新導向膜2上面具有沿著膜長度變化的光學元 :5的圖案4。時’可以提供一卷41的膜2,在其上如示 意圖15 !頁示的具有光學元件的重複圖案，以從膜卷切割 允許一個最適合於特定應用的圖案選區。 背光BL可以是實質上平坦、彎曲或是可以是單層或 是多層，並且可以依照要求具有不同的厚度及形狀。而且， 背光可以是可彎曲或是硬的，並且由多種化合物製成。甚 至’背光可以是空的、充滿液體、氣體 '或是實心的，並 且可以具有洞穴或背脊。 此外，光源26可以是任何合適的類型，包括例如弧光 燈、可以被著色、遽光或是塗色的白熾燈、透鏡末端燈、 ㈣燈管' «燈、發光二極體（led)、led的晶粒、氛 燈、冷陰極螢光燈、從遠處光源傳送光的光纖光學導管' 15 丄 雷射或是雷射二極體、或是任何其他合適光源。另外，光 ，26可以是多& LED，或是-個多色輻射源的結合，以 提供要求的色彩或是白光輸出分佈。例如，可以應用不同 顏色（例如，紅、藍、綠色）LED的多色光線，或者具有多 色晶粒的單- LED’而透過每個各別顏色光的強度變化以 產生白光或是任何其他有色光的輪出分佈。 b光學形變物的圖案可以照要求的在背光机I邊或 是二邊提供，或是照要求的在背光虹的—邊或是二邊的 —個或更多選區上提供。如在此使用的，光學形變物⑽—

deformities)術語表示在袅面以；^ /斗-B A 衣曲以及/或疋鍍膜之形狀或是幾何 的任何變化或是表面處理，其造成—部分的光線從背光發 射。這些形變物可以用多種方式在背光的選定區域產生， 例如透過提供塗色圖案、钱刻圖案、機械加工圖案、印刷 圖案、熱印圖案或是模造圖案等等。墨水或是印刷圖宰可 以使用例如襯塾印刷 '絲網印刷、噴墨、熱轉移膜處理等 等來施加。形變物也可以印刷在薄板或是膜上，並 加形變物到背光上。薄板或是膜可以成為背光的—個永： 部分’例如以黏附或是定位薄板或膜到背光—側或是兩側 的位置來產生一個預期效果。 透過改變背光之一個或是报多區域内的形變物的密 度、不透明性或是半透明性'形狀、深度、顏色、區域、 折射率或是類型，可以控制背光的光輸出。形變物可以用 來控制從背光之光發射區域發射的光輪出百分比。，

#父少以及/或是較小尺寸的形變物可以 ，J 从罝在先輪出需求較 16 1378278 少的表面區域上。相反地’ 一個較大百分比以及/或是更大 的形變物可以放置在在光輸出需求較多的表面區域上。 在背光的不同區域改變形變物的百分比以及/或是大小 以提供實質上均勻的光輸出分配是必要的。例如，跨過背 光的光量在更接近於光源的區域大致地比更遠離的其他區 域要大。圖案的形變物可以用來調整在背光内的光變化， 例如隨著與光源的距離增加則提供更密集的形變物，因此 導致從背光的一個更均句的光輸出分配。 形變物也可以用來控制從背光輸出的光線角度分佈以 適應特別的應用。例如’如果使用背光來點亮液晶顯示器， 當形變物（或是光重新導向膜2與背光一起使用）將背光發 射的光導引到預定的光線角度，使得它們穿過液晶顯示器 的扣失較低。另外，光學形變物的圖案可以用來調整歸因 方；月光之光汲取的光輸出變化。光學形變物的圖案可以利 用廣範圍的油漆、墨水、披覆物、環氧樹脂等等印刷在背 光表面區域，範圍從光澤到不透明或是兩者，並且可以利 用半調（half-t〇ne)分離技術來改變形變物的覆蓋。而且， 光學形變物的圖案可以是多層或是變化的折射率。 光學形變物的印刷圖案可以在形狀(例如小點、方形、 鑽^形' ㈣ '星形、隨機形狀等等）裡變化。此外，每英 寸60订或疋更密的印刷圖案是希望使用的。這使得在特 別的應用巾’人眼幾乎看不見在印刷圖案裡 形狀，因此消除在利用鲈士 _从, 次疋 j用車x大兀件之光汲取圖案中很普遍的 梯度或是帶狀線β另夕卜， 另卜形支物在沿著背光長度方向以及/ 17 1378278 .·或是寬度方向之外形以及/或是尺寸上可以變化。此外 機置放的形變物圖案可以在整個背光的長度及/或是寬度： 利用。形變物可以是沒有特定角度的形狀或是圖案，以降 低波紋或是其他干涉效果。產生這些隨機圖案的方法範例 是使用隨機的（stochastic)印刷圖案、頻率調制之半調圖案 •或是隨機小點半調等技術來印刷一個圖案形狀。而且，形 •變物可以塗上顏色以產生背光顏色改正的效果。形變物的 顏色也可以在整個背光變化，以便例如在相同或是不同的 Φ 光輸出區提供不同的顏色。 附加於或代替於光學形變物圖案，其他光學形變物包 括棱柱或是透鏡溝槽或是交又溝槽，或是使用模具圖案的 複雜形狀做成各種形狀的凹入或凸出表面，而可以模造、 蝕刻、蓋印、熱成型、熱印等等在背光的一個或更多表面 區域之中或之上。棱柱或是透鏡表面、凹形或是上昇表面 將引起一部份接觸的光線從背光發射。此外，棱鏡、凹形 •或疋其他表面的角度可以改變，以導引光線於不同的方 D 乂產生期望的光輸出分佈或是效果。而且，反射或是 折射的表面可以具有不特定角度的形狀或是圖案，以降低 波紋或是其他干涉效果。 背面反射片40可以如示意圖1以及2顯示的附上或是 在背光BL的一邊，經由將光從該面反射回去穿過背 光以在對面—邊發射光線來增進背光的光輸出效率。另 卜 光學形變物50的圖案可以如示意圖1以及2顯示的 在背光的一邊或是二邊提供，以改變光線的路徑，使得内 18 1378278 臨界角被超過，然後一部份的光線從背光的一邊或 發射。 圖25-28顯示光學形變物50，其可以是在個別背光表 面區域52上的個別凸出51或是在這種表面區域的個別凹 入53。無論在哪種情況，這些光學形變物5〇中的每—個 具有良好定義的形狀，包括反射或是折射的表面54，其在 _ 一邊緣55與個別的背光表面區域52相交，並且在它的長 度方向具有一個均勻斜面，以更精確地控制由每個形變物 籲所發射的光。沿著每個反射/折射表面54的外圍邊緣部分 56的是每個形變物5〇的一個末端牆57，其以一個更大的 夾角I與個別面板表面區域52相交，該夾角j大於反射/ 折射表面54與面板表面區域52之間的夹角j，（圖見η以 及28)，以將面板表面區域上的末端牆的投射表面區域減 到最小。這允許更多的形變物5〇放置在面板表面區域上 或是内部，比如果末端牆57的投射表面區域實質上相同 於或是大於反射/折射的表面54的投射表面區域時所能放 •置得更多。 在圖25以及26裡，及紐/杯如主工 反射/折射表面54的外圍邊緣部 分5 6以及相關末端換$ 7 e +1 々刪木而牆5/疋在橫向方向彎曲的。在圖27 以及28形變物50的末端牆57顯示實質上垂直於形變物 的反射/折射的表面54延伸β替代地，這種末端牆57可以 如示意圊29以及30顯示的竇曾卜 旳只貞上以垂直面板表面區域52 方式延伸。這實際上消除末端牆57在面板表面區域”上 的任何投影表面區，或，在面板表面區域的形變物密度.可以 19 更進一步増加。 面柘ΐ子形變物也可以是其他良好定義的形狀，以獲得從 四板表面區域之如皆 F ，月望的先輪出分佈。圖3 1顯示面板表面 平的、 ’個別光汲取形變物58，每一個包括一個大致 办 ^反射/折射表面59，以及在整個它們的長度及 卷 句勻斜面的相關末端牆60，以及大致平的側壁61。 s⑻ 升V變物58,可以如示意圖32顯示的具有圓化的或 疋芎曲側壁62。 6 ) " ·4不在面板表面區域52上的個別光汲取形變物 個包括—個平的 '斜面的三角形反射/折射表面64 句_目關之平坦、大致三角形側壁或是末端牆65。圖34 ㉙不光沒取形變物66，苴每一彻七紅 ,τ •，射表面67,且有斜… 包括一個平坦、斜反射/ 八”角卜圍邊緣部分68以及相關的斜角 的末端壁69以及側壁7〇。 圖35 _示大致是圓錐形的個別光汲取形變物η，而 圖36顯不個別光汲取形變物± I折射的“ 73以及圓化二1 固包括圓化的反射/ 口的末端牆74以及圓化的或是彎曲 的側壁75通通混合一起。 以 之k上額外的表面將反射或是折 件5 θ向衝擊在其上的其他光線，以經過背^ /面板構 * 而提供從面板構件發射的更均勻光分佈。 無論個別形變物的反射/折射表面以及末端壁以及側壁 面別^狀為何，這種形變物也可以包括相交於反射/折射 土和末端壁以及/或是㈣的平坦表面，其與面板表面區 或52成平行間距的關係。圖37_ d不在面板表面區域上 20 丄: 的個別凸出形戎& 的办變物76 ' 77以及，甘·ν 似於圖3 1、32 i、i n ，、为別具有類 及35的代表形式，除了备 面板表面區域5:> + f母個形芰物以與 Z成平行間距關係地與平扫砉 以類似方式，圖4n s '、十I表面79相交β 顯不一個多重形變物8〇，以侗 81的形式在面板以個別凹入 做表面區域52,其每一個 域52的大致平括本 一板表面區 丄杯ρ ~表面之平行間距關係地與平坦表面79相 板表面區域52發射光在内部角 角下揞整；古接iiLt 丨月没·^於6*界 ° 旦表面7 9的光線，將由平土 # 全反射，而任何““ 將田十坦衣面79内部 7在内部角度大於臨界 面79的光線，如用…4n㉟角下撞擊每種平坦表 用不思圖40顯不的，將從平坦表 小的光學不連續性發射。 取 在肜父物凸出在面板表面區域52的情況，反射"斤射 表面在-個角度延伸出面板’其方向相反於通常如用示立、 圖27以及29顯示的光源％光線傳播穿過面板的方向。 在形變物凹入面板表面區域内的情況，反射/折射表面以一 個角度延伸進入面板’其方向大致相同於如用示意圖Μ 以及30顯示的光源26光線傳播穿過面板構件的方向。 不管形變物凸出還是凹入面板表面區域52的上面還是 裡面，形變物的光反射/折射表面的斜面可以變化，以引$ 衝擊在其上的光線被折射出光發射面板之外或是反射回到 面板並且發射到面板的對面外邊’而表面可以蝕刻以擴散 從那裡發射的光線，或是以光重新導向膜2覆甚，以產八 一個想要的效果。此外，在面板表面區域的光學形變物的 圖案可以是均勻的或是如想要的變化，以獲得來自面板^ 21 1378278 面區域的想要之光輸出分佈。 Λ F] 37 α Μ ^ ρ, - 1以及42顯不形狀類似 在圖37 乂及38顯不的形變物％以及”， 面板表面區域52長度和P在〜者 负度和見度的多個大致直的 排，而圖43以及44顯干間距的 皂種形變物76以及77在俨間的 排的位置’其沿著面板|而 极表面區域的長度彼此重疊。 此外，光學形變物的大小包 高度)及角度方向以及位置钰广又及冰度或是 的長度及/或寬度變化，何給定面板表 輸：佈。…及46顯示不同尺寸形變物58 = ㈣或是可變圖案’在外形上分別相似於圖3 顯示的，安排在面板表面區域52 上的錯開的排；而阁d 7 顯示在外形上相似於圖3 圖47 国顯不的形變物77，隨 與光源的距離增加或是沿著 政者形&物 的光強度減少時形變物尺寸 疋寬度 厂文大。圖45以及46翔+忠妯 成群82地跨過面板表面 』不女排 , ❿史物58以及58,，1 ψ力盔 人一 ”有不同尺寸或是形狀特性，1隼 合地產生母群跨過面板表 ，、集 性。例如，每群之形锣版 $ #平均尺寸或是形狀特 Η母群之形變物的至少一些可以具有不同 或问度或疋不同的斜面或於 、又 开®4日向，其集合地產生 均深度或是高度特性或是平 勺千 表面變化。類似地，每群的至少_ 。面板 的寬度或是長度，纟隼合地勿可以具有不同 ^ ^ . θ . . 4. 產生跨過面板表面變化的平均 寬度或疋長度特性。這允許我 从相φ ]後传—個在機器公差以外 的想要之尺寸或是形狀特性， 產外 以及克服波紋以及干涉效 22 1378278

办 8以及49示意顯示沿著面板表面區域52之長度及 足度的任何想要形狀的光學形變⑯85之不同角方向。在 圖8 :形變物沿著面板表面區域的長度方向安排在排％ li但疋在每排的形變物面向光源、26，因此所有形變物都 貫質上與光源發射的光線成一線。在圖49形變物Μ也類 似於圖48面向光源26。另外，圖49的形變物排87實質 上與光源26徑向對準。 圖50以及51示意顯示插入模造或是鑄造於光發射面 板總成BL的光過渡區域9]裡之聚焦光源％發射的範例 =線9〇,如何根據本發明在它們在經過面板構件92傳遞 日守被反射，直到他們撞擊在面板表面區域52.上個別良好 定義形^的紋取形Μ 50、77為止，使得更多的光被 反射或疋折射出面板構件的一個側邊93而比另一邊料更 多。在圖50顯示範例光線90由形變物5〇的反射/折射表 面54所反射，在-個大致相同的方向在面板構件的相同 邊93射出，而在圖51中光線9〇顯示在光線被反射/折射 到面板構件92的相同邊93外面之前，在面板構件Μ内 以不同方向由形變物77的圓化側壁62散射。這種根據本 發明之良好定義形狀的個別光沒取形變物圖#，可以使經 由面板構件的輸入邊緣95所接收之6〇到7〇%或是更多= 光從面板構件的相同側邊發射。 從上述中，明顯的本發明的光重新導向膜重新分佈更 多由背光或是其他光源發射的光，朝向一個更垂直於膜平 23 1^78278 面的方向。此外，本發明的光 此5周整以提供一個系統，在其 及·件與背光的光學形變物合作 輪出角分佈。 重新導向膜可以設計或是彼 中光重新導向膜的個別光學 ’以從系統產生優化的光線 良好定義形狀的個別光學元件（包括光學形變物）的預 定圖案可以在膜、元件或是波導（此後稱為光學基板）裡面 或是上面使用已知的生產方法形成。一個這種已知的生產 方法包含於平的薄片或是平板中切割或是形成這種光學元 件形狀的凹穴圖案，其使用研#或是雷射切割機’以及使 用平薄片或是平板中切割或是形成的光學元件在光學基板 中或是上形成光學元件的相應圖案。這種方法的一個缺點 疋切割或是形成特定型態之光學元件形狀的凹六是很難及 很責的’特別是包括那些具有至少兩個表面共同形成一個 背脊的形狀，並且相對於後續要形成光學元件的基板的長 度及寬度是比較小的。此外製作這些幾何形狀需要的旋轉 工具十分昂貴並且難做’並且因為破損等等而有相對短的 使用壽命’其進一步增加製造具有這些幾何形狀之凹穴.的 成本。 根據本發明透過使用工具切割或是形成這種光學元件 的圖案，製作具有這些幾何形狀之凹穴的困難及成本可以 實質上降低，其中光學元件的形狀為在基板中的凹穴，在 切割或是形成期間工具或是基板沒有旋轉。 圖52以及53顯示一個這樣的工具]〇〇，以分別在義 板I 03内切割或是形成此種凹穴1 〇 1以及I 02，工具不與 24 1378278 工具的切割或是形成路徑（切割運動）垂直。工具ι〇〇以及 基板1 03之一或是兩者在切割運動期間可以以線性或是非 線性的穿越路徑來移動。在圖52的狀況下，切割運動】〇4 與工具的軸垂直，在圖53的狀況下，切割運動1〇5平行 於工具軸。也如在圖52(以及在圖54)中，工具尖端ι〇6(可 以是鑽石尖端或是由一些其他適合切割或是形成的材料做 成）具有至少一個切割或是形成邊緣1〇7，其平行於工具穿 越路徑（在圖54的虛線1〇8顯示的），以便如52圖（以及在 圖55a)所示的切割/形成凹穴1〇1，其具有至少—個平面1〇9 以及至少-個曲面110,其共同形成一個背脊⑴，並且 相對於後續要形成光學元件的光學基板的長度及寬度是比

較小的。另一個方面，太闰 CO rU 万面在圖53中，工具1〇〇提供不同形 狀尖端115，其造形以形成具有至少兩曲面"6、ιΐ7的凹 穴㈤，兩曲面共同形成一個背脊ii8，其可以如圖说 中所示彼此對稱或是如目55c中所示的彼此不對稱，取決 於工具尖端在工具切割運動1〇5平面的任 對稱輪廓。 〃 $ 在每個切割或 形成過私之刖，放置基板103或是工 具10 0或是兩者，4 > … u產生母個凹穴的特定位置。例如，基 板或疋工具（或是兩者）可以宁相 ) 疋位使仵至少一些凹穴的至 ::脊大致地朝著相同的方向，以生產具有大 者相同方向的背脊U9的光學元件，如在圖5'81131' 32、45-47以及50裡顯 使㈣小1 "且基板或是工具可以定位， 使侍至J 一些凹穴與其 八重®、相交或是連鎖，使得 25 1378278 在该處生產的相應形狀光學元件也如在圖5、6-11以及13 裡顯不的與其他光學元件重疊、相交或是連鎖。甚且，光 學兀件可以覆蓋光學基板之至少一表面的至少90%。 使用根據本發明製造之基板的光學基板可以具有一個 光入口表面以及一個光出口表面其中在至少一個表面上 形成的至少一些光學元件具有背脊角度rA(參閱圖2)，背 脊角度在60度及80度之間或是在85以及95度之間。 & 士刀割或是形成期間在基板中切割或是形成的凹穴也 可以在尺寸、形狀、角度、旋轉、指向、深度、高度、類 型以及/或是位置中變化，以在光學基板内或是上面製造相 應’交化的光學元件。類似地’至少一些凹穴可以在基板内 隨機切割或是形成’以在光學基板中或是上面產生至少一 些也是隨機變化的光學元件。 為了產生至少一些凹穴的不同指向（以產生例如具有不 同指向之光學元件的光學基板，如圖13 ' 16、17_2〇、48 以及49顯示的），在切割或是形成這些凹穴之前，基板或 是工具被旋轉。不過，在至少一些.光學元件也具有如這些 圖中所示相同指向的情況，形成光學元件的凹穴可以接連 地切吾彳或疋开> 成，使得基板或是工具只需要於切割或是形 成至少一些凹穴之間才要定位。 在圖57以及58裡，工具丨〇〇的切割運動丨2〇是在— 個與基板103垂直的平面裡。此外在圖57的切割運.動與 工具軸平行（因為工具軸與基板垂直），而在圖58切割運動 對工具軸有一個角度（因為工具軸在相對於基 26 0々8

在圖57工具loo具有切割或是形成尖端12]，其對於 具 β 疋¥對稱的’以在基板中產生非對稱凹穴1 02，直 i凹々认 '、 匈在 —側上具有至少—個曲面1 17，該曲面大於至少 凹八另一邊的另外曲面U6，類似於圖55c顯示的 為工在圖58工具尖端122對於工具軸是對稱的。但是，因 基^輪對基板有-個角度，並且切割運冑12()在一個與 垂直的平面裡，圖58的工具尖端也產生具有至少兩 大。116以及117的非對稱凹六，其中-個曲面比另—個 圖59顯示一個類似於在圖57顯示的工具100，除了 可:、的尖端123對工具軸是對稱的。此外圖59顯示工具_ 行二固$ ’並且在切割或是形成期間，基板ι〇3可以在平 的，'工具軸的方向以及工具穿越路徑的方向上運動。類似 在母個切割或是形成過程之前，基板可以設定位置以 J母個凹穴1〇2產峰拄玄& $ 生特疋位置，並且也可以旋轉基板，以 刀割或是形成至少一些凹穴之前產生不同指向的至少一 些凹穴。 圖60顯示一個不與基板]〇3垂直的工具⑽。但是， 切割運動125與基板垂直。此外在圖6〇工具尖端η 工 具軸不對稱。但是，切割運動125的平面與工具尖端六 a，因此如在示意圖5613顯示的，工具尖端126對稱^ 割運動’以製造如在圖55b顯示之具有對稱形狀的凹= 27 1 〇2。 圖6la-c顯示不同的非線性工具穿越路徑HQ、a〗以 叹132以契桃了 ^ 性工目也、 穴幾何；而圖62a_c顯示不同的線 何，j越路經133、134以及135以製造不同的凹穴幾 路％ 9 、3加線段的數量，以在工具運動經過這種穿越 2』間袓略相等於各種非線性卫具路徑。例如，在圖62a Μ b的線性工具穿越路徑i33以及i34可以大概等於圖 、 "'員示的非線性工具穿越路徑1 3 0以及1 3 1。另外， :62c 員不單調地前進進入基板然後當切割或是形成完成 ^出的：L具路徑135。此外’卫具可以經過不同的工具 凡越路徑來運動，以形成至少一些在外形上具有彎曲、分 段或是混合之背脊的凹穴。類似地，I具可以經過不同的 穿越路徑來運動，以至少二個不規則造形曲線i4i以及Μ) 以及至少一個浪狀背脊143來形成至少一些凹穴14〇，例 如在圖5 5 d裡顯示的。 切釗或是形成凹穴的基板的不同表面也可以如圖52·5 4 以及57-60中所示的是實質上平的。替代地，切割或是形 成凹穴的基板103的不同表面也可以如圖63中所示的是 彎曲的（包括圓錐形）或是如圖64中所示的圓柱形。圖〇 也顯示彎曲的基板103以一個弧形運動，圖64顯示工具1〇〇 在切割運動期間在工具穿越路徑運動。此外在圖64工具 以及圓柱形基板兩者可以設定位置，以在每個切割或是形 成過程之前在基板產生每個凹穴的特定位置，並且工具可 以3疋轉’以在切割或疋形成至少一些凹穴之前產生至少— 28 些凹六有不同的指向。不過，應理解工具或是基板或是兩 者可以在切割或是形成期間之中以及/或是之前加以移動。 此外凹穴可以直接在圓柱形基板的表面切割或是形成或 是在可以從圓柱體移除的套筒裡或是部分套筒的表面做切 割或是形成。 在光學元件形狀之凹穴的要求圖案數量在基板中切割 或是形成之後，包含要求的光學元件形狀凹穴之圖案的基 板或是其沉積或是鏡像複製品或是倒轉複製品，便可以作 為製造工具或是製造生產工具的母版。生產工具可以用來 產生光學元件的相應圖案在基板之中或是上面，其係經由 模造、熱形成、熱壓印、浮凸壓印、壓擠或是輻射固化等 等製造。例如，圖65顯示放置在注射模具151中的工具15〇 以在光學基板中或是上模造出光學元件；圖66顯示在光 學基板上或是内形成光學元件，其係經由在光學基板152 上施加熱以及加壓朝向工具丨50的光學元件形狀凹穴；以 及圖67顯示可流動光學基板材料丨53施加在工具1 中 的光學7L件形狀之凹穴上面，並且在從工具中移除固化或 是凝固的光學基板材料之前，使可流動光學基板材料固化 或是凝固，而在光學基板上或是内形成光學元件。可流動 光學基板材料可以例如是自固化材料或是紫外線或是其他 輕射固化的材料》 在凹穴在一個圓柱形基板中形成的情況，可以使用圓 柱體本身作為生產工具，以在一卷光學基板上透過浮凸壓 印或疋壓播處理等等形成光學元件的相應圖案。 ^/8278 雖然本發明已經以相關於特定實施例的方式顯示及描 述，很顯然地’等效的改變以及修改對那些熟悉習知技術 的人在閱讀以及理解本說明書後將會發生。尤其是針對 於以上述的元件執行的各種功能，用來描述這種元件的術 語（包括任何參考的"機構”）除非另外指出，是意圖對應於 任何令部件，其執行所述零部件的特定功能（也就是功能上 相等）即使不疋結構上相等於執行在此說明的本發明範例 ，貝細例功此所揭露的零部件。此外，雖然本發明的特定特 徵已，·工以個貫施例揭露，這種特徵可以與其他實施例的 個或更夕其他特徵相結合，而它們是對於任何給定或是 特別的應用所要求以及具優點的。 【圖式簡單說明】 圖1疋根據本發明之光重新導向膜系統之一種形式的 側視圖解； 圖2是圖1背光以及光重新導向膜系統之部份放大分 解側視圖； 圖3以及4是本發明其他形式之光重新導向膜系統的 侧視圊解； 2 〇疋喊不本發明光重新導向膜上個別光學元件之 不同圖案的立體圖解或是平面圖； 不5a_5n；^光重新導向膜上個別光學元件可以採取之 不冋歲何形狀的立體圖解； 角落的實曲圖案 圖21疋光重新導向膜之立體輯，其具有面對膜一個 而延伸穿過膜的光學溝槽； 30 1378278 • 圖22是光重新導向膜之俯視圖，其具有延伸穿過膜而 面對膜一個邊緣之中點的光學溝槽圖案，其隨著與一邊緣 的距離增加而曲率減少； 圖23是圖22光重新導向膜從其左端來看的一個末端 視圖； 圖24是圖22光重新導向膜的側視圖； 圖25及26是背光/光發射面板總成之表面區域的放大 分解平面圖’其顯示在一個背光表面裡面或是上面的光學 _形變物之各種形式； 圖27及28分別是穿過圖25以及26 —個光學形變物 的放大縱切面； 圖29以及30是穿過光學形變物的其他形式的縱切面 放大圖’該形變物在背光表面上或是内形成； 圖31-39是背光表面區域之放大立體圖解，該區域包 含其他良好定義形狀之個別光學形變物的各種圖案； 圖4〇是背光表面上或裡面形成的另一形式之光學形變 籲物的放大縱切面圖； 圖41以及42是背光表面區域的放大俯視圖解，該區 域包含相似於在圖37以及38顯示之外形的光學形變物， 安排在沿著表面區域的長度及寬度的多個直線橫排之中； Θ 43以及44是背光表面區域的放大俯視_解，該區 域έ亦相似於在圖3 7以及3 8顯示之外形的光學形變 物，女排在沿著表面區域的長度及寬度之錯開的橫排之 中； 31 1378278 圖45以及46是背光表面區域的放大俯視圖 含衣面區域上兀门丄 鮮其包 t ; 成上不^小之光學形變物的隨機或是可變_ 圖47是背光表面區域的放大立體圖解， 光輪入表面的距籬揭t a s u ’、顯不h•者距 由⑽_加或是光強度沿著表面 向增加，則光學形變物的大小增加； 的長度方 S 4 8以及4 9是顯示沿著背光表面巴城旦# 光學形變物且有π 域長度及寬度的 /、有不同角度指向的立體圖解； 圖50以及51是顯示由聚焦光源發射 由不同個別光學形變物反 丨先線如何 光學形變物在背“: 射的放大立體圖解，該 化皮物在月先表面區域有良好定義的形狀； ::2 53、57·60、63以及64是顯示工具的立 工具用來切割或是形成光學元件形狀的凹穴，其具二 的尺寸、形狀、角度、旋轉、指向、密度、深产 類型、位置？位於平坦、彎曲或是圓柱基板：其：二 具有至少兩個表面共同形成一個背脊； 圖5 4是顯示一個工旦土 /、大鳊的放大分解正面圖解’盆且 有至少-個切割或是形成的邊緣，邊緣平行於工具穿越路 控、以在切割或是形成期間在凹穴裡形成至少一個平面丨 圖 55a-55d 是個別 J凹八之不同代表性幾何形狀的放大 立體圖解，其可以在基板中切割或形成. 圖56a是-個工具的前視圖解其具有切割或是形成 的尖端’該尖端在工具軸以及工具切割路徑都是對稱的； 圖56b是-個工具的前視圖解，其具有切割或是形成 32 1378278 的尖端’該尖端在工具軸是不料 野稱的但是在工具切割路徑 是對稱的； 圖61 a - 61 c疋代表性非绝k 戶線性工具穿越路徑的圖解說 明； 圖62a-62c是代表性線性 具穿越路徑的圖解說明. 以及 圖65-67是顯示生產工具的正視圖解，工且 穴的基板或是基板沉積或是鏡像複製品所做自/、 ^ 3凹 造、熱形成、熱壓印、浮凸壓印、壓擠以及^ i用來以楔 等等來形成光學基板。 /或疋輕射固化 【主要元件符號說明】 1 光重新導向膜系統 2 重新導向膜 3 基板 5 光學元件 6 光出口表面 7 光入口表面 8 基板 10、12 表面 13 圓錐型 14 圓蓋形狀 ' 16 ' 17 表面 18 金字塔形 19 三角形邊 33 1378278 20 ' 22 平坦斜邊 23 邊 24 頂端 26 冷陰極螢光燈 25 光鍍膜 26 光源 30 光學擴散片 32 組 35 光學溝槽 40 背反射片（圖1 41 卷 50 光學形變物 51 凸出 52 背光表面區域 53 凹入 54 反射/折射表面 55 邊緣 56 邊緣部分 57 末_端牆 58 ' 585 光汲取形變物 59 反射/折射表面 60 末端牆 61' 62 側壁 63 光汲取形變物 34 1378278 64 反射/折射表面 65 側壁或末端牆 66 光汲取形變物 67 反射/折射表面 68 邊緣部分 69 末端壁 70 侧壁 71 ' 72 光汲取形變物 73 反射/折射表面 74 末端牆 75 側壁 76 ' 77 ' 78 形變物 79 平坦表面 80 形變物 81 凹入 82 群 85 光學形變物 86、87 排 90 光線 91 光過渡區域 92 面板構件 93、94 側邊 95 輸入邊緣 100 工具 35 1378278 101、 102 凹 穴 103 基板 104 ' 105 切 割運動 106 工 具尖端 107 邊 緣 108 工 具穿越路徑 109 平 面 110 曲 面 111 背 脊 115 尖 端 116、 117 曲 面 118、 119 背 脊 120 切 割運動 121、 122、 123 尖端 125 切 割運動 126 尖 端 130 ' 131、 132 · 、133 、 134 140 凹 穴 141、 142 曲 線 143 背 脊 150 工 具 15 1 注 射模具 152 光 學基板 153 基板材料 135 穿越路徑 36 1378278 BL 背光 D 液晶顯示器 I ' Γ 夾角 R 光線 RA 背脊角度 T 穿透反射片

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Claims (1)

1378278 101年4月3日修正替換頁 十、申請專利範圍： ____ 光學基板在至少一個表 一些光學元件具有至少 1. 一種製作光學基板的方法， 面上具有多個光學元件，並且至少 兩個表S而共同㈣一個，其相對於光學基板的長度 及寬度是十分小的，該方法包括：使用工具在基板的表面 上切割或是形成多個光學元件形狀的凹穴，其中在切割或 是形成的期間，工具和基板都不對工具軸旋轉，並且至少 一些凹穴被切割《是形成為具有至少兩個纟面共同形成的 -個背脊’其相對於基板的長度及寬度是十分小的，並且 使用該基板以形成在至少一個纟面上具有多個&學元件對 應於基板凹六的光學基板，其中該工具具有對該工具軸不 對稱的切割或形成尖端，並且該切割或形成尖端具有與該 工具穿越路徑平行的至少一個切割邊緣。 2·如申請專利範圍第1項的方法，其中該光學基板0 光學膜、光學元件或是波導。 疋 3.如申請專利範圍第丨項的方法，其中在切割或是形 成的期間’該等凹穴所切割或形成的該基板表面不與該工 具的路徑垂直。 4, 如申請專利範圍第1項的方法，其中在切割或是形 成的期間’該等凹穴所切割或形成的該基板 的路徑垂直。 /、通工具 5. 如申請專利範圍第1項的方法，其中 是形忐π 升Y隹母個切割或 成過程之前放置基板或是工具，以使每個 定的位置。 …固凹八產生特 38 1378278 101年4月3日修正替換頁 6. 如申請專利範圍帛5項的方法，其t基板或是ΤΓ 旋轉，以在切割或是形成至少一些凹穴之前使至少一些凹 穴產生不同的指向。 7. 如申請專利範圍第6項的方法，其中其他凹穴且有 相同的指向並且接連地被切割或是形成，因此基板或是工 具只在一些凹穴的切割或是形成之間做旋轉。 8. 如申請專利範圍f 1項的方法，其中工具沿著非線 性路徑運動進入基板之中。 9·如中請專利範圍帛8項的方法，其中非線性路 一曲線。 10.如申請專利範圍帛Μ的方法，其中工具沿著線性 路徑運動進入基板之中。 請專利範圍帛則的方法，纟中在切割或是 形成的期間，線性路徑在離散的點上改變方向。 12.如申請專利範圍第1項的方法，其中至少一此 是不對稱的》 二八 ^ I3.如申請專利範圍第12項的方法，其中至少—些凹 穴具有一個平面以及一個曲面。 一 口 如申請專利範圍第1項的方法，其中至少—些凹穴 只有兩個表面，一個表面是平的以及另一個表面是彎曲的八。 15.如申請專利範圍第1項的方法， 具有兩個曲面。 些凹穴 16·如申請專利範圍第i項的方法其中在切割 成的期間，T目，、，η * L丄 ^ ^ ^ 1 具以及基板中的一或是兩者彼此相對運動。 39 1378278 101年4月3日修正替換頁 17. 如申請專利範圍第1項的方法，其 有下列形狀之一個：平坦、彎曲、圓錐形 18. 如申請專利範圍第1項的方法其 與其他凹穴重疊、相交或是連鎖。 19. 如申請專利範圍第1項的方法，其 一個表面上形成的光學元件實質上覆蓋該 20. 如申請專利範圍第1項的方法，其 一個光入口表面以及相對的光出口表面， 學元件位於光入口表面上而具有在6〇以石 脊角。 2 1.如申請專利範圍第1項的方法，其 一個光入口表面以及相對的光出口表面， 學元件位於光出口表面上而具有在85以石 脊角。 22. 如申請專利範圍第1項的方法，其 在以下至少一者中變化：尺寸、形狀、角^ 进度、深度、高度以及分佈位置。 23. 如申請專利範圍第22項的方法， 穴在基板中隨機變化。 24. 如申請專利範圍第1項的方法其 或是鏡像複製品來形成光學基板。 25·如申請專利範圍第1項的方法其 在外形上是彎曲、分段或是混合的。 26.如申請專利範圍第1項的方法其 中基板的表面具 、圓柱形。 中至少一些凹穴 中在光學基板之 良面的至少90%。 中光學基板具有 並且至少一些光 .80度之間的背 中光學基板具有 並且至少一些光 .95度之間的背 中至少一些凹穴 I、旋轉、指向、 其中至少一些凹 中以基板的沉積 中至少一些背脊 中至少一些背脊 1378278 _ ' 101年4月3日修正替換頁 大致地朝著相同的方向。 27.如申請專利範圍第1項的方法，其中基板透過以下 至少一方式形成光學基板：模造、熱形成、熱壓印、浮凸 壓印、壓擠以及輻射固化。 十一、圖式： 如次頁 41