KR101185616B1 - 광학 막, 컴포넌트 또는 도파관 제조시 이용되는 기판에 캐비티를 컷팅 또는 성형하는 방법 - Google Patents

광학 막, 컴포넌트 또는 도파관 제조시 이용되는 기판에 캐비티를 컷팅 또는 성형하는 방법 Download PDF

Info

Publication number
KR101185616B1
KR101185616B1 KR1020077005593A KR20077005593A KR101185616B1 KR 101185616 B1 KR101185616 B1 KR 101185616B1 KR 1020077005593 A KR1020077005593 A KR 1020077005593A KR 20077005593 A KR20077005593 A KR 20077005593A KR 101185616 B1 KR101185616 B1 KR 101185616B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
pattern
optical
substrate
optical elements
sleeve
Prior art date
Application number
KR1020077005593A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20070058492A (ko
Inventor
제프리 알. 파커
티모시 에이. 맥 컬럼
로버트 엠. 에젤
쿠르트 알. 스타키
Original Assignee
램버스 인터내셔널 리미티드
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 램버스 인터내셔널 리미티드 filed Critical 램버스 인터내셔널 리미티드
Publication of KR20070058492A publication Critical patent/KR20070058492A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101185616B1 publication Critical patent/KR101185616B1/ko

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/0001—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings specially adapted for lighting devices or systems
    • G02B6/0011—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings specially adapted for lighting devices or systems the light guides being planar or of plate-like form
    • G02B6/0033—Means for improving the coupling-out of light from the light guide
    • G02B6/0035—Means for improving the coupling-out of light from the light guide provided on the surface of the light guide or in the bulk of it
    • G02B6/0036—2-D arrangement of prisms, protrusions, indentations or roughened surfaces
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/10—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
    • G02B6/12—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29D—PRODUCING PARTICULAR ARTICLES FROM PLASTICS OR FROM SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE
    • B29D7/00—Producing flat articles, e.g. films or sheets
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F21—LIGHTING
    • F21V—FUNCTIONAL FEATURES OR DETAILS OF LIGHTING DEVICES OR SYSTEMS THEREOF; STRUCTURAL COMBINATIONS OF LIGHTING DEVICES WITH OTHER ARTICLES, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • F21V5/00—Refractors for light sources
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/0001—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings specially adapted for lighting devices or systems
    • G02B6/0011—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings specially adapted for lighting devices or systems the light guides being planar or of plate-like form
    • G02B6/0033—Means for improving the coupling-out of light from the light guide
    • G02B6/0035—Means for improving the coupling-out of light from the light guide provided on the surface of the light guide or in the bulk of it
    • G02B6/0038—Linear indentations or grooves, e.g. arc-shaped grooves or meandering grooves, extending over the full length or width of the light guide
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/0001—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings specially adapted for lighting devices or systems
    • G02B6/0011—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings specially adapted for lighting devices or systems the light guides being planar or of plate-like form
    • G02B6/0033—Means for improving the coupling-out of light from the light guide
    • G02B6/005—Means for improving the coupling-out of light from the light guide provided by one optical element, or plurality thereof, placed on the light output side of the light guide
    • G02B6/0053—Prismatic sheet or layer; Brightness enhancement element, sheet or layer
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/0001—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings specially adapted for lighting devices or systems
    • G02B6/0011—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings specially adapted for lighting devices or systems the light guides being planar or of plate-like form
    • G02B6/0033—Means for improving the coupling-out of light from the light guide
    • G02B6/0058—Means for improving the coupling-out of light from the light guide varying in density, size, shape or depth along the light guide
    • G02B6/0061—Means for improving the coupling-out of light from the light guide varying in density, size, shape or depth along the light guide to provide homogeneous light output intensity
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/0001—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings specially adapted for lighting devices or systems
    • G02B6/0011—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings specially adapted for lighting devices or systems the light guides being planar or of plate-like form
    • G02B6/0065—Manufacturing aspects; Material aspects

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Planar Illumination Modules (AREA)
  • Optical Elements Other Than Lenses (AREA)

Abstract

본 발명은 컷팅 또는 성형 프로세스 동안 툴 또는 기판을 회전시키지 않고 기판 표면에 다수의 광학 소자 형상 캐비티를 컷팅 또는 성형하는 툴을 이용하는 단계를 수반한다. 캐비티들 중 적어도 일부는 기판의 길이 및 폭에 대해 상당히 작으며 융기부를 형성하기 위해 조합되는 적어도 2개의 표면을 갖도록 컷팅 또는 성형된다. 이후 기판은 기판의 캐비티들에 해당하는 적어도 하나의 표면 상에 다수의 광학 소자들을 갖는 광학 막, 컴포넌트 또는 도파관을 형성하는데 이용된다.

Description

광학 막, 컴포넌트 또는 도파관 제조시 이용되는 기판에 캐비티를 컷팅 또는 성형하는 방법{METHODS OF CUTTING OR FORMING CAVITIES IN A SUBSTRATE FOR USE IN MAKING OPTICAL FILMS, COMPONENTS OR WAVE GUIDES}
본 발명은 광학 기판 상에 또는 그 내부에 막(film), 컴포넌트 또는 도파관 등을 포함하는 광학 소자들에 상응하는 패턴을 성형하는데 이용되도록 기판에 광학적 소자의 형상화된 캐비티의 하나 이상의 패턴들을 컷팅 또는 성형하는 방법에 관한 것이다.
일반적으로 막, 컴포넌트 또는 광학 기판을 통과하는 광을 유도하는 도파관을 포함하는 광학 기판의 하나 이상의 표면 상에 또는 그 내부에 다수의 광학 소자를 제공하는 것은 공지되어 있다. 광학 소자들 중 적어도 일부는 융기부(ridge)가 성형되도록 통합되고(come together) 광학 기판의 길이 및 폭에 비해 상당히 작은 적어도 2개의 표면들을 가질 수 있다.
일반적으로 광학 기판 상에 또는 그 내부에 광학 소자들에 상응하는 패턴을 성형하기 위해 시트 또는 플레이트에서 컷팅 광학 소자 형상을 이용하고 밀링 또는 레이저 컷터를 이용하여 평탄 시트 또는 플레이트에 광학 소자 형상 캐비티의 예정된 패턴을 컷팅 또는 성형하는 것은 공지되어 있다. 이러한 방법의 단점은 특히, 융기부를 성형하도록 조합되며 광학 기판의 길이 및 폭에 비해 상당히 작은 적어도 2개의 표면들을 가지는 형상을 포함하는 소정 형태의 광학 소자 형상의 캐비티들을 컷팅 또는 성형하는 것이 어렵고 비용이 비싸다는 것이다. 또한 이러한 기하학적 형상을 제조하는데 요구되는 스피닝 툴들은 상당히 비싸며 제조가 어렵고, 파손 등으로 인해 유효 수명이 비교적 짧아, 상기와 같은 기하학 형상을 가지는 캐비티들을 제조하는 비용이 추가로 부가된다.
융기부를 형성하기 위해 조합되며 광학 기판의 길이 및 폭에 비해 상당히 작은 적어도 2개의 표면들을 가지는 광학 소자들의 하나 이상의 패턴을 포함하는 광학 기판 제조시 어려움 및 비용은 컷팅 또는 성형 프로세스 동안 툴 또는 기판을 회전시키지 않고, 기판에서 광학 소자 형상의 패턴들의 캐비티를 컷팅 또는 성형하는 툴을 사용하고, 기판의 캐비티들에 상응하는 광학 기판의 적어도 하나의 표면 상에 또는 그 내부에 광학 소자들을 가지는 광학 기판을 성형하기 위해 상기 기판을 이용함으로써 실질적으로 감소된다.
기판에 광학 소자 형상 캐비티를 컷팅 또는 성형하는데 이용되는 툴은 컷팅 또는 형성 프로세스 동안 툴의 경로에 수직이거나 또는 수직이 아닐 수 있다. 또한, 툴은 대칭 또는 비대칭 컷팅 또는 성형 팁을 가지거나 또는 툴의 컷팅 또는 성형 경로(컷 무브(cut move))의 평면의 어느 한 쪽의 측면에서든 대칭 또는 비대칭 프로파일을 가질 수 있다. 만약 툴이 툴의 컷 무브 평면의 어느 한 쪽의 측면에서든 대칭 프로파일을 갖는 경우, 컷팅 또는 성형 프로세스 동안 융기부를 형성하기 위해 통합되는 캐비티의 적어도 2개 표면은 대칭 표면이 되는 반면, 툴이 툴 컷팅 또는 성형 경로 평면의 어느 한 쪽의 측면에서든 비대칭 프로파일을 갖는 경우, 컷팅 또는 성형 프로세스 동안 융기부를 형성하기 위해 통합되는 캐비티의 적어도 2개 표면은 비대칭 표면이 된다. 또한 캐비티들 중 적어도 일부는 하나의 평탄한 표면 및 하나의 굴곡 표면 또는 2개의 굴곡 표면을 가질 수 있다. 또한, 캐비티들 중 적어도 일부는 단지 2개의 표면들을 가질 수 있으며, 이중 하나는 평탄하고 다른 하나는 구부러진 것일 수 있다. 택일적으로, 양쪽 표면이 구부러진 것일 수도 있다.
컷팅 또는 성형 프로세스 동안, 툴 및 기판 중 하나 또는 둘다는 서로에 대해 회전하지 않고 서로에 대해 이동할 수 있다. 기판 또는 툴은 각각의 컷팅 또는 성형 프로세스 이전에 각각의 캐비티에 대한 특정 배치가 형성되도록 위치될 수 있다. 기판 또는 툴은 적어도 일부 캐비티를 컷팅 또는 성형하기 이전에 서로에 대해 회전하여 상기 캐비티에 대한 상이한 배향을 형성할 수 있다. 일부 캐비티를 컷팅 또는 성형하는 사이에 기판 또는 툴의 회전만이 요구되도록 동일한 배향을 가지는 다른 캐비티가 연속적으로 컷팅 또는 성형될 수 있다.
상기 툴은 컷팅 또는 성형 프로세스 동안 툴의 경로에 평행한 또는 기판 표면의 벡터 법선에 평행한 평면에 놓인 컷팅 또는 성형 에지를 가질 수 있다. 또한, 상기 툴은 구부러진 비선형 경로 또는 컷팅 또는 성형 프로세스 동안 분산 지점에서 방향이 변할 수 있는 선형 경로를 따라 기판으로 이동할 수 있다.
캐비티가 컷팅 또는 성형되는 기판 표면은 평탄하거나, 구부러지거나, 원뿔형이거나 원통형일 수 있다. 또한 적어도 일부 캐비티는 크기, 형상, 각도, 회전, 배향, 밀도, 깊이, 높이, 형태 또는 배치가 변할 수 있고, 다른 캐비티와 중첩하거나, 교차하거나 또는 맞물릴 수 있다. 적어도 일부 캐비티는 기판에서 무작위로 변할 수 있으며, 적어도 일부 융기부는 동일한 방향에 있을 수 있고, 형상이 구부러지거나, 분할되거나 통합될 수 있다.
기판 자체 또는 기판의 증착 또는 미러 카피(mirror copy)는 몰딩, 열성형, 핫 스탬핑, 엠보싱, 압출(extrusion), 또는 방사선 경화 등에 의해 광학 기판을 형성하는데 이용될 수 있다. 본 발명에 따라 형성된 기판을 이용하여 형성되는 (또는 기판의 증착 또는 미러 카피) 광학 기판은 광 진입 표면 및 반대의 광 배출 표면을 가질 수 있으며, 광학 부재들 중 적어도 일부는 60 내지 80도 사이 또는 85 내지 95도 사이의 융기 각도를 가지는 상기 표면들 중 적어도 하나의 표면상에 형성된다. 또한, 광학 부재들은 실질적으로 광학 기판의 적어도 하나의 표면의 적어도 90%를 커버할 수 있다.
이를 달성하기 위해, 본 발명은 하기 보다 상세히 개시되며 특히 특허청구범위에서 지적되는 특징들을 포함하며, 하기의 설명 및 첨부되는 도면들은 본 발명의 예시적인 실시예를 상세히 설명하기 위한 것으로, 본 발명의 원리를 이용하는 다양한 방법들 중 단지 몇 가지 방법만을 개시한다.
도 1은 본 발명에 따른 광 재지향 막 시스템의 일 형태에 대한 개략도,
도 2는 도 1의 백라이트 및 광 재지향 막 시스템의 일부의 상세 확대도,
도 3 및 도 4는 본 발명의 광 재지향 막 시스템의 또 다른 형태에 대한 개략도,
도 5-20은 본 발명의 광 재지향 막 상의 개별 광학 부재들의 상이한 패턴을 나타내는 개략도 또는 평면도들,
도 5a-5n은 광 재지향 막 상의 개별 광학 부재들이 취할 수 있는 다양한 기하학적 형상의 개략도,
도 21은 막의 모서리를 면하는 구부러진 패턴에서 막에 대해 연장되는 광학적 그루브를 가지는 광 재지향 막의 개략도,
도 22는 하나의 에지로부터의 간격이 증가함에 따라 굴곡부(curvature)에서 감소되며 막의 하나의 에지 상의 중심점을 면하는 막에 대해 연장되는 광학적 그루브의 패턴을 가지는 광 재지향 막의 상부도,
도 23은 좌측 단부로부터 볼 수 있는 도 22의 광 재지향 막의 단부 상세도,
도 24는 도 22의 광 재지향 막의 측면 상세도,
도 25 및 도 26은 백라이트 표면 상에 또는 그 내부에 형성되는 다양한 형태의 광학적 변형물을 나타내는 백라이트/광 방출 패널 어셈블리의 표면 영역의 개략적 확대 컷팅도,
도 27 및 도 28은 각각 도 25 및 도 26의 광학적 변형물들 중 하나에 대한 확대 수직 단면도,
도 29 및 도 30은 백라이트 표면 상에 또는 그 내부에 형성되는 다른 형태의 광학적 변형물에 대한 확대 수직 단면도,
도 31-39는 다른 명확한(well-defined) 형상의 각각의 광학적 변형물의 다양한 패턴을 포함하는 백라이트 표면 영역의 확대 개략도,
도 40은 백라이트 표면 상에 또는 그 내부에 형성된 또 다른 형태의 광학적 변형물에 대한 확대 수직 단면도,
도 41 및 도 42는 표면 영역의 길이 및 폭을 따라 다수의 직선형 행들에 배열되는, 도 37 및 도 38에 도시된 형상과 유사한 광학적 변형물들을 가지는 백라이트 표면 영역의 확대된 상부 평면도,
도 43 및 도 44는 표면 영역의 길이 및 폭을 따라 엇갈린 행들에 배열되는, 도 37 및 도 38에 도시된 형상과 유사한 광학적 변형물들을 가지는 백라이트 표면 영역의 확대된 상부 평면도,
도 45 및 도 46은 표면 영역 상에 상이한 크기의 광학적 변형물들의 불규칙한 또는 가변적인 패턴을 가지는 백라이트 표면 영역의 개략적 상부 확대도,
도 47은 광 입력 표면으로부터의 변형물 간격이 증가함에 따라 또는 광 세기가 표면 영역의 길이에 따라 증가함에 따라 크기가 증가하는 광학적 변형물을 나타내는 백라이트 표면 영역의 개략적 확대도,
도 48 및 도 49는 백라이트 표면 영역의 길이 및 폭을 따른 광학적 변형물의 상이한 각 배향을 나타내는 개략도,
도 50 및 도 51은 집중된 광원으로부터 방출되는 예시적인 광선들이 백라이트 표면 영역의 명확한 형상의 상이한 개별 광학적 변형물들에 의해 어떻게 반사되는지 또는 굴절되는지를 개략적으로 나타내는 확대도,
도 52, 53, 57-60, 63 및 도 64는 평탄한, 구부러진 또는 원통형 기판에서 원하는 크기, 형상, 각도, 회전, 배향, 밀도, 깊이, 높이, 형태 및 배치로 형상화된 캐비티의 광학 부재를 컷팅 또는 성형하는데 이용되는 툴을 나타내는 개략도 (여기서 캐비티는 융기부를 성형하기 위해 통합되는 적어도 2개의 표면들을 갖는다).
도 54는 컷팅 또는 성형 프로세스 동안 캐비티 내에 적어도 하나의 평탄 표면을 성형하기 위해 툴 교차 경로와 평행한 적어도 하나의 컷팅 또는 성형 에지를 가지는 툴 팁을 나타내는 개략적 확대도,
도 55a-55d는 기판에 컷팅 또는 성형되는 개별 캐비티들의 상이한 각각의 기하학적 형상의 개략적 확대도,
도 56a는 툴 축 및 툴 컷팅 경도 모두에 대해 대칭인 컷팅 또는 성형 팁을 가지는 툴의 개략적 정면도,
도 56b는 툴 축 둘레에서는 대칭이 아니나 툴 컷팅 경로 부근에서는 대칭인 컷팅 또는 성형 팁을 가지는 툴의 개략적 정면도,
도 61a-61c는 전형적인 비선형 툴 교차 경로의 개략도,
도 62a-62c는 전형적인 선형 툴 교차 경로의 개략도,
도 65-67은 몰딩, 열성형, 핫 스탬핑, 엠보싱, 압출 및/또는 방사선 경화 등에 의해 광학 기판을 성형하는데 이용되는 기판의 캐비티 또는 기판의 증착 또는 미러 카피를 포함하는 기판을 제조하는 제조 기구를 나타내는 개략도.
도 1 및 도 2는 백라이트(BL) 또는 다른 광원에 의해 방출되는 보다 많은 광이 막의 표면에 대해 보다 법선 방향을 향하게 재분배하는 광 재지향 막(2)을 포함하는 본 발명에 따른 광 재지향 막 시스템(1)의 일 형태를 개략적으로 나타낸다. 막(2)은 보다 선명한(brighter) 디스플레이를 제조하기 위해, 랩탑 컴퓨터, 워드 프로세서, 항공전자장비 디스플레이, 셀 폰, PDA 등에 사용되는, 예를 들어 액정 디스플레이와 같은 디스플레이(D)를 조명하는 임의의 거의 모든 광원으로부터 원하는 시야각(viewing angle) 내에 광을 재분배하는데 이용된다. 액정 디스플레이는 도 1 및 도 2에 개략적으로 도시된 것처럼 투과형 액정 디스플레이, 도 3에 개략적으로 도시된 것처럼 반사형 액정 디스플레이 및 도 4에 개략적으로 도시된 것처럼 반투과형 액정 디스플레이를 포함하는 임의의 형태일 수 있다.
도 3에 도시된 반사형 액정 디스플레이(D)는 디스플레이의 휘도를 증가시키기 위해 디스플레이로 진입하는 주변광을 디스플레이로부터 멀리 반사시키기 위해 후면 부근에 후면 반사기(40)을 포함한다. 본 발명의 광 재지향 막(2)은 반사형 액정 디스플레이의 상부 부근에 위치되어, 디스플레이의 휘도를 증가시키기 위해 원하는 시야각 내에서 후면 반사기에 의한 반사 제거를 위해 주변광(또는 정면광으로부터의 광)을 막의 평면에 대해 보다 법선 방향을 향해 디스플레이 속으로 재지향한다. 광 재지향 막(2)은 액정 디스플레이에 부착되거나, 적층되거나 또는 고정된다.
도 4에 도시된 반투과형 액정 디스플레이(D)는 디스플레이와 백라이트(BL) 사이에 위치되는 트랜스리플렉터(T,transreflector)를 포함하며, 이는 조명 환경(lighted environment)에서 디스플레이의 휘도를 증가시키기 위해 디스플레이의 정면으로 진입하는 주변광을 디스플레이로부터 반사시키고, 다크 환경(dark environment)에서 디스플레이를 조명하기 위해 트랜스리플렉터를 지나는 백라이트로부터의 광을 디스플레이로부터 투과시킨다. 본 실시예에서, 광 재지향 막(2)은 디스플레이 휘도를 증가시키기 위해 광원 출력 분포가 디스플레이를 지나 보다 많이 이동하도록 백라이트로부터의 광 및/또는 주변광이 막 평면에 대해 보다 법선으로 재지향 또는 재분포되도록, 디스플레이의 상부 부근에 또는 디스플레이의 하부 부근 중 하나에 배치되거나 또는 도 4에 도시된 것처럼 모두 대칭되게 배치될 수 있다.
광 재지향 막(2)은 막으로부터 배출되는 광의 분포가 막 표면에 대해 보다 법선인 방향이되도록 입사광 분포의 굴절을 위해 막의 광 배출 표면(6) 상에 명확한 형상의 이산형의(discrete) 개별적인 광학 부재(5) 패턴을 가지는 기판(8) 또는 투과형 박막을 포함한다.
개별적인 광학 부재(5)는 막의 폭 및 길이 보다 상당히 짧은 폭 및 길이를 가지며, 막의 배출 표면 내의 함몰부 또는 막의 배출 표면 상의 돌출부로 형성된다. 이러한 개별적인 광학 부재(5)는 광 배출 표면에 대해 법선 방향으로 입사광을 굴절시키는 적어도 하나의 경사 표면을 포함한다. 도 5는 막(2) 상에 개별적인 광학 부재(5)의 하나의 패턴을 나타낸다. 이러한 광학 부재는 다수의 상이한 형상을 취할 수 있다. 예를 들어, 도 5a는 모두 경사진 전체 두 개의 표면(10, 12)을 가지는 비-각주형(non-prismatic) 광학 부재(5)를 나타낸다. 도 5a에 도시된 하나의 표면(10)은 평면형 또는 평탄한, 반면 또 다른 표면(12)은 구부러진다. 또한, 상기 두 표면(10, 12)은 서로 교차되며 막 표면과도 교차된다. 선택적으로, 개별적인 광학 부재의 상기 두 표면(10, 12)은 도 5b에 개략적으로 도시된 것처럼 구부러질 수 있다.
선택적으로, 광학 부재(5)는 각각 구부러지고 경사지며 막과 교차하는 단지 하나의 표면만을 가질 수 있다. 도 5c는 원뿔(13) 형상의 이러한 광학 부재(5)를 나타내며, 도 5d는 반구형 또는 돔 형상(14)을 가지는 또 다른 형태의 광학 부재를 나타낸다. 또한, 이러한 광학 부재들은 이들과 교차하는 하나 이상의 경사진 표면을 가질 수 있다.
도 5e는 전체 3개의 표면을 가지는 광학 부재(5)를 나타내며, 상기 모든 표면들은 서로 교차되며 막과도 교차된다. 2개의 표면들(15, 16)은 구부러진 반면 3번째 표면(17)은 평면형이다.
도 5f는 서로 교차하며 막과도 교차하는 삼각형 형상의 4개 측면(19)을 가지는 피라미드형(18) 광학 부재(15)를 나타낸다. 피라미드(18)의 측면(19)은 도 5f에 도시된 것처럼 모두 크기 및 형상이 동일하거나, 또는 피라미드(18)의 측면(19)은 측면들이 도 5g에 도시된 것처럼 상이한 주변부를 갖도록 연장될 수 있다. 또한, 광학 부재(5)는 임의의 수의 평면형 경사 측면들을 가질 수 있다. 도 5h는 4개의 평면형 경사 측면(20)을 갖는 광학 부재(5)를 나타내는 반면, 도 5i는 8개의 평면형 경사 측면(20)을 갖는 광학 부재(5)를 나타낸다.
또한 개별적인 광학 부재(5)는 하나 이상 굴곡 표면 및 하나 이상 평면형인 경사 표면을 가질 수 있으며, 이들 모두는 막과 교차한다. 도 5j는 마주하게 교차하는 한 쌍의 경사진 평면 측면(22) 및 마주하며 둥근 또는 구부러진 단부 또는 측면(23)을 가지는 광학 부재(5)를 나타낸다. 또한, 경사진 평면 측면(22) 및 구부러진 단부 또는 측면(23)은 도 5k 및 도 5l에 도시된 것처럼 상이한 각도의 기울기를 가질 수 있다. 또한, 광학 부재(5)는 막과 교차하지 않는 적어도 하나의 굴곡 표면을 가질 수 있다. 이러한 광학 부재(5)중 하나가 도 5m에 도시되며, 이는 마주하게 경사진 한 쌍의 평면 측면(22) 및 마주하며 둥근 또는 구부러진 단부 또는 측면(23) 및 마주하게 경사진 측면과 마주하며 둥근 단부가 교차하는 둥근 또는 구부러진 상부(24)를 포함한다. 또한, 광학 부재(5)는 도 5n에 도시된 것처럼 이들의 길이를 따라 구부러질 수 있다.
평면형 표면 및 굴곡 표면이 조합된 개별적인 광학 부재(5)를 제공함으로써 홈이파인(grooved) 막에서 가능한 것보다 큰 시영역(viewing area)이 재지향되거나 또는 재분포된다. 또한, 표면들의 곡률(curvature), 또는 개별적인 광학 부재의 구부러진 영역 대 평면형 영역의 비율은 막과 결합하여 사용되는 디스플레이 장치의 시영역에 맞도록 막의 광 출력 분포를 조절하도록 변형될 수 있다.
막(2)의 광 진입 표면(7)은 무반사 코팅, 반사 편광기, 지연(retardation) 코팅 또는 편광기와 같은 광학 코팅(25)을 가질 수 있다. 또한, 매트 또는 디퓨져 텍스쳐(matte or diffuse texture)는 원하는 시각적 외형에 따라 광 진입 표면(7) 상에 제공될 수 있다. 매트 처리(matte finish)는 부드러운 이미지를 생성하나 휘도는 그렇지 않다. 본 발명의 개별적 광학 부재(5)의 평면형 및 굴곡 표면의 조합은 막의 진입 표면 상에서의 추가적인 디퓨져 또는 매트 처리를 요구하지 않고, 부드러운 이미지가 생성되도록 상이한 방향에서 상기 표면 상에 충돌하는 일부 광선이 재지향되도록 구성될 수 있다.
또한 광 재지향 막(2)의 개별적 광학 부재(5)는 엇갈린형, 맞물린형 및/또는 교차형 구성으로 서로 바람직하게 중첩되어, 우수한 표면 영역 커버리지를 갖는 광학 구조물이 생성된다. 도 6, 도 7, 도 13 및 도 15는 예를 들어 서로에 대해 엇갈린 광학 부재(5)를 나타내며; 도 8-10은 서로 교차하는 광학 부재(5)를 나타내며; 도 11 및 도 12는 서로 교차하는 광학 부재(5)를 나타낸다.
또한, 광 재지향 막(2)의 광학 부재(5)의 경사 각도, 밀도, 위치, 배향, 높이 또는 깊이, 형상 및/또는 크기는 원하는 시야각 내에서 백라이트에 의해 방출되는 보다 많은 광을 재분포시키기 위해 백라이트에 의해 방출되는 광의 분포의 변화로 인해 백라이트(BL) 또는 다른 광원의 특정한 광 출력 분포에 매칭되거나 동조될 수 있다. 예를 들어, 광학 부재(5)의 경사 표면(예를 들어, 표면(10, 12))이 광 재지향 막(2)과 만들어내는 각도는, 광원으로부터의 간격이 도 2에 개략적으로 도시된 것처럼 증가함에 따라 상이한 각도에서 백라이트가 광선(R)을 방출하는 방식으로 인해, 광원(26)으로부터의 백라이트(BL)의 간격이 증가함에 따라 변할 수 있다. 또한, 백라이트(BL) 자체는 백라이트에 의해 방출되는 광의 양이 증가되도록 낮은 각도에서 보다 많은 광을 방출하도록 설계되며 원하는 시야각 내에서 방출된 보다 많은 광이 재분포되도록 광 재지향 막(2)과 관련된다. 이런 방식으로, 광 재지향 막(2)의 개별적 광학 부재(5)는 시스템으로부터 최적화된 출력 광선 각도 분포가 생성되도록 백라이트의 광학적 변형물과 관련하여 동작되도록 선택될 수 있다.
도 2, 도 5 및 도 9는 모두 동일한 깊이 또는 높이를 갖는 개별적 광학 부재(5)의 상이한 패턴을 나타내는 반면, 도 7, 도 8, 도 10, 도 13 및 도 14는 상이한 형상, 크기 및 높이 또는 깊이의 개별적 광학 부재(5)의 상이한 패턴을 나타낸다.
개별적 광학 부재(5)는 액정 디스플레이의 픽셀 공간과의 임의의 간섭을 소거하는 방식으로 도 16 및 도 17에 개략적으로 도시된 것처럼 막(2) 상에서 무작위화될 수 있다. 이는 무아레(moire) 효과 및 유사 효과를 배제시키기 위해, 도 1 및 도 2에 도시된 광학 디퓨져층(30)에 대한 필요성을 제거한다. 또한, 개별적 광학 부재(5)의 적어도 일부는 막에 대해 그룹들(32)로 배열될 수 있으며, 각각의 그룹에서 광학 부재(5)의 적어도 일부는 액정 디스플레이 픽셀 공간과의 간섭 효과 및 무아레 효과를 배제시키기 위해, 가공 공차를 넘는 특성값을 얻기 위해 도 7, 도 13 및 도 15에 개략적으로 도시된 것처럼 막에 대해 가변하는 그룹들 각각에 대해 총체적으로 평균 크기 및 형상 특성을 생성하는 상이한 크기 또는 형상 특성을 갖는다. 예를 들어, 각각의 그룹(32)에서 광학 부재(5)의 적어도 일부는 막에 대해 가변하는 각각의 그룹에 대해 총체적으로 평균 깊이 또는 높이 특성을 생성하는 상이한 깊이 또는 높이를 가질 수 있다. 또한, 각각의 그룹에서 광학 부재의 적어도 일부는 막에 대해 가변하는 각각의 그룹에 대해 총체적으로 평균 경사 각도를 생성하는 상이한 경사 각도를 가질 수 있다. 또한, 각각의 그룹에서 개별적 광학 부재의 적어도 하나의 경사 표면은 각각의 그룹에서 막에 대해 가변하는 평균 폭 또는 길이 특성을 총체적으로 생성하는 상이한 폭 또는 길이를 가질 수 있다.
개별적 광학 부재(5)가 평면형 및 굴곡 표면(10, 12)의 조합을 포함하는 경우, 굴곡 표면(12)의 곡률, 또는 개별적 광학 부재의 구부러진 영역 대 평면형 영역의 비율 및 굴곡 표면과 평면형 표면의 주변부 형상은 막의 광 출력 분포가 조절되도록 변할 수 있다. 또한, 굴곡 표면의 곡률, 또는 개별적 광학 부재의 구부러진 영역 대 평면형 영역의 비율은 각주형태(prismatic) 또는 렌즈형태(lenticular)로 홈이파인 막의 그루브들과 평행한 평면에서 이동하는 보다 많은 광 또는 보다 적은 광이 재지향되도록 가변할 수 있어, 광 재지향 막의 제 2 층에 대한 필요성을 부분적으로 또는 완전히 대체된다. 또한, 막 표면에 대해 보다 법선 방향으로 2개의 상이한 축을 따라 광원에 의해 방출되는 보다 많이 광을 재분포시키기 위해 도 13 및 도 16에 개략적으로 도시된 것처럼 서로에 대해 상이한 각도로 배향되어, 광 재지향 막의 제 2 층에 대한 필요성을 부분적으로 또는 완전히 대체된다. 그러나, 개별 막 층들상의 개별적 광학 부재가 개별적인 막들의 표면에 대해 보다 법선 방향으로 상이한 평면 방향에서 이동하는 광원에 의해 방출된 광이 보다 많이 재분포되도록, 각각 개별적 광학 부재(5)의 동일한 또는 상이한 패턴을 가지는 광 재지향 막의 2개 층은 서로에 대해 90도(또는 0도 이상 및 90도 미만의 다른 각도) 회전된 층들을 가지는 시영역과 광원 사이에 위치될 수 있다.
또한, 광 재지향 막(2)은 막에 대한 법선 방향을 향해 상이한 위치들로부터 광선 출력 분포를 재분포시키기 위해 백라이트 또는 다른 광원의 상이한 위치로부터 광선 출력 분포를 재분포시키도록 도 15에 개략적으로 도시된 것처럼 막 상의 상이한 위치들에서 가변하는 광학 부재(5) 패턴을 가질 수 있다.
또한, 광 재지향 막의 광학 부재의 특성 및 패턴은 예를 들어, 단일 벌브(bulb) 랩탑을 위한 하나의 패턴, 이중 벌브 평탄 패널 디스플레이를 위한 또 다른 패턴 등과 같이, 상이한 광 분포를 방출하는 상이한 형태의 광원에 대해 광 재지향 막을 최적화시키도록 맞춰질 수 있다.
도 17은 막(2)에 백라이트의 4개의 측면 에지 모두를 따라 냉음극 형광램프들(26)로부터의 광을 수신하는 백라이트(BL)의 광선 출력 분포가 재분포되도록 중심부를 향해 막(2)의 외측 에지로부터 방사상 패턴으로 배열되는 광학 부재(5)를 나타낸다.
도 18은 막(2)에 대해 각진 그룹들(32)의 패턴으로 배열된 광학 부재(5)를 나타내며, 이는 백라이트의 하나의 입력 에지를 따라 하나의 냉음극 형광램프(26) 또는 다수의 발광 다이오드(26)로부터의 광을 수신하는 백라이트(BL)의 광선 출력 분포가 재분포되도록 조절된다.
도 19는 발광 다이오드(26)에 의해 모서리가 조명되는 백라이트(BL)의 광선 출력 분포가 재분포되도록 막(2)의 모서리를 면하는 방사형 패턴으로 배열된 광학 부재(5)를 나타낸다. 도 20은 단일의 발광 다이오드(26)에 의해 백라이트의 하나의 에지의 중심점에서 조명되는 백라이트(BL)의 광선 출력 분포가 재분포되도록 막(2)의 하나의 입력 에지의 중심점을 면하는 방사형 패턴으로 배열된 광학 부재(5)를 나타낸다.
도 21은 발광 다이오드(26)에 의해 모서리가 조명되는 백라이트(BL)의 광선 출력 분포가 재분포되도록 막의 모서리를 면하는 구부러진 패턴으로 막에 대해 연장되는 광학적 그루브(35)를 가지는 광 재지향 막(2)을 나타내는 반면, 도 22-24는 백라이트의 하나의 입력 에지의 중심점에서 발광 다이오드(26)에 의해 에지가 조명되는 백라이트(BL)의 광선 출력 분포가 재분포되도록, 하나의 에지로부터의 간격이 증가함에 따라 곡률이 감소하는 막의 하나의 에지를 따르는 중심점을 면하는 막에 대해 연장되는 광학적 그루브(35)의 패턴을 가지는 광 재지향 막(2)을 나타낸다.
광 재지향 막(2)이 그 상부에 막의 길이를 따라 가변하는 광학 부재(5)의 패턴(40)을 갖는 경우, 막의 롤로부터 다이 컷팅되는 특정 분야에 가장 적합한 패턴의 선택된 영역이 허용되도록 도 15에 개략적으로 도시된 것처럼, 막(2)의 롤(41) 상부에는 반복 패턴을 갖는 광학 부재가 제공된다.
백라이트(BL)는 거의 평탄하거나 또는 구부러질 수 있고, 또는 단일층 또는 다층일 수 있고, 요구에 따른 상이한 두께 및 형상을 가질 수 있다. 또한, 백라이트는 탄력적이거나 강성일 수 있으며, 다양한 화합물로 구성될 수 있다. 또한, 백라이트는 액체, 공기로 채워진 중공형, 또는 솔리드형일 수 있으며 구멍들 또는 융기부들을 가질 수 있다.
또한, 광원(26)은 예를 들어, 아크 램프, 색상을 띤, 필터링된 또는 페인트될 수 있는 백열 전구, 렌즈 단부구(lens end bulb), 선광(line light), 할로겐 램 프, 발광 다이오드(LED), LED로부터의 칩, 네온 구, 냉음극 형광 램프, 원격 소스로부터 전송되는 광섬유 광 파이프, 레이저 또는 레이저 다이오드, 또는 임의의 다른 적절한 광원을 포함하는 임의의 형태일 수 있다. 부가적으로, 광원(26)은 원하는 색상을 띤 또는 백색광 출력 분포를 제공하기 위해, 다수의 색상을 띤 방사 LED, 또는 다수의 색상을 띤 방사원의 조합물일 수 있다. 예를 들어, 상이한 색상(예를 들어, 적색, 청색, 녹색)의 LED와 같이 다수의 색상을 띤 광들 또는 다수의 색상 칩들을 갖는 단일의 LED가 사용되어, 각각의 개별 색상을 띤 광의 세기를 가변시킴으로써 백색광 또는 임의의 다른 색상의 광 출력 분포를 생성할 수 있다.
광학적 변형물들의 패턴이, 요구에 따라 백라이트의 한쪽 측면 또는 양쪽 측면 상의 선택된 하나 이상의 영역에 또는 백라이트(BL)의 한쪽 측면 또는 양쪽 측면상에 제공될 수 있다. 본 명세서에서 사용되는 것처럼, 광학적 변형물들이라는 용어는 광의 일부가 백라이트로부터 방출되게 하는 코팅 또는 표면 처리 및/또는 표면의 기하학구조 또는 형상의 임의의 변화를 의미한다. 이러한 변형물들은 백라이트의 선택된 영역 상에 다양한 방식으로, 예를 들어, 페인트 패턴, 에칭 패턴, 가공 패턴, 인쇄 패턴, 핫 스탬프 패턴, 또는 몰딩 패턴 등으로 제조될 수 있다. 잉크 또는 인쇄 패턴은 예를 들어, 인쇄, 실크 인쇄, 잉크젯, 열전달 막 프로세스 등에 의해 적용될 수 있다. 또한 변형물들은 백라이트에 변형물을 인가하는데 이용되는 시트 또는 막 상에 인쇄될 수 있다. 이러한 시트 또는 막은 원하는 효과가 나타날 수 있도록, 백라이트의 한쪽 또는 양쪽 측면에 시트 또는 막을 위치시키거나 부착함으로써 백라이트의 영구 부품이 될 수 있다.
백라이트의 영역 또는 영역들 상에 또는 내부에서 밀도, 불투명도 또는 반투명도, 형상, 깊이, 색상, 면적, 굴절률 또는 변형물들을 변화시킴으로써, 백라이트의 광 출력이 제어될 수 있다. 변형물들은 백라이트의 발광 영역으로부터의 광 출력 퍼센테이지를 제어하는데 이용될 수 있다. 예를 들어, 보다 작은 광 출력이 요구되는 표면 영역에 보다 작은(less and/or smaller) 크기의 변형물이 위치될 수 있다. 반대로, 더 큰 광 출력이 요구되는 백라이트의 표면 영역 상에 큰 퍼센테이지 및/또는 큰 변형물이 위치될 수 있다.
백라이트의 상이한 영역에서 변형물들의 퍼센테이지 및/또는 크기를 변화시키는 것은 실질적으로 균일한 광 출력 분포를 제공하기 위해 요구된다. 예를 들어, 백라이트를 통해 이동하는 광의 양은 통상적으로 광원으로부터 더 멀리 있는 다른 영역에서 보다 광원에 가까운 영역에서 크다. 변형물들의 패턴은, 예를 들어 백라이트로부터 보다 균일한 광 출력 분포가 야기되도록 광원으로부터의 간격이 증가된 보다 조밀하게 집중된 변형물들을 제공함으로써, 백라이트 내에서의 광 변화를 조절하는데 이용된다.
또한, 변형물들은 특정 분야에 적합하도록 백라이트로부터 출력 광선 각도 분포를 제어하는데 이용될 수 있다. 예를 들어, 백라이트가 액정 디스플레이를 백라이트닝하기 위해 이용되는 경우, 변형물들이 예정된 광선 각도로 백라이트에 의해 방출되는 광선이, 적은 손실로 액정 디스플레이를 통과할 수 있도록 방향을 설정하는 할 때(또는 광 재지향 막(2)이 백라이트와 조합하여 사용될 때) 광 출력은 보다 효율적이게 된다. 또한, 광학 변형물들의 패턴은 백라이트의 광 추출에 기여하는 광 출력 변화를 조절하는데 이용될 수 있다. 광학적 변형물들의 패턴은 광택을 내는 범위에서 불투명성을 나타내는 범위 또는 이둘 모두의 범위에 있는, 페인트, 잉크, 코팅, 에폭시 등의 넓은 스펙트럼을 이용하여 백라이트 표면 영역 상에 인쇄될 수 있으며, 변형물 커버리지를 변화시키기 위해서는 하프-톤 분리 기술이 이용될 수 있다. 또한, 광학적 변형물들의 패턴이 다중층이거나 또는 굴절률이 변할 수 있다.
광학적 변형물들의 인쇄 패턴은 점, 사각형, 다이아몬드형, 타원형, 별형, 불규칙한 형상 등으로, 형상이 변할 수 있다. 또한, 원한다면 인치당 60개의 라인 또는 보다 세밀한 인쇄 패턴이 이용된다. 이는 인쇄 패턴들에서 변형물들 또는 형상들이 특정 분야에서 사람의 눈에는 볼 수 없게 하여, 보다 큰 부재를 이용하는 광 추출 패턴에 공통되는 경사도 또는 밴딩 라인의 검출을 없앤다. 또한, 변형물들은 백라이트의 길이 및/또는 폭을 따라 형상 및/또는 크기가 변할 수 있다. 또한, 변형물들의 불규칙한 배치 패턴은 백라이트의 길이 및/또는 폭 전체에 이용될 수 있다. 변형물들은 무아레의 효과 또는 다른 간섭 효과를 없애기 위해 불특정 각도를 갖는 형상 또는 패턴을 가질 수 있다. 이러한 불규칙한 패턴을 생성하는 예시적 방법은 확률적 인쇄 패턴 기술을 이용하는 형상의 패턴, 주파수 변조 하프톤 패턴, 또는 불규칙한 점 하프톤을 인쇄하는 것이다. 또한, 변형물들은 백라이트의 색상 교정을 수행하도록 색상을 띨 수 있다. 또한 변형물의 색상은 예를 들어 동일한 또는 상이한 광 출력 영역에 대해 상이한 색상을 제공하기 위해 백라이트 전체를 변화시킬 수 있다.
광학적 변형물들의 패턴에 부가하여 또는 이를 대신하여, 각주형태(prismatic) 또는 렌즈형태(lenticular) 그루브 또는 교차 그루브를 포함하는 다른 광학적 변형물들, 또는 몰드 패턴에서 보다 복잡한 형상을 이용하는 다양한 형상의 함몰부 또는 상승부 표면이 백라이트의 하나 이상의 표면 영역 속으로 또는 그 상부에 몰딩, 에칭, 스탬핑, 열성형, 핫 스탬핑 등으로 처리될 수 있다. 각주형태 또는 렌즈형태 표면, 함몰부 또는 상승부 표면은 광선들의 일부가 백라이트로부터 방출되도록 접촉되게 한다. 또한, 프리즘, 함몰부 또는 다른 표면들의 각도는 원하는 광 출력 분포 또는 효과를 산출하기 위해 상이한 방향으로 광이 지향되도록 변할 수 있다. 또한, 반사 또는 굴절 표면은 무아레의 효과 또는 다른 간섭 효과를 없애기 위해 비특정 각도를 가지는 형상 또는 패턴을 가질 수 있다.
후면 반사기(40)는 마주하는 측면을 통한 방출을 위해 백라이트를 지나 후측면으로부터 방출되는 광을 반사시킴으로써 백라이트의 광 출력 효율을 증가시키기 위해, 도 1 및 도 2에 개략적으로 도시된 것처럼 백라이트(BL)의 한쪽 측면에 부착 또는 위치설정될 수 있다. 부가적으로, 광학적 변형물(50)의 패턴은 내부 임계 각도가 초과되고 광의 일부가 백라이트의 한쪽 또는 양쪽 측면들로부터 방출되도록 광 경로를 변경하기 위해, 도 1 및 도 2에 개략적으로 도시된 백라이트의 한쪽 또는 양쪽 측면 상에 제공될 수 있다.
도 25-28은 광학적 변형물들(50)을 나타내며 각각의 백라이트 표면 영역(52) 상의 개별 돌출부(51) 또는 상기 표면 영역에서의 개별 함몰부(53)일 수 있다. 이 경우, 광학적 변형물들(50) 각각은 하나의 에지(55)에서 개별 백라이트 표면 영역(52)을 교차하는 반사 또는 굴절 표면(54)을 포함하는 명확한 형상을 가지며 각각의 변형물들에 의해 광 방출을 보다 정확히 제어하도록 길이방향으로 균일한 기울기를 갖는다. 각각의 변형물(50)의 단부 벽(57)은 각각의 반사/굴절 표면(54)의 주변 에지부(56)를 따르며, 패널 표면 영역 상의 단부 벽의 돌출된 표면 영역이 최소화되도록 패널 표면 영역(52)(도 27 및 도 28 참조)과 반사/굴절 표면(54) 사이의 경사 각도(I') 보다 큰 경사 각도(I)로 각각의 패널 표면 영역(52)과 교차한다. 이는 단부 벽(57)의 돌출된 표면 영역이 반사/굴절 표면(54)의 돌출된 표면 영역 보다 크거나 또는 실질적으로 동일한 경우 가능한 것보다 패널 표면 영역 상에 또는 그 내부에 보다 많은 변형물(50)이 위치되게 한다.
도 25 및 도 26에서, 반사/굴절 표면(54)의 주변 에지부(56) 및 관련된 단부 벽(57)은 횡방향으로 구부러진다. 또한 도 27 및 도 28에서, 변형물(50)의 단부 벽(57)은 변형물들의 반사/굴절 표면에 실질적으로 수직으로 연장되게 도시된다. 선택적으로, 이러한 단부 벽(57)은 도 29 및 도 30에 개략적으로 도시된 것처럼 패널 표면 영역(52)에 실질적으로 수직으로 연장될 수 있다. 이로 패널 표면 영역(52) 상에서 단부 벽(57)의 임의의 돌출된 표면 영역이 사실상 소거되어, 패널 표면 영역 상에서의 변형물 밀도가 보다 더 증가될 수 있다.
또한 광학적 변형물들은 패널 표면 영역으로부터 원하는 광 출력 분포를 얻기 위해 다른 명확한 형상일 수도 있다. 도 31은 패널 표면 영역(52) 상에 있는 개별 광 추출 변형물들(58)을 나타내며, 이들 각각은 전반적으로 평면형, 사각형 반사/굴절 표면(59) 및 길이 및 폭에 대해 균일한 기울기의 관련 단부벽(60) 및 전반적으로 평면형 측벽(61)을 포함한다. 선택적으로, 도 32에 개략적으로 도시된 것처럼 변형물들(58')은 둥근 또는 구부러진 측벽(62)을 가질 수 있다.
도 33은 패널 표면 영역(52) 상에 있는 개별 광 추출 변형물들(63)을 나타내며, 이들 각각은 평면형, 경사진 삼각형 반사/굴절 표면(64) 및 관련된 평면형, 전반적으로 삼삭형 측벽 또는 단부 벽(65)을 포함한다. 도 34는 개별 광 추출 변형물들(66)을 나타내며, 이들 각각은 각진 주변 에지부(68)를 가지는 평면형의 경사진 반사/굴절 표면(67) 및 관련된 각진 단부 및 측벽(69, 70)을 포함한다.
도 35는 전반적으로 원뿔 형상인 개별 광 추출 변형물들(71)을 나타내는 반면, 도 36은 개별 광 추출 변형물들(72)을 나타내며, 이들 각각은 둥근 반사/굴절 표면(73) 및 둥근 단부 벽(74) 및 모두가 서로 혼합된 둥근 또는 구부러진 측벽(75)을 포함한다. 이러한 추가 표면들은 패널 부재로부터 방출되는 광의 보다 균일한 분포를 제공하기 위해 백라이트/패널 부재(BL)에 대해 광이 분산되도록 상이한 방향으로 상기 표면상에 충돌하는 다른 광선들을 반사 또는 굴절시킬 수 있다.
반사/굴절 표면 및 개별 변형물들의 단부 및 측벽의 특정한 형상과 상관없이, 상기 변형물들은 반사/굴절 표면과 교차하는 평면형 표면 및 패널 표면 영역(52)에 대해 평행하게 이격된 관계로 단부 및/또는 측벽을 포함할 수도 있다. 도 37-39는, 패널 평면 영역(52)에 대해 평행하게 이격된 관계로 평면형 표면(79)에 의해 각각의 변형물이 교차한다는 것을 제외하고는, 각각 도 31, 도 32 및 도 35에 도시된 것들과 유사하게 표현되는 형상을 가지는 평면형 표면 영역 상에 개별 돌출부 형태의 변형물들(76, 77, 78)을 나타낸다. 유사한 방식으로, 도 40은 패널 표면 영역(52)에 개별 함몰부(81) 형태인 다수의 변형물들(80) 중 하나의 변형물을 나타내며, 변형물들 각각은 패널 표면 영역(52)의 일반적 평면형 표면에 대해 평행하게 이격된 관계로 평면형 표면(79)에 의해 교차된다. 패널 표면 영역(52)으로부터의 광 방출을 위한 임계 각도 미만의 내부 각도로 상기 평면형 표면(79) 상에 충돌하는 임의의 광선들은 평면형 표면(79)에 의해 내부로 반사될 것이며, 임계 각도 이상의 내부 각도에서 상기 평면형 표면(79) 상에 충돌하는 임의의 광선들은 도 40에 개략적으로 도시된 것처럼, 최소의 광학적 불연속성으로 평면형 표면에 의해 방출될 것이다.
변형물들이 패널 표면 영역(52) 상의 돌출부들인 경우, 반사/굴절 표면들은 도 27 및 도 29에 개략적으로 도시된 것처럼, 광원(26)으로부터의 광선들이 패널에 대해 이동하는 것과 상반되는 방향으로 패널로부터 멀어지는 각도로 연장된다. 변형물들이 패널 표면 영역에 있는 함몰부들인 경우, 반사/굴절 표면들은 도 28 및 도 30에 개략적으로 도시된 것처럼, 광원(26)으로부터의 광선들이 패널 부재를 통해 이동하는 방향과 동일한 방향으로 패널 속으로 각지게 연장된다.
변형물들이 패널 표면 영역(52) 상의 또는 패널 표면 영역(52) 내의 돌출부들 또는 함몰부들인지와 상관없이, 변형물들의 광 반사/굴절 표면들의 기울기는 상기 표면에 충돌하는 광선들이 원하는 효과를 나타내도록 광 재지향 막(2)에 의해 커버되는 또는 광 재지향 막(2)으로부터 방출되는 광이 확산되도록 에칭될 수 있는 패널의 대향 측면으로부터 방출되며 패널을 통해 재반사되거나 또는 광 방출 패널로부터 굴절되도록 변할 수 있다. 또한, 패널 표면 영역 상의 광학적 변형물들의 패턴은 패널 표면 영역으로부터 원하는 광 출력 분포를 얻도록 원하는대로 가변하거나 일정할 수 있다. 도 41 및 도 42는 패널 표면 영역(52)의 길이 및 폭을 따라 일반적으로 직선으로 균일하게 이격된 다수의 행들(rows)로 배열된 도 37 및 도 38에 도시된 것들과 유사한 형태의 변형물들(76, 77)을 나타내는 반면, 도 43 및 도 44는 이러한 변형물들(76, 77)이 패널 표면 영역의 길이를 따라 서로 중첩되는 엇갈린 행으로 배열되는 것을 나타낸다.
또한 광학적 변형물들의 폭, 길이 및 깊이를 포함하는 크기 또는 높이 뿐만 아니라 각 배향 및 위치는 패널 표면 영역으로부터 원하는 광 출력 분포를 얻기 위해 임의의 주어진 패널 표면 영역의 길이 및/또는 폭을 따라 변할 수 있다. 도 45 및 도 46은 패널 표면 영역(52) 상의 엇갈린 행들로 배열된, 도 31 및 도 32에 도시된 형상과 유사한 상이한 크기의 변형물들(58, 58')의 불규칙한 또는 가변적인 패턴들을 각각 나타내는 반면, 도 47은 광원으로부터 변형물들의 간격이 증가하거나 또는 패널 표면 영역의 길이 및/또는 폭을 따라 광 세기가 감소함에 따라 크기가 증가하는 도 38에 도시된 것과 유사한 형상의 변형물들(77)을 나타낸다. 변형물들(58, 58')은 패널 표면에 대해 클러스터들(82)에 배열되는 도 45 및 도 46에 도시되며, 각각의 클러스터에서 적어도 일부 변형물들은 클러스터 각각에 대해 패널 표면에 대해 가변하는 평균 크기 또는 형상의 특징을 총체적으로 산출하는 상이한 크기 또는 형상의 특징을 갖는다. 예를 들어, 각각의 클러스터에서 적어도 일부 변형물들은 패널 표면에 대해 가변하는 경사 표면의 배향 또는 평균 기울기 또는 평균 깊이 또는 높이 특징을 총체적으로 산출하는 상이한 깊이 또는 높이 또는 상이한 기울기 또는 배향을 가질 수 있다. 마찬가지로 각각의 클러스터에서 적어 도 일부 변형물들은 패널 표면에 대해 가변하는 평균 폭 또는 길이 특징을 총체적으로 산출하는 상이한 폭 또는 길이를 가질 수 있다. 이로써 기계 공차를 넘는 원하는 크기 또는 형상 특징을 얻고, 또한 무아레 효과 및 간섭 효과가 해결된다.
도 48 및 도 49는 패널 표면 영역(52)의 길이 및 폭을 따르는 임의의 원하는 형상의 광학적 변형물들(85)의 상이한 각 배향을 개략적으로 나타낸다. 도 48에서, 변형물들은 패널 표면 영역의 길이를 따라 직선 행(86)으로 배열되나, 각각의 행에서 변형물들은, 모든 변형물들이 광원으로부터 방출되는 광선과 실질적으로 선형 정렬되도록 광원(26)을 면하게 배향된다. 도 49에서, 변형물들(85)은 도 48과 유사하게 광원(26)을 면하게 배열된다. 또한, 도 49에서 변형물들의 행(87)은 광원(26)과 실질적으로 방사상 정렬된다.
도 50 및 도 51은, 패널 부재의 한쪽 측면(93) 보다 다른쪽 측면(93)으로부터 보다 많은 광선들이 반사 또는 굴절되도록 패널 표면 영역(52) 상에 또는 패널 표면 영역(52) 내에 명확한 형상의 개별 광 추출 변형물들(50, 77) 상에 충돌할 때 까지, 본 발명에 따른 발광 패널 어셈블리(BL)의 광 변이 영역(91) 내에 몰딩 또는 캐스팅 삽입되는 포커싱된 광원(26)으로부터 방출되는 예시적인 광선들(90)이 발광 패널 부재(92)를 통해 이동하는 동안 어떻게 반사되는지를 개략적으로 나타낸다. 도 50에서 예시적인 광선들(90)은 패널 부재의 동일한 측면(93)을 통해 동일한 일반 방향으로 변형물들(50)의 반사/굴절 표면(54)에 의해 반사되는 것을 나타내는 반면, 도 51에서 광선들은 패널 부재의 동일한 측면(93)으로부터 광선들이 반사/굴절되기 이전에 변형물들(77)의 둥근 측벽(62)에 의해 패널 부재(92) 내에서 상이한 방향으로 산란되는 것을 나타낸다. 본 발명에 따른 명확한 형상의 개별 광 추출 변형물들의 패턴은 패널 부재의 입력 에지(95)를 통해 수신되는 60 내지 70% 이상의 광이 패널 부재의 동일한 측면으로부터 방출되게 유도한다.
상술된 바와 같이, 본 발명의 광 재지향 막은 백라이트 또는 다른 광원에 의해 방출되는 보다 많은 광을 막의 패널에 대해 보다 법선 방향을 향하게 재분포시킨다. 또한, 본 발명의 광 재지향 막 및 백라이트는 광 재지향 막의 개별 광학 부재가 시스템으로부터의 최적화된 출력 광선 각도 분포가 산출되도록 백라이트의 광학적 변형물과 관련하여 작동하는 시스템을 제공하도록, 서로 조절 또는 조정될 수 있다.
명확한 형상의 개별 광학 부재(광학 변형물들을 포함)의 예정된 패턴은 공지된 제조 방법들을 사용하여, 막들, 컴포넌트들 또는 도파관들(이하 광학 기판들) 상에 또는 이들 내부에 형성될 수 있다. 이러한 공지된 제조 방법 중 하나는 광학 기판들 상에 또는 광학 기판들 내부에 광학 부재의 해당 패턴을 형성하기 위해 시트 또는 플레이트에 컷팅 또는 성형된 광학 부재 형상을 이용하여 그리고 밀링 또는 레이저 컷터를 이용하여 평탄 시트 또는 플레이트에 광학 부재 형상의 캐비티 패턴을 컷팅 또는 성형하는 단계를 수반한다. 이러한 방법의 문제점은 특히 융기부를 형성하도록 통합되고 광학 부재가 순차적으로 성형되는 광학 기판들의 길이 및 폭에 비해 상당히 작은 적어도 2개의 표면들을 가지는, 소정 형태의 광학 부재 형상의 캐비티를 컷팅 또는 성형하는 것이 어렵고 비용이 많이 든다는 것이다. 또한 이러하 기하학적 형상을 만드는데 요구되는 스피닝 툴들은 고가이며 제조가 어렵고, 파손 등으로 인해 수명이 비교적 짧아, 이러한 기하학 형상을 가지는 캐비티를 제조하는 비용을 가중시킨다.
이러한 기하학적 형성을 가지는 캐비티를 제조하는 비용 및 어려움은 컷팅 또는 성형 프로세스 동안 툴 또는 기판을 회전시키지 않고, 기판 내에 광학 부재 형상 캐비티의 패턴들을 컷팅 또는 성형하는 툴을 사용함으로써 본 발명에 따라 실질적으로 감소될 수 있다.
도 52 및 도 53은 각각 툴의 컷팅 또는 성형 경로(컷 무브)에 수직이 아닌 기판(103)에서 캐비티들(101, 102)을 컷팅 또는 성형하는 툴(100)을 나타낸다. 툴(100) 및 기판(103) 중 하나 또는 둘다는 컷 무브 동안 선형 또는 비선형 교차 경로로 이동할 수 있다. 도 52의 경우, 컷 무브(104)는 툴의 축에 수직인 반면, 도 53의 경우, 컷 무브(105)는 툴 축에 평행하다. 도 52(및 도 54)에서, 툴 팁(106)(다이아몬드 팁 또는 소정의 다른 적절한 컷팅 또는 성형 재료로 이루어진 팁일 수 있음)은 툴 교차 경로(도 54에서 가상라인(108)으로 도시됨)에 평행한 적어도 하나의 컷팅 또는 성형 에지(107)를 가져, 융기부(111)를 형성하도록 통합되고 광학 부재가 순차적으로 형성되는 광학 기판들의 길이 및 폭에 비해 상당히 작은 적어도 하나의 평탄 표면(109) 및 적어도 하나의 굴곡 표면(110)을 가지는 도 52(및 도 55a)에 도시된 것과 같은 캐비티(101)를 컷팅/성형할 수 있다. 한편, 도 53에서, 툴(100)에는 융기부(118)를 형성하도록 통합되는 적어도 2개의 굴곡 표면(116, 117)을 가지는 캐비티(102)를 형성하도록 형상화되며, 툴의 컷 무브(105) 평면의 어느 한 쪽의 측면에서든 툴 팁이 대칭 프로파일을 갖는지 또는 갖지 않는지에 따라, 도 55b에 도시된 것과 서로 대칭이거나 또는 비대칭일 수 있는 상이한 형상의 팁(115)이 제공된다.
기판(103) 또는 툴(100) 또는 이둘 다는 각각의 컷팅 또는 성형 프로세스 이전에 각각의 캐비티에 대한 특정한 배치를 생성하도록 위치설정된다. 예를 들어, 기판 또는 툴(또는 이 둘다)은 적어도 일부 캐비티들의 적어도 일부 융기부들이 예를 들어, 도 5, 도 8-11, 도 31, 도 32, 도 45-47 및 도 50에 도시된 것과 동일한 방향으로 융기부들(119)을 가지는 광학 부재를 형성하도록 동일한 방향에 있도록 위치설정될 수 있다. 또한 기판 또는 툴은 적어도 일부 캐비티들이 다른 캐비티들과 중첩하거나, 교차하거나 또는 맞물릴 수 있도록 위치설정되어, 예를 들어 도 5, 도 6-11 및 도 13에 도시된 것처럼 다른 광학 부재들과 중첩하거나, 교차하거나 또는 맞물릴 수 있다. 또한, 광학 부재들은 광학 기판들의 적어도 하나의 표면의 적어도 90%를 커버할 수 있다.
본 발명에 따라 구성된 기판을 사용하여 형성된 광학 기판들은 광 진입 표면 및 60도와 80도 사이 또는 85도와 95도 사이의 융기 각도(RA)를 가지는 적어도 하나의 표면 상에 형성된 적어도 소정의 광학 부재들을 갖춘 광 출구 표면을 포함할 수 있다.
컷팅 또는 성형 프로세스 동안 기판에서 컷팅 또는 성형되는 캐비티들은 광학 기판들 상에 또는 광학 기판들 내부에 대응되게 가변하는 광학 부재들을 형성하기 위해 크기, 형상, 각도, 회전, 배향, 깊이, 높이, 형태 및/또는 배치가 변할 수 있다. 마찬가지로, 적어도 소정의 캐비티들은 광학 기판들 상에 또는 광학 기판들 내부에 불규칙하게 가변하는 적어도 소정의 광학 부재들을 형성하기 위해 기판에 불규칙하게 컷팅 또는 성형될 수 있다.
적어도 일부 캐비티들에 대한 상이한 배향을 산출하기 위해(도 13, 도 16, 도 17-20, 도 48 및 도 49에 도시된 상이한 배향을 갖는 광학 부재들을 갖춘 예시적인 광학 기판들을 형성하기 위해), 기판 또는 툴은 이러한 캐비티들을 컷팅 또는 성형하기 이전에 회전된다. 그러나, 광학 부재들 중 적어도 일부는 상기 도면에 도시된 것처럼 동일한 배향을 가지며, 광학 부재들을 형성하는 캐비티는 기판 또는 툴이 적어도 일부 캐비티들을 컷팅 또는 성형하는 사이에만 필요하도록 연속적으로 컷팅 또는 성형될 수 있다.
도 57 및 도 58에서, 툴(100)의 컷 무브(120)는 기판(103)에 수직인 평면에 있다. 도 57에서, 컷 무브는 툴 축에 평행한(툴 축은 기판에 평행하기 때문에) 반면, 도 58에서, 컷 무브는 툴 축과 각을 이룬다(툴 축이 기판에 대해 각을 이루기 때문).
도 57에서, 툴(100)은 도 55c에 도시된 캐비티와 유사하게, 캐비티의 한쪽 측면 상의 적어도 하나의 굴곡 표면(116) 보다 큰 캐비티의 다른쪽 측면 상의 적어도 하나의 다른 굴곡 표면(117)을 가지는 비대칭 캐비티(102)를 기판에 생성하는 툴 부근에서 비대칭인 컷팅 또는 성형 팁(121)을 포함한다.
도 58에서, 툴 팁(122)은 툴 축에 대해 대칭이다. 그러나, 툴 축은 기판과 각을 이루고 컷 무브(120)는 기판과 수직인 평면에 있기 때문에, 도 58의 툴 팁은적어도 2개의 굴곡 표면(116, 117)을 가지는 비대칭 캐비티를 형성하며, 상기 2개의 굴곡 표면 중 하나는 다른 하나의 표면보다 크다.
도 59는 툴 팁(123)이 툴 축 둘레에서 대칭이라는 것을 제외하고, 도 57에 도시된 것과 유사하다. 또한 도 59는 툴(100)이 고정되고 기판(103)이 컷팅 또는 성형 프로세스 동안 툴 축과 평행한 방향 및 툴 교차 경로 방향으로 이동할 수 있다는 것을 나타낸다. 마찬가지로, 기판은 각각의 컷팅 또는 성형 프로세스 이전에 각각의 캐비티(102)에 대한 특정한 배치를 생성하도록 위치설정될 수 있고, 적어도 일부 캐비티를 컷팅 또는 성형하기 이전에 적어도 일부 캐비티에 대한 상이한 배향이 형성되도록 회전할 수 있다.
도 60은 기판(103)과 직각을 이루지 않는 툴(100)을 나타낸다. 그러나, 컷 무브(125)는 기판과 직각을 이룬다. 또한 도 60에서, 툴 팁(126)은 툴 축에 대해 대칭이 아니다. 그러나, 컷 무브(125)의 평면은 예를 들어 도 55b에 도시된 것처럼 대칭 형상을 가지는 캐비티(102)를 형성하기 위해 도 56b에 개략적으로 도시된 것처럼 컷 무브와 대칭이다.
도 61a-61c는 상이한 캐비티 기하학구조를 형성하는 상이한 비선형 툴 교차 경로(130, 131)를 나타내는 반면, 도 62a-62c는 툴 교차 경로를 지나 툴이 이동하는 동안 선형 세그먼트의 수를 증가시킴으로써 다양한 비선형 툴 교차 경로들이 근사화되는 상이한 캐비티 기하학 구조를 형성하는 상이한 선형 툴 교차 경로(133, 134, 135)를 나타낸다. 예를 들어, 도 62a 및 도 62b에 도시된 선형 툴 교차 경로(133, 134)는 도 61a 및 도 61b에 도시된 비선형 툴 교차 경로(130, 131)의 근사치이다. 한편 도 62c는 기판으로 모놀리식으로 전진되어 컷팅 또는 성형 프로세스가 완료될 때 제거되는 교차 툴 경로(135)를 나타낸다. 또한 툴들은 구부러짐, 세분화 또는 하이브리드형인 융기부들을 가지는 적어도 일부 캐비티들을 형성하기 위해 상이한 툴 교차 경로를 통해 이동할 수 있다. 마찬가지로, 툴들은 예를 들어 도 55d에 도시된 것처럼 적어도 2개의 불규칙한 형상의 곡선(141, 142) 및 적어도 하나의 물결형 융기부(143)을 가지는 캐비티(140)의 적어도 일부를 형성하기 위해 상이한 교차 경로를 통해 이동할 수 있다.
캐비티들이 컷팅 또는 성형된 기판의 다양한 표면들은 도 52-52 및 도 57-60에 도시된 것처럼 실질적으로 평탄할 수 있다. 선택적으로, 캐비티가 컷팅 또는 성형된 기판(103)의 표면들은 도 63에 도시된 것처럼 구부러지거나 도 64에 도시된 것처럼 원통형일 수 있다. 또한 도 63은 아크(arc)에서 이동하는 구부러진 기판(103)을 나타내는 반면, 도 64는 컷 무브 동안 툴 교차 경로에서 이동하는 툴(100)을 나타낸다. 또한, 도 64에서, 툴 및 원통형 기판 모두는 컷팅 또는 성형 프로세스 이전에 기판의 각각의 캐비티에 대해 특정한 배치를 생성하도록 위치설정될 수 있고, 툴은 적어도 일부 캐비티가 성형 또는 컷팅되기 이전에 적어도 일부 캐비티에 대해 상이한 배향을 생성하도록 회전할 수 있다. 그러나, 툴 또는 기판 또는 이 둘다는 컷팅 또는 성형 프로세스 동안 및/또는 이전에 이동할 수 있다. 또한 캐비티는 원통형 기판의 표면 또는 실린더로부터 제거될 수 있는 슬리브 또는 슬리브의 세그먼트에서 직접적으로 컷팅 또는 성형되 수 있다.
원하는 수의 광학 부재 형상 캐비티 패턴이 기판에 컷팅 또는 성형된 후에, 원하는 패턴 또는 광학 부재 형상 캐비티의 패턴 또는 증착물(deposition) 또는 이들의 미러 카피들 또는 인버스(inverse) 카피들을 포함하는 기판이 제조 툴링(tooling)을 제조하는 마스터로서 또는 제조 툴링에서 사용될 수 있다. 제조 툴은 몰딩, 열성형, 핫스탬핑, 엠보싱, 압출 또는 방사선 경화 등에 의해 광학 기판 상에 또는 내부에 광학 부재의 대응하는 패턴을 성형하는데 이용될 수 있다. 예를 들어, 도 65는 광학 기판 상에 또는 광학 기판 내에 광학 부재를 몰딩하는 사출성형기(151)에 위치된 툴(150)을 나타내며; 도 66은 툴(150)의 광학 부재 형상 캐비티에 대해 열을 인가하고 광학 기판(152)을 가압함으로써 광학 기판 상에 또는 광학 기판 내부에서의 광학 기판(152) 형성을 나타내며; 도 67은 툴(150)의 광학 부재 형상 캐비티 위로 유동가능한 광학 기판 물질(153)을 인가하여 툴로부터 경화된 또는 응고된 광학 기판 물질이 제거되기 이전에 경화 또는 응고되는 유동가능한 광학 기판 물질을 가짐으로써 형성되는 광학 기판 상에 또는 그 내부에 광학 부재들이 형성되는 것을 나타낸다. 유동가능한 광학 기판 물질은 예를 들어, 자외선 또는 다른 방사선 경화 물질 또는 자체-경화 물질일 수 있다.
캐비티가 원통형 기판에 형성될 때, 원통 자체가 제조 툴로서 이용되어 엠보싱 또는 압출성형(extrusion) 프로세스 등에 의해 광학 기판의 롤 상에 광학 부재의 대응하는 패턴이 성형된다.
본 발명은 특정 실시예를 참조로 도시되고 개시되었지만, 당업자들은 본 명세서를 참조로 등가의 변형 및 변조가 이루어질 수 있음을 알 것이다. 특히, 상기 개시된 컴포넌트들에 의해 수행되는 다양한 기능과 관련하여, 컴포넌트로 표현되도록 사용되는 용어들("수단"으로도 참조됨), 별다른 지시가 없다면, 본 발명의 개시된 실시예의 기능을 수행하는 개시된 컴포넌트와 구조적으로 등가적이지는(예를 들어, 기능적으로는 등가) 않더라도 개시된 컴포넌트의 특정 기능을 수행하는 임의의 부품들에 해당한다. 또한 본 발명의 특정 구성을 단지 하나의 실시예만을 참조로 개시하였으나, 이러한 특징은 임의의 주어진 또는 특정 분야에 대해 바람직하고 장점적인 다른 하나 이상의 실시예의 특징과 조합될 수 있다.

Claims (33)

  1. 광학 패널 부재의 적어도 일 면(side) 상에 또는 광학 패널 부재의 적어도 일 면 내에 광학 엘리먼트들의 패턴을 성형(forming)하는 방법으로서,
    컷팅 툴(cutting tool)이 원통형 또는 곡선형 기판 또는 상기 기판의 슬리브 또는 슬리브 세그먼트에 대한 비-평행한 교차 경로 방향으로 이동되는 동안, 상기 기판 또는 슬리브 또는 슬리브 세그먼트에 예각(acute angle)으로 연장하는 툴 축을 가지며 상기 기판 또는 슬리브 또는 슬리브 세그먼트와 맞물림(engagement) 및 맞물림해제되어 이동되는 상기 컷팅 툴을 사용하여, 상기 원통형 또는 곡선형 기판 내에 또는 상기 기판의 슬리브 또는 슬리브 세그먼트 내에 캐비티(cavity)들의 패턴 또는 패턴들을 컷팅 또는 성형하는 단계 ? 상기 컷팅 툴은 상기 툴 축에 대해 비대칭적인 컷팅 또는 성형 팁을 포함하고, 상기 컷팅 또는 성형 팁은 상기 컷팅 또는 성형 프로세스 동안 상기 기판 또는 슬리브 또는 슬리브 세그먼트 내에 상기 캐비티들의 패턴 또는 패턴들을 컷팅 또는 성형하기 위해, 상기 컷팅 툴 교차 경로 방향에 평행한 적어도 하나의 컷팅 또는 성형 엣지를 가지며, 상기 캐비티들의 패턴 또는 패턴들은 상기 광학 패널 부재 상에 또는 상기 광학 패널 부재 내에 성형될 광학 엘리먼트들의 목표된 패턴 및 형상에 대응함 ?;
    제조 툴링(tooling)에서 또는 제조 툴링을 위한 마스터(master)로서, 상기 목표된 패턴 또는 패턴들의 광학 엘리먼트 형상의 캐비티들 또는 증착물(deposition)들 또는 이들의 미러 카피들(mirror copies) 또는 인버스 카피들(inverse copies)을 포함하는 상기 기판 또는 슬리브 또는 슬리브 세그먼트를 사용하는 단계; 및
    상기 광학 패널 부재의 적어도 상기 일 면 상에 또는 상기 광학 패널 부재의 적어도 상기 일 면 내에 광학 엘리먼트들의 상기 대응하는 패턴을 성형하기 위해 상기 제조 툴링을 사용하는 단계
    를 포함하는 광학 엘리먼트들의 패턴을 성형하는 방법.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 컷팅 또는 성형 프로세스 동안 상기 기판 내에 또는 상기 슬리브 또는 슬리브 세그먼트 내에 컷팅되거나 성형되는 상기 캐비티들 중 적어도 일부는 크기가 가변되는,
    광학 엘리먼트들의 패턴을 성형하는 방법.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 컷팅 또는 성형 프로세스 동안 상기 기판 내에 또는 상기 슬리브 또는 슬리브 세그먼트 내에 컷팅되거나 성형되는 상기 캐비티들 중 적어도 일부는 높이 또는 깊이가 가변되는,
    광학 엘리먼트들의 패턴을 성형하는 방법.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 컷팅 또는 성형 프로세스 동안 상기 기판 내에 또는 상기 슬리브 또는 슬리브 세그먼트 내에 컷팅되거나 성형되는 상기 캐비티들 중 적어도 일부는 배향(orientation) 또는 배치(placement)가 가변되는,
    광학 엘리먼트들의 패턴을 성형하는 방법.
  5. 제 1 항에 있어서,
    상기 컷팅 또는 성형 프로세스 동안 상기 기판 내에 또는 상기 슬리브 또는 슬리브 세그먼트 내에 컷팅되거나 성형되는 상기 캐비티들 중 적어도 일부는 무작위로(randomly) 가변되는,
    광학 엘리먼트들의 패턴을 성형하는 방법.
  6. 제 1 항에 있어서,
    상기 컷팅 또는 성형 프로세스 동안 상기 기판 내에 또는 상기 슬리브 또는 슬리브 세그먼트 내에 컷팅되거나 성형되는 상기 캐비티들 중 적어도 일부는 형상 또는 타입이 가변되는,
    광학 엘리먼트들의 패턴을 성형하는 방법.
  7. 제 1 항에 있어서,
    상기 컷팅 또는 성형 프로세스 동안 상기 기판 내에 또는 상기 슬리브 또는 슬리브 세그먼트 내에 컷팅되거나 성형되는 상기 캐비티들 중 적어도 일부는 각도 또는 회전(rotation)이 가변되는,
    광학 엘리먼트들의 패턴을 성형하는 방법.
  8. 제 1 항에 있어서,
    상기 컷팅 또는 성형 프로세스 동안 상기 기판 내에 또는 상기 슬리브 또는 슬리브 세그먼트 내에 컷팅되거나 성형되는 상기 캐비티들 중 적어도 일부는 다른 광학 엘리먼트들과 중첩(overlap)하거나, 교차(intersect)하거나, 또는 맞물리는(interlock),
    광학 엘리먼트들의 패턴을 성형하는 방법.
  9. 삭제
  10. 삭제
  11. 제 1 항에 있어서,
    상기 캐비티들이 성형되는 상기 기판 또는 상기 슬리브 또는 슬리브 세그먼트는 몰딩(molding), 열성형(thermoforming), 핫 스탬핑(hot stamping), 엠보싱(embossing), 압출성형(extrusion), 또는 방사선 경화(radiation curing)에 의해 상기 광학 패널 부재의 적어도 상기 일 면 상에 또는 상기 광학 패널 부재의 적어도 상기 일 면 내에 광학 엘리먼트들의 상기 대응하는 패턴을 성형하기 위해 사용되는,
    광학 엘리먼트들의 패턴을 성형하는 방법.
  12. 제 1 항에 있어서,
    상기 캐비티들은 상기 슬리브 또는 슬리브 세그먼트 내에 직접적으로 컷팅 또는 성형되고, 그 다음에 상기 슬리브 또는 슬리브 세그먼트는 상기 원통형 기판으로부터 제거되며 상기 광학 패널 부재의 적어도 상기 일 면 상에 또는 상기 광학 패널 부재의 적어도 상기 일 면 내에 광학 엘리먼트들의 상기 대응하는 패턴을 생성하기 위해 사용되는,
    광학 엘리먼트들의 패턴을 성형하는 방법.
  13. 제 1 항에 있어서,
    상기 광학 패널 부재는 롤(roll) 또는 보다 대형의 광학 기판으로부터 제거되는,
    광학 엘리먼트들의 패턴을 성형하는 방법.
  14. 제 1 항에 있어서,
    상기 광학 패널 부재는 다중 층들을 갖는,
    광학 엘리먼트들의 패턴을 성형하는 방법.
  15. 제 1 항에 있어서,
    상기 광학 엘리먼트들은 UV 경화 프로세스에 의해 성형되는,
    광학 엘리먼트들의 패턴을 성형하는 방법.
  16. 제 1 항에 있어서,
    상기 광학 패널 부재는 상기 캐비티들의 가변하는 패턴 또는 패턴들을 포함하는 상기 원통형 또는 곡선형 기판 또는 상기 슬리브 또는 슬리브 세그먼트에 유동가능한(flowable) 광학 물질을 부가하고 상기 광학 물질을 경화함으로써 성형되는,
    광학 엘리먼트들의 패턴을 성형하는 방법.
  17. 제 1 항에 있어서,
    상기 캐비티들은 엠보싱 또는 압출성형 프로세스에 의해 광학 패널 부재들의 롤(roll) 상에 가변하는 광학 엘리먼트들의 대응하는 패턴을 성형하기 위한 상기 제조 툴링으로서 사용되는 상기 기판 내에 또는 상기 슬리브 또는 슬리브 세그먼트 내에 성형되는,
    광학 엘리먼트들의 패턴을 성형하는 방법.
  18. 제 1 항에 있어서,
    상기 캐비티들은 UV 경화 프로세스에 의해 광학 패널 부재들의 롤 상에 가변하는 광학 엘리먼트들의 대응하는 패턴을 성형하기 위한 상기 제조 툴링으로서 사용되는 상기 기판 내에 또는 상기 슬리브 또는 슬리브 세그먼트 내에 성형되는,
    광학 엘리먼트들의 패턴을 성형하는 방법.
  19. 적어도 하나의 광원으로부터 광을 수신하기 위한 하나의 입력 엣지, 및 두께보다 더 큰 단면 폭을 갖는 광학 패널 부재의 적어도 일 면 상에 또는 광학 패널 부재의 적어도 일 면 내에 광학 엘리먼트들의 패턴을 성형하는 방법으로서,
    상기 광학 엘리먼트들은 광이 미리 결정된 출력 분포로 상기 패널 부재로부터 방출되도록 하기 위해 적어도 상기 일 면 상에 또는 적어도 상기 일 면 내에 있는 돌출부들(projections) 또는 함몰부들(depressions)이고,
    상기 광학 엘리먼트들은 상기 패널 부재의 길이 및 폭 중 적어도 하나를 따라 가변하고 상기 패널 부재의 상기 길이 및 폭에 비해 상당히 작으며, 상기 방법은,
    컷팅 툴이 원통형 또는 곡선형 기판에 대해 비-평행한 교차 경로 방향으로 이동되는 동안, 상기 기판에 예각으로 연장하는 툴 축을 갖고 상기 기판과 맞물림 및 맞물림해제되어 이동되는 상기 컷팅 툴을 사용하여, 상기 기판 내에 캐비티들의 가변하는 패턴 또는 패턴들을 컷팅 또는 성형하는 단계 ? 상기 컷팅 툴은 상기 툴 축에 대해 비대칭적인 컷팅 또는 성형 팁을 포함하고, 상기 컷팅 또는 성형 팁은 상기 컷팅 또는 성형 프로세스 동안 상기 기판 내에 상기 캐비티들의 패턴 또는 패턴들을 컷팅 또는 성형하기 위해, 상기 컷팅 툴 교차 경로 방향에 평행한 적어도 하나의 컷팅 또는 성형 엣지를 가지며, 상기 캐비티들의 가변하는 패턴 또는 패턴들은 상기 광학 패널 부재 상에 또는 상기 광학 패널 부재 내에 형성될 광학 엘리먼트들의 목표된 패턴 및 형상에 대응함 ?;
    제조 툴링에서 또는 제조 툴링을 위한 마스터로서, 상기 목표된 패턴 또는 패턴들의 광학 엘리먼트 형상 캐비티들 또는 증착물들 또는 이들의 미러 카피들 또는 인버스 카피들을 포함하는 상기 기판을 사용하는 단계; 및
    상기 광학 패널 부재의 적어도 상기 일 면 상에 또는 상기 광학 패널 부재의 적어도 상기 일 면 내에 광학 엘리먼트들의 상기 대응하는 패턴을 성형하기 위해 상기 제조 툴링을 사용하는 단계
    를 포함하는 광학 엘리먼트들의 패턴을 성형하는 방법.
  20. 제 19 항에 있어서,
    상기 컷팅 또는 성형 프로세스 동안 상기 기판 내에 컷팅 또는 성형되는 상기 캐비티들 중 적어도 일부는 크기, 높이 또는 깊이, 배향 또는 배치, 무작위(randomly), 형상 또는 타입, 및 각도 또는 회전 중 하나 이상에 있어서 가변하는,
    광학 엘리먼트들의 패턴을 성형하는 방법.
  21. 제 19 항에 있어서,
    상기 캐비티들이 성형되는 상기 기판은 몰딩, 열성형, 핫 스탬핑, 엠보싱, 압출성형, 또는 방사선 경화에 의해 상기 광학 패널 부재의 적어도 상기 일 면 상에 또는 상기 광학 패널 부재의 적어도 상기 일 면 내에 광학 엘리먼트들의 상기 대응하는 패턴을 성형하기 위해 사용되는,
    광학 엘리먼트들의 패턴을 성형하는 방법.
  22. 제 19 항에 있어서,
    상기 광학 패널 부재는 롤 또는 보다 대형 광학 기판으로부터 제거되는,
    광학 엘리먼트들의 패턴을 성형하는 방법.
  23. 제 19 항에 있어서,
    상기 광학 엘리먼트들은 UV 경화 프로세스에 의해 성형되는,
    광학 엘리먼트들의 패턴을 성형하는 방법.
  24. 제 19 항에 있어서,
    상기 광학 패널 부재는 상기 캐비티들의 가변하는 패턴 또는 패턴들을 포함하는 상기 원통형 또는 곡선형 기판에 유동가능한 광학 물질을 부가하고 상기 광학 물질을 경화함으로써 성형되는,
    광학 엘리먼트들의 패턴을 성형하는 방법.
  25. 제 19 항에 있어서,
    상기 캐비티들은 엠보싱 또는 압출성형 프로세스에 의해 광학 패널 부재들의 롤 상에 가변하는 광학 엘리먼트들의 상기 대응하는 패턴을 성형하기 위한 상기 제조 툴링으로서 사용되는 상기 원통형 기판 내에 성형되는,
    광학 엘리먼트들의 패턴을 성형하는 방법.
  26. 제 19 항에 있어서,
    상기 캐비티들은 UV 경화 프로세스에 의해 광학 패널 부재들의 롤 상에 가변하는 광학 엘리먼트들의 상기 대응하는 패턴을 성형하기 위한 상기 제조 툴링으로서 사용되는 상기 원통형 기판 내에 성형되는,
    광학 엘리먼트들의 패턴을 성형하는 방법.
  27. 적어도 하나의 광원으로부터 광을 수신하기 위한 하나의 입력 엣지, 및 두께보다 더 큰 단면 폭을 갖는 광학 패널 부재의 적어도 일 면 상에 또는 광학 패널 부재의 적어도 일 면 내에 광학 엘리먼트들의 패턴을 성형하는 방법으로서,
    상기 광학 엘리먼트들은 광이 미리 결정된 출력 분포로 상기 패널 부재로부터 방출되도록 하기 위해 적어도 상기 일 면 상에 또는 적어도 상기 일 면 내에 있는 돌출부들 또는 함몰부들이고, 상기 광학 엘리먼트들은 상기 패널 부재의 길이 및 폭 중 적어도 하나를 따라 가변하고 상기 패널 부재의 상기 길이 및 폭에 비해 상당히 작으며, 상기 방법은,
    컷팅 툴이 원통형 기판의 슬리브 또는 슬리브 세그먼트에 대한 비-평행한 교차 경로 방향으로 이동되는 동안, 상기 슬리브 또는 슬리브 세그먼트에 예각으로 연장하는 툴 축을 갖고 상기 슬리브 또는 슬리브 세그먼트와 맞물림 및 맞물림해제되어 이동되는 상기 컷팅 툴을 사용하여, 상기 원통형 기판의 상기 슬리브 또는 슬리브 세그먼트 내에 가변하는 패턴 또는 패턴들의 캐비티들을 컷팅 또는 성형하는 단계 ? 상기 컷팅 툴은 상기 툴 축에 대해 비대칭적인 컷팅 또는 성형 팁을 포함하고, 상기 컷팅 또는 성형 팁은 상기 컷팅 또는 성형 프로세스 동안 상기 슬리브 또는 슬리브 세그먼트 내에 상기 캐비티들의 패턴 또는 패턴들을 컷팅 또는 성형하기 위해, 상기 컷팅 툴 교차 경로 방향에 평행한 적어도 하나의 컷팅 또는 성형 엣지를 가지며, 상기 캐비티들의 가변하는 패턴 또는 패턴들은 상기 광학 패널 부재 상에 또는 상기 광학 패널 부재 내에 성형될 광학 엘리먼트들의 목표된 패턴 및 형상에 대응함 ?;
    제조 툴링에서 또는 제조 툴링을 위한 마스터로서 상기 목표된 패턴 또는 패턴들의 광학 엘리먼트 형상 캐비티들 또는 증착물들 또는 이들의 미러 카피들 또는 인버스 카피들을 포함하는 상기 슬리브 또는 슬리브 세그먼트를 사용하는 단계; 및
    상기 광학 패널 부재의 적어도 상기 일 면 상에 또는 상기 광학 패널 부재의 적어도 상기 일 면 내에 광학 엘리먼트들의 상기 대응하는 패턴을 성형하기 위한 상기 제조 툴링을 사용하는 단계
    를 포함하는 광학 엘리먼트들의 패턴을 성형하는 방법.
  28. 제 27 항에 있어서,
    상기 캐비티들이 성형되는 상기 슬리브 또는 슬리브 세그먼트는 몰딩, 열성형, 핫 스탬핑, 엠보싱, 압출성형, 또는 방사선 경화에 의해 상기 광학 패널 부재의 적어도 상기 일 면 상에 또는 상기 광학 패널 부재의 적어도 상기 일 면 내에 광학 엘리먼트들의 상기 대응하는 패턴을 성형하기 위해 사용되는,
    광학 엘리먼트들의 패턴을 성형하는 방법.
  29. 제 27 항에 있어서,
    상기 광학 패널 부재는 롤 또는 보다 대형 광학 기판으로부터 제거되는,
    광학 엘리먼트들의 패턴을 성형하는 방법.
  30. 제 27 항에 있어서,
    상기 광학 엘리먼트들은 UV 경화 프로세스에 의해 성형되는,
    광학 엘리먼트들의 패턴을 성형하는 방법.
  31. 제 27 항에 있어서,
    상기 광학 패널 부재는 상기 캐비티들의 가변하는 패턴 또는 패턴들을 포함하는 상기 원통형 또는 곡선형 기판에 유동가능한 광학 물질을 부가하고 상기 광학 물질을 경화함으로써 성형되는,
    광학 엘리먼트들의 패턴을 성형하는 방법.
  32. 제 27 항에 있어서,
    상기 캐비티들이 성형되는 상기 슬리브 또는 슬리브 기판은 엠보싱 또는 압출성형 프로세스에 의해 광학 패널 부재들의 롤 상에 가변하는 광학 엘리먼트들의 상기 대응하는 패턴을 성형하기 위한 상기 제조 툴링으로서 사용되는,
    광학 엘리먼트들의 패턴을 성형하는 방법.
  33. 제 27 항에 있어서,
    상기 캐비티들이 성형되는 상기 슬리브 또는 슬리브 기판은 UV 경화 프로세스에 의해 광학 패널 부재들의 롤 상에 가변하는 광학 엘리먼트들의 상기 대응하는 패턴을 성형하기 위한 상기 제조 툴링으로서 사용되는,
    광학 엘리먼트들의 패턴을 성형하는 방법.
KR1020077005593A 2004-08-10 2005-06-28 광학 막, 컴포넌트 또는 도파관 제조시 이용되는 기판에 캐비티를 컷팅 또는 성형하는 방법 KR101185616B1 (ko)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US10/915,632 US20050024849A1 (en) 1999-02-23 2004-08-10 Methods of cutting or forming cavities in a substrate for use in making optical films, components or wave guides
US10/915,632 2004-08-10
PCT/US2005/022886 WO2006023077A2 (en) 2004-08-10 2005-06-28 Methods of cutting or forming cavities in a substrate for use in making optical films, components or wave guides

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20070058492A KR20070058492A (ko) 2007-06-08
KR101185616B1 true KR101185616B1 (ko) 2012-09-24

Family

ID=35968017

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020077005593A KR101185616B1 (ko) 2004-08-10 2005-06-28 광학 막, 컴포넌트 또는 도파관 제조시 이용되는 기판에 캐비티를 컷팅 또는 성형하는 방법

Country Status (7)

Country Link
US (2) US20050024849A1 (ko)
EP (1) EP1779162A4 (ko)
JP (1) JP4922935B2 (ko)
KR (1) KR101185616B1 (ko)
CN (1) CN101039796B (ko)
TW (1) TWI378278B (ko)
WO (1) WO2006023077A2 (ko)

Families Citing this family (158)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101009472B1 (ko) * 2001-06-12 2011-01-19 웰스테트 테라퓨틱스 코포레이션 대사 질환의 치료용 화합물
TWI289708B (en) * 2002-12-25 2007-11-11 Qualcomm Mems Technologies Inc Optical interference type color display
US7417782B2 (en) * 2005-02-23 2008-08-26 Pixtronix, Incorporated Methods and apparatus for spatial light modulation
US20050130759A1 (en) * 2003-12-12 2005-06-16 Hayden Mark X. Sports shaft with variable contour
US7342705B2 (en) 2004-02-03 2008-03-11 Idc, Llc Spatial light modulator with integrated optical compensation structure
US7706050B2 (en) * 2004-03-05 2010-04-27 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Integrated modulator illumination
US7750886B2 (en) * 2004-09-27 2010-07-06 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Methods and devices for lighting displays
US7813026B2 (en) * 2004-09-27 2010-10-12 Qualcomm Mems Technologies, Inc. System and method of reducing color shift in a display
US20060066586A1 (en) * 2004-09-27 2006-03-30 Gally Brian J Touchscreens for displays
US7416309B2 (en) * 2004-12-30 2008-08-26 3M Innovative Properties Company Optical film having a surface with rounded structures
US9261694B2 (en) * 2005-02-23 2016-02-16 Pixtronix, Inc. Display apparatus and methods for manufacture thereof
US7304786B2 (en) * 2005-02-23 2007-12-04 Pixtronix, Inc. Methods and apparatus for bi-stable actuation of displays
US7405852B2 (en) * 2005-02-23 2008-07-29 Pixtronix, Inc. Display apparatus and methods for manufacture thereof
US9158106B2 (en) 2005-02-23 2015-10-13 Pixtronix, Inc. Display methods and apparatus
US7999994B2 (en) 2005-02-23 2011-08-16 Pixtronix, Inc. Display apparatus and methods for manufacture thereof
US7675665B2 (en) 2005-02-23 2010-03-09 Pixtronix, Incorporated Methods and apparatus for actuating displays
US7755582B2 (en) * 2005-02-23 2010-07-13 Pixtronix, Incorporated Display methods and apparatus
US8310442B2 (en) 2005-02-23 2012-11-13 Pixtronix, Inc. Circuits for controlling display apparatus
US7616368B2 (en) * 2005-02-23 2009-11-10 Pixtronix, Inc. Light concentrating reflective display methods and apparatus
US8482496B2 (en) * 2006-01-06 2013-07-09 Pixtronix, Inc. Circuits for controlling MEMS display apparatus on a transparent substrate
US8159428B2 (en) * 2005-02-23 2012-04-17 Pixtronix, Inc. Display methods and apparatus
US8519945B2 (en) 2006-01-06 2013-08-27 Pixtronix, Inc. Circuits for controlling display apparatus
US9082353B2 (en) 2010-01-05 2015-07-14 Pixtronix, Inc. Circuits for controlling display apparatus
US7742016B2 (en) * 2005-02-23 2010-06-22 Pixtronix, Incorporated Display methods and apparatus
US20060209012A1 (en) * 2005-02-23 2006-09-21 Pixtronix, Incorporated Devices having MEMS displays
US9229222B2 (en) 2005-02-23 2016-01-05 Pixtronix, Inc. Alignment methods in fluid-filled MEMS displays
US20070205969A1 (en) 2005-02-23 2007-09-06 Pixtronix, Incorporated Direct-view MEMS display devices and methods for generating images thereon
US7746529B2 (en) 2005-02-23 2010-06-29 Pixtronix, Inc. MEMS display apparatus
KR100658162B1 (ko) * 2005-04-15 2006-12-15 한국생산기술연구원 하이브리드 마이크로렌즈 제조 방법 및 이의 방법에 의해 제조된 도광판
CN1851536A (zh) * 2005-04-22 2006-10-25 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司 背光模组及其光学膜成型方法
US20060250707A1 (en) * 2005-05-05 2006-11-09 3M Innovative Properties Company Optical film having a surface with rounded pyramidal structures
US9366875B2 (en) * 2005-06-09 2016-06-14 Ubright Optronics Corporation Light directing film
TWI351550B (en) * 2005-06-09 2011-11-01 Ubright Optronics Corp Optical substrate
US20070024994A1 (en) * 2005-07-29 2007-02-01 3M Innovative Properties Company Structured optical film with interspersed pyramidal structures
DE102005040990A1 (de) * 2005-08-29 2007-03-01 Miele & Cie. Kg Geschirrspülmaschine
DE102005047794A1 (de) * 2005-10-05 2007-04-12 Hella Kgaa Hueck & Co. Empfängervorrichtung zum Empfangen eines flächigen Lichtbündels
DE102005047915A1 (de) * 2005-10-06 2007-04-12 BSH Bosch und Siemens Hausgeräte GmbH Haushaltsgerät, insbesondere Einbau-Haushaltsgerät mit einer steuerbaren Betriebsanzeige
US10261321B2 (en) 2005-11-08 2019-04-16 Lumus Ltd. Polarizing optical system
TWI339743B (en) * 2005-12-06 2011-04-01 Ubright Optronics Corp A luminance enhancement film and manufacturing method thereof and method for enhancing brightness of an image
US7866871B2 (en) 2006-01-13 2011-01-11 Avery Dennison Corporation Light enhancing structures with a plurality of arrays of elongate features
US7545569B2 (en) 2006-01-13 2009-06-09 Avery Dennison Corporation Optical apparatus with flipped compound prism structures
US7674028B2 (en) * 2006-01-13 2010-03-09 Avery Dennison Corporation Light enhancing structures with multiple arrays of elongate features of varying characteristics
US7366393B2 (en) * 2006-01-13 2008-04-29 Optical Research Associates Light enhancing structures with three or more arrays of elongate features
US20070086207A1 (en) * 2006-01-13 2007-04-19 Optical Research Associates Display systems including light enhancing structures with arrays of elongate features
US8526096B2 (en) 2006-02-23 2013-09-03 Pixtronix, Inc. Mechanical light modulators with stressed beams
FR2900220B1 (fr) * 2006-04-24 2008-07-18 Valeo Vision Sa Dispositif d'eclairage ou de signalisation avec effet de profondeur.
US7677146B2 (en) * 2006-05-10 2010-03-16 3M Innovative Properties Company Cutting tool using one or more machined tool tips in a continuous or interrupted cut fast tool servo
US7876489B2 (en) * 2006-06-05 2011-01-25 Pixtronix, Inc. Display apparatus with optical cavities
US7766498B2 (en) 2006-06-21 2010-08-03 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Linear solid state illuminator
KR101471213B1 (ko) * 2006-06-30 2014-12-12 유브라이트 옵트로닉스 코포레이션 광학결함 차단구조를 갖는 휘도향상기판
TWI317025B (en) * 2006-08-28 2009-11-11 Eternal Chemical Co Ltd Optical film
US7845841B2 (en) 2006-08-28 2010-12-07 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Angle sweeping holographic illuminator
US7498534B2 (en) * 2006-08-30 2009-03-03 3M Innovative Properties Company Keypad light guide
US7643218B2 (en) * 2006-08-31 2010-01-05 Skc Haas Display Films Co., Ltd. Light redirecting film having varying optical elements
CN100442084C (zh) * 2006-09-22 2008-12-10 长兴光学材料（苏州）有限公司 光学膜及平面显示器
US8107155B2 (en) * 2006-10-06 2012-01-31 Qualcomm Mems Technologies, Inc. System and method for reducing visual artifacts in displays
US7855827B2 (en) * 2006-10-06 2010-12-21 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Internal optical isolation structure for integrated front or back lighting
US8872085B2 (en) 2006-10-06 2014-10-28 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Display device having front illuminator with turning features
WO2008045311A2 (en) * 2006-10-06 2008-04-17 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Illumination device with built-in light coupler
EP2366942A1 (en) * 2006-10-06 2011-09-21 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Optical loss layer integrated in an illumination apparatus of a display
JP5404404B2 (ja) * 2006-10-06 2014-01-29 クォルコム・メムズ・テクノロジーズ・インコーポレーテッド 薄い光バー及びその製造方法
WO2008045463A2 (en) * 2006-10-10 2008-04-17 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Display device with diffractive optics
US20080094853A1 (en) 2006-10-20 2008-04-24 Pixtronix, Inc. Light guides and backlight systems incorporating light redirectors at varying densities
US7864395B2 (en) 2006-10-27 2011-01-04 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Light guide including optical scattering elements and a method of manufacture
US7628100B2 (en) * 2007-01-05 2009-12-08 3M Innovative Properties Company Cutting tool using one or more machined tool tips with diffractive features in a continuous or interrupted cut fast tool servo
US7852546B2 (en) 2007-10-19 2010-12-14 Pixtronix, Inc. Spacers for maintaining display apparatus alignment
US9176318B2 (en) 2007-05-18 2015-11-03 Pixtronix, Inc. Methods for manufacturing fluid-filled MEMS displays
US7777954B2 (en) * 2007-01-30 2010-08-17 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Systems and methods of providing a light guiding layer
US20080188277A1 (en) * 2007-02-01 2008-08-07 Ritter Janice E Electronic Game Device And Method Of Using The Same
US20100184499A1 (en) * 2007-02-01 2010-07-22 Ritter Janice E Electronic Game Device and Method of Using the Same
US7733439B2 (en) * 2007-04-30 2010-06-08 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Dual film light guide for illuminating displays
US7669508B2 (en) * 2007-10-29 2010-03-02 3M Innovative Properties Company Cutting tool using one or more machined tool tips with diffractive features
US8068710B2 (en) * 2007-12-07 2011-11-29 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Decoupled holographic film and diffuser
US7949213B2 (en) * 2007-12-07 2011-05-24 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Light illumination of displays with front light guide and coupling elements
US20090147361A1 (en) * 2007-12-07 2009-06-11 3M Innovative Properties Company Microreplicated films having diffractive features on macro-scale features
US20090168459A1 (en) * 2007-12-27 2009-07-02 Qualcomm Incorporated Light guide including conjugate film
WO2009102731A2 (en) 2008-02-12 2009-08-20 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Devices and methods for enhancing brightness of displays using angle conversion layers
WO2009102733A2 (en) * 2008-02-12 2009-08-20 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Integrated front light diffuser for reflective displays
US8654061B2 (en) * 2008-02-12 2014-02-18 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Integrated front light solution
KR100817768B1 (ko) * 2008-02-29 2008-03-31 주식회사 엘지에스 광학시트 및 이를 구비한 액정표시장치
JP5827120B2 (ja) 2008-04-02 2015-12-02 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー 導光フィルム及び導光フィルムを製作するための方法
CN102016656A (zh) * 2008-04-02 2011-04-13 3M创新有限公司 用于制备具有叠加特征的光学膜的方法和系统
US8248560B2 (en) 2008-04-18 2012-08-21 Pixtronix, Inc. Light guides and backlight systems incorporating prismatic structures and light redirectors
WO2009129264A1 (en) 2008-04-15 2009-10-22 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Light with bi-directional propagation
TW200946999A (en) * 2008-05-15 2009-11-16 Compal Electronics Inc Light guide plate and backlight module
US8118468B2 (en) * 2008-05-16 2012-02-21 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Illumination apparatus and methods
JP5451754B2 (ja) * 2008-05-28 2014-03-26 クォルコム・メムズ・テクノロジーズ・インコーポレーテッド ターニング微細構造を有する光導波路パネル及びその製造方法、並びにディスプレイ装置
CN102047035A (zh) * 2008-06-04 2011-05-04 高通Mems科技公司 用于棱镜前光的减少边缘阴影的方法
US20090323144A1 (en) * 2008-06-30 2009-12-31 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Illumination device with holographic light guide
US8169679B2 (en) 2008-10-27 2012-05-01 Pixtronix, Inc. MEMS anchors
US20100102131A1 (en) * 2008-10-28 2010-04-29 First Data Corporation Systems and Methods for Disabling a Contactless Transaction Device
US20100102123A1 (en) * 2008-10-28 2010-04-29 First Data Corporation Systems, Methods, and Apparatus for Facilitating Access to Medical Information
US8550361B2 (en) * 2008-10-28 2013-10-08 First Data Corporation Systems, methods, and apparatus to facilitate locating a user of a transaction device
US20110205259A1 (en) * 2008-10-28 2011-08-25 Pixtronix, Inc. System and method for selecting display modes
US10803515B2 (en) * 2008-10-31 2020-10-13 First Data Corporation Systems, methods, and apparatus for using a contactless transaction device reader with a computing system
US20100157406A1 (en) * 2008-12-19 2010-06-24 Qualcomm Mems Technologies, Inc. System and method for matching light source emission to display element reflectivity
US8172417B2 (en) * 2009-03-06 2012-05-08 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Shaped frontlight reflector for use with display
US20100195310A1 (en) * 2009-02-04 2010-08-05 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Shaped frontlight reflector for use with display
TW201037362A (en) * 2009-04-07 2010-10-16 Coretronic Corp Brightness enhancement film and backlight module
WO2010138761A1 (en) * 2009-05-29 2010-12-02 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Illumination devices and methods of fabrication thereof
US20100302802A1 (en) * 2009-05-29 2010-12-02 QUALCOMM MEMS Tecnologies, Inc. Illumination devices
US20110032214A1 (en) * 2009-06-01 2011-02-10 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Front light based optical touch screen
CN102483485A (zh) * 2009-08-03 2012-05-30 高通Mems科技公司 用于光导照明的微结构
TWM375632U (en) * 2009-09-04 2010-03-11 Depo Auto Parts Ind Co Ltd Vehicle optical device
WO2011050982A1 (de) 2009-10-29 2011-05-05 Arno Martin Sauer Platte zur herstellung eines led beleuchteten schildes
US20110169428A1 (en) * 2010-01-08 2011-07-14 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Edge bar designs to mitigate edge shadow artifact
JP2013519122A (ja) 2010-02-02 2013-05-23 ピクストロニックス・インコーポレーテッド ディスプレイ装置を制御するための回路
WO2011097252A2 (en) 2010-02-02 2011-08-11 Pixtronix, Inc. Methods for manufacturing cold seal fluid-filled display apparatus
US20110205756A1 (en) * 2010-02-19 2011-08-25 Pixtronix, Inc. Light guides and backlight systems incorporating prismatic structures and light redirectors
TWI520839B (zh) * 2010-07-20 2016-02-11 國立成功大學 可撓性光學板的製造方法、其方法製成的可撓性光學板，及背光模組
US8902484B2 (en) 2010-12-15 2014-12-02 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Holographic brightness enhancement film
WO2013131167A1 (en) 2012-03-05 2013-09-12 Fluxwerx Illumination Inc. Light emitting panel assemblies and light guides therefor
US20130328838A1 (en) * 2012-06-12 2013-12-12 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Diffusers for different color display elements
CN103231223A (zh) * 2012-06-27 2013-08-07 田耕 制作光学元件图形基板的方法实现此方法碰撞过程的装置及应用此方法制作的导光体组件
EP2904311A1 (en) * 2012-10-08 2015-08-12 Rambus Delaware LLC Article of manufacture with micro-features of differing surface roughness
CN102962994A (zh) * 2012-11-23 2013-03-13 田耕 在导光体表面实现光学图形的加工方法及加工装置
US9134552B2 (en) 2013-03-13 2015-09-15 Pixtronix, Inc. Display apparatus with narrow gap electrostatic actuators
EP2972532B1 (en) * 2013-03-15 2021-05-05 Ideal Industries Lighting Llc Optical waveguide body
US9952372B2 (en) 2013-03-15 2018-04-24 Cree, Inc. Luminaire utilizing waveguide
US9568662B2 (en) 2013-03-15 2017-02-14 Cree, Inc. Optical waveguide body
US9703032B2 (en) * 2013-06-19 2017-07-11 Young Lighting Technology Inc. Planar light source
GB201315241D0 (en) 2013-08-27 2013-10-09 Nano Lit Technologies Ltd Improvements in or relating to lighting
KR102264379B1 (ko) * 2014-02-05 2021-06-15 엘지이노텍 주식회사 광학 부재 및 이를 이용하는 조명 장치
IL232197B (en) 2014-04-23 2018-04-30 Lumus Ltd Compact head-up display system
US9753206B2 (en) * 2014-08-18 2017-09-05 New Optics, Ltd Light guide plate, and backlight unit and display device including the same
US9684116B2 (en) * 2014-08-18 2017-06-20 New Optics, Ltd Light guide plate, and backlight unit and display device including the same
US20160103266A1 (en) * 2014-10-14 2016-04-14 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Asymmetrical light-turning features
IL235642B (en) 2014-11-11 2021-08-31 Lumus Ltd A compact head-up display system is protected by an element with a super-thin structure
WO2017031035A1 (en) * 2015-08-14 2017-02-23 Rambus Delaware Llc Light extracting element having serpentine shape, light redirecting element having serpentine shape, and lighting assembly including the same
KR102519824B1 (ko) * 2015-12-30 2023-04-10 엘지디스플레이 주식회사 도광판 제조용 코어 가공장치, 도광판 제조용 코어 가공방법, 및 곡면형 디스플레이장치의 백라이트 유닛
TWI608457B (zh) * 2016-05-04 2017-12-11 群創光電股份有限公司 顯示面板
WO2017199232A1 (en) 2016-05-18 2017-11-23 Lumus Ltd. Head-mounted imaging device
KR102482528B1 (ko) 2016-10-09 2022-12-28 루머스 리미티드 직사각형 도파관을 사용하는 개구 배율기
AU2017356702B2 (en) 2016-11-08 2021-04-15 Lumus Ltd Light-guide device with optical cutoff edge and corresponding production methods
US20180164493A1 (en) * 2016-12-09 2018-06-14 Rambus Delaware Llc Cluster-shaped light-extracting element
CN110431467A (zh) 2017-01-28 2019-11-08 鲁姆斯有限公司 增强现实成像系统
IL292456B (en) 2017-02-22 2022-08-01 Lumus Ltd Optical assembly of a light guide
CN117572644A (zh) 2017-03-22 2024-02-20 鲁姆斯有限公司 用于生产光导光学元件的方法和光学系统
IL251645B (en) 2017-04-06 2018-08-30 Lumus Ltd Waveguide and method of production
EP4215980A1 (en) 2017-07-19 2023-07-26 Lumus Ltd. Lcos illumination via loe
BR112020010057A2 (pt) 2017-11-21 2020-11-03 Lumus Ltd. dispositivo óptico
CN108445575A (zh) * 2018-02-24 2018-08-24 京东方科技集团股份有限公司 导光板及其制作方法、背光模组、显示模组
IL259518B2 (en) 2018-05-22 2023-04-01 Lumus Ltd Optical system and method for improving light field uniformity
US11526003B2 (en) 2018-05-23 2022-12-13 Lumus Ltd. Optical system including light-guide optical element with partially-reflective internal surfaces
US11415812B2 (en) 2018-06-26 2022-08-16 Lumus Ltd. Compact collimating optical device and system
WO2020016772A1 (en) 2018-07-16 2020-01-23 Lumus Ltd. Light-guide optical element employing polarized internal reflectors
TWM642752U (zh) 2018-11-08 2023-06-21 以色列商魯姆斯有限公司 用於將圖像顯示到觀察者的眼睛中的顯示器
US11333311B1 (en) 2018-11-21 2022-05-17 Abl Ip Holding Llc Lighting system with curving or twisting modular housing
US11181680B1 (en) 2018-11-21 2021-11-23 Abl Ip Holding Llc Lighting system with curving or twisting modular housing
JP7398131B2 (ja) 2019-03-12 2023-12-14 ルムス エルティーディー． 画像プロジェクタ
US11384928B2 (en) 2019-05-17 2022-07-12 Abl Ip Holding Llc Interconnection system for lighting fixtures
EP3990967A4 (en) 2019-06-27 2022-08-03 Lumus Ltd. APPARATUS AND METHODS FOR TRACKING THE EYE BASED ON IMAGING THE EYE THROUGH A LIGHT GUIDE OPTICAL ELEMENT
IL270991B (en) 2019-11-27 2020-07-30 Lumus Ltd A light guide with an optical element to perform polarization mixing
TW202124997A (zh) 2019-12-05 2021-07-01 以色列商魯姆斯有限公司 採用互補塗覆的部分反射器的光導光學元件，以及具有減少的光散射的光導光學元件
IL290719B2 (en) 2019-12-08 2023-09-01 Lumus Ltd Optical systems with a compact image projector
JP7421839B2 (ja) 2020-11-09 2024-01-25 ルーマス リミテッド Ａｒシステムにおける色補正された後方反射
EP4162314A4 (en) 2021-02-25 2023-11-22 Lumus Ltd. MULTIPLER WITH OPTICAL APERTURE AND RECTANGULAR WAVEGUIDE
CN114609719A (zh) * 2022-01-17 2022-06-10 达运精密工业股份有限公司 显示模块、背光模块及其高增益导光板

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002538577A (ja) * 1999-02-23 2002-11-12 ソリッド ステート オプト リミテッド 発光パネルアセンブリ

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DK162413C (da) * 1982-06-10 1992-03-23 Dainippon Printing Co Ltd Bagfra belyst projektionsskaerm
JPH04146019A (ja) * 1990-10-05 1992-05-20 Nippon Fureneru Kk 金型の溝形成方法
US5330799A (en) * 1992-09-15 1994-07-19 The Phscologram Venture, Inc. Press polymerization of lenticular images
US5613751A (en) * 1995-06-27 1997-03-25 Lumitex, Inc. Light emitting panel assemblies
US20040135273A1 (en) * 1995-06-27 2004-07-15 Parker Jeffery R. Methods of making a pattern of optical element shapes on a roll for use in making optical elements on or in substrates
US6752505B2 (en) * 1999-02-23 2004-06-22 Solid State Opto Limited Light redirecting films and film systems
US6356391B1 (en) * 1999-10-08 2002-03-12 3M Innovative Properties Company Optical film with variable angle prisms
US7046905B1 (en) * 1999-10-08 2006-05-16 3M Innovative Properties Company Blacklight with structured surfaces
JP2004507866A (ja) * 2000-07-11 2004-03-11 スリーエム　イノベイティブ　プロパティズ　カンパニー 構造化された表面を有するバックライト
JP2003231014A (ja) * 2002-02-12 2003-08-19 Nagase Integrex Co Ltd 工作機械
US6952627B2 (en) * 2002-12-18 2005-10-04 General Electric Company Method and apparatus for fabricating light management substrates
TW566564U (en) * 2003-01-29 2003-12-11 Hon Hai Prec Ind Co Ltd Back light module and liquid crystal display using the same

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002538577A (ja) * 1999-02-23 2002-11-12 ソリッド ステート オプト リミテッド 発光パネルアセンブリ

Also Published As

Publication number Publication date
US8029708B2 (en) 2011-10-04
EP1779162A4 (en) 2008-09-10
KR20070058492A (ko) 2007-06-08
WO2006023077A3 (en) 2006-11-23
WO2006023077A2 (en) 2006-03-02
US20050024849A1 (en) 2005-02-03
CN101039796A (zh) 2007-09-19
US20090250829A1 (en) 2009-10-08
EP1779162A2 (en) 2007-05-02
JP4922935B2 (ja) 2012-04-25
JP2008510180A (ja) 2008-04-03
TW200606479A (en) 2006-02-16
TWI378278B (en) 2012-12-01
CN101039796B (zh) 2010-10-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101185616B1 (ko) 광학 막, 컴포넌트 또는 도파관 제조시 이용되는 기판에 캐비티를 컷팅 또는 성형하는 방법
KR101060467B1 (ko) 트랜스리플렉터, 트랜스리플렉터 시스템 및 디스플레이, 및 트랜스리플렉터 제조 방법
US7497599B2 (en) Transreflectors, transreflector systems and displays and methods of making transreflectors
KR100965681B1 (ko) 광 재지향 필름 및 광 재지향 필름 시스템
EP2523035B1 (en) Light redirecting films and film systems

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
N231 Notification of change of applicant
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20150904

Year of fee payment: 4

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20160905

Year of fee payment: 5

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20170908

Year of fee payment: 6

LAPS Lapse due to unpaid annual fee