TWI374336B - Photosensitive paste composition for fabricating the plasma display panel electrode, plasma display panel electrode and plasma display panel thereby - Google Patents

Photosensitive paste composition for fabricating the plasma display panel electrode, plasma display panel electrode and plasma display panel thereby Download PDF

Info

Publication number
TWI374336B
TWI374336B TW097119985A TW97119985A TWI374336B TW I374336 B TWI374336 B TW I374336B TW 097119985 A TW097119985 A TW 097119985A TW 97119985 A TW97119985 A TW 97119985A TW I374336 B TWI374336 B TW I374336B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
composition
electrode
display panel
plasma display
weight
Prior art date
Application number
TW097119985A
Other languages
English (en)
Other versions
TW200912528A (en
Inventor
Byung Chul Lee
Hee In Nam
Yong Hyun Kim
Hyun Don Kim
Original Assignee
Cheil Ind Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Cheil Ind Inc filed Critical Cheil Ind Inc
Publication of TW200912528A publication Critical patent/TW200912528A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI374336B publication Critical patent/TWI374336B/zh

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0005Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
    • G03F7/0007Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/0042Photosensitive materials with inorganic or organometallic light-sensitive compounds not otherwise provided for, e.g. inorganic resists
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/0045Photosensitive materials with organic non-macromolecular light-sensitive compounds not otherwise provided for, e.g. dissolution inhibitors
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/0047Photosensitive materials characterised by additives for obtaining a metallic or ceramic pattern, e.g. by firing
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/032Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
    • G03F7/033Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J11/00Gas-filled discharge tubes with alternating current induction of the discharge, e.g. alternating current plasma display panels [AC-PDP]; Gas-filled discharge tubes without any main electrode inside the vessel; Gas-filled discharge tubes with at least one main electrode outside the vessel
    • H01J11/20Constructional details
    • H01J11/22Electrodes, e.g. special shape, material or configuration

Description

1374336 、發明說明: 【發明所屬之技術領域】
本發明有關一種光敏性漿料組合物 =電漿顯示面板電極及包含該電極之電以::物J :漿料t ϋ有^一種用於電漿顯示面板(pDp)電極的光2 «示=二r顯示面摩ρ)電極及包含該電 •° 【先前技術】 需求大型:、1^、度、⑥精度且高可信度顯示裝置之 術係:二種圖案處理技術的發展。此等各種技 '、用於製攻電漿顯示面板(以下稱為“pDp,’)。 15 路,來,,為製造適於大型顯示裝置之高精度電極電 ’發展出採用光敏性(ph〇t〇sensitive)導電性漿料的微影術 (photolithography)。微影術是一種製造圖案化電極之方法,
•20 九 八包含將光敏性導電性漿料印刷於玻璃基板之整個表面 亡,將基板乾燥,使基板暴露於裝置有光罩的紫外線曝光 糸統丄以顯影溶液使基板被光罩遮蓋的未固化部分顯影, 於預定溫度下烘烤殘留之固化薄膜。 韓國公開專利編號10-2005-122498建議使用導電性粉 末、無機黏結劑及有機媒劑,以製備光敏性漿料組合物。 如前文所述,在習知情況下,為嘗試改善電極之重要 參數’即電阻、終端耐打磨性(sanding resistance of terminals) 及耐受電壓(withand-voltage)特性,將導電性粉末及無機黏 結劑添加於光敏性渡料。 5 25 1374336 然而,依導電性粉末及無機 用方法經常有異常地形成電極圖案之合此而異,習 電極圖案異常形成之原因如下。 ,生電極圖案具有倒梯形之形狀2象在 钱(undercut) _|。 不所明的「侧 結果,在最終過程中,即烘姨 於邊緣捲曲之現象,稱為「捲^生電極圖案 •° 15 -及員耐特性受損’導致PDp產品之壽 受損’而使得—螢幕不利地無法正常顯示:磨伽 為解決此項缺點,對於防止㈣現象之方法進 究。該等方法係基於改善曝光靈敏度及顯影條件, 得到令人滿意之結果。 此外’韓國公開專利編號1〇2〇〇5〇116431揭示一種藉 著使電極圖案於烘烤過程中之厚度收縮比減至最小而防^ 捲邊現象的方法。然而,藉由控制電極圖案之厚度來防止 捲邊現象係有所限制。 【發明内容】 20 本發明之一目的係提供一種用於電漿顯示面板(PDP) 電極之漿料組合物,其中捲邊(即,在使用漿料組合物製造 PDP電極時,PDP電極之邊緣捲曲的現象)可減至最少,因 此可改善耐受電壓性質。 本發明另一目的係提供使用衆料組合物製造之PDp電 25 極及包含該電極之PDP。 本發明之技術特徵係以一無機黏結劑充填電極邊緣, 6 U/4336 (D5〇) ’更理想為0.5至1.8微米。 至55導重^想存在量讀料組合物之總重計為4〇 主w宣里%,更佳為44至53重量%。 n 5 15 20
供ft電性粉末之含量低於40重量%時,電導传數極 =因此不利地使其難以傳導電流,而當導電】J 時無機黏結劑無法充分充填電^圖宰之 邊緣’因此不利地造成嚴重之捲邊。 _〇茶工 且於導電性^燒結(sintering) 此ίί。_結劑之類型二於2含含 =3 ^匕合物。無機黏結劑之形狀難為球形,料特別限制。 較佳地,無機黏結劑具有0.1至5微米之直徑。 較佳地,無機黏結劑具有4〇〇至6〇〇<>c之軟化點。 無機β黏結劑較佳存在量相對於漿料組合物之總重為$ m重里/°。較佳地,無機黏結劑之存在量以總量1〇〇重 置份數導電性粉末計係為15至35重量份數。 本發明異於先前技術之基本特徵是在滿足電極固 小物性值之情況下將無機黏結劑之含量最大化。 —無機黏結劑之含量的原因如下。當含量低於前文定義 之範圍時,無機黏結劑無法充分充填電極圖案之邊緣,因 而造成捲邊。此外,當含量超過前文定義之範 之電導係數可能在焕烤後降低。是故,本發明之主要目的 是將無機黏結劑之含量範圍調整至所需程度。 本發明所使用之有機媒劑係用以分散導電性粉末及益 機黏結劑、使其彼此勢且隨之於料組合物與玻璃基& 8 25 1374336 根據本發明另一態樣,提供一種使用前述光敏性漿料 組合物製得之PDP電極。 該PDP電極可使用至少一種選自網版印刷、膠版印刷 • (〇ffsetprinting)及微影術之方法,自用以製造電極之組合物 ·,5 製得。 如前文描述所示,根據本發明,可藉著以無機黏結劑 充f電極圖案之邊緣,而於結構上防止捲邊。即,本發明 ,議無機黏結劑的最佳含量,以改善耐受電壓特性及耐打 f性且同時防止捲邊,因此提供一種可改善PDP產品之壽 °發光效率及產品良率之光敏性漿料組合物、一種使用 ~組合物製得之PDj>電極及包含該電極之pop。 【實施方式】 下文將詳細說明一種使用網版印刷製造電極之方法。 15 20 該電極係藉由形成微圖案且接著烘烤而製得。 戍二圖形成係藉著使用具有諸如SUS 325目(刪h) A SUS 400目之網罩的網版印 / 料組合物印刷於美柘矣而μ二二將所1備之先敏性漿 、'田许下/ 基板表面上,經塗覆之試樣於80至150t 在IR乾燥爐中乾燥5至3 | = 照波長300至4S0太氺,止、E、·,刀璀使咸科塗膜曝 當之鹼顯影溶液(諸:N co't?成圖案’在約30°C以適 氧化四甲基錢案Ϊί03溶液侧溶液或舰戦 此外’烘烤係於5〇〇至6〇〇<t之爐中進行⑺至扣分 鐘 450至550伏 使用本發明組合物製得之p D p 特之耐受電壓。 电極〃有 PDP電極的 另一態樣中,本發明有關包含前述製得之 25 1374336 •ο 15
20 PDP 〇 圖1係為說明使用本發明之一具體實施態樣製備的組 合物製得之電漿顯示面板的立體透視圖。 本發明組合物製得之PDP電極可用於製造白匯流電極 112及定址電極117。 & 如圖1所示,使用本發明之一具體實施態樣的組合物 製得之電漿顯示面板10係包括前基板100及後基板15〇。 、在前基板100面向後基板150之表面上,透明電極110 與如基板100平行。匯流電極112係排列於透明電極no 上。用於儲存面板中生成之電荷的第一介電層114係排列 於透明電極110上。MgO層118係排列於透明電極no上, 以保護第一介電層114並增進電荷之發射。 於後基板150面向前基板1〇〇之表面上,複數個定址 電極117係與後基板150垂直。 第二介電層115係排列於具有定址電極117之後基板 150上。具有個別RGB螢光物質132之障壁肋條(barrier rib)120係排列於第二介電層115上,以界定像素區。 將惰性氣體諸如Ne+Ar或Ne+Xe注入介於前基板1 〇〇 及後基板150之間的空間中,當將高於臨界電壓之電壓施 加於電極時,此氣體放電而發光。 該PDP結構中’使用本發明組合物製造匯流電極η〗 及定址電極117。詳言之’使用選自網版印刷、膠版印刷及 微影術之方法進行製造。 下文中,參照以下特定實例及對照例說明使用漿料組 合物製造電極’使捲邊現象減至最少,因而改善耐受電壓 特性及耐打磨性且改善PDP產品壽命、發光效率及產品良 率的事實。而且’因為本文未說明之含量在技術上係熟習 11 1374336 此技術者已知,故省略更詳細之描述。 <實施例1> 5 •° 將50重量%之作為導電性粉末之球形銀粉、9重量0/〇 之作為無機點結劑而軟化點為48〇〇c之非晶形之以 PbO-Si〇2-B2〇3為基礎之黏結劑(相對於1〇〇重量份數導電 性粉末,無機點結劑之含量係對應於18重量份數)及重 量%之含有作為共聚物黏結劑之聚-MMA-MAA、作為單體 之二異戊四醇二丙烯酸酯及作為光敏性起始劑之2-苄基-2-二^号胺基-1-(4_嗎福咁苯基)丁酮的有機媒劑混合,於 攪拌器中攪拌,之後使用3輥磨(3-roll min)捏和。隨後, 添加1重量。/〇作為溶劑之特神龍(texan〇1)於反應混合物以 控制黏度’以製備光敏性漿料組合物。 15 <實施例2>
'20 將45重量%之作為導電性粉末之球形銀粉、^重量% 作為無機黏結劑而軟化點為480°C之非晶形之以 PbO-SKVB2。3為基礎之黏結劑(相對於1〇〇重量份數導電 性^末’無機黏結劑之含量係對應於24_44重量份數)及43 重量%之含有作為共聚物黏結劑之聚-MMA-MAA、作為單 體之二異戊四醇二丙烯酸酯及作為光敏性起始劑之2-苄基 -2-二乙基胺基+(4·嗎福咁苯基)_卜丁酮的有機媒劑混合, =搜拌器中攪拌,之後使用3輥磨捏和。隨後,添加1重 量%作為溶劑之特神龍(texan〇1)於反應混合物以控制黏 度,以製備光敏性漿料組合物。 <對照例1> 12 25 印'4336
ίο
將65重量%之作為導電性粉末之球形銀粉、5 作為無機黏結劑而軟化點為480。(:之非曰^篁/〇 PbO-SiCVBzO3為基礎之黏結劑及29重量%之^曰^之以 聚物黏結劑之聚-MMA-M A A、作為單體之二異戍,共 烯酸酯及作為光敏性起始劑之2_苄基_2_二乙基胺^二丙 嗎福唯苯基)-1·丁酮的有機媒劑混合,於攪拌器"中^^1/4-後使用3輥磨捏和。隨後,添加丨重量%作為溶劑之^ ^(texanol)於反應混合物以控制黏度,以製備光敏性漿料= <性能測試> 使用實施例1、實施例2及對照例1所製備之組合物 於以下加工條件下製得PDP電極並隨之評佑特性。 15 1) 印刷:於30 cm X 30 cm尺寸玻璃基板上網版 2) 乾燥:於120°CIR乾燥爐中乾燥1〇分鐘。 3) 曝光:使用裝置有高壓汞燈之UV曝光系統於4〇〇 mJ/cm2強度下曝照UV。 % 4) 顯影:於1.5 kgf/cm2喷嘴壓力下噴灑〇 4%碳酸鈉 水溶液。 5) 烘烤:於560°C電爐中烘烤20分鐘。 6) 測量經烘烤之膜厚:烘烤後,使用膜厚測量設備測 量臈厚。 7) 捲邊評估:使用掃描式電子顯微鏡(SEM)觀察經烘 烤薄膜之剖面來評估捲邊。 ’ *捲邊(#m):捲邊高度(/zm)-經烘烤膜厚("m)。 8) 介電膜之形成:將電介質印刷於經烘烤薄膜上,之 後乾燥及烘烤,以形成介電膜。 9) 耐受電壓特性之評估··使用耐受電壓測試器 (Chroma Ate,Inc” AC/DC/IR Hipot Tester Model 19052)測 13 25 1374336 量对受電壓值。 下表1顯示實施例及對照例製備之組合物的性能評估 結果。 圖2係為實施例1製得之電極的SEM影像。 圖3係為對照例1製得之電極的SEM影像。 表1 性質 實施例 實施例 實施例 1 2 3 經烘烤之膜厚度(em) 4.0 3.8 4.0 邊緣高度〇m) 4.0 3.8 8.5 捲邊(V m) 0 9 4.5 耐受電壓(V) Γ 470 510 395 如表1及圖2所示之結果可發現實施例1製得之電極 10 未顯示捲邊。此外,可確認該電極具有優異之耐受電壓特 性,即470伏特。 ^ 同時,實施例2之電極亦顯示無捲邊現象且具有優異 ’之耐受電壓特性,即510伏特。 另一方面,如圖3之SEM影像可發現對照例1之電極 15 與實施例電極比較之下,顯現嚴重之捲邊且具有極差之耐 受電壓特性,即395伏特。 【圖式簡單說明】 由前文詳述連同附圖可更明瞭本發明之前述及其他 2〇 目的、特色及其他優點,其中: 圖1係為說明自本發明具體實施態樣組合物製得之電 14 1374336 漿顯示面板的立體透視圖; 圖2係為自實施例1製備之漿料組合物製得的電極之 剖面SEM影像;及 圖3係為自對照例1製備之漿料組合物製得的電極之 5 剖面SEM影像。 【主要元件符號說明】 10 電聚顯示面板 100 前基板 W 10 110 透明電極 112 匯流電極 114 第一介電層 115 第二介電層 117 定址電極 15 118 MgO層 k 120 障壁肋條 Ψ 132 RGB螢光物質 150 後基板 15

Claims (1)

1374336
申請專利範圍
專利申請案第97119985號 «t y. ROC Patent Appln. No. 97119985 修正後無劃線之令文申請專利範圍替換頁—附件(六) Amended Claims in Chinese - Encl.(VI) (民國101年05月16日送呈) (Submitted on Mav 16. 2012) 一種光敏性漿料組合物,其包含: 4〇至55重量%之一導電性粉末; 5至15重量。/〇之一無機黏結劑; 35至55重量%之一有機媒劑;及 剩餘重量百分比之一溶劑, 其中該無機黏結劑之存在量相對於1〇〇重量份數之該導 電性粉末係為15至35重量份數。 2·如請求項第1項之組合物,其中該導電性粉末係由選自 金、銀、銅、鎳、把、鉑、鋁、其合金及其中兩種之塗 層者所構成。 ' 3. 如請求項第1項之組合物,其中該導電性粉末具有球形 形狀及0.1至2微米之直徑(D50)。 4. ,請求項第1項之組合物,其中該無機黏結劑係為金屬 氧化物破璃,包括 PbO、Bi203、Si〇2、B2〇3、P2〇5、Zn0 或 Al2〇3。 5. 如請求項第1項之組合物,其中該無機黏結劑具有0.1 至5微米之直徑(ρ50)。 6. 如叫求項第1項之組合物,其中該無機黏結劑具有400 至600。(:之軟化點。 7,如請求項第1項之組合物,其中該有機媒劑係包含藉由 具有親水性基團之丙烯酸單體進行共聚所製備之一丙 婦酸聚合物及一纖維素聚合物中之至少一種。 8. 如請求項第7項之組合物,其中該纖維素聚合物係選自 16 1374336 乙基纖維素、羥乙基纖維素、羥丙基纖維素、羥乙基羥 丙基纖維素及其組合。 9. 如請求項第1項之組合物,其中該有機媒劑係進一步包 含一交聯劑及一光敏性起始劑中之至少一種。 . 10. 如請求項第1項之組合物,其中該溶劑係具有120°c或 更高之沸點。 11. 如請求項第1項之組合物,其中該溶劑係選自曱基賽路 蘇、乙基賽路蘇、丁基赛路蘇、脂族醇、α-萜品醇、β-萜 • 品醇、二氫-¾品醇、乙二醇、乙二醇單丁基醚、丁基賽 路蘇乙酸酯、特神龍(texanol)及其組合,。 12. 如請求項第1項之組合物,其進一步包含至少一種選自 紫外線安定劑、消泡劑、分散劑、勻平劑、抗氧化劑及 熱聚合抑制劑之添加劑。 13. 一種用於電漿顯示面板(PDP)之電極,其係自如請求項 第1至12項中任一項之漿料組合物製得。 • 14. 如請求項第13項之電極,其中該電極係具有450至550 伏特之耐受電壓。 15. 一種電漿顯示面板,其係包含如請求項第13項之電極。 17
TW097119985A 2007-06-01 2008-05-30 Photosensitive paste composition for fabricating the plasma display panel electrode, plasma display panel electrode and plasma display panel thereby TWI374336B (en)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020070053742A KR100880725B1 (ko) 2007-06-01 2007-06-01 Pdp 전극용 감광성 페이스트 조성물, pdp 전극, 및이를 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW200912528A TW200912528A (en) 2009-03-16
TWI374336B true TWI374336B (en) 2012-10-11

Family

ID=40075251

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW097119985A TWI374336B (en) 2007-06-01 2008-05-30 Photosensitive paste composition for fabricating the plasma display panel electrode, plasma display panel electrode and plasma display panel thereby

Country Status (6)

Country Link
US (1) US8383013B2 (zh)
JP (1) JP2010529487A (zh)
KR (1) KR100880725B1 (zh)
CN (1) CN101681098B (zh)
TW (1) TWI374336B (zh)
WO (1) WO2008147063A1 (zh)

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8329066B2 (en) * 2008-07-07 2012-12-11 Samsung Sdi Co., Ltd. Paste containing aluminum for preparing PDP electrode, method of preparing the PDP electrode using the paste and PDP electrode prepared using the method
US8436537B2 (en) * 2008-07-07 2013-05-07 Samsung Sdi Co., Ltd. Substrate structure for plasma display panel, method of manufacturing the substrate structure, and plasma display panel including the substrate structure
CN102834472B (zh) * 2010-02-05 2015-04-22 凯博瑞奥斯技术公司 光敏墨组合物和透明导体以及它们的使用方法
KR101332435B1 (ko) * 2010-11-25 2013-11-22 제일모직주식회사 전극 페이스트 조성물
CN102568651A (zh) * 2012-01-19 2012-07-11 上海大洲电子材料有限公司 一种无卤素低含银量笔记本电脑键盘用银导线浆料及应用
EP2905787A1 (en) * 2014-02-07 2015-08-12 Heraeus Deutschland GmbH & Co. KG Electro-conductive paste comprising an aliphatic mono-alcohol
CN105259306B (zh) * 2015-10-13 2017-07-11 武汉工程大学 一种纳米过渡金属氧化物敏感浆料及其制备方法和应用

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4780371A (en) * 1986-02-24 1988-10-25 International Business Machines Corporation Electrically conductive composition and use thereof
JP2001249446A (ja) * 2000-03-06 2001-09-14 Sumitomo Bakelite Co Ltd 感光性銀ペースト及びそれを用いた画像表示装置
KR20020088208A (ko) * 2001-05-18 2002-11-27 주식회사 엘지이아이 표시장치용 감광성 페이스트 조성물
JP4369103B2 (ja) * 2002-09-30 2009-11-18 太陽インキ製造株式会社 感光性導電ペースト及びそれを用いて電極形成したプラズマディスプレイパネル
KR100996235B1 (ko) 2004-06-01 2010-11-25 주식회사 동진쎄미켐 PDP 어드레스 전극용 Pb 미함유 Ag 페이스트 조성물
KR20050122498A (ko) 2004-06-24 2005-12-29 삼성에스디아이 주식회사 감광성 페이스트 조성물, 이를 이용하여 제조된 pdp전극, 및 이를 포함하는 pdp
KR20060029546A (ko) * 2004-10-02 2006-04-06 삼성에스디아이 주식회사 감광성 페이스트 조성물, 이를 이용하여 제조된 pdp전극, 및 이를 포함하는 pdp
JP4870959B2 (ja) * 2005-09-26 2012-02-08 太陽ホールディングス株式会社 感光性ペーストの製造方法及びプラズマディスプレイパネル
KR101363126B1 (ko) * 2006-08-21 2014-02-13 제이에스알 가부시끼가이샤 감광성 수지 조성물, 감광성 필름 및 패턴 형성 방법
KR100829667B1 (ko) * 2006-09-07 2008-05-16 엘지전자 주식회사 전극용 페이스트 조성물, 이를 이용하여 제조된 플라즈마디스플레이 패널의 상판구조 및 그 제조방법
KR100899197B1 (ko) * 2007-04-18 2009-05-26 제일모직주식회사 착색 유리프릿을 포함하는 전극 형성용 페이스트 조성물 및이를 이용하여 제조된 전극을 포함하는 플라즈마디스플레이 패널

Also Published As

Publication number Publication date
CN101681098B (zh) 2013-07-03
KR100880725B1 (ko) 2009-02-02
US20100164357A1 (en) 2010-07-01
US8383013B2 (en) 2013-02-26
JP2010529487A (ja) 2010-08-26
KR20080105747A (ko) 2008-12-04
WO2008147063A1 (en) 2008-12-04
CN101681098A (zh) 2010-03-24
TW200912528A (en) 2009-03-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI374336B (en) Photosensitive paste composition for fabricating the plasma display panel electrode, plasma display panel electrode and plasma display panel thereby
TW548683B (en) Dielectric paste and manufacturing method of plasma display
TW200811810A (en) Electrode composition for offset printing, method of preparing electrode using the same, and plasma display panel comprising the electrode
JP2006196455A (ja) 感光性ペースト組成物、それを利用して製造されたpdp電極、及びそれを含むpdp
TWI379315B (en) Composition for electrodes comprising aluminum powder having controlled particle size distribution and size, and electrodes made using the same
TW200923975A (en) Composition for fabrication of electrode, electrode fabricated using the same, plasma display panel, and associated methods
JP2005352481A (ja) 感光性ペースト組成物、これを利用して製造されたpdp電極、及びこれを備えるpdp
JP2007066877A (ja) 非感光性黒色層用組成物、その組成物からなる黒色層を含むプラズマディスプレイパネル及びその製造方法
TWI417362B (zh) 螢光體糊及顯示器之製法
JP2012513624A (ja) 感光性ペーストおよびそれを用いたパターン生産方法
US8343384B2 (en) Composition for electrodes comprising aluminum powder having controlled particle size distribution and size, and electrodes made using the same
JPH11323147A (ja) 誘電体ペーストおよびそれを用いたディスプレイ基板の製造方法
JP3783673B2 (ja) プラズマディスプレイの製造方法
JP4411940B2 (ja) 無機材料ペースト、およびプラズマディスプレイ部材ならびにプラズマディスプレイ
KR20100075218A (ko) 전극형성용 페이스트 조성물 및 이를 이용하여 제조된 플라즈마 디스플레이 패널용 전극
JP3982018B2 (ja) プラズマディスプレイの製造方法
JP2006278310A (ja) プラズマディスプレイパネルおよびその製造方法
JP2007073279A (ja) プラズマディスプレイ部材の誘電体層形成用ペーストおよびそれを用いたプラズマディスプレイパネル用部材の製造方法
JPH11242930A (ja) 電極の製造方法およびプラズマディスプレイパネル用部材の製造方法
TWI591673B (zh) 絕緣膜之形成方法
JP2000021314A (ja) プラズマディスプレイ用部材
JP2004111187A (ja) プラズマディスプレイの製造方法
JP6024147B2 (ja) 誘電体ペーストならびにそれを用いた誘電体層および隔壁が形成された基板の製造方法
JP2000173458A (ja) プラズマディスプレイ用基板の製造方法
JP2003288849A (ja) 隔壁用ペーストならびにそれを用いたディスプレイ用部材およびディスプレイ

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A Annulment or lapse of patent due to non-payment of fees