TWI357538B - Lithographic apparatus and device manufacturing me - Google Patents

Description

1357538 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於一種微影裝置及一種器件製造方法。 【先前技術】 微影裝置係一機器，其將一需要圖案施加至一基板上， 通常係施加至該基板之一目標部分上。微影裝置可用於例 如積體電路（ic)之製造。在該實例中，可使用一圖案化器 鲁 件（另稱為遮罩或標線片）以產生一欲形成於積體電路之個 別層上的電路圖案。此圖案可轉移至一基板（如矽晶圓）上 之目標部分（如包含部分、一個或數個晶粒）上。圖案—般 係經由成像轉移至該基板上所提供的一輻射敏感材料 阻）層上。一般而言，一單一基板將包含連續圖案化之相 鄰目標部分之網路。已知微影裝置包括所謂步進機，其中 藉由一次將整個圖案曝露於目標部分上而照射各目標部 分；及所謂掃描器，其中藉由在一既定方向（「掃描 • 向）中透過輻射光束掃描圖案，同時與此方向平行或反平 行地同步掃描基板而照射各目標部分。藉由將該圖案壓印 至基板上，亦可以㈣圖案從該圖案化元件轉移至該基 ◦奴出將該微影投射裝 —一 一，〜必低欠賓在一折射率相 :父而的液體(例如水)，，以填充該投射系統之最後元件 =板間的空間。因為曝光輻射於該液財將具有較短 =，故此點允許較小特徵之成像,液體之影響亦 增加該系統的有效ΝΑ’且亦增加聚焦深度）。業經 H8949.doc 1357538 出其他的浸潰液體，包括具有固態粒子（例如石英）懸浮於 其中的水。 然而，將該基板或基板與基板台浸入一液體浴中（例如 參見US 4,509,852，其全部内容係以引用方式併入本文）意 指必須於掃描曝光期間加速大量的液體。此需要額外或功 率更多的馬達’且液體中的擾動可能會造成不合需求且無 法預期的效應。 針對液體供應系統而提出的多個解決方案之一係，利用 一液體限制系統僅於該基板的局部區域上及該投射系統之 最終元件與該基板（該基板的表面積通常大於該投射系統 之最終元件）之間提供液體。於W0 99/49504中已揭示一種 為此提出之配置方式，本文以引用的方式將其全部併入。 如圖2及3所示，液體係藉由至少一入口以供應至該基板上 (較佳係沿該基板相對於該最後元件移動之方向），且在穿 過該投射系統下之後，藉由至少一出口 OUT移除。即，隨 著基板在元件下依-X方向掃描’液體係在元件的+χ側處 供應並在-X處經過。圖2概要顯示該配置，其中液體係經 由入口 IN供應，並藉由出口 0UT(其係連接至一低壓源）在 該元件的另一侧經過。在圖2之說明中，液體係沿基板相 對於最後元件之移動方向供應，雖然實際情況不一定需要 如此。可有各種方位及數目的入口及出口被定位於該最後 兀件周圍，其一範例係顯示於圖3中，其十四組由一在任 一側上皆有一出口之入口，係以矩形圖案圍繞最後元件。 已提出之另一解決方案係，將一密封部件提供給該液體 U8949.doc 供應系統’該密封部件沿該投射系統之最終元件與該基板 1之工間的至少—部分邊界延伸。此—解決方案係顯示 ;圖中雖然在z方向（該光軸方向）中可能有某些相對運 動’但該密封部件相對於XY平面中之投射系統係實質上 靜止。t封件形成在該密封部件及該基板表面之間。較 佳係’该密封件為一無接觸式密封件，如氣封件。如具有 氣封件之此系統係揭示於圖5及即_八_1，420,298中，在此 係藉由引用全數併入。 * 在此藉由引用全數併入之歐洲專利ep_a_1 420 300中， 其係揭示一成對或雙級浸潰式微影裝置之概念。此一裝置 係設有二級，用於支撐基板。調平測量係用第一位置處之 一級來實施，其不具浸潰液體；而曝光則係用第二位置處 之一級來實施，其中係存在浸潰液體。或者，該裝置僅具 有一級。 在一其中係設置二基板台或級（其中各一者承載一基板） 之裝置中’可月b難以將來自投射系統下之一基板台與投射 系統下之另一基板台交換。此係因為若來自液體供應系統 之液體在父換該等台前移除’則乾燥污痕可能出現在投 射系統之最後元件上。一已被提出之解決方案係提供一虛 設基板，其在基板台交換期間係可定位在投射系統下。依 此方法，在交換期間可保持液體供應系統開啟且沒有乾燥 污痕能形成。然而，虛設基板之定位及附接可能係消耗時 間之製程且從而導致減少產量。同時係有污染之危險。 【發明内容】 118949.doc -9- 該：台中之一上的一物件間提供一液體，纟中該第一及第 -台中之至少一者具有一伸縮式橋，其在一使用位置中具 有-頂部表面，該頂部表面係實質上與第一及第二台之頂 部表面在相同平面且其於平面中突出至少如該台之任 何其他部分—般遠’使得第—及第二台可在投射系統下一 起移動’其中表面足夠緊靠在一&，以致實質上防止在該 等台間來自液體供應系統之液體洩漏。 依據本發明之另一項具體實施例，該提供一種微影裝 置/、包3 . 一基板台，其係用於支撐一基板；一保護系 統"界疋一圍繞該基板台之保護區，至少一其他物件無 法進入其内；其中基板台包括一可移動突出件，其在一使 用位置中曝露一實質上與基板台及基板之頂部表面在相同 平面中之一頂部表面，且於平面中呈現一突出於保護區之 外邊緣，且該可移動突出件在使用中係可相對於基板台移 動至一位置’其在該處不突出該保護區。 依據本發明之另一項具體實施例，係提供一種器件製造 方法，其包括：將一液體提供給一空間，一具有圖案之光 束穿過該空間，—第一基板台及/或由該第一基板台支撐 之一物件形成該空間之一邊界的一部分；密封於空間中之 液體，該密封在基板及/或物件，及另一物件間作用；提 供一第二基板台’該第一及第二基板台中至少—者具有一 可移動橋部分，其在一使用位置中展開且移動第一及/或 第二基板台，以致該橋部分在該等基板台間延伸；在該空 間下一起移動第一及第二基板台，以致首先該橋部分形成 118949.doc •11- 1357538 該空間之邊界的-部分，且接著第二基板台及/或一由第 二基板台支撐之物件形成該邊界的—部分；及透過該液體 將-輻射之圖案化光束投射至由第二基板台支撐之基板 上。 在-具體實施例，係提供一微影裝置，其包括一輻射系 統’該輻射系統配置成用以調節一輻射光束；一圖案化器 件支撐件’其係配置成用以支撑—圖案化器件，該圖案化 器件係配置成用以將輻射光束圖案化；—基板台，其係配 置成用以支撐-基板；一投射系'统，其係配置成用以將圖 案化投射光束投射至基板上；其中該基板台包括—支撐表 面，其支㈣板及-可移動邊緣部分，可移動邊緣部分係 配置在基板台之-外邊緣上，且可在一第一位置（其中可 移動邊緣部分之-頂部表面係實fJi與基板台的支樓表面 在一相同平面中），及一第二位置（其中可移動邊緣部分之 頂部表面係實質上垂直於支撐表面）間移動。 在一具體實施例中，係提供一微影裴置，其包括一基板 台，該基板台係配置成用α支擇_基板，基板台包括:主 要部分及-可移動邊緣部分，其中t該邊緣部分係在—第 一位置時’該邊緣部分具有之-頂部表面係實質上在—與 主要部分之頂部表面相同的平面中，且於平面中呈現基板 台之-外邊緣，其中可移動邊緣部分係、可相對於基"主 要部分移動至一第二位置，在該處可移動邊緣部分不： 基板台之一外邊緣。 【實施方式】 118949.doc 12- 1357538 圖1示意性描述依據本發明之一項具體實施例之一微影 裝置。該裝置包括一照明系統（照明器）IL，其係配置成用 以調節一輻射光束B(如UV輻射或DUV輻射）；一支樓結構 (如遮罩台）MT，其係構成以支撐一圖案化器件（如遮 罩）MA，且連接至一經配置成用以依據某些參數精確地將 圖案化器件定位之第一定位器PM ; —基板台（如晶圓 台）WT，其係構成以保持一基板（如，塗布光阻之晶圓）w 且連接至一經配置成用以依據某些參數精確地將基板定位 之第二定位器PW ;及一投射系統（如，折射式投射透鏡系 統）PS，其係配置成用以藉由圖案化器件MA，將賦予於該 輻射光束B之一圖案投射至基板w之目標部分c上（如，包 括一或多個晶粒）。該裝置亦包括一參考框架RF。 該照明系統可包括各種類型的光學組件，例如折射、反 射、磁性、電磁、靜電或其他類型#光學組件或其任何組 合，用於導引、成形或控制輻射。 該支擇結構支撐（即承載）該圖案化器件的重量。其以一 取決於该圖案化器件的方向、該微影裝置的設計以及立他 條件（例如該圖案化器件是否保持於真空環境中）之方式來 保持該圖案化器件。該支撐結構可使用機械、真空、靜電 技術來保持該圖案化器件。該支撐結構可為-才架或 台’例如，並 主矜社糂π 〃視需要為固定式或可移動式。該 支標結構可確保該圖荦 之一需要你署士相對於該投射系統 罩比可Μ。文所使用的任何名詞「標線片」或「遮 罩"可視為與更通用的名詞「圖案化器件」同義。 118949.doc -13· 1357538 本文中所使用的名詞「圖案化器件」應廣泛地解釋成指 可用於以圖案將—輻射光束賦予其斷面中（例如）可於該基 板之-目標部分中產生一圖案之任何器件。應注意賦予 該輕射光束之圖案可能不t準確對應於該基板之目標部分 中的需要圖案，例如若該圖案包括相移特徵或所謂的辅助 特徵。一般而f，賦予該輻射光束之圖案將會對應於一器 件中之-產生於該目標部分中的特定功能層，例如一積體 ^ 電路。 該圖案化器件可為透射型或反射型。圖案化器件之範例 包括遮罩、可程式鏡陣列以及可程式LCD面板。遮罩在微 影中係為人熟知，且包括例如二進制、交替式相移及衰減 式相移等遮罩類型，以及各種混合遮罩類型。可程式鏡陣 列之一範例採用小鏡的矩陣配置，各鏡可個別地傾斜，以 致在不同方向反射一進入輻射光束。該等傾斜鏡會將一圖 案賦予由該鏡矩陣反射之一輻射光束中。 • 本文使用的名詞「投射系統」應廣義地解釋為包含任何 類型的投射系統’包含折射、反射、折反射、磁性、電磁 性及靜電光學系統，或其任何組合，其適合於所使用的曝 光輻射，或其他諸如使用浸潰液體或使用真空等因素。本 文任何使用的名詞「投射透鏡」皆可視為與更通用名詞 「投射系統」同義。 如此處所描述，該裝置係透射類型（如採用透射遮罩 或該裝置可為反射類型（例如，採用一上述類型之可程式 鏡陣列，或採用反射遮罩）。 118949.doc •14- 該微〜裝置可為具有二(雙級)或更多基板台(及/或二或 更夕個遮罩台）之類型。在此「多級J機器中，可平行使 用額外的台可在一或更多台上實施預備步驟而將一 或多個其他台用於曝光。 參考圖1，照明器IL會接收來自一輻射源S0的輻射光 束。該輻射源與冑影裝置可為分離實冑，例如當該賴射源 為準分子雷射_。在此類情形下，該帛射源並非視為形成 微影裝置之部分’且輻射光束係借助包括（例如）適當導引 鏡及/或光束擴張器之光束輸送系統BD而從該輻射源3〇傳 遞至照明器IL。在其他情況下’該輻射源可為該微影裝置 之一整合部分，例如當該輻射源為一水銀燈時。該輻射源 SO與照明器IL，連同需要時的光束輸送系統BD，可稱為 輻射系統。 照明器IL可包括一用於調整輻射光束之角強度分布的調 整器AD。一般而言，可以調整該照明器之一光瞳平面中 強度分佈的至少外及/或内徑範圍（一般分別稱為σ外及心 内）。此外，照明器IL可包括各種其他組件，諸如一積分 器IN及一聚光器C0。該照明器可用於調節輻射光束以 在其斷面中具有需要均勻度及強度分布。 輻射光束B入射在保持於支禮結構（例如遮罩台Μτ)上的 該圖案化器件（例如遮罩MA)上，並藉由該圖案化器件來圖 案化。在行經遮罩MA之後，輻射光束B穿過投射系統ps， 該投射系統PS會將該光束聚焦在基板w之一目標部份c 上。借助於第二定位器PW及位置感測器if(如，干涉器 118949.doc •15· 1357538 件、編碼器或電容式感測器），可精確地移動基板台WT， 如’用以在輻射光束b之路徑中定位不同目標部份c。同 樣地，可用第一定位器PM及另一位置感測器（未明白顯示 於圖1中）相對於輻射光束B之路徑來準確地定位遮罩ma， 如於以機械方式自遮罩庫中取出後或在掃描期間。一般而 言’可借助一長衝程模組（粗略定位）及一短衝程模組（精細 定位）來實現遮罩台MT之移動，該等模組形成第一定位器 PM之部分。同樣地，基板台Wt的移動可使用一長衝程模 組及一短衝程模組來實現，該等模組會形成第二定位器 PW的部分。在一步進機之情況下（與掃描器相反），遮罩台 MT可僅連接至一短衝程致動器，或可加以固定。可使用 遮罩對準標記Μ1、M2以及基板對準標記pi、P2來對準遮 罩ΜΑ及基板W。儘管圖示該等基板對準標記佔用專用目 標部分’然而其可位於目標部分（此等係稱為劃線道對準 標記）間的空間内。同樣地，在其中遮罩MA上設置多個晶 粒之情形中，該等遮罩對準標記可位於該等晶粒之間。 所描述裝置可用於以下至少一模式中： 1. 在步進模式中，遮罩台MT及基板台WT基本上係保持 靜止，同時將賦予該輻射光束之一整個圖案一次（即單一 靜態曝光）投射至一目標部分C上4隨後，該基板台霤了接 著在X及/或Y方向中偏移，以便能曝光一不同目標部分 C。在步進模式中，該曝光場之最大大小會限制單一靜態 曝光中成像的目標部分c之大小。 2. 在掃描模式中，係同步掃描遮罩台MT與基板台WT， 118949.doc -16· 1357538 同時將賦予該輻射光束之圖案投射至一目標部分c上(即單 -動態曝光）。基板台WT相對於遮罩台速度及方向可 由投射系統PS之（縮）放率及影像反轉特徵來決定。在掃描 模式中，該曝光場之最大大小會限制單—動態曝光中該目 標部分之寬度（在非掃描方向上），而掃描動作之長度則會 決定該目標部分之高度（在掃描方向上）。 3.在另一模式中’遮罩台ΜΊΓ基本上係靜止地保持一可 程式圖案化器件，且移動或掃描該基板台WT，同時賦予 至輻射光束的圖案係投射至一目標部分c上。在此模式 中，一般會利用一脈衝式輻射源，且該可程式圖案化器件 係在掃描期間基板台WT之各移動後或在相繼輻射脈衝間 視需要而加以更新。此操作模式可易於應用於採用可程式 圖案化器件（例如上述類型的可程式鏡陣列）的無遮罩微影 中。 亦可使用以上述之模式的組合及/或變化或完全不同使 用模式。 本發明尤其適用於局部區域類型液體供應系統，諸如圖 2至5中所示。可有其他適合之液體供應系統。然而，將液 體僅提供給基板台及/或基板及/或 由基板台支撐的其他物 件之頂部表面的局部區域之該等類型係最適於本發明。本 I日月亦有關在一時機用液體覆蓋基板之整個頂部表面的類 型。 使用浸潰微影的一特定困難，係在投射系統PS下交換基 。—種進行此之方法係自液體供應系統移除液體，而後 H8949.doc -17- 1357538 在再啟動液體供應系統前在投射系統ps下再定位一新基板 (及基板台或一連同先前基板台的新基板）。然而，在自液 體供應系統移除所有液體期間，乾燥污痕可能在投射系統 的最後元件上出現。

為了克服此問題，已提出在基板交換期間在投射系統P S 下置放一虛設基板’使得液體供應系統可在基板交換期間 持續填充液體。在此方法中’一虛設基板可由基板台支 撲’且在基板台之基板已成像後移動基板台，使得虛設基 板係在投射系統P S下足位，且虛設基板則係以某種方式附 接至投射系統PS。基板台能接著可移開且載入一新基板， 或一具有新基板之不同基板台可移入投射系統PS下之位 置。虛設基板係接著降低至基板台上，且接著基板台移動 使得基板係在投射系統PS下定位。依此方式，其無須在基 板交換期間排空液體供應系統。然而，此系統需求某時間 量而影響基板交換。

本發明之一具體實施例使用之系統，其中基板交換係藉 由將一緊鄰目前使用中基板台之第二基板台定位，且確: 二基板台之頂部表面實質上在相同平面中而達到。此即， 使得液體供應系統可有效地將液體保持在需要空間中而無 洩漏。若基板台之二頂部表面係足夠緊靠在一起，則可在 投射系統PST-起移動料基板纟，而^會透過可能在基 板台的二頂部表面間存在之任何間隙從該空間洩漏液體。 m統或排水件可設置在該等基板台μ，以收集在該 等基板台頂部表面間之間隙間洩漏的任何水。依此方法， 118949.doc 1357538 因為基板交換之此方法比上述其他二方法更快速，故可增 進產量。 在一微影裝置中，係需要在—控制系統故障或電力故障 之情況下保護系統避免任何損害。為此原因，基板SWT 係設有一保護器件（如緩衝器），其提供一圍繞基板台α的保 濩區，且其在尺寸及形狀中配置成在碰撞之情況下，藉由 不允許其他物件進入保護區而保護基板台（如藉由一在基 板台與另一物件（例如另一基板台）碰撞期間提供一將進行 任何撞擊之表面）。一範例係如圖6、7a、8至10中所示之 緩衝器10 ’但其他配置亦同樣可應用，諸如圖几中所示。 若保護器件或系統係依緩衝器之形式，則可將該保護區視 為基板台之使用空間（即保護區係一排斥其他物件之區 域）。 本發明之一具體實施例係關於一基板台，其係由一緩衝 器保護且其具有一可在緩衝器上延伸的頂部表面，使得在 投射系統PS下之基板的交換可藉由在投射系統下並行地移 動二基板台而發生，無須關閉液體供應系統且無須使用一 虛設基板。所有此等皆可達到’同時仍維持全功能緩衝器 之安全特徵。 本發明之一項具體實施例係顯示於圖6中。圖6以斷面顯 示一第一基板台WT1及一第二基板台WT2。在投射系統PS 下將一基板台WT2交換另一基板台WT1前，基板台WT1、 WT2已被引導至一起。因此由第一基板台WT1支撐之基板 的成像已完成’且需要在投射系統下引導一由第二基板台 118949.doc •19- 1357538 二=於平面中)之，位“在緩衝 使仔在平面中（如圖7a所示），部件20形成苴 個別基板台WT之總體外輪廓的外邊緣。 八 設=2台_，碰撞期間保持安全，部件2〇係 ° ，因此其可主動或被動地移出導致基板△ WT之撞擊（或可能撞擊）之碰撞情況的路徑，使得緩衝器; ㈣纽收撞擊能量之功能。料20可依任何方式移動且 φ 已提供二範例’但本發明不限於此等範例。 現將更詳細描述圖6之具體實施㈣的部件2〇。此等:特徵 係同樣可應用於其他具體實施例。部件2〇可被視為突出件 或作為橋部件或作為邊緣部分。在圖6之具體實施例中， 此等部件20係沿基板台州之主要部分的頂部表面之縱向 邊緣鉸接30。在圖6中，基板台WT1之主要部分係經適應 以支撐基板。在一使用或第一位置中，部件2〇突出使得 其頂部表面係實質上與基板台，之主要部分及/或由基 鲁板台支撐的基板W之頂部表面在相同平面中。在此位置 中，該部件在基板台之其餘部分上突出，以（於平面中）界 定基板台WT1的外輪廓之邊緣。 在一縮回位置中，如圖6中虛線所示，部件20(於平面 中）不形成基板台WT1之輪廓的其他邊緣。在此位置中， 基板台WT1與另一物件碰撞係安全的，因為基板台WT1將 會由（於平面中）形成基板台WT1之外邊緣的緩衝器1〇保 護。 雖然情況不一定需要如此，可設置—驅動器（如主動類 118949.doc 21 1357538 型）以在使用位置及縮时置間移動部件2 q。若提供—驅 動器’則亦可設置-感測系'统，其使用一偵測器感測另一 物件的接収碰㈣可能性m以計算-碰撞有可 能發生，則可將部件2()移動至縮回位置（或維持在縮回位 置"。雖然情況不一定需要如&，在使用部件2〇期間通 常將維持在使用位置中。驅動器可被偏壓使得當電力故 障時部件20自動地移動至縮回位置。或者是，可使用_種 配置’其中在供應電力至基板台㈣期間，部件2〇係被保 持在使用位置中，但在該供應中斷時其返回至縮回位置。 此可能例如被.配置使用一螺線管。在此具體實施例中，亦 能提供一感測器以在偵測一可能碰撞情況時切斷至螺線管 之電力。該控制器之偵測器可採任何形式，例如偵測器可 為一超音波偵測器、一光學偵測器或甚至可耦合至基板台 WT1之位置偵測器及/或控制器。驅動器可為一電磁驅動 器或彈簧驅動器。 一貼籤50係顯示為設置在部件2〇之最内邊緣及基板台 WT1的最外邊緣間。此貼籤在一側係黏著物且製成相對較 薄。貼籤橋接介於部件20之内邊緣及基板台WT1的外邊緣 間之間隙15，從而防止液體在基板交換期間自空間洩漏進 入間隙15内。貼籤之黏著使得當需要時，部件2〇可被移動 或自使用位置移動至縮回位置而不受貼籤阻礙。若使用貼 籤，在每次將部件20移動至縮回位置後，可能需要再黏著 该貼籤或提供一新貼籤。部件2〇亦可設有一向内延伸的突 出件（即其朝基板台（的中心）延伸），其取代貼籤且將不黏 H8949.doc -22- 1357538 著至基板台WT1之頂部表面，但其將執行一橋接基板台 WT1之頂部表面的外邊緣，及部件2〇之頂部表面的内邊緣 間之間隙1 5的類似功能。 已顯不部件20為沿整個基板台之一側的一段長度延伸。 但情況不一定需要如此，且部件2〇可僅沿基板台之一部分 延伸，例如，其（於平面中）可僅為如空間u般寬。的確， 在圖6中，可移動部件2〇係顯示在一基板台二相對側之各

者上。但情況不一定需要如此，且各基板台可在基板台 WT1之或多個邊緣上設有一或多個可移動部件2〇β的 確，一對基板台WT1、WT2僅能在其間設置一可移動部件 20。在此情泥下，可移動部件2〇本身在使用位置中將會需 要進-步延伸’且在基板台州之頂部表面及第二基板台 WT2的頂部表面間形成一橋。 已描述緩衝器10為完全圍繞基板台WTl之一實體突出 件。明顯地，可依一不同方法形成緩衝器，且其無須持續

地圍繞基板台WT延伸且可中斷。^，本發明之具體實 施例的原理在此—變^卜φ A^L 4·α rn ^ 更化f保持相同，且應將名詞緩衝器及 緩衝器之邊緣解澤為意指由__撞擊吸收器提供之有效保^ 區(即，自該緩衝器有效排除其他未附接至基板台之物件 的區域之外邊緣），不論其用於㈣基^而的形式。 如熟習此項技術人士將瞭解’緩衝器1〇可採其他形式。 當在此中料中描述緩衝器1叫，其含意應延伸至一緩衝 器的其他具體實施例，其可能 緩衝 板么，而m 持續延伸至完全圍繞基 板口而m㈣基板台之有效區。例如，與緩衝 118949.doc 1357538 在元件70之末端處的物件碰撞前，與基板台本身相互作 用0 除了緩衝器10由一突出區1〇|取代以外，有關圖6及7a所 述之相同原理皆應用於圖7b中關於部件20所示之具體實施 例。以下具體實施例亦可應用於圖7b的具體實施例，如應 用於圖6及7a之具體實施例。

應瞭解，本發明之一具體實施例係同樣可應用於其中僅 一基板台設置一部件20或保護系統的情況。 部件20係可相對於其個別基板台移動。在圖6之具體實 施例中’此係藉由旋轉，在圖8之具體實施例中此係藉由 平移，且在圖10之具體實施例中其可藉由旋轉及/或平 移，且該部件的確可變得完全脫離基板台。換句話說，部 件20在圖1〇之具體實施例中係可犧牲。 圓8及9顯示本發明之一具體實施例，除了如以下描述

外，其係與圓6的具體實施例相同，在圖8的具體實施例 中，可移動部件20係可平移，使得在一使用位置中其（於 平面中)延伸’因此其形成基板台之邊界的外邊緣，且在 縮回位置中，其可完全縮回或僅部分縮回到基板台的其 餘部分内’其不形成基板台之外邊界的部分。 八 圖8之”體實施例的可移動部件之驅動可與圖㈣具體實 施例相同或類似。貼籤50亦可使用在可移動部件20及基板 台WT的頂部表面間之間隙間。再者，以下係關於圖$之具 體實施例描述，藉由續方、土 7 a a丄 ^ 错由该方法可包含在二基板台間之間隙25 的任何㈣。此等係、同等可應詩所有其他具體實 118949.doc -25- 1357538 施例。 其一方法係在其使用位置中的可移動部件2〇之一或二者 的最外邊緣處設置一液體移除器件（例如低壓源），以將的

確找到路進入間隙2 5之任何液體吸走。所顯示之一替代具 體實施例，係提供一附接至可移動部件2〇中之一且在可移 動部件20下之一排水件60，來捕獲的確找到路通過可移動 部件20間之間隙25的任何液體。排水件6〇可為一如圖示之 J形，且在二可移動部件20間之間隙下延伸，以捕獲來自 間隙之任何的液體滴液及含有此液體及/或將其傳送離 開。排水件60中之任何液體可藉由例如一低壓源的習知構 件移除。排水件60亦可附接至其他組件而非至可移動部件 20。例如其可附接至長衝程驅動器之部分或基板台。 如圖9中所示，可移動部件不沿基板台之一邊緣的整個 長度延伸，互在二基板台一起移動期間，基板台之相對位 置無須維持恆定。在圖8之具體實施例中，當可移動部件 係移動到其縮回位置時，外罩7()係、需要供可移動部件移 入。二部件的分離係約500至〇微米，或約5〇〇至5微米的量 級。其—目標係100微米，但其亦可為接觸。 总，一具體實施財，部件财之—可事實上為固定，儘 具體實施例中，其（於平面中）不在緩衝器1〇上延 不形成基板台之輪廓的外邊緣之部分。 的具體Li —具體實施例，☆了以下描述外，其係與圖6 實施例中，：及’气圖8之具體實施例相同。在圖1。之具體 °移動部件2G係-犧牲性可移動部件。在此具 118949.doc -26- 1357538 體實施例中，可移動部件係藉由—弱點8〇(例如—薄片材 料)或藉由-比部件20及/或基板台頂部表面弱的材料，來 附接至基板台wt。或者是，該弱點可實際上為一實體分 離，可移動部件係藉由一麼配保持至基板台WT，其中; 移動部件或基板台之-公突出部分，係保持在可移動部件 及基板台中另一者之母接受器特徵内。此壓配將二部件保 持在一起，但亦可藉由低作用力來中斷。因此，在碰撞期 間，儘管犧牲部件20在緩衝器1〇之有效區上突出且可在緩 衝器1〇前接收撞擊，其將不會導致基板$WT或與其碰撞 而進入其内之物件的大規模損壞，因為部件2〇將會在弱點 8〇處以一低作用力中斷或偏轉，使得撞擊之大多數能量將 仍由緩衝器10吸收。弱點80可為例如係一弱耦合（例如磁 性，其使用永久磁鐵或電磁鐵）、可為—弱黏著或可 件2〇之厚度的減薄，藉由其使該部件附接至基板台:因 此’撞擊時’部件20將在薄區域處中斷。 可提供一承件’用於當犧牲性可移動部件[中斷後加以 承接’防止其落入一可能造成損壞之位置。承件能構成及 配置以將中斷部分導引至一安全區域（如遠離投射系統）或 保持其附接至基板台。承件可例如係—機械承件，例如一 彈簧 彈性繫帶等，或可具有磁性（若可移動部件具磁 性）’以在其中斷後能吸引該可移動部件。 圖11顯示-不隨型之基板台WT，其可配合任何上述 二體實施例使用。基板台WT包括—長衝程模組及一短 i \、’且1 70。長衝程模組15〇係用於粗略定位且短衝程模 118949.doc -27- 1357538 組17〇(其由長衝程模組15〇支撐且相對於長衝程模組i5〇移 動）係用於精細定位。基板係保持在短衝程模組17〇上。在 圖11所示之具體實施例中，可移動部件2〇附接至長衝程模 組15 0。可為一可移動部件之突出件16 0係設置在長衝程模 組150上，以確保在基板交換期間可達到短衝程模組170及 長衝程模組150間之窄間隙。其他配置亦屬可能，包括在 短衝程模組170上設置可移動部件2〇。 對於上述仲縮式部件2〇之使用係有一些替代。例如，可 縮。緩衝器本身，使得基板台頂部表面可被操控以彼此接 近而無需伸縮式部件20。或者是，可配置緩衝器以具有某 些位^ ’在該等位置處可操控二基板台使得其頂部表面足 夠緊#在起。一簡單具體實施例係一槽及鍵舰置，據以 一緩衝器係設有一槽且另一緩衝器設有一配適至該槽中的 鍵。此允許在某種相對位置中，一緩衝器之鍵能插入另一 緩衝器的槽中，且使基板台WT之頂部表面彼此更靠近。 槽及鍵之具體實施例的更精細版本亦可㉟，例如包含—疒 經-曲徑槽之接針，使得需要多於二基板台之一特定平移丁 或相對移動’以供基板台WT頂部表面彼此更緊靠在一起 之具體實施例。例如，一槽可呈現一具有二90度彎曲之通 ，，使得該通道係I部分組成，—部料向該塊基板 口 人-部分平行於基板台之一邊緣進行，且次一部分再 t該塊基板台進行。依此方法，基板台之所需相對移動 1二=:且因而導致碰撞之可能性，係比簡單槽及鍵 』減〉。曲徑類型之解決方案亦可包含緩衝器10中 118949.doc •28- 1357538 °P伤」的同義詞。本文所參考的基板可在曝光前或後，在 例如循執（係通常會將一光阻層施加於基板上並顯影經 曝光之光阻的工具）、計量工具及/或檢查工具中進行處 在可應用的情況下，本文之揭示可應用於此類及其他 基板處理工具。此外，例如為了產生一多層積體電路，可 對該基板進行多次處理，因而本文所使用名詞基板亦可指 已包含多個已處理層的基板。 φ 本文所使用的名詞「輻射」與「光束」涵蓋所有類型的 電磁輕射，包括紫外線（UV)輻射（例如具有約365、248、 193、157或126奈米波長）。 如本文允許，名詞「透鏡」可指各種類型光學組件之任 一者或組合，包括折射與反射型光學組件。 儘f上表面已說明本發明之特定具體實施例，應明白本 發明可用以上未說明其他方式實施。例如，本發明可採取 以下形式.一電腦程式，其含有描述一如上所揭示方法的 • 機器可讀取指令之一或更多序列；或資料儲存媒體（如半 導體記憶體、磁碟或光碟），其具有儲存於其中的此一電 腦程式。 本發明可應用於任何浸潰微影裝置，尤其係（但並不僅 限於）上述類型的微影裝置。 上文所述旨在說明而非限制》因此’熟習此項技術的人 士將明白，可對本發明進行修改，而不會脫離下列申請專 利範圍所提之範鳴。 【圖式簡單說明】 118949.doc •30- 1357538

IN 積分器/入口 Ml 遮罩對準標記 M2 遮罩對準標記 MA 遮罩/圖案化器件 MT 支撐結構/遮罩台 OUT 出口 PI 基板對準標記 P2 基板對準標記 PM 第一定位器 PS 投射系統 PW 第二定位器 RF 參考框架 SO 輻射源 w 晶圓/基板 WT 基板台/晶圓台 WT1 基板台/晶圓台 WT2 基板台/晶圓台 118949.doc 33-

Claims (1)

1. 年丨丨月〕。日修正本第〇%108182號專利申請案 、申請專利' 〜*I中文申請專利範圍替換本(ιοο年11月；) 一種微影裝置，其包含： 基板台’其經西P里 φ 、置以支撐一基板，該基板台包括一 一第-位置ni ’其中#該邊緣部分係在 上與該主要部分;;^部分具有—頂部表面，其係實質 ._ . 頂。^表面在一相同的平面中，且於 平面中呈現該基板台之—外邊緣， 移動41移動邊緣部分係可相對於該基板台主要部分 A4C ^ 一 在該處該可移動邊緣部分不形成該 基板台之一外邊緣。 2. 钫鰱:、項1之微衫裝置，其中該可移動邊緣部分係繞-署可錢接地旋轉，其係從該第—位置旋轉到-縮回位 =中》亥可移動邊緣部分於平面中不形成該基板台之 一外邊緣。 3.如凊求項1之微影奘罢 ’、义置，八中該可移動邊緣部分係可滑 地附接至該基板台，且可從該第一位置平移至一縮回 /、中《亥可移動邊緣部分於平面中不形成該基板台 之一外邊緣。 4. 如請求項1之微影裝 一犧牲性弱點附接至 作用力下中斷。 置’其中該可移動邊緣部分係經由 5亥基板台，該弱點係可在相對較低 1 .如請求項！之微影裝置，其中該可移動邊緣部分係被 動且係可藉由外部施加力之施加而移動。 2 ·如請求項1之微影裝置，其中該基板台進一步包含一驅 118949-100H30.doc 1357538 經配置以將該可移動邊緣部分從該第一位置移 回位置，其中該可移動邊緣部分於平面中不形 成孩基板台之一外邊緣。 7.如請求項6之微影裝置，其中該 簧驅動器。 ^動器係-電磁或一彈 I 微影裝置’其進—步包含-偵測器，其經 可移㈣緣部分與—物件之特發生的 娅撞，及（b)將控制信號傳送 八放& 通驅動器，以將該邊緣部 刀移動到該縮回位置。 9 之微影裝置’其中—防止液體貼籤係定位在 =動邊緣部分之該頂部表面，及該基板台的該頂部 录面間之一間隙上。 10. 如請求項丨之微影裝置，苴 中一液體移除器係設置在該 土板σ上’以將遠離該其也由 Χ基板台滴至該邊緣部分之一末端 的任何液體移除。 11. 如清求項丨之微影裝 ^ 其中一液體移除器係設置在遠 玄基板台之該可移動邊緣部分卜末端處。 月长項1G之微衫裝置，其中該液體移除器包括一定位 在該可移動邊緣部分 之頂。卩表面的一外邊緣下的排水 件。 13_㈣之㈣裝置’其進-步包含-額外基板台， 二1卜基板口經配置以支撐-基板，該額外基板台包括 一主要部分及—可移動邊緣部分，其中當該額外基板台 之邊緣部分係在一第—位置時，該額外基板台之該邊緣 118949-1001I30.doc 1357538 有的—頂部表面係實質上在—與該額外基板台主 一頂部表面相同的平面中，且於平面中呈現該 1你 之—外邊緣，該額外基板台之可移動邊緣部 糸可相對於該額外基板台移動至—第二位置，在該處 該可移動邊緣部分不形成該額外基板台之—外邊緣。以 1…：項丨之微影裝置’其中該基板台具有一突出緩衝 盗八至少部分圍繞該基板台，且經配置以吸收碰撞中 至少一些該撞擊能量。 15.如請求項1之微影裝置，其中該基板台包括-短衝程模 組及一長衝程模組，且其中該可移動邊緣部分係附接至 該長衝程模組。 16·如睛求们之微影裝置’其中該邊緣部分係連接至該主 要部分。 17. —種微影裝置，其包含： I液體限制系統’其包含一屏蔽部件，該屏蔽部件至 少部分界定用於將液體限制於其内之一空間的側壁，該 空間之-底部表面係藉由一第一或第二基板台、一支撐 在及第-或第二基板台上之基板及支撐在該第一或第二 基板台上之另一物件的一頂部表面界定， 其中該第-及第二基板台中至少一者包含一可移動 橋三其經配置以於該第一或第二基板台、支樓在該第一 或第二基板台上之該基板及支撐在該第一或第二基板台 二上之另一物件之該頂部表面的—平面中，形成該空間= 5亥底部表面的至少一部分；及 118949-100H30.doc 1357538 其中該第一及第二基板台係可彼此相對地定位，使得 該可移動橋實質上在該第一及第二基板台間延伸，且可 界定該底部表面之至少一部分。 18. —種微影裝置，其包含： 一液體限制系統，其包含一屏蔽部件，該屏蔽部件至 少部分界定用於將液體限制於其内之一空間的側壁，該 空間之一底部表面係藉由一第一或第二基板台、一支撐 在該弟一或第二基板台上之基板或支樓在該第一或第二 基板台上之另一物件的一頂部表面界定， 其中該第一及第二基板台中至少一者包含一可移動 橋’其經配置以於該第一或第二基板台、支撐在該第一 或第二基板台上之該基板或支撐在該第一或第二基板台 上之另一物件之該頂部表面的一平面中，形成該空間之 該底部表面的至少一部分，·及 其中該第一及第二基板台係可彼此相對地定位，使得 该可移動橋實質上在該第一及第二基板台間延伸，且可 界疋邊底部表面之至少一部分。 19· 一種微影裝置，其包含： 一第一及第二台’其係各定位在一投射系統下； 一液體供應系統，其經配置以在該投射系統及該第一 及第二台中之一者及/或該第一及第二台中之該一者上的 一物件間提供一液體， 其中該第一及第二台中之至少一者具有一伸縮式橋， 其在一使用位置中具有一頂部表面，該頂部表面係實質 118949-100H30.doc -4. 1357538 上與該第一及第二台之一頂部表面在一相同平面中且 其於平面中突出至少如該第一及第二台中該至少一者之 任何其他部分一般遠，使得該第一及第二台係在該投射 系統下一起移動，其中表面足夠緊靠在一起，以致實質 上防止在該第一及第二台間來自該液體供應系統之液體 的洩漏。 瓜如言月求項19之微影裝置，其中在一縮回狀態中，當該 :及第二基板台中之該—者的該伸縮式橋仍附接至該 -及第二基板台中之該—者時’其並不在平面中延伸 入该第-及第二基板之該另—者配置用以移動之任何 祕.〇 21 -種微影裝置，其包含： 一基板台，其經配置以支撐—基板； 7保護系統，其界定_圍繞該基板台之㈣區，盆 至 >、另一物件無法進入其内； '、 其中該基板台包含-主要部分及一可 其中當該邊緣部分係在一第邊緣部分 分且有一頂f 時’該可移動邊緣 刀，、有U表面’其係實質 -頂部表面在-相同的平 ^°主要部分 該保護區之外邊緣，該可移動 見一犬, 台主要部分移動至一苐二 目對於該基4 分不突出該保護區。 置’在該處該可移動邊⑸ 22.如請求項21之微影裝置，1 外的基板台。 〃 °…-其他物件係—萄 I18949-I0OH3O.doc 1357538 23. 如請求項21之微影裝置，其中該可移動邊緣部分係繞一 欽鏈可较接地》疋轉’其係從該第一位置旋轉到一縮回位 置’其中該可移動邊緣部分於平面中不自該保護區突 出。 24. 如請求項21之微影裝置，其中該可移動邊緣部分係可滑 動地附接至該基板台，且可從該第一位置平移到一縮回 位置，其中該可移動邊緣部分於平面中不自該保護區突 出。 25.如請求項21之微影裝置，纟中該可移動邊緣部分係經由 一犧牲性弱點附接至該基板台，該弱點係可在相對較低 作用力下中斷。 如哨求項21之微影裝置，其中該可移動邊緣部分係被動 且係可藉由外部施加力之施加而移動。 27. 如請求項21之微影裝置，其中該基板台進一步包含一驅 動器，以將該可移動邊緣部分從該第-位置移動到一縮 〇置八中°亥可移動邊緣部分於平面中不自該保護區 突出。 28. 如味求項21之微影裝置，#中該驅動器係—電磁或—彈 29·如請求項21之微影裝置，其進一步包含一偵測器… 配^以⑷偵測該可移動邊緣部分與-物件之即將發生启 ^里及（b)將控制信號發送至該驅動器，以將該邊緣名 为移動到該縮回位置。 月求項21之微影裝置，其中—防止液體貼籤係定位4 118949-100H30.doc 1357538 該可移動邊緣部分之該頂部表面，及該基板台主要部分 的該頂部表面間之一間隙上。 °月求項21之微影裝置’其中-液體移除器係設置在該 土板〇上，以將遠離該基板台滴至該邊緣部分之一末端 的任何液體移除。 如哨求項21之微影裝置，其中一液體移除器係設置在遠 離該基板台之該邊緣部分之一末端處。 33·如請求項21之微影裝置，其中該液體移除器包括-定位 在該邊緣部为之頂部表面的一外邊緣下的排水件。 34. 如請求項21之微影裝置，其進一步包含一額外基板台， 忒額外基板台經配置以支撐一基板，其中該額外基板台 包括一主要部分及一可移動邊緣部分，其中當該額外基 板口之可移動邊緣部分係在一第一位置時，該可移動邊 緣部分曝露之一頂部表面係實質上在一與該額外基板台 主要部分之一頂部表面相同的平面中，且於平面中呈現 s亥額外基板台之—外邊緣，該額外基板台之該可移動邊 緣部分係可相對於該額外基板台移動。 35. 如請求項21之微影裝置，其中該基板台係由一定位器件 來定位，且該保護系統係至少部分由一固定至該定位器 件之機械缓衝器構成。 36. —種器件製造方法，其包含： 將一液體提供給一空間’ 一圖案化光束係透過該空間 投射’ 一第一基板台及由該第一基板台支撐之—物件形 成該空間之一邊界的一部分； 118949-1001130.doc 禮封件將於該空間中之該液體密封，該密封件在 該基板及該物件與另一物件間作用； 提供第—基板台，該第—及第二基板台中至少一者 :有可移動橋部分，其在_使用位置中展開且移動該 第-及第二基板台，使得該橋部分在該第一及第二基板 台之間延伸； 在該工間下-起移動該第—及第二基板台，使得首先 該橋部分形成該空間之邊界的—部分，且接著該第二基 板台及一由該第二基板台切之物件形成該邊界的一部 分；及 透過該液體將該經圖案化輻射光束投射至由該第二基 板台支撐之該物件上。 37. 如請求項36之方法，其中該第-及第二基板台具有該可 移動橋。P刀’且其中在該移動期間，該第一基板台之橋 P刀H 4第_基板台之橋部分形成該空間之邊界 一部分。 38. —種器件製造方法，其包含： 將一液體提供給-空間，一圖案化光束係透過該空間 ” 第-基板台或由該第—基板台支揮之—物件形 成5亥空間之一邊界的一部分〆 /-密封件將於該空間中之該液體密封，該密封件在 該基板或該物件與另一物件間作用； 提供一第二基板台，該第-及第二基板台中至少-者 具有一可移動橋部分，其在—使用位置中展開且移動該 118949-1001130.doc 一或第二基板台，使得該橋部分在該第一及第二基板 台之間延伸； 在該空間下-起移動該第一及第二基板台，使得首先 該橋部分形成該空間之邊界的—部分，且接著該第二基 板η或由6亥第二基板台支撐之物件形成該邊界的一部 分；及 透過該液體將該經圖案化輕射光束投射至由該第二基 板台支撐之該物件上。 39·如請求項38之方法，其中該第一及第二基板台具有該可 :動橋部分’且其中在該移動期間，該第一基板台之橋 Ρ刀及其後δ玄第二基板台之橋部分形成該空間之邊界的 一部分。 40.—種微影裝置，其包含： 一輻射系統，其經配置以調節一輻射光束； 一圖案化器件支撐件，其經配置以支撐一圖案化器 件，e玄圖案化器件經配置以將該輻射光束圖案化； 一基板台，其經配置以支撐一基板；及 一投射系統，其經配置以將該經圖案化的輻射光束投 射至該基板上； 其中該基板台包括一支撐表面，其支撐該基板及一 移動邊緣部分，該可移動邊緣部分係配置在該基板台 一外邊緣上，且可在一第一位置及一第二位置間移動 可 之 其中在該第一位置中，該可移動邊緣部分之一頂部表面 係貫質上與該基板台之支撐表面在一相同平面中，且立 J18949-100*130.doc 1357538 中在該第二位置中，該可移動邊緣部 面係實 〜項邹表 質上垂直於該支撐表面。 41. 如凊求項40之裝置，其中在該第一位置中，該可移動邊 緣卩刀之該頂部表面界定該支撐表面之一延伸部分。 118949-1001130.doc