JP4490984B2 - リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 - Google Patents
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Description
Claims (38)
- 基板を支持するように構成された基板テーブルを備えており、前記基板テーブルは主部および可動縁部を含み、前記縁部は、第一位置にあるときに前記主部の上面と実質的に同一な平面にある上面を有し、かつ、平面で前記基板テーブルの外縁を呈し、
前記可動縁部は、前記可動縁部が前記基板テーブルの外縁を形成しない第二位置へ前記基板テーブル主部に対して相対的に移動可能である、
リソグラフィ装置。 - 前記可動縁部は、前記第一位置から、前記可動縁部が平面で前記基板テーブルの外縁を形成しない収納位置へヒンジの周囲で枢動可能である、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記可動縁部は、前記基板テーブルにスライド可能に取り付けられ、前記第一位置から、前記可動縁部が平面で前記基板テーブルの外縁を形成しない収納位置へ平行移動可能である、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記可動縁部は、比較的小さい力で破壊可能な犠牲的な弱部を介して前記基板テーブルに取り付けられる、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記可動縁部が受動的であり、外部から力を加えることによって移動可能である、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記基板テーブルは、さらに、前記可動縁部を前記第一位置から、前記可動縁部が平面で前記基板テーブルの外縁を形成しない収納位置へ移動するように構成されたアクチュエータを備える、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記アクチュエータは、電磁式またはばね式アクチュエータである、請求項6に記載のリソグラフィ装置。
- さらに、(a)前記可動縁部とオブジェクトとの近接による衝突を検出し、(b)前記アクチュエータに制御信号を送信して、前記縁部を前記収納位置へと移動するように構成された検出器を備える、請求項6に記載のリソグラフィ装置。
- 前記可動縁部の前記上面と前記基板テーブルの前記上面との間のギャップの上に防液ステッカを配置する、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記基板テーブルに液体除去装置を設け、前記基板テーブルから遠い前記縁部の端からこぼれる液体を除去する、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記基板テーブルから遠い前記可動縁部の端に液体除去装置を設ける、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記液体除去装置は、前記可動縁部上面の外縁の下に配置されたドレーンを含む、請求項10に記載のリソグラフィ装置。
- さらに、基板を支持するように構成された追加の基板テーブルを備えており、前記追加の基板テーブルは主部および可動縁部を有し、前記追加基板テーブルの前記縁部は、第一位置にあるときに、前記追加基板テーブル主部の上面と実質的に同一な平面にある上面を有し、かつ、平面で前記追加基板テーブルの外縁を呈し、前記追加基板テーブルの前記可動縁部は、前記可動縁部が前記追加基板テーブルの外縁を形成しない第二位置へ前記追加基板テーブルに対して相対的に移動可能である、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記基板テーブルは、前記基板テーブルを少なくとも部分的に囲み、衝突時に衝撃エネルギの少なくとも一部を吸収するように構成された突出バンパを有する、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記基板テーブルはショートストロークモジュールおよびロングストロークモジュールを含み、前記可動縁部が前記ロングストロークモジュールに取り付けられる、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記縁部が前記主部に接続されている、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 液体を封じ込めるためのスペースの側壁を少なくとも部分的に定めるバリア部材を有する液体封じ込めシステムを備えており、前記スペースの底面が、第一または第二基板テーブルおよび/または前記第一または第二基板テーブル上に支持された基板および/または前記第一または第二基板テーブルに支持された別のオブジェクトの上面よって定められ、
前記第一および第二基板テーブルの少なくとも一方は、前記第一または第二基板テーブルおよび/または前記第一または第二基板テーブルに支持された前記基板および/または前記第一または第二基板テーブルに支持された別のオブジェクトの前記上面の平面で、前記スペースの前記底面の少なくとも一部を形成するように構成された可動ブリッジを備え、
前記第一および第二基板テーブルは、前記可動ブリッジが実質的に前記第一基板テーブルと第二基板テーブルの間に広がっており、前記底面の少なくとも一部を定め得るように、相互に配置可能である、
リソグラフィ装置。 - 投影システムの下に各々配置可能である第一および第二テーブルと、
前記投影システムと前記第一および第二テーブルのうち一方および/または前記第一および第二テーブルのうち前記一方上のオブジェクトとの間に液体を提供するように構成された液体供給システムと、を備え、
前記第一および第二テーブルの少なくとも一方は収納可能なブリッジを有しており、前記収納可能なブリッジが、使用位置において前記第一および第二テーブルの上面と実質的に同一な平面にあり、かつ、前記液体供給システムからの液体が前記第一テーブルと第二テーブル間から漏れるのを実質的に防止するように各表面が相互に十分近接した状態で、前記第一テーブルと第二テーブルが前記投影システムの下で一緒に移動するように、平面で、少なくとも前記第一および第二テーブルの前記少なくとも一方の他の部分の範囲まで突出する上面を有する、
リソグラフィ装置。 - 収納状態において、前記第一および第二基板テーブルの前記一方の前記収納可能なブリッジが、前記第一および第二基板テーブルの前記一方になお取り付けられているときに、平面で、前記第一および第二基板テーブルの前記他方が侵入するように構成されるいかなる区域へも広がらない、請求項18に記載のリソグラフィ装置。
- 基板を支持するように構成された基板テーブルと、
前記基板テーブルの周囲に少なくとも1つの別のオブジェクトが入れない保護ゾーンを定める保護システムと、を備え、
前記基板テーブルは主部および可動縁部を備え、前記縁部は、第一位置にあるときに、前記基板テーブルの主部の上面と実質的に同じ平面にある上面を有し、かつ、平面で、前記保護ゾーンから突出する外縁を呈し、前記可動縁部は、前記可動縁部が前記保護ゾーンから突出していない第二位置へ前記基板テーブル主部に対して相対的に移動可能である、
リソグラフィ装置。 - 前記少なくとも1つの他のオブジェクトが追加の基板テーブルである、請求項20に記載のリソグラフィ装置。
- 前記可動縁部が、前記第一位置から、前記可動縁部が平面で前記基板テーブルの外縁を形成しない収納位置へヒンジの周囲で枢動可能である、請求項20に記載のリソグラフィ装置。
- 前記可動縁部が、前記基板テーブルにスライド可能に取り付けられ、前記第一位置から、前記可動縁部が平面で前記基板テーブルの外縁を形成しない収納位置へ平行移動可能である、請求項20に記載のリソグラフィ装置。
- 前記可動縁部が、比較的小さい力で破壊可能な犠牲的な弱部を介して前記基板テーブルに取り付けられる、請求項20に記載のリソグラフィ装置。
- 前記可動縁部が受動的であり、外部から力を加えることによって移動可能である、請求項20に記載のリソグラフィ装置。
- 前記基板テーブルがさらに、前記可動縁部を前記第一位置から、前記可動縁部が平面で前記保護ゾーンから突出しない収納位置へ移動するアクチュエータを備える、請求項20に記載のリソグラフィ装置。
- 前記アクチュエータは、電磁式またはばね式アクチュエータである、請求項20に記載のリソグラフィ装置。
- さらに、(a)前記可動縁部とオブジェクトとの近接による衝突を検出し、(b)前記アクチュエータに制御信号を送信して、前記縁部を前記収納位置へと移動するように構成された検出器を備える、請求項20に記載のリソグラフィ装置。
- 前記可動縁部の前記上面と前記基板テーブルの前記上面との間のギャップの上に防液性ステッカを配置する、請求項20に記載のリソグラフィ装置。
- 前記基板テーブルに液体除去装置を設け、前記基板テーブルから遠い前記縁部の端部からこぼれる液体を除去する、請求項20に記載のリソグラフィ装置。
- 前記基板テーブルから遠い前記可動縁部の端に液体除去装置を設ける、請求項20に記載のリソグラフィ装置。
- 前記液体除去装置は、前記可動縁部の上面の外縁の下に配置されたドレーンを含む、請求項20に記載のリソグラフィ装置。
- さらに、基板を支持するように構成された追加の基板テーブルを備えており、前記追加の基板テーブルは主部および可動縁部を有し、前記追加基板テーブルの前記可動縁部は、第一位置にあるときに、前記追加基板テーブルの主部の上面と実質的に同一な平面にある上面を露出させ、かつ、平面で前記追加基板テーブルの外縁を呈し、前記追加基板テーブルの前記可動縁部は前記追加基板テーブルに対して相対的に移動可能である、請求項20に記載のリソグラフィ装置。
- 前記基板テーブルは位置決め装置によって位置決めされ、前記保護システムは少なくとも部分的に前記位置決め装置に固定された機械的バンパから成る、請求項20に記載のリソグラフィ装置。
- パターン付けされた投影ビームが通るスペースに液体を提供し、第一基板テーブルおよび/または前記第一基板テーブルによって支持されたオブジェクトが前記スペースの境界の一部を形成すること、
シールを用いて前記スペース内に前記液体をシールし、前記シールは前記基板および/または前記オブジェクトと別のオブジェクトとの間で作用すること、
第二基板テーブルを設け、前記第一および第二基板テーブルの少なくとも一方が、使用位置に配置された可動ブリッジ部分を有し、かつ、前記ブリッジ部分が前記第一基板テーブルと第二テーブル基板の間に広がるように、前記第一および/または第二基板テーブルを移動させることと、
前記ブリッジ部分が最初に前記スペースの前記境界の一部を形成し、次に前記第二基板テーブルおよび/または前記第二基板テーブルによって支持されたオブジェクトが前記境界の一部を形成するように、前記スペースの下で前記第一および第二基板テーブルを一緒に移動することと、
前記パターン化されたビームを前記液体を通して前記第二基板テーブルによって支持された前記オブジェクトに投影すること、からなるデバイス製造方法。 - 前記第一および第二基板テーブルが可動ブリッジ部分を有し、前記移動中に、前記第一基板テーブルの前記ブリッジ部分が前記スペースの前記境界の一部を形成し、またその後、前記第二基板テーブルの前記ブリッジ部分が前記スペースの前記境界の一部を形成する、請求項35に記載の方法。
- 放射ビームを調節するように構成された放射システムと、
前記放射ビームをパターン化するように構成されたパターニングデバイスを支持するように構成されたパターニングデバイス支持体と、、
基板を支持するように構成された基板テーブルと、
前記パターン化された放射ビームを前記基板に投影するように構成された投影システムと、を備え、
前記基板テーブルは、前記基板を支持する支持表面および可動縁部を有し、前記可動縁部は前記基板テーブルの外縁に配置され、前記可動縁部上面は前記基板テーブルの前記支持表面と実質的に同一な平面にある第一位置と、前記可動縁部上面が前記支持表面に対して実質的に垂直である第二位置との間で移動可能である、
リソグラフィ装置。 - 前記第一位置で、前記可動縁部の前記上面が前記支持表面の範囲を定める、請求項37に記載の装置。
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