KR20070094541A - 리소그래피 장치 및 디바이스 제조 방법 - Google Patents

리소그래피 장치 및 디바이스 제조 방법 Download PDF

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하르멘 클라스 반 데르 슈트
에릭 로엘로프 루프스트라
프란시쿠스 마티스 야콥스
고트프리트 카타리나 후베르투스 프란시스쿠스 게렌
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에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.
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Abstract

충돌하는 동안 기판 테이블을 보호하는 범퍼를 넘어, 평면도로 하여 기판 테이블의 최상부 표면을 연장하는 이동가능한 부재가 제공된다. 이동가능한 부재는 범퍼를 넘어 더이상 연장되지 않는 들어간(retracted) 위치로 들어갈 수 있다. 이런 식으로, 두 기판 테이블들을 함께 이동시키고, 액체 공급 시스템을 턴오프하지 않고 투영 시스템 및 기판 사이에 액체를 일반적으로 제공하는 액체 공급 시스템 하에 들어갈 수 있는(retractable) 부재를 통과시킬 수 있다.

Description

리소그래피 장치 및 디바이스 제조 방법{LITHOGRAPHIC APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD}
이하, 대응하는 참조 부호들이 대응하는 부분들을 나타내는 첨부된 개략적인 도면들을 참조하여, 단지 예시로만, 본 발명의 실시예들을 설명한다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 리소그래피 장치를 도시하는 도면;
도 2 및 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 리소그래피 투영 장치에 사용된 통상적인 액체 공급 시스템을 도시하는 도면;
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 리소그래피 투영 장치에 사용된 통상적인 액체 공급 시스템을 도시하는 도면;
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 액체 공급 시스템의 단면도;
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 두개의 기판 테이블들의 단면도;
도 7a는 도 6의 기판 테이블들의 평면도;
도 7b는 도 7a에서와 상이한 검출 시스템을 갖는 본 발명의 일 실시예에 따른 두개의 기판 테이블들의 평면도;
도 8은 본 발명의 일 실시예에 따른 두개의 기판 테이블들의 단면도;
도 9는 도 8의 기판 테이블들의 평면도;
도 10은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 테이블의 단면도;
도 11은 임의의 실시예에서 사용될 수 있는 기판 테이블의 배치의 단면도이다.
본 발명은 리소그래피 장치 및 디바이스의 제조 방법에 관한 것이다.
리소그래피 장치는 기판상에, 일반적으로는 기판의 타겟부상에 원하는 패턴을 적용시키는 기계이다. 리소그래피 장치는, 예를 들어 집적 회로(IC)의 제조시에 사용될 수 있다. 그 상황에서, 대안적으로 마스크 또는 레티클이라 칭하는 패터닝 디바이스가 IC의 개별층상에 형성될 회로 패턴을 생성하기 위해 사용될 수 있다. 이 패턴은 기판(예컨대, 실리콘 웨이퍼)상의 (예를 들어, 1개 또는 수개의 다이의 부분을 포함하는) 타겟부상으로 전사(transfer)될 수 있다. 패턴의 전사는, 통상적으로 기판상에 제공된 방사선-감응재(레지스트)층상으로의 이미징(imaging)을 통해 수행된다. 일반적으로, 단일 기판은 연속하여 패터닝되는 인접한 타겟부들의 네트워크를 포함할 것이다. 공지된 리소그래피 장치는, 한번에 타겟부상에 전체 패턴을 노광함으로써 각각의 타겟부가 조사(irradiate)되는, 소위 스테퍼, 및 방사선 빔을 통해 주어진 방향("스캐닝"- 방향)으로 패턴을 스캐닝하는 한편, 이 방향과 평행 또는 역-평행하게 기판을 동기적으로 스캐닝함으로써 각각의 타겟부가 조사되는, 소위 스캐너를 포함한다. 또한, 기판상에 패턴을 임프린트(imprint)함으로써, 패터닝 디바이스로부터 기판으로 패턴을 전사할 수도 있다.
리소그래피 투영 장치에서, 투영 시스템의 최종 요소와 기판 사이의 공간을 채우기 위해 비교적 높은 굴절률을 가지는 액체(예를 들어, 물)에 리소그래피 투영 장치 내 기판을 침지(immerse)시키는 것이 제안되었다. 이것의 핵심은, 노광 방사선이 액체내에서 보다 짧은 파장을 가지기 때문에 보다 작은 피처들을 이미징할 수 있다는 것에 있다. (또한, 액체의 효과는, 상기 시스템의 유효 NA를 증가시키고 초점심도(depth of focus)를 증가시키는 것으로도 간주될 수 있다.) 고체 입자들(예를 들어, 석영)이 부유(suspend)되어 있는 물을 포함하는 다른 침지 액체들이 제안되었다.
하지만, 액체의 배스(bath)내에 기판 또는 기판과 기판 테이블을 담그는(submersing) 것(예를 들어, 본 명세서에서 전문이 인용참조되고 있는 미국 특허 제 4,509,852호 참조)은, 스캐닝 노광 중에 가속되어야만 하는 큰 몸체의 액체가 존재한다는 것을 의미한다. 이는 추가적인 또는 보다 강력한 모터들을 필요로 하며, 액체내에서의 난류(turbulence)는 바람직하지 않고 또한 예측할 수 없는 효과들을 초래할 수 있다.
제안된 해결책 중 하나는, 액체 한정 시스템(liquid confinement system)을 이용하여, 액체 공급 시스템이 기판의 국부적인 영역에만 그리고 투영 시스템의 최종 요소와 기판 사이에 액체를 제공하는 것이다(일반적으로, 기판은 투영 시스템의 최종 요소보다 큰 표면적을 가진다). 이렇게 배치시키기 위해서 제안된 한가지 방법이 제 WO 99/49504호에 개시되어 있으며, 그 전문이 본 명세서에서 인용참조되고 있다. 도 2 및 도 3에 예시된 바와 같이, 액체는 1 이상의 유입구(IN)에 의하여, 바람직하게는 최종 요소에 대한 기판의 이동방향을 따라 기판상으로 공급되며, 투영 시스템 아래를 통과한 후에는 1 이상의 유출구(OUT)에 의하여 제거된다. 즉, 기판이 -X 방향으로 요소의 밑에서 스캐닝되기 때문에, 액체는 상기 요소의 +X 쪽에서 공급되고 -X 쪽에서 흡수(take up)된다. 도 2는, 액체가 유입구(IN)를 통하여 공급되고 저압력원에 연결된 유출구(OUT)에 의하여 요소의 다른 쪽상에서 흡수되는 배치를 개략적으로 도시한다. 도 2의 예시에서, 액체는 최종 요소에 대한 기판의 이동 방향을 따라 공급되나, 반드시 이와 같을 필요는 없다. 최종 요소 주위에 위치된 유입구들 및 유출구들의 방위 및 개수는 다양할 수 있으며, 도 3에는 양쪽에 유출구를 갖는 유입구의 4개의 세트들이 최종 요소 주위에 규칙적인 패턴으로 제공되는 일례가 예시되어 있다.
제안된, 또다른 해결책은, 투영 시스템의 최종 요소 및 기판 테이블 사이 공간 경계의 적어도 일부를 따라 연장되는 시일(seal) 부재를 액체 공급 시스템에 제공하는 것이다. 이러한 해결책은 도 4에 도시된다. 시일 부재는, Z 방향(광학 축 방향)으로 다소 상대적 이동이 가능하다 할지라도, XY 면에서는 투영 시스템에 대해 실질적으로 정적이다. 시일 부재 및 기판 표면 간에 시일이 형성된다. 시일은 기체 시일(gas seal)과 같은 비접촉 시일이 바람직하다. 이러한 시스템은, 도 5 및 본 명세서에서 전문이 인용참조되고 있는 제 EP A-1,420,298호에 개시되어 있다.
본 명세서에서 전문이 인용참조되고 있는 EP-A-1,420,300호에서는, 트윈 또는 듀얼 스테이지 침지 리소그래피 장치의 개념이 개시되어 있다. 이러한 장치에는 기판을 지지하는 2개의 스테이지들이 제공된다. 침지 액체가 없이 제 1 위치의 스 테이지에서 레벨링 측정들이 수행되며, 침지 액체가 존재하는 제 2 위치의 스테이지에서 노광이 수행된다. 대안적으로, 상기 장치는 하나의 스테이지만을 가질 수 있다.
각각 하나가 한 기판을 운반하는 두 개의 기판 테이블들 또는 스테이지들이 제공되는 장치에서, 투영 시스템 아래로부터의 하나의 기판을 투영 시스템 아래의 다른 기판과 교환하는 것이 어려울 수 있다. 이는 액체 공급 시스템으로부터의 액체가 상기 기판을 교환하기 전에 제거된다면 상기 투영 시스템의 최종 요소 상에 건조 얼룩들(drying stains)이 나타날 수 있기 때문이다. 제안되었던 한 해결책은 기판 테이블들의 교환 동안 상기 투영 시스템 하에서 위치설정가능한 더미(dummy) 기판을 제공하는 것이다. 이런 방식으로 액체 공급 시스템은 교환동안 유지될 수 있으며 어떤 건조 얼룩들도 형성될 수 없다. 그러나, 더미 기판의 위치설정 및 부착은 시간 소모적인 과정이 될 수 있으며, 이에 따라 스루풋이 감소될 수 있다. 또한 오염의 위험성도 존재한다.
액체의 액체 공급 시스템을 배수할(drain) 필요 없이 침지 장치의 투영 시스템 아래에서 기판 테이블들이 위치들을 교환할 수 있는 장치를 제공하는 것이 바람직하다.
본 발명의 일실시예에 따르면, 기판을 지지하기 위한 기판 테이블을 포함하는 리소그래피 장치가 제공되며, 상기 기판 테이블은 사용 위치에서 기판 테이블의 최상부 표면과 실질적으로 동일한 면에 있는 최상부 표면을 가지고 평면도로 하여 기판 테이블의 외부 가장자리를 나타내는 이동가능한 돌출부를 포함하고, 상기 이동가능한 돌출부는 사용 시에 상기 기판 테이블의 외부 가장자리를 형성하지 않는 위치로 상기 기판 테이블에 대해 이동가능하다.
본 발명의 일실시예에 따르면, 액체의 내부 한정을 위한 공간의 측벽들을 적어도 부분적으로 정의하는 배리어 부재, 기판 테이블 및/또는 상기 기판 테이블 상에 지지된 기판 및/또는 상기 기판 테이블 상에 지지된 또다른 대상물의 최상부 표면에 의해 정의된 상기 공간의 바닥 표면을 포함하는 액체 한정 시스템; 상기 기판 테이블들 중 하나 이상이, 기판 테이블 및/또는 상기 기판 테이블 상에 지지된 기판 및/또는 상기 기판 테이블 상에 지지된 또다른 대상물의 최상부 표면의 면에 상기 공간의 최하부 표면의 적어도 일부를 형성하도록 구성된 이동가능한 브릿지를 포함하는 제 1 기판 테이블 및 제 2 기판 테이블을 포함하는 리소그래피 장치가 제공되며;
상기 이동가능한 브릿지가 상기 기판 테이블들 사이에서 실질적으로 연장되고 상기 최하부 표면의 적어도 일부를 정의할 수 있도록 제 1 및 제 2 기판 테이블들이 서로에 대해 위치가능하다.
본 발명의 일실시예에 따르면, 투영 시스템 하에 각각 위치가능한 제 1 및 제 2 테이블; 상기 투영 시스템 및 상기 테이블들 중 하나 및/또는 상기 테이블들 중 하나 상의 대상물 사이에 액체를 제공하기 위한 액체 공급 시스템을 포함하는 리소그래피 장치가 제공되며, 상기 제 1 및 제 2 테이블들 중 하나 이상은, 사용 위치에서 상기 제 1 및 제 2 테이블들의 최상부 표면과 실질적으로 동일한 면에 있는 최상부 표면을 가지고, 평면도로 하여 상기 테이블의 어떤 다른 일부만큼 적어도 돌출되는 들어갈 수 있는(retractable) 브릿지를 가져, 상기 테이블들 사이에서 상기 액체 공급 시스템으로부터의 액체의 누출(leak)이 실질적으로 방지되도록 서로 충분히 가까운 표면들을 갖는 제 1 및 제 2 테이블들이 상기 투영 시스템 하에 함께 이동될 수 있다.
본 발명의 또다른 실시예에 따르면, 기판을 지지하기 위한 기판 테이블; 하나 이상의 다른 대상물이 들어갈 수 없는 기판 테이블 주위에 보호 구역을 정의하는 보호 시스템을 포함하는 리소그래피 장치가 제공되며, 상기 기판 테이블은 사용 위치에서 기판 테이블 및 기판의 최상부 표면과 실질적으로 동일한 면에 있는 최상부 표면을 가지고 평면도로 하여 상기 보호 구역에서 돌출되는 외부 가장자리를 나타내는 이동가능한 돌출부를 포함하며, 상기 이동가능한 돌출부는 사용시에 보호 구역에서 돌출되지 않는 위치로 기판 테이블에 대해 이동가능하다.
본 발명의 또다른 실시예에 따르면, 패터닝된 빔이 투영되는 공간, 상기 공간의 경계의 일부를 형성하는 제 1 기판 테이블 및/또는 상기 제 1 기판 테이블에 의해 지지되는 대상물에 액체를 제공하는 단계; 상기 기판 및/또는 상기 대상물, 및 또다른 대상물 사이에서 작용하는 시일(seal)을 사용하여 상기 공간 내에 액체를 실링하는 단계; 제 2 기판 테이블을 제공하고, 상기 제 1 및 제 2 기판 테이블들 중 하나 이상은 사용 위치에서 전개된 이동가능한 브릿지부를 가지고, 상기 브릿지부가 상기 기판 테이블들 사이에 연장되도록 상기 제 1 및/또는 제 2 기판 테 이블(들)을 이동시키는 단계; 상기 제 1 브릿지부가 상기 공간의 경계의 일부를 형성하도록 상기 제 1 및 제 2 기판 테이블(들)을 상기 공간 하에서 함께 이동시킨 후 상기 제 2 기판 테이블 및/또는 상기 제 2 기판 테이블에 의해 지지된 대상물이 상기 경계의 일부를 형성하는 단계; 및 상기 제 2 기판 테이블에 의해 지지된 기판 상에 액체를 통해 패터닝된 방사선 빔을 투영하는 단계를 포함하여 이루어지는 디바이스 제조 방법이 제공된다.
일실시예에서, 방사선 빔을 컨디셔닝하도록 구성된 방사선 시스템; 방사선 빔을 패터닝하도록 구성된 패터닝 디바이스를 지지하도록 구성된 패터닝 디바이스 지지체; 기판을 지지하도록 구성된 기판 테이블; 상기 기판 상에 패터닝된 방사선 빔을 투영하도록 구성된 투영 시스템을 포함하는 리소그래피 장치가 제공되며, 상기 기판 테이블은 상기 기판을 지지하는 지지 표면 및 이동가능한 가장자리부(edge portion)를 포함하고, 상기 이동가능한 가장자리부는 상기 기판 테이블의 외부 가장자리 상에 배치되고, 상기 이동가능한 가장자리부의 최상부 표면이 상기 기판 테이블의 지지 표면과 실질적으로 동일한 면에 있는 제 1 위치 및 상기 이동가능한 가장자리부의 최상부 표면이 상기 지지체 표면에 실질적으로 수직인 제 2 위치 사이에서 이동가능하다.
일실시예에서, 기판을 지지하도록 구성된 기판 테이블을 포함하는 리소그래피 장치가 제공되며, 상기 가장자리부가 제 1 위치에 있는 경우에 상기 가장자리부는 상기 주요부(main portion)의 최상부 표면과 실질적으로 동일한 면에 있는 최상부 표면을 가지고, 평면도로 하여 상기 기판 테이블의 외부 가장자리를 나타내며, 상기 이동가능한 가장자리부는 상기 이동가능한 가장자리부가 상기 기판 테이블의 외부 가장자리를 형성하지 않는 제 2 위치로 상기 기판 테이블 주요부에 대해 이동가능하다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 리소그래피 장치를 개략적으로 도시한다. 상기 장치는: 방사선 빔(B)(예를 들어, UV 방사선 또는 DUV 방사선)을 컨디셔닝하도록 구성된 조명시스템(일루미네이터)(IL); 패터닝 디바이스(예를 들어, 마스크)(MA)를 지지하도록 구성되고, 특정 파라미터들에 따라 패터닝 디바이스를 정확히 위치시키도록 구성된 제1위치설정기(PM)에 연결된 지지 구조체(예를 들어, 마스크 테이블)(MT); 기판(예를 들어, 레지스트-코팅된 웨이퍼)(W)을 잡아주도록 구성되고, 특정 파라미터들에 따라 기판을 정확히 위치시키도록 구성된 제2위치설정기(PW)에 연결된 기판 테이블(예를 들어, 웨이퍼 테이블)(WT); 및 기판(W)의 타겟부(예를 들어 1 이상의 다이를 포함)(C)에 패터닝 디바이스(MA)에 의하여 방사선 빔(B)에 부여된 패턴을 투영하도록 구성된 투영시스템(예를 들어, 굴절 투영 렌즈 시스템)(PS)을 포함한다.
조명시스템은, 방사선의 지향, 성형 또는 조절을 위하여, 다양한 형태의 광학 구성요소들, 예컨대 굴절, 반사, 자기, 전자기, 정전기 또는 다른 형태의 광학 구성요소들, 또는 그 조합을 포함할 수 있다.
지지 구조체는 패터닝 디바이스를 지지한다. 즉 이의 중량을 견딘다. 지지 구조체는, 패터닝 디바이스의 방위, 리소그래피 장치의 디자인, 및 예를 들어 패터닝 디바이스가 진공 환경에서 유지되는지의 여부와 같은 다른 조건들에 의존하는 방식으로 패터닝 디바이스를 유지한다. 지지 구조체는 패터닝 디바이스를 유지하기 위해 기계적, 진공, 정전기, 또는 다른 클램핑 기술들을 이용할 수 있다. 지지 구조체는 예를 들어 필요에 따라 고정되거나 이동할 수 있는 프레임 또는 테이블일 수 있다. 지지 구조체는 패터닝 디바이스가, 예를 들어 투영시스템에 대해, 원하는 위치에 있을 것을 보장할 수 있다. 본 명세서의 "레티클" 또는 "마스크"라는 어떠한 용어의 사용도 "패터닝 디바이스"와 같은 좀 더 일반적인 용어와 동의어로도 간주될 수 있다.
본 명세서에서 사용되는 "패터닝 디바이스"라는 용어는, 예를 들어 기판의 타겟부에 패턴을 생성하기 위해서, 방사선 빔의 단면에 소정 패턴을 부여하는데 사용될 수 있는 임의의 디바이스를 의미하는 것으로 폭넓게 해석되어야 한다. 방사선 빔에 부여된 패턴은, 예를 들어, 상기 패턴이 위상-시프팅 피처(phase-shifting feature)들 또는 소위 어시스트 피처(assist feature)들을 포함하는 경우, 기판의 타겟부내의 원하는 패턴과 정확히 일치하지 않을 수도 있다는 것을 유의한다. 일반적으로, 방사선 빔에 부여된 패턴은 집적 회로와 같이 타겟부에 생성될 디바이스내의 특정 기능층에 해당할 것이다.
패터닝 디바이스는 투과형 또는 반사형일 수 있다. 패터닝 디바이스의 예로는 마스크, 프로그래밍가능한 거울 어레이 및 프로그래밍가능한 LCD 패널을 포함한다. 마스크는 리소그래피 분야에서 잘 알려져 있으며, 바이너리형, 교번 위상-시프트형 및 감쇠 위상-시프트과 같은 마스크 형식과 다양한 하이브리드 마스크 형식도 포함한다. 프로그래밍가능한 거울 어레이의 일례는 작은 거울들의 매트릭스 구성을 채택하며, 그 각각은 입사하는 방사선 빔을 상이한 방향으로 반사시키도록 개별적으로 기울어질 수 있다. 기울어진 거울들은 거울 매트릭스에 의해 반사되는 방사선 빔에 소정 패턴을 부여한다.
본 명세서에서 사용되는 "투영시스템"이라는 용어는, 사용되는 노광방사선에 대하여, 또는 침지 유체의 사용 또는 진공의 사용과 같은 다른 인자들에 대하여 적절하다면, 굴절, 반사, 카타디옵트릭, 자기, 전자기 및 정전기 광학 시스템들을 포함하는 임의의 타입의 투영시스템을 내포하는 것으로서 폭넓게 해석되어야 한다. 본 명세서의 "투영 렌즈"라는 용어의 어떠한 사용도 "투영시스템"과 같은 좀 더 일반적인 용어와 동의어로도 간주될 수 있다.
본 명세서에 도시된 바와 같이, 상기 장치는 (예를 들어, 투과 마스크를 채택하는) 투과형이다. 선택적으로, 상기 장치는 (예를 들어, 상기 언급된 바와 같은 형태의 프로그래밍가능한 거울 어레이를 채택하거나, 반사 마스크를 채택하는) 반사형이 될 수도 있다.
리소그래피 장치는 2개(듀얼 스테이지)이상의 기판 테이블 (및/또는 2이상의 마스크 테이블)을 갖는 형태일 수도 있다. 이러한 "다수 스테이지" 기계에서는 추가 테이블이 병행하여 사용될 수 있으며, 또는 1 이상의 테이블이 노광에 사용되고 있는 동안 1 이상의 테이블에서는 준비작업 단계가 수행될 수 있다.
도 1을 참조하면, 일루미네이터(IL)는 방사선 소스(S0)로부터 방사선 빔을 수용한다. 예를 들어, 상기 소스가 엑시머 레이저인 경우, 상기 소스 및 리소그래피 장치는 별도의 개체일 수도 있다. 이러한 경우, 상기 소스는 리소그래피 장치의 일부분을 형성하는 것으로 간주되지 않으며, 상기 방사선 빔은, 예를 들어 적절한 지향 거울 및/또는 빔 익스팬더를 포함하는 빔 전달 시스템(BD)의 도움으로, 소스(SO)로부터 일루미네이터(IL)로 통과된다. 다른 경우, 예를 들어 상기 소스가 수은 램프인 경우, 상기 소스는 리소그래피 장치의 통합부일 수 있다. 상기 소스(SO) 및 일루미네이터(IL)는, 필요하다면 빔 전달 시스템(BD)과 함께 방사선 시스템이라고도 칭해질 수 있다.
일루미네이터(IL)는 방사선 빔의 각도 세기 분포를 조정하는 조정기(AD)를 포함할 수도 있다. 일반적으로, 일루미네이터의 퓨필 평면내의 세기 분포의 적어도 외반경 및/또는 내반경 크기(통상적으로, 각각 σ-외측 및 σ-내측이라 함)가 조정될 수 있다. 또한, 일루미네이터(IL)는 인티그레이터(IN) 및 콘덴서(CO)와 같이 다양한 다른 구성요소들을 포함할 수 있다. 일루미네이터는 그 단면에 원하는 균일성과 세기 분포를 가지기 위해, 방사선의 빔을 컨디셔닝하는데 사용될 수 있다.
상기 방사선 빔(B)은, 지지 구조체(예를 들어, 마스크 테이블)(MT)상에 유지되어 있는 패터닝 디바이스(예를 들어, 마스크)(MA)상에 입사되며, 패터닝 디바이스에 의해 패터닝된다. 마스크(MA)를 가로질렀으면, 상기 방사선 빔(B)은 투영시스템(PS)을 통과하여 기판(W)의 타겟부(C)상에 상기 빔을 포커스한다. 제 2 위치설정기(PW) 및 위치 센서(IF), (예컨대, 간섭계 디바이스, 인코더 또는 용량성 센서)를 사용하여, 기판 테이블(WT)은, 예를 들어 방사선 빔(B)의 경로내에 상이한 타겟부(C)들을 위치시키도록 정확하게 이동될 수 있다. 이와 유사하게, 제 1 위치설정기(PM) 및 또 다른 위치센서(도 1에 명확히 도시되지 않음)는, 예를 들어 마스크 라이브러리로부터의 기계적인 회수 후에, 또는 스캔하는 동안, 방사선 빔(B)의 경로에 대해 마스크(MA)를 정확히 위치시키는데 사용될 수 있다. 일반적으로, 마스크 테이블(MT)의 이동은, 장-행정 모듈(long-stroke module)(개략 위치설정) 및 단-행정 모듈(short-stroke module)(미세 위치설정)의 도움을 받아 실현될 수 있으며, 이는 제 1 위치설정기(PM)의 일부분을 형성한다. 이와 유사하게, 기판 테이블(WT)의 이동도, 장-행정 모듈 및 단-행정 모듈을 이용하여 실현될 수 있으며, 이는 제 2 위치설정기(PW)의 일부분을 형성한다. (스캐너와는 대조적으로) 스테퍼의 경우, 상기 마스크 테이블(MT)은 단지 단-행정 액추에이터에만 연결되거나 고정될 수도 있다. 마스크(MA) 및 기판(W)은 마스크 정렬 마크(M1, M2) 및 기판 정렬 마크(P1, P2)를 이용하여 정렬될 수 있다. 비록, 예시된 기판 정렬 마크들이 지정된 타겟부(dedicated target portion)들을 차지하지만, 그들은 타겟부들간의 공간들내에 위치될 수도 있다(이들은 스크라이브-레인 정렬 마크들(scribe-lane alignment marks)로 알려져 있다). 이와 유사하게, 마스크(MA)상에 1이상의 다이가 제공되는 상황들에서는, 마스크 정렬 마크들이 다이들 사이에 위치될 수도 있다.
서술된 장치는 다음의 모드들 중 1이상에 사용될 수 있다:
1. 스텝 모드에서, 마스크 테이블(MT) 및 기판 테이블(WT)은 본질적으로 정지상태로 유지되는 한편, 방사선 빔에 부여되는 전체 패턴은 한번에 타겟부(C)상에 투영된다(즉, 단일 정적 노광(single static exposure)). 이후, 기판 테이블(WT)은 다른 타겟부(C)가 노광될 수 있도록 X 및/또는 Y 방향으로 시프트된다. 스텝 모드에서, 노광 필드의 최대 크기는 단일 정적 노광시에 이미징되는 타겟부(C)의 크기 를 제한한다.
2. 스캔 모드에서, 마스크 테이블(MT) 및 기판 테이블(WT)은, 방사선 빔에 부여되는 패턴이 타겟부(C)상에 투영되는 동안에 동기적으로 스캐닝(즉, 단일 동적 노광(single dynamic exposure))된다. 마스크 테이블(MT)에 대한 기판 테이블(WT)의 속도 및 방향은 확대(축소) 및 투영시스템(PS)의 이미지 반전 특성에 의하여 결정될 수 있다. 스캔 모드에서, 노광 필드의 최대 크기는 단일 동적 노광시 타겟부의 (스캐닝되지 않는 방향으로의) 폭을 제한하는 반면, 스캐닝 작동의 길이는 타겟부의 (스캐닝 방향으로의) 높이를 결정한다.
3. 또 다른 모드에서, 마스크 테이블(MT)은 프로그래밍가능한 패터닝 디바이스를 유지하여 기본적으로 정지된 상태로 유지되며, 방사선 빔에 부여된 패턴이 타겟부(C)상에 투영되는 동안, 기판 테이블(WT)이 이동되거나 스캐닝된다. 이 모드에서는, 일반적으로 펄스화된 방사선 소스(pulsed radiation source)가 채용되며, 프로그래밍가능한 패터닝 디바이스는 기판 테이블(WT)이 각각 이동한 후, 또는 스캔동안의 연속 방사선 펄스들 사이에 필요에 따라 업데이트된다. 이 작동 모드는 상기 언급된 바와 같은 형태의 프로그래밍가능한 거울 어레이와 같은 프로그래밍가능한 패터닝 디바이스를 이용하는 마스크없는 리소그래피(maskless lithography)에 용이하게 적용될 수 있다.
또한, 상술된 사용 모드들의 조합 및/또는 변형, 또는 완전히 다른 사용 모드들을 채용할 수 있다.
본 발명은 특히 도 2 내지 5에 도시된 것과 같은 국부화된 영역 형태의 액체 공급 시스템들에 사용하기에 특히 적합하다. 적합한 다른 액체 공급 시스템들이 있을 수 있다. 그러나, 기판 테이블 및/또는 기판 테이블에 의해 지지되는 기판 및/또는 다른 대상물의 최상부 표면의 국부화된 영역에만 액체를 제공하는 형태들이 본 발명에 가장 적합하다. 기판의 최상부 표면의 전체를 일시에 액체로 커버하는 형태도 적절하다.
침지 리소그래피에서는 투영 시스템(PS) 아래에서 기판을 교환하는 것이 특히 어렵다. 이를 수행하는 한가지 방법은 액체 공급 시스템으로부터 액체를 제거한 후 액체 공급 시스템을 재가동시키기(reactivating) 전에 투영 시스템(PS) 아래에서 새 기판(및 기판 테이블 또는 기존 기판 테이블과 함께 새 기판)을 재위치시키는 것이다. 그러나, 액체 공급 시스템으로부터 액체를 모두 제거하는 동안, 투영 시스템의 최종 요소 상에 건조 얼룩들이 나타날 수 있다.
이를 해결하기 위하여 액체 공급 시스템이 기판 교환 동안 액체로 계속 차 있을 수 있도록 기판 교환 동안 투영 시스템(PS) 아래에 더미(dummy) 기판을 위치시키는 것이 제안되었다. 이 방법에서, 더미 기판은 기판 테이블에 의해 지지될 수 있으며, 기판 테이블의 기판이 이미징된 후, 더미 기판이 투영 시스템(PS) 아래에 위치되도록 기판 테이블이 이동되고, 이어서 상기 더미 기판이 투영 시스템(PS)에 어떻게든 부착된다. 이어서, 기판 테이블은 멀리 이동될 수 있으며, 로딩된 새로운 기판 또는 새로운 기판을 갖는 상이한 기판 테이블이 투영 시스템(PS) 아래 위치로 이동될 수 있다. 그리고나서, 더미 기판이 기판 테이블 상에 낮춰진 후, 투영 시스템(PS) 아래에 기판이 위치되도록 기판 테이블이 이동된다. 이런 식으로, 기판 교 환동안 액체 공급 시스템을 비울(empty) 필요가 없다. 그러나, 이런 시스템은 기판 교환을 위해 특정량의 시간을 요구한다.
본 발명의 일 실시예는 현재 사용 중인 기판 테이블 다음에 제 2 기판 테이블을 위치시키고 두 기판 테이블들의 최상부 표면들이 실질적으로 동일면에 있도록 보장함으로써 기판 교환이 이루어지는 시스템을 사용한다. 이는 액체 공급 시스템이 액체를 원하는 공간에 누출 없이 효과적으로 유지할 수 있도록 한다. 기판 테이블들의 두 최상부 표면들이 서로 충분히 가깝다면, 기판 테이블들의 두 최상부 표면들 간에 존재할 수 있는 어떤 갭을 통해 상기 공간으로부터 액체가 누출되는 일 없이 상기 기판 테이블들을 투영 시스템(PS) 아래에 함께 이동시킬 수 있다. 기판 테이블들의 최상부 표면들 사이의 갭 간에 누출되는 어떤 물이 수집될 수 있도록 배출 시스템 또는 배수관(drain)가 기판 테이블들 사이에 제공될 수 있다. 이런 식으로, 이러한 기판 교환 방법은 상기된 다른 두 방법들보다 더 빠르므로 스루풋이 증가될 수 있다.
리소그래피 장치에서, 조절 시스템 고장(crash) 또는 정전(power failure)의 경우에 어떤 손상으로부터 시스템을 보호하는 것이 바람직하다. 이러한 이유로, 기판 테이블을 둘러싸는 보호 구역을 제공하고 다른 대상물들이 상기 보호 구역에 들어가지 못하도록 함으로써(예를 들어, 기판 테이블과 다른 대상물(예를 들어 다른 기판 테이블)의 충돌 동안에 어떤 충격을 받게 될 표면을 제공함으로써) 고장의 경우에 기판 테이블을 보호하는 크기 및 형태로 배치되는 보호 디바이스(예를 들어 범퍼)가 기판 테이블들(WT)에 제공된다. 일례는, 예를 들어 도 6, 7a, 8-10에 도시 된 바와 같은 범퍼(10)이지만, 도 7b에 도시된 것과 같이 다른 배치들도 똑같이 적용가능하다. 보호 디바이스 또는 시스템이 범퍼의 형태라면 보호 구역은 기판 테이블의 풋프린트(footprint)로 고려될 수 있다(예를 들어, 보호 구역은 다른 대상물들이 배제되는 영역이다).
본 발명의 일 실시예는, 범퍼에 의해 보호되고, 액체 공급 시스템의 턴오프(turning off) 없이 더미 기판도 사용하지 않고 투영 시스템 하에 두 개의 기판 테이블들을 동시에 이동시킴으로써 투영 시스템(PS) 아래에서 기판의 교환이 가능하도록 범퍼를 넘어 연장될 수 있는 최상부 표면을 가지는 기판 테이블에 관한 것이다. 완전하게 기능하는 범퍼의 안전 피처(safety feature)를 계속 유지하면서 이들은 모두 달성된다.
본 발명의 일실시예는 도 6에 도시된다. 도 6은 제 1 기판 테이블(WT1) 및 제 2 기판 테이블(WT2)의 단면을 도시한다. 기판 테이블들(WT1, WT2)은 투영 시스템(PS) 아래에서 한 기판 테이블(WT2)을 다른 기판 테이블(WT1)과 교환하기 전에 함께 운반되었다(brought). 이와 같이, 제 1 기판 테이블(WT1)에 의해 지지된 기판의 이미징은 종료되었고, 투영 시스템 아래에 제 2 기판 테이블(WT2)에 의해 지지된 새 기판을 운반하는 것이 바람직하다. 제 1 스테이지는 제 2 기판 테이블(WT2)을 제 1 기판 테이블(WT1)의 측면을 따라 운반하는 것이다. 이는 제 1 기판 테이블과 제 2 기판 테이블 모두 또는 기판 테이블들 중 하나만을 이동시키는 것을 포함할 수 있다. 각 기판 테이블은 기판 테이블을 평면도로 하여 둘러싸는 범퍼(10)에 의해 보호되고, 범퍼(10)가 어떤 다른 대상물과 기판 테이블의 어떤 충돌의 제 1 충격을 수용할 것을 보장하도록 크기화되고 형상화된다.
본 발명의 일 실시예에서, 기판 테이블들 각각의 최상부 표면들을 서로 충분히 가깝게 운반하여, 기판 테이블들(WT1, WT2)이 투영 시스템(PS) 아래에 동시에 함께 이동될 때 액체 공급 시스템의 턴오프 없이 부재들(20) 간에 존재하게 될 기판 테이블들(WT1, WT2)의 최상부 표면들 사이의 갭(25) 간에 실질적으로 어떤 액체도 누출되지 않을 수 있도록, 평면도로 하여 범퍼(10) 및 기판 테이블의 어떤 다른 일부를 넘어 연장되고 기판 테이블(WT1, WT2)의 최상부 표면을 연장하는 부재(20)가 제공된다.
국부화된 영역 형태의 액체 공급시스템은 일반적으로 액체가 제공되는 공간의 경계를 제공하기 위해 기판 테이블 및/또는 기판 테이블에 의해 지지된 기판 및/또는 다른 대상물의 최상부 표면에 의존한다. 예를 들어, 도 5의 액체 공급 시스템에서, 기판(및 기판 테이블 또는 다른 대상물) 및 배리어 부재(12) 사이에 시일(seal)(16)이 제공된다. 이와 같이, 배리어 부재(12)의 표면들 및 기판(W)의 최상부 표면 사이에 액체가 함유되는 공간(11)이 정의된다. 이와 같이, 본 발명의 일 실시예에서, 투영 시스템(PL) 하에 하나의 기판 테이블(WT1)을 다른 기판 테이블(WT2)과 교환하는 동안에 부재(20)의 최상부 표면에 의해 공간(11)의 경계의 적어도 일부가 제공된다. 두 부재들(20) 사이의 갭(25)이 충분히 작고 기판 테이블(WT1, WT2)이 빠르게 이동되면, 두 부재들(20) 사이의 갭(25) 간에는 실질적으로 어떤 액체도 누출되지 않을 것이다. 두 부재들(20) 간의 갭이 충분히 작게 되도록 하기 위해, 평면도로 하여 도 7a에 도시된 바와 같이 부재들(20)이 이들의 각각의 기판 테이블(WT)의 전체 외부 프로파일의 외부 가장자리를 형성하도록, 부재들(20)은 이하 기재된 사용 위치에서 평면도로 하여 범퍼(10)를 넘어 연장된다.
기판 테이블들(WT1, WT2)의 충돌(crash)시 안전을 유지하기 위해, 부재들(20)은, 범퍼가 충격 에너지를 흡수하는 그 기능을 수행할 수 있도록 기판 테이블(WT)의 충격(또는 충격의 가능성)이 유발되는 충돌의 상황에서 능동적으로 또는 수동적으로 이에서 벗어나(out of the way) 이동될 수 있도록 이동가능하게 디자인된다. 부재들(20)은 어떻게든(anyway) 이동가능하며 세가지 예시가 주어지지만, 이들 예시로만 본 발명이 제한되지 않는다.
이제 도 6의 실시예의 부재(20)가 더 상세히 기재될 것이다. 이들 피처들은 다른 실시예들에 똑같이 적용가능하다. 부재들(20)은 돌출부들로서 또는 브릿지 부재들로서 또는 가장자리부로서 나타내질 수 있다. 도 6의 실시예에서, 이들 부재들(20)은 기판 테이블(WT1)의 주요부의 최상부 표면의 길이방향 가장자리를 따라 힌지식으로 움직인다(30)(hinged). 도 6에서, 기판 테이블(WT1)의 주요부는 기판을 지지하도록 적합화된다. 사용시 또는 제 1 위치에서, 기판 테이블(WT1)의 주요부 및/또는 기판의 최상부 표면과 실질적으로 동일한 면에 있도록 부재(20)는 돌출된다. 이 위치에서, 부재는 평면도로 하여 기판 테이블(WT1)의 외부 프로파일의 가장자리를 정의하도록 기판 테이블의 잔부(rest)를 넘어 돌출된다.
도 6의 점선으로 도시된 들어간(retracted) 위치에서, 부재(20)는 평면도로 하여 기판 테이블(WT1)의 프로파일의 다른 가장자리를 형성하지 않는다. 이 위치에서, 평면도로 하여 기판 테이블(WT1)의 외부 가장자리를 형성하는 범퍼(10)에 의해 기판 테이블(WT1)이 보호될 것이므로 기판 테이블(WT1)이 다른 대상물과 충돌하는 것은 안전하다.
반드시 그렇지는 않더라도, 사용 위치 및 들어간 위치 사이에 부재(20)를 이동시키기 위해 (예를 들어 활동 형태(active type)의) 액추에이터가 제공될 수 있다. 액추에이터가 제공되는 경우, 검출기를 사용하여 다른 대상물의 근접 및 충돌의 가능성을 감지하는 센싱 시스템이 제공될 수도 있다. 센싱 시스템이 충돌이 일어날 것 같다고 추정하면, 부재(20)는 들어간 위치로 이동될 수 있다(또는 들어간 위치에서 유지될 수 있다). 사용하는 동안 부재(20)는 반드시 그렇지는 않더라도 일반적으로 사용 위치에서 유지될 것이다. 정전시에 부재(20)가 들어간 위치로 자동적으로 이동되도록 액추에이터가 바이어스될(biased) 수 있다. 대안적으로, 기판 테이블(WT1)에 전력(power)을 공급하는 동안 부재(20)가 사용 위치에서 유지되고 단전 시에 들어간 위치로 되돌아가는 배치가 사용될 수 있다. 이는, 예를 들어 솔라노이드(solanoid)를 사용하는 경우에 대해 배치될 수 있다. 이 실시예에서, 충돌이 일어날 것 같은 상황의 검출 시 솔라노이드에 전력을 끊기 위해 센서가 또한 제공될 수 있다. 제어기의 검출기는 예를 들어 임의의 형태를 취할 수 있으며, 검출기는 초음파 검출기, 광학 검출기가 될 수 있거나 기판 테이블(WT1)의 위치 검출기 및/또는 제어기에 결합될 수도 있다. 액추에이터는 전자기 액추에이터 또는 스프링 액추에이터가 될 수 있다.
스티커(50)가 부재(20)의 가장 내부의 가장자리 및 기판 테이블(WT1)의 가장 외부의 가장자리 사이에 제공되는 것으로 도시된다. 이 스티커는 한쪽은 접착성이 고 비교적 얇게 제조된다. 스티커는 부재(20)의 내부 가장자리 및 기판 테이블(WT1)의 외부 가장자리 사이의 갭(15)을 브릿지(bridge) 함으로써 기판 교환 동안 공간으로부터 갭(15) 안으로 액체가 누출되는 것을 막는다. 스티커는, 필요시 스티커에 의해 방해받지 않고 부재(20)가 이동되거나 사용 위치로부터 들어간 위치로 이동될 수 있도록 접착된다. 스티커가 사용되는 경우, 부재(20)가 들어간 위치로 이동되는 매번 이후에 스티커를 재접착하거나 새로운 스티커를 제공하는 것이 바람직할 수 있다. 부재(20)에는 또한 기판 테이블(WT1)의 최상부 표면에 접착되지 않으나 기판 테이블(WT1)의 최상부 표면의 외부 가장자리 및 부재(20)의 최상부 표면의 내부 가장자리 사이의 갭(15)을 브릿지하는 유사한 기능을 수행할 스티커를 대신하는 외부로 연장되는 (즉, 기판 테이블(의 중심) 쪽으로 연장되는) 돌출부가 제공될 수 있다.
부재(20)는 기판 테이블의 한쪽의 길이 전체를 따라 연장되는 것으로 도시되었다. 이는 반드시 그렇지는 않으며 부재들(20)이 기판 테이블의 일부만을 따라 연장될 수 있다, 예를 들어 이들은 평면도로 하여 공간(11) 만큼만 넓을 수 있다. 실제로, 도 6에서는 이동가능한 부재(20)가 기판 테이블의 두 반대편들 각각 상에 나타나 있다. 이는 반드시 그렇지는 않으며, 각 기판 테이블은 기판 테이블(WT1)의 하나 이상의 가장자리들 상에 하나 이상의 이동가능한 부재들(20)이 제공될 수 있다. 실제로, 한 쌍의 기판 테이블들(WT1, WT2) 사이에 하나의 이동가능한 부재(20) 만이 제공될 수 있다. 이러한 경우, 사용 위치에서 이동가능한 부재(20)가 더 연장되어 기판 테이블(WT1)의 최상부 표면 및 제 2 기판 테이블(WT2)의 최상부 표면 사 이의 브릿지를 그 자체로 형성하는 것이 바람직할 것이다.
범퍼(10)는 기판 테이블(WT1)을 완전히 둘러싸는 물리적 돌출부인 것으로 설명되었다. 명백히, 범퍼는 다른 방식으로 형성될 수 있으며, 기판 테이블(WT) 주위에 반드시 연속적으로 연장될 필요는 없고 불연속적일 수 있다. 그러나, 본 발명의 실시예의 주요사항들(principals)은 이러한 변형예에서 동일하며, 범퍼 및 범퍼의 가장자리라는 용어는 어떤 형태이든 간에 기판 테이블(WT1)을 보호하기 위한 충격 흡수물(absorber)에 의해 제공되는 효과적인 보호 구역(즉, 범퍼가 기판 테이블에 부착되지 않은 다른 대상물들을 배제하기에 효과적인 영역의 외부 가장자리)을 의미하는 것으로 해석되어야 한다.
당업자가 이해하는 바와 같이, 범퍼(10)는 다른 형태를 취할 수 있다. 이러한 적용예에서 범퍼(10)가 설명되는 경우, 이의 의미는 기판 테이블 주위에 모두 연속적으로 연장되지 않을 수 있되 기판 테이블을 보호하는 효과적인 구역을 형성하는 범퍼의 다른 실시예들까지 연장되어야 한다. 예를 들어, 범퍼(10)는 중실형(solid)으로 만들어지기보다는 도 7a에 도시된 경계(10)의 외부 가장자리로 각각 연장되고 가까이 이격된(closely spaced) 일련의 외부로 얇은 돌출부들을 포함할 수 있다. 이러한 실시예에서, 얇은 돌출부들에 의해 제공된 효과적인 돌출부는 도 7a에 도시된 바와 같은 범퍼(10)의 외부 가장자리로 연장될 것이다. 이러한 실시예들은 본 발명의 실시예들의 상세한 설명 내에 포함될 것이며, 상기 보호 구역 정도(degree)에 대응하는 연장 정도를 도 7a에 도시된 배리어(10)의 주변으로 또한 연장하는 것으로 생각될 것이다.
도 7b는 배리어(10)을 갖는 대신 도 7a에 도시된 실시예의 배리어(10)의 풋프린트와 유사한 풋프린트를 갖는 보호 구역(10')을 제공하는 상이한 보호 시스템이 기판 테이블들에 제공된다는 것을 제외하고는 도 7a과 동일하다. 보호 구역(10')은 다른 대상물들 및 특히 다른 기판 테이블(WT)이 보호 구역(10')에 들어갈 수 없도록 배치된다.
도 7b의 실시예에서, 기판 테이블들(WT)은 개별 액추에이터들에 의해 xy 면에 각각 위치된다. 기판 테이블들(WT)은 y 방향으로 연장되는 부재들(70)에 부착된다. 기판 테이블(WT)은 부재들(70)을 위 아래로 이동킴으로써 그 자체를 y 방향으로 위치시킬 수 있다. 부재들(70)은 부재(70)를 x 방향으로 이동시킬 수 있는 하나 이상의 x 위치설정 디바이스(80)에 부착된다. 두 기판 테이블들 모두에 이러한 위치설정 디바이스(70, 80)가 제공된다.
보호 시스템은 그렇지 않을 수 있다 할지라도 x 위치설정 디바이스(80)에 부착되며, 두 모든 기판 테이블 부재(70) 및 x 위치설정 수단(80)의 조합물에 보호 시스템이 부착될 수 있다. 보호 시스템은 일련의 범퍼들 또는 스프링들(100, 110)을 포함한다. 기판 테이블들이 서로 다른 구역(10')에 들어가기 전에 보호 시스템(100, 110)의 범퍼들 또는 스프링들이 서로 상호작용하거나, 기판 테이블들이 요소들(70)의 말단에서 대상물들과 거의 충돌하게 되기 전에 배리어들(110)이 기판 테이블들 자체와 상호작용하도록, 범퍼들 또는 스프링들이 위치화 및/또는 치수화된다.
범퍼(10)가 돌출 구역(10')으로 대체된다는 것을 제외하고는 도 6 및 7a와 관련하여 기재된 것과 동일한 원리들이 부재(20)에 대해 도 7b에 설명된 실시예에 적용된다. 이하의 실시예들은 또한 도 6 및 7a의 실시예에 대해서와 같이 도 7b의 실시예에 적용가능하다.
본 발명의 일 실시예는 단 하나의 기판 테이블에 부재(20) 또는 보호 시스템이 제공되는 상황에 똑같이 적용가능하다.
부재(20)는 이의 개별 기판 테이블에 대해 이동가능하다. 도 6의 실시예에서 이는 회전에 의해서이고, 도 8의 실시예에서는 이는 병진(translation)에 의해서이며, 도 10의 실시예에서는 이는 회전 및/또는 병진에 의해서일 수 있으며, 실제로 부재는 기판 테이블로부터 완전히 탈착(detach)될 수 있다. 다시 말해, 부재(20)는 도 10의 실시예에서 새크리피셜(sacrificial)이다.
도 8 및 9는 이하 기재된 것을 제외하고는 도 6의 실시예와 동일한 본 발명의 일 실시예를 설명한다. 도 8의 실시예에서, 이동가능한 부재들(20)은 사용 위치에서 평면도로 하여 연장되어 기판 테이블의 경계의 외부 가장자리를 형성하고, 들어간 위치에서(이는 기판 테이블의 나머지부 내에 완전히 들어가거나 단지 부분적으로 들어갈 수 있다) 기판 테이블의 외부 경계의 일부를 형성하지 않도록 병진가능하다.
도 8의 실시예의 이동가능한 부재들의 액추에이션(actuation)은 도 6의 실시예의 액추에이션과 동일하거나 유사할 수 있다. 스티커들(50)이 이동가능한 부재(20) 및 기판 테이블(WT)의 최상부 표면 사이의 갭 간에 사용될 수도 있다. 또한, 두 기판 테이블들 사이의 갭(25) 간에 누출되는 어떤 액체가 포함될 수 있는 방법이 도 8의 실시예와 관련하여 이하에서 기재된다. 이들은 모든 다른 실시예들에 똑같이 적용가능하다.
한가지 방법은 갭(25) 속으로 들어가는 어떤 액체를 빨아들이기 위해 이들의 사용 위치들에서 이동가능한 부재들(20) 중 하나 또는 둘 모두의 가장 외부의 가장자리에 저압 소스와 같은 액체 제거 디바이스를 제공하는 것이다. 설명되는 대안적인 실시예는 이동가능한 부재들(20) 사이의 갭(25)을 통해 들어가는 어떤 액체를 받기 위해 이동가능한 부재들(20) 중 하나에 이동가능한 부재(20) 아래에 부착된 배수관(60)를 제공하는 것이다. 배수관(60)은 나타낸 바와 같이 J 형태가 될 수 있으며, 두 이동가능한 부재들(20) 사이의 갭 아래에 연장되어 갭으로부터 어떤 액체 방울들을 받아 이러한 액체를 포함하거나 및/또는 이를 멀리 수송한다. 배수관(60) 내 임의의 액체는, 예를 들어 저압 소스와 같은 통상적인 수단들에 의해 제거될 수 있다. 배수관(60)는 또한 다른 구성요소들에 부착될 수 있으며, 이동가능한 부재(20)에는 부착되지 않을 수 있다. 예를 들어, 이는 장 행정 액추에이터 또는 기판 테이블의 일부에 부착될 수 있다.
도 9에 나타낸 바와 같이, 이동가능한 부재들은 기판 테이블의 한 가장자리의 전체 길이를 따라 연장되지 않으며, 두 기판 테이블들이 함께 이동하는 동안에 기판 테이블들의 상대적인 위치가 일정하게 유지될 필요는 없다. 도 8의 실시예에서, 이동가능한 부재가 이의 들어간 위치로 이동될 때 안으로 이동되기 위해 하우징(70)이 바람직하다. 두 부재들의 거리는 약 500 내지 0 ㎛ 또는 약 500 내지 5 ㎛ 정도이다. 타겟은 약 100 ㎛이지만 접할(touching) 수도 있다.
일 실시예에서, 부재들(20) 중 하나는, 이 실시예에서 범퍼(10)를 넘어 연장되지 않고 평면도로 하여 기판 테이블의 프로파일의 외부 가장자리의 일부를 형성하지 않더라도, 사실상 고정될(fixed) 수 있다.
도 10은 이하 기재된 바를 제외하고는 도 6의 실시예 및 도 8의 실시예와 동일한 일 실시예를 나타낸다. 도 10의 실시예에서, 이동가능한 부재(20)는 새크리피셜 이동가능한 부재이다. 이 실시예에서, 이동가능한 부재는 약부(weakness)(80), 예를 들어 물질의 얇은 비트(bit)에 의해서나 또는 부재(20) 및/또는 기판 테이블 최상부 표면만큼 강하지 않은 물질에 의해 기판 테이블(WT)에 부착된다. 대안적으로, 약부는 실제로 물리적 분리부(physical separation)가 될 수 있으며, 이동가능한 부재 또는 기판 테이블의 수(male) 돌출부가 이동가능한 부재 및 기판 테이블 중 다른 것의 암(female) 수용체 피처 내에 유지되는 프레스 피팅(press fitting)에 의해 이동가능한 부재가 기판 테이블(WT)에 유지된다. 이러한 프레스 피팅은 두 부재들을 함께 유지하지만 적은 힘으로 끊어질(broken) 수 있다. 충돌시, 새크리피셜 부재(20)가 범퍼(10)의 유효 구역을 넘어 연장되고 범퍼에 앞서 충격을 수용할 수 있다 할지라도, 대다수의 충격 에너지가 범퍼(10)에 의해 계속 흡수되도록 부재(20)가 약부(80)에서 적은 힘으로 끊어지거나(break off) 편향될(deflected) 것이므로, 이를 통해 부재가 충돌하는 기판 테이블(WT) 또는 대상물의 대규모 손상은 일어나지 않을 것이다. 약부(80)는 예를 들어 약한 결합(coupling), 예를 들어 영구 자석들 또는 전자석을 사용하는 자석(magnetic)일 수 있거나, 약한 접착제일 수 있거나, 부재(20) 두께의 가늘어지는 부분(thinning)이 될 수 있다. 따라서, 충격 시 부재(20)는 얇은 영역에서 끊어질 것이다.
새크리피셜 이동가능한 부재가 손상이 일어날 수 있는 위치에 떨어지는 것을 막고자 끊어진 후에 유지하기 위해 리테이너(retainer)가 제공될 수 있다. 리테이너는 끊어진 일부를 안전 영역으로 (예를 들어, 투영 시스템으로부터 멀리) 지향하거나 기판 테이블에 부착되어 유지되도록 구성 및 배치될 수 있다. 리테이너는 예를 들어 기계적 리테이너, 예를 들어 스프링, 유연성 타이(flexible tie) 등이 될 수 있거나, 끊어진 후에 이동가능한 부재를 끌어당기기 위해 (이동가능한 부재가 자석인 경우) 자석이 될 수 있다.
도 11은 상기된 실시예들 중 임의의 실시예에 사용될 수 있는 상이한 형태의 기판 테이블(WT)을 나타낸다. 기판 테이블(WT)은 장행정 모듈(150) 및 단행정 모듈(170)을 포함한다. 장행정 모듈(150)은 개략 위치설정을 위해 사용되고 단행정 모듈(170)(이는 장행정 모듈(150)에 의해 지지되고 장행정 모듈(150)에 대해 이동한다)은 미세 위치설정을 위해 사용된다. 기판은 단행정 모듈(170) 상에 유지된다. 도 11에 나타낸 실시예에서, 이동가능한 부재(20)는 장행정 모듈(150)에 부착된다. 이동가능한 부재가 될 수도 있는 돌출부(160)가 장행정 모듈(150) 상에 제공되어, 기판 교환동안 단행정 모듈(170) 및 장행정 모듈(150) 사이에 좁은 갭이 가능하도록 보장한다. 다른 배치들은 단행정 모듈(170) 상에 이동가능한 부재(20)를 제공하는 것을 포함하는 것도 가능하다.
상기된 들어갈 수 있는 부재(20)의 사용에 대한 몇가지 대안예들이 있다. 예를 들어, 들어갈 수 있는 부재(20)의 필요 없이 기판 테이블들의 최상부 표면들이 서로 가까이 있게 이동될(maneuvered) 수 있도록 범퍼 그 자체를 들어가도록 하는 것이 가능하다. 대안적으로, 이들의 최상부 표면들이 서로 충분히 가까이 있도록 두 기판 테이블들이 이동될 수 있는 특정 위치들을 갖도록 범퍼들이 배치될 수 있다. 한 간단한 실시예는 하나의 범퍼에 슬롯(slot)이 제공되고 다른 범퍼에 슬롯에 꼭 맞는 키(key)가 제공되는 슬롯 및 키 배치가 될 것이다. 이를 통해, 특정한 상대적 위치에서, 한 범퍼의 키가 다른 범퍼의 슬롯 속으로 삽입되고, 기판 테이블들(WT)의 최상부 표면들을 서로에게 더 가까이 가져올 수 있다. 보다 복잡한 버전의 슬롯 및 키 실시예, 예를 들어 기판 테이블들의 최상부 표면들을 서로 충분히 가까이 가져오기 위해 두 기판 테이블들의 하나 이상의 특정한 병진 또는 상대적 이동이 필요하도록 미로 슬롯(labyrinth slot)을 통해 이동하는 핀을 포함하는 실시예도 가능하다. 예를 들어, 슬롯은, 한 부분이 기판 테이블의 벌크(bulk)를 향하고 다음 부분이 기판 테이블의 가장자리와 평행하고 다음 부분이 다시 기판 테이블의 벌크를 향하는 세 부분들로 채널이 구성되도록 두개의 90 °절곡부들(bends)을 갖는 채널을 나타낼 수 있다. 이런 식으로, 간단한 슬롯 및 키 메커니즘 상에서 기판 테이블들의 원하는 상대적 이동들이 뜻하지 않게(accidentally) 수행되어 충돌이 일어날 가능성이 상당히 감소된다. 미로 형태의 해결책은 또한 범퍼들(10) 중 하나 또는 둘 모두의 z 방향(즉, 광학 축과 동일한 방향)으로의 이동의 필요성을 포함할 수 있다. 범퍼들이 기판 테이블의 가장자리와 평행한 슬롯/키를 포함하도록 배치하는 것도 가능하다. 이는, 기판 테이블들 사이에 직접 충돌 상대 이동(direct collision relative movement)이 만들어질 때 두 범퍼들이 기판 테이블의 깨지기 쉬운 일부들의 충돌을 막도록 상호작용할 것임을 의미한다. 그러나, 배리어 부재들 중 하나의 슬롯에 다른 기판 테이블의 범퍼 상의 키(돌출부)가 들어가도록 기판 테이블들을 이동시키고 이어서 돌출부가 슬롯에 슬라이딩하여 기판 테이블들의 두 최상부 표면들을 함께 모아 줌으로써 기판 테이블의 두 최상부 표면들을 서로 가까이 가져올 수 있다. 이 시스템은 슬롯 상에 커버를 제공함으로써 더 개량될(refine) 수 있다. 커버는 두 기판 테이블들이 서로 가까이 있고 속도가 낮을 때 액추에이터에 의해서만 제거된다. 따라서, 범퍼들(예를 들어, 커버를 치는(hitting) 돌출부) 사이에 어떤 고도 에너지 충돌이 있고 커버가 폐쇄된 위치로 바이어스될 수 있도록 보장하기 위해 페일 세이프(fail safe) 위치는 슬롯 상에 커버를 갖는다. 기판 충돌 동안, 돌출부가 슬롯 내에 삽입될 수 있도록 커버가 제거될 수 있다. 마지막으로 가능한 일은 범퍼(10)를 기판 테이블의 베이스에 대해 정지상으로 유지하되(도 6 참조) 기판 테이블들의 최상부 표면들이 만날 수 있도록 기판 테이블의 최상부를 범퍼(10) 및 기판 테이블의 베이스에 대해 이동시키는 것이다. 그러나, 상기된 메커니즘들 중 어떤 것은 전적으로는 페일 세이프가 아니라는 단점을 갖는다.
본 명세서에서는, IC의 제조에 있어서 리소그래피 장치의 특정 사용예에 대하여 언급되지만, 본 명세서에서 서술된 리소그래피 장치는 집적 광학 시스템, 자기 도메인 메모리용 유도 및 검출 패턴, 평판 디스플레이(flat-panel display), 액정 디스플레이(LCD), 박막 자기 헤드 등의 제조와 같이 다른 응용예들을 가질 수도 있음을 이해하여야 한다. 당업자라면, 이러한 대안적인 적용예와 관련하여, 본 명세서의 "웨이퍼" 또는 "다이"와 같은 용어의 어떠한 사용도 각각 "기판" 또는 "타 겟부"와 같은 좀 더 일반적인 용어와 동의어로 간주될 수도 있음을 이해할 것이다. 본 명세서에서 언급되는 기판은, 노광 전후에, 예를 들어 트랙(전형적으로, 기판에 레지스트층을 도포하고 노광된 레지스트를 현상하는 툴), 메트롤로지 툴 및/또는 검사툴에서 처리될 수 있다. 적용가능하다면, 이러한 기판 처리 툴과 다른 기판 처리 툴에 본 명세서의 기재내용이 적용될 수 있다. 또한, 예를 들어 다층 IC를 생성하기 위하여 기판이 한번 이상 처리될 수 있으므로, 본 명세서에 사용되는 기판이라는 용어는 이미 여러번 처리된 층들을 포함한 기판을 칭할 수도 있다.
본 명세서에서 사용되는 "방사선" 및 "빔"이란 용어는 (예를 들어, 파장이 약 365, 248, 193, 157 또는 126㎚인) 자외(UV)방사선을 포함하는 모든 타입의 전자기 방사선을 포괄한다.
본 명세서가 허용하는 "렌즈"라는 용어는, 굴절 및 반사 광학 구성요소들을 포함하는 다양한 타입의 광학 구성요소들 중 어느 하나 또는 그 조합을 나타낼 수 있다.
이상, 본 발명의 특정 실시예들이 서술되었지만, 본 발명은 서술된 것과 다르게 실시될 수도 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 예를 들어, 본 발명은 상기에 개시된 바와 같은 방법을 설명하는 기계-판독가능한 명령어들의 1 이상의 시퀀스들을 포함하는 컴퓨터 프로그램, 또는 이러한 컴퓨터 프로그램이 저장되는 데이터 저장 매체(예컨대, 반도체 메모리, 자기 또는 광학 디스크)의 형태를 취할 수 있다.
본 발명은 어떤 침지 리소그래피 장치, 특히(배타적이지 않음) 상기 언급된 형태에 적용될 수 있다.
상기 서술내용은 예시를 위한 것이지, 제한하려는 것이 아니다. 따라서, 하기에 설명되는 청구항들의 범위를 벗어나지 않고 서술된 본 발명에 대한 변형예가 행해질 수도 있음이 당업자에게는 명백할 것이다.
본 발명에 의하면, 액체의 액체 공급 시스템을 배수할(drain) 필요 없이 침지 장치의 투영 시스템 아래에서 기판 테이블들이 위치들을 교환할 수 있는 장치가 얻어진다.

Claims (38)

  1. 기판을 지지하도록 구성된 기판 테이블을 포함하여 이루어지고, 상기 기판 테이블은 주요부 및 이동가능한 가장자리부를 포함하고,
    상기 가장자리부가 제 1 위치에 있을 때, 상기 가장자리부는 상기 주요부의 최상부 표면과 실질적으로 동일한 면에 있는 최상부 표면을 가지고, 평면도로 하여 상기 기판 테이블의 외부 가장자리를 나타내고,
    상기 이동가능한 가장자리부는 상기 이동가능한 가장자리부가 상기 기판 테이블의 외부 가장자리를 형성하지 않는 제 2 위치로 기판 테이블 주요부에 대해 이동가능한 것을 특징으로 하는 리소그래피 장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 이동가능한 가장자리부는 상기 제 1 위치로부터 상기 이동가능한 가장자리부가 평면도로 하여 상기 기판 테이블의 외부 가장자리를 형성하지 않는 들어간 위치로 힌지(hinge)에 대해 힌지식으로(hingeably) 회전가능한 것을 특징으로 하는 리소그래피 장치.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 이동가능한 가장자리부는 상기 기판 테이블에 대해 슬라이딩 가능하게 부착되고, 상기 제 1 위치로부터 상기 이동가능한 가장자리부가 평면도로 하여 상 기 기판 테이블의 외부 가장자리를 형성하지 않는 들어간 위치로 병진가능한 것을 특징으로 하는 리소그래피 장치.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 이동가능한 가장자리부는 비교적 적은 힘으로 끊을 수 있는 새크리피셜 약부(sacrificial weakness)를 통해 상기 기판 테이블에 부착되는 것을 특징으로 하는 리소그래피 장치.
  5. 제 1 항에 있어서,
    상기 이동가능한 가장자리부는 수동적이고, 외부적으로 적용된 힘을 적용함으로써 이동가능한 것을 특징으로 하는 리소그래피 장치.
  6. 제 1 항에 있어서,
    상기 기판 테이블은 상기 이동가능한 가장자리부를 상기 제 1 위치로부터 상기 이동가능한 가장자리부가 평면도로 하여 상기 기판 테이블의 외부 가장자리를 형성하지 않는 들어간 위치로 이동시키도록 구성된 액추에이터를 더 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 리소그래피 장치.
  7. 제 6 항에 있어서,
    상기 액추에이터는 전자기 또는 스프링 액추에이터인 것을 특징으로 하는 리 소그래피 장치.
  8. 제 6 항에 있어서,
    (a) 대상물과 상기 이동가능한 가장자리부의 임박한 충돌을 검출하고,
    (b) 상기 가장자리부를 상기 들어간 위치로 이동시키도록 상기 액추에이터에 조절 신호들을 보내도록 구성된 검출기를 더 포함하여 이루어지는 리소그래피 장치.
  9. 제 1 항에 있어서,
    방액(liquid proof) 스티커가 상기 이동가능한 가장자리부의 최상부 표면 및 상기 기판 테이블의 최상부 표면 사이의 갭 상에 위치되는 것을 특징으로 하는 리소그래피 장치.
  10. 제 1 항에 있어서,
    액체 제거기가 상기 기판 테이블 원위의 상기 가장자리부의 말단에서 떨어지는 어떤 액체를 제거하기 위해 상기 기판 테이블 상에 제공되는 것을 특징으로 하는 리소그래피 장치.
  11. 제 1 항에 있어서,
    액체 제거기가 상기 기판 테이블 원위의 상기 이동가능한 가장자리부의 말단 에 제공되는 것을 특징으로 하는 리소그래피 장치.
  12. 제 10 항에 있어서,
    상기 액체 제거기가 상기 이동가능한 가장자리부의 최상부 표면의 외부 가장자리 밑에 위치된 배수관(drain)을 포함하는 것을 특징으로 하는 리소그래피 장치.
  13. 제 1 항에 있어서,
    기판을 지지하도록 구성된 부가적인 기판 테이블을 더 포함하여 이루어지고, 상기 부가적인 기판 테이블은 주요부 및 이동가능한 가장자리부를 포함하고, 상기 부가적인 기판 테이블의 가장자리부가 제 1 위치에 있는 경우, 상기 부가적인 기판 테이블의 가장자리부는 상기 부가적인 기판 테이블 주요부의 최상부 표면과 실질적으로 동일한 면에 있는 최상부 표면을 가지고 평면도로 하여 상기 부가적인 기판 테이블의 외부 가장자리를 나타내고, 상기 부가적인 기판 테이블의 이동가능한 가장자리는 상기 이동가능한 가장자리부가 상기 부가적인 기판 테이블의 외부 가장자리를 형성하지 않는 제 2 위치로 상기 부가적인 기판 테이블에 대해 이동가능한 것을 특징으로 하는 리소그래피 장치.
  14. 제 1 항에 있어서,
    상기 기판 테이블은 상기 기판 테이블을 적어도 부분적으로 둘러싸고 충돌시에 충격 에너지의 적어도 일부를 흡수하도록 구성된 돌출 범퍼를 가지는 것을 특징 으로 하는 리소그래피 장치.
  15. 제 1 항에 있어서,
    상기 기판 테이블은 단행정 모듈 및 장행정 모듈을 포함하고, 상기 이동가능한 가장자리부는 상기 장행정 모듈에 부착되는 것을 특징으로 하는 리소그래피 장치.
  16. 제 1 항에 있어서,
    상기 가장자리부는 상기 주요부에 연결되는 것을 특징으로 하는 리소그래피 장치.
  17. 액체의 내부 한정을 위한 공간의 측벽들을 적어도 부분적으로 정의하는 배리어 부재, 제 1 또는 제 2 기판 테이블 및/또는 상기 제 1 및 제 2 기판 테이블 상에 지지된 기판 및/또는 상기 제 1 및 제 2 기판 테이블 상에 지지된 또다른 대상물의 최상부 표면에 의해 정의되는 상기 공간의 최하부 표면을 포함하는 액체 한정 시스템을 포함하여 이루어지고,
    상기 제 1 및 제 2 기판 테이블 중 하나 이상은 상기 제 1 또는 제 2 기판 테이블 및/또는 상기 제 1 및 제 2 기판 테이블 상에 지지된 기판 및/또는 상기 제 1 및 제 2 기판 테이블 상에 지지된 다른 대상물의 상기 최상부 표면의 면에 상기 공간의 상기 최하부 표면의 적어도 일부를 형성하도록 구성된 이동가능한 브릿지를 포함하고,
    상기 이동가능한 브릿지가 상기 제 1 및 제 2 기판 테이블들 사이에서 실질적으로 연장되고 상기 최하부 표면의 적어도 일부분을 정의할 수 있도록 상기 제 1 및 제 2 기판 테이블이 서로에 대해 위치가능한 것을 특징으로 하는 리소그래피 장치.
  18. 투영 시스템 하에 각각 위치가능한 제 1 및 제 2 테이블;
    상기 투영 시스템 및 상기 제 1 및 제 2 테이블들 중 하나 및/또는 상기 제 1 및 제 2 테이블들 중 상기 하나 상의 대상물 사이에 액체를 제공하도록 구성된 액체 공급 시스템을 포함하여 이루어지고,
    상기 제 1 및 제 2 기판 테이블들 중 하나 이상은, 사용 위치에서 상기 제 1 및 제 2 테이블들의 최상부 표면과 실질적으로 동일한 면에 있는 최상부 표면을 가지고, 평면도로 하여 상기 제 1 및 제 2 테이블들 중 상기 하나 이상의 어떤 다른 일부만큼 적어도 돌출되는 들어갈 수 있는 브릿지(retractable bridge)를 가져, 상기 제 1 및 제 2 테이블들 사이에서 상기 액체 공급 시스템으로부터의 액체의 누출을 실질적으로 막기 위해 서로 충분히 가까운 표면들을 갖는 상기 투영 시스템 하에 상기 제 1 및 제 2 테이블들이 함께 이동되는 것을 특징으로 하는 리소그래피 장치.
  19. 제 18 항에 있어서,
    들어간 상태에서, 상기 제 1 및 제 2 기판 테이블들 중 상기 하나의 상기 들어갈 수 있는 브릿지는, 평면도로 하여, 상기 제 1 및 제 2 기판 테이블들 중 상기 하나에 여전히 부착되는 경우에, 상기 제 1 및 제 2 기판 테이블들 중 상기 다른 하나가 이동하도록 구성되는 어떤 영역으로 연장되지 않는 것을 특징으로 하는 리소그래피 장치.
  20. 기판을 지지하도록 구성된 기판 테이블;
    적어도 또다른 대상물이 들어갈 수 없는 상기 기판 테이블 주위 보호 구역을 정의하는 보호 시스템을 포함하여 이루어지고;
    상기 기판 테이블은 주요부 및 이동가능한 가장자리부를 포함하고, 상기 가장자리부가 제 1 위치에 있는 경우에 상기 이동가능한 가장자리부는 상기 기판 테이블 주요부의 최상부 표면과 실질적으로 동일한 면에 있는 최상부 표면을 가지고, 상기 이동가능한 가장자리부는 상기 이동가능한 가장자리부가 상기 보호 구역에서 돌출되지 않는 제 2 위치로 상기 기판 테이블 주요부에 대해 이동가능한 것을 특징으로 하는 리소그래피 장치.
  21. 제 20 항에 있어서,
    상기 하나 이상의 다른 대상물이 부가적인 표면 테이블인 것을 특징으로 하는 리소그래피 장치.
  22. 제 20 항에 있어서,
    상기 이동가능한 가장자리부는, 상기 제 1 위치로부터 상기 이동가능한 가장자리부가 평면도로 하여 상기 보호 구역으로부터 돌출되지 않는 들어간 위치로, 힌지에 대해 힌지식으로 회전가능한 것을 특징으로 하는 리소그래피 장치.
  23. 제 20 항에 있어서,
    상기 이동가능한 가장자리부는 상기 기판에 대해 슬라이딩 가능하게 부착되고, 상기 제 1 위치로부터 상기 이동가능한 가장자리부가 평면도로 하여 상기 보호 구역으로부터 돌출되지 않는 들어간 위치로 이동가능한 것을 특징으로 하는 리소그래피 장치.
  24. 제 20 항에 있어서,
    상기 이동가능한 가장자리부는 비교적 적은 힘으로 끊을 수 있는 새크리피셜 약부를 통해 상기 기판 테이블에 부착되는 것을 특징으로 하는 리소그래피 장치.
  25. 제 20 항에 있어서,
    상기 이동가능한 가장자리부는 수동적이고, 외부적으로 적용된 힘을 적용함으로써 이동가능한 것을 특징으로 하는 리소그래피 장치.
  26. 제 20 항에 있어서,
    상기 기판 테이블은 상기 이동가능한 가장자리부를 상기 제 1 위치로부터 상기 이동가능한 가장자리부가 평면도로 하여 상기 보호 구역으로부터 돌출되지 않는 들어간 위치로 이동시키기 위한 액추에이터를 더 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 리소그래피 장치.
  27. 제 20 항에 있어서,
    상기 액추에이터는 전자기 또는 스프링 액추에이터인 것을 특징으로 하는 리소그래피 장치.
  28. 제 20 항에 있어서,
    (a) 대상물과 상기 이동가능한 가장자리부의 임박한 충돌을 검출하고,
    (b) 상기 가장자리부를 상기 들어간 위치로 이동시키도록 상기 액추에이터에 조절 신호들을 보내도록 구성된 검출기를 더 포함하여 이루어지는 리소그래피 장치.
  29. 제 20 항에 있어서,
    방액(liquid proof) 스티커가 상기 이동가능한 가장자리부의 상기 최상부 표면 및 상기 기판 테이블 주요부의 상기 최상부 표면 사이의 갭 상에 위치되는 것을 특징으로 하는 리소그래피 장치.
  30. 제 20 항에 있어서,
    액체 제거기가 상기 기판 테이블 원위의 상기 가장자리부의 말단에서 떨어지는 어떤 액체를 제거하기 위해 상기 기판 테이블 상에 제공되는 것을 특징으로 하는 리소그래피 장치.
  31. 제 20 항에 있어서,
    액체 제거기가 상기 기판 테이블 원위의 상기 가장자리부의 말단에 제공되는 것을 특징으로 하는 리소그래피 장치.
  32. 제 20 항에 있어서,
    액체 제거기가 상기 가장자리부의 최상부 표면의 외부 가장자리 밑에 위치된 배수관을 포함하는 것을 특징으로 하는 리소그래피 장치.
  33. 제 20 항에 있어서,
    기판을 지지하도록 구성된 부가적인 기판 테이블을 더 포함하여 이루어지고, 상기 기판 테이블은 주요부 및 이동가능한 가장자리부를 포함하고, 상기 부가적인 기판 테이블의 이동가능한 가장자리부가 제 1 위치에 있는 경우, 상기 이동가능한 가장자리부는 상기 부가적인 기판 테이블 주요부의 최상부 표면과 실질적으로 동일한 면에 있는 최상부 표면을 가지고 평면도로 하여 상기 부가적인 기판 테이블의 외부 가장자리를 나타내고, 상기 부가적인 기판 테이블의 상기 이동가능한 가장자 리부는 상기 부가적인 기판 테이블에 대해 이동가능한 것을 특징으로 하는 리소그래피 장치.
  34. 제 20 항에 있어서,
    상기 기판 테이블은 위치설정 디바이스에 의해 위치되고, 상기 보호 시스템은 상기 위치설정 디바이스에 고정된 기계적 범퍼로 적어도 부분적으로 구성되는 것을 특징으로 하는 리소그래피 장치.
  35. 패터닝된 빔이 투영되는 공간, 상기 공간의 경계의 일부를 형성하는 제 1 기판 테이블 및/또는 상기 제 1 기판 테이블에 의해 지지되는 대상물에 액체를 제공하는 단계;
    상기 기판 및/또는 상기 대상물, 및 또다른 대상물 사이에서 작용하는 시일(seal)을 사용하여 상기 공간 내에 액체를 실링하는 단계;
    제 2 기판 테이블을 제공하고, 상기 제 1 및 제 2 기판 테이블들 중 하나 이상은 사용 위치에서 전개된 이동가능한 브릿지부를 가지고, 상기 브릿지부가 상기 제 1 및 제 2 기판 테이블들 사이에 연장되도록 상기 제 1 및/또는 제 2 기판 테이블(들)을 이동시키는 단계;
    상기 브릿지부가 상기 공간의 경계의 일부를 형성하도록 상기 제 1 및 제 2 기판 테이블들을 상기 공간 하에서 함께 이동시킨 후 상기 제 2 기판 테이블 및/또는 상기 제 2 기판 테이블에 의해 지지된 대상물이 상기 경계의 일부를 형성하는 단계; 및
    상기 제 2 기판 테이블에 의해 지지된 대상물 상에 액체를 통해 방사선의 패터닝된 빔을 투영하는 단계를 포함하여 이루어지는 디바이스 제조 방법.
  36. 제 35 항에 있어서,
    상기 제 1 및 제 2 기판 테이블들은 이동가능한 브릿지부를 포함하고, 상기 이동시 상기 제 1 기판 테이블의 브릿지부 및 이어서 상기 제 2 기판 테이블의 브릿지부가 상기 공간의 경계의 일부를 형성하는 것을 특징으로 하는 디바이스 제조 방법.
  37. 방사선 빔을 컨디셔닝하도록 구성된 방사선 시스템;
    방사선 빔을 패터닝하도록 구성된 패터닝 디바이스를 지지하도록 구성된 패터닝 디바이스 지지체;
    기판을 지지하도록 구성된 기판 테이블; 및
    상기 기판 상에 패터닝된 방사선 빔을 투영하도록 구성된 투영 시스템을 포함하여 이루어지고,
    상기 기판 테이블은 상기 기판을 지지하는 지지 표면 및 이동가능한 가장자리부를 포함하고, 상기 이동가능한 가장자리부는 상기 기판 테이블의 외부 가장자리 상에 배치되고, 상기 이동가능한 가장자리부의 최상부 표면이 상기 기판 테이블의 지지 표면과 실질적으로 동일한 면에 있는 제 1 위치 및 상기 이동가능한 가장 자리부의 최상부 표면이 상기 지지체 표면에 실질적으로 수직인 제 2 위치 사이에서 이동가능한 것을 특징으로 하는 리소그래피 장치.
  38. 제 37 항에 있어서,
    상기 제 1 위치에서 상기 이동가능한 가장자리부의 상기 최상부 표면은 상기 지지체 표면의 연장부를 정의하는 것을 특징으로 하는 리소그래피 장치.
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