TWI356797B - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- TWI356797B TWI356797B TW096134036A TW96134036A TWI356797B TW I356797 B TWI356797 B TW I356797B TW 096134036 A TW096134036 A TW 096134036A TW 96134036 A TW96134036 A TW 96134036A TW I356797 B TWI356797 B TW I356797B
- Authority
- TW
- Taiwan
- Prior art keywords
- mask
- box
- reticle
- holding device
- holding
- Prior art date
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/66—Containers specially adapted for masks, mask blanks or pellicles; Preparation thereof
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70733—Handling masks and workpieces, e.g. exchange of workpiece or mask, transport of workpiece or mask
- G03F7/70741—Handling masks outside exposure position, e.g. reticle libraries
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/673—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere using specially adapted carriers or holders; Fixing the workpieces on such carriers or holders
- H01L21/6735—Closed carriers
- H01L21/67359—Closed carriers specially adapted for containing masks, reticles or pellicles
Landscapes
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Library & Information Science (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Packaging Frangible Articles (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Description
1356797 九、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明有關使詩光罩(以下也稱為遮罩)的遮罩箱、 遮罩ϋ、圖案轉移方法以及顯示裝置的製造方法。特別是 有關於在液晶顯示面板(LCDP)與電漿顯示面板(pDp)等= 製造步驟使用的搬送大型光罩,且使 便用先罩時,能夠簡便 地在曝光裝置的裝卸,可抑制裝卸時的粒子(parade)污 染、破損等的遮罩箱、料£案轉移方法以及顯示: 置的製造方法。 x 【先前技術】 近年來’纟⑽與PDP等的顯示裝置的製造步驟之 中,一般用於面板數目增加的製造成本減少的方法,傾向 於大型化面板用的母基板的尺寸。在LCDp、pDp等的顯^ 裝置的製造步驟之中,相對應於上述,用於圖案轉移的: ♦罩等也有大型化的傾向。再者,上述大型化的光罩由遮罩 製造者輸送至遮罩使用者時’為了保護來自輸送時的衝 擊’以收容在遮罩箱内部的固定狀態下輸送。 . 用來搬送、保管光罩等的遮罩的遮罩箱的各種構造 w 開發出來》 例如,在特開平2005_173556號公報中,已揭示 - 有互相抵接的週邊凸緣部的本體部以及蓋體部所構成, .部用來收容大型的精密片(sheet)狀(半)製品的密封2 器,並且特徵為本體部以及蓋體部各自設置了熱塑性樹月t 2130-9138-PF;Ahddub 5 1356797 ' 片的補強用肋材(rib)的真空或壓空成型體的大型精密片 狀(半)製品用密封容器的技術。 此較為輕量的大型精密片狀(半)製品用密封容器,對 於大型精密片狀(半)製品,不會有不適當的應力且安全, 而且在保持氧贫的狀態下,收納•支持以及搬送。 .. 再者,製造光罩等遮罩的遮罩製造者,在已製造的遮 . 罩等收納於如上述的遮罩箱的狀態下,傳遞給遮罩使用者。 φ 另一方面,遮罩使用者使用從遮罩製造者傳遞來的光 罩,轉移想要的圖案至被轉移體而製造顯示裝置等。在此 製u步驟之中,遮罩使用者於光罩收納在專用的遮罩匣的 狀態下,搬送曝光機(例如遮罩對準曝光機),或者是將已 使用的光罩從曝光機搬送至其他地方。再者,大型的曝光 裝置於光罩设置在專用的遮罩匣的狀態下,搬送裝置内部。 上述專用的遮罩£,對應曝光裝置等而使用各種的構 造° 籲 例如,在特開2000-1 9720號公報中,揭示了一種可使 用於液晶顯示元件或是半導體元件的製造步驟中,且自動 地交換往曝光 尤裝置檢查裝置荨的遮罩與光罩原版 • (retiCle)等或是玻璃基板等(總稱為遮罩)的基板交換裝 "i的技冑再者’在此文獻中記載了 -種可使用於曝光裝 置等的遮罩交換的過程中,安裝了可讀取的管理瑪的防塵 . 用的遮罩匣。 • 此遮罩匣由遮罩匣蓋、以及遮罩能夠決定位置的狀態 下載置,而大約矩形平板狀的遮罩E盤所構成。 2130-9138-PF;Ahddub 6 1356797 並且,上述的基板交換裝置,具有遮罩搬送機構,此 搬运機構持有由遮罩E中取出的遮罩而往曝光裝置移動, 並且遮罩搭載於曝光裝置的略為平板狀的搭载台上。 【發明内容】 因此,如上所述,遮罩劁土去 早裂&者在收納光罩等的遮罩於 遮罩箱的狀態下’傳遞給遮罩傕用去 t早便用者。因此,遮罩使用者 傳遞來的遮罩,首先,由遮罩箱中 早相〒取出遮罩,然後更換於 專用的遮罩匣再使用。 然而’隨著液晶顯示器(LCD)、平板顯示器(FpD)、電 漿顯示器⑽)、薄膜電晶體基板(TFT)、彩色滤光片(⑺ 等的大型化,這必的傲 > 也 叱一叼裊畈,為了可使用於例如大約 或者以上的大型的光罩,大型化的傾向變得 更加顯著。其次,以人力進行大型化且重量大的光罩的處 理’作業者的負荷會變大。 籲 #上所述,特別是遮罩使用者,必需進行從遮罩製造 者傳遞而形成想要的圖案的光I,由冑送用的遮罩箱取出 此光罩,更換至曝光裝置用的遮罩厘的作業。這些上述的 - 大型的光罩為非常精緻的製品,必需非常注意對此光罩的 接觸與破損,以及考慮到變成大型化處理變成因難時,具 有與作業者承受的負荷變大的問題。 ' 有鑑於上述的情況,本發明的目的在於提供一種遮罩 耘、遮罩匣、圖案轉移方法、顯示裝置的製造方法,能夠 容易進行由遮罩箱至遮罩匣更換遮罩的作業。 2130-9138-PF;Ahddub 7 1356797 3 、- 為了達成上述目的’本發明的遮罩箱,其為能夠搬送 而收容光罩、與搭載上述光罩而使用的裝置(例如製造裝置 及/或檢查裝置等)之中使用的載置上述光罩用的遮罩匣的 遮罩箱’其特徵在於:從上述遮罩箱取出上述光罩時,是 在上述遮罩匣至少載置著上述光罩的狀態下取出光罩。 -. 如此,即使遮罩使用者不進行從遮罩製造者於收納狀 態下傳遞來的遮罩更換至例如曝光裝置等的遮罩匣的作 鲁 業,也可完成,所以可大幅度地減輕作業者的負荷,且提 昇作業性。 再者’可以大幅地減低在作業之中失誤而損傷遮罩的 危險性,而能夠安全地進行作業。 此外’一旦遮罩大型化,會導入專用的處理裝置等, 可以假定安全地進行上述更換作業,如此,即使不導入處 理裝置專’也龍夠安全地進行更換作業。 此外’本發明中的遮罩包含光罩、光罩原版 鲁(reticle)、光罩基板(ph〇tomask Mank)、玻璃基板等。 再者,製造裝置包含電子元件製造用的曝光裝置、遮 罩供給裝置、基板交換裝置以及遮罩搬送裝置等。 ' 並且’载置”’除了單純的載置之外,還包含在位 “ 置決定的狀態下支持以及位置決定下的狀態收容、保持或 者在保持的狀態下收容等。因此,”載置”也包含具有設 ' 置於各種的構造的遮罩匣。再者,例如,遮罩製造者,於 .將遮罩保持於遮罩匣的狀態下收容,且在此遮罩匣保持於 遮罩相的狀態下收容,且也可以由遮罩箱傳遞於遮罩使用 2130-9138-PF;Ahddub 8 1356797 者,而遮罩使用者,從遮罩箱取出每個遮罩匡的遮罩,可 直接供給於曝光裝置等。 再者,遮罩匣可使用於製造裝置及/或檢查裝置之中, 並且至少為載置光罩的匿,例如,可列舉將上述遮罩匿在 載置狀態下搭載於裝置,或者在進行取出之目的時能夠使 用的遮罩Ε盤或者能夠裝卸的遮罩搭載台等。包含可指定 於曝光裝置等,或者視為附屬品的東西。 再者,本發明的遮罩箱,最好包括:―遮罩保持裝置, 保持上述光罩;一£保持裝置,保持上述遮罩n ; 一箱本 體,設置上述遮罩保持裝置以及上述匿保持裝置;以及一 箱蓋’可自由裝卸地安裝在上述箱本體,且覆蓋上述光罩。 如此,不會損傷遮罩或者產生粒子污染,而且在密閉 的狀態下,能夠安定地固定而收容遮罩以及_。 因此,即使在以空運或者陸運等進行遮罩輸送的情況 下’而能夠抑制遮罩由於遮罩匣 Α 早比π哔振動而損傷,或者因 為摩擦而產生粒子,甚至於$占沒丨* 成备精緻地形成的圖案等 的困擾。 再者,本發明的遮罩箱,最好在 ^ 4, Μ L 仕興上述遮罩匣不接觸 的狀I下支持上述光罩,且取出上述光 S往既定的方向移動,而上述 更^遮罩 丄砍巡卓匣载置著上述光罩。 如此,遮罩保持裝置,可保 ^ ^ ^ g ^ 个兴遮罩匣接觸的狀態 下的遮罩’所以能夠確實防止 子的困擾。 Μ與適罩摩擦而產生粒 再者’較佳者,在收容上述光 吁具有支持該光罩 2130-9138-PF;Ahddub 1356797 插鎖,且使上述遮罩E往既定的方向移動時, 最=最好導引該移動…,該遮罩支持插鎖 最好貫通遮罩E的一部分,而支持遮罩。 如此’可以單純化構造,同時能夠降低生產成本, :在由遮罩箱取出遮罩㈣,能夠使得在遮罩E中的遮 容易成為於載置的狀態 再者,上述遮罩保持裝置最好保持著載置力上述遮罩 匿的狀態的上述光罩。 如此,藉由利用遮罩保持裝置解除保持狀態,因為遮 罩能夠設置於遮罩匣中,而能夠容易地進行作業。 再者,為了達成上述目的,本發明的遮罩匣,其為在 搭載光罩而使用的裝置,例如製造裝置及/或檢查裝置之 中’載置光罩而使用的遮罩E ’其特徵在於:錢容上述 光罩以及遮罩E於遮罩箱時,為了保持或支持鮮,包括 用來使設於遮軍箱的保持或支持裝置到達上述光罩的貫通 孔或開口部。 因此,本發明也包含遮罩匣,且即使該遮罩匣為被收 容在遮罩箱的狀態下,也能夠確實地保持或者支持遮罩。 再者,為了達成上述目的,本發明的遮罩匣,其為在 收容光罩的遮罩箱中,以與上述光罩不接觸的狀態下收容 著’並且’從上述遮罩箱取出上述光罩時,是在上述遮罩 E載置著上述光罩的狀態下取出光罩的遮罩匣,其特徵在 於:在取出上述光罩時,使上述遮罩匣往既定的方向移動 用的導引構件上’具有可導引的被導引面。 2130-9138«PF;Ahddub 10 1356797 - _因此,本發明作為遮罩E會有效用,即使在遮罩匿不 進打更換遮罩的作業也會完成,因此,可大幅減輕作業者 的負荷,同時提昇作業性。再者,可確實防止遮罩匿與遮 罩摩擦而產生的粒子的困擾。 #者’上述導引構件最好為在與上述遮罩E不接觸的 -·狀態下支持上述光罩的遮罩支持插銷,並且,上述被導引 _面形成於上述遮罩匣,且為上述遮罩支持插銷貫通的貫通 孔的孔表面。 如此,可使構造單純化,且可達成製造成本降低。 為了達成上述目的,本發明的圖案轉移方法,其為包 括下列步釋的圖案轉移方法:從用來搬送光罩的遮罩箱取 出上述光罩;使用載置而搭載於上述遮罩E的上述光罩, 而藉由曝光裝置進行圖案轉移曝光,其中從上述遮罩箱取 出上述光罩時,是在上述遮罩匣載置著上述光罩的狀態下 取出光罩。 隹如上所述,本發明作為圖案轉移方法會有效用,即使 在遮罩匣不進行更換遮罩的作業也會完成,因此,可大幅 減輕作業者的負荷,同時提昇作業性。 ‘ 為了達成上述目的,本發明的顯示裝置的製造方法, - 其為包括下列步驟的顯示裝置的製造方法:從用來搬送光 罩的遮罩箱取出上述光罩;使用載置而搭載於上述遮罩匣 - 的上述光罩,而藉由曝光裝置進行圖案轉移曝光於使用於 - 顯示裝置的被轉移體上,其中,從上述遮罩箱取出上述光 罩時,是在上述遮罩匣載置著上述光罩的狀態下取出光罩。 2130^9138-PF;Ahddub 11 1356797 ·- 如上所述,本發明包含顯示裝置的製造方法,即使在 遮罩匣不進行更換遮罩的作業也會完成,因此,可大幅減 輕作業者的負荷,同時提昇作業性。 並且,顯示裝置,可列舉液晶顯示器、平面面板顯示 器、電漿面板顯示器等。 • 為了達成上述目的,本發明的遮罩箱,其特徵在於: . 在收納光罩的遮罩箱之中,將光罩與載置上述光罩的遮罩 # 匿維持水平方向的位置關係,並且包括一保持裝置,將上 述光罩以及遮罩匿固定於遮罩箱,上述保持裝置維持著上 述水平方向的位置關係,能夠裝卸上述光罩以及上述遮罩 匣。 為了達成上述目的,本發明的光罩設置方法,其為藉 由施以光罩製造或檢查用的處理的裝置,將光罩設置於施 以上述處理的既定的位置的方法,其特徵在於,包括下列 階段:將光罩載置於遮罩E ’而針對遮罩E的底面方向固 ♦ 《光罩以及遮罩E的位置關係;維持上述位置關係,並且 在上述遮罩箱内的既定的位置固定光罩以及遮罩E;搬送 收納著遮罩匣的遮罩箱至上述裝置附近;維持上述水平方 向的位置關係,並且在遮"載置著光罩的狀態下,從遮
— ㈣取出光罩以及遮罩匡;以及將已載置著光罩的遮罩E 直接設置於施以上述處理的既定的位置。 • 如上所述,根據本發明,遮罩使用者可開放遮罩製造 者傳遞來的遮罩,從遮罩箱更換遮罩的重大負荷。特別是, 一方面,超過大約300mm的大型遮罩中,根據本發明具有 2130-9138-PF;Ahddub 12 負荷減輕與安全性大的好處 可得到大幅減少遮罩的粒子 的效果。 °再者’在遮罩匣的更換時, 的附著或非預期的破損等良好 【實施方式】 [遮罩箱的第一實施形態] 第1圖為用來說明本發明的笛 ,.$ 的第—實施形態的遮罩箱的 遮罩的安裝的狀態的概略圖 _ u)顯不為剖面圖,(b)顯承 马A-A剖面圖。 的第一實施形態的遮 的概略放大圖,(a) 再者,第2圖為用來說明本發明 ’罩相、遮罩保持裝置以及匣保持裝置 顯示為侧面圖,(b)顯示為上視圖。 本體2、箱蓋3、遮 以能夠搬送(包含輸 第1、2圖之中,遮罩箱1是由箱 罩保持裝置4以及匣保持裝置5構成, 送)的方式收納光罩10與遮罩昆1〇〇。 並且’本實施形態雖然使用使顯示裝置製造用的大型 ^ 10作為遮罩,然而,不限於光罩1〇。 <箱本體〉 箱本體2為略為矩形狀的平板,在周緣部形成有凸部 21。凸部21與箱蓋3嵌合,且進行箱蓋3的位置決定。 Λ 者5^目本體2在8處設有可載置遮罩El 00的周緣 :的安裝…本實施形態雖然於矩形的光罩ι〇的各個 :的2處分別配設安裝台22,然而,不限於此配置,例如, 視光罩10的形狀或尺寸作不同的配置。 13 2130-9138*PF;Ahddub 1356797 如第2圖所示,安裝台22形成可自由地嵌入滑塊的遮 罩保持裝置4的導部45以及g保持裝置5的導部55的導 溝22卜再者,在導溝221的下方,形成有較導溝μ〗的 溝寬度還寬的邊框收納溝222。 再者,安裝台22在光罩1〇側的端部突出設置有遮罩 支持插銷23。 此遮罩支持插銷23為先端部變細的形狀的插銷,且貫 通遮罩E 100的貫通孔並且在是浮出於遮罩匿1〇〇 的狀態(不接觸狀態)下支持著光罩1〇。再者,遮罩支持插 銷23嵌入於貫通孔1〇2,在取出方向(參照第3圓)舉起遮 罩匣100 導引著遮罩匣1〇〇,使方向不會誤差。藉由 使用遮罩支持插鎖23作為支持構件,可使構造單純化,且 可達成製造成本降低。
再者,安裝台22以及遮罩支持插銷23的材料通常可 使用金屬,而例如與遮罩匿1〇〇或光罩1〇接觸的部分也可 以安裝由樹脂等的材料構成的緩衝構件(圖未顯示)。 、雖然圖未顯示’但是,箱本體2的周緣部可藉由銘框 補強的樹脂板構成,使收容的遮罩的主平面成為垂直的姿 勢,而在下部兩側設置一對腳輪(caster),再者,在兩邊 的上部以及下部安裝把手。A^ ^ 于丹者,箱本體2藉由鏍絲或手 拉器细鄉鍵等的結合裝置來安裝箱蓋3。並且,箱本體2 與箱蓋3藉由0型環等的密封元件於密閉狀態下連結。 〈箱蓋〉 箱蓋3為可自由地裝卸於箱本體2的蓋子。此箱蓋 2130-9138-PF;Ahddub 14 1356797 為覆蓋著箱本體2的矩形箱狀,由矩形狀的 上板與突出設 置於上板的周緣部的側板構成。 雖然圖未顯示’但是’箱蓋3的周緣部可藉由鋁框補 強的樹脂板構成,且在下部兩側設置一對腳輪,再者,在 兩邊的上部以及下部安裝著把手。 〈遮罩保持裝置〉 遞罩保持裝置4是用來保持光罩10的裝置,以自由調
整位置的方式固;t於箱本體2上。此遮罩保持裝置4包括 載置於安裝台22的螺著部44、設置於從螺著部44突出設 置成鉤狀的先端部的載置面41以及位置決定突出部42 = 以及突出設置於螺著部44的下面且與導溝221嵌合的導 45。 ° 載置面41與光罩10的端面抵接,且在設置時使得遮 罩箱1與遮罩的主平面成為垂直,位於下側的載置面η承 受光罩1G的重量。再者’位置歧突出部42在朝著光罩 10的方向具有廣的斜面。此斜面以夹置著光罩的方气 形成著,以進行光罩10的位置決定(光罩10的表面與直工 方向的位置決定 螺著部44設有供螺絲43貫通的孔,插入此孔的螺絲、 心與以自由移動的方式收納於邊框收納溝m的邊框 結合。藉此’此遮罩保持裝£ 4在螺著於安裝台22的同時, 藉由鬆開螺絲43’可向滑塊方向移動。再者,載置面Ο 以及位置0突出部42的高度的位置,是對應於支持在遮 罩支持插銷23的光罩1〇的高度的位置,所以藉由螺著, 15 2130-9138*PF;Ahddub 1356797 =◦罩保持裝置4往光罩i。的方向移動,而容“保持 〈匣保持裝置> 厘保持以來料料^⑽ 調整位置的方式固定 裝置以自由 設置於安裝台22的料 此E保持裝置5包括 晉“心 螺著54、設置於從螺著部54突出# 置成鉤狀的先端部的保持面5 大出叹 的下面且盥導溝221 ^ 及X出⑦置於螺著部54 -、导溝221嵌合的導部55。 保持面51朝著遮罩匣〗η 保持面51與載置於安裝a c 桩鏑B 的遮罩E 100的上側角部線 接觸’且以將遮罩E 1〇。擠屢在安裝台22 罩匣100。 飞保持遮 螺著部54設有供螺絲53貫通的孔,插入此孔的螺絲 53與以自由移動的方式收納於邊框收㈣奶的邊框刊 結合。藉此,此E保持裝置5在螺著於安裝台22的同時, 藉f鬆開螺絲53,可向滑塊方向移動。再者,保持面Η 的同度的位置,是對應於載置於安裝台22的遮罩匣1〇〇的 高度的位置’所以藉由螺著’可使E保持裝置5往遮罩匿 100的方向移動,而容易地保持遮罩匣1〇〇。 〈遮罩匣〉 在製造裝置及/或檢查裝置(圖未顯示)之中,遮罩匣 100雖然使用於搭載遮罩時,然而,在此顯示作為矩形狀 的平板,且在對應於遮罩支持插銷23的位置設有貫通孔 102。再者’遮罩匣100對應著各個貫通孔1〇2,突出設置 2130-9i38-PF;Ahddub 16 1356797 有位置決定插銷1{)1’該位置決定插銷1〇1進行載置於遮 罩匣1〇〇的上面的光罩ίο的位置決定。 並且,在本實施形態的遮罩匣1〇〇令,可載置光罩 並且’藉由以位置決定插们01 $定位置,成為設立光罩 10的構造,然而,設立的形態不限於此構造。 再者,遮罩匣100、遮罩保持裝置4以及匣保持裝置5 的材料通常可使用金屬、然而,例如與遮罩E1GQ 5戈光罩 10接觸的部分也可以安裝由樹脂等的材料構成的緩衝元件 (圖未顯示)。 說明上述構造的遮罩箱1的動作。 首先,在第1(a)圖所示的狀態下,遮罩箱J收納著光 罩1〇以及遮罩Ε100β再者,在輸送時,料箱i通常為 直立的狀態下輸送》 其次’參照圖式,說明由遮罩箱!取出光罩1〇的動作。 第3圖為顯示用來說明本發明的第—實施形態的遮罩 箱的遮罩的卸除的狀態的概略剖面圖。 ,在同圖之中’傳遞於遮罩使用者的遮罩箱卜首先放 置成為遮罩的主平面成為水平 ^ 卞且由第Ua)圖的狀態,卸 下箱蓋3。其次,鬆開各個螺絲43以及螺絲&接著遮罩 保持裝置4以及匣保持裝晉5 #港袖&十i 竹发1b彺滑塊的方向移動,直到不 與上方取出的遮罩匣1〇〇干涉的位置。 其次,藉由作業者,逆置ΙΨ丨h 爷遮罩匣100在取出方向(正上方) 舉起。此時’遮罩匣1〇〇與光罩板扭,口 + 興尤罩1ϋ抵接,且直到藉由位置 決疋插銷101而決定位置护置去拉描 1遮罩支持插銷23會導引遮罩匣 2130-9l38-PF;Ahddub 17 1356797 m,所以不會與光罩10產生異常的衝擊,而可使順利地 將遮罩E100抵接於光W。亦即,《者根據位置決定 插銷101的導引,慢慢地將遮罩匣1〇〇舉起,在藉由位置 決定插銷101決定光罩1G的位置的狀態下,載置於遮㈣ 1 0 0。藉此,由遮罩箱1取屮古罢Λ 早相1取出先罩1〇時,是在光罩1〇設於 遮罩匣100的狀態下,取出光罩10。 再者,設於遮罩IE 100的光罩10可在曝光裝置等使 用’例如保管直到下回的製造日時,可藉由回復上述順序, 而可使光罩10容易且安全地收納於遮罩箱i之中。亦即, 作業者將設有光罩10的遮罩匣1〇〇降下 插銷23貫通於貫通孔102’遮罩支持插销23會:= S 100往正下方向,所以對於光罩1〇不會造成異常的衝 擊,可由遮罩更1〇〇浮起,且可使遮罩昆1〇〇順利地載置 於安裝台22。亦即,作業者根據位置決定插銷1〇1的導引, 只要慢慢'地將遮罩E 100降下,可藉由遮罩支持插銷23支 持光罩ίο,並且,可將遮罩匣100載置於安裝台22。 如上所述,根據本實施形態的遮罩箱1,在由遮罩製 造者收納於遮罩箱!的狀態下被收納的光罩1 〇,遮罩使用 者的作業者可完成將其更換為例如曝光裝置等的遮罩匣 100的更換作業(可極為容易地,且安全地進行更換作業), 所以可大幅地減輕作業的負荷,同時提昇作業性。 再者,可大幅地減低更換作業中失誤而完全地損傷光 罩的危險性,且可安全地進行作業。 再者,藉由設置遮罩保持裝置4以及匣保持裝置5, 2130-9138-PF;Ahddub 18 1356797 可確實地保持光罩10以及遮罩匣100’所以即使於空運或 陸運等進行光罩10輸送的情況,也可避免光罩1〇破損、 或者因摩擦而產生大量的粒子、以及’對於精緻地形成圖 案造成損傷等的困擾。
並且’遮罩箱1設置遮罩支持插銷23,而光罩為 由遮罩匣100浮起的狀態,換言之,是以與遮罩匣不接觸 的狀態下支持,並且,將遮罩匣1〇〇導引向既定的方向, 所以在搬送中遮罩g 100與光罩不會接觸。藉此,可確實 防止遮罩匣100與光罩10摩擦而產生的粒子的困擾。藉由 上述所述,在搬送中,藉由遮罩箱直接保持固定光罩,且 能夠以最小接觸面積保持的同時,在光草取㈣,藉由從 遮罩箱取出遮罩E的動作,可實現光罩自動設置於遮罩匡 的態樣。藉此,作業者從遮罩箱取出光罩上,使設置於遮 罩E的作業大幅地降低。再者,在從遮罩箱取出光罩、將 光罩收容於遮罩箱時,光罩經常被遮罩ϋ保護著,所以可 抑制損傷或破損大幅地降低。上述特別是對於―邊超過 1000顧的大型遮罩具有顯著的效果。 [遮罩箱的第二實施形態] 第4圖為用來說明本發 诚罢认〜 旳第—實施形態的遮罩箱的 A ^叫顯不為剖面圖,(b)顯不 為B-B剖面圖。 再者,第5圖為用來說明★災 罩箱、逆1明的第二實施形態的遮 罩相、遮罩的保持裝置以及匣 MS - ^ ^ 卡持裝置的概略放大圖,(3) 顯不為側面圖,(b)顯示為上視圖。 2130-9138-PF;Ahddub 19 1356797 第4、5圖之中,第二實施形態的遮罩箱13與第一實 施形態遮罩箱1相比,遮罩匣l〇〇a具有在光罩1〇位置決 定的狀態下收納的構造,同時遮罩保持裝置4a、匡保持裝 置5a及其構造不同。其他構成要素略與第一實施形態相 同0 囚此,第 予相同的符號,省略其詳細的說明。 〈遮罩匣〉 在製造裝置及/或檢查裝置(圖未顯示)之中,遮罩匣 100a’可使用於搭載遮罩時,在此,顯示為矩形狀的平板, 在周緣部突出設置著決定光罩1〇位置,同時收納的壁部 113。此壁部113為略為矩形環狀的形狀,且由下依序包括 載置於光罩1G的周緣部的載置面⑴、抵接於光罩^的 側面而進行位置決定的位置決定面112、與用來容易地收 納光罩10的傾斜的導引面114。 再者,遮罩E 100a在對應於遮罩保持裝置^的位置, 形成有開口部115。获,士 . .. _ I比藉此,由於遮罩Ε 100&保持載置於 置面111的光罩1〇,所以遮罩保持裝置4a可以移動。 〈遮罩保持裝置〉 遮罩保持裝置4a是用來保持光罩μ 調整位置的方式固定於箱本Μ卜裝置Μ自由
上。此遮罩保持裝置4a的 載置面41以及办署、;±_〜办, J 置决疋犬出部42的高度的位置,是 於收納在遮罩匣1〇〇的 疋對應 _的M的高度的位置,所以刺田 開口部11 5可使遗罩你姓壯 用 吏遮罩保料置4a往光罩1Q的方向移動, 2l30-9138-pp;Ahddub 20 1356797 而藉由螺著,可容易地保持光罩1〇β 〈匣保持裝置〉 匿保持裝置5a是用來保持遮罩匣1〇 〇a的裝置,以自 由調整位置的方式固定於箱本體2上。此匣保持裝置5a的 保持面51的高度的位置,是對應於遮罩匣1〇〇a的壁部ιΐ3 的高度的位置,所以藉由螺著,可使匿保持裝置往遮罩 匣l〇〇a的方向移動,而容易地保持遮罩匣1〇〇a。再者, 保持面51與遮罩匡100a的壁部113的上側角部線接觸1 且以將遮罩匣100a擠壓在安裝台22的方 10〇a。 林莳遮罩匣 說明上述構造的遮罩箱la的動作。 首先’在第4(a)圖所示的狀態下,遮罩箱ia收 光罩10以及遮罩匣l〇〇a。 作。其次,參照圖式’說明由遮罩箱la取出光罩1〇的動 第6圖為顯示用來說明本發明的第二實施形態的 釦的遮罩的卸除的狀態的概略剖面圖。 ”' 在同圖之中,傳遞於遮罩使用者的遮 ::橫置,從且由…的狀態,卸下箱蓋水 罩保持裝置…塊的〜 決定面"2,在位置決定的狀態下 :由位置 匣l〇〇a。 罩〗〇可載置於遮罩 2l3〇-9i38-PP;Ahddub 1356797 其次’鬆開各個螺絲53,匣保持裝置5a往滑塊的方 向移動’直到不與上方取出的遮罩匣1〇〇a干涉的位置。藉 由此動作,可解除匣保持裝置5a的保持狀態,所以可容易 地且安全地,在位置決定的狀態下將收納於遮罩匣1〇〇&的 光罩10從遮罩箱la取出。 再者’設於遮罩匣l〇〇a的光罩1〇可在曝光裝置等使 • 用,例如保管直到下回的製造曰時,可藉由回復上述順序, • 而可使光罩10容易且安全地收納於遮罩箱la之中。亦即, 作業者將設有光罩10的遮罩匣100a載置於安裝台22 (為 了決定此載置位置,可設置位置決定裝置(圖未顯示))。其 次,以匣保持裝置5a,保持遮罩匣100a,接著,藉由遮罩 保持裝置4a,保持光罩1 〇,可安全且容易地將光罩丨〇收 納於遮罩箱1 a。 如上所述,本實施形態的遮罩箱la,可得到與遮罩箱 1略為同樣的效果,再者,藉由解除以遮罩保持裝置的 ® 保持狀態,光罩10可被設於遮罩匣100a,所以可容2地 進行作業。 [遮罩匣的一實施形態] 冉者,本發明的遮罩匿會有效用。本發明的遮罩厘為 與上述遮罩匣100略為相同的構造,在取出光罩時 : 具有導引遮罩匣100往既定的方向移動的遮罩支持插銷Μ 的被導引面(第2(a)圖所示的貫通孔102的表而、 ^ J Qm 。 如上所述’本發明的遮罩匣100也右蚀 t令政,即使在遮罩 S 100不進行更換光罩10的作業也可完成, x所以可大幅地 2130-9138-PF;Ahddub 22 減輕作業者的負荷,同時提昇作業性。再者,可確實防止 遮罩H 100與光罩1〇摩擦而產生的粒子的困擾。 [圖案轉移方法的一實施形態] 再者,本發明的圖案轉移方法會有效用。本發明的圖 案轉移方法係從用以搬送光罩10用的遮罩箱1取出光罩 10的步驟’藉由使用載置於上述遮罩E 1G0而搭載的上述 光罩10的曝光裝置,具有圖案轉移的曝光步驟的圖案轉移 方法之中’光罩10從遮罩箱1取出時,在光罩Π)設於遮 罩匣100的狀態下取出的方法。 如上所述,本發明的圖案轉移方法也有效,即使在遮 罩匿100不進行更換光罩1G的作業也會完成,所以可大幅 地減輕作業者的負冑’同時提昇作業性。 [顯示裝置的製造方法之一實施形態] 者’本發明的顯示裝置的製造方法會有效用 明的顯示裝置的製造方法白 如 方法包括從用以搬送光S 10用的遮 罩:1取出光草U)的步辣;使用載置而搭載於上 100的上述光罩丨^ _._ 藉由曝光裝置將具有圖案轉移於頻 1置使用的被轉移體的曝光步驟的顯示裝 ^ Γ二罩10從遮罩箱1取出時,在光罩設於遮罩% 100的狀態下取出的方法。 匣 所述,本發明的顯示裝置的製造方法也有效, 使在遮罩UOO不進行更換光罩1G的作業 可大幅地減輕作業者的負荷,同時提昇作業性。以 以上,僅以較佳的實施形態說明本發明的遮罩箱、遮 2130-9138-PF/Ahddub 23 1356797 罩匣、圖案轉移方法以及顯示裝置的製造方法1而本發 明的遮罩箱、遮罩E、㈣轉移方法以及顯示裝置的製造 方法不限於上述的實施形態,可在本發明的範圍内作各種 的變更實施。 例如,遮罩保持裝置與匿保持裝置也可以是連結成_ 體的構造。 本發明也可適用於用來保管遮罩的遮罩箱,特別是, 可適用於在聰或PDP等㈣造步驟所使耗大型遮革。 【圖式簡單說明】 第1圖為用來說明本發明 遮罩的安裝的狀態的概略圖, 為A-A剖面圖。 的第一實施形態的遮罩箱的 (a)顯示為剖面圖,(b)顯示 第2圖為用來說明本路 a不發明的第一實施形態的遮罩箱的 遮罩的保持裝置以及匣保持萝
子褒置的概略放大圖’(a)顯示為 侧面圖,(b)顯示為上視圖。 第3圖顯示為用來說明 妹 月本發明的第一實施形態的遮罩 相的遮罩的卸除的狀態的概略剖面圖。 ^圖為用來說明本發明。的第二實施形態的遮罩箱的 :、的狀態的概略圖,(a)顯示為剔面圖,㈨ 為B-B剖面圖。 第5圖為用來說明本發明 遮罩的保持裝置以及匣保持裝 側面圖,(b)顯示為上視圖。、 的第二實施形態的遮罩箱的 置的概略放大圖,(a)顯示為 2130-9138-PF;Ahddub 24 1356797
V .- · 第6圖顯示為用來說明本發明的第二實施形態的遮罩 箱的遮罩的卸除的狀態的概略剖面圖。 【主要元件符號說明】 1、1 a ~遮罩箱; 3〜箱蓋; 5、5a〜匣保持裝置; 21〜凸部; 23~遮罩支持插銷; 42〜位置決定突出部; 44、54~螺著部; 100、100a〜遮罩匣; 221~導溝; 2~箱本體; 4、4&~遮罩保持裝置; 10~光罩;。 22~安裝台; 41~載置面; 4 3、5 3 ~ 螺絲 '; 45、55〜導部; 1 0 2〜貫通孔; 2 2 2〜邊框收納溝。
2130-9138-PF;Ahddub 25
Claims (1)
135679^ 〇90134〇36號十、申請專利範園: 100年9月2曰修正替換頁 罩 1. 一種遮罩箱,收容能夠搬 而使用的裝置之中使用的載置 其特徵在於: 运的光罩、與搭載上述光 上述光罩用的遮罩匣, 上述遮罩箱,包括: 遮罩保持裝置’保持上述光罩; 匣保持裝置,保持上述遮罩匣;
相本體 置;以及 設置上述遮罩保持裝 置以及上述匣保持裝 箱蓋,可自由裝卸地安裝在上述箱本體,且覆 光罩, …其中取出上述光罩時,是藉由從上述遮罩箱中取出上 述遮罩g,以上述遮罩匿載置著上述光罩的狀態下取出上 述光罩,且上述遮㈣持裝置及上述㈣持裝置被移動至 在上述遮罩匣的取出方向上不與上述遮罩匣干涉的位置。 2. 如申請專利範圍第丨項所述的遮罩箱,其中上述遮 罩匣是由上方取出。 3. 如申請專利範圍第1或2項所述之遮罩箱,其中在 與上述遮罩匣不接觸的狀態下支持上述光罩,且取出上述 光罩%,使上述遮罩匣往取出方向移動,而上述遮罩匣載 置著上述光罩。 4. 如申請專利範圍第3項所述之遮罩箱,其中收容上 述光罩時’具有支持該光罩的遮罩支持插銷,且使上述遮 罩E往既定的方向移動時,該遮罩支持插銷導引該移動。 2130-9138-PF1 26 I35679Z 第096134036號 100年9月2日修正替換頁 5. 如申請專利範圍第4項所述之遮罩箱,其中取出上 述光罩時,上述光罩被载置於上述遮罩匣上的固定位置。 6. 如申請專利範圍第1項所述之遮罩箱,其中該遮罩 保持裝置保持著載置於上述遮罩匣的狀態的上述光罩。 7. —種遮罩匣,在搭載光罩而使用的裝置之中,载置 光罩而使用,且與上述光罩一起收容於遮罩箱中, 其特徵在於: 在收容上述光罩以及上述遮罩匣於上述遮罩箱時,為 了保持上述光罩’包括用來使設於上述遮罩箱的保持構件 裝置到達上述光罩的開口部, 其中由上述遮罩箱取出上述光罩時,藉由解除上述保 持構件的保持狀態,以上述遮罩匿載置著上述光罩的狀綠 下取出上述光罩。 心 8.種圖案轉移方法,包括下列步驟: 從用來搬送光罩的遮罩箱取出上述光罩;以及 將上述光罩以載置於上述遮罩昆的狀態下搭載於 裝置進行圖案轉移曝光, 其特徵在於: 上述遮罩箱,包括: 遮罩保持裝置,保持上述光罩; 匣保持裝置,保持上述遮罩匣; 置;以及 箱本體,設置上述遮罩保持裝置 以及上述ϋ保持裝 箱蓋,
且覆蓋上述 2130-9138-PF1 27 1356797 第096134036號 100年9月2日修正替換頁
光罩, 從上述遮罩箱取屮 出述光罩時,藉由解除上述遮罩保 持裝置及上述匣保掊梦罢 干待裝置’使上述遮罩保持裝置及 保持裝置移動至上述遮罩匣取 涉的位置,並在上述遮罩匣+ °不與上述遮罩匣干 上述光罩。 冑置者上述光罩的狀態下取出 2130-9138-PF1 28
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006269609A JP4855885B2 (ja) | 2006-09-29 | 2006-09-29 | マスクケース、マスクカセット、パターン転写方法及び表示装置の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW200821235A TW200821235A (en) | 2008-05-16 |
TWI356797B true TWI356797B (zh) | 2012-01-21 |
Family
ID=39254845
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW096134036A TW200821235A (en) | 2006-09-29 | 2007-09-12 | Mask case, mask cassette, pattern transfer method, manufacturing method for display apparatus and installation method of phto-mask |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4855885B2 (zh) |
KR (1) | KR101094502B1 (zh) |
CN (1) | CN101152919B (zh) |
TW (1) | TW200821235A (zh) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI760062B (zh) * | 2020-05-14 | 2022-04-01 | 家登精密工業股份有限公司 | 提供有保持銷組件之光罩盒及固持光罩的方法 |
Families Citing this family (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5052106B2 (ja) * | 2006-11-22 | 2012-10-17 | 旭化成イーマテリアルズ株式会社 | ペリクルの収納方法 |
KR101121176B1 (ko) * | 2008-04-23 | 2012-03-23 | 피엠씨글로벌 주식회사 | 포토마스크 케이스의 구조 |
JP5149207B2 (ja) * | 2009-01-13 | 2013-02-20 | 株式会社荏原製作所 | 基板搭載装置 |
KR101067818B1 (ko) * | 2009-08-14 | 2011-09-27 | (주)아이콘 | 반도체 장비용 트레이 클램프 장치 |
JP2011203309A (ja) * | 2010-03-24 | 2011-10-13 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | ペリクルの収納容器およびペリクル収納容器の搬送用台車 |
JP5586559B2 (ja) * | 2011-10-28 | 2014-09-10 | 信越化学工業株式会社 | ペリクル収容容器 |
WO2013168782A1 (ja) * | 2012-05-11 | 2013-11-14 | 株式会社ニコン | 基板ケース、基板運搬ケース、ケースカバー、基板運搬システム及び基板運搬方法 |
JP2014218328A (ja) * | 2013-05-08 | 2014-11-20 | 新東エスプレシジョン株式会社 | メタルマスクシート供給システム |
KR102242065B1 (ko) * | 2015-01-26 | 2021-04-19 | 가부시키가이샤 니콘 | 마스크 케이스, 보관 장치 및 방법, 반송 장치 및 방법, 그리고 노광 장치 |
TWI658532B (zh) * | 2017-08-09 | 2019-05-01 | 明安國際企業股份有限公司 | 基板承置匣 |
US11104496B2 (en) * | 2019-08-16 | 2021-08-31 | Gudeng Precision Industrial Co., Ltd. | Non-sealed reticle storage device |
US11703754B2 (en) | 2020-05-14 | 2023-07-18 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Ltd. | Particle prevention method in reticle pod |
TWI779505B (zh) * | 2020-05-14 | 2022-10-01 | 台灣積體電路製造股份有限公司 | 光罩盒及防止光罩污染之方法 |
JP7313498B1 (ja) | 2022-02-18 | 2023-07-24 | 株式会社協同 | フォトマスク収納ケース、及び、フォトマスク収納ケース用のフォトマスク用クッション部材 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03188446A (ja) | 1989-09-05 | 1991-08-16 | Konica Corp | カセット供給装置 |
KR100383260B1 (ko) | 2001-03-08 | 2003-05-09 | 삼성전자주식회사 | 레티클 위치감지장치기능을 갖는 포크 암을 구비한 레이클이송장치 |
JP2005032886A (ja) * | 2003-07-10 | 2005-02-03 | Nikon Corp | マスクフレーム、露光方法及び露光装置 |
JP4581681B2 (ja) * | 2004-12-27 | 2010-11-17 | 株式会社ニコン | レチクル保護装置および露光装置 |
-
2006
- 2006-09-29 JP JP2006269609A patent/JP4855885B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2007
- 2007-09-12 TW TW096134036A patent/TW200821235A/zh unknown
- 2007-09-28 KR KR1020070097765A patent/KR101094502B1/ko active IP Right Grant
- 2007-09-28 CN CN2007101630075A patent/CN101152919B/zh not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI760062B (zh) * | 2020-05-14 | 2022-04-01 | 家登精密工業股份有限公司 | 提供有保持銷組件之光罩盒及固持光罩的方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20080029876A (ko) | 2008-04-03 |
JP2008087811A (ja) | 2008-04-17 |
CN101152919A (zh) | 2008-04-02 |
KR101094502B1 (ko) | 2011-12-19 |
TW200821235A (en) | 2008-05-16 |
JP4855885B2 (ja) | 2012-01-18 |
CN101152919B (zh) | 2013-07-31 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI356797B (zh) | ||
TWI498671B (zh) | 大型薄膜之框體及該框體之取持方法 | |
ITMI990281A1 (it) | Dispositivo per maneggiare substrati mediante un istema autolivellante a depressione in reattori epistassiali ad induzione con suscettore di | |
JP2007123673A (ja) | 物品収納用容器の防振機構 | |
TW201529450A (zh) | 藥液容器交換裝置、容器載置模組及藥液容器之交換方法、基板處理裝置 | |
TW201242863A (en) | Transmission box | |
JP4402582B2 (ja) | 大型フォトマスク用ケース及びケース交換装置 | |
JP6287048B2 (ja) | 基板搬送方法 | |
KR100985260B1 (ko) | 포토마스크 기판 수용유닛, 포토마스크 기판 이송방법,포토마스크 제품 제조방법 및 포토마스크 노광/전사방법 | |
WO2020090518A1 (ja) | 基板供給システムおよび基板加工装置 | |
JP5982128B2 (ja) | 収容カセット | |
JP2021061381A (ja) | ワーク収容機構 | |
JP4688567B2 (ja) | 固定キャリア | |
JP7432242B2 (ja) | 収納装置および基板加工装置 | |
JP4770789B2 (ja) | 基板ハンドリング装置 | |
JP2006319012A (ja) | 固定キャリア及びその製造方法 | |
JP2006041027A (ja) | 半導体製造装置およびデバイス製造方法 | |
JP2013084682A (ja) | 加工装置 | |
JP2014190998A (ja) | 基板収納ケース | |
JP2008010567A (ja) | クリーンルーム内で使用するための物品搬送用ポッド、及びこれを採用した物品搬送システム | |
JPH11292186A (ja) | 基板収納ケースおよび基板保持部材 | |
CN118265611A (zh) | 收容架、更换框、架系统以及印刷装置 | |
JP2015034056A (ja) | 板状体梱包用パレット | |
JPH0545866A (ja) | 自動ペリクル貼付装置 | |
WO2006059388A1 (ja) | 大型ぺリクルの収納方法 |