TWI356042B - Manufacturing system for ultra pure water - Google Patents

Description

13D0U4Z 五、發明說明（l) 【發明所屬之技術領域】 本發明是有關於—種將 純水送至使用點之超純水製 【先前技術】 在半導體製造等領域的 洗淨水。作為該超純水，要 之微粒、有機物和無機物， 以上、微粒：1個/ m L以上、 (Total Organic Carbon > 化矽：1 /zg/L以下、金屬類 10ng/L以下時可達到要求水 超純水的使用場所（使 與超純水製造裝置進行連接 殘餘的超純水通過另外的流 伙而形成循環系統，並在整 圖1 8所示為習知的超純 純水製'造系統中，一次純水 備有泵72、熱交換裝置73、 子交換裝置75及超濾（UF ) 主體中被處理’並形成超純 (供給管路）86被送至使用 中的一部分’且使未使用的 8 7返回次儲槽71。 一次純水可藉由在將工 超純水製造器主體所製造的 造系統。 ° 洗淨製程中，使用超純水作為 求不含有成為洗淨故障的原^ 例如在電阻率：18. 2M Ω · Cm 活細菌：1個/L以下、TOC 總有機碳）：1 // g / L以下、氣 :ing/L以下、離子類： 質。 用點）藉由利用配管（流路） ’並使在該使用點未被使用之 路返回前述超純水製造裝置， 體上構成超純水製造系統。 水製造糸統的系統圖。在該超 貯水用的次儲槽7 1内的水在配 紫外線（UV )氧化裝置74、離 膜分離裝置7 6之超純水製造器 水。所製造的超純水通過配管 點7 7，並在該使用點7 7使用其 超純水經過配管（返回管路） 業用水、井水、城市用水等原

13139pif.ptd 第7頁 1356042 五、發明說明（2) iUr尤殿等前期處理後，依次進行反滲透膜分離處 後再進仃反滲透膜處理而得到。 处…、 物（=Γί77表示超純水的使用場所，除了用於洗淨物件 和dn體）的洗淨裝置以外，也可包括適當的配管 目的在？；水製造系統中，這樣不斷地進行超純水迴圈的 、疋為了除去構成超純水製造系統的、 等材料所產生的洗脫成分，保持系統内、；=純 泵、it 一般是採用sus材料作為超純水製造系統的 熱父換裝置、部分配管等的構成材料。 水中=系統中’為了使供給至使用點77的超純 中的活細囷數達到上述要求水質的水平， ^有殺菌劑的水（以下有時稱作殺菌 李^ 的殺菌劑，且一丄虱作為超純水製造系統 止®、品&儿斤杈…下述之順序進行殺菌處理。為了防 過乳化虱造成的離子交換樹脂的劣化， 84Α以繞過離子交換奘 _ 又令方通官路 換裝置。裝 不使過氧化氫通過離子交 ~ 2)停止超純水製造系統的運轉後，將過氧化氫濃水 ::，管88力…欠儲槽71中，使次儲二=二 :的水=為由濃度0.L左右的過氧化氫水溶液構成“ 菌水。將该殺菌水利用泵72在 純 迴圈。即，按照次儲槽71、配管82及栗72 =:二

$ 8頁 1356042 五、發明說明（3) ^ 配官83、UV氧化裝置74、配管84、離子交換裝置75的 旁通配管84A、配管85、UF膜分離裝置76、配管86、使用 配官8 7、次儲槽71的順序使殺菌水進行迴圈（迴圈 氚裎）。另外，作為殺菌劑的添加方法，有利用次儲槽71 入孔進行投料的方法，利用喷射器或藥液泵進行添加 的方法。 立)知止泵72，將殺菌水在系統内保持一定時間（浸 >貝裂程）。 (3)將系統内的殺菌水利用次儲槽排水配管89進行排 =f對次儲槽71進行水洗處理，再起動㈣，將超純水 統的系統内部以超純水進行沖洗（擠壓洗淨）直至 檢測不到殺菌劑為止。、 蛴的ί i述⑴〜(3)的操作以後，重新開始超純水製造系 統的運轉。 用的二：：：導體的集積度越來越高，要求其洗淨中所使 3 = 高純度’戶“x，在超純水製造系統中， 即能夠維持高純度】穩=質最好能在剛開始運轉之後 杳後ϊί，=者們對殺菌處理後的超純水水質進行調 後超純水中的金屬濃度上和且運轉 = 直保持-種纖度高 (Fe)、鉻(Cr)、鎳(Ni)等金屬"：出〇.卜1⑽几左右的鐵 寺、屬’特別是Fe在運轉開始後鉍

過一 在超純水中仍能檢測到。 理後再次開始運轉I的超純水製造系統中，當殺菌處 保持金屬渡产古Μ =丄超純水中的金屬濃度上升，且持續 因在於，：原因進行了調查，結果發現其原 交換裝置、配管等错=中，由超純水製造系統的泵、熱 的預備泵等的内部所^切材料所洗脫的金屬，和在停止中 氧化並洗脫後，形成=—的金屬，因過氧化氫等殺菌劑被 製造裝置的最後段所：：化物微粒，且該微粒被在超純水 後當由擠壓洗淨伟备°又置的膜分離裝置的分離膜捕捉，之 于超純水中。，’、統内的過氧化氫被排出後，再次溶解 【發明内容】 點m n的f提供一種能夠解決上述習知的問題 運轉時的超# ^权菌處理後並再次開始超純水製造系統 時即得到：二$金屬濃度顯著降低，且從剛開始運轉 水質穩定的超純水之超純水製造系統。 用次儲#、^超純水製造系統是—種具有—次純水的貯水 次配置‘ uv g入该次儲槽内的水製造超純水且至少具有依 水製造=化裝£ ’離子交換裝置及膜分離裝置之超純 至使认將該超純水製造器主體所製造的超純水送 用點之供給μ、將通過了該使用點 前述次儲槽的返回管路之超純水製造系統，ϋ 分離ί署由繞過較該膜分離裝置靠前段側的裝置並在該膜 刀離裝置中使殺菌水流通之流通單元、使殺菌水流通較該 1356042 五、發明說明（5) 離子乂換裝置靠刖段側的梦罟e 也6 — 站t錶矾4> 褒置且使來自該前段側裝置的殺 函水繞過該離子交換裝置及八 r 通單元。 膜刀離裝置進饤流通之繞道流 …=本！”這種超純水製造系統，因為洗淨了較 二地件冷、s 』我置之洗淨水會繞過膜分離裝置 而進仃机通，所以因前段側裝置的洗淨 被膜分離裝置捕捉。於是 生的微拉不， #fr的再次、、^:醢A i ί Τ防止再-人開始運轉後因該微 粒的冉人岭解而以成金屬離子濃度的上升。 在本發明中，也可採用 儲槽内供給殺菌劑，並使^欠=二：給殺菌水而向次 菌水形成單元、將該次= : = 成殺菌水的殺 水的替換單元，並從該次儲栌内二：7轉換為-次純 心内使殺涵水被送出用於前试 裝置的洗淨之構成。 h散圮出用於刖迷 f這種情況下，也可將用於從次儲槽内送出殺菌水的 殺菌專用录與-次純水的送出用果（以下 外纖的排出單★。而且，也可採 以： 果的排出水供至前述各裝置而返回次儲槽的環形管^專】 在該環形管路中設置殺菌劑添加單元之構成。並 在本發明中，超純水製造器主體也可在細 靠前段側的位置設置熱交換裝置，或再加上其他裝置敦置 在本發明的-=態中，也可在膜分離裝置、離子 裝置及較它們靠近則段側的各裝置上，個別設置用於 只繞過各裝置的旁通管路。 、刀別 Η

13139pi f.ptd 第11頁 1356042 五、發明說明（6) ' 在本發明的另一形態中，也可設置只繞過膜分離裝置 f膜分離裝置用旁通管路、只繞過該離子交換裝置的離子 交^裝置用旁通管路、將該離子交換裝置及較其靠前段侧 的前述各裝置作為一體而繞過之前段用旁通管路。 *為讓本發明之上述和其他目的、特徵和優點能更明顯 易懂，下文特舉一較佳實施例，並配合所附圖式，作詳細 过明如下。 【實施方式】 以下參照圖示對本發明之超純水製造系統的實施形態 詳細地進行說明。 圖1所示為本發明的超純水製造系統之實施形態的系 統圖。 、 一次純水由配管1被供至次儲槽2，並被貯存。該次儲 槽2内的水由泵3被送出。泵4為預備泵，與泵3並列設置。 與泵3、泵4並列設置有殺菌專用泵5。 另外，從泵3、泵4的排出口侧分支出在從次儲槽2將 水排出時所使用的放水管路6 e。 由泵3或泉4通過配管8被送出的水，依次通過構成超 純水製造器主體的熱父換裝置1 〇、配管1 2、低壓紫外線氧 化裝置等UV氧化裝置20、配管22、離子交換_ 、 (DI:Dei〇nizati〇n)裝置30、配管32及獏分離裝置4〇而被 處理，形成超純水。該超純水經過供給管路5 〇被送至使用 點51 ’且未使用的超純水通過返回管路52、管路53返回至 次儲槽2。另外，膜分離裝置40被連接在鹽水（brine)流出

13139pif.ptd 第12頁 五、發明說明（7) 管路42上。而且，在 及管路50、管路52、其S A官2、配管22、配管32 只記入代表性的關、：十3、管路54上設有閥。在圖1中 路I管==述管路h、管路6。、管 為了 η : 官路41等也是同樣的。 次儲樺各裝置10〜4〇等中進行流通，設有向 由從^菌直闲水中添加殺菌劑的單元。該殺菌劑添加單元 @ ~ 1 又專用泵5的排出側分支出並返回次儲；t 與管路6c、從瞢故位κw人傾槽Ζ之官路6a 6b、用於向該噴射』：3使水：管路6C流出之噴射器 水之殺菌劑儲样6d :盖杰’、、”°乍為殺困劑含有液的過氧化氫 過氧化氣水的心：對是用於保管、移送 使用。 士超，、，屯水系統進订殺菌處理時搬來 用的ί H將殺菌專用栗5内的水轉換為-次純水時所 而且，二e，被連接在該殺菌專用泵5的排出口側。 純水（進：,ΐ !Γ、中，連接有將次儲槽2内的水恢復為-次 (進仃替換）時所用的放水管路2 a。 過各Γίϊϊ”裝置2Q、㉟置3G、裝置4G上設有分別繞 ^ ^ f通官路11、旁通管路21、旁通管路31、旁通 二遠垃。熱ί換裝置用旁通管路11將配管8、酉己管1 2間進 行連技’氧，裝置用旁通管路21將配管12、配管22間進 、隹—，離子父換裝置用旁通管路31將配管22、配管32間 二Ϊ接查膜分離裝置用旁通管路41將配管32和供給管路 3 υ間進行連接。 5 % 攸返回管路52將沖洗時所使用的放水管路54分支出

丄项042

來。 明 下面對採用這種構成之超純水製造系統 «V Tp ir 1 ·超純水製造運轉 =純水製造運轉時，如圖2所示，次儲槽2内的水依 置^過泵3、熱交換裝置1〇、ϋν氧化裝置2G、離子交換裝 52及退分離裝置4〇、供給管路5° '使用點51、返回管路 Μ及返回管路53。當献 e ^ U、旁ϋ與仪…、泵5疋停止的，而且旁通管路 過。通吕㈣、旁通管路3i、旁通管路41中也沒有水流 II . 殺菌 (i; 首先 到約1 / 3〜 作，使一 回管路所 系等中所 接著 路6a、管 射器6 b添 管内水中 後’停止 通過 殺菌運轉 運轉依照以下的程式進行。 〉向次儲槽内添加殺菌劑（過氧化氫） 從-人儲槽2内放出水，使次儲槽2内的水位減少 1/4左右。在進行該放水處理時，使泵3及泵*動 =純水從前述一次純水放水管路。流出，且從返 t支出的放水管路54流出。藉此’使包含有預 殘留之重金屬的水被排出系統外。 ，如圖3所示，使殺菌專用泵5動作，使水流過管 路6c，並將殺菌劑儲槽6(1内的過氧化氫水通過 加到，儲槽2内的一次純水令。在次儲槽2内及配 的過氧化氫漢度達到規定濃度（例如〇 1〜5% ) 泵5。 ▲程-人儲槽2所存儲的殺菌水為不含有金屬

五、發明說明（9) 離子的清淨的殺菌水。 (ii )膜分離裝置40的殺菌 行胺5 ί ϊ ’最先在獏分離裝置40中流通殺菌水，進 殺菌二二、& 〇的殺菌。即，如圖4所示，使次儲槽2内的 丄二二'Ϊ殺菌專用栗5、配管8、旁通管路1 1、旁通 总以、，官路31、膜分離裝置40、管路50、管路52、 i fc i &進仃膜分離裝置4〇的殺菌。來自管路53的返回殺 泣屮^ φ I!在欠儲槽2中。該流水處理在膜分離裝置40的 机出，，檢測到過氧化氫後開始，進行1〇〜15分鐘。 的^•詰ί ^ ^離裝置4〇的殺菌製程中’使次儲槽2内清淨 tit、，過裝置1〇 1置2°、裝置30而直接流通至膜分 物^微粒。Τ ^在膜分離裝置4〇完全不會捕捉到金屬氧化 水^1 外，由於在離子交換裝置30中也不流通殺菌 匕虱化虱水），所以離子交換樹脂也不會劣化。 (1 )熱交換裝置1〇及υν氧化裝置2〇的殺菌 S 如圖5所示’使次儲槽2内的殺菌水流通配管 、.、，、、〜換裝置10、υν氧化裝置2〇、旁通管路31、旁通管 ιιν窗彳卜二、官路52、管路53，而進行熱交換裝置10及 七 〇的叙菌。該流水處理一直持續到在從管路5 3 ^入二人儲的水中檢測到過氧化氫為止。 @田t ^製程中，由於熱交換裝置10及,氧化裝置20的殺 ^不通過臈分離裝置40，所以膜分離裝置40不會被微 ^ ί 外，由於在離子交換裝置30中也不流過殺菌水 C過氧化虱水），所以離子交換樹脂也不會劣化。 丄 五、發明說明（10) (iv )殺菌水保持和 在上述（iii )中，如里槽 次純水的轉換 檢測到過氧化氫，則停止可在來自f路53的返回水中 持卜3小時左右，例如約2 ^ =，5 ’並在該狀態下保 在該製程的進行期間，各右j所謂的浸潰製程）。 管、管路内充滿殺菌水，；=菌裝置2。、裝㈣及配 而且，於該浸清制 a绌k沾接社 久心的進行期間，在次儲槽2内進行 一次純水的替換〇即，你 完全排出後，❹使次儲槽2内的水被 儲槽2進行沖洗。反復L ;\儲槽2内供給-次純水，對次 ^ . 汉设進仃3次該沖洗處理。另外，在進行 該沖洗處理時’只需在次儲槽2内將-次純水供給至原來 的過氧=氫水的水位即可，沒有必要將儲槽充滿。 3人冲洗、纟。束後，將次儲槽2内充滿一次純水。接著， 一面從配管1補充一次純水，一面通過放水管路&使一定 蓋的人純水在殺菌專用泵5中流通，對該泵5進行沖洗。 圖6表示對該泵5進行沖洗後的狀態。而且，泵3、泵4也同 樣進行先進行沖洗為佳。 (V )旁通管路11、旁通管路2丨、旁通管路31、旁通 管路41的沖洗 接著，如圖7所示，同樣一面從配管1補充一次純水， 一面使次儲槽2内的水依次流過泵3、配管8、旁通管路 11、旁通管路21、旁通管路31、旁通管路41、管路5〇、管 路52、管路54 ’對旁通管路n〜4i進行沖洗。該沖洗排水 不返回次儲槽2 ’而從放水管路54排出。該流水處理一直

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五、發明說明（11) 持續到在放水管路54的流出水中或在膜分離裝置4〇的出口 檢測不到過氧化氫為止。 (vi)熱交換裝置1〇及UV氧化裝置20的沖洗 接著，如圖8所示’同樣一面從配管1補充一次純水， 一面使次儲槽2内的水依次流過泵3、配管8、熱交換裝置 10、UV氧化裝置20、旁通管路31、旁通管路41、管路5〇、 管路52、管路54，對熱交換裝置10、UV氧化裝置2〇進行沖 洗。該沖洗排水不返回次儲槽2，而從放水管路5 4排出。 該流水處理一直持續到在放水管路5 4的流出水中或在膜分 離裝置4 0的出口檢測不到過氧化氫為止。 、 (vi i )對離子交換裝置3〇的流水處理 接著，如圖9所示，一面從配管丨補充一次純水，一面 使次儲槽2内的水依次流過泵3、配管8、熱交換裝置〗〇、 氧化裝置20、離子交換裝置3〇、旁通管路41、管路5〇、 &路5 2 '管路5 4，並進行該流水處理一直到在放水管路5 4 的Μ出水中或在膜分離裝置4 〇的出口檢測不到過氧化氫為 止。 Α (viii )膜分離裝置4〇的沖洗 最後’如圖1 〇所示，使次儲槽2内的一次純水從配管 L、裝置1〇、裝置20、裝置30流至膜分離裝置40，並通過 =路50、官路52、管路54排出。該流水處理一直持續到在 官珞54的排出水中檢測不到過氧化氫為止。 ^果在管路54的排出水中檢測不到過氧化氫，則關閉 放水官路54的閥門且打開返回管路53的閥門，恢復至圖2

1356042 五、發明說明（12) 的通常運轉。由於在膜分離U4Q Μ Μ㈣ ，的微粒’所以從該再次運轉剛一開始，超純水的水；就 是良好的。 在上述實施形態中’在各裝置1〇、裝置2〇、裝置3〇、 裝置40上分別個別地設置有旁通管則卜41，但是也可如 圖11所示，設置將較膜分離裝置4〇靠前段侧的熱交換裝置 10 ' UV氧化裝置20及離子交換裴置3〇作為一體而繞過之 通管路60，並省略裝置！〇、褒置2〇的個別的旁通管路u、 旁通管路2i。而且，設置有旁通管路31、冑通管路4i。 此實施形態在通常運轉與圖2同樣地進行’而且向次 儲槽2的殺菌劑添加與圖3同樣地進行這些方面，鱼前述實 施形態是相同的，但殺菌及沖洗製程則取代圖^則 照圖1 2〜圖1 7進行。 ，即，當進行殺菌處理時’在向次儲槽2内添加殺菌劑 之後’如圖1 2所示，使次儲槽2内清淨的殺菌水由殺菌專 用豕5依次流過旁通管路6〇、膜分離裝置4〇、管路5〇、管 路52、管路53。 接著，如圖1 3所示，使次儲槽2内的殺菌水依次流過 熱交換裝置ίο、uv氧化裝置20、旁通管路31、旁通管路 41、管路50、管路52、管路53。 然後，雖然未有圖示，但可與前述圖6同樣地進行約2 '時的次 >貝製程，期間將次儲槽2内的殺菌水轉換為一次 純水，然後對殺菌劑專用泵5進行沖洗。 接著如圖1 4所示’一面從配管1向次儲槽2補給一次

13139pif.ptd 第18頁 1356042 五、發明說明（13) 純水，一面使次儲槽2内的水依次流過泵3、旁通管路6 0、 旁通管路41、管路50、管路52、管路54，並對旁通管路 6 0、旁通管路4 1進行沖洗。 接著’如圖1 5所示，使次儲槽2内的水依次流過泵3、 熱交換裝置10、UV氧化裝置2〇、旁通管路31、旁通管路 41、管路50、管路52、管路54，以對熱交換裝置10及UV氧 化裝置20進行沖洗。 接著’如圖1 6所示’使次儲槽2内的水依次流過泵3、 裝置lj、裝置20、裝置3〇、旁通管路41、管路5〇、管路 52、管路54，並確認在放水管路54的流出水中或膜分離裝 置4 0的出口檢測不到過氧化氫。 最後’如圖1 7所示’使次儲槽2内的水依次流過裝置 裝置20、裝置3〇、裝置4〇、管路3〇、管路52、管路 54。如果在放水管路54的流出水中檢測 恢復為通常運轉。 不到過氧化氫，則 另外’在實際裝置中適 在習知1裝置中進行殺菌的場 至運轉停止前的水平所需的 置中平均7〜14日左右的，如 *SrJ* 〇 用本發明並進行殺菌的場合與 合’對殺菌後超純水水質恢復 時間進行測定發現，在習知裝 利用本發明只需0. 2 5〜1曰即 上述貫施形態是本發明的 圖示以外的形態。例如，也可 設置其他的機器。而且，作為 裝置以外，也可使用精密過濾 一個例子，本發明也可採用 在離子交換裝置的前段侧再 臈分離裝置，除了 UF膜分離 臈分離裝置、反滲透膜分離

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l356042 五、發明說明（14) 裝置等，或將 在離子交 的情況下，其 置的旁通管路 裝置的分離膜 以進行與前述 (i i )中，也可 脫氣裝置的殺 離裝置流通殺 使膜脫氣裝置 行獏分離裝置 的殺菌後進行 臈脫氣裝置與 置是與膜分離 作為離子 再生型離子交 如以上所 統’可使系統 運轉時，超純 運轉後即得到 雖然本發 限定本發明， 和範圍内，當 範圍當視後附 它們組合 換裝置之 與膜分離 。膜脫氣 而造成問 膜分離裝 以在進行 菌。亦即 菌水之同 殺菌。另 的殺菌與 膜脫氣裝 膜分離裝 裂置同時 交換裝置 換樹脂裝 詳細說明 内的殺菌 水中的金 高純度且 明已以較 任何熟習 可作些許 之申請專 使用。 前段侧或後段側設置有膜脫氣裝置 膜裝置同樣，可設置繞過臈脫氣裝 裝置的殺菌也會產生因前述膜分離 題的現象。膜脫氣裝置的殺菌也可 置40同樣的殺菌製程（Π)。在製程 膜分離裝置的殺菌之同時，進行膜 ，使殺菌水繞過其他裝置，於臈分 時，於膜脫氣裝置流通殺菌水，也 外’在製程（i i)中，也可以個別進 膜脫氣裝置的殺菌。在膜分離裂置 置的殺菌，也可以反過來進行之。 置的殺菌之後的各製程，膜脫氣裝 進行。 ，也可以是筒式超純水精製機（非 置）或電氣式脫離子水製造裝置。 的，如利用本發明的超純水製造系 處理後且超純水製造系統再次開始 屬濃度顯著降低，並在剛開始再次 水質穩定的超純水。 佳實施例揭露如上，然其並非用以 此技藝者，在不脫離本發明之精 之更動與潤飾，因此本發明之保 利範圍所界定者為準。 °

第20頁 1356042 圖式簡單說明 圖1所示為本發明的超純水製造系統之實施形態的系 圖 統 圖圖 圖圖圖 圖圖圖 圖 程 流 的 時。 轉圖 造流 製的 水時 純菌 超殺 的的 統統 系系 之之 1X 1X 圖圖 為為 圖圖 程程 流流 的 時時 菌菌 殺殺 的的 統統 系系 之之 11 1X 圖圖 為為 圖圖 程程 流流 的的 時時 菌菌 殺殺 Λ、^ /0^ #0 /9 統統 系系 之之 lx 1Α 圖.圖 為為 圖圖 程程 流流 的的 時時 菌菌 殺殺 的 統統 系系 之之 Ίχ ΊΧ 圖圖 為為 圖另 為為 nu 11 11 1± 圖圖 圖 程 流 的 時 菌 殺 的 統 系 之 圖 成 構 的 態 形 施 實 圖圖 程程 流流 的的 時時 菌菌 殺殺 態態 形形 施施 實實 之之 1 X I 1 圖圖 為為 2 3 lx 圖圖 圖圖 程程 流流 的的 士τ 士τ Q 8 洗洗 φ— Φ* ·/·/ 態態 形形 施施 實實 之之 1 I < 圖圖 為為 4 5 1- < 1Χ 圖圖 圖 6 ^—1 圖圖圖式 圖圖 程程 流流 寺士守 B B 洗洗 —φ— Φ— 、、/ >»/ Λ*、 fo、 #9 **£π 態態 形形 實實 之之 圖 統 系 的 統 系 造 製 水 純 超 的 知 習1 為明 1 I 一 圖圖示說 為為所示 1718標 槽 儲 a 2 路 管 水 放 4 5 2 7 泵 13139pif.ptd 第21頁 1356042 圖式簡單說明 5 :殺菌專用泵 6a、6c :管路 6b :喷射器 6d :殺菌劑儲槽 8、81、82、83、84 :配管 10、 73 :熱交換器 11、 21、31、41 :旁通管路 12 、22 、32 、85 '86 、87 、88 :西己管 20、74 : UV氧化裝置 3 0 :離子交換樹脂塔 40、76 : UF膜分離裝置 4 2 :鹽水流出管路 50 :管路 51、 7 7 :使用點 52、 53 :返回管路 75 :離子交換裝置 84A :旁通管路 8 9 :排水配管

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Claims (1)

1. 月曰修正本 1356042 修正日期:100'年7月27日 ^|^3103693號中文專利範圍無劃線修正本 '--^、申請專利範圍： 1. 一種超純水製造系統，其特徵在於，包括： 一次純水的貯水用次儲槽； 超純水製造器主體，導入前述次儲槽内的水以製造超 ， 純水，且至少具有依次配置的紫外線氧化裝置、離子交換 裝置及膜分離裝置； ' 供給管路’將前述超純水製造器主體所製造的超純水 送至使用點； 返回管路，將通過了前述使用點之未使用的超純水返 回至前述次儲槽； 流通單元，繞過較前述膜分離裝置靠前段側的裝置， 並在前述膜分離裝置中使殺菌水流通；以及 A繞道流通單元，使殺菌水流通較前述離子交換裝置靠 别段側的裝置’且使來自前述前段侧的裝置的殺菌水繞道 流通過前述料交換裝置及前賴分離裝置。 —Λ如申請專利範圍第1項所述的超純水製造系統，其 特徵在於，包括： 成單元’向前述次儲槽 殺 該次儲槽2的水形成殺菌水；以及 使 ， 水；替換單元，將該次儲槽内的水從殺菌水替換為一次純 洗淨 其中’從前述次儲槽内送出的殺菌水用於前述裝置的 〇 胜申凊專利範圍第2項所述的超純水製造系統，其 、I ; •將用於從前述次儲槽内送出殺菌水的殺菌專用 23 10J0U4Z 10J0U4Z 13l39pifl 爲第93103693號中文專利範圍無劃線修丨# 修IH日期:1〇〇年7月27日 泵與次儲槽内的水之送出用泵個別設置。 特徵4在:申Ϊ;利範圍第3項所述的超純水製造系統’其 二單卜:送出讀槽内的水之送刪的排 5·如申凊專利範圍第3項所述的超純 立 特徵在於，設置有： $扒衣把糸、、死^ 夂奘：形U則述臧菌專用泵的排出水不供給至前述 ㈣次㈣；以及殺_添加單元，設置 在該環形管路中。 6. 如申諳專利範圍第4項所述 特徵在於，設置有： 仏糸統'、 各萝ί开二ίη芑别述殺菌專用泵的排出水不供給至前述 在該環形管路中。㈣，以及杈囷劑添加單元，設置 7. 如申請專利範圍第1 # $笛β 超純水製造系統，1^ . ί + ^、中任—項所述的 具有配置於較前述紫外水製造11主體還 換裝置。 化裝置靠前段側的位置之熱交 8. 如申請專圍第丨項至第6項其中任所 超純水製造，其特齡t結述各裝置巾 = 用於分別只繞過各装置的旁通管路。 又置 9. 如申請專利範圍第7項所述的超純水製造 复 =二前述各裝置中個別設置用於分別只繞過各裝 24 1356042 13139pifl _____ 細_時7月27日 ㈣制如止申/月專利範圍第1項至第6項其中任一項所述的 超、4水衣以糸統，其特徵在於，設置有： 離料通管路’域辦賴分離裝置； 以及繞過祕料交換裝置； 側的前述各裳置作為-體而繞過了乂換裝置及1 乂其㈣段 特徵專有利觸7項所述的超純水製造系統，其 膜分離裝置用旁通管路’尸… 離子交換裝置用旁通管路，0'匕則述膜分離裝置； 以及前段时通管路，將前述前述離子交換裝置； 侧的前述各裝置作為一體而繞過。父換裴置及較其靠前段 25