TWI354120B - Antiglare film and image display device - Google Patents

Description

1354120 14983pif.doc 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明是有關於一種可以應用於影像顯示裝置中 偏，膜等光學用途之防眩則，謂別是有關於—種應用 在尚精細的影像顯示裝置時，很難產生亮點且可以確保高 視涊性之防眩膜片。此外，本發明還與使用此防眩臈片 影像顯示裝置相關。

，本七明疋有關於應用在影像顯示裝置中的偏光臈等 光學用途之防眩則的製造綠，詳細舰明，且特別 有關於得到特枝射曲線（㈣服）之有效的防 適當製造方法。 〈 【先前技術】

以液晶顯示裝置爲首的影像顯示裝置，在其影像顯示 面上射人外界級時’會明親㈣其視認性。在重視畫 或個人電腦等用途方面、在戶外強光下使用的攝 等用途方面’以及在利用反射光進行顯示 ㈣射型液晶顯示I置等用途方面，常需要在顯示 ^ 進仃防止這些映人光線的處理。關於防止映入光線 乂 ^理彻光學多層膜產生干涉的無反射處理 ，與透過 绩夕成凹凸形狀來散射人射光線，進㈣淡映入光 眩處理是十分不同的。前者的無反射處理需 m光學膜厚的多層臈，因此存在著成本高的問 严對，由於後者的防眩處理可以透過比較便宜的 g，而被用於大型的個人電腦或監視器等用途。 7

V 1354120 14983pi£doc 防眩性的薄膜，例如可以透過在透明基材上塗佈分散 $充劑的料線硬化賴脂，在乾職，歸料線使樹 脂硬化’進而在填充劑的表面隨機形成凹凸形狀等方法來 製造。而且，至今在用於影像顯示裝置的薄膜表面形成細 微的凹凸形狀，從而實現防眩性的提案有許多。例如：在 曰本專利早期公開之特開2003-4903號公報中，提出了一 種在透明的支碰上具有賊層，表面具有凹凸形狀的防 眩f片，此防眩膜片的各個凹陷部位的剖面面積在L000 μπι以下，在這裏，具有上述凹凸形狀的防眩膜片，是利 用在透明的支碰上㈣分散了平均奸錄爲〇2〜1〇 μπι之粒子的紫外線硬化型樹脂，再照射紫外線使 的方法而製造出來的。 、 另-方面，在日本專利早期公開之特開平6_16851號 公報及日本專利早期公開之特開平Μ·號公報中，^ 不了在使具有紫外線硬化型樹脂層的透明基 化型樹脂的-側，與在預先已有凹凸形狀的触緊密卜$ 的狀態下紫外線照射此料線硬化型樹脂層，^ 凹凸形狀複製在紫外線硬侧樹虹的方法。但是 預先具有凹凸形狀的薄膜，在日本專利早期公 平 6·16851號公報中，只是揭示了在基材薄膜上塗佈由2 劑與黏合敝成的麵域物的方法，在日 ^ 開之特開平7-12侧號公報中’只是揭 = ==膜的方法與事後在薄膜上喷= 8 14983pif.doc 此外一’在日本專利早期公開之特開耀以漏號公 揭不了-種防眩膜片，這是—種在表面形成了細微 的凹凸形狀的光學薄膜，在此薄膜表面上，在相對於法線 的-10。之方向射人級，只觀職表面的反射光時的反射 光曲線滿足之特定的關係。 在曰本專利早期公開之特開2〇03·1772〇7號公報中， 揭示了-種防反射薄膜’這是—種以在凹凸不平的表面上 設置多層的防反射層爲前提的薄膜，具有形成了輪廊曲線 要素的平均高度（RC)爲〇1〜3〇μιη的凹凸面，此凹凸面 之每0.01 mm2面積的凸出部位之個數爲的樹脂 層，在此凹凸面中，相對於防反射薄膜面的傾斜角爲〇〜 5°的平行面占15〜1〇〇 〇/〇，此平行面的15〜1〇〇 %是由凸 出部位形成的。在此專利文獻中，爲了形成這種凹凸形狀， 使用了底層負矩陣薄膜，但是沒有揭示此底層負矩陣薄膜 的具體的製作方法。 利用習知的防眩處理薄膜，特別是使填充劑分散而得 到的防眩膜片’由於在塗佈時係隨機配置填充劑，所以， 填充劑的密度分佈與拉伸’會産生在表面上形成了凹凸形 狀的密度分佈。而且’在工業生産中，容易産生填充劑的 凝集而産生不均勻之薄膜。 把這種習知的防眩膜片與南精細的液晶面板組合使 用時’雖然原因不定’但是會産生顯示亮點，因而難以得 到充分的視認性。爲了減小凹凸形狀的密度分佈，雖然可 以減少填充劑的配比量’但是此時不能得到充分的防眩 1354120 14983pildoc 性，另一方面如果填充劑的配比量過多，雖然會得到防眩 性，但是會産生漫射比例提高以及對比度降低的問題。

另一方面’在用於影像顯示裝置的防眩膜片中，由於 在一個畫素内具有多個凹凸形狀較佳，所以每個凹凸形狀 的大小需要小於希望應用的影像顯示裝置之晝素的大小。 而且，爲了把使用這樣的尺寸大小的凹凸形狀所産生之光 線的反射最適化’需要設計凹凸形狀與配置。但是，此時， 相對於反射光’需要考慮每個凹凸形狀産生的幾何光學要 素，以及由於凹凸形狀的尺寸較小所造成之光線的干涉與 繞射等波動光學要素。例如在應用於液晶顯示裝置與電漿 顯示器面板等影像顯示裝置的防眩膜片中，當隨機配置了 數μηι至數十μπι之相同大小的凹凸形狀時，會產生由於 相同大小之凹凸形狀而導致的干涉與繞射現象，結果在表 面的凹凸形狀産生的反射光顯示爲虹色，而産生在某個特 疋的反射角度下顯出很強的反射光等問題。 【發明内容】

本發明的發明者們在曰本專利早期公開之 2〇〇4·4308號（優先權主張：特願2003-8744號）中，提{ 了表面具有凹凸形狀之防眩膜片的製造方法。亦即| 廖 微影製，在基材上已形成的光阻層上形成凹凸形狀⑴ 私在付到的光阻層的凹凸面上電鑄金屬後，再從光㈣ 3此金屬剝離’以把光阻層上的凹凸形狀複製在金屬: ^程二X及把具有凹凸形狀的金屬板作爲模具使用，: 而在溥膜表面上複製凹凸形狀的製程。 10 1354120 14983pif.doc 本發明就是參考了這些實際情況完成的，其目的不是 犧牲防眩性，而是提供一種實現降低晝面上亮點的防眩膜 片。本發明的另一個目的在於使用這種防眩膜片，以提供 一種晝面上沒有亮點，且視認性優秀的影像顯示裝置。 此外，本發明的又一個目的在於提供一種適於控制表 面上形成的凹凸形狀，進而製造出光學特性優秀之防眩膜 片的製造方法。 本發明的發明者們基於此目的，經過銳意地研究，結 果發現在形成了凹凸形狀的薄膜上的凹凸區域的密度分佈 對於党點性能會產生很大的影響，通過對其進行適當地控 制，才可以得到高性能的防眩膜片，此外，並進一步進行 了 ^種研究’從而完成了本發明。而且，根據上述日本專 ^早期公開之特願綱.侧號提出的方法，進行了進一 的通，ί利用微影製程形成凹凸形狀 先罩可以得到尚性能的防眩膜片。 ^ μ根據本發明’可以提供一種防眩膜片，其中，在 度^區域了細微的凹凸形狀’高於凹凸形狀的平均高 凹陷_ 於凹凸形狀的平均高度的區域爲 域的頻度，進—牛扣械積X、.泉求付凸起區域或者凹陷區 刻線計算出表據面積X頻度，利用上述狀的面積 域或者凹陷區域的面 ^矩關表不仔到的凸起區 下的位置，，::;=在值=2^ 11 1354120 14983pi£doc 上述峰值出現在15〇 μιΏ2以下的位置時更佳，而且， 上述峰值的半光譜幅值達到大於10 μηι2時較佳。 ， 這些防眩膜片的向從正反射角度偏離20。的方向的及 It率在0.001 〇/0以下是有利的。此外，使用陰暗部位应明 壳部位的寬度爲1·〇 mm的光梳測定的45。反射可見产^ 有利的。而且’使用陰暗部位與明亮部:的寬 2二目Γ、G·5 mm、1G mm及2 G mm四種光梳測定 的透射可見度的合計值達到 %以上是有利的。這 眩膜片中，漫射比例在15%以下是有利的。 — 干明，可以提供使用防眩膜片的影像顯 不展置鱗騎健⑽上敝何 影像顯示手段，雜置絲賴科0^片2 提供一種表面具有凹凸形狀的防‘ ，錢方法^其包括利用微影製程在基材上形成的光阻膜 二：凸微影步驟、在得到的光阻膜的凹凸面上 複製了凹凸形狀的金屬板製作模具的電鑄模 ^隹 把這種複製了凹凸形狀的金屬板^乍2、 叫旦,止片 絲面的凹凸薄膜製作步驟。上述的 阻膜上曝光:然後進行顯影以製造=:的先罩，在光 在此方法中’在光罩上形成了的圖 直徑是最小圖案的直徑的i4 ς使取大圖木的 而且，在光罩上形成了 下是有利的。 茶使至少2種大小不同的圖案 14983pif.doc 分別所占的總面積之比在G.7〜l3的·内是有 上述經過光罩的曝光，是利用在與光阻膜 — ”置上，配置了光罩以進行近距離曝光爲較::: 且^把光罩與光阻膜表面之間的間隔設 的平均直徑設定爲D (μη〇^ 的值爲1.3以上與2_8以下的條件下進行是有利的在 爲了保持平移的對稱性，光罩可 f舞成的單元元件排列而組成的。而且，把複製= ^的金屬板作爲模具，在薄膜的表面複製該凹凸形狀 可以把此金屬板捲在滾筒的表面，使其凹凸面 側，用於凹凸薄膜製作步驟。 ”、 本發明的防眩膜片是-種適當地控制了表面的凹凸 形狀的薄膜’把其應用於液晶顯示I置等影像顯示裂置， ^別是精細度高的影像顯示裝置時，可以有效地防止亮點 寺妨礙視認？的現象的産生。所以，可以顯示防眩效果優 秀、視認性高的影像。特別是通過同時控制薄膜的光學特 性，使其效果更加顯著。 . 、，根據本發明，可以提升生産性並且再現性佳地製造出 光學特性優秀的防眩膜片。 ▲為讓本發明之上述和其他目的、特徵和優點能更明顯 易懂，下文特舉較佳實施例，並配合所附圖式，作詳細說 明如下。 【實施方式】 以下，適當地參照附圖，進一步詳細地說明本發明。 13 14983pif.doc =圖中’圖丨是表示防眩膜片表面概況的斜視圖。圖2 =於，眩則的某_部分的表面，繪製了各點高度曲線 的二維等高線圖。圖3是關於防眩膜片的某—部分的表 Z二白色表示高於平均高度的區域（凸起），用黑色表示 ，於平均騎的區域（凹陷）的二維等高線圖。圖4是把 =眩膜片表面觀測到的各個时與凹陷區域顯示的頻度 才目對於面積的曲線化的矩形圖。圖5是根據圖4的資料， 利用面積X頻絲示縱軸輪形圖關子。圖6是表示凸 =^陷區域表觀面積的矩形圖中之峰值的半光譜幅值 。了 /的不意圖’其爲擴大顯示了圖$橫軸的卜· 7之間的矩形圖。圖7是按照每個步驟利用縱向剖面圖 =:、ί?Γ相關的防眩臈片之製造方法的-實施例的示 忍回〜7^11 7⑻的局部放大剖面示意圖。圖9是說 明正反射率與從正反射方向朝著薄膜—側傾斜的角度^ 係之斜視圖。圖1〇是表示把對於入射光的正反 W ^ G)’以及把從正反射方向朝著賴-側傾斜 的巧㈣反射率作爲R〇)時，R⑷把R(。）: 5圖伴 加’ R⑷隨之單調減少的情況 心圖圖疋用於說明正反射角度與對於從該角产偏 的方向的反射率的斜視圖。圖12是表示關= 後述的貫施例1所得到的防眩膜片之縱向約彻帅 ===層次地變換顯示高度資訊的擴大圖°， 利用實施例1所得到的防_片，在表面觀_的各2 14 1354120 14983pitdoc 起或者凹1½區域出現的頻度相對於面積的曲線化之矩带 5矩:二是根據圖13的資料，利用頻度x面積表示縱軸 20 圖1 ’以說明本發明的防眩膜片。此防眩膜片 "、在八表面上形成了細微的凹凸形狀3、4的 防眩臈片本體與習知的防眩膜片沒有區別。 中 膜之:均高度的面(稱爲主平面）用符號i表示，二： 面用付號2表示，薄膜面中的直角坐標 ^ 千均间度的部分（凹陷）4用虛線表示。 區域在种1於凹凸雜之平喊度的區域爲凸起 二屮夂二凹凸形狀之平均高度的區域爲凹陷區域，並計 异出各個凸起區域或者凹陷區域的面積 。 =線計算出該凸起區域或者凹陷區域的頻度，並二步： 用上述的規定面積刻線計算表觀面積的 頻^ ’用矩形圖表示得到的凸起區域或者凹陷區域之 面牙貝的頻度時，峰值會出現在· μηι2以下的位置，^ 峰值的半光譜幅值會達到60 jum2以下。 μ 越粗Ϊ此====咖，凹凸區域就 域，相當料徑約10_的圓，== = =者凹陷區 或者凹陷區域有多個存在時’亦即在上述矩二 =見在大於細W的位置時，亮點的 降低視認性。利用矩形圖表示凸起區域或者凹二= 15 1354120 14983pif.doc 觀面積的頻度時，其峰值設定爲出見在細一以下 150 W以下’特別是出現在刚帅2以下的位 而且，用矩形圖表示凸起區域或者凹陷區域之 ===的頻度時，其所表現 位面積的凸起或者凹陷區域之表觀面積的分佈。 膜片；知:別是使填充劑分散而得到的防眩 膜片卜可以看出填充劑分散良好 下充劑集之部分的凹 且，用光學顯微鏡或者觸針式膜厚數置極少。而 觀察到填充劑凝集造成之面積較::3二:可，明顯地 等的光學特性，可以％135凸形狀。關於亮點 用，因此需要南 面積大的凹凸形狀的作 以，在本^中凹凸形狀面積的評價方法。所 或者凹陷表觀面積 以下，關於本眩膜片的表面結構。 首先，在法及其意義。 後，把高於平區域整體高度的平均值。然 的區域定義爲凹陷區域爲凸起區域’而低於平均值 在圖2與圖3中，表示了防眩膜片的凹凸區域的高度 16 1354120 14983pl£doc 分佈。圖2是利用一水平分解能力刻線把薄膜表面各點的 高度曲線化的三維等高線圖。另一方面，圖3是平均圖2 所示求得之各點的高度’並用白色表示高於平均值之關 集合，即本發明令所述的凸起區域，而用黑色表示低於平 均值之點的集合，即本發明中所述的凹陷區域， 個,點曲線化之二維等高線圖。例如，在圖3中，關於白 表示的凸起區域，計算其各個面積。由於在這裏可以認 陷區域在各自的高度方向上幾乎對稱，所以‘ 凸起或者凹陷區域的任何-方可以計算其各自的面積。益 還是凹陷區域，能夠符合本發明中規定的： 要條件更佳i且，並非計算凸起或者凹陷 面積’而是計算其投影面積。而且，在圖2及圖= 了淺顯易僅’只表示了幾個凹凸區域，實際上 :、 個凹凸形狀的區域中計算表面的高度，以計算出此 =度的平均值’並分別計算出多個凸起或者凹陷區上 圖4是利用規定的面積刻線把按照以上方法 J個凸起區域或者凹陷區域的個數曲線化之度數分 形圖）的實施例。由於會進一步計算表觀面積，從 I步規定Γ積刻線的頻度值計算出面積的區間 二頻度的乘積，以作縣觀面積_度是利 ϊίϊΓ積刻線㈣艮據圖4的圖表計算出的表觀面積的頻 又曲線化的度數分料圖表（矩卵）的實施例。 可以羞出如圖4所示的相對於面積把凸起或者凹陷區 17 1354120 14983pif.d〇c

域的個數（頻度）曲線化的矩形圖中，面積小的凸起 凹陷區域佔大錄，面積大的凸域者凹陷區域則很少， 但是，在光學躲方面’面積大的凸起或者凹陷區域的作 用很大。所以，在本發明中，將面積乘以頻度計算出 觀面積的頻度’而且，根據將其曲線化的矩形圖^得表 觀面積的分佈。在本綱書巾，具有如此得制表觀面積 的矩形圖甲之峰值的半光譜幅值（蘭偏出站祕 maximum :也稱爲半光譜全幅值），亦稱爲表觀面積的分 佈。下面詳細地介紹這種表觀面積的分佈的計算方法。

形成了凹凸形狀的薄膜表面的高度可以根據使用非 接觸式三維表面形狀之粗糙度檢測儀、原子力顯微鏡 (Atom1C Force Microscope : AFM)、雷射共焦點顯微鏡等 儀器所檢測的表面粗糙度之三維形狀進行計算。檢測儀要 求的水平分解能力至少要在5 μηι以下，在2 μιη以下較 佳，而且，垂直分解能力至少要在〇1 μηι以下，在〇 〇i pm 以下較佳。作爲適合本檢測的非接觸式三絲面形狀之粗 链度檢測儀，可以列舉的有美國Zyg0 corporation的産品、 可以從曰本的ZAIKO (株）購入的“New wew 5〇⑻”系 列。雖然檢測面積大一些較佳，但是至少要在1〇〇 ^mxl〇〇 μΐΏ以上’在400 μηιχ400 μηι以上較佳。 具體來5兒，通過使用上述的檢測儀，可以計算圖2所 示檢測儀的水平分解能力中決定之晶格狀的與各x、y座標 對應咼度的資料。計异出所有高度資料的平均值，將高於 平均值的區域㈣战區域’低於平均值的區域視爲凹陷 18 1354120 1498Jpi£d〇c 區域 田得到的凹凸形狀變換爲二進位化的景U ===體計算凸起區域或者凹陷區域的=作Γ 以C，只要可以計算各個凸起區 ： 的畫素(㈣的數量，並沒有特殊的限定，= === 職述的實施例中，作爲_ 各個凸起或者凹陷區域部分的畫素的數量，以計算出面 IHImage 是一種由美國的随（Nati〇naUnstitute〇f ^他）開發的影像處理軟體，用該開發機構的名稱而命 名爲 NIH Image。 然後，把通過影像處理得到的最大面積與最小面積之 間的這些面積等分爲1〇〜100等分的程度，計算出符合分 割的相鄰各個面積之間，面積的凸起與凹陷的個數，以求 出頻度。如果面積的分割過細，頻度將會離散而很難計算 分佈情況。相反地，如果面積的分割過大，由於只能看見 大致的頻度，而較不理想。在圖4及圖5表示的實施例及 後述的實施例中，把面積分割爲10 μηι2間隔。亦即，在圖 _ 4及圖5中，按照ΙΟμηι2的間隔表示橫軸的面積，最初的 區間爲「0」，表示在0 μηι以下，下一個區間表示〇 至10 μπι2之間的面積，其後，例如表示爲「5〇」的部分區 間係表示40 μηι2至50 μηι2之間的面積。在表示為矩形圖 的下述圖6、圖10及圖11中，也是相同的表示方法。 而且，爲了彳牙到表觀面積的分佈，計算相鄰的各個面 積的平均值與屬於該區間的凸起或者凹陷的個數（頻度） 19 1354120 14983pif.d〇c 的乘積 Μ"!卜爲衣親曲槓的頻度。例如，如 的間隔分割面積時’位於20帅2至3〇 m2按照10帅2 爲25μπι2)的凸起或者凹陷數量爲5個“=(中間值 度爲25 —5個=125〆。㈣於面積值，=積的頻 規面積的頻度曲線化，以製作表觀面積的矩件到的表 =圖的峰值的半光譜幅值，定義了凹凸形狀:表匕 的为佈。相對於面積的「面積χ頻度」的矩 積 是指如上述所示得到矩形圖中的「 二的峰值 亦即，用圖5的實施例來說，指出面現積在 之間的面積區間的值。 /、30 μηι ，這裏，根據® 6說明矩形圖巾的峰值 =方法:r是把圖5之矩形圖的橫軸從。〜:二 顯示最大值的點作爲表示二:= 線====，的面積，。的直 ”、，作為基旱點B，通過把峰值線段PB二等分的赴Γ =橫軸平行的直線（半值線），把其與矩形圖相交的最 且與最大值之_面積間隔作解光譜巾i值WH。而 到2圖6所示，從表科值的點P開始下㈣矩形圖在 ^峰朗半值之前再次上料，達到峰值^ 超屬I後’再次上升要超過峰值的半糾，矩形圖將不再 峰值的半值，最後確定超過半值的點U、V，利用uv wHH度坐確定半光譜幅值WH。在確定半光譜幅值 T ’把半值軸矩卵被的最小值作爲其柱形表示 20 1354120 14983pitdoc 的面積區間的最小值’把半值線與矩形圖相交的最大值作 爲其柱形表示的面積區間的最大值。亦即，在圖6表示的 實施例t ’由於在面積小的一侧半值線與表示1〇 μΓη2與 20 μπι2之間的面積的柱形最後相交，把點υ的值作爲1〇 μπι2 ’而且’在面積大的一側半值線與表示14〇叫^2與I% μηι之間的面積的柱形最後相交，把點ν的值作爲1 % μηι2 ’所以，此例中的半光譜幅值WH爲14〇哗2

(=150-10)。 在相對於上述得到的「面積X頻度」之面積的矩形圖 中，如果峰值的半光譜幅值爲0，凸起或者凹陷區域的面 積會集中在1點m如果此半光譜幅值變大，表 示各個凹凸區域的表觀面積的分佈很寬（大）。此半光雄幅 值越小，各個凹凸區域的表觀面積的分佈會變窄（小）曰。 ^觀面積的分佈寬時，織面獻的凸域者凹陷區 域人表觀面積小的凸起或者凹陷區域會混在 能確定其仙，但是可以得知亮點會變大。而且

f的t =時’可以得知凸起或者凹陷區域的面積比較集 ’，、向精細的顯示面板組合使㈣少果 中，峰值的半央二 述表觀面積的頻度的矩形圖 視适性會明顯降低。 又大且 值的半光譜幅值二T，如果表觀面積的分佈（峰 冗而可以得到良好的視認性。所」 貝下裴賢中的視認性，此表觀面積的分佈（峰 21 1354120 14983plf.doc 值的半光§普幅值）設定在100 pm2以下是關鍵，此半光譜 . 幅值達到60μηι2以下為較佳。在表示表觀面積的頻度之矩 形圖中的峰值的半光譜幅值在5〇 μηι2以下更佳。但是，如 果凹凸區域規則排列，半光譜幅值爲〇時，干擾條紋會變 得明顯，如果半光譜幅值達到1〇 μίΏ2以下，會出現此傾 向。所以，凸起或者凹陷區域的表觀面積具有一定程度的 刀佈為#父佳，上述的半光譜幅值達到μηι2以上為較佳。 本發明中具有特定之表面形狀的薄膜可以利用任意 的方法製作，例如可以利用下述方法製作，在具有適當的 表面升^狀的壓花（embossing)鎮模上，在加熱的狀態下壓 合熱可塑性透明樹脂薄膜的成型方法。另外，也可把塗佈 了1外線硬化型樹脂的透明基材之紫外線硬化型樹脂的塗 佈面，與上述的壓花鑄模緊密結合，在此狀態下照射紫外 線使其硬化的方法。 作爲壓花鑄模的製造方法，可以列舉的方法，例如為 利用被影製程（photolithography)以形成凹凸形狀與在上 面的金屬電~(電鍍）組合的方法就是一種很好的方法。_ ”二來毳，利用在基材上形成光阻膜（ph〇⑺代仏丨），在上 面只施鈿細曝光，然後通過顯影，以在上述的光阻膜上形 ^凹凸形狀。在形成了凹凸形狀的光阻膜上進行金屬電鑄 把此金屬從光阻膜上剝離下來，而製作成複製了凹凸 ‘ :狀的金屬板’亦即壓花鑄模。通過使用此壓花鎮模，在 熱的狀悲下把熱可塑性透明樹脂薄膜壓合在此壓花鑄模 上的方法’或者把塗佈了紫外線硬化型樹脂之透明基材的 22 1354120 14983pif.doc 紫外線硬化型樹脂的塗佈面，與上述的壓花鑄模緊密择 合’在此狀態下照射紫外線使紫外線硬化型樹脂硬化的方 法寺’而可以製造出成型了規定的表面形狀之防眩膜片。 如此，根據圖7說明通過微影製程與電鑄的組合製造 壓花鑄模，並使用此鑄模製造防眩臈片的方法的實施例。 首先，如圖7 (A)所示，在形成光阻膜用的基材u之表 面上製造光阻膜12。在這裏使用的基材n，可以使用表面 平坦，並能與光阻膜適當地黏接的材料，例如玻璃、石英、 氧化鋁等無機透明基材，或是銅、不銹鋼等金屬基材。而® 且，在基材11上塗佈的光阻可以是具有感光性和適當解析 度的材料，可以使用曝光部分對於顯影液具有可溶性，而 在顯影後可被去除的正光阻，或者是曝光部分硬化，而不 溶於顯影液，並通過顯影去除未曝光部分的負光阻的任何 一種。例如··線型酚醛樹脂（nonp〇laricresin)、丙烯樹脂 (acryl resin )本乙烯與丙烯酸的共聚物（styreneacry acid copolymer )、聚氯乙烯苯酚（p〇lyvinyl 咖㈣）、聚（^ 曱基乙烯（poly (a-methyi vinyi phen〇i))等驗性可溶修 性;b% ’與含有職二疊氮（qUin〇ne diazid〇)基的化合物等 感光性化合物，.溶解於有機溶劑調配而成的正光阻組成 物’或是把含有鹼性可溶性樹脂、光氧發生劑、交聯劑等 的感光性树月曰浴解於有機溶劑中調配的負光阻組成物。但 疋，爲了在後面的曝光步驟中，利用近距離曝光在邊緣部 位産生光的繞射’通過後面的顯影以形成含有圓形的凹陷 部位’係利用正光阻爲較佳。參照圖7，下述表示的實施 23 1354120 14983plf.d〇c 例爲使用正光阻時的情形。

在基材11上形成的光阻膜12的厚度可 防眩膜片表面形成的凹凸形狀之深度或形 == 調整。形成_厚與目的深度姆，或 2適备的 爲具體之膜厚的翻，在凹凸形狀的目魄度t佳。作 形狀的目的深度以+5 μηι以下爲較佳。 又 ，凹凸 爲了在基材11上形成光阻膜12，例如，可

轉塗佈法、浸潰m塗佈法料知適當的方法U 形成後，A了除去光阻中含有的溶劑，通常要實施^烤 (㈣恤）。預烤例如可以使用加熱板祕箱等，在6〇f 120C左右的溫度下進行G.5〜1G分鐘。預烤的溫度及時間 可以根據絲_賊轨要求的靈較進行適當地 整。

對於這樣在基材U上形成的光_ 12，·然後如圖7 (B)所示，實施精細曝光。在圖7⑻中，表示了經過 兩層次的綠14 it行精細曝光的實關。兩層次的光罩是 種對於曝光光源，在由透明的玻璃或者石英等製成的基 板上’形成了透射雜與遮光雜，骑絲源的光在透 射部位的透射率爲100%或者接近於1〇〇%，且遮光部位會 遮蔽來自曝光光源的光，而在遮光部位的透射率爲0%或 者接近0%。具體可以列舉的例子，例如為對於曝光光源， 在透明基板上用鉻等金屬製作遮光部位的金屬光罩，或者 是通過使乳劑等感光而製作遮光部位的乳劑（emLUsi〇n ) 光罩等。 24 1354120 14983piCd〇c 如圓7 (β)所示 配置此兩層次的光罩〗4 ’使其與 光阻膜I2的表面有一些間隔，以進行近距離曝光。近距離 曝，是指使光罩14接近光阻膜12，但是不使其緊密接觸， 而是間隔-定的距離，再進行曝光。通過使用這種兩層次 H 14進行近距離曝光，在光罩14的光糊案之邊緣 雜會產生光的繞射，而使光罩Μ的成像模糊。通過透射

3的ίί 15經過遮光部位背面擴大，而產生連續的光量 刀佈。ΛΛ後，根據近距離曝光的光量分佈，使光阻膜U 過其後的顯影’並根據照射的光量使光阻的 人光在顯影後的光阻膜12的表面會形成符 ΐΓί光罩與光阻膜之間的距離（稱爲「曝 =間隙」或者「近距離間隙」）等的凹凸形狀。此時，光罩 、口樘可以只有〗種或多數種，例如 徑組合，用以製作光罩也是有效的。戰者3種的口 f圖7⑻中表示了使用兩層次的光罩“通過近距 lit進:Γΐ曝光的實施例。其他’利用經過多層次的 之光的光的方法’根據地點經過可以使曝光光源 方去變化的空間光調變元件以進行精細曝光的 方法，也可以得到相同的效果。 π 多層次的光罩與上述的兩層次的光罩不同，是一種 二ί:透射率可以多階段或者連續變化的光罩。作爲這χ 尺寸的遮光部位與透射部位，並利用遮光部 25 1354120 14983pif.doc 的面積比而表現層次的光罩、或利用電子束、雷射光束等 高能量光束感光後，使透射率會産生變化的物質分散在透 明媒介物上的光罩間隔中並照射高能量的光束，使其強度 根據地點進行變化’進而使透射率連續變化的光罩，以及 在基材上形成像乳劑類物質，其具有感光性，並根據照射 光的量使其光學濃度會産生變化的物質，利用改變光量使 該物質感光，並根據地點使光學濃度產生變化的光罩。 另一方面，可以根據地點使曝光光源的光強度產生變 化的空間光調變元件，是一種可以使透射此元件的光或者 此兀件反射之光的強度産生空間的變化的元件。例如由液 晶元件或者數位微型鏡元件（Digitai Micromirror Device : DMD)等配置了多個晝素的光調變元件。把液晶元件作爲 空間光調變元件使用時，由於可以設定多個晝素構成之液 晶元件的每個晝素之透射率，所以透過使從曝光光源中射 出的具有空間均勻地強度分佈的光透射此液晶元件，可以 得到對應液晶元件畫素之透射率的曝光光線之強度分佈， 而産生可照射在光阻膜上的曝光光線之空間強度分佈。另鲁 外，把DMD作爲空間光調變元件使用時，可以適當地利 用微型鏡的傾斜角度，使光線向光阻膜的方向反射，以及 向光阻膜以外的方向反射之適當變化，使得通過在每個晝 素中使向光阻膜的方向反射的時間産生變化，而可以在每 · 個晝素中改變單位時間實際的反射率。亦即，通過使用 DMD反射來自於曝光光源之具有空間性的均勻強度分佈 之光線，可以得到符合微型鏡傾斜角度時間的曝光光線之 26 1354120 14983plf.doc 強度分佈’而會產生可照射在光阻膜上曝光光線之空間性 的強度分饰。 用於曝光的光源可以使用令光阻膜12感光的光源， 並根據光阻的種類使用適宜的光源。例如，把高壓水銀燈 或者超尚壓水銀燈作爲光源使用，可以使用從中發出的层 線、h線、1線等近紫外線、或者使用在接近於這些水銀燈 之亮線的波長中具有發信波長的雷射。曝光時，只要在^ 損害本發明之作用的範圍内，可以在曝絲源與光阻膜之 間設置鏡糊請絲料 '光罩卿（alignment)類的機 械部件。 你巧俅戶'她了才月細曝光的光阻臈12上 =里’_⑹所示，得到了形成凹凸形狀的光= 爲使在基板11上形成之曝光後的光阻膜 曝=的㈣雜^，如正光_，通過除去 二#據光_=膜12场成凹凸形狀。關於顯影液，可 =二：^再實施硬烤(_ 與基板㈣結烤合提升 感光性的作用。硬烤例如可以使用 二先後膜失去 100〜贿左右的溫打物G 5〜==板等’在 然後，如圖7⑼所示，在刀知左右。 膜13上轉金屬17，以把光阻膜H凹凸形狀的光阻 複製在電鑄的金屬17上1於電的凹凸形狀 7金屬，可以使用習知 27 1354120 14983pi£doc 城領離㈣金屬，例如#、㈣& 絡合金等金屬。經過電缚在光阻膜 、絡、 厚度沒有特別的限制，從耐久性方面看才成1 金屬17之 左右較佳。錢_13上餘猜電^ 咖 對光阻膜13的表面進行導電化處理，這種需要 例如可以採騎過蒸鍍或者讀（split=導：的處，， 希望直接絲_ 13场行 麵的方法。不 13上的凹陷形狀複製在金屬17上成°凸=巴:阻膜 是希望把與光阻助上的H = 形成凹陷形狀時，例如可以採用把光阻膜13上开 ==後，再對於此樹脂的凹凸^ = 方法進仃W化處理，紐再進行電鑄的方法。 金屬二:下= 製在樹脂上•繼而在樹 7…1 丨 金屬板嶋下來的方法時，如圖 花錄模18^ ’即形成表面形成了凹凸形狀的金屬板，即壓 凸妒到的壓花鑄模之模具18，把其表面形成的凹 及^)/_上’便得到防眩膜片。在圖7的⑺ 線砀㈣}的貫施例f ’在透明基材薄膜21上塗佈紫外 ，使此紫外線硬化型樹腊22之一侧與壓 .、 緊在'結合，在此狀態下從透明基材薄膜21之一 28 1354120 149S3plf.doc 側照射紫外線，使紫外線硬化型樹脂22硬化，以得到在透 明基材薄膜21上具有凹凸形狀的紫外線硬化樹脂22層的 防眩膜片20。不僅限於此實施例，如上所述，利用在加熱 的狀態下，把熱可塑性的透明樹脂薄膜壓合在上述的壓花 每模18上成型的方法’同樣可以得到表面形成了凹凸形狀 的防眩膜片。 如圖7的（F)及（G)所示，在透明基材薄膜21上 塗佈紫外線硬化型樹脂22，在此紫外線硬化型樹脂22 一 側複製凹凸形狀時，作爲紫外線硬化型樹脂，可以使用市 場上出售的任意的種類。例如把聚經曱基化丙三丙烯酸酉旨 (polymethylolpropanetriacrylate)、五赤蘚醇四丙稀酸醋等 多官能丙稀酸酷（pentaerythritoltetraacrylate)分別單獨使 用’或者把运些物質兩種以上混合使用，以及可以把 “IRUGAKYUA 907” 、 “IRUGAKYUA 184”（以上爲 CHIBA · SPECIALTY · CHEMICALS 公司製造）、 “RUSHIRIN TPO”（ BASF公司製造）等光聚合引發劑的混 合物作爲紫外線硬化型樹脂。 另一方面，採用熱可塑性透明樹脂，將模具18的凹 凸形狀形成於其上的方法時，作爲熱可塑性透明樹脂薄膜， 只要是真正透明’可以使用任意的物質，例如聚甲基異丁 烯酸自旨（polymethylmethacrylate )、聚石炭酸自匕 (polycarbonate )、聚乙烯對苯二酸酯 (polyethyleneterephthalate )、三乙酰纖維素 (triacetylcellulose)、降冰片烯類化合物作爲單體的非晶性 29 1354120 14983piCdoc 環狀聚烯烴（polyolefin)等熱可塑性樹脂的溶劑製造薄膜 或者壓合薄膜等。這種透明樹脂薄膜也可作爲上述說明 中，使用紫外線硬化型樹脂時之透明基材薄膜21。 在本發明中之微影製程，特別是圖7 (B)中表示的 曝光製程中’使用了至少具有兩種大小不同的圖案的光罩 14。在這晨所說的圖案是指至少充分大於曝光光線之波長 尺寸的各個透射部位（開口）或者遮光部位。亦即，不是 指具有與曝光之光的波長相同或者小的尺寸。使用電子射 線繪圖襞置等之高解析度的光罩繪圖裝置，係設置了充分 小於曝光光線波長的透射部位與遮光部位，當利用透射部 位與遮光部位的面積比以表現層次作爲層次光罩時’其充 分小於曝光光線之波長的透射部位或者遮光部位。在本發 明中，把具有與圖案的面積相同的圓之直徑，作爲了圖案 的大小。 Λ 使用具有相同大小圖案之兩層次的光罩時，利用微影 製程在光阻膜上形成的凹凸形狀，具有幾乎相同的尺寸: 如上述所不，考慮到液晶顯示裝置或是電漿顯示器等影像馨 顯不裝置中的晝素的大小，且在光阻膜上形成的圖案大小 幾乎相同時，即使利用電鑄把凹凸形狀複製在金屬板上， 然後再將金屬板上的凹凸形狀複製在薄膜上後，由於薄犋 上的凹凸形狀的大小幾乎相同，且由於反射光之間的干擾 ‘ 或繞射，基於表面的凹凸形狀而會產生反射光呈虹色的^ 向。 在本發明中’由於使用具有不同大小圖案的光罩進行 30 1354120 14983pif.doc 微影製程，而在光阻膜上形成的形狀有各種尺寸，很難產 生上述反射光之間的干擾與光的繞射，也很少出現表面的 凹凸形狀所造成之反射光的著色或是在特定的角度下特定 波長的光之反射率變高的現象。

，在此光罩中，如果圖案的尺寸差異過小，在光阻膜表 面形成的凹凸的尺寸會幾乎㈣，祕難充分地發揮本發 明希望的效果m如果_的尺寸差異過大，在 ，罩上有圖案的部位與無圖案的部位的疏密度過大，有可 此很難實現均自的防錄能。所以，在鮮上形成圖 案的尺寸’最大尺寸（餘）與最小尺寸（直徑）的比爲 1_1倍以上且2倍町紐。贿的尺寸比在丨2倍以上且 1.5倍以下較佳’在i 3倍以下更佳。根據防眩膜片應用目 的之顯示裝置，各個圖案的直徑大概在丄〜刈μιη的範 内車父佳’在5 μηι以上30 μηι以下更佳。

關於在光罩上大小不同的各__合計面積，各^ 圖案之間的差異不太大時爲較佳。亦即，例如某一尺寸€ 圖木X與其他尺寸的難γ混在—起時，随X的合1 =積與圖#Υ的合計面積之比在Q.7〜1.3左右的範圍内i 種尺寸不同的_混在—起時，可以是任意兩種. ^付關係’當然各個尺寸不同的圖案之間都符合」 一關係時更佳。 =11 7⑻戶斤示’配置兩層次的光罩14係與光陶 、、面設置-定關隔’錢行近距轉光時爲較佳 、距離曝光是録級鮮Μ與光賴丨2接近，但是 31 1354120 14983pi£doc

沒有緊密結合，而是設置一定的間隔以進行曝光。通過使 用這種兩層次的光罩14的近距離曝光，如圖7(B)所示， 在光罩14的光罩圖案的邊緣部位會産生光的繞射，可以看 出光罩14的成像會模糊，通過透射部位的光束15經過遮 光部位背面之擴大，而産生連續的光量分佈。然後，根據 近距離曝光之光量的分佈，使光阻膜12感光，經過之後的 顯像處理，對應光量分佈之光阻的殘膜厚度會産生變化， j顯衫後的光阻膜12的表面會形成對應光罩圖案、曝光 量、光罩與光阻膜之間的距離（稱爲「曝光間隙」或者「近 距離間隙」）等之凹凸形狀。 在使用上述的兩層次的光罩進行近距離曝光時，把; 的間隔奴爲L (卿），把光罩的圖^ +均直料定❹（㈣，在咖的值爲1>3以上與2. 較:的條件’即滿足下述公式⑴的條件下進行曝光時』 上^ 2.8 (1)

，據擴大顯示了圖7(B)的一部分之圖8， 罩與光阻臈之間的間卩$ L盘

的關係。如圖8所=的圖案的平均直徑W 的間隔把先罩14與光阻膜12的表面之 =間iW疋爲L。在本發明中，由^ =小不同的圖案的光罩，例如，如果光罩14=有成 ^直則=個圖案的直徑設 :、：:: 均直徑D是把這此 2汉4圖案的 行加權而得到的力':料寸與圖案的個數 隹十岣值在具有圖8所示的Di、 32 14983pitdoc 3役的三種圖案時’光罩的整體或者單位面積中的各 個圖案的個數分別爲N ^個、N 2個及N 3個，則平均直徑 D可以利用下述的公式（2)計算。

透射細微開口之光線的成像擴散，係根據開口與光阻 膜之間的間隔L、開口部位的尺寸D、以及光的波長人所 構成的（L/D2· λ )而產生變化，開口與光阻膜之間的 間隔^、蚪，開口的形狀幾乎直接複製在光阻膜上，隨著開 =與光阻膜之間的間隔的變大，會在光阻膜上照射以光轴 爲中心的擴散光。因此，如果L/D2的值過小，在光阻膜上 开/成的曝光成像會反映在光罩的開口部位的圖案上，能量 的刀佈g根據開口形狀急劇地變化，所以容易在光阻膜上 形成通孔，會降低以後得到防眩膜片之光的散射功能。另 方面，如果L/D2的值過大，利用光罩繞射的光會擴散， 則很難2在光阻膜的表面形成圖案。根據實驗，可以確認如 果L/D2的值在1>3以上與2 8以下的範圍内，可以形成大 致良好的曝光成像。 而且，在上述的說明中，按照圖7的（A)〜（E)， 把，光阻膜12上f施精細曝光麵影，將形成了凹凸形狀 之薄膜作爲原版，最终可以製作成在薄臈上連續複製凹凸 形狀的防眩膜片20。因此，爲了製作原版用的光罩14，需 33 1354120 14983plf.doc

圖案’此光罩圖案是爲了得到本發明中規定的 形狀K的。在整個鮮Η上設計這樣的光罩圖荦是一 項非常麻煩的操作’由於光罩圖案的資 ？ 光罩繪圖機的負擔也报大，雖歸理上可行，作是不= 能=現實中。所以’使用設計了由固定面積組成的^ :早持U=所構成的光罩圖案’將多個單元元件排列， 並保持千移對稱’且可覆蓋整體的光阻膜12的光罩是有利

的β通過制這種方法，可以減少設計整體的鮮丨 ^圖案的麻須，在工業方面也是有利的。在這裏的 %性疋彳日在讀左右或者斜向等_定的方向上排列上述單 j件。作聽置了光相案，並储其平移對稱性狀能 的只施例，可以列舉的有把各單元元件的重心座標配置^ 正方形晶格狀、長方形晶格狀、菱形晶格狀 狀等的晶格狀的狀態。 角形曰“。

朵在至少具有兩種大小不同的圖案的光罩中，圖案的種 ，至少爲兩料可，其麵數量的上限沒有特殊限制。只 是圖案的種類越多，設計光罩圖案時的資料容量就越大。、 =以，在實用方面，圖案的種類根據其目的性能，可以適 虽地選自於兩種、三種、四種及五種之範圍中 爲較佳。 ^如上述所示，把形成了凹凸形狀的金屬板，即壓花鑄 楱18捲在滾筒上，或者根據需要把此壓花鑄模18排列在 多個滾筒絲驗H下並捲起，而製作絲面具有凹凸形 狀的壓花滾筒。使用此壓花滾筒，在薄膜表面上連續複製 34 1354120 14983pif.doc 凹凸^狀的方法是適當的。如果_此方法，可以在大面 積的箱上連續且高效率地複製凹凸形狀，具有很高的生 産性。

如上述說明所述，利用經過具有至少兩種大小不同的 圖案的光罩進行絲，通過顯影的财彡製程形成凹凸形 狀，在其表面電鑄金屬而製作模具，並使用此模i在薄膜 的表面複製凹凸形狀的方法，可以製造出表面形成了細微 的凹凸形狀、賊性能良好且絲特性㈣的防眩膜片。 此ΐ ’可以通過適當地選擇鮮的随 '曝光量、曝光間 隙等條件，進而控制防眩性能與光學特性。

在本，明中，由於使用微影製程製造出凹凸形狀與/ 其表面電鑄金屬組合使用’以製作出具有細微凹凸形狀丨 模具，並使賊模具在薄膜表面上複製凹凸形狀的方法 可以，造出對㈣性能産生影響之均勻的凹凸形狀分佈 且可高性能地顯示的防眩膜片，並且生產性良好。呈體; 說，例如把從防賴片的法線方向偏離5〜3 〇。的任意心 射入的光線之正反射方向的反射率（正反射率）設^爲] (〇) ’把從正反射方向朝著防眩膜片一側傾斜角度 入光線的反射率設定爲R⑷時，可以很容易地得到击 R ( Θ)的θ依存性曲線化的反射曲線單調減少的薄膜。 此反射曲線檢測的概念如圖9所示。即，正反射方卢 是指從角度ψ向防眩膜片2G的法線方向25射入光 時，在含有此法線25與入射光線方向3〇的平面％内， 角度Ψ向與人射光線方向3G _反方向反射光％的方 35 1354120 14983pH：doc 问。Ψ疋入射角度，也是正反射角度，嚴格地說，其符號 爲正負號。對於從入射光線30之入射光線的正反射方向" 32的反射率爲正反射率r (〇)。而且’在5。至3〇。之間^ 意設定射入角度ψ時，在包含薄膜法線方向25與射入光 線方向30的平面26中，在按照從正反射方向32朝著防眩 膜片20—側只傾斜角度θ的方向34上，檢測對於射入 線的反射率，把其作爲R ( Θ )。使傾斜角度θ在〇。（即正 反射方向）至90 -ψ (即與薄臈面平行的方向）之間 測定每個傾斜角度Θ的反射率R⑷，並將其曲線化，一 般θ= 0。時的rU),即尺⑻最大。根據本 法可以容㈣剌在相騎此傾斜角度Θ之轉率r(2 的圖表中，如圖10所示_盘 ) 少之曲線的薄膜。所不賦與了R⑷❹依存性單調減 防㈣>1的亮點’可以通過在高精細 用來自背光模組(心) 進行評價。爲日眩視查面板的表面並 .3 U取好是使用精細度越高的液晶 本發明的防眩膜片的;；方 向之反射率在O.OOi % 了冉又偏離20的方 2〇。的方向是指如圖u所_，較佳，從正反射角度偏離 度Θ爲20。，從正反射方^V相當於在上述圖9中傾斜角 角彦偏離20。的方向9出°偏離2〇。的方向9。從正反射 出見在以正反射方向8爲中心的圓 36 14983pitdoc 雜中，纽裏職㈣於從正 的反射率表示在含有上述的 ^度偏離20的方向 ^ 7 叼/去線5與射入光線方向ό的平 面7内對於向賴-側偏離20。的方向之反射率。 而且’此防眩膜片使用陰暗部位 1.0 mm的光梳測定時，45。 的見度爲 佳。目# β , 反射可見度在50%以下時較 的成像可貝声：二Γ *照JIS Κ 7105中規定的反射法中 法而測定。檢測時向試驗片的光線 中規定作丄来柄並=，按照JIS的規定爲45。。在此JIS it 部位與明亮部位的寬度比爲Μ， 、〇‘5咖、U職及2.〇 mm四種， 要求的範圍中規定的45。反射可見度爲使 =陰暗部位與明亮部位的寬度爲1Qmm的光 此防眩膜片使时暗部位與.部位㈣度爲〇12

m5 mm、^ _及2.g _四種光梳測定的透射可々 值在 %以上時較佳。透射可見度可以按照才1 °古K71G5中規定的透射法中規定的成像可見度的相 2法而測定。按照此JIS的規定，向試驗片的射入光^ ^爲垂直方向。糾錢上述的四種光梳分別檢測透身彳 法中規定的祕可見度，並料些的合計健爲上述透剩 可見度的合計值。 而且’本發明的防眩膜片的漫射比例在15%以下時較 佳。漫射值可以按照JIS K 7105巾規定的方法計算。漫射 值爲利用（擴散透射率/所有光線透射率）xlGG (%)表 37 1J54120 14983pif#doc 示的值。在本發明的防眩膜片中，按照此方法測定的漫射 比例^雖然、-般在2〇 %以下，但是漫射比例值達到咖以 下時較佳’達到1〇%時更佳。如果漫射比例值過高，把此 =眩膜片應用於顯不裝置、特別m顯示裝置時 ，在液 員不裝置的視肖性能方面，由於觀刺從其法線傾斜的 向、特別疋傾斜60。以上的方向射出之對比度低的光線 在正面散射，會導致從正面觀測時的對比度降低。 由於由上述所示構成的本發明的防眩膜片 之防眩效 .、上且良好地改善了與高精細顯示面板組合使用時所 相點、所以’安裂在影像顯示裝置上後’其視認性 τ田^^ 。當影像顯轉置爲液晶顯示11時，此防眩膜片 ===:亦即’偏光薄膜多爲由配向吸附 者又色木枓的聚乙烯醇類（polyvmyl alcohol)樹 二專二、:二?成的偏振鏡之至少單面上層疊了保護膜的薄 2片莫的一面上’貼上具有上述凹凸形狀的防眩 _ ”〜、有防眩性的偏光薄膜。而且，如果上述具有 = = 保護膜兼防眩層使用， 宜星Ιίί 以在層疊了保護膜的偏光薄膜上，在 成==面形成上述防眩性的凹凸形狀，以製作 本發明的影像顯示裝置是一種 =具=說明的特定表面形狀之防眩膜片的= 。 』不手段的代表爲具備在上下基板之間封入了 38 1354120 14983pif.doc 液晶的液晶請，通過施加電壓使液晶的配向狀 化，以顯不影像的液晶面板，其他還可以列舉的有^ 顯:器、電螢* (EL)或者有機發光二極體（〇_led = 不裔、陰極射線管（CRT)顯示器等。而且，通過在 顯示手段之顯示伽置上·眩則，也可輯成影^ 不裝置。此時，要把防眩膜片的凹凸面作爲外側（視認側）。 既可以把防眩膜片直接貼在影像顯示手段的表面，也可以 當使用液晶面板作爲影像顯示手段時，例如先前所述，將 偏光薄膜貼在液晶面板的表面。具備了本發明的防眩膜片 的影像顯示裝置，可以利用防眩膜片表面具有的凹凸形狀 散射入射光線，以模糊映入的成像，進而具有優秀的視認 性。 〜 實施例 以下，根據實施例進一步詳細地說明本發明，但是本 發明並不是只限定於以下的這些實施例。在這些實施例 中，只要沒有特殊標記，表示含量及使用量的％是重量標 準。而且，下述的實施例中的防眩膜片的評價與測定方法 如下戶斤示。 (表面形狀的測定與凸起或者凹陷區域之表觀面積的計 算） 使用非接觸三維表面形狀與粗糙度檢測儀“ New View 5010” （Zygo Corporation製造），在防眩膜片之約 480 μιη X 640 μηι的區域中測定表面形狀。此檢測儀的水平 39 1499JpiLdoc

分解能力爲1·18 μΐΏ，垂直分解度爲G

fJHT：agT 度的區域(凸起)與低於平均高度的區域(凹 進位化2的影像，以求出各個凸起或者凹陷區 一 1〇 μΐΏ的刻線把得到的各個面積資料分宝， ”求出每10师2的頻度“固數)。然後分別把1〇阿2 刻線的平均面積乘以上述的頻度，分別求出每10一之表 觀面積的頻度。姆於面積值，把制的表誠積的頻度 曲線化’製作成表觀面積的度數分佈的圖表（矩形圖）。從 此矩形圖巾求出峰值的半光譜幅值，即表觀轉的分佈。 (防眩膜片之反射率的測定） 在防眩膜片的凹凸面上，從對於薄膜主法線傾斜30。 的方向集令照射平行化的碘鎢燈光源的光線，此光線呈 3.4。的立體角，並測定具有薄膜主法線與照射方向的平面 内之反射率的角度變化。反射率的測定使用了橫河電機 (株）製造的“3292 03光能量感測器（optical power sensor )，” 與 “ 3292 光能量感測計（optical power meter) 〇 (漫射比例的測定） 按照ns K 7105進行了測定。爲了防止樣品變形，使 用光學方面的透明黏合劑，並且把凹凸面作爲表面，將其 黏貼在玻璃基板上之後以提供測定。 1354120 14983pif.doc (反射可見度及透射可見度的測定） 按照JIS K 7105進行了測定。測定透射可見度時，爲 了防止樣品的變形，使用了光學的透明黏合劑黏貼在玻璃 基板上之後以提供測定。在測定反射可見度時，與測定透 射可見度相同’使用了黏合在玻璃上的樣品，但是爲了防 止從玻璃面的反射’在黏貼了防眩膜片的玻璃板的玻璃面 上’用水緊密黏貼了厚度爲2 mm的黑色聚曱基丙烯酸曱 酷（polymethylmethacrylate)板，在此狀態下從樣品（防 眩膜片）一側射入光線，以進行測定。 實施例1 在10 mm X 10 mm的區域中，設計了單元元件，在此 單元元件中配置了隨機合計數量爲512,82〇個之直徑爲8 丨im、9 μπι及10 μιη三種圓形的開口，各開口部位的中心 座標之間的最短距離的平均值爲12·〇 μΓη。準備了把此單 元元件按照10 mm的周期配置在6英吋平方（約152mm 平方）的石央基板上的100 nimxl〇〇 mm之整體區域上作 為兩層次的光罩。 另一方面，在100 mmxl〇〇 mm的玻璃基板上，旋轉 塗佈混合了黑色顏料之正光阻，其爲東京應化工業（株） 製造的P70BK ，並使其在預烤後的厚度達到約u μηι。把如此得到的附帶光阻膜的玻璃基板放置在設定爲 85 C的加熱板上120秒鐘，以進行預烤。在此光阻膜上放 41 1354120 14983pif.d〇c 置上述製作的光罩，使曝光間隙爲120 jum ,並通過光罩， 照射作爲曝光光源之超高壓水銀燈中射出的g線、h線及i 線的多2條光線（muiti_line)，使用按照g線換算達到2仞 mJ/cm2的光量，而進行近距離曝光。把曝光後附帶光阻膜 ^玻璃基板放置在23°C的0.5 %的氫氧仙水溶液中顯 影’然後賴水洗務。然後，放置在加熱至觸。。的供箱 二^熱20分鐘（硬烤），得到了表面形成了許多凹陷的樹

利用蒸鍍法，在得到的附帶凹陷的樹脂層上形成鎳鍍 膜’以進行樹脂層表面的導電化處理。然後，在此導電^ 處理面上，利用電鑄形成厚度約爲〇3 mm的鎳鍍膜。在 附帶凹陷⑽脂層上崎鎳舰的狀態下，磨肖，丨鎳錢膜的 内面/然後再進一步研磨，把其厚度研磨爲0.15 mm，把 研磨後的鎳鍍膜從附帶凹陷的樹脂層上剝離，製作 面有多個凸起的鎳板。 ’·'义

另外，把大曰本印油（mK)化學工業（株）製造的 紫外線,型翻旨“GRANICp⑽6T2”溶解在乙酸乙酿 中，使濃度達到50 %，以調配成塗佈液體。把此塗佈液體 义佈在一乙酸纖維素膜上，使乾燥後 的塗膜厚度約爲5 _，並在赃的供箱中錢3分鐘。 然後，在1製作的附帶凸起的鎳板的凸面壓在橡膠滾筒 上’使其與紫外線硬化型樹脂的塗佈面接觸，從三乙酰纖 維素f之二側照射無電極型的紫外線等的光線，使按照h Λ換光1達到1 〇〇 m j/cm2，並使上述紫外線硬化型樹脂 42 1354120 14983pif：doc 硬化。把. G蛛纖維素臈從硬化樹脂從鎳板上剝離，得到 I由表面具有凹凸形狀的硬化樹脂與三乙酰纖維素膜的層 登體構成的透明防眩膜片。

,利用上述的Zyg〇 Corporation製造的非接觸三維表面 形狀與粗糙度測定儀“New View 5010” ，在約480 μηι X ό40μπι的區域中測定此防眩膜片的表面形狀。有層次地變 換顯示此防眩膜片的高度資訊，而得到了圖12所示的資 料而且，根據此尚度資訊利用上述的方法分別計算凹陷 的面積，得到圖13所示的凹陷面積的矩形圖。此時，觀 =的凹陷面積的最大值約爲584 一，最小值約爲5㈣2、， 衣作矩形圖時的面制隔（刻線）爲10 一。然後，按照 方法計算頻度χ面積’得到圖14所示的表觀面積的、 >圖。在此矩形圖中，在4〇 μπι2與5〇 μηι2之 ' 中，測騎值（最大值）。根據圖14所示的表觀面積= 形圖計异峰值的半光譜幅值，得到3G ，小於1Q() _2。 所以此_上的凹凸形狀的表觀面積的分佈很小。 的防眩膜片放置在· ρρι的高精細液晶面板 亡，利用月光模、組（backlight)從後方照射，以 党點’結果並未觀察職點。而且，此防_片的正反^ =的反射率爲G.92 %，從正反射角度向軸則的偏離， 方向的反射率爲0.00025 %。 把此防眩膜片的三乙酰纖維素面貼在玻璃上，檢測产 射比例的同時’使用陰暗部位與明亮部位的寬度爲丨^ 的光梳檢測45。射入時的反射可見度。其結果顯示，射 43 1354120 14983pif.doc 比例爲8.0 %，反射可見度爲44·5 % ,因此可以確認其具 有低漫射比例且防止高映入的能力。而且，對於相同狀離 貼在玻璃上的防眩膜片，使用陰暗部位與明亮部位的寬^ 爲 0.125 mm、0.5 mm、1.0 mm 及 2·〇 mm 的光梳檢測透$ 可見度的結果，分別得到下述的數值，這四種透射可見度 的合β十值爲297.4 ，可以確認具有报高的可見度。 0.125 mm光梳：透射可見度7〇 5 % 0.5 mm光梳：透射可見度75.0 〇/。 1.0 mm光梳：透射可見度75.6% 2.0 mm光梳：透射可見度76.3 % 合計 297.4 % 在表1中總結了實施例1中的上述評價與測定資料。 實施例2 在10 mmxio mm的區域中，除了使用把配置爲隨機 合計數量爲588,069個直徑爲8μπι、9μηι及l〇pm三種圓 形的開口，各個開口的中心座標之間的最短距離的平均值 爲11.6 μηι的單元元件，按照1〇 mm的周期配置在1〇〇 mmxlOO mm的整體區域内的二層次光罩以外，其他與實 施例1相同，以製作防眩膜片。評價在得到的薄膜表面上 形成之凹陷的表觀面積的分佈結果，在6〇 4〇12與7〇 ^阳2 之間的區間中觀測到「面積X頻度」的峰值（最大值），其 峰值的半光譜幅值爲30 μηι2。而且，利用與實施例丨相同 44 1354120 14983pif.doc 的方法目妍價亮關結果，並沒有觀察到亮點。而且， 此防眩膜片的其他的光學特性如表丨所示。 比較例1 對於住友化學工業（株）出售的防眩臈片“AG6” ， 按照與實_ 1姻的方法，評價在其表面形成之凸起的 表觀面積分布的結果，在2〇 一與3G μιη2之間的區間中 觀f到岭值’其♦值的半光譜幅值爲140 μΐΏ2。再利用與 ^施例1相_方法目視評價亮點，結果觀察到了亮點。 此防眩膜片的其他的光學特性如表1所示。 比較例2 γ ”對於住友化學卫業（株）出售的防眩膜片 “GH5” ， 施例1相同的方法，評價在其表面形成的凸起的 ί結果，在1G帅2與2〇〆之間的區間中 用°目稍,=其峰值的半光譜幅值爲大於，叫2。再利 的来風二貝冗‘點’結果觀察到了亮點。此防眩膜片的其他 的先學特性如表1所示。 _表1 表觀面積的分佈 值 峰 光學特性 實施例1 實施例2 ----— 比較例1 比較例2 匕5田 半譜值 偏離20。方 向的反射 率

000025% 0.00019% 20-30 μηι2 10-20 μηι2 目視 評價 射例 漫比 見 射 反可度 透射 可見度 亮點 30 μηι 30 μηι2 W μηι2 >300 8.0% 44.5% 5.9% 21.8% 297.4% 311.0% 0.00670% 000046% 32.4% 4.7% 49.4% 4.4% 31.7% 57.4%

x X 備註）透射可見度爲4種的合g 45 1354120 14983plf.doc 實施例3 在10 mmχ 1 〇 mm平方的區域中，設計了單元元件， 在此單元元件中，直徑爲8 μηι、9只⑺及10 μηι的圓形開 =部位分別配置了 233,624個、196,085個及158,627個， 最接近開口的中心座標之間的距離的平均值爲15 μιη。準 備了把此單元元件按照10mm周期在6英吋平方（約152 mm平方）之石英基板上的1〇〇 mmxl〇〇出爪的整體區域 上配置爲正方形晶格狀的兩層次的光罩。根據上述公式 ⑵，計算出此光罩中的開口部位的平均直徑爲89叫。 另一方面，在100 mmxlOO mm平方的玻璃基板上， ,ίΓ佈混合了黑色顏料的正光阻’其爲東京應化工業 “P7㈣”（商品名）’並使其在預烤後的 ^ 賴的玻璃基板放置 罩，並ΐ曝光間隙爲120㈣。通過光 、、為本光光源的超南屢水銀燈t射出的g線、h 提條絲，使按照g_算達到細嫌 離料。計算出此時的曝光距離l 間的關係L/D2爲⑸。把曝光後 寸可先阻膜的玻璃基板浸潰在23〇c的〇 水溶液巾80秒鐘，以 ，輕化钟 放置在加埶？ 。〜μ頁 麦用純水洗務。然後， 了表二㈣中加熱2〇分鐘進行硬烤，得到 I衣面形成了凹凸形狀的光阻層。 巧行a 利用蒸鑛法，在得到的附^凸形狀的光阻層的凹凸 46 1354120 14983pif.doc 錦Γ，以進行光阻層表面的導電化處理。然後， 鎖鑛膜。在光阻層的凹凸面1嶋ϋ度相G·3 mm的 π凹凸面上附者鎳鍍膜的狀態下，声削 錦鑛膜的内面，紐再進—步研磨，把其 石 :，把研磨後__從光阻層上_，製作马0面2 有多個凹凸形狀的鎳板。 -表面 另外，把大日本印油（ΙΝΚ)化學工業 紫外線硬條齡_物“Gfandle嶋r (商品名 旨中’調配成漠度爲5G%的塗佈液體。把該Ϊ 、之體Μ在厚度爲8G卿的三乙酰纖維素（就）膜上， ，乾燥後的塗膜厚度達到5 _，在設定爲贼的乾烤哭 鐘。然後，用橡膠滾筒把乾燥後的薄臈壓在上 ::从：、凹凸形狀的鎳板的凹凸面上，使光硬化性樹脂 ，、且成物μ成爲鎳板之—側，在此狀態下從tac薄膜的那一 侧照射從緒水銀燈巾射出且強㈣20 mW/Cm2的光 線，使按照h線換算光量達到2〇〇 mJW，以使光硬化性 f脂組f物層硬化。然後，把TAC膜從硬化麟與鎳板上 ^离知到了由表面具有凹凸形狀的硬化樹脂與TAC膜的 層@體構成的透明防眩膜片。 目視觀測得_防_片産生的反射光，結果未 反射光的亮點。 在産業方面利用的可能性 你月本^明的防眩膜片在提高以液晶顯示農置爲首的影 像顯示裝置的視認性方面特別有用。 47 1354120 149S3pif.doc /按照上述方法製造的防眩膜片，通過任意地控制使用 微影製程的光^中之圖案的大小與形狀，而且控制當時的 曝光條件，成爲-種雖然是大面積，也可以具有質量均勾、 =性能與光學特性優秀㈣膜。所以，此防賴片對於 &门、液bb’4示裝置爲首的各種顯示裝置的防眩性能方面 是有用的。 —雖然本發明已以較佳實關揭露如上，難並非用以 限)本發明’任何熟習此技藝者，在不脫離本 當可作些許之更動與潤飾，因此本發明之心 祀圍當視_之申請專纖_界定者為準。 【圖式簡單說明】 圖1=表示防眩膜片的表面形狀概略的斜視圖。 声=於防眩膜片的某一部分的表面，把各點的高 度曲線化的三維等高線圖。 古於片的某一部分的表面’用白色表示 :或心用黑色表示低於平均高度的 該面積的凸起或者凹陷區域顯 表干圖4的資料，利用面積χ頻度（單位一） 表不縱軸的矩形圖的實施例。 圖6疋表不凸起或者凹陷區域的表觀面積的矩形圖中 48 1354120 14983pif.d〇c 的峰值的半光譜幅_計算方法關式，是擴大顯雜5 ^ 的橫軸的0〜2〇〇μίη2之間的矩形圖。 圖7是按照每個步驟用縱向剖面圖表示與本發明相關 的防眩膜片的製造方法之一的圖式。 圖8是擴大顯示圖7 (Β)的一部分的剖面模式圖。 圖9是說明正反射率與從正反射方向朝著薄膜一側傾 斜的角度<9的反射率之關係的斜視圖。 “圖1〇是表示把對於入射光的正反射率作爲R (〇)， ^ 把從正反射方向朝著薄膜一側傾钭的角度0的反射率作爲 R ϋ時’ R (θ )把R⑻作爲最大，伴隨著Θ的增 加，單調減少的情況的模式圖。 圖11是用於說明正反射角度與向從該角度偏離2〇。 的方向的反射率的斜視圖。 圖12是表示關於利用實施例丨得到的防眩膜片的縱 向、480 μιηχ；^向約640 μηι的範圍’有層次地變換顯示高 度資訊的擴大圖’糊橫向表示的是表轉度的灰階標度。 …圖13是關於利用實施例1得到的防眩膜片，在表^面 # 觀測到的各個凸起或者凹陷區域出現的頻度相對於面積的 曲線化的矩形圖。 、 2圖1_4是根_ 13的資料，頻心面積（單位 μηι )表示縱轴的矩形圖。 【主要元件符號說明】 1 :防眩臈片的主平面 2:薄膜的投影面 49 1354120 14983pif.doc 3 ··薄膜表面的凸起（高於平均高度的區域） 4:薄膜表面的凹陷（低於平均高度的區域） 5:薄膜的主法線 6:入射光線方向

9 Ψ 11 12 13 14 15 17 18 包含薄膜的主法線與入射光線方向的平面 正反射方向

從正反射角度偏離20。的方向 入射角度（=正反射角度） 光阻膜形成用基板 光阻膜 形成了凹凸形狀的光阻膜 光罩 通過光罩後的曝光光束 電鑄的金屬 壓花鑄模 防眩膜片 21 22 25 26 透明基材薄膜 紫外線硬化型樹脂或者其硬化物 防眩膜片的法線方向

32 包含防眩膜片 八射光線方向 1反射方向 的法線與入射光線方向的平面 之—側傾斜角度0的方 34 .從正反射方向朝防眩膜片 向 50 1354120 14983plf.doc Ψ :入射角度（=正反射角度） Θ:從正反射方向朝著防眩膜片之一側的傾斜角度

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Claims (1)

1354120 14983pif.doc 十、申請專利範圍： 1.-種防眩則’其特徵爲在該防眩則之表 成了細微的多數個凹凸形狀，高於該些凹凸形狀 ^ 度的區域孫爲多數個凸起區域，低於該些凹凸开伞门 高度的區域係爲多數個凹陷區域，求得每一該 的投影面積或者每一該些凹陷區域的投影面積 用°二 規定的面積刻線求得該些凸起區域或者該些凹陷區域的； 進-步根據面積X頻度，以利用該規定的面積刻線 ^ 觀面積的頻度，並利用—矩形圖表示所得到^ 該些凹陷區域的面積的頻度時，-峰值 在60 ^以下卿以下的位置，而且該峰值的半光譜幅值 值出規^如^”範圍第^所述之防眩膜心其中該峰 值出現在150 μηι2以下的位置。 膜片利範^第1項或第2項任—項所述之防眩 膜片’其中该峰值的半光譜幅值寬度大於1〇一。 膜片請專利範圍第1項或第2項任一項所述之防眩 ^下 正反射角度偏离隹2〇。的方向的反射率在〇歲 所述之防眩則，其中利用 ㈣。反㈣見度下度爲hG麵的光梳而檢測 膜片，請專利範’1項或第5項任—項所述之防眩 、〃彻-陰暗部位與―明亮部位的寬度爲〇125 52 1354120 14983pi£doc mm、〇·5 mm、l.o mm以及2 〇 mm的4種光梳測定之透 可見度的合計值爲200 %以上。 7·如申請專利範圍第1項、第2項或第5項任一項所 述之防眩臈片’其中該防眩膜片之漫射比例在15%以下。 8.—種影像顯示裝置，其特徵爲具備申請專利範園第 \項所述之一防眩膜片與一影像顯示手段，且該防眩膜片 係配置在該影像顯示手段的視認側。 9·種防眩膜片的製造方法，適於在該防眩膜片之表 面製造多數個凹凸形狀，該防眩膜片的製造方法包括： 利用-微影製程在一基材上已形成的一光阻膜上 成該些凹凸形狀； 、 〜 在得到之該光阻膜的一凹凸面上電鑄一金屬，以 金屬上複製該些凹凸形狀後，從該光阻膜上剝離複製了: 毖凹凸形狀的一金屬板製作模具；以及 。- 把凹凸形狀的該金屬板作爲模具使用，立 把5亥金屬板之表面的該些凹凸形狀複製到—薄 其中該微難程之職在於顧 種小 =案的-光罩，以使該光阻膜曝光，然 製造該防眩膜片。 欠 法」項所述之防眩膜片的製造方 泛，、r在〇哀先罩上形成了至少二圖 m 大圖案的直徑是最小圖案的直徑 x —"水之袁 下。 且仫之U倍以上與2倍以 11.如申請專利範圍

第9項或第1G項任—項所述之防 53 1354120 14983pifdoc =的製造方法，其t ’在該光罩上形成了至少二圖 ΐΐΓΓ圖案中至少兩種大小不同的每—該些圖案分別所 占&计面積之比在〇·7〜1.3的範圍内。 + 12·如申請專利範圍第9項或第10項任一項所述之防 ΐ = Ϊ =法’其中’通過該光罩的曝光是利用在與 定間隔的位置上配置了該鮮的近距離 曝无而進行。

、13.如巾4專利範圍第12項所述之防眩則的製造 方法，其巾，把該光罩能光_表面之間關隔設^ L μιη，把该光罩的圖案的平均直徑設定爲D (师） 防眩膜片的製造方法係在L/D2的值爲i 3以上 = 的條件下進行曝光。 、.6以下 Μ·如申請專利範圍第9項、《 10項或第13項任— 項所述之防^製造方法，其巾該光罩是由多數 規定面積構成的單元^件排列所組成，以㈣平移的對稱 、15.如申請專利範圍第9項所述之防眩膜片的製 · 法’其中把複製了該些凹凸形狀的該金屬板捲在— 表面上，以用於一凹凸薄膜之製作製程。 5 、 54