TWI817475B - 防眩層及其製作方法 - Google Patents
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Abstract
一種防眩層及其製作方法。防眩層的製作方法包括提供基板，塗佈防眩材料層於基板上，以及透過灰階光罩對防眩材料層進行微影蝕刻製程，以形成防眩層，其中防眩層包括多個高度不同的凸出結構。
Description
本發明是有關於一種防眩表面及其製作方法，且特別是有關於一種防眩層及其製作方法。
一般而言，顯示裝置的表面通常會設置防眩層，以減少使用者因眩光導致的視覺不適，而降低對顯示裝置的整體體驗。常見的防眩層的製作方式包括利用噴淋粒子的方式或是鋼板壓印的方式，以在表面形成凹凸結構，使光線散射，進而達到防眩的效果。然而，利用噴淋粒子的方式所製造的防眩層，因其粒子隨機分佈，而無法生產具有相同表面結構及表面粗糙度的防眩層，導致防眩層的品質不穩定。此外，以鋼板壓印的方式製作的防眩層，壓印的鋼版雖具固定圖案，但壓印材料具有流動性，因此每次壓印的圖案並不相同，也無法生產具有相同表面結構及表面粗糙度的防眩層，導致防眩層的品質不穩定。
本發明提供一種防眩層及其製作方法，其易於量化並使防眩層的結構具有再現性，進而使防眩層的品質穩定。
本發明的防眩層的製作方法包括提供基板，塗佈防眩材料層於基板上，以及透過灰階光罩對防眩材料層進行微影蝕刻製程，以形成防眩層，其中防眩層包括多個高度不同的凸出結構。
在本發明的一實施例中，上述的微影蝕刻製程還形成防眩層的連續部，連續部連續的延伸於凸出結構之間。
在本發明的一實施例中，上述的微影蝕刻製程還將防眩層的凸出結構分隔開來。
在本發明的一實施例中，上述的微影蝕刻製程還將防眩層形成為具有在0.5 μm至2 μm之間的表面粗糙度。
在本發明的一實施例中，上述的微影蝕刻製程還將防眩層中相鄰的凸出結構分隔小於1 mm的距離。
在本發明的一實施例中，上述的微影蝕刻製程還將防眩層中凸出結構形成為具有高度在0.1μm至10μm之間或寬高比在0至1之間。
在本發明的一實施例中，上述的防眩層的材料包括光敏感性樹脂。
在本發明的一實施例中，上述的微影蝕刻製程還將防眩層中凸出結構形成為具有包括矩形或梯形的截面形狀。
在本發明的一實施例中，上述的灰階光罩包括至少四種透光率不同的區域。
在本發明的一實施例中，上述的微影蝕刻製程還將防眩層中凸出結構形成為包括至少四種不同的高度，分別對應灰階光罩的至少四種透光率不同的區域。
在本發明的一實施例中，上述的製作方法還包括將防眩層設置於電子裝置的外表面，其中凸出結構向外凸出。
本發明的防眩層包括基板以及多個凸出結構。多個凸出結構設置於基板上，其中多個凸出結構由微影蝕刻製成，且相鄰的凸出結構的分隔距離小於1 mm。
在本發明的一實施例中，上述的防眩層還包括連續部，設置於基板上，且連續的延伸於凸出結構之間。
在本發明的一實施例中，上述的防眩層的表面粗糙度在0.5 μm至2 μm之間。
在本發明的一實施例中，上述的多個凸出結構具有至少四種不同的高度。
在本發明的一實施例中，上述的多個凸出結構的高度介於0.1 μm至10 μm之間或寬高比介於0至1之間。
在本發明的一實施例中，上述的多個凸出結構的材料包括光敏感性樹脂。
在本發明的一實施例中，上述的多個凸出結構具有包括矩形或梯形的截面形狀。
基於上述，本發明利用灰階光罩並以微影蝕刻的方式製作防眩層，使每次製作出來的防眩層具有相同表面結構及表面粗糙度，即防眩層的結構可具有再現性且易於量化，進而可使防眩層的品質穩定。
圖1至2是依照本發明的一實施例的一種防眩層的製作流程的剖視示意圖。
請參照圖1，首先提供基板110，基板110可以為透光基板。舉例來說，基板110的材質可以為聚對苯二甲酸乙二酯(polyethylene terephthalate，PET)、聚甲基丙烯酸甲酯（poly (methyl methacrylate)，PMMA）、聚碳酸酯(polycarbonate，PC)、聚醯亞胺(Polyimide，PI) 、聚合體基複材(polymer matrix composite，PMC)、玻璃或其他合適的透光材料。在一實施例中，基板110也可以為電子裝置的外基板，例如顯示裝置的保護蓋板等，本發明不以此為限。
請繼續參照圖1，塗佈防眩材料層(未繪示)於基板110上，且透過灰階光罩M1對防眩材料層進行微影蝕刻製程，以形成防眩層100，其中防眩層100包括多個高度不同的凸出結構120。舉例來說，防眩材料層可以透過旋轉塗佈的方式形成於基板110上，防眩材料層(或凸出結構120)可為透光材質，其材料包括光敏感性樹脂，例如光阻，但本發明不以此為限。
灰階光罩M1包括至少四種透光率不同的區域，以使防眩材料層在進行微影蝕刻製程後，同時於基板110上產生至少四種不同高度的凸出結構120。舉例來說，在本實施例中，灰階光罩M1包括第一區R1、第二區R2、第三區R3、第四區R4及第五區R5。第一區R1的透光率大於第二區R2的透光率，第二區R2的透光率大於第三區R3的透光率，第三區R3的透光率大於第四區R4的透光率，第四區R4的透光率大於第五區R5的透光率，第五區R5為不透光區，即第五區R5的透光率為零。以防眩材料層為負光阻為例，灰階光罩M1中透光率越小的區域，與其對應的防眩材料層越容易被蝕刻，反之，灰階光罩M1中透光率越大的區域，與其對應的防眩材料層越會被保留。也就是說，當防眩材料層為負光阻時，在微影蝕刻的過程中，與第五區R5對應的防眩材料層將被完全蝕刻，而與第一區R1、第二區R2、第三區R3、第四區R4對應的防眩材料層依對應區域的透光率，對應形成凸出結構120a、120b、120c、120d。凸出結構120a具有第一高度h1，凸出結構120b具有第二高度h2，凸出結構120c具有第三高度h3，凸出結構120d具有第四高度h4，且第一高度h1大於第二高度h2，第二高度h2大於第三高度h3，第三高度h3大於第四高度h4。在本文中，凸出結構120的高度指凸出結構120的頂面至基板110的頂面的距離。本實施例僅示意性的繪示四種凸出結構120的高度，但並非用以限定本發明，凸出結構120的高度可依據灰階光罩M1的設計有更多種變化，並可依實際需求調整。
在本實施例中，灰階光罩M1的第一區R1、第二區R2、第三區R3、第四區R4彼此不相鄰。舉例來說，在圖1中，第一區R1與第二區R2之間被第五區R5隔開，第二區R2與第三區R3之間被第五區R5隔開，第一區R1與第四區R4之間被第五區R5隔開，如此一來，透過灰階光罩M1進行的微影蝕刻製程可將相鄰的凸出結構120完全分隔開來，使防眩層100具有不相連的的凸出結構。但本發明不以此為限，在其他實施例中，防眩層100也可具有相連的凸出結構。
在一實施例中，微影蝕刻製程可將防眩層100形成為具有在0.5至2 μm之間的表面粗糙度，以使防眩層100具有較佳的防眩效果，並可有效防止指紋在防眩層100表面留下痕跡。舉例來說，凸出結構120的高度可以在0.1 μm至10 μm之間，凸出結構120的寬高比可以在0至1之間。
在一實施例中，微影蝕刻製程可將相鄰的凸出結構120分隔為小於1 mm的距離。舉例來說，在圖1中，相鄰的凸出結構120d與凸出結構120a之間分隔第一距離d1，相鄰的凸出結構120a與凸出結構120b之間分隔第二距離d2，相鄰的凸出結構120b與凸出結構120c之間分隔第三距離d3。第一距離d1、第二距離d2、與第三距離d3皆不相同，但皆小於1 mm。本實施例僅示意性的繪示第一距離d1、第二距離d2及第三距離d3，但並非用以限定本發明，相鄰的凸出結構120的分隔距離可以有更多種變化，並可依實際需求調整。
在一實施例中，微影蝕刻製程可將防眩層100的凸出結構120形成為具有包括矩形或梯形的截面形狀。舉例來說，在圖1中，凸出結構120a、120c的截面形狀為直角梯形，其具有一側邊垂直連接兩平行邊；凸出結構120b的截面形狀為等腰梯形，其具有兩長度基本上相等的側邊；凸出結構120d的截面形狀為矩形。本實施例僅示意性的繪示凸出結構120具有矩形或梯形截面的示例，但並非用以限定本發明，凸出結構120的截面形狀可以有更多種變化，並可依實際需求調整。
本發明並不限定凸出結構120的形狀、分隔距離或高度，惟防眩層100的凸出結構120可具有各式不同的形狀、分隔距離、高度，以使入射光或反射光可被有效分散，進而達到防眩光的效果。
經過上述製程後可大致上完成防眩層100的製作。
防眩層100包括基板110以及多個凸出結構120。多個凸出結構120設置於基板110上。多個凸出結構由微影蝕刻製成，且相鄰的凸出結構的分隔距離小於1 mm。
由於本實施例的凸出結構120是透過灰階光罩M1以微影蝕刻的方式製成，對於不同批次製作的凸出結構120基本上可具有相同的表面結構，使防眩層100的表面粗糙度穩定。換句話說，本實施例中，防眩層100的結構可具有再現性且易於量化，進而可使防眩層的品質穩定。
請參照圖2，將防眩層100設置於電子裝置130的外表面，其中凸出結構120向外凸出。舉例來說，防眩層100可將基板110貼附於電子裝置130的外表面上，使凸出結構120向外凸出。電子裝置130例如是顯示裝置，包括反射式顯示裝置、背光式顯示裝置等，本發明不以此為限。
在一實施例中，防眩層100的基板110可以為電子裝置130的外基板，如此一來，可省去在電子裝置130的外基板上額外設置一層基板。換句話說，凸出結構120可以直接形成於電子裝置130的外基板上，而不需透過額外的基板110將防眩層100貼附於電子裝置130的外基板上。
圖3是依照本發明的另一實施例的一種防眩層的製作流程的剖視示意圖。本實施例的製作流程大致相似於圖1的製作流程，其中採用相同或近似的標號來表示相同或近似的元件(例如圖1的基板110與圖3的基板210相似、圖1的凸出結構120與圖3的凸出結構220相似、圖1的灰階光罩M1與圖3的灰階光罩M2相似等)，並且省略了相同技術內容的說明，關於省略部分的說明可參考前述實施例，下述實施例不再重複贅述。
請參照圖3，提供基板210，基板210可以為透光基板。舉例來說，基板210的材質可以為聚對苯二甲酸乙二酯(polyethylene terephthalate，PET)、聚甲基丙烯酸甲酯（poly (methyl methacrylate)，PMMA）、聚碳酸酯(polycarbonate，PC)、聚醯亞胺(Polyimide，PI) 、聚合體基複材(polymer matrix composite，PMC)、玻璃或其他合適的透光材料。在一實施例中，基板210也可以為電子裝置的外基板，例如保護蓋板等，本發明不以此為限。
請繼續參照圖3，塗佈防眩材料層(未繪示)於基板210上，且透過灰階光罩M2對防眩材料層進行微影蝕刻製程，以形成防眩層200。舉例來說，防眩材料層可以透過旋轉塗佈的方式形成於基板210上，防眩材料層(或下述的凸出結構220、連續部222)可為透光材質，其材料包括光敏感性樹脂，例如光阻，但本發明不以此為限。
本實施例的製作方法不同於圖1的實施例之處在於，本實施例的防眩層200可經由微影蝕刻製程形成多個高度不同的凸出結構220以及連續部222。連續部222可連續的延伸於凸出結構220之間，使防眩層200具有相連的凸出結構。
在本實施例中，灰階光罩M2包括至少四種透光率不同的區域，以使防眩材料層在進行微影蝕刻製程後，同時於基板210上產生至少四種不同高度的凸出結構220或連續部222。舉例來說，在本實施例中，灰階光罩M2不具有不透光的區域，其包括第一區R1、第二區R2、第三區R3及第四區R4。第一區R1的透光率大於第二區R2的透光率，第二區R2的透光率大於第三區R3的透光率，第三區R3的透光率大於第四區R4的透光率。當防眩材料層為負光阻時，在微影蝕刻的過程中，與第一區R1、第二區R2、第三區R3對應的防眩材料層依對應區域的透光率，對應形成凸出結構220a、220b、220c，而與第四區R4對應的防眩材料層對應形成連續部222。凸出結構220a具有第一高度h1’，凸出結構220b具有第二高度h2’，凸出結構220c具有第三高度h3’，連續部222具有第四高度h4’，且第一高度h1’大於第二高度h2’，第二高度h2’大於第三高度h3’，第三高度h3’大於第四高度h4’。在本文中，凸出結構220的高度指凸出結構220的頂面至基板210的頂面的距離，連續部222的高度指連續部222的頂面至基板210的頂面的距離。
在一實施例中，灰階光罩M2的第一區R1、第二區R2、第三區R3彼此不相鄰。舉例來說，在圖2中，第一區R1與第二區R2之間被第四區R4隔開，第二區R2與第三區R3之間被第四區R4隔開。如此一來，透過灰階光罩M2進行的微影蝕刻製程可在相鄰的凸出結構220之間形成連續部222，連續部222的高度可以小於凸出結構220的高度，以使相鄰的凸出結構220可透過連續部222相連，並凸出於連續部222，使防眩層200具有相連的凸出結構。
在一實施例中，可如圖2實施例的製作方法，將防眩層200以貼附的方式設置於電子裝置(未繪示)的外表面，其中凸出結構220向外凸出，但本發明不以此為限。凸出結構220也可以直接形成於電子裝置的外基板上，而不需透過額外的基板210將防眩層200貼附於電子裝置的外基板上。
經過上述製程後可大致上完成防眩層200的製作。
防眩層200包括基板210、多個凸出結構220以及連續部222。多個凸出結構220設置於基板210上。多個凸出結構由微影蝕刻製成，且相鄰的凸出結構的分隔距離小於1 mm。連續部222設置於基板210上，且連續的延伸於凸出結構220之間，使防眩層200具有相連的凸出結構。在一實施例中，連續部222的高度小於凸出結構220的高度。
由於本實施例的凸出結構220是透過灰階光罩M2以微影蝕刻的方式製成，對於不同批次製作的凸出結構220基本上可具有相同的表面結構，使防眩層200的表面粗糙度穩定。換句話說，本實施例中，防眩層200的結構可具有再現性且易於量化，進而可使防眩層的品質穩定。
綜上所述，本發明利用灰階光罩並以微影蝕刻的方式製作防眩層，使每次製作出來的防眩層具有相同表面結構及表面粗糙度，即防眩層的結構可具有再現性且易於量化，進而可使防眩層的品質穩定。
雖然本發明已以實施例揭露如上，然其並非用以限定本發明，任何所屬技術領域中具有通常知識者，在不脫離本發明的精神和範圍內，當可作些許的更動與潤飾，故本發明的保護範圍當視後附的申請專利範圍所界定者為準。
100、200:防眩層
110、210:基板
120、120a、120b、120c、120d、220、220a、220b、220c:凸出結構
130:電子裝置
222:連續部
d1:第一距離
d2:第二距離
d3:第三距離
h1、h1’:第一高度
h2、h2’:第二高度
h3、h3’:第三高度
h4、h4’:第四高度
M1、M2:灰階光罩
R1:第一區
R2:第二區
R3:第三區
R4:第四區
R5:第五區
圖1至2是依照本發明的一實施例的一種防眩層的製作流程的剖視示意圖。
圖3是依照本發明的另一實施例的一種防眩層的製作流程的剖視示意圖。
100:防眩層
110:基板
120、120a、120b、120c、120d:凸出結構
d1:第一距離
d2:第二距離
d3:第三距離
h1:第一高度
h2:第二高度
h3:第三高度
h4:第四高度
M1:灰階光罩
R1:第一區
R2:第二區
R3:第三區
R4:第四區
R5:第五區
Claims (16)
- 一種防眩層的製作方法，包括：提供基板；塗佈防眩材料層於所述基板上；以及透過灰階光罩對所述防眩材料層進行微影蝕刻製程，以形成所述防眩層，其中所述防眩層包括多個高度不同的凸出結構，其中所述微影蝕刻製程更將所述防眩層形成為具有在0.5μm至2μm之間的表面粗糙度。
- 如請求項1所述的防眩層的製作方法，其中所述微影蝕刻製程更形成所述防眩層的連續部，所述連續部連續的延伸於所述凸出結構之間。
- 如請求項1所述的防眩層的製作方法，其中所述微影蝕刻製程更將所述防眩層的所述凸出結構分隔開來。
- 如請求項1所述的防眩層的製作方法，其中所述微影蝕刻製程更將所述防眩層中相鄰的所述凸出結構分隔小於1mm的距離。
- 如請求項1所述的防眩層的製作方法，其中所述微影蝕刻製程更將所述防眩層中所述凸出結構形成為具有高度介於0.1μm至10μm之間或寬高比介於0至1之間。
- 如請求項1所述的防眩層的製作方法，其中所述凸出結構的材料包括光敏感性樹脂。
- 如請求項1所述的防眩層的製作方法，其中所述微影蝕刻製程更將所述防眩層中所述凸出結構形成為具有包括矩形或梯形的截面形狀。
- 如請求項1所述的防眩層的製作方法，其中所述灰階光罩包括至少四種透光率不同的區域。
- 如請求項8所述的防眩層的製作方法，其中所述微影蝕刻製程更將所述防眩層中所述凸出結構形成為包括至少四種不同的高度，分別對應所述灰階光罩的所述至少四種透光率不同的區域。
- 如請求項1所述的防眩層的製作方法，更包括將所述防眩層設置於電子裝置的外表面，其中所述凸出結構向外凸出。
- 一種防眩層，包括：基板；以及多個凸出結構，設置於所述基板上，其中所述多個凸出結構由微影蝕刻製成，且相鄰的所述凸出結構的分隔距離小於1mm，其中所述防眩層的表面粗糙度在0.5μm至2μm之間。
- 如請求項11所述的防眩層，更包括：連續部，設置於所述基板上，且連續的延伸於所述凸出結構之間。
- 如請求項11所述的防眩層，其中所述多個凸出結構具有至少四種不同的高度。
- 如請求項11所述的防眩層，其中所述多個凸出結構的高度介於0.1μm至10μm之間或寬高比介於0至1之間。
- 如請求項11所述的防眩層，其中所述多個凸出結構的材料包括光敏感性樹脂。
- 如請求項11所述的防眩層，其中所述多個凸出結構具有包括矩形或梯形的截面形狀。
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| TW111116365A TWI817475B (zh) | 2022-04-29 | 2022-04-29 | 防眩層及其製作方法 |
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| TW202343145A TW202343145A (zh) | 2023-11-01 |
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Family Applications (1)
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| TW111116365A TWI817475B (zh) | 2022-04-29 | 2022-04-29 | 防眩層及其製作方法 |
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-
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-
2023
- 2023-02-17 US US18/170,563 patent/US20230350288A1/en active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| TW552467B (en) * | 2002-03-22 | 2003-09-11 | Ind Tech Res Inst | Manufacturing method of a diffusive direct reflector using gray-tone exposure |
| TW200516276A (en) * | 2003-11-05 | 2005-05-16 | Sumitomo Chemical Co | Antiglare film and image display device |
Also Published As
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