TWI345804B - Patterning method using coatings containing ionic components - Google Patents

Description

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九 發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係關係於一種透過簡易的方法和低成本，使用含 離子成分之塗布溶液的圖像構成法，因而改善圖像之準確和轉 移效率。 本專利申s青係主張於2005年8月17日向韓國智慧財產局 所提出韓國專利申請號碼1〇_2〇〇5_〇〇75193之申請日優先權， 其所揭露之事項已依照其關聯性，完整地併入本文中。 【先前技術】 坐的，郷術繁的伽抗雜劑於顯示裂置如 +導體電路裝置和液晶顯示器上。微影術包括塗布、曝光 洗和保存的步驟。賴微影術能在所需的®像上準確形 ===是在許多形成的步驟上卻有缺失，如朗多種材 雜劑的效果侧程中使用大量的抗顧劑， 上、由f筒印繼程來魏圖像之轉移和形成以避免 ίίίί 關研究已經產生。然而，目前之滾筒印刷過 之準確和®像之移轉效率上是有缺點的，因為受到構 置ίΐ覆蓋層之顯著影響，並且轉移後有大量不Ϊ 2像殘留。·需要發展-種能避免上述問題之圖像形成方 之精有、=:=塗布和所需 像是不符轉3 躲朴f’縣電子㈣的微型圖 6

【發明内容】 第括.第-基底的 部分塗料，該塗料對應第-基底t第二觸2轉移 物=’以轉移印刷物上之塗料，4:=:= 第二邊有-電極是相對w底之第一= 之塗料相反具有與步驟⑼ 底第咖糊一基 滿第二基底上_狀_4 觸中以轉移填 從第二基底到印刷物V上的一與： ί二邊。ii基極’該電極相對於該基底之 料相同的電^，並㈣使其具有與步驟(b)之塗 (b)之塗料減及/或使其具有與步驟(e=的^具有與步驟 法。述方法形成圖像之電子裝置的生產 ^ 、生產法匕括在電子材料上產生微型影像。 之零^此蝴’此電子裝置是—電磁式錄音、影像或電路用具 物之為圖像構成提供一種塗布合成物。根據該塗布合成 iiif 1 ’該塗布合成物包括5g到％重量百分比（wt·%) :材料與5到50重量百分比（Wt·%)陰、陽離子成分。 1345804 100年3月30日修正替換頁 或許可從包含光學墨水、導線用之金屬溶液、導電性聚 糊、抗姓劑、膠著劑和膠漿族群中，選出該電子材料。 或許可從包括被聚合使用單價或二價的陽離子或陰離子 單體的聚合物中選出陽離子成分或陰離子成分；從包含被聚合 使用非離子單體和單價或二價的陰離子或陽離子單體的共聚 物和其衍生物中挑選黏合劑聚合物；有機或無機表面活化劑包 含單價或二價的陽離子或陰離子成分；並一種單價或二價的負 離子或負離子染料、一種單價或二價的負離子或負離子顏料 和其複合體。 本發明提供一種陽離子或陰離子之黏著型塗層合成物，以 構成圖像樣式，其被製備是藉由分散一個或多個選自一溶劑中 之傳導有機或無機材料、驗金屬氧化物或傳導金屬粉末。如上 所述，塗布合成物也許是包括電子材料和陰、陽離子之塗布合 成物或是黏著型的塗布合成物。 σ - 同時，本發明提供一種電子裝置，該電子裝置是使用 . 布合成物以形成圖像。 此外，本發明提供一種電子設備包含該電子裝置。 本發明提供一種構成圖像之電子設備。該設備包含第一基 提供塗布器以致於塗布器能沿著第一基底第一邊移動，在_ 著使用，含正或負電荷之離子成分的塗料來塗布第一基底^ 一邊；提供第二基底，以致於該第二基底能在根據基底表面之 Ζ軸、X軸、丫軸、和θ軸方向上被移動藉著基底移動 置，第一基底第—邊接觸’並具有參差不齊的凸出物，其形^ ^第二基底的第-邊，塗料藉由塗布器塗覆於第—基底“第— 邊，及電極設置於至少第一基底和第二基底上，其 底的第-邊或第二基底的第一邊可將塗料轉移到印刷物上，因 8 1345804 第—ί:匕種，該 離Γ成分的塗料所形成。提供第^基底以致二該ΐΐ 予底此在Ζ軸、Χ軸、y軸、和θ轴方向上被移動，該 j據於該基底之表面，藉著基底移動袈置以和^ ^ 一 該塗料充滿第-基底之溝槽；並且在第—基 ϊΐίϋί供ίϊ ’其中塗料被轉移到第二基底之i二邊 1 Ξίί絲—基底之溝槽，並將第二基底第—邊與印刷物接 觸中以轉移印刷物上之塗料，因而在印刷物上形成圖像。 本發明·^供一種形成圖像之設備。琴抓·供担也—ρβ 面’該塗料包含離谢，_谢具有m ίυ第一邊連同許多凸出物’藉著使用塗布器，將塗覆於

ί接3時，第-基底被捲起以轉移塗料，該塗：覆U 邊上的凸出物塗料留於第-基底或塗料附著出 物，而轉移塗料到印刷物上，因而在印刷物上形成ϋ。 ffl 的清况下’電子①備生產力的零件顯著被改進。 爷方本Ϊ明之目的在於提供一種圖像構成的方法， 易、成本低廉並改善塗布均句、精確 【實施方式】‘ 9 100年3月30曰修正.替換頁 :;挪施 ===== ^子成分之塗料9於第-基底8的第一邊如上(參見第一= 二2d 第二基底2第—邊之參差不齊的凸出物2c和高 ^塗料9a乃塗覆在第一基底如上，而轉 =了=!=塗料93’第—基底8對應第二基底2的凸 盘m 2、第^ 8一到第二基底2上的凸出物2c(參見第三圖 二技Z圖將位於第二基底2凸*物2e的塗料9b與印刷物4 $觸，而將第二基底2上的塗料9b轉移到印刷物 乐五至七圖）。 〆 含有離子成分的塗料9a、9b、9c和9d分別位於第一基底 弟一基底2和印刷物4的第一邊8a、2a和如上，並且 ，6、:和5乃位於第二邊8b、2b和处上，而第二 和4b是相對於8a、2a和4a。 =第-圖所示’第-基底8、第二基底2和印刷物4也可 被固疋於支樓物7、13和12上。與此相關，可在支撐物7、 13工口 ！2上擺置第-基底8、第二基底2和印刷物4，並 支撐物7、13和12並第一基底8、第二基底2和印刷物4中 間擺置電極6、1和5。在真空中將第—基底8、第二基底 印刷物4黏著於支撐物7、13和12上。 一 第一基底8、第二基底2和印刷物4可被非常準確的垂直、 左右、前後移動並旋轉，以連結支撐物7、13和12維持微准 直（micro-alignment)和平坦。 々第二十二、二十三圖所示’第二基底2和第二基底支撐 物13可被準確垂直移動（z軸線；參見第二十二圖）、左右移

三圖）、=進气考第二十三圖）、前後移動(x轴線；參見第二十 和第,mu參見第二㈣職括第- 如第—,_ 一 一蔣#/·壯一十二圖所示，第二十二圖說明第一移動裝置，噹第 第二基底2和第二基底支撑物13 =的2且第31旋人_分。第一控制ί 的移動辟32的傾斜邊，触制為垂直 第:=ί)第二基底2和第二基底支撐物13。例如，旋入 支撐^ 13二131至穿線部分，以致於第三基底2和第二基底 8或印刷物It動細賈32的傾斜邊被推動，朝向第一基底 13，Ϊ^=ΐΐ在:起的第二基底2和第二基底支撐物 成移門裝垂直地向第一基底8或印刷物4移動 ㈡受: 一控制螺絲31，但第-控制螺絲的數 ㈣ΐΐί十三圖所示，第二十三圖說明第二移練置，螺絲 線備準確_-成於第二基底支撐物13 _面，並且第二控制 和第三控制螺絲33與螺絲線結合。第二控綱絲32 和第二控綱絲33的旋轉部，被控制將已結合的第二基底2 t第二基ΐΐ撑物I3移動’左右移動(y軸線)和前後移動(X軸 線）。第二基底2和第二基底支撐物13結合在一起，第二基底 2和第二*底支獅13之θ軸線的移動(旋轉)可由第二控制螺 絲33和第三控制螺絲相對地調整而執行。圖式中顯示兩個第 二控制螺絲33和兩個第三控制獅34，因此，共顯示四俩 絲’但第二控綱絲33和第三控綱絲34數字並不受限。 第一和第二基底移動裝置所提供之基底移動裝置可進一 步包括步進馬達35 ’辭進馬達35結合第—控制螺絲3卜第 1345804 】〇〇年3月30日修正替換頁 控ΐι3、3制螺絲34至少其ί-項’以 —項^啟動+、隹觸絲33和第三控制螺絲34至少其中 於結合在一ί的^達f來旋▼控制螺絲3】、33和34，以致 準確i制。可選擇二^底^和第二基底支撐物Π的位置能被 ^第一和弟—移動裝置的基底移動裝置並不限制於圖ί中 此外’移動已結合一起的第二基底2和第二 13的基底移動襄置，該其底 - "芽 來移動結合在-起的第^乡f右移動單位， 和第二基底支撐 垂直移動單位將已的2第和第二基底支撐物13，和- 物13垂直移動。 包括支架，支架位於結合在-起的第二 ί=ίί支撐物13上’和與支架結合的線性馬達以 移動1選擇的是，左右移動單位可為傳動臂 ^直移位可包括產生動力的馬達，以垂 該支架位於結合在-起㈣二基底2和第二基底支撐物n 和將馬達_力轉制支紅的錄。也就是說，結合在一起 的弟二基底2和第二基底支撐物13可用齒輪方法垂直移 動。可選擇的是，垂直祕單位可包括產生動力的馬達，以垂 直移動支架，3支架位於結合在的第二基底2和連 架的活基’藉由馬達的力量使得活塞得在圓筒内移動。也就 說’結合在-起的第二基底2和第二基底支禮物13可 活塞方法垂直移動。可選擇的是，垂直移動^可為 傳動質(driving arm) 〇 第一基底8和印刷物4的位置可透過上上缚控制第二基底 2相同的製程被控制，也就是說，該裝置的使用顯示於第22 12 1345804 GLl。如▲上述基底2，苐—基底8和印刷物4能在所有的 上、Li’這些方向包含X軸、y軸、2軸和θ軸方向，根據 可被獨轴、Υ轴、Ζ轴和θ轴），第一基底8和印編 / 其麻t ’第—基底8和印刷物4的位置可透過上述第二 if祐Ϊ右移動單位和垂直移動單位被控制。在本製程中， ^imZZU' 8 4 物4支像架20的功能在於從下方支撐第一基底8和印刷 上勺ΐ ΐτ和印刷物4能在所有的方向移動，這些t 二X軸、y軸、z軸和θ軸方向。因此，方便同 基底8和印刷物4移動同樣的距離。 、、 勺姑第二基底8和印刷物4可藉由移練置被雜，該移動製 傳达帶和傳動臂^也就是說，使 ^ Ϊ = 4 __定像㈣之後，細=將第I ^ 8和印漏4設制支撐定縣2〇 ±，並二 支撐定像架2〇上。在塗料9d被_^；^ 動=送=^從印刷支撐物12分離出，並藉由傳動臂移 與此相關的是，塗布器3使用塗料9塗布第一基底8， ^使=布器移動裝置時。使用塗布器移動裝&塗曰 時’塗布器3可塗布第一基底8，藉著使用塗料9。如^ 十五圖中，塗布器移動裝置的例子，該塗布器移動裝置 I匕括设置於支架40上的塗布器，和線性馬達4卜該線性 =支架40左右移動’塗布器3設置於支架♦可選擇的是、， 塗布器可藉由使用傳動臂被移動。 根據本發_具體實關之方法的步驟將於下文描述。 】00年3月30日修正替換頁 巧中’如第一和二圖所示’含有離子成分的塗料9，並 離子成^有正電荷，可藉由使用塗布器3被塗覆到第一基 底8的第一邊8a上。 - 塗布器3的例子包括但不限制於孔型 . 塗料器。 在第-具體實施例中，使用含有負離子成分的塗料9。铁 而，f本發明之塗料9中，正或負離子成分都可被使用。只i 是包含正或負離子成分的材料均可使用。 在本發明中’含有離子成分的塗料例？包括但不限制於用 來形成TFT-LCD彩色過據器的光學墨水、形成電子電路導線籲 的金屬浴液、功能性樹脂如導電性漿糊或抗餘劑和黏著劑盥 滿足精確度仿造膠漿。 〃 在本發明中，圖像構成提供塗布合成物。根據該塗布合 · 物之總重量，該塗布合成物包括5〇到95重量百分比的之電子 ，料與5到50重量百分比的陰、陽離子成分。為改善使於' 第一基底8上面之塗料的屬性，以氟或矽為基礎的表面活化劑· 被加入為均染劑或潤濕劑。此外，在印刷物4上增加 劑或抗泡沫劑以改善黏著力。 *耆促進 特別疋應用在電子機械上的材料，舉例來說，電阻写材料 _ 如半導體和磁性材料、接觸材料、電介質材料和導電性材料， 可被當作電子材料。墊子材料的例子包括光學墨水、形成印刷 電路板導線的金屬溶液、導電性漿糊、抗蝕劑、黏著劑與膠漿。 可從包括被聚合使用單價或二價的陽離子或陰離子單體的聚 合物中選出陽離子成分或陰離子成分；從包含被聚合使用非ς 子單體和單價或二價的陰離子或陽離子單體的共聚物和其衍 生物中挑選黏合劑聚合物；有機或無機表面活化劑包含單價咬 二價的陽離子或陰離子成分；並一種單價或二價的負離子或負 離子染料、一種單價或二價的負離子或負離子顏料，'和其複合 100年3月30日修正替換頁 如上㈣’塗布合成物包括電子材料和陰陽離子成分或聚 糊獅子塗布合成物以構成圖像。舉例來說，聚糊型陰陽離子 y布合成物可敎用，該塗布合絲的產生是·分散一 夕個從有機或無機材料、鹼金屬氧化物或溶劑中的導電性金屬 ϊΐΐ為改善使用於第—基底8上面之塗料的屬性，以氟或石夕 ，基礎的表面活化劑被加入為均染劑或潤濕劑。此外，在印刷 物4上增加黏著促進劑或抗泡珠劑以改善黏著力。 上述之具體實施例中，在第二基底2或印刷物4相比之 I结它气更好的基底使麟塗料9有相對地更低的吸附力基底 i够土底8為更佳。當第二基底2或印刷物4由玻璃所形成 時，第-基底8由低表面能量的材料形成為佳，如石夕橡膠 使用堅硬麵材料叙下，如聚對笨二¥酸乙二g|(pET)、耐 ^或玻璃時，其表面8a可塗布疏水性㈣或疏水表面處理， 糟由使用電漿形成該材料，其中該材料對於塗 的吸收力。 吸 更進-步說’第-基底8也許包括第—層，該第一層由軟 石夕橡膠形成並且塗料9a塗覆於其上，和第二層，該第二層由 Ξ聚ί苯二甲酸乙二材料所形成，並與第—基底支樓物7接 觸。第-基底8可被固定到第—基底支撐物7上，其上包 的堅硬材料’如不鏽鋼’藉由真空吸附設備為 固疋曰曰片（wafers)。能以用來生產第一基底8的矽橡膠有一 ^表性的例子’即聚雙甲基魏燒。更進—步說，任一個彈性 體也許可滅絲縣第_基底8，只要彈㈣由外在力量扭 ^並且能在-個預定時間以後，被恢復到原始的狀態，形 月b里被保存像聚氨酯的系統。舉例來說，聚二甲基矽 (PDMS)原油賴和保存劑混合，絲保存在表面平面上以產 生第-基底8。與此相關的是’轉★型或切開型的塗布器或許 100年3月30日修正替換頁 ^獲得固定的厚度。更好的是’保存後，覆蓋層的洛氏硬度為 〇到69，和硬度可藉由聚合鏈密度被控制，而聚合鏈的密度 將被保存，或者當聚氨酯被加到聚二曱基石夕氧烧内時，改變增 加到聚二曱基矽氧院内聚氨酯的數量。 在第-基底8的第二邊8a上形成第—基底電極6，並且 第一基底8有和其整個表面相對應區域為較佳。 在上述之具體實施例中’使用和第一基底8相較之下對塗 =有較練收力的紐為佳。肤岐，帛 料9的吸收力介於第一基底8和印刷物4之間。* 麻湖的材料例子中包括’但不限制於姊不鏽鋼， ΓΓΐΓ聚Γ二甲酸乙二酉旨卿)或丙烯酸基和石^合 物，如玻璃。深度為(U到100师 =口 會造成圖像處理困難，並且^列1印比增加時’ 内，範圍 造’其中表面改造使用以氟或石夕為基礎的I =二到表面改 或使用疏水或親水處理過程包括電漿處理:/埘的兀素， 第二基底2第二邊2b上設置第二基 像之準確性和圖像移轉效率，第_ -電極1。為改善圖 圖像之形狀對應到參差不齊_電極1最好有圖像’該 齊2c和2d被設置於第I=出，其中參差不 如第三圖所示，在步驟(b)中，第二 的第一邊8a，將第二基底2的凸屮你土-緊接第一基底8 塗料9a被設置第一基底8的第—出物处與塗料％的接觸中， 料9a到第二基底2的凸出^2c μ &上’因而轉移部分之塗 及上，塗料9a被設置在第一基 100年3月30日修正替換頁 底8的第一邊如上。如第四圖所示，在^^德，筮' 底2和第一基底8分開。 。 一土 部分的塗料9b被轉移到第二基底2的凸出物2c上， 剩餘的塗料9c第一基底8的第一邊8a上。 在本步驟中’典型被使用為電沈積的電壓為5到22〇伏 的電壓’該電壓被施加是從電力供應器(未顯示出)到第一基底 8的第-基底電極6，以致於第-基底8的第—基 ^香 電而擁有和塗料9a的離子合成物相同的電荷， 9a的轉移效率。此外’在第二基底2的第二基底電極】上使 用電壓’將第二基底電極充電，使其具有和塗料％的離子合 成物相反的電荷，因而改善塗料9a的轉移效率。 其後，如第五和六圖所示，在步驟⑷中，第二基底2到塗 料=附著於凸出物2c緊接印刷物4的第—邊4a致使能將第 一基底2的塗料％與印刷物4的第一邊接觸中，因而將第二 基底2的凸出物2c上所附著的塗料％轉移到印刷物4第一邊 2 示，在轉移完成之後，第二基底2和印刷 物4第一邊4a分開。 根據第七_示，附著於第二基底2的凸出物2。上之塗 料9b被轉移到印刷物4的第一邊4a在印刷物 塗料9d以形成特定圖像。 币運 】高賴被施加至第二基底2的第二基底電極 以致於第―基底電極丨被充電，而具有和塗料％的離子化 合物相^的電荷’因而改善在印刷物4塗料％的轉移效率。 此外，高電麼被施加至印刷物電極5，以致於印刷物4被充電， 而具有和塗料9b的離子化合物相反的電荷，因而改善塗料卯 的轉移效率。 在本發明中，印刷物4需使用具有堅硬表面的材料，該材 二:二§作?子材獅1顯树料’福性表面的聚 :2 ’如聚乙稀、聚丙烯或乙烯類聚合物。印刷物的材料例 —^ ’但不限制於彈性塑膠材料，如聚酯(polyester)和聚對 酸^二_iPET) ’其中PET t要應用在電子紙(e_papers) 員不器丨聚氨酯或環氧的堅硬塑料材料，其應用於印刷電 反i的基體，或玻璃。藉著使用熱交聯(heat CUring)及/或光交 otocunng)製程，將轉移到印刷物4上的塗料9d之圖案被 二疋至印刷物4上為佳。塗料9d的圖像被凝固了，該圖像能 接叉外在物理和化學的改變。 =塗料如被固定到印刷物4，也可使用對流烤箱、熱板 外線暴露機。當使用紫外較_情況下，使用紫外線 烘烤攸聯也可用來固定塗料。f知技術中可被應用於 固疋轉移到印刷物4上的塗料9d。 同時’在第-具體實施例中，在第—基底8、第二基底2 P刷物4上所設置的電極6、1和5。然而，即使在第一基 ϋ、第二基底2和印刷物4上設置一個或多個電極，改盖塗 斫圖像的準確度和轉移效率是有可能的。 。 一本在ί 一具體實施例中，使用乾淨的基底11的步驟(Φ可進 ^進行移除留在第一基底8上面的塗料9c(參見第5至7圖）。 ，步驟(d)中’如第五和六騎示，乾淨的基底η緊接第 :底8，其中第一基底8上設置塗料，乾淨的基底11與接 =’因此將第—基底8上的塗料9e轉移到乾淨的基底U上。 弟七圖所不’轉移完成後’乾淨的基底n和第—基底8分開。 如第^圖所示’第一基底8上的塗料9c轉移到乾淨的基 ' 上’弟一基底8上的塗料9c被移除。 步驟(d)和步驟(c)也許可被同時進行。在步驟(d)進行 在弟-基底電極6上施加高電壓’以致於第一基底電極6被充 1345804 干J月30日修正替換 電，而具有和塗料9e的離子成分相關 9c的移除效率。 口叫汉善塗料 此外，乾淨的基底11的—邊上進一步設置乾 極10，該，底11的一邊和有塗料9 c喊於其上的—邊二斜: =在乾淨的基底電極1G上也許可進—步設置乾淨的· 3二’乾淨的基底支_4也許可

f的方法，纽A 上被r乾料紐支撐物14也可在所有的方向 -美=1括x軸、y轴、z軸、和θ軸方向，如上述之第 乾ΐ的基底η和第二基底2的位置可被獨立 控制，根據上逑之變化(χ軸、y軸、ζ軸、和θ轴） ㈣基底支撐物14結合之乾淨的基底11的位置^ 述ί二基底2的左右移動單位和垂直移動單位 乾淨的基底11可被準確地垂直和左右移動， 去;T铷μ微5周準（miCr〇 ahgnment)和平坦，並與乾淨的基底 叉撐物14 一同旋轉。 - 〜驟⑼進行時’乾淨的基底電極10使用高電壓使該乾 土底電極10被充電，而有和塗料9c相反的電荷，因此改 善塗料9c之移除效率。 乾淨的基底n的例子可包括由無機材料所形成之基底， :中無機材料對於塗料9c有相對較高的吸收力，如玻璃，或 疋堅硬的塑膠材料，如親水性表面處理的 PET或壓克力。更 好的是，乾淨的基底u由破璃所構成。 在本發明中，銀、鋁、鎘、金、銅、鈦（Ti)和鎳可被當. 基底8 ’第一基底2 ’印刷物4或乾淨的基底〗1上之 19 -1345804 _ _ 100年3月30日修正替換頁 電極材料。 "~' 電極6、1、 _ * 〇不川疋田如热篁瘵發(thermaievap〇rati〇n)、 E射線蒸發（E-beam evaporadon)、濺鍍和化學汽相沉積法 (CVD)等製程所形成，其中電極6、〗、5和1〇是被設置在第 一基底8、第二基底2、印刷物4或乾淨的基底u的第二邊 8b、2b 和 4b 上。

此外，當第二基底電極1具有和參差不齊的及和2d相對 應的形狀之情況下，第二基底電極1可由熱量蒸發(thermai evaporation)、E 射線蒸發（E-beam evaporation)、濺鍍和化學 相沉積法(CVD)，或被動型或主動型的微影術。 4 不過，本發明並不限制上述之電極材料和形成製程，和 使用的習知的材料和製程。 電極的充電可藉習知技術進行’致使該電極舉有和塗料木 同或相反的電荷。舉例來說，可藉著控制器來控制充電。 第一基底電極6連接一面電壓供應器（圖未顯示），其中凑 電壓供應器上設置開關，以便形成第一電路。此外，第二基肩 電極1連接另一高電壓供應器，其申高電壓供廡器上$ 關，以便形成第二電路。 一 °

當包含第一基底電極6的第一電路和包含第—其忘带 的第二電路被獨立形成的情況下，第一電路和第;電土路的開關 被關掉，致使在第二圖所示的步驟(a)中，第一電路和第二電路 用作開放電路。第三圖所示的步驟中，第—電路和 路的開關關上的同時，第二基底2的凸出物。塗料如接^。 於是，第-基底電極6的第-電路和包含第二基底電極i的 二電路被當作封閉電路，因而允許電流流動。 當塗料9a含有陽離子成分的情況下，電流的方向被控 制’致使第一基底電極1有負電荷和第一基底電極6有正電荷。 20 被^j時㈣合有陰離子成分的情況下，電流的方向 電I ’致使基底電極1有正電荷和第-基底電極6有負 其；關兩=:=壓:供應器)，

基底電極6關立電路備#作_祕，因而允許電流流動。 〜士^侧的是’在塗料含有陽離子成分的情況下，電流方 ^皮控^致使二基底電極〗有負電荷和第—基底電極6有正 在麵含有_子成分的情況下，電财向被 反方向。 更進一步巧，在圖像轉移到印刷物4的步驟中，和將留在 ^一基底8或第二基底2的塗料轉移到乾淨的基底u的步驟

100年3月30日修正替換頁 # P刷物電極5及/或乾淨的基底電極可被充電，以便藉 者上述過程，具有負或正電荷。 曰 在第八和九圖中所示為本發明的第二具體實施例。第二具 體實施例與第-具體實施例相同，除了塗料含有帶負電荷 子成分外。 在第十到十五圖中所示為本發明的第三具體實施例。在該 具體實施例中’根據發明，圖像構成方法包括a)帶負電荷的離 子成分，塗料被塗覆到第一基底的第一邊(參見第十圖）；的將 塗覆於第一基底第一邊之塗料，與第二基底第一邊的參差不齊 的部分接觸，致使第一基底的塗料從第一基底被轉移到第二基 底(參見第十一和十二圖）；和幻第一基底第一邊的塗料與印刷 21 1345804 100年3月30日修正替換頁 物接觸，致使第一基底的塗料被轉移到印刷物上(參見第十三 到十五）。 " — 在第三具體實施例中’在第一基底、第二基底，和印刷物 第一邊上a又置電極，與其第一邊相對。不過，本發明不限制於 此外，即使電極被設置在第一基底、第二基底和印刷物至少其 一上’逛是能獲得本發明之效果。 第二具體實施例與第一具體實施例相同，除了在步驟(c) 塗料直接從第一基底轉移到印刷物上。在第三具體實施例中， 在第一基底電極施加高電壓，致使第一基底電極被充電，而有 和塗料之離子成分相同的電荷，因而改善轉移效率。 · 在上述之第一到第三具體實施例中，第一基底和第二基底 為平板。不過，在本發明中，第一基底及/或第二基底為捲狀。 不過，平板的使用也許需要多改善其圖像準確度、圖像轉移效 率和圖像形成速率。 在第十六到二十一圖中所示為本發明的第四具體實施 例。第四具體實施例與上述之第一體實施例相同，除了第一基 底為捲狀外。 一根據本發明之第五具體實施例的方法包括a)第一基底第 一邊^溝槽佈滿含有離子成分的塗料，該離子成分内具有正或 負，％ b)使第一基底第一邊與第一基底第一邊接觸，而將填 滿第一基溝槽的塗料轉移到第二基底，和c)使第二基底第一邊 ^印刷物接觸，而將塗料從第二基底轉移到印刷物上。電極被 設置在第一基底和第二基底至少其一上，與其第一邊相對。 第—基底上設置電極’將電極充電，使其具有和步驟(b) 中的塗料相同電荷。此外，充電第二基底電極，使其具有和步 ，(b)中的*料相反電荷，及/或具有和步驟⑹中的塗料相同電 荷0 · 22 1345804 …五'體實施射，第—基底、第二基底和印刷物全部 設置電極。不過’圖係塗布之準確性和圖像轉移效率能改善， 即使電極被設置在第一基底、第二基底和印刷物至少直一^。 所未提及的部分，可藉由第一具體實施例的詳 ^使用於本發明之最佳裝置的例子，包括能選擇性的塗 設!的其/該設備使用於液晶顯示器的彩色過渡製 私液曰曰』不益的薄膜晶體管(TFT)的電路製程、電紫顯示般 極衣私、生產賴顯示舰(PDP)隔板的裝置 沉積的微影像催化劑、半導體轉移裝置m 水裝置、雜顯示n或電伐。 則賴水4疋& 之為著制上述製程，使得使電子材料上 ，為有效轉移’以產製電路用具的零件，如導線、顯示 二器將如液晶顯示器（LCD)、有機發光二極體 ^磁錄音裝ΐ讀示舰（PDP)、電子紙和雜顯示器， 的 根據本發明的方法，明顯改善圖像轉移的準確性是有可能 情況ΐ本在塗布圖像的基底為平面而非捲狀的 會*Mj用特有的頭如大理石’無機材料如陶竟，或由 生ίί 成ΐ許扭曲的不鑛鋼以產生微型結構，因而產 推土 .暑、和12。於是，基底的耐久性還需多有改 進。在大理石喊巾，變形都像金屬或聚合材料。 而而=步說’在本發明的方法中’在塗布圖像的基底為平 ;而„清況下，表面與基底垂直接觸為佳。二 ί第平面而非捲狀的情.況下，在第-基底 第-基底接觸表面或第一基底或第二基底和印刷物接觸表 23 1345804 ]00年3月30日修正替換頁 面施加一致的壓力為較佳。在具有參差不齊的部分第一基底和 第二基底被過度高壓時，第一基底和第二基底接觸。溶解壓力 須是1/1000或更多可允許的極小壓力。當第一基底與第二基 底接觸時，或當第一基底和第二基底其一與印刷物接觸時，在 使用壓力進行校準時施壓為佳。 在這情況下，在印刷物上形成準確的圖像是有可能的。在 本發明中，電子(electrical)與光學壓縮感應製程可被用來形成 在全部接觸表面上施加一致的壓力。

關於電子製程方面’ 一壓電介質的感應器 (piezodielectricsensor)[piezodielectric transducer(PZT) or piezodielectric quartz crystal]可被使用。舉例來說，至少在兩處設置壓電介質的 感應器或雷射干涉儀(laser interferometer)，並且最好是在第一 基底和第二基底三個地方，以藉著壓進行電子壓力轉換，來形 成在全部接觸表面上施加一致的壓力。

此外，關於光學製程方面，或可使用雷射干涉儀。舉例來 說’至少在兩處設置壓電介f的錢H或雷軒涉儀(1繼 mterferometer)，並且最好是在第一基底和第二基底三個地方， ，，壓進行電子㈣轉換，來形成在全部接觸表面上施加一 ，的壓力。在使用雷射干涉儀的情況下，通入距離㈣如卿 =re缺被f置到級米_轉。在魏伽使用莫爾 ^ 十級麵私轉可躺Λ。當間隔 始、先栅(precnsum grating)增加時，偵測準確度增加，1 中精岔光栅有週期性的並被使用於干擾減少時。 八 像法’在絲面上形成準確的塗料的統—圖 嫌電介賊應紗雷射干涉儀，或許可 發明方法上應用，其一邊使用於其他領域。 24 1345804

【圖式簡單說明】 第一至第七圖根據本發明之具體實施例，說明使用塗布溶 液以構賴像的形成法，該溶液包含陽離子成分； 第八圖和第九圖根據本發明之另—具體實_，說明使用 、’、布溶液以構成圖像的形成法，該溶液包含陽離子成分； —第十至料五®根縣剌之^—具體實施例，說明使用 塗布溶液轉細像卿成法，該溶液包含陽軒成分； 蚀田至第二十—®根據本發明之另—具體實施例，說明 使用塗布减以構細像_成法，該溶液包含騎子成分； 第二十二圖說明第-移動裝置，該第多 (Ζ軸線)第二基底和第二基底支撐物；秒置重直移動 底』,置’該第二移動裂置將第二基 i; t 線）、前後(χ _和_向_ 置。第二十四和第二十五圖同時說·布器和塗布器移動裝 25 1345804 -- 100年3月30日修正替換頁 【主要元件符號說明】 1 第二基底之電極 2 第二基底 2a 第二基底之第一邊 2b 第二基底之第二邊 2c 參差不齊的凸出物 2d 溝槽 3 塗布器 4 印刷物 4a 印刷物之第一邊 4b 印刷物之第二邊 5 印刷物電極 6 第一基底之電極 7 第一基底支撐物 8 第一基底 8a 第一基底之第一邊 8b 第一基底之第二邊

9，9a，9b，9c，9d 塗料 10 乾淨的基底電極 11 乾淨的基底 12 印刷物的支撐物 13 第二基底的支撐物 14 乾淨的基底的支撐物 20 支撐定像架 31 第一控制螺絲 32 移動支撐架 33 第二控制螺絲 34 第三控制螺絲 35 步進馬達 40 塗布器設置架 41 線性馬達

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Claims (1)

1. 申請專利範圍： 、-麵像職枝，該方法包訂列步驟： a) ^；'絲的第—邊塗上具有正或負電荷之離子成分的 b) 將第一基底的第—邊鱼 接觸以轉移部分塗料；底的弟一邊之不均勻部分 之第二基底的f料對應第一基底在第二基底上 7第二基底的第—邊與印刷物接觸，以轉移印刷物上之塗 其中在弟一基底和第-其; 設有電極，該基底之第二土/ ^中一基底的第二邊 的，將第一基底上的;^、該基底之第一邊為相對向 ⑻之塗料之離子成==¾與^或 充電’使其具有與步驟⑼之塗基j上之電極 =具有與，之塗料之離子成分相同;g及/或與 相對，該印刷物上形成有圖* 玄印刷物 ，步驟(_料之離该分她^ =以使其具 y驟(3)中之該塗料為5〇到95 軒姐料5 性馳 的其二陽=二離聚子4二 性單體和單m的_ H:較用非離子 共聚物和其衍生物構成群組所選£出之符^體t，合的 單價或二價的陽離子或陰離子面活化劑；及 木科早價或二價的陽離子 27 JW〇4 100年3月30日修正替換頁 或陰線子顏料和其複合體構成群組中所選出之一或多種 一種塗料的圖像形成方法，該方法包含下列步驟： a) 在第一基底第一邊的溝槽上填滿包含正或負電荷之 成分的之塗料； b) 將第二基底第-賴第-基底[邊接觸轉移填 一基底上之第一基底的溝槽之塗料；和 c) 將第二基底第一邊與印刷物接觸以從第二基底 到印刷物之上， 土抖 於、二基底中至少""基底的第二邊設有電極，今 ，底之第二邊係與絲底之第—邊為相對向的 = 及/錢其具有鮮驟 勿電極設置於該印刷物另一邊，該邊 =止該印刷物上形成有圖像，且將該電極充電， 有和步驟(C)之塗料之離子成分相反的電荷，以及吏、具 料為㈣95重奸分比的電 至！ 50重夏百分比的陽離子或陰 T料和5 =電子材料係由光學墨水、導 生水糊、抗蝕劑和膠漿構成群組中所選出，/ /導電 ίιίΐί離子成分或該陰離子成㈣由使用單W 子或陰離子單體而被聚合的聚合物二價 f生早體和單價或二價 ，由使用非離子 共聚物和其衍生^構成‘子或 體，聚合的 ΐ貝的陽離子或陰離子染料、單價戍-價的ιίΜ及 .離子顏料和其複合體構成群組令所子 28 1345804 100年3月30日修正替換頁 3'2 ㈣1絲2項所述之圖 J基底疋㈣橡膠、堅硬_膠材料及玻璃材料之— 者所形成。 4、j請專利範圍第1或第2項所述之圖像形成方法，且中第 表面重新形成在步驟⑻之前，其係以下任—種^面涂 使用疏水材質使該第—基底表面進行塗布處ί，ί 使用电水使该第一基底表面進行疏水表面處理。

   1申”,圍第！或第2項所述之圖像形成方法兮 弟-基底疋由金屬、堅硬瓣材料及魏合物任_所升'成^ 6 ' 纖圍第丨或第2項所述之圖像形成方法，;中今 ί底ΐί和弟二基底上之第二邊設置第—基底電極和第二 7、3Ϊ專1項所述之圖像形成方法，其中該第一基 弟-基底電極和第二基底的第二基底電極之至少 /、弟二基底第一邊參差不齊的部分具有相對應的形狀。 Hif利乾圍第1或第2項所述之圖像形成方法，其中該 =物二由玻璃材料、彈性塑膠材料及堅硬塑膠材料之任二 者所形成。 9、如申請專利範圍第1項所述之圖像形成方法，其中印刷物雷 =置於印刷物另-邊，該邊與印刷物相對，二 置有圖像’和印獅_和第二基底第 ^ 分具有相對應的形狀。 n不片的。p 10 利範圍第！或第2項所述之圖像形成方法，其中 第-基底和第二基底至少其—為平面或捲狀。 ’、 ΐΓί 圍第1或第2項所述之圖像形成方法，其中 二基底被固定於第一基底支樓物和第二基 底支接物弟—邊，並且第一基底的第一基底電極和第二基 29 11 12

   ， ，•夕儿甘俠 13 14 15 16 17 18 19 ίίϋ基底電極被設置於第—基底支稽物和第二A麻古 撐物的第二邊，該第二邊係與第-基底支撐物和第亡其5 支樓物的第-邊為減⑽。 ·线物和第-基底 、=請專利範圍第u項所述之圖像 在真空下’被固定於第-基底支以 Hi專利域第1或2項所述之圖像形成方法，1中和 制在步驟(b)或步_的接觸，tJf(de 應製程被絲形成在全部鋪表社絲―)致感 、如申請專纖15第13項所述之圖像形成方法，1中 (ίΓ二先：縮感應製程是使賴電介質感應器或 如申請專利範圍第】項所述之圖像形成方法，其中進— 包括步2: d)將留在第一基底或第二基底的塗料與乾淨的 基底的第一邊接觸，而移除第一基底或第二基底之塗料。、 如申請專利範圍第丨5項所述之圖像形成方法，其中乾淨 基底，極被設置於乾淨的基底第二邊，該第二邊與乾淨的 基底，一邊相對，和該電極充電，使其具有與留在第—義 底或第二基底的塗料之離子成分相反的電荷。 土 如申請專利範圍第15項所述之圖像形成方法，其中該乾淨 底係由無機材料、堅硬的塑膠材料及玻璃之任一者所 如申叫專利範圍第1項之圖像形成方法，其中由該塗料形 成之圖像被用於電子裝置中。 ^ 如申請專利範圍第18項之圖像形成方法，其中該電子 係包含於電子設備中。 、夏 1345804 100年3月30日修正替換頁 20、一種產生圖像之設備，其包含： 第一基底； 塗布器，致使該塗布器能藉著塗布器移動裝置，沿 基底第-邊移動，來塗布第-基底第—邊，塗布 有離子成分之塗料，離子成分内有正或負電荷.°° =基底，致能該第二基底以致於該第二基底能在根據基 ΐz軸、X軸、y軸、和θ轴方向上被移動，藉著基 ϋ多喊置與第-基底第-邊接觸，並具有凸出物，該凸 Α 出物係形成於第二基底第一邊，被塗覆於第一美底楚一-嘉 之塗料藉著使用塗布器被轉移至該凸出物；和_ ^ 電極設置於第一基底和第二基底之至少—者上； 其:該第-基底第-邊或第二基底第—邊與印刷物接觸， . 以L制印刷物’因而在印刷物上形成圖像。 .21 1申^利範圍第20項所述之設備，其中該電極包含第一 土底第一邊上設置的第一基底電極和第二 置的第二基底電極； 土低弟一以上5又 t基底被移動，致使第二基底第—邊上的凸出物盘使用 t布為被塗覆於第一基底第一邊之塗料接觸； 充Λ’产其具有峨覆於第-基底第- 朴r覆於第-基底第-邊的塗= 被塗覆於第一基底第-邊的塗料轉 矛夕到弟一基底第一邊的凸出物；並且 fit底i極被充電，使其具有和殘留於第-基底第-邊 ，圭料之綠子成分相同的電荷， “皆 邊的塗料被轉移到印刷物，：第致=方 底弟： 具有和附著於第二基底凸出物的 31 100年3月30日修正替換頁 何，致使附著於第二基底凸出物的塗料被轉移到印刷物 上，因而在印刷物上形成圖像。 22、如申請專利範圍第20項所述之設備，進一步包含： 設置於印刷物上之印刷物電極， ^中當第-基底第-邊或第二基底第-邊與印刷物接觸 時，該印刷物電極被充電，使其具有和殘留於第—美底 一邊的塗料之離子成分或附著於第二基底的凸出物二涂 之離子成分相反的電荷。 ', 23、如申請專利範圍第2〇項所述之設備，其中該基底移動設 包含： ° 第一移動裝置包含導引第二基底移動之移動支撐架，在 動支撐架上設置第一控制螺絲以控制第二基底於ζ軸^ 上相關第二基底之表面的移動；以及 ° 第二移動裝置包含設置於第二基底的第二控制螺絲和 控制螺絲以控制第二基底沿著第二基底表面X軸、y 軸的方向上移動。 τσϋ 24、 如申請專利範圍第23項所述之設備，其中該基底移動裝 進一步包括步進馬達，該步進馬達與第一控制螺絲、^一 控制螺絲和第三控制螺絲至少其一連結。 一 25、 = 1請專利範圍第20項所述之設備，其中塗布器移動裝置 塗布器設置於其上之塗布器設置架；並且 線性馬達將塗布器設置架左右移動，其中塗布器設置加 有塗布器設置於其上。 木上 26、如申請專利範圍第20項所述之設備，其進一步包含： 支撐定像架從下方支撐第一基底與印刷物。 32 1345804 100年3月30日修正替換頁 27、=申請專利範圍帛2〇項所述之設備，其進一步包含. 乾淨的基底，使其能緊接第—基底，並在附著於第二 土 &凸出物的塗料被轉移到印刷物上時，和第一其底 開’因而移除殘留於第一基底第一邊的塗料。 土_ 28 一種圖像形成設備，其包含： ΪΓίί」在第一基底第一邊上形成填滿有包含正或負電 何之離子成分之塗料的溝槽； 系基底其被5又置以藉著使用基底移動裝置斑第一美底 J-邊接觸而能在該基底表面於2軸、，、，軸 α上被移動，第二基底具有苐一邊，填一 槽中的塗舰卿至鮮—邊；狀 電極，其設置在第一基底和第二基底之至少一者上， 其中填滿於第一基底之溝槽中的塗料被轉移到第二基底第 邊，和第二基底第一邊與印刷物接觸以轉移塗料到印刷 物’因而在印刷物上形成圖像。 29、如申請專利範圍第28項所述之設備，其中該電極包含第一 極設置於第-基底第二邊’和第二基底電極設置於 弟二基底第二邊； 移動第二基底’致使第二基底第一邊與填滿於第一基底第 一邊溝槽的塗料接觸； 一 第一基底電極被充電，使其具有和填滿於第一美底第一邊 溝槽的塗料之離子成分相_電荷，或第二基^電極被充 電，使其具有和填滿於第一基底第一邊溝槽的塗料之離子 成分相反的電荷，因而將填滿於第一基底第一邊 料轉移到第二基底第一邊；以及 a ^ 第二基底電極被充電，使其具有和附著於第二基底第一邊 33 100年3月30日修正替換頁 的塗料之離子成分相同的電荷，致使附著於第二基底第一 邊的塗料被轉移到印刷物，因而在印刷物上形成圖像。 30、 如申請專利範圍第28項所述之設備，其進一步包括： 印刷物電極被設置於印刷物， 其中當第二基底第一邊與印刷物接觸時，印刷物電極被充 有靖於第二基底第-她之離子成分 31、 專利範圍第28項所述之設備，其中該基底移動裂置 Γ ^ Λ S * 夕裝置，其包含導引第二基底移動之移動支樓牟， ^動支樓架上設置第—控制螺絲以控制第 Ζ、 方向上的移動；以及 土 Ζ軸 ^移動裝置，莫包含被設置於第二基底的第二 和第二控制螺絲，以控制第二基底沿著^、 y軸和θ轴方向上_。 力減衣面X轴、 32項，之設備’其中該基底移動裝置 控制螺絲和第三控制螺絲之至少一者連結。 弟一 34 33、如申料概圍第28彻叙設備，其進—步 支揮定像雜下方支撐第—基底與印刷物。 、一種圖像形成設備，其包含： 第-基底，其為可旋轉的設置並為捲狀； 有帶正或負電荷之離子成分之塗料來塗 ^基底，其具有第—邊和凸出物，並 ;弟一基底上之塗料被轉移到凸出物上；以^ °吏塗 34 1345804 ' _· 100年3月30日修正替換頁 .. 電極，其設置在第一基底和第二基底之至少一者上， . 其t當與第二基底第一邊接觸時，第一基底被旋轉，以將 塗覆於第一基底表面的塗料轉移到第二基底第一邊凸出 物，和將殘留於第一基底的塗料或附著於第二基底凸出物 的塗料與印刷物接觸以將塗料轉移至印刷物，因而在印刷 物上形成圖像。 35、如^請專利制第34項所述之設備，其中該電極包括設置 ^第基底上之第一基底電極，和設置於第二基底上之第 二基底電極，當第一基底旋轉時，使用塗布器沿著第一基 底表面在第一基底表面上塗覆塗料； 土 ^-基底電極被充電’使其具有和塗覆於第—基底表面的 =料之離子成分相同的電荷，或第二基底電極被充電’使 ::具有和塗覆於第-基底表面的塗料之離子成分相反的雷 何’以及當第-基底與第二基底第一邊接觸時，其上^ ^塗料的第—基底旋轉，致使第-基底沿著第二基底^一 =表面移動’因而將塗料從第—基底轉移第二基底的凸出 物，以及 第-基底電極被充電，使其具有和殘留於第 的塗料之離子成分相同的電荷，致使殘留於第一基底^ 面的塗料被轉移到印刷物上，或第二基 &電、 Ϊ二二:第二基底凸出物的塗料被轉移到印刷 物，因而在印刷物上形成圖像。 』丨剕 、如申請專利範圍第34項所述之設備，其進—步包含： 設置於印刷物上之印刷物電極， i:i㊁基底與印刷物接觸時，該印刷物電 桎被充電使”具有和殘留於第—基底表面的塗料或附著 35 36 1345804 100年3月30日修正替換頁 於第二基底凸出物塗料之離子成分相反的電荷。

   36 I345«04 厂- 100年3月30日修正替換頁 七、指定代表圖： (一) 本案指定代表圖為：第（一）圖 (二) 本代表圖之元件符號簡單說明：

   1 第二基底之電極 2 第二基底 2a 第二基底之第一邊 2b 第二基底之第二邊 2c 參差不齊的凸出物 2d 溝槽 3 塗布器 4 印刷物 4a 印刷物之第一邊 4b 印刷物之第二邊 5 印刷物電極 6 第一基底之電極 7 第一基底支撐物 8 第一基底 8a 第一基底之第一邊 8b 第一基底之第二邊 9 塗料 10 乾淨的基底電極 11 乾淨的基底 12 印刷物的支樓物 13 第二基底的支撐物 14 乾淨的基底的支撐物 20 支撐定像架 八、本案若有化學式時，請揭示最能顯示發明特徵的化學式： 益〇 5