TWI345634B - Tft array inspection device - Google Patents

Tft array inspection device Download PDF

Info

Publication number
TWI345634B
TWI345634B TW96120304A TW96120304A TWI345634B TW I345634 B TWI345634 B TW I345634B TW 96120304 A TW96120304 A TW 96120304A TW 96120304 A TW96120304 A TW 96120304A TW I345634 B TWI345634 B TW I345634B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
waveform
defect
unit
tft array
inspection
Prior art date
Application number
TW96120304A
Other languages
English (en)
Other versions
TW200848724A (en
Inventor
Daisuke Imai
Makoto Shinohara
Original Assignee
Shimadzu Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shimadzu Corp filed Critical Shimadzu Corp
Priority to TW96120304A priority Critical patent/TWI345634B/zh
Publication of TW200848724A publication Critical patent/TW200848724A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI345634B publication Critical patent/TWI345634B/zh

Links

Landscapes

  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)

Description

1345634 24429pifl 修正日期:100年3月21日 爲第96120304號中文說明書無劃線修正本 六、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明是一種使電子射線於TFT陣列基板上進行二維 掃描而獲取掃描圖像,並根據該掃描圖像來進行TFr陣列 檢查的TFT陣列檢查裝置。 【先前技術】 已知有一 徑很龈1定电卞耵踝或離子束等帶電粒子束於 基板上進行二維掃描而獲得的掃描圖像來進行基板檢查的 基板檢查裝置。例如,於TFT顯示器裝置所使用的τρΓ 陣列基板的製造步驟中,對所製造的TFT陣列基板是否正 確驅動來進行檢查。於該TFT陣列基板檢查中,例如藉由 使電子射線於TFT陣列基板上進行掃描而獲取掃描圖像, 並根據該掃描圖像來進行檢查。 TFT P車列檢查裝置…方面向施加有規定電 子射線,—方面使電子射線與平臺在X、軸 相難地雜,從錢電子雜於抓 自τ/τ陣列維:’並檢測藉_電子射線掃描而 時,所獲取的定圖案的啦陣列存在著缺陷 的Μ陣列二況下所獲得的圖像不同。先前 該缺陷檢測,主-要二=二:的圖像狀態來進行 先前的TFT p朿況认:、、口 1疋。 TFT陣列缺陷的判定:裝j,僅進行TFT陣列上有無 或者確定缺陷的個數或TFT基板上 1345634 24429pifl 爲第㈣㈣4號中文酬書無劃線修正本 修正日期:HH)年3月21日 的座標,而並不對該TFT陣列的缺陷是何種缺陷的缺陷種 ' 類進行分類。 先前的TFT陣列檢查裝置中,僅將所檢測出的圖像訊 號顯示於灰階畫面上、並根據該顯示晝面顯示為白色或是 黑色來進行分類,而難以判定缺陷的種類。 於TFT顯示器製造步驟中,在TFT陣列檢查步驟之 後設置修復步驟,於該修復步驟中確認缺陷,當該缺陷可 φ 修復時進行修復。於該修復步驟中進行缺陷破認時,是根 據TF T陣列檢查步驟中所檢測出的缺陷位置來探測出缺陷 部位,並檢查該缺陷的内容。由於確定該缺陷部位或缺陷 内容需要耗費時間,因此成為修復步驟需長時間化的主要 原因。 因此,若可於作為該修復步驟之前步驟的TFT陣列檢 查步驟中判定缺陷的種類,並獲知該缺陷是可修復的缺陷 或者該缺陷是難以修復的缺陷,則可使修復步驟中進行缺 陷確s忍所需的時間縮短,從而可提高TFT顯示器製造步驟 之處理量(throughput)。 【發明内容】 因此,本發明的目的在於解決上述先前的問題點,於 TFT陣列檢查步驟中對TRr陣列的缺陷種類進行分類。 本發明是藉由對TFT陣列檢查中所獲取的檢查波形與 已知的基準波形進行比較,而可進行缺陷種類的分類,本 發明可判別圖像顯示中無法區別的缺陷種類。
本發明的TFT陣列檢查裝置,是根據電子射線於TFT 5 1345634 24429pifl 修正曰期:丨00年3月21日 爲第9612〇304號中文說明書無割線修正本 陣列上進行二維掃描而獲得的檢測波形來檢測TFT缺陷的 TFT陣列檢查裝置,此TFT陣列檢查裝置具料TFT的 ,陷種類進行分類的缺陷種類分類部。該缺陷種類分類部 藉由將預先準備的基準波形來與檢測波形進行比較,而對 TFT的缺陷麵進行分類。缺陷麵分類部錢根據檢剩 波形來檢職陷的缺驗形檢㈣、以及卿由缺陷波形 檢測部進行了缺陷檢測的波形的缺陷種類的缺陷麵判別 =,進而另外具備基準波形記憶部,其用以記憶缺陷波形 =測部與缺陷種類判卿各自使用的基準波形。缺陷波形 =部^關類判別部,將記憶於該基準波形記憶部中 檢!1部及缺陷種類判別部所使用的基準波形作 ==形=種==波形的缺陷及所檢 形的缺陷。而且,缺形比較而檢測波 部進杆了㈣w — m领由對由缺陷波形檢測 游.為已知的缺陷標準基板而獲取的缺陷波 測的波形與缺陷波形進::較:: 根據本發明,於基準波形記 於車列檢查步_非修復步:=查= 正常的正常鮮基板喊取的正=雜有藉由測定 陷麵為已㈣缺陷鮮缺耐取⑽藉由測定缺 1345634 24429pifl 爲第96⑽G4號中文_書__正本 修IE日期:H)()年3月21日 板的TFT陣列中是否含有缺陷、以及當有缺陷時該缺陷為 何種缺陷。 而且,根據本發明,藉由對TFT陣列的缺陷種類進行 分類,而可於修復步驟中根據該缺陷種類直接進行修復, 從而可縮短先前的缺陷確認所需的時間。 [發明之效果] 根據本發明,於TFT陣列檢查步驟中,可對TFT陣 列的缺陷種類進行分類。 【實施方式】 以下’參照圖式詳細說明本發明的實施形態。 圖1是用以說明本發明的TFT陣列檢查動作的圖。另 外,本發明的TFT陣列檢查裝置,表示了根據電子射線於 基板上進行一維知描所獲得的檢測波形而對形成於基板上 的TFT陣列進行檢查的結構,但並不限定於電子射束,亦 可使用離子束等帶電粒子束,對形成於基板上的半導體元 件進行檢查。 本發明的TFT陣列檢查裝置1具備:電子搶2,朝向 形成於基板上的TFT陣列照射電子射線;檢測器3,檢测 藉由電子射線照射而自TFT陣列放出的二次電子;訊號處 理部4 ’對檢測器3所檢測出的檢測訊號進行訊號處理; 波形記憶部5 ’記憶著訊號處理部4所獲得的檢測波形; 缺陷種類分類部6,檢出檢查對象基板的TFT陣列的缺 陷,並對該缺陷的種類進行分類;以及輸出處理結果的輸 出部7。 7 1345634 24429pifl 修正日期:100年3月21曰 爲第9612〇3〇4號中文說明書無劃線修正本 另外’波形記憶部5具備用以記憶著標準波形的標準 波形記憶部5 a、及暫時記憶著檢查波形的檢查波形記憶部 5b。而且,缺陷種類分類部6具備根據檢查波形來檢測缺 陷波形的缺陷波形檢測部6a、及判別已檢出缺陷的檢查波 形的缺陷種類的缺陷種類判別部6b。 另外’圖1中,就作為基板上檢查用訊號之驅動機構 而言,省略了包含探測框(其上具備探針)的探測器、產生 經由探測器以施加至基板的檢查用訊號並進行供給的檢查 訊號產生部等的各結構。 本發明的TFT陣列檢查裝置〗,預先準備藉由檢測正 常的正常標準基板而獲取的正規波形、及藉由檢查缺陷種 類為已知的缺陷標準基板而獲取的缺陷波形作為基準波 形,並根據該基準波形,來對藉由對檢查對象基板進行檢 查而獲取的檢查波形進行缺陷檢測、及對缺陷種類進行判 別。因此,本發明的TFT陣列檢查裝置1,根據如下所述 ,兩個動作狀態來進行TFT陣列的缺陷種類的分類,即: 藉由對標準絲進行檢查碰測$基準波形並將基準波形 β己憶至波形記憶部5中的動作狀態;以及藉由對檢查對象 基板進行檢查而檢測出檢查波形並將此檢查波形暫時記憶 至波形記憶部5中的動作狀態。 〜 ⑥因此,圖1中為了便於說明動作,於圖的上方側表示 對標準基板進行檢查而㈣綠準波職將其記憶至波形 ^己憶部W標準波形記憶部5a)中的動作狀態,而於圖的 側表示對檢查對象基板進行檢查而檢測出檢查波开)並 1345634 24429pifl 爲第%n〇3〇4號中文酬書無劃線修正本 修正日期:1〇0年3月21日 將其記憶至波形記憶部5 (檢查波形記憶部5b)中的動作 狀態,但是,TFT陣列檢查裝置i自身是由一個裝置所構 成’而並非具備圖中的上下所示的兩個裝置。 圖的上方侧所示的記憶基準波形的動作狀態是:準備標 準基板11,自電子槍2向該標準基板11照射電子射線,^ 用檢測器3來檢測自標準基板11所放出的二次電子射線。 在該記憶基準波形的動作狀態中,訊號處理部4對檢 • 測器3所檢測出的檢測訊號進行訊號放大,並將經訊號處 理的波形^料δ己憶至標準波形記憶部5a中。此處,就標準 基板11而言應準備不具缺陷的正常基板與已知缺陷種類 的缺陷基板,將藉由檢查正常基板所獲得的波形作為正規 波形而記憶至標準波形記憶部5a t,將藉由檢查缺陷基板 所獲得的波形作為缺陷波形而記憶至標準波形記憶部5 a 中。於記憶正常波形時,不僅記憶正規波形的波形資料, 而且同時記憶該波形為正常。而且,於記憶缺陷波形時, 擊 不僅s己憶缺陷波形的波形資料,而且相對應地記憶著確定 該缺陷種類的資料。 圖的下方側所示的獲取檢查對象波形的動作狀態是: =備檢查對象基板12,自電子槍2向該檢查對象基板12 妝射電子射線,利用檢測器3來檢測自檢查對象基板12 所玫出的二次電子射線。 於該獲取檢查對象波形的動作狀態中,訊號處理部4 ^檢測器3所檢測出的檢測訊號進行訊號放大,並將經訊 號處理的波形資料記憶至檢查波形記憶部5b中。此處,檢 9 1345634 24429pifl 修正日期:100年3月21曰 爲第961203〇4號中文說明書無劃線修正本 查對象基板12中有無缺陷及缺陷的種類均是未知的。將藉 由對檢查對象基板12進行檢查所獲得的波形,作為檢查波 形’以暫時記憶至檢查波形記憶部5b中。另外,記憶檢查 對象波形時,不僅記憶著檢查波形的波形資料,而且相對 應地記憶著確定該檢查對象的識別資料’可在以後的處理 中使用、並且可在處理結果中用於檢查對象的確定。 缺陷種類分類部6利用缺陷波形檢測部6 a而自檢查波 形檢測出缺陷波形,缺陷種類判別部6b判別缺陷波形檢測 部6a所檢測出的檢查波形的缺陷種類。 缺陷波形檢測部6a所進行的缺陷波形的檢測是:讀出 暫時記憶於檢查波形記憶部5b中的檢查波形,並且讀出記 憶於標準波形記憶部5a中的正規波形,藉由對檢查波形與 正規波形進行波形比較而檢測出檢查波形巾的缺陷。 缺種類判別部6 b所進行的缺陷種類的判別是:對由 缺陷波形檢測部6 a進行了缺陷檢出的檢查波形、與自標準 波形記憶部5a讀出的缺陷波形進行波形比較,以此來判別 此檢查波形的缺陷種類。對於缺陷屬於多種缺陷中的哪—·
除了輸出已由缺陷種類分類部6進行了分類 外還輸出缺陷的個數或基板上的缺陷的座 10 丄 M5634 24429pifl 爲第96η〇3〇4號中文說明書無劃線修正本 修正日期:1〇〇年3月21日 “等貧料。輸出形態可為’將資料記憶至記‘_體(未圖 不)中、向分析裝置或控制裝置等其他機器裝置傳送資料、 列印至印刷媒體上、或顯示在顯示裝置上等。 繼而,使用圖2的流程圖來說明本發明的TFT陣列檢 查,置的動作例。另外,於圖2的流程圖中,S1〜S7的步 驟是上述記憶基準波形的步驟,S8〜S12的步驟是上述獲 取檢查對象波形並對缺陷種類騎分類的步驟。
首先’於S1〜S7的步驟中,獲取並記憶正規波形盥 缺陷波形的基準波形。 〃 準備不含缺陷的正常的正常基準基板,對該正常基準 基板進行電子射線掃描^収TFT陣列,以獲取檢查波 形。另外,正常基準基板並不限定於基板上完全不含缺陷 的基板,亦可為缺陷位置或正常位置已知的基板,只要不 含缺陷且JL常位置是已知的,麟由測定該位置即 正規波形(S1)。 又
將S1中所測定的正常波形作為正規波形,將該正規 波形與正規波形的朗資料—併記憶並登駐標準波形記 憶部5a中(S2)。 ° 繼而,準備缺陷種類已知的缺陷基準基板,對該缺陷 基準基板進行電子射線掃描而測定TFT陣列,以獲取檢查 波形。另外,關於缺陷基準基板,並不限定於準備多片於 一片基板上僅含一種缺陷的基板的形態,只要缺陷種類與 該缺陷位置為已知’财可為於一片基板上含有多種缺^ 的基板,只要缺陷種類與缺陷位置為已知,職由測定該 1345634 24429pifl 爲第㈣嶋號中文說明書無割線修正本 修正日期··⑽年3月21日 位置即可獲取缺陷種類為已知的缺陷波形(S3)e 將S3中所測定出的檢查波形作為缺陷波形 的制㈣―併記憶並登錄至^票 於上述S2、S4的步驟中,為了修正因電子搶不 1化(正規化)。作為鮮化的—種方法,有求出 的累加值的鮮偏差’將最接近於所求出的標準偏差
差值50%^波形作為基準,從而將所有波形標準化的方法。 上述鮮化的方法巾,對於面板邊緣部分的標準化不 充为。因此,作為解決該標準化不充分的方法,利用探測 如純)來遮掩基板,在此狀11下使用自探測框部 为獲得的訊號強度辦,針對每個電子搶求㈣移量與 圍量,並使用所求出的偏移量與範圍量來將各檢測波形標 準化。 、 該標準化是以下述事項為基準,即,即便電子搶不同,
於利用探靡遮掩基板時對框上進行制所獲取的強度範 園、與對基板進行檢測而獲取的訊號強度範圍之間的倍率 比仍相同。 而且,根據施加至基板之檢查用訊號,有時所獲取之 檢測訊號之圖案會產生多種。於如此之情況下,由於可由 各圖案獲得多個正規波形,故而將該些多個正規波形平均 化而產生一個正規波形並予以登錄。 關於用於標準化之基準波形(正常波形),除了可藉由 12 24429pifi 爲第96120304號中文說明書無割線修正本 ==之==,並對該標準基板進行 得的檢查波形而獲取。對象基板進仃測定所獲 描範圍内可轉祕^ 為’於檢查對象基板中,掃 掃描範圍之:部分範圍被正常波形。因此’於
檢查波形的標準偏差及偏差值來 波==將該正常波形作為基準波形,而將檢查 而且’以下將說明根據所選擇的波形來計算出電子搶 強度的增將所有的檢纽形鮮化的—種方法。 首先,設定正規波形,並且準備由試料所獲得的正常 f形的偏移量°作為正規波形,例如將翻F啊e設為 土0.25 ’將偏移F〇ffset設為“〇,,。從而,檢查波形經過標 準化而成為偏移量為〇、範圍寬度㈣25的正規波形。而 且,準備2048以作為由試料所獲得的偏移量八〇饱贫。
修正日期:100年3月21日 以下]對於實際上對試料進行測定所獲取的正常波形 的範圍的最大值Amax為2600、最小值Amin為2100的情 況下的計算例進行說明。另外,範圍設為15〇〇。 上述正規波形或正常波形的偏移量在軟體上進行了設 定,計异出範圍的最大值Amax與偏移量Aoffset之差
Amaxdiff(= Amax—Aoffset)、以及最小值 Amin 與偏移 量 Aoffset 之差 Amindiff (= Amin-Aoffset)。 此處,使用Amaxdiff與Amindiff的絕對值較大的一 方’利用增益=Amaxdiff ( Amindiff) /Frange之式計算出 13 1345634 24429pifl 爲第96120304號中文說明書無劃線修正本 修正日期:1〇〇年3月U日 使用該增益,將由測定所獲得的測定資料標準化。例 ^當収資料之值為“,,時,標準化後的資料則為 〇._791,,(= (2110-2048) /2208)。 ^該標準化後的資料記憶至基準波形記憶部%中並 進行登錄。 另外,上述S1及U» C/1 k , 亦可為心的:4的測疋 獲二二=姆象基板進行掃描而進行測定⑶), 獲取並雜檢查波形(S6) S6::,(r,波形亦藉由 ==、。 對缺陷種類進行分類如步驟中,獲取檢查對象波形,並 自檢查波形記憶部%讀出格^ 憶部5a讀出正規波形(S8),— 杳形’並自基準波形記 波形比較,抽取缺陪候補的波形,==進: 間的關聯度而進行。該處理相當j =由採取波形資料 檢測部6a所進行的處理(%)。θ中所不的缺陷波形 繼而,自基準波形記憶部5a 錄的多個缺陷波形中抽取關聯度最高的缺:二= 1345634 24429pifl 修正日期·· 100年3月21曰 爲第96丨2〇3〇4號中文說明書無割線修正本 ^波形的祕麵切賴檢纽形的缺_類並進行· 分類。 藉由與缺陷波形—起登錄於基準波 形6己憶4 5a中_以確定麵的資料而獲取。
該^理相胃於目丨ψ所示的缺陷翻判 的處理(S10)。 J
自輸出部7輸出所獲得的缺陷種類、缺陷位置、缺陷 缺缺陷判別結果的輸出,除了可為顯 ”在』不裝置(未圖示)上、或列印的形態以外,還可 向其=置輸出資料等的任意形態(su)。重複實施上述 S8〜S11的步驟直至缺陷判定結束為止(si2)。 根據本發明,可對可修復的缺陷與難以修復的缺陷進 行分類’故砂錢步射可使確認是錢_行缺 省略,從而提高基板檢查的處理量,最終可降低 面板的成本。 [產業上之可利用性] 本發_TFT_檢查裝置中所使用的缺_類的分 類並=限於藉由電子射線進行的檢測,亦可適用於使用離 子束等帶餘子來進行的檢測,而且,並*限定於 列’亦可適用於半導體基板上的元件形成的處理中。 【圖式簡單說明】 圖1是用以說明本發明的TFT陣列檢查的動作的圖。 圖2是用以說明本發明的TFT陣列檢查襞置 的流程圖。 』切τΜ歹ij 15 1345634 24429pifl 爲第96120304號中文說明書無劃線修正本 【主要元件符號說明】 1 : TFT陣列檢查裝置 2 :電子槍 3 :檢測器 4:訊號處理部 5:波形記憶部 5a :基準波形記憶部 5b :檢查波形記憶部 6:缺陷種類分類部 6a :缺陷波形檢測部 6b :缺陷種類判別部 7 :輸出部 11 :標準基板 12 :檢查對象基板

Claims (1)

1345634 24429pifl 修正日期:1GG年3月21日 爲第9612〇304號中文說明書無劃線修正本 七、申請專利範圍: 1.一種TFT陣列檢查裝置,其根據電子射線於TFT陣 列上進行二維掃描所獲得的檢測波形而檢測TFT缺陷該 TFT陣列檢查裝置之特徵在於包括: 缺陷種類分類部,該缺陷種類分類部對使用基準波形 而檢測出的TFT缺陷的種類進行分類; ^ 上述缺陷種類分類部包括: # 缺陷波形檢測部,根據檢測波形來檢測缺陷; 缺陷種類判別部’判別已由上述缺陷波形檢測部 檢出缺陷的波形的缺陷種類;以及 基準波形記憶部,記憶上述缺陷波形檢測部及缺 陷種類判別部各自所使用的基準波形;且 聿皮形檢測部及缺陷種類判別部使用上述各基 旱/皮形作為基準來進行波形比較; 陷波記憶部’記憶著正規波形以作為上述缺 籲種類二Μ的基準波形,且記憶著藉由檢查缺陷 陷種==;=取的缺陷波形,為缺 形進==形:::波測波形與上述正規波 部檢==別部,藉由對已由上述缺陷波形檢例 心類皮形與上述缺陷波形進行波形比較,而對: 17 1345634 24429pifl 爲第96120304號中文說明書無劃線修正本 修正日期:100年3月21日 四、 指定代表圖: (一) 本案指定代表圖為:圖1 (二) 本代表圖之元件符號簡單說明: 1 : TFT陣列檢查裝置 2 :電子搶 3 :檢測器 4 :訊號處理部 5:波形記憶部 5a :基準波形記憶部 5b :檢查波形記憶部 6:缺陷種類分類部 6a :缺陷波形檢測部 6b :缺陷種類判別部 7 ·輸出部 11 :標準基板 12 :檢查對象基板 五、 本案若有化學式時,請揭示最能顯示發明特徵 的化學式: 無 3
TW96120304A 2005-12-22 2007-06-06 Tft array inspection device TWI345634B (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
TW96120304A TWI345634B (en) 2005-12-22 2007-06-06 Tft array inspection device

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005369254A JP4640163B2 (ja) 2005-12-22 2005-12-22 Tftアレイ検査装置
TW96120304A TWI345634B (en) 2005-12-22 2007-06-06 Tft array inspection device

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW200848724A TW200848724A (en) 2008-12-16
TWI345634B true TWI345634B (en) 2011-07-21

Family

ID=38297751

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW96120304A TWI345634B (en) 2005-12-22 2007-06-06 Tft array inspection device

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JP4640163B2 (zh)
TW (1) TWI345634B (zh)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4577332B2 (ja) 2007-05-16 2010-11-10 ソニー株式会社 情報提供システム、受信装置、情報提供装置、情報提供方法およびプログラム
JP5423664B2 (ja) * 2010-12-20 2014-02-19 株式会社島津製作所 Tftアレイ検査装置

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5982190A (en) * 1998-02-04 1999-11-09 Toro-Lira; Guillermo L. Method to determine pixel condition on flat panel displays using an electron beam
JP2001127129A (ja) * 1999-10-27 2001-05-11 Hitachi Ltd 試料の欠陥検査システム、および検査方法
JP4062527B2 (ja) * 2003-05-09 2008-03-19 株式会社島津製作所 Tftアレイ検査装置

Also Published As

Publication number Publication date
JP4640163B2 (ja) 2011-03-02
JP2007170996A (ja) 2007-07-05
TW200848724A (en) 2008-12-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100775437B1 (ko) 패턴검사장치및그방법
US7062081B2 (en) Method and system for analyzing circuit pattern defects
US7071468B2 (en) Circuit pattern inspection method and its apparatus
TWI524079B (zh) 晶片對資料庫的接觸窗檢測方法
JPS63244753A (ja) 結晶欠陥認識処理方法
WO2010013612A1 (ja) 回路パターン検査装置、および回路パターンの検査方法
KR20230037421A (ko) 기판 상의 필름의 검사 장치 및 방법
TW200535716A (en) Verification of non-recurring defects in pattern inspection
JP2004177139A (ja) 検査条件データ作成支援プログラム及び検査装置及び検査条件データ作成方法
WO2011070663A1 (ja) Tft基板検査装置およびtft基板検査方法
TWI345634B (en) Tft array inspection device
JP2010091361A (ja) 画像検査方法および画像検査装置
TW471016B (en) Defect detection using gray level signatures
TWI307408B (zh)
JP3793668B2 (ja) 異物欠陥検査方法及びその装置
TWI225156B (en) Apparatus and method for testing the quality of interconnections of electronic devices
KR20080028278A (ko) 전기 회로 소자의 광학 검사 시스템 및 방법
KR100792687B1 (ko) 반도체 기판 패턴 결함 검출 방법 및 장치
KR101028508B1 (ko) Tft 어레이 검사 장치
JP2001124538A (ja) 物体表面の欠陥検査方法および欠陥検査装置
JP2005321308A (ja) アレイ検査装置
JP5408333B2 (ja) Tftアレイ検査方法およびtftアレイ検査装置
JP4021084B2 (ja) 電子顕微鏡及び検査方法
WO2006120722A1 (ja) 半導体デバイスの製造方法
CN108535255B (zh) 文件物证制成时间检验方法

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A Annulment or lapse of patent due to non-payment of fees