TWI338744B - Improvements in dry pumps - Google Patents
Improvements in dry pumps Download PDFInfo
- Publication number
- TWI338744B TWI338744B TW092128545A TW92128545A TWI338744B TW I338744 B TWI338744 B TW I338744B TW 092128545 A TW092128545 A TW 092128545A TW 92128545 A TW92128545 A TW 92128545A TW I338744 B TWI338744 B TW I338744B
- Authority
- TW
- Taiwan
- Prior art keywords
- temperature
- suction mechanism
- time period
- scope
- pumping mechanism
- Prior art date
Links
- 230000006872 improvement Effects 0.000 title description 2
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims abstract description 38
- 239000013618 particulate matter Substances 0.000 claims abstract description 8
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 claims abstract description 7
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 claims abstract description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 30
- 238000013022 venting Methods 0.000 claims 2
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 claims 1
- 238000005086 pumping Methods 0.000 abstract description 7
- 239000000843 powder Substances 0.000 abstract description 6
- 238000005056 compaction Methods 0.000 abstract description 2
- 238000010926 purge Methods 0.000 abstract description 2
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 abstract 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 6
- 206010036790 Productive cough Diseases 0.000 description 4
- 239000003344 environmental pollutant Substances 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 231100000719 pollutant Toxicity 0.000 description 4
- 230000008569 process Effects 0.000 description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 4
- 210000003802 sputum Anatomy 0.000 description 4
- 208000024794 sputum Diseases 0.000 description 4
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 2
- 238000004590 computer program Methods 0.000 description 2
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 2
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 2
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 2
- 230000008520 organization Effects 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 2
- 206010011469 Crying Diseases 0.000 description 1
- 235000009827 Prunus armeniaca Nutrition 0.000 description 1
- 244000018633 Prunus armeniaca Species 0.000 description 1
- 210000004556 brain Anatomy 0.000 description 1
- 210000000078 claw Anatomy 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 210000003298 dental enamel Anatomy 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 1
- 235000012054 meals Nutrition 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 239000002689 soil Substances 0.000 description 1
- 238000001356 surgical procedure Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04B—POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS
- F04B49/00—Control, e.g. of pump delivery, or pump pressure of, or safety measures for, machines, pumps, or pumping installations, not otherwise provided for, or of interest apart from, groups F04B1/00 - F04B47/00
- F04B49/06—Control using electricity
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04C—ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
- F04C28/00—Control of, monitoring of, or safety arrangements for, pumps or pumping installations specially adapted for elastic fluids
- F04C28/28—Safety arrangements; Monitoring
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04C—ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
- F04C28/00—Control of, monitoring of, or safety arrangements for, pumps or pumping installations specially adapted for elastic fluids
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04C—ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
- F04C29/00—Component parts, details or accessories of pumps or pumping installations, not provided for in groups F04C18/00 - F04C28/00
- F04C29/0092—Removing solid or liquid contaminants from the gas under pumping, e.g. by filtering or deposition; Purging; Scrubbing; Cleaning
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04D—NON-POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
- F04D19/00—Axial-flow pumps
- F04D19/02—Multi-stage pumps
- F04D19/04—Multi-stage pumps specially adapted to the production of a high vacuum, e.g. molecular pumps
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04C—ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
- F04C2220/00—Application
- F04C2220/10—Vacuum
- F04C2220/12—Dry running
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04C—ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
- F04C2270/00—Control; Monitoring or safety arrangements
- F04C2270/19—Temperature
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Applications Or Details Of Rotary Compressors (AREA)
- Control Of Positive-Displacement Pumps (AREA)
- Compressors, Vaccum Pumps And Other Relevant Systems (AREA)
- Rotary Pumps (AREA)
- Non-Positive Displacement Air Blowers (AREA)
- Medicines Containing Material From Animals Or Micro-Organisms (AREA)
- Structures Of Non-Positive Displacement Pumps (AREA)
- Control Of Non-Positive-Displacement Pumps (AREA)
Description
1338744 玖、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於乾式.¾ ^ . 式泵,特疋言之,係關於從 理微粒污垢。 祀Λ泵上々 【先前技術】 乾式系一般包括非技jjg , 丢斶、自動以閥調節之機構,及在嗲 排吸機構裏沒有油戋:聞况叫. 及在通 ,^ v . ― °這些聚之部件製造成且有很 小的公差,以在部件 一 5瓜 + 間扶供固定之轉動間隙及減小摩摔力 或其他反作用力,這此力会# , i,石德 丁 U'力 二 ^,咸小孩泵機構之效率。誃養遂 用在許多製造業應用中,1由、. 人7 、. 纟中之一王要之製造業應用係半 彳體製造。該栗用來提供用 不权供用以ϋ造问扣質之半導體產品所 必須之非常清潔之、接近直允、Ρ 祛近真芏又柘境。熟悉此項技術者無 疑將會熟杏乾式泵技術其他常見之應用。 包括該半導體業在内之許多產業4造出微粒或粉末狀 厝棄物或者副產品’該副產品等藉由泵(如本發明所涉及之 乾式泵)從製造環境中收回。在該半導體業十,生產線一般g 一天運轉二十四小時,於是,在此應用場合下所使用之乾v 式泵一直在連續使用,除非生產線需要換線或維護或修理 該泵。該泵有一入口清除功能用,停機時以從該泵機構排 出〉亏染物’但是這些清除功能很少能起到百分之百之效果 ,一定量之微粒污染物總是殘留在該泵内。 在半導體生產線中’乾式泵之運行溫度一般大約為丨2〇 攝氏度’當關閉該泵’其就冷卻到正常之室溫(大約丨9攝氏 度)’這些部件(如該泵機構内轉子及定子)就收縮,從而減 1338744 小]匕:〈問〈連行間丨错’在該機構内所有存在,”.… 染物就壓緊在該收输之部件㈤。重新起T,心/7 緊在該部件間之這些微粒物質之存在所丄::::壓 須之轉矩,高於該泵運行之轉矩 r汁必 【發明内容】 ;疋各生了起動失敗。 、J十。1 %文叮间陈,儘可能^ 壓緊之微:污染物而導致之重新起動失敗之發生率 依…第方面,本發明提供一乾式系裝置包括 一排吸機構, 一控制器用以控浩,丨# M w u制该排吸機構之運行,及一感測器用以 成測該排吸機構之工你^ 心 工作,皿度,其中該控制器設定為執行一 自動停工程序,其包括下面步驟: a)停止該排吸機構之運行 b) 藉由該溫度感測器監測該排吸機構之溫度
c) 在土:> 一個預先選擇之溫度間隔中,開始運行該排吸 機構#又固A S争間周|月,以便清除一丨比例存在之污染物 微心物貝’直到達到一預定溫度或經過了一段預先定義之 時限。 Θ脈衝式 < 清除方法藉由該乾式泵裝置之控制器來實現 及方法能夠在該泵冷卻時從該泵排出少量污染物,所以 田Θ叙置冷卻到周圍環境溫度時,在該排吸機構内之微粒 '了木物就比本來會有之污染物少得多。於是,該微粒物質 '〜麼壓緊’起動要克服之摩檫力也將小得多。因此,發 生重新起動失敗之機率大大減少。 應瞭解這種脈衝式之停機方法係在先前技術乾式泵之 功能中提供之技術改良。 因此’在一第二方面,本發明提供一種方法用以減少— 乾式聚重新起動失敗之發生率,其包括這些步驟: a) 探測該排吸機構是否停止工作 b) 停止工作後監測該排吸機構之溫度 c) 在至少一個預先選擇之溫度間隔中,開始運行該排吸 機構-段固定時間周期’以便清除一定比例存在之污染物 微粒物貝’直到達到一預定溫度或經過了一段預先定義之· 時限。 該乾式泵裝置之控制器可 益可以具體化為一台電腦, 腦軟體使其程式化,其中, 就使之執行上面提及之方法 以包含一微處理器,該微處理 該電腦接著可選擇性地藉由電 當該軟體安裝在該電腦上時, 之步驟a)至c)。 仏 币二万 , σ 』万;一黾腦CTJ仕八, 當Η程式安裝在該電 € 、 ^ 了 忧之執仃该万法之步驟 a) 探測該排吸機構是否停止運行 b) 停止運行後監測該排吸機構之溫度 c) 在至少一個預先選擇 、九k擇心,皿度間隔中,開始運 泵一段固定時間周期, ° 以便π除一疋比例存在之 粒物質,直到读钊 a τ术 限。 又1..工過了 一段預先定義 在一第四方面 裝載一電腦程式 1明包含一電腦易讀之載體媒體,其 ”中田忒私式安裝在一台電腦上時,使 1338744 之執行該方法之步,¾ ; a) 探測該排吸機構是否停止運行 b) 停止運行後監測該排吸機構之溫度 C) y個頂先選擇之溫度間隔中,開始運行該乾式 篆一段固定時間周期,以便清除—定比例存在之污染物微 粒物質’直到達到一預定溫度或經過了一段預先定義之時 限。 該載體媒體可以從軟碟、央雄 九碟、迷你磁碟或數位磁帶中 選擇’但疋不僅僅侷限於它們。 在一較佳選項中’該脈衝式之 機万法係在與該泵裝置 之内邰溫度規則下降相適岸之,.ra庳ρ目 牛W週愿疋咖度間隔下執行。—供參考 之溫度下降間隔為丨0度,然而 / 4疋必須的。蓀間隔同樣 地可以係2度、30度或它們之間 任何值。可以根據冷卻條 件' 可供脈衝式停機過程使用之 ' 、 仗用 < 時間長短或其他因素來選 擇適當之溫度間隔。也 尤、先埯擇較不規則之溫度間隔 。例如,在該冷卻期之初始階段可w π # > > .、土 .. 又J以廷擇許多短間隔(如2 度)’南孩裝置接近預先定義之•,冷 w P ,皿度時孩溫度間隔逐 漸增大。 該脈衝之固定時間周期也係可 廿^伞砍 又的且根據冷卻條件或 其他貧際因素來主觀選擇。建嘹 如,刀A 幸“’固疋時間周期為15至45 秒’認為大約30秒時較實際。對备 頂先選擇之溫度間隔 •^口疋時間周期可以係相同的, l叮以係不同的。例如, 在較低溫度下’該周期可以转嶠 待‘,相對較長時間。 藉由該裝置達到一預先定義之,、 ^ σ卩;皿度(如通常之室 «;
V 1338744 溫)來控制該脈衝持續之時間。 p, rr 或者,也可以不管該冷卻時 N木執仃吟乃法—固定時 1持續時n 。,、。在涊後—種情況下’建 4狩π呻間為大約2小時 、 在哕f捭# 仁亚不疋必須這樣。 在作之每—固定時間 可以貫現-次單獨之入口清除功能。 措由仏心 在一些具體實施例中,本一 , 35 丁'、先確疋之溫度或一予S券宁 義之時限中的第—個已唾 度戍I、先疋 μ ^ U 達到時,可將該控制器設定成欲 止该脈衝式停工方法。 夂、..、 έ亥乾式泵裝置可以係体 二.· 何已知之形式,但是一較佳^ 式為一包括一爪式轉子之— _ 〜^ 乾式泵。這種形式之乾式今 在先W技術中已為吾人所, 泵 ,兮每間而$足,它們包括一對軸 鑣 釉支撐—對爪形轉子,這些轉子沿相反之方向轉 ^在母對爪對之間抽吸及壓縮沿該軸軸線方向上说動之 氣體。在該軸每-整轉期間,首先打開每對爪對之入口, 接著隔離開該入口和出口,最後打開該出口以允許排出所 抽吸 < 氣體。在這些設計中,該控制器控制該軸之轉動。 由於許多現有之乾式泵裝置包括一控制器,該控制器運 仃权體來操作該泵,可以藉由上載本發明之電腦程式到該 見有之fe制态來很方便地實現本發明。於是該控制能設定 成自動停工來執行本發明之脈衝式之停機方法。 【贯施方式】 圖1示意性地表示一乾式泵裝置1之排吸機構,該裝置具 有—驅動一對轴1 a、丨b之驅動單元D,每一細支撐一定子s a Sb和一轉子Ra、Rb。圖丨(a)、1 (b)及1 (c)表示該排吸機構 如ir, -II)- 1338744 之一轉子R和一定子S間之關隙。圖丨(a)表示在該杲正常運 轉溫度下該轉子R和定子S間之排列。該定予S和轉子r問運 轉間隙如di所示。如圖丨(b)所示’當該裝置冷卻時,由於支 撐該定子S和轉子R之軸收縮使運轉間隙d2減小。如圖丨(c) 所示’粉末P可能已經聚集在該定子S之表面上,該粉末在 該定子S和轉子R之間縮小之間隙中能變得壓緊。該壓緊造 成一摩擦力’在重新起動該裝置時,如果該轉子尺要轉動, .说要藉由該轉子克服該摩擦力。如果不能給該轉子R提供足 夠之轉矩來克服該摩擦力,就會發生起動失敗。 圖2順序表示(圖'•(&)至(f)) 一定子s和轉子R從運轉溫度(圖 2(a))逐漸冷卻到較低之溫度(圖2(b)_2(f))。在圖2(&)至2(幻 之每一圖中,可以看到有一固定粉末層p固定在該定子S之 表面上。也應 >主意的是當該裝置之溫度下降時該定子S和轉 子R之間間隙逐漸減小。在圖2(b)和2(e)、2(c)和叩)及2(〇) 和2(f)之間’該泵暫時起動從而排出了—部分該粉末p。於 是當達到最終之冷卻溫度時(圖2(f)),該粉末量係最小限度 ,而不足以在重新起動時產生阻止該轉子轉矩之巨大之相 反力。於疋重祈起動時發生起動失敗可能性減小。 圖3表示本《明之脈衝式之停機方法之—時間線。正如看 到的’如㈣線所示把該脈衝程序串聯在U該栗聯 合之-輔助泵可以設定成在開始停工後運轉一短暫時間, 從而有助於除去兮爷4办二 -系掩構内粉末狀污染物,來減少當該排
吸機構不運轉時固;产 A U疋在涊疋子上之最初污染物量。正如 該圖之頂部線所能臺 叱看到的,停工後,該泵保持起動狀態大 -II - 约30秒’接著當由該控制哭β 到正常工什”丁,。· 峨機構之内部溫度下降 止^工作溫度卜丨0度(攝氏戶 ί \ 丁 , η · & )通7^τ止起動一段時期 (△T=l〇度)。當該周期結 』 仅ϋ〆 使β泵再起動30秒,接著再 保持ίτ止起動直到該監測到 一卞士γ + .. 又溫度再1降丨〇度。整個過程 一谈直到忒Si測到之溫度為 為40知氏度’或者從開始該 裣序已經經歷了兩個小時時間。 圖4以圖表形式表示圖3乏女 .χ 又万法。垂直輛對應於該排吸機 構c測溫度,水平轴對應於經過之時間。粗黑曲線表示 逐;祈下降之監測溫度。較細之脈衝線表示在冷卻過程中該 排吸機構之起動及停止周期。 ,瞭解前_面所述之僅代表本發明纟少數幾個I體實施例 a練之使用者在不脫離本發明之真實範圍情況下無疑會 心丨本务·明之其餘具體實施例,該發明之真實範圍到此將 由附加之專利申請範圍定義。 【圖式簡單說明】 為不例之目的’現在將參照附圖說明本發明之具體實施 例,其中: 圖1包括圖1 (a)、1 (b)及1 (C),表示本發明要處理之微粒污 染物問題, 圖 2 包括圖 2(a)、2(b)、2(c)、2(d)、2(e)及 2(f),表示本 餐明係如何影響圖1中表示之過程,圖丨包括圖丨(a)、丨(b) 及 1 (c), 圖3以一時間線之格式表示本發明之方法 固4以圖衣形式表示本發明之方法° 1338744 【圖式代表符號說明】 I a 伞山 lb 軸 Ra 轉子 Rb 轉子 Sa 定子 Sb 定子 D 驅動單元 P 粉末 R 轉子 S 定子 S.S356
Claims (1)
1338744 第092128545號專利申請案 中文申請專利範圍替換本(99年12) 拾、申請專利範園: i. 一種乾式泵裝置,其包括: 一排吸機構, 一控制器用以控制該排吸機構之運行,及一感娜器用 以感測該排吸機構之作業溫度,其中該控制器設定為執 行一自動停工程序,其包括下面步驟; a) 停止該排吸機構運行 b) 藉由該感測器監測該排吸機構之溫度 )在至/個預先選擇之溫度間隔中,開始運行 該排吸機構一段固定時間周期,以便清除一部份: 在之污染物微粒物質,直到達到—預定溫度或經過 了一段預先定義之時限。 2. 根據申請專利範圍第丨項之 包括-微處理I!。 裝置其巾該控制器 88356-991ll3.doc 1338744 b) 停止運行後監測該排吸機構之溫度 c) 在至少一個預先選擇之溫度間隔中,開始運行該 排吸機構一段固定時間周期,以便清除一部份存在之污 木物微粒物質,直到達到一預定溫度或經過了一段預先 定義之時限。 7. 根據申請專利範圍第6項之方法,其中在預先選擇之溫 度間隔下執行步驟c),該溫度間隔相應於該排吸機構之 監測溫度之規則下降。
8. 根據申請專利範圍第7項之方法,其中該規則下降間隔 係1 0攝氏度。 9. 根據申請專利範圍第6至8項之任一項之方法,其中該固 定時間周期在1 5到45秒之間(包括丨5秒或45秒)。 1〇·根據申請專利範圍第6至8項之任一項之方法其中該固 定時間周期對於每一預先選定之溫度間隔係相同的。 1 1.根據申請專利範圍第1〇項之方法,其中該固定時間周期 係3 0秒。 12.根據申請專利範圍第6至8項之任一項之方法其中該固 定時間周期對於每-預先選定之溫度間隔係不同的。 根據申請專利範圍第6至8項之任一項之方法,其中該方 法執行一段預先定義之時限。 根據申請專利範圍第13項之方法,其中該預先定義之時 限係從停止運行起2小時。 15•根據中請專利範圍第⑴項之任—項之方法其中於該 系機構工作之每一固定時間周期之結束時,藉由該控制 88356-991113.doc 16U38744 益達到一單獨之入口清除功能。 根據申清專利範圍第ό至8項之任一項之 預先確定之·、®疮+ Λ. 、 方去,其中當__ 磾疋之,皿度或一預先定義之時限令的堂 田 時就停止該方法。 、第一個達到 17. 式安裝在一台雷fμ主 电1^王式,當該寿J 电知上時,使該電腦執行申 6至8項之任-項之方法。 了^專利範圍第 18. 根據申請專利範圍第 該媒體係選自一軟碟 之任一者。 17項之電腦可讀之載體媒體,其中 、-光碟 '-迷你磁碟及數位磁帶 88356-991113.doc
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
GBGB0224709.6A GB0224709D0 (en) | 2002-10-24 | 2002-10-24 | Improvements in dry pumps |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW200417691A TW200417691A (en) | 2004-09-16 |
TWI338744B true TWI338744B (en) | 2011-03-11 |
Family
ID=9946464
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW092128545A TWI338744B (en) | 2002-10-24 | 2003-10-15 | Improvements in dry pumps |
Country Status (11)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8398376B2 (zh) |
EP (1) | EP1556614B1 (zh) |
JP (1) | JP4359240B2 (zh) |
KR (1) | KR100983747B1 (zh) |
CN (1) | CN100408854C (zh) |
AT (1) | ATE345444T1 (zh) |
AU (1) | AU2003267611A1 (zh) |
DE (1) | DE60309734T2 (zh) |
GB (1) | GB0224709D0 (zh) |
TW (1) | TWI338744B (zh) |
WO (1) | WO2004038222A1 (zh) |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4987660B2 (ja) | 2007-10-12 | 2012-07-25 | 株式会社荏原製作所 | 真空ポンプの運転制御装置及び運転停止方法 |
DE102011088974A1 (de) * | 2011-12-19 | 2013-06-20 | Continental Automotive Gmbh | Verfahren zur Anlaufsteuerung einer elektrischen Unterdruckpumpe |
BR112017014960B1 (pt) * | 2015-01-15 | 2022-10-04 | Atlas Copco Airpower, Naamloze Vennootschap | Método para regular a temperatura em um canal de saída, controlador para controlar o fornecimento de um gás de purga em um canal de entrada, bomba de vácuo e uso de um controlador |
EP4027016A1 (en) * | 2015-01-15 | 2022-07-13 | ATLAS COPCO AIRPOWER, naamloze vennootschap | Method for controlling the speed of a compressor/vacuum pump |
BE1023207B1 (nl) * | 2015-01-15 | 2016-12-21 | Atlas Copco Airpower Naamloze Vennootschap | Werkwijze voor het regelen van een gastoevoer naar een vacuümpomp |
GB2553374B (en) | 2016-09-06 | 2021-05-12 | Edwards Ltd | Temperature sensor for a high speed rotating machine |
JP7141332B2 (ja) * | 2018-12-28 | 2022-09-22 | 株式会社荏原製作所 | 真空ポンプ装置 |
GB2588890A (en) | 2019-10-24 | 2021-05-19 | Edwards Ltd | Sensor assembly |
GB2602625B (en) | 2020-12-15 | 2023-05-31 | Edwards S R O | Method for stopping a vacuum pump |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2537696B2 (ja) | 1990-09-21 | 1996-09-25 | 株式会社荏原製作所 | 多段真空ポンプ |
GB9222227D0 (en) | 1992-10-22 | 1992-12-02 | Boc Group Plc | Improvements in vacuum pumps |
US5443644A (en) | 1994-03-15 | 1995-08-22 | Kashiyama Industry Co., Ltd. | Gas exhaust system and pump cleaning system for a semiconductor manufacturing apparatus |
US5713724A (en) | 1994-11-23 | 1998-02-03 | Coltec Industries Inc. | System and methods for controlling rotary screw compressors |
JP3550465B2 (ja) * | 1996-08-30 | 2004-08-04 | 株式会社日立製作所 | ターボ真空ポンプ及びその運転方法 |
JPH11204508A (ja) * | 1998-01-09 | 1999-07-30 | Toshiba Corp | 半導体装置の製造方法及び半導体製造装置 |
EP1065381A4 (en) * | 1998-02-09 | 2007-01-10 | Ebara Corp | displacement |
US6116032A (en) | 1999-01-12 | 2000-09-12 | Applied Materials, Inc. | Method for reducing particulate generation from regeneration of cryogenic vacuum pumps |
US6596123B1 (en) | 2000-01-28 | 2003-07-22 | Applied Materials, Inc. | Method and apparatus for cleaning a semiconductor wafer processing system |
JP2001342950A (ja) * | 2000-06-01 | 2001-12-14 | Ebara Corp | 真空ドライポンプ及びトラップ方法 |
EP1540185B1 (en) * | 2002-08-20 | 2013-02-13 | Ebara Corporation | Vacuum pump and method of starting the same |
EP1684014A1 (en) * | 2004-12-01 | 2006-07-26 | Riello S.p.a. | Method of controlling operation of a liquid-fuel combustion appliance |
-
2002
- 2002-10-24 GB GBGB0224709.6A patent/GB0224709D0/en not_active Ceased
-
2003
- 2003-09-24 JP JP2004546135A patent/JP4359240B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 2003-09-24 KR KR1020057007033A patent/KR100983747B1/ko active IP Right Grant
- 2003-09-24 DE DE60309734T patent/DE60309734T2/de not_active Expired - Lifetime
- 2003-09-24 WO PCT/GB2003/004091 patent/WO2004038222A1/en active IP Right Grant
- 2003-09-24 US US10/532,275 patent/US8398376B2/en active Active
- 2003-09-24 EP EP03748302A patent/EP1556614B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2003-09-24 CN CNB038246236A patent/CN100408854C/zh not_active Expired - Lifetime
- 2003-09-24 AT AT03748302T patent/ATE345444T1/de not_active IP Right Cessation
- 2003-09-24 AU AU2003267611A patent/AU2003267611A1/en not_active Abandoned
- 2003-10-15 TW TW092128545A patent/TWI338744B/zh not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2006504033A (ja) | 2006-02-02 |
CN1688815A (zh) | 2005-10-26 |
DE60309734D1 (de) | 2006-12-28 |
AU2003267611A1 (en) | 2004-05-13 |
ATE345444T1 (de) | 2006-12-15 |
CN100408854C (zh) | 2008-08-06 |
JP4359240B2 (ja) | 2009-11-04 |
KR20050055033A (ko) | 2005-06-10 |
US20060099083A1 (en) | 2006-05-11 |
US8398376B2 (en) | 2013-03-19 |
EP1556614A1 (en) | 2005-07-27 |
GB0224709D0 (en) | 2002-12-04 |
KR100983747B1 (ko) | 2010-09-24 |
DE60309734T2 (de) | 2007-09-20 |
TW200417691A (en) | 2004-09-16 |
EP1556614B1 (en) | 2006-11-15 |
WO2004038222A1 (en) | 2004-05-06 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI338744B (en) | Improvements in dry pumps | |
US9072202B2 (en) | Systems and methods for cleaning filters of an electrical device | |
JP5062964B2 (ja) | 分子ポンプ | |
JP5254603B2 (ja) | 電動圧縮機の制御装置、電動圧縮機の起動制御方法 | |
TW200422521A (en) | Pump cleaning | |
JP2008298006A (ja) | 真空ポンプの制御方法 | |
JP2006504033A5 (zh) | ||
TWI318665B (en) | Positive-displacement vacuum pump and method of starting the same | |
JP4865455B2 (ja) | 回転式圧縮機 | |
KR101048811B1 (ko) | 기판 처리 장치에서의 팬 필터 유닛의 제어 장치 | |
US20220316481A1 (en) | Pump apparatus | |
CN100497947C (zh) | 带有清洗装置的旋转活塞真空泵及其处理泵内沉积物的方法 | |
JP5254173B2 (ja) | 真空ポンプ装置の運転制御装置、及び運転制御方法 | |
JP2009236000A (ja) | 空気圧縮機 | |
JP5947664B2 (ja) | 風量制御システムおよび排ガス処理システム | |
US20220184541A1 (en) | A particle protection device for a dehumidifier | |
JP5740985B2 (ja) | 遠心圧縮機 | |
JPH02236068A (ja) | 軸封装置 | |
JP2006125296A5 (zh) | ||
JPH10196586A (ja) | ターボ真空ポンプ | |
JP4983248B2 (ja) | 穀粒乾燥機の操作盤 | |
JP2015509569A (ja) | 改良されたポンプ装置およびそのポンプ装置の制御方法 | |
JP2018131967A (ja) | 情報処理装置、情報処理システム、情報処理方法及びプログラム | |
JP2001209250A (ja) | 現像液循環ポンプ,現像液循環ポンプのモーター制御方式,湿式画像形成装置および現像液循環ポンプのモーター制御方法 | |
JP2003328981A (ja) | ターボ分子ポンプシステム |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
MK4A | Expiration of patent term of an invention patent |