JP2008298006A - 真空ポンプの制御方法 - Google Patents

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Abstract

【課題】ポンプ運転時の排気効率を低下させること無く、且つ、ポンプ運転停止時の排気側からポンプ内への大気の急激な逆流を抑制することのできる真空ポンプの制御方法を提供する。
【解決手段】スクリューロータ3、10がハウジング4、11内に回転可能に収容され、前記スクリューロータ3、10を回転させるモータ26、28と該モータ26、28の動作制御を行なう制御手段36とが設けられた真空ポンプ1の制御方法であって、前記制御手段36は、ポンプ運転の停止命令を示す信号を受け取ると、前記スクリューロータ3、10の回転動作が停止するまでの間に、前記モータ26、28の回転数を段階的又は連続的に減少させる。
【選択図】図1

Description

本発明は、真空ポンプの制御方法に関し、特に半導体製造工程等の反応生成ガスを流す工程で使用するスクリューロータを備える真空ポンプであって、ポンプ運転停止時に排気側からの大気の急激な逆流を抑制する真空ポンプの制御方法に関する。
従来、スクリュー式の真空ポンプにあっては、排気停止時において、スクリューロータの回転を停止させるために、ロータ回転を駆動するモータが停止される。
しかしながら、モータの駆動を停止しスクリューロータの回転を停止させると、ポンプ内は大気圧に対して負圧状態であり、排気口からポンプ内へ急激に大気が逆流し、ポンプ内の排気室と、排気室とシールされた軸受部との間に差圧が生じ、軸受部に反応生成ガスが流入することにより、軸受に反応生成物が付着するという問題があった。
また、スクリューロータを用いた真空ポンプにあっては、ロータ回転を駆動するモータへの電源供給が停止されると、スクリューロータの回転はフリー状態、即ちブレーキが効かない状態となる。このため、ポンプ運転停止時に排気口からの大気の逆流が生じると、スクリューロータが逆回転し、排気側に付着している反応生成物等がポンプ内に流入しやすくなるという課題があった。
このような課題に対し特許文献1には、大気の逆流を防止するための騒音防止用逆止弁を応用して、排気口からの大気の逆流を防止する真空ポンプが開示されている。
特開平8−312561号公報
しかしながら、特許文献1に開示の真空ポンプのように、排気口に逆止弁を設けた構成の場合、ポンプ運転時に排気されるプロセスガスが常に逆止弁に当たるため、これが排気抵抗となり、ポンプ運転時の排気効率が低下するという課題があった。
本発明は、前記したような事情の下になされたものであり、ポンプ運転時の排気効率を低下させること無く、且つ、ポンプ運転停止時の排気側からポンプ内への大気の急激な逆流を抑制することのできる真空ポンプの制御方法を提供することを目的とする。
前記した課題を解決するために、本発明に係る真空ポンプの制御方法は、スクリューロータがハウジング内に回転可能に収容され、前記スクリューロータを回転させるモータと該モータの動作制御を行なう制御手段とが設けられた真空ポンプの制御方法であって、前記制御手段は、ポンプ運転の停止命令を示す信号を受け取ると、前記スクリューロータの回転動作が停止するまでの間に、前記モータの回転数を段階的又は連続的に減少させることに特徴を有する。
また、前記制御手段は、ポンプ運転の停止命令を示す信号を受け取ると、前記スクリューロータの回転数が所定の回転数に達するまで、前記モータの回転数を段階的又は連続的に減少させることが望ましい。
尚、ここで段階的とは、モータの回転数をステップ状に徐々に変化させることであり、連続的とは、モータの回転数を絶え間なく徐々に変化させることである。
また、モータの回転数の検出は、エンコーダ等を用いて直接検出してもよいし、モータの電流値または消費電力で換算してもよい。
このような制御方法によれば、真空ポンプのスクリューロータの回転数が段階的又は連続的に減少させられるため、ポンプ内の気圧は緩やかに上昇し、ポンプ運転停止時における排気側からの大気の急激な逆流は発生しない。また、スクリューロータが逆回転することもない。
したがって、従来のようにポンプ内の排気室と、排気室とシールされた軸受部との間に差圧が生じ、軸受部に反応生成ガスが流入することにより、軸受に反応生成物が付着することや、排気口側に付着している反応生成物がポンプ内に流入することなく、ポンプ運転を停止させることができる。
また、真空ポンプの排気側に逆止弁を設ける構成ではないため、ポンプ運転時における排気抵抗がなく、排気効率を低下させずにポンプ運転を行なうことができる。
また、前記制御手段は、前記スクリューロータの回転数が所定の回転数に達した後、前記真空ポンプのプロセスガス流路に設けられた圧力検出手段が検出した気圧が所定の気圧値に達するまでの間、前記スクリューロータを前記所定の回転数以下で回転駆動させることが望ましい。
また、前記制御手段は、前記圧力検出手段が検出した気圧が所定の気圧値に達した後、前記モータの駆動を停止させることが望ましい。
このような制御によれば、ポンプ吸気側の気圧が所定値になるまでスクリューロータを低速運転できるため、ポンプ内(チャンバ内)における気圧の大気圧への復帰を緩やかにし、急激な気圧変化を防止することができる。
また、前記制御手段は、前記圧力検出手段が検出した気圧が大気圧となるまで、前記モータの回転数を0rpmに維持する制御を行なうことが望ましい。
このような制御、即ちモータの回転にブレーキを掛けることにより、スクリューロータの逆回転を確実に防止することができる。
或いは、前記制御手段は、前記スクリューロータの回転数が所定の回転数に達した後、前記ポンプ運転の停止命令を示す信号を受け取ってからの経過時間が所定時間に達するまでの間、前記スクリューロータを前記所定の回転数以下で回転駆動させてもよい。
また、その際、前記制御手段は、前記ポンプ運転の停止命令を示す信号を受け取ってからの経過時間が所定時間に達した後、さらに所定時間の間、前記モータの回転数を0rpmに維持する制御を行ない、前記モータの駆動を停止させてもよい。
このように制御することによっても、ポンプ運転の停止処理か開始されてから所定の経過時間の間、スクリューロータを低速運転できるため、ポンプ内(チャンバ内)における気圧の大気圧への復帰を緩やかにし、急激な気圧変化を防止することができる。
本発明によれば、ポンプ運転時の排気効率を低下させること無く、且つ、ポンプ運転停止時の排気側からポンプ内への大気の急激な逆流を抑制することのできる真空ポンプの制御方法を得ることができる。
以下、本発明に係る真空ポンプの制御方法の実施の形態について図面に基づき説明する。図1は本発明に係る制御方法を実施することのできる真空ポンプ1の構成を模式的に示す断面図である。
図示するように、この真空ポンプ1は2段ポンプで構成される。真空ポンプ1は、筐体2内に収容された上流側の真空ポンプBPと下流側の真空ポンプMPとからなる。
真空ポンプBPは、一対のスクリューロータ3を備え、この一対のスクリューロータ3はハウジング4の内部に収納されている。そして、前記ハウジング4の上端面及び下端面は、上端板5及び下端板6によって封止されている。尚、図1にあっては、スクリューロータ3の一方側のみを図示している。
また、前記一対のスクリューロータ3とハウジング4によって作動室7が形成される。この作動室7には吸気口8からプロセスガス(反応生成ガス)が導入され、前記一対のスクリューロータ3の回転に伴い、前記作動室7内のプロセスガスは、必要に応じて移送と圧縮工程を経て、排気口9から排気されるようになされている。
一方、真空ポンプMPは、一対のスクリューロータ10を備え、このスクリューロータ10はハウジング11の内部に収納されている。ハウジング11の上端面及び下端面は、上端板12及び下端板13によって封止されている。尚、図1にあっては、スクリューロータ10の一方側のみを図示している。
また、前記一対のスクリューロータ10とハウジング11によって作動室14が形成される。この作動室14には真空ポンプBPの排気口9から排気されたプロセスガスが吸気口15から導入される。そして、前記一対のスクリューロータ10の回転に伴い、前記作動室14内のプロセスガスは、移送と必要に応じて圧縮がなされ、排気口16から排気されるように構成されている。
前記真空ポンプBPにおける一対のスクリューロータ3は、上端板5及び下端板6に設けられた軸受17、18によって、ハウジング4に対して回転可能に支持されている。同様に、前記真空ポンプMPにおける一対のスクリューロータ10は、上端板12及び下端板13に設けられた軸受19、20によって、ハウジング11に対して回転可能に支持されている。
また、前記真空ポンプBPにおいて軸受17、18の近傍に設けられた軸シール21、22は、軸受17、18とハウジング4内の作動室7を隔離し、軸受17、18の潤滑油がハウジング4内に漏洩するのを防止すると共に、ハウジング4の作動室7から軸受17、18に、プロセスガスや反応生成物等の異物が侵入することを防止している。
同様に、前記真空ポンプMPにおいて軸受19、20の近傍に設けられた軸シール23、24は、軸受19、20とハウジング11内の作動室14を隔離し、軸受19、20の潤滑油がハウジング11内に漏洩するのを防止すると共に、ハウジング11の作動室14から軸受19、20に、プロセスガスや反応生成物等の異物が侵入することを防止している。
また、真空ポンプBPにおいて、スクリューロータ3の一端部には、タイミングギア25が設けられ、図示していない他のスクリューロータの一端部に設けられた(紙面に対しタイミングギア25の奥側の)タイミングギアと互いに噛み合うように構成されている。さらに、スクリューロータ3の他端部には、モータ26が一体的に連結され、スクリューロータ3の回転に伴って、タイミングギア25に噛み合うタイミングギアに連結された、図示していない他のスクリューロータ(紙面に対しスクリューロータ3の奥側のスクリューロータ)が回転するように構成されている。
また、真空ポンプBPと同様に、真空ポンプMPにおいて、スクリューロータ10の一端部には、タイミングギア27が設けられ、図示していない他のスクリューロータの一端部に設けられた(紙面に対しタイミングギア27の奥側の)タイミングギアと互いに噛み合うように構成されている。さらに、スクリューロータ10の他端部には、モータ28が一体的に連結され、スクリューロータ10の回転に伴って、タイミングギア27に噛み合うタイミングギアに連結された、図示していない他のスクリューロータ(紙面に対しスクリューロータ10の奥側のスクリューロータ)が回転するように構成されている。
尚、真空ポンプBP並びに真空ポンプMPにおいて、モータ26、28としては、モータのロータ部が密閉されたキャンドモータが用いられるのが好ましい。また、前記タイミングギア25、27が収納されるギア室29、30の底部には、潤滑油31が貯溜され、ポンプ(図示せず)により軸受とタイミングギア25、27に供給されている。
次に、真空ポンプBPにおけるハウジング4の上端板5及び下端板6、並びに、真空ポンプMPにおけるハウジング11の上端板12及び下端板13に形成された不活性ガスの流通路について説明する。
真空ポンプBPにおいて、上端板5の側面から軸受17と軸シール21との間には、不活性ガス流通路5aが形成されている。そして、不活性ガス流通路5aを介して、軸受17と軸シール21との間に不活性ガスが供給されるようになされている。また、下端板6の側面から軸受18と軸シール22との間には、不活性ガス流通路6aが形成され、この不活性ガス流通路6aに不活性ガスが供給されるようになされている。
一方、真空ポンプMPにおいて、上端板12の側面から軸受19と軸シール23との間には、不活性ガス流通路12aが形成されている。そして、不活性ガス流通路12aを介して、軸受19と軸シール23との間に不活性ガスが供給されるようになされている。また、下端板13の側面から軸受20と軸シール24との間には、不活性ガス流通路13aが形成され、この不活性ガス流通路13aに不活性ガスが供給されるようになされている。
尚、真空ポンプBPにおける不活性ガス流通路5a、6aに加えて、スクリューロータ3の外周面に臨んで不活性ガス流通路を開口してもよい。また、スクリューロータ3の外周面と上端板5の間にシール部材(図示せず)を配置し、このシール部材の外周面に臨んで不活性ガス流通路を開口してもよく、或いは、スクリューロータ3の外周面と下端板6との間にシール部材(図示せず)を配置し、このシール部材の外周面に臨んで不活性ガス流通路を開口してもよい。
また、真空ポンプMPにおける不活性ガス流通路12a、13aに加えて、スクリューロータ10の外周面に臨んで不活性ガス流通路を開口してもよい。また、スクリューロータ10の外周面と上端板12の間にシール部材(図示せず)を配置し、このシール部材の外周面に臨んで不活性ガス流通路を開口してもよく、或いは、スクリューロータ3の外周面と下端板13との間にシール部材(図示せず)を配置し、このシール部材の外周面に臨んで不活性ガス流通路を開口してもよい。
このように、真空ポンプBP、MPにおいては、不活性ガス流通路5a、6a、12a、13aを介して、不活性ガスがスクリューロータ3、10の外周方向に供給されるため、軸受17、18側と作動室7側との間、並びに軸受19、20側と作動室14との間を分離することができ、反応生成ガス(プロセスガス)あるいは反応生成ガスにより生成される生成物が軸受側に侵入するのを抑制することができる。また、反応生成ガスが希釈されるので、反応生成物を抑制することができる。
尚、以下の説明においては、不活性ガス流通路5a、6a、12a、13aに対し、ポンプ動作中に供給される不活性ガスのことをシールガスと呼び、ポンプ動作停止中に供給される不活性ガスのことをストップパージガスと呼ぶ。
また、真空ポンプ1において、プロセスガス流路である真空ポンプBPの吸気口8側には、図示しないチャンバから真空ポンプ1に吸引されるプロセスガスの圧力を検出する圧力センサ35(圧力検出手段)が設けられ、この圧力センサ35が検出した圧力値はコントローラ36(制御手段)に供給される。コントローラ36は、真空ポンプBPのモータ26及び真空ポンプMPのモータ28の動作回転数を制御することができ、圧力センサ35によって検出された圧力値に基づき、真空ポンプBPにおけるスクリューロータ3と、真空ポンプMPにおけるスクリューロータ10の回転動作を制御するように構成されている。
尚、2段式ポンプである真空ポンプ1の場合、圧力センサ35は、真空ポンプBPの吸気側の配置に限定されるものではなく、プロセスガス流路である真空ポンプBPの排気側、中間配管、真空ポンプMPの吸気側のいずれの位置に配置してもよい。
続いて、このように構成された真空ポンプ1におけるポンプ運転中から運転停止に至るまでの真空ポンプ1の制御方法について図2のフローに基づき説明する。
ポンプ運転中の状態から(図2のステップS1)、ポンプ運転の停止命令を示す信号を発するためのストップキーが押下されると(図2のステップS2)、真空ポンプBPに対しては(図2のステップS3)、例えば5000rpmの回転数で動作していた真空ポンプBPのモータ26の回転数が段階的又は連続的に減少させられる(図2のステップS4)。また、軸受17、18側に、シールガスに換えてストップパージガスが供給開始される。これにより、排気室内よりも軸受側の圧力が高くなり、反応生成ガスの軸受側への流入が抑制される。
真空ポンプBPのモータ26の回転数が設定値(例えば200rpm)になると(図2のステップS5)、圧力センサ35の検出結果、即ち、真空ポンプ1の吸気側における気圧が設定値(例えば、80,000Pa)以上となるまで(図2のステップS7)、モータ26の回転数(例えば200rpm)を維持した状態でスクリューロータ3の回転駆動(低速回転)がなされる(図2のステップS6)。
真空ポンプBPの低速回転駆動がなされた状態で、吸気側の気圧が設定値(例えば、80,000Pa)以上に達すると(図2のステップS7)、真空ポンプBPのモータ26の駆動が停止される(図2のステップS12)。
一方、真空ポンプMPに対しては(図2のステップS3)、例えば5000rpmの回転数で動作していた真空ポンプMPのモータ28の回転数が段階的又は連続的に減少させられる(図2のステップS8)。また、軸受19と、必要に応じて軸受20側に、シールガスに換えてストップパージガスが供給開始される。
真空ポンプMPのモータ28の回転数が設定値(例えば300rpm)になると(図2のステップS9)、圧力センサ35の検出結果、即ち、真空ポンプ1の吸気側における気圧が設定値(例えば、90,000Pa)以上となるまで(図2のステップS11)、モータ28の回転数(例えば300rpm)を維持した状態でスクリューロータ10の回転駆動(低速回転)がなされる(図2のステップS10)。
真空ポンプMPの低速回転駆動がなされた状態で、吸気側の気圧が設定値(例えば、90,000Pa)以上に達すると(図2のステップS11)、真空ポンプMPのモータ28の駆動が停止される(図2のステップS12)。
尚、真空ポンプBP及びMPにおけるモータ回転数及び気圧の設定については前記した例に限定されるものではないが、真空ポンプMPは排気側が大気圧であって吸気側との差圧が大きいので、真空ポンプBPよりもモータ回転数を高くすることによって、大気がポンプ内に入り難くするほうが好ましい。また、ポンプ停止を制御するための気圧の設定値も、真空ポンプBPよりも真空ポンプMPを高く設定するほうが好ましい。
このようにして真空ポンプBP及び真空ポンプMPにおけるモータ26、28の回転数が0rpmとなされると、コントローラ36は、圧力センサ35の検出結果により真空ポンプ1の吸気側における気圧が大気圧であるかを判断し(図2のステップS13)、大気圧となるまで軸受17、18、19、20側にストップパージガスを供給すると共に、モータ26、28の回転数を0rpmに維持し、その後、ポンプ運転が停止完了となされる(図2のステップS14)。
以上のようなステップを踏む制御によれば、真空ポンプ1の吸気側のプロセスガスの圧力値に基づき、真空ポンプBPのスクリューロータ3と真空ポンプMPのスクリューロータ10の回転数が段階的又は連続的に減少させられ、これにより真空ポンプBP、MP内の気圧は緩やかに大気圧まで上昇する。
このため、ポンプ運転停止時における排気側からの大気の急激な逆流は発生せず、スクリューロータが逆回転することもない。
したがって、従来のように逆流した大気による汚染や、排気口側に付着している反応生成物がポンプ内に流入することなく、ポンプ運転を停止させることができる。
また、真空ポンプ1の排気側に逆止弁を設ける構成ではないため、ポンプ運転時における排気抵抗がなく、排気効率を低下させずにポンプ運転を行なうことができる。
尚、図2に示したフローにおいては、真空ポンプ1の吸気側におけるプロセスガスの圧力変化に基づき、真空ポンプBP、MPにおけるモータ回転数を制御する例を示したが、制御プロセス間の経過時間に基づき、真空ポンプBP、MPにおけるモータ回転数を制御するようにしてもよい。
この経過時間に基づく制御について、図3のフローに基づき説明する。
ポンプ運転中の状態から(図3のステップST1)、ポンプ運転の停止命令を示す信号を発するためのストップキーが押下されると(図3のステップST2)、真空ポンプBPに対しては(図3のステップST3)、例えば5000rpmの回転数で動作していた真空ポンプBPのモータ26の回転数が段階的又は連続的に減少させられる(図3のステップST4)。また、軸受17、18側に、シールガスに換えてストップパージガスが供給開始される。
真空ポンプBPのモータ26の回転数が設定値(例えば200rpm)になると(図3のステップST5)、真空ポンプBPのロータ回転減速処理が開始されてからの経過時間が所定の設定時間(例えば5min)に達するまで(図3のステップST7)、モータ26の回転数(例えば200rpm)を維持した状態でスクリューロータ3の回転駆動(低速回転)がなされる(図3のステップST6)。
また、真空ポンプBPのロータ回転減速処理が開始されてからの経過時間が所定の設定時間(例えば5min)に達すると(図3のステップST7)、真空ポンプBPのモータ26の駆動が停止される(図3のステップST12)。
一方、真空ポンプMPに対しては(図3のステップST3)、例えば5000rpmの回転数で動作していた真空ポンプMPのモータ28の回転数が段階的又は連続的に減少させられる(図3のステップST8)。また、軸受19と、必要に応じて軸受20側に、シールガスに換えてストップパージガスが供給開始される。
真空ポンプMPのモータ28の回転数が設定値(例えば300rpm)になると(図3のステップST9)、真空ポンプMPのロータ回転減速処理が開始されてからの経過時間が所定の設定時間(例えば、5min)に達するまで(図3のステップST11)、モータ28の回転数(例えば300rpm)を維持した状態でスクリューロータ10の回転駆動(低速回転)がなされる(図3のステップST10)。
また、真空ポンプMPのロータ回転減速処理が開始されてからの経過時間が所定の設定時間(例えば、5min)に達すると(図3のステップST11)、真空ポンプMPのモータ28の駆動が停止される(図3のステップST12)。
尚、真空ポンプBP及びMPにおけるモータ回転数の設定及び経過時間の設定については、前記した例に限定されるものではないが、真空ポンプMPは排気側が大気圧であって吸気側との差圧が大きいので、真空ポンプBPよりもモータ回転数を高くすることによって、大気がポンプ内に入り難くするほうが好ましい。また、ポンプ停止を制御するための設定時間も、真空ポンプBPよりも真空ポンプMPを長く設定するほうが好ましい。
そして、前記モータ26、28の回転を停止してからの経過時間が所定の設定時間(例えば5min)に達するまで軸受17、18、19、20側へストップパージガスが供給される(図3のステップST13、14)。
以上のようなステップを踏む制御によれば、所定の経過時間に基づき、真空ポンプBPのスクリューロータ3と真空ポンプMPのスクリューロータ10の回転数が段階的又は連続的に減少され、これにより真空ポンプBP、MP内の気圧は緩やかに大気圧まで上昇する。
このため、ポンプ運転停止時における排気側からの大気の急激な逆流は発生せず、スクリューロータが逆回転することもない。
したがって、従来のようにポンプ内の排気室と、排気室とシールされた軸受部との間に差圧が生じ、軸受部に反応生成ガスが流入することにより軸受に反応生成物が付着することや、排気口側に付着している反応生成物がポンプ内に流入することなく、ポンプ運転を停止させることができる。
また、真空ポンプ1の排気側に逆止弁を設ける構成ではないため、ポンプ運転時における排気抵抗がなく、排気効率を低下させずにポンプ運転を行なうことができる。
また、前記実施の形態においては、図1に示したように2段スクリュー式ポンプを例に説明したが、1段のスクリュー式真空ポンプ(例えば図1における真空ポンプMPのみの構成)の場合においても本発明に係る真空ポンプの制御方法を適用することができる。
その場合、真空ポンプの吸気側における気圧に基づく制御は、図4のようなフローとなる。尚、このフローの説明においては、図1に示す構成から真空ポンプBPを除いた構成に基づき説明する。
図4に示すように、ポンプ運転中の状態から(図4のステップSS1)、ポンプ運転の停止命令を示す信号を発するためのストップキーが押下されると(図4のステップSS2)、例えば5000rpmの回転数で動作していた真空ポンプMPのモータ28の回転数が段階的又は連続的に減少させられる(図4のステップSS3)。また、軸受19、20側に、シールガスに換えてストップパージガスが供給開始される。
真空ポンプMPのモータ28の回転数が設定値(例えば200rpm)になると(図4のステップSS4)、圧力センサ35の検出結果、即ち、真空ポンプ1の吸気側における気圧が設定値(例えば、80,000Pa)以上となるまで(図4のステップSS6)、モータ28の回転数(例えば200rpm)を維持した状態でスクリューロータ10の回転駆動(低速回転)がなされる(図4のステップSS5)。
真空ポンプMPの低速回転駆動がなされた状態で、吸気側の気圧が設定値(例えば、80,000Pa)以上に達すると(図4のステップSS6)、真空ポンプMPのモータ28の駆動が停止される(図4のステップSS7)。
このようにして真空ポンプMPにおけるモータ28の回転数が0rpmとなされると、コントローラ36は、圧力センサ35の検出結果により真空ポンプ1の吸気側における気圧が大気圧であるかを判断し(図4のステップSS8)、大気圧となるまで軸受19、20側にストップパージガスを供給すると共に、モータ28の回転数を0rpmに維持し、その後、ポンプ運転が停止完了となされる(図4のステップSS9)。
以上のようなステップを踏む制御によれば、真空ポンプ1の吸気側のプロセスガスの圧力値に基づき、真空ポンプMPのスクリューロータ10の回転数が段階的又は連続的に減少させられ、これにより真空ポンプMP内の気圧は緩やかに大気圧まで上昇する。
このため、ポンプ運転停止時における排気側からの大気の急激な逆流は発生せず、スクリューロータが逆回転することもない。
したがって、従来のようにポンプ内の排気室と、排気室とシールされた軸受部との間に差圧が生じ、軸受部に反応生成ガスが流入することにより軸受に反応生成物が付着することや、排気口側に付着している反応生成物がポンプ内に流入することなく、ポンプ運転を停止させることができる。
また、1段のスクリュー式ポンプ(図1における真空ポンプMPのみ)の場合であって、図3のフローに示したような経過時間に基づく制御は図5のようなフローとなる。
図5に示すように、ポンプ運転中の状態から(図5のステップSP1)、ポンプ運転の停止命令を示す信号を発するためのストップキーが押下されると(図5のステップSP2)、例えば5000rpmの回転数で動作していた真空ポンプMPのモータ28の回転数が段階的又は連続的に減少させられる(図5のステップSP3)。また、軸受19、20側に、シールガスに換えてストップパージガスが供給開始される。
真空ポンプMPのモータ28の回転数が設定値(例えば、200rpm)になると(図5のステップSP4)、真空ポンプMPのロータ回転減速処理が開始されてからの経過時間が所定の設定時間(例えば、5min)に達するまで(図5のステップSP6)、モータ28の回転数(例えば、200rpm)を維持した状態でスクリューロータ10の回転駆動(低速回転)がなされる(図5のステップSP5)。
また、真空ポンプMPのロータ回転減速処理が開始されてからの経過時間が所定の設定時間(例えば、5min)に達すると(図5のステップSP6)、真空ポンプMPのモータ28の駆動が停止される(図5のステップSP7)。
そして、前記モータ28の回転を停止してからの経過時間が所定の設定時間(例えば、5min)に達するまで軸受19、20側へストップパージガスが供給され(図5のステップSP8)、これにより、ポンプ内の気圧は大気圧状態となってポンプ運転が停止完了となされる(図5のステップSP9)。
以上のようなステップを踏む制御によれば、所定の経過時間に基づき、真空ポンプMPのスクリューロータ10の回転数が段階的又は連続的に減少され、これにより真空ポンプMP内の気圧は緩やかに大気圧まで上昇する。
このため、ポンプ運転停止時における排気側からの大気の急激な逆流は発生せず、スクリューロータが逆回転することもない。
したがって、従来のように排気口側に付着している反応生成物がポンプ内に吸い込まれることなく、ポンプ運転を停止させることができる。
尚、前記全ての実施の形態においては、スクリュー式真空ポンプを例に説明したが、本発明に係る真空ポンプの制御方法はスクリュー式真空ポンプだけでなく、ルーツ式、クロー式、スクロール式真空ポンプ、ターボ分子ポンプ等、ロータを回転駆動させる真空ポンプ全てに適用することができる。
続いて、本発明に係る真空ポンプの制御方法について、実施例に基づきさらに説明する。本実施例では、前記実施の形態に示した構成に基づく真空ポンプを用い、実際に実験を行うことにより、その効果を検証した。
本実施例では、図6に示す装置構成(2段のスクリュー式真空ポンプ)を用い実験を行なった。図6における基本構成として、真空ポンプ40は配管41によってチャンバ42に接続され、チャンバ42内のガスを吸気することでチャンバ42内を真空状態にするよう構成されている。
また、真空ポンプ40には、インバータ45が設けられ、このインバータ45により真空ポンプBP並びにMPにおけるスクリューロータの回転数と、ロータを回転させるモータの電流値が検出され、それら検出された値が記録計44に記録されるようになされている。また、圧力計43により、チャンバ42内の圧力値、即ち真空ポンプの吸気側の気圧が測定され、測定された値が記録計44に記録されるように構成されている。
〔実施例1〕
実施例1では、前記実施の形態において図3のフローに示したように、真空ポンプBPと真空ポンプMPの回転数を段階的に減少させて運転停止し、チャンバ42内の圧力変化と、真空ポンプBP、MPにおけるスクリューロータの回転数、及びそのロータを回転させるためのモータが消費する電流値を測定した。
実験結果として、測定されたスクリューロータ(モータ)回転数とチャンバ内圧力との関係を図7のグラフに示す。
図7のグラフに示すように、ポンプ停止時の制御において、真空ポンプBP、MPのスクリューロータ回転数を段階的に減少させることにより、チャンバ42内の圧力は緩やかに大気圧まで上昇した。
また、ポンプ運転停止時において、ポンプ排気側からポンプ40内への大気の急激な逆流は発生しなかった。
〔比較例1〕
比較例1として、図6の装置構成において、従来のようにポンプ運転停止の際、モータの電源を切り、スクリューロータ(モータ)の回転をフリー状態にして、チャンバ42内の圧力変化と、真空ポンプ40内の真空ポンプBP、MPにおけるスクリューロータの回転数を測定した。
実験結果を図8のグラフに示す。図8に示すように、ポンプ運転の停止直後において、チャンバ42内の気圧が瞬間的に大気圧以上となり、ポンプ排気側からポンプ40内への大気の急激な逆流が発生した。
以上の実施例の結果、本発明の真空ポンプの制御方法によれば、ポンプ運転時の排気効率を低下させること無く、且つ、ポンプ運転停止時の排気側からポンプ内への大気の急激な逆流を抑制することができると確認した。
本発明は、半導体製造工程等の反応生成ガスを流す工程で使用するスクリューロータを備える真空ポンプに好適に用いることができる。
図1は、本発明に係る真空ポンプの制御方法を適用することのできる真空ポンプの構成を模式的に示す断面図である。 図2は、2段のスクリューロータを用いた真空ポンプにおいて、ポンプ運転停止時に実施される本発明に係る真空ポンプの制御方法の流れを示すフローである。 図3は、2段のスクリューロータを用いた真空ポンプにおいて、ポンプ運転停止時に実施される本発明に係る真空ポンプの他の制御方法の流れを示すフローである。 図4は、1段のスクリューロータを用いた真空ポンプにおいて、ポンプ運転停止時に実施される本発明に係る真空ポンプの制御方法の流れを示すフローである。 図5は、1段のスクリューロータを用いた真空ポンプにおいて、ポンプ運転停止時に実施される本発明に係る真空ポンプの他の制御方法の流れを示す他のフローである。 図6は、実施例における概略装置構成を示すブロック図である。 図7は、実施例1の結果を示すグラフである。 図8は、比較例1の結果を示すグラフである。
符号の説明
1 真空ポンプ
2 筐体
3 スクリューロータ
4 ハウジング
5 上端板
6 下端板
7 作動室
8 吸気口
9 排気口
10 スクリューロータ
11 ハウジング
12 上端板
13 下端板
14 作動室
15 吸気口
16 排気口
17 軸受
18 軸受
19 軸受
20 軸受
21 軸シール
22 軸シール
23 軸シール
24 軸シール
25 タイミングギア
26 モータ
27 タイミングギア
28 モータ
29 ギア室
30 ギア室
31 潤滑油
35 圧力センサ(圧力検出手段)
36 コントローラ(制御手段)
BP 真空ポンプ
MP 真空ポンプ

Claims (7)

  1. スクリューロータがハウジング内に回転可能に収容され、前記スクリューロータを回転させるモータと該モータの動作制御を行なう制御手段とが設けられた真空ポンプの制御方法であって、
    前記制御手段は、ポンプ運転の停止命令を示す信号を受け取ると、前記スクリューロータの回転動作が停止するまでの間に、前記モータの回転数を段階的又は連続的に減少させることを特徴とする真空ポンプの制御方法。
  2. 前記制御手段は、ポンプ運転の停止命令を示す信号を受け取ると、前記スクリューロータの回転数が所定の回転数に達するまで、前記モータの回転数を段階的又は連続的に減少させることを特徴とする請求項1に記載された真空ポンプの制御方法。
  3. 前記制御手段は、
    前記スクリューロータの回転数が所定の回転数に達した後、前記真空ポンプのプロセスガス流路に設けられた圧力検出手段が検出した気圧が所定の気圧値に達するまでの間、前記スクリューロータを前記所定の回転数以下で回転駆動させることを特徴とする請求項1に記載された真空ポンプの制御方法。
  4. 前記制御手段は、
    前記圧力検出手段が検出した気圧が所定の気圧値に達した後、前記モータの駆動を停止させることを特徴とする請求項3に記載された真空ポンプの制御方法。
  5. 前記制御手段は、前記圧力検出手段が検出した気圧が大気圧となるまで、前記モータの回転数を0rpmに維持する制御を行なうことを特徴とする請求項4に記載された真空ポンプの制御方法。
  6. 前記制御手段は、
    前記スクリューロータの回転数が所定の回転数に達した後、前記ポンプ運転の停止命令を示す信号を受け取ってからの経過時間が所定時間に達するまでの間、前記スクリューロータを前記所定の回転数以下で回転駆動させることを特徴とする請求項2に記載された真空ポンプの制御方法。
  7. 前記制御手段は、
    前記ポンプ運転の停止命令を示す信号を受け取ってからの経過時間が所定時間に達した後、さらに所定時間の間、前記モータの回転数を0rpmに維持する制御を行ない、前記モータの駆動を停止させることを特徴とする請求項6に記載された真空ポンプの制御方法。
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