TWI334500B - Liquid crystal display device and method for fabricating the same - Google Patents

Description

1 ^4500 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明關於一種液晶顯示裝置及其製造方法，尤其是關於一 種配向膜為複數個彼此分離的子配向膜、柱狀間隔粒位於子配向 膜之間的液晶顯示裝置及其製造方法。 【先前技術】 多種儀器中都使用平面顯示裝置作為顯示儀器，如液晶顯示 裝置(LCD)、電漿顯示面板(pDP)、電致發光顯示器(ELD)和真空螢 光顯示器(VFD)等。 在各種取代陰極射線管顯示器的顯示裝置中，液晶顯示装置 由於其晝面質量佳、重量輕、外形薄和耗能低等優點經常用於移 動”、、員示裝置中。除如筆記型電腦的移動顯示裝置之外，液晶顯示 裝置還可用於作為接收和顯示廣播信號的電視螢幕，和電腦監視 器。 為了使液晶顯示裝置更普及，液晶顯示技術的發展重點放在 保持其重置輕、外形薄和耗能低的優點的同時，實現高晝質的影 像上，如高清晰度、高亮度和大尺寸晝面。 如「第1圖」所示’先前技術液晶顯示裝置包含第一基板卜 與之間隔預定距離接合的第二基板2和注人二者之_液晶層3。 、复數個閘極線4以固定間隔按照_個方向排列在第一基板1 上，固定間隔的複數個資料線5與閘極線4垂直相交以定義畫素 區域P ’其巾畫素電極6形成在每個義畫素區域，p，上，複數個薄 1334500 ’以回應 的資料信 膜電晶體’了’分卿絲_線4與觸線5交差的區域 問極線4的信號進行開啟或_動作，從而將資料線$ 號傳輸給每個晝素電極6。 黑矩陣層7形成在第二基板2上以遮蔽非晝素區域,ρ，處的入 射光線’刚、綠(G)、綱色輪層8分驗於與書素區域，ρ， 相對的區域以顯示色彩，共同電極9形成在彩色濾光片層8上。 液晶顯示裝置可透過晝素電極6與共同電極9之間的電場使 第一基板1與第二基板2之_液晶層3配向，以依靠液晶層3 的配向方向調整穿透液晶層3的光線的量以顯示影像。 上述液晶顯示裝置稱為扭轉向列型㈣液晶顯示裝置。由於 扭轉向列魏晶顯示裝置具有視肖窄的缺陷，因此為了克 缺陷發展出一種平面切換型(IPS)液晶顯示裝置。 平面切換魏關雜置包知财_平行分佈的晝素電 極U电極，在一者之間可形成水平方向的電場，以使液晶層 配向。 用於保持液晶層固定間隔關隔粒形成在液晶顯示裝置的第 一基板1和第二基板2之間。 間隔粒依照其城分為球形和柱形。球形間隔粒為圓球形， 分佈在第-基板i和第二基板2之間，即使在第一基板工與第二 基板2接合後仍可自由移動，這種球形間隔粒與第一基板！和第 二基板2的接觸面積小。柱狀間隔粒為圓柱形，固定在第一基板工 1 3v345〇〇 和第二基板2之間，在陣列步驟中形成。因而，柱狀間隔粒與球 开夕間隔粒相比與第一基板1和第二基板2的接觸面積更大。 在使用液晶塗佈法製造液晶顯示裝置時通常使用柱狀間隔 粒，這疋因為在液晶塗佈法製造液晶顯示裝置時使用球形間隔粒 _產生些問題。在液晶塗佈法中，球形間隔粒係在塗覆液晶材 料並接合第-和第二基板之前或之後散布。如果在塗佈液晶材料 之後散布，液晶材料會阻止球形間隔粒散布到指定位置，如果在 塗佈液晶材料之前散布，即便是間隔粒已經均勾分佈，塗覆液晶 時也會被破壞。而且在後者的情況t，由於液晶塗佈在間隔粒^ 佈不均勻的表面上’液晶材料的流動性變差，此，在使用液晶 塗佈法製造液晶顯示裝置時，可使用柱狀間隔祕持兩塊基板之 間的單元間隔。 「第2圖」所示為先前技術平面切換型液晶顯示裝置的剖面 圖平面切換型液晶顯不震置包含形成有薄膜電晶體陣列的薄膜 電晶體陣列基板(TFT基板)30、形成有彩色遽光片陣列的彩色滤光 片陣列基板仰細.位於兩塊基板之間的液晶層帅間隔粒 45。 儘管圖未示，薄膜電晶體_基板30包含第-基板，第一基 板具有垂直滅的_線和#料線以定❹素輯、分別位於資 料線和閘極線交叉處的_電晶體和交替位於每個畫素區域的共 同電極。在閘極線層和資料線層之間包含—閘極絕緣層，在資料 w 線層與畫素電極層之間包含一保護層。 與薄膜電晶體陣列基板3〇相對的彩色渡光片陣列基板4〇包 含第二基板4卜覆蓋非晝素區域的黑矩陣層42(問極線、資料線和 薄膜電晶體區域)、依次形成在第二基板41上的與畫素區域相對的 具有紅、綠、藍畫素的彩色濾光片層43及形成在包含黑矩陣層42 和彩色濾光片層43的第二基板41上的外塗層44。 在形成_倾制戦單柄步财，在外麵44的預設 區域上形成柱狀間隔粒45，並在包含柱狀間隔粒必的彩色遽光片 陣列基板40上形成配向膜46。儘管圖未示，配向膜也可在形成單 几的最初步驟中形成在_電晶體陣列基板3〇上。 包含柱狀間隔粒的平面切換魏晶顯示裝置在暗狀態下顯示 非均勻的免度。 如第3A圖」所不’如果手指在一個方向上觸碰並輕掃液晶 面板H)的薄膜電晶體陣列基板3〇或彩色濾光片陣列基板如，那 2「第3B圖」所示’在手指掃過的方向上液晶面板的彩色遽光 2基板⑽將改變位置。綠狀間隔㈣之雜晶材料 無法_初始位置，這樣觸碰部份在液晶面板iq上訂乳白色 斑點。而且，如「第3 B圖」所示，手指掃過部份的液晶層50較 > :而=最後_部份液晶⑽_ , 了凸出形狀。 度定集處的單元間隔Μ大於間_的高 又疋、/、匕抽的早7L間隔h2。因而，被觸碰部份的亮度與其 它部份相比不均勻，產生了漏光現象。 產生^種問題的原因是彩色濾光片陣列基板40上的間隔粒 ^的^表面觸岭晶斷縣板30之_練力較大。就是 '在知色;慮光片陣列基板4〇相對於薄膜電晶體陣列基板如移 倾’即使手指離開彩色濾光片陣列基板40，其仍然無法立即恢 復到初始位置，因此漏光現象仍然存在。 柱狀間隔粒45與薄膜電晶體陣列基板3〇緊密接觸產生的對 其的拉力大於彩色絲片_基板4Q恢復原位的力。另一方面， 貼覆在液晶面板上的偏光片由於外界濕度和溫度的變化而收縮或 膨脹產生的使基板發生形變的力也會破縣晶的配向。 由於碰觸液晶顯示襄置的液晶面板如擦拭引起的諸多問題， 在液晶顯示駿的製造和使㈣程中可能由祕難生暗狀態下 的壳度不均。而且，隨著螢幕尺寸的增大這種由於碰觸產生的暗 狀悲時的亮度不均越來越明顯。當螢幕的尺寸很大時，很難控制 液晶材料的量。 「第4A圖」所示為在貼覆偏光片前基板的彎曲狀態的示意 圖，「第4B圖」所示為在貼覆偏光片後基板的彎曲狀態的示意圖。 從圖中可以看出’液晶面板的邊緣比中央彎曲的更明顯。這是因 為在貼覆偏光片後，在加熱製程中(加熱和冷卻)偏光片和基板發生 收縮和膨脹時，基板和偏光片的熱擴散係數的差異導致薄膜型的 偏光片與玻璃製成的基板之間長度的發生改變。 1334500 「第5圖」所示為先前技術液晶顯示裝置中的彩色濾光片陣 列的製造方法的流程圖。此方法包含提供—第二基板(_);形成 黑矩陣層(S11)，在包含黑矩陣層的第二基板上形成紅、綠、藍色 滤光片層’其巾可透過分轉色細並將其形成_以形成各個 彩色薄膜(S12);在包含紅、綠、藍色濾光層的第二基板上形成外 塗層(S13);在外塗層的整個表面上塗覆有機層，並選擇性地移除 有機層以形成柱狀間隔粒(S14)。 ”、、^^驟形成與彩色濾光片陣列基板相對設置的薄膜 電晶體陣列基板：在第—基板上沉積金屬層，並選擇性地移除金 屬層以形成具有凸出的祕的閘極線；透過將金屬層形成圖案以 在”閘極線烟的方向上形成共同電極線，並且共同電極線在畫 素區域的分支形成共職極。接著，在第—基板的整個表面上形 ^閑極絕緣層以覆蓋具有凸出的閘極的_線；在閘極絕緣層上 ’儿積轉體層’然後選擇性地移辭導體相在難絕緣層上形 成覆盍閘極的半導體層。在包含半導體層的閘極絕緣層上沉積金 屬層’並選擇性地移除金屬層，以形成與閘極線垂直相交的資料 線和與源«隔有預設麟岐極。絲，在包含難線和源極 ^及^絕緣層上形成保護層，並選擇性地移除保護層以形 、暴及極u卩份的接觸孔，在包含接觸孔的保護層的整個表 儿積透明電極’並選擇性地移除透明電極以形成與汲極電性 接、與共同電極交替設置的晝素電極。 1334500 ：,^ 6圖」所示為綠技術液晶顯示裝置單元製程的流程圖。 首錢供具練數個_電晶體的第—基板和具有彩色濾光片陣 列的第二基板。薄膜電晶體陣列和彩色濾光片陣列形成在每個單 元面板的顯示區域。 著在第I板和第二基板的每個單元面板的顯示區域形 成配向膜(S21)。在第-基板或第二基板上塗覆液晶材料阳）。在 第土板或第一基板的非顯示區域(不包括主動部份)形成具有預 • 設寬度的封装圖案(S23)。 、 反向未塗覆有液晶材料的基板(S24)，接合第—和第二基板以 . 形成液晶面板(S25)。儘管圖中液晶材料係塗覆在第-基板上，封 .· ㈣案形成在第二基板上，但也可將液晶材料塗覆在第二基板 上而將封裳圖案形成在第一基板上。或著也可將液晶材料塗覆 在-塊基板上’㈣㈣案也職在這塊基板上。無論採用哪種 方法’塗覆液晶材料的基板都不能反向。 #⑪可使用紫外線透過封裝圖案照射第—基板，或照射第二基板 月面的封裝圖案以將封裝圖案固化，進而接合第—基板和第二基 板(S26)。接著’在單元面板的單元内切割/加工液晶面板以形成複 數個單元液晶面板(S27)。 ^ 觀查單元液晶面板的墊部(第一基板大於第二基板的部份，可 ^ 在接合後暴露)以判斷單元液晶面板是否接受或剔除。 然而，先前技術液晶顯示裝置及其製造方法仍有諸多問題。 11 1334500 首先’在偏光片貼覆在面板的表面後，偏光片可能產生㈣或膨、 脹’由於二者的鱗脹絲不同導致液晶面板彎曲。而踢著面· 板尺寸的增大f曲越明顯。其次，當觸碰液晶面板如輕掃液晶面： 板時，將導致液晶顯示裝置在暗狀態時亮度不均。 ： 暗狀態時的亮度不均是由於貼覆在液晶面板上的偏光片由於 外界濕度和溫度的改變發生收縮或膨脹而使基板彎曲，破壞了液 晶分子的配向。手指與基板之間的祕力使上、下基板之間平移 20〜100/ζιη’即便手指離開兩塊基板仍無法恢復原位導致發生漏_ 光見象這疋口為與對面基板緊密接觸的柱狀間隔粒拉動對面基 板的力大於基板恢復原位的力。 【發明内容】 - 鑒於上述問題，本發明的主要目的在於提供一種配向膜為複/ 數個彼此分離的子配向膜、柱狀間隔粒位於子配向膜之間的液晶 顯示裝置及其製造方法。 因此，為達上述目的，本發明所揭露之一種液晶顯示裝置，籲 包含有：彼此相對的第—基板和第二基板；位於第二基板上的第 配向膜&含位於預設部份的第一配向膜凹槽；位於第—配向 膜凹槽内的第-間隔粒；及位於第—基板和第二基板之間的液晶 層。 本心明所揭露之另一種液晶顯示裝置包含有：彼此相對的第J 基板和第—基板，位於第一基板上的複數個閘極線和複數個資► 12 丄 料線’二者彼此垂直相交以定義複數個畫素區域；位於第二基板 上的”、、矩陣層’其與第—基板的非晝素區域相對；位於第二基板 上的形色濾光4層；位於包含¥、轉層和彩色就片層的第二基 板的整個表面上的外塗層；位於黑矩陣層上的外塗層上的第一配 向膜，其包含第-配向膜凹槽；位於第—配向膜凹槽内和第一基 板與第二基板之間的第—間隔粒；及位於第—基板和第二基板之 間的液晶層。 本發明所揭露之-種液晶顯示裝置的製造方法，包含有：提 供包含顯示區域和非顯示區域的第—基板和第二基板；在第一基 板上形成細電晶體陣列；在第二基板上形絲色獻片陣列； 在第一基板上形成第一配向膜，其包含被移除的預設區域以形成 第-配向膜凹槽；在第—基板的顯示區域塗佈液晶材料；在第二 基板上的部份第—配向膜凹槽處形成間隔粒；在第-基板或第二 基板的非顯示區域形成封裝圖案；反向第二基板；及按壓第一基 板和第二基板的表面以接合第一基板和第二基板。 有關本發明轉難實作’舰合圖式作最佳實_詳細說 明如下。 【實施方式】 以下將依照附圖洋細描述本發明的實施例。 本發明的液晶顯示裝置及其製造方法包含分為複數個彼此分 離的子配向膜的配向膜和位於子配向膜之間的柱狀間隔粒。其中 13 1334500 子配向臈之間的距離稱為配向獏凹槽

200及位於二者之間的液晶層，其中第—基板謂 陣列(TFT) ’第二基板2〇〇包含彩色濾光片陣列。 基板100、第二基板 100包含薄膜電晶體 一第Γ基板100的薄膜電晶體陣列包含彼此垂直相交以定義晝·

薄膜電晶體包含從閙極錄川

1几山日日化 於閘極lOla與源極脑、汲極職之間的半導體層⑽未示）。在 此例令’閘極絕緣層1〇4位於半導體層和間極ι⑽之間，源極腿 和汲極102b與半導體層相對。 閘極絕緣層104位於閘極線1〇1所在層和資料線1〇2所在層 之間’保護層105位於資料線1〇2所在層與晝素電極1〇3所在層 之間保„蒦層1〇5包含暴露汲極撤b預設區域的接觸孔川^，這 樣畫素電極103可透過接觸孔i〇5a與汲極1〇2b連接。 與第-基板100相對的第二基板2〇〇上形成有覆蓋除畫素區 域和薄膜電晶體區域之外區域的黑矩陣層綱、包含黑矩陣層施 14 i 1334500 *

轉光片層2〇2,和位於包含黑矩陣層迎和彩色遽 所_ ^ 基板的整個表面上的外塗層203(如第9圖 扭1^向列型中，可以共同電極代替外塗層2〇3，或將共 同電極(圖未示)形成在外塗層2〇3的整個表面上。 第二基板200、黑矩陣層施、彩色遽光片層加、外塗層朋 和共问電_未示)同在彩色遽光片陣列製程過程中形成，因此可 共同稱為彩色濾光片陣列基板400。 如「第7B圖」、「第8圖」和「第9圖」所示，平面切換型液 晶顯示裳置與扭轉向列型液晶顯示裝置相似，差別在於下述内 容’即共同電極線114與在第一基板_上跨過畫素區域的閉極 線111之方向_ ’晝素電極113和共同電極ii4a交替形成在晝 素區戍，、同電極不形成在第二基板200上，而外塗層203形成 在第二基板勘上。在平面切換型液晶顯示裝置中，共同電極114a 為共同電極線m的分支，晝素電極113與儲存電極ii3a為一體 結構’部份儲存電極113a在晝素區域被共同電極線μ重叠。 由於平面切換型裝置與扭轉向列型裝置相似，主要差^在於 共同電極不形成在第二基板朋上，所以將省略對第二基板· 上的彩色濾光片層的描述。 配向膜凹槽210形成於本發明液晶顯示裝置的子配向膜之 間’位於或相對於非畫素區域，即位於或相對於閘極線刚或⑴、 貧料線102或112、或部份薄膜電晶體的區域。此時，配向膜凹槽 15 1334500 210形成在一條線的方向。就是說，配向膜凹槽21〇形成在與閘極 '. 線101或11卜資料線102或112相對的區域或著說其上方。此例* 中，如第8圖和第9圖所示，配向膜凹槽210形成在與閘極線1〇1 ， 或m相對的黑矩陣層201上或形成在與資料線102或112相對： 的黑矩陣層201上或形成在與閘極線及資料線二者相對的黑矩陣 層201上。 可透過喷墨印刷法、平版印刷法或使用滾筒的按壓印刷法形 成配向膜204。由聚醯亞胺，p〇lyimide)或在彩色濾光片陣列製鲁 程後的單7G製程步驟中的相同物質所製成的配向膜2〇4和與其相 對的第-基板100的表面上的(薄膜電晶體陣列的)配向膜⑽平行 . 形成。此時，配向膜1〇8的配向膜凹槽也可形成在與配向膜凹槽: 210相對的位置（「第9圖」所示為沒有配向膜凹槽的情況）。 · 而且’包含配向膜凹槽的配向膜湖可形成在第一基板觸 上柱狀間隔粒形成在配向膜凹槽中。此時可省略第二基板· 上的配向膜204。 0 柱狀間JV粒220形成在交限於預設區域的配向膜凹槽加。就 是兒柱狀間&粒22〇並非形成在閘極線1⑴或⑴、資料線搬 或U2:薄膜電晶體TFT的整個區域，而是選擇性地形成在用於 保持與弟一基板100的單元間隔的所需部份。在附圖中，柱狀間 隔粒220至少與閘極線1〇1戋 _ , 飞111相對。廷時’柱狀間隔粒22〇 與閘極線相對，但也可與資料線同時相對。 ， 16 1334500 如「第8圖」和「第9圖」所示’外塗層2〇3上包含定義有 配向膜凹槽210的配向膜204，其預設寬度為，a，，小於第一基板 100的閘極線101或111的寬度。在配向膜204形成後，柱狀間隔 粒220形成在配向膜凹槽210中。 黑矩陣層2〇1形成在覆蓋除晝素區域和部份薄膜電晶體之外 的區域。就是說，黑矩陣層201的形狀與閘極、線1〇1或lu和資 料線102或112相同，但寬度大於閘極線或資料線的寬度。由於 • 狐線1〇2或112形成在長度的傾斜方向，所以黑矩陣層2〇1的 長度方向上也是傾斜的，如果閘極線1〇1或m與資料線皿或 112垂直相交，位於資料線102或112方向的黑矩陣層2〇1也與間 • 極線1〇1或111垂直相交。 • 黑矩陣層201寬度方向上’配向膜204的配向膜凹槽21〇的 邊緣與黑矩陣層201内側間隔有預設距離。#，假設配向膜凹槽 210的見度方向上的長度為，a，，而黑矩陣層2〇ι在其寬度方向上 _ 的長度為’b’，那麼，a< b，。 為包含第一基板100和第二基板2〇〇之間圓 柱狀間隔粒220由起始劑、光化反應聚合體 柱狀間隔粒220 柱體的多邊性柱體。 和黏性促進劑組成。其中起始劑包含缺始劑和熱起始劑，可同 時使用兩者或選擇其中—者使用。除上述成分外，更可包含熱化 反應聚合體。在多散度的範圍内，柱狀間隔粒220更可包含精巧 的球形間隔粒。 17 1334500 可在配向膜凹槽210處形成大小與單元間隔相同的球形間隔 * 粒以作為柱狀間隔粒220的替代品。 ' 由於柱狀間隔粒220和球形間隔粒是在配向膜2〇4形成後形. 成在配向膜凹槽210内，所以本發明的液晶顯示裝置可在柱狀間- 隔粒與相對的基板(第一基板)之間形成較強的接合力，這是因為包 含柱狀間隔粒220的第二基板係在間隔粒最後固化前反向並與第 一基板接合，使間隔粒在接合之後完成最終的固化。就是說，由 於在最後的固化過程中’由於加熱所引起的柱狀間隔粒DO的分籲 子運動增加，使產生了與相對基板(第一基板)的表面的黏合力，使 一者之間的接合力更強。 「第10圖」所示為本發明實施例之彩色濾光片陣列製程的流 程圖。首先提供第二基板(S101)，將黑色樹脂或鉻(Cr)塗覆在第二 基板上，並選擇性地將其移除以在非晝素區域形成黑矩陣層 (S102)。將包含黑矩陣的第二基板上的紅、綠、藍色薄膜圖案化以 在所需的的區域留下紅、綠、藍色薄膜，形成紅、綠、藍色濾、光 片層⑽3)。在包含黑矩陣和紅、綠、藍色濾光片層的第^基:的 整個表面上形成外塗層(S104)。在提供第一基板(如「第9圖」的 第-基板_4，在第-基板_上沉積金屬層，並選紐地移 除金屬層以形成包含凸出的閘極(如「第7A圖」的_ 極線而。在平面切換型液晶顯稀置中，在將金屬層圖案二 程中，在與閘極線(如第7B圖的閘極線m)相同的方向形成共= 18 1334500 電極線114，並在畫素區域形成共同電極線114的分支，即共同電 極 114a。 接著’在第-基板100的整個表面上形成閘極絕緣層刚以 覆盍包含凸出的閘極101a的閘極線10卜在閘極絕緣層刚上沉 積半導體材料’並選擇性地移除半導體材料以在閘極絕緣層上形 成在間極上方的半導體層(圖未示)。在包含半導體層的閘極絕緣層 刚上沉積金屬層，並選擇性地移除金屬層以形成與包含由其凸^ 閘極102a的閘極線101垂直相交的資料線1〇2，和與源極搬a間 隔預設距離的汲極腿。保護層1〇5形成在包含資料線他、: 極102a和汲極i〇2b的閘極絕緣層1〇4上。 選擇性地移除保護層105以形成暴露汲極102b的預設部份的 接觸孔l〇5a’並在包含接觸孔咖的保護層1〇5的整個表面上沉 貝透月電極’選擇性地移除透明電極以形成與汲極丨⑽電性連接 的畫素電極1〇3。在平面切換型液晶顯示裝置中，畫素電極⑴與 共同電極114a交替設置。 在分別完成第-基板的薄膜電晶體陣列製程和第二基板的彩 色濾光片陣列製程後，進行單元製程。此時，在各個顯示區域進 ^的上述製雜在第—基板和第二基板分麟有顯示區域和環繞 …員不區域的非顯示區域後。在陣列製程步射，在第—基板上形 成與非顯示區域相·閘極線塾和f料線塾，並在第二基板上形 成黑矩陣層。單元製錄_在第―、第二基板完轉列製紅 19 1334500 後接合兩塊基㈣步驟。「第U圖」麻為單元製程喊㈣。、 在母—個第—和第二基板的顯示區域的預設部份上形成包含配向' 膜凹槽的配向膜(Sin)。 : 接著，在配向膜凹槽的預設部份形成柱狀間隔粒(sii2)。柱狀： 間隔粒可位於與閘極線或倾線相對的黑矩陣層上。可透過喷墨 裝置(如「第13圖」所示)在所需區域打點喷墨以形成柱狀間隔粒， 或平版印刷方法(如「第Μ圖」所示），或透過使用滾筒(如「第U 圖」所示)將配向膜材料按壓在基板的表面上形成。 鲁 可使用紫外線照射柱狀間隔粒以將其預固化(S113)。此時，柱 狀間隔粒的固化率與其組成成分相關。就是說，在預固化時柱狀 間隔粒的固化率係由光起始劑和光化反應聚合物(光反應壓克力單 - 體、包含光反應和熱反應成分的單體、低聚合物或聚合體)決定。/ 虽紫外線直接照射柱狀間隔粒時，可調節光起始劑和光反應聚合 體的比例以使固化率的範圍在50%至70%之間。 接著，在第一基板或第二基板的非顯示區域形成封裝圖案鲁 (S114)。 將液晶材料塗覆在第一基板或第二基板上(S115)。儘管流程圖 中液晶材料係塗覆在第一基板上，但也可選擇性地將液晶材料塗 覆在弟二基板上。

將未塗覆液晶材料的基板反向(S116)，並將兩塊基板上的陣列 J 配向後接合以形成液晶面板(S117)。在本實施例中，由於第二美板 *

⑴4500 * 上未塗覆液晶材料，因此將第二基板反向。 接著，用紫外線直接照射第一基板或第二基板的背面以固化 封裴圖案(S118)。 可在加熱益中對第一基板和第二基板加熱，以熱固化封裝圖 案和柱狀間隔粒。在這個步驟中，可使用無孔或小孔的承载台承 載接合後的第一和第二基板以防止其掉落。在熱固化步驟中，柱 狀間隔粒的分子由於被加熱而產生黏力，使其與相對的第一基板 的黏性連接，然後藉由熱固化完全固化間隔粒。接著透過切割或 機械製作’使液晶面板其分為複數個單元液晶面板(sη9)。 觀察單元液晶面板的墊部(第一基板大於第二基板的部份，可 在接合後暴露)以判斷單元液晶面板是否可被接受或剔除(s 12〇)。 如「第12圖」所示，為了形成包含配向膜凹槽210的配向膜， 在滾筒300的表面上塗佈第一、第二和第三子配向膜2〇4a、2〇4b 和2〇4c的材料，並將上述材料印刷在彩色濾光片陣列基板400(由 包含黑矩陣的外塗層和彩色濾光片層組成)的外塗層(如「第8圖」 的外塗層203)上，以形成包含配向膜凹槽的配向膜。在這種情 況下，如果黑矩陣層(如「第8圖」的黑矩陣層201)長方向線的寬 為140 Am，而分離的配向膜綱排列為内部之間以黑矩陣層2〇1 的長度方向的中線為巾線’並由中線向兩側邊緣分_形式，那 麼配向膜凹槽210長方向線的線寬為i〇〇//m。 在本實施例中，如「第12圖」所示，在向滾筒·的表面塗 21 丄334500 佈第-至第三子配向膜施、雇和2〇4c的材料時，子配向膜、 之間的間距可透過調節向滾筒塗佈配向膜材料時使_光罩的通. 孔部份的數量和尺寸來實現。 · 如第13圖」所示，喷墨步驟中使用的噴墨裝置31〇包含存 有液體的噴頭3U、塗佈液體的塗佈單元312、供給液體的容器罐 313和連接容器罐313與喷頭311並用於輸送液體的管線別。喷 墨裝置M0包含以控制單元(圖未示)和一光學單元(圖未示），用於 感應基板和控制是否塗佈液體，以及控制塗佈液體的量。喷墨裝_ 置310可用於形成配向膜204或柱狀間隔粒220。 例如，在使用喷墨裝置310形成配向膜204的過程中，開啟 喷頭311上的噴嘴以在包含彩色濾光片陣列的彩色渡光片陣列基 / 板400上的預設部份塗佈如聚醯亞胺(polyimide)的配向膜材料。此一 時，當噴嘴經過彩色濾光片陣列基板400上的黑矩陣層的寬度方 向時(與閘極線相對的部份），喷頭311上的噴嘴關閉。 在使用噴墨裝置310形成柱狀間隔粒220的過程中，噴頭311 φ 上的噴嘴在沒有配向膜的配向膜凹槽上的預設位置開啟，並塗佈 預設量的柱狀間隔粒液體。此時，喷墨裝置310中的柱狀間隔粒 220材料為液態’可透過塗佈之後的預固化和終固化兩個步驟實現 間隔粒材料的完全固化。 形成枉狀間隔粒220的液體的成分包含光起始劑、熱起始劑、 · 反應單體(光反應單體、熱反應單體、同時包含光反應和熱反應的 ’ 22 1334500 是不起反應的 ====== 減1 果要在柱狀間隔粒220 +包含球形間隔粒，可在噴頭311 Ί液體中添加形狀精巧的粒子，與柱狀間隔粒液體一起塗佈。 光起始劑和熱起始齡反應的起始機射彼此不同，在柱狀

間隔粒的液體成分中可在a5〜2w彻範_調節缺始劑和献 起始_量。黏性促_在柱關隔_液體成分中占ι〜胸 %。其它成分為反應物，舰她咖__其比重也不盡 相同。 . 帛—類型的柱狀間隔粒的反鮮體包含30〜6Gwt%的光反應 •壓克力單體、40〜70別％的熱反應環氧單體和5〜15加％的同時進 行熱反應和光反應的單體、低聚合物或聚合體。 第二類型的柱狀間隔粒的反應單體包含5〜1〇*(%的自發反 鲁應型光反應壓克力單體、4〇〜6〇wt%的光反應壓克力單體、4〇〜 70wt%的熱反應環氧單體和5〜15wt%的同時進行熱反應和光反 應的單體、低聚合物或聚合體。 弟一和弟一類型的柱狀間隔粒材料中的光起始劑可包含 Irgacure-369(如化學式1所示）、三丙胺(TPA，如化學式2所示)和 Irgacure-907(如化學式1所示）。 化學式1 : 23 1334500

CI3C 化學式3 : ο

熱起始劑可包含偶氮二異丁腈(AIBN，如化學式4所示）。 化學式4 :

黏性促進劑可包含碎炫偶合劑(silane coupling agent，如化學式 5所示）。 化學式5 : OMe 1334500 光反應壓克力單體可包含二丙烯酸酯單體（diacrylate monomer，如化學式6、7戶斤示）° 化學式6 :

化學式7 :

fOij *|CH^ 0 CHj 1 1 )8 8 yh 化學式8 :

自發反應型壓克力單體包含二苯乙稀(stilbene，如化學式9所 示）。 化學式9 :

25 丄幻4500 而且還可包含同時具有熱反應和光反應的單體(如化學式l〇 斤示)的成刀，或者低聚合物或聚合體的成分(如化學式11所示， 其中k、卜m、n分別為大於i的整數）。 化學式10 :

化學式11 :

=環氧單雜可具有如化學式12所示的化學結構。

=14圖」所示為本發明實施例之用於印.狀間隔粒或 向犋的平版印刷裝置的剖面圖。 ^透過怖卩概赚_。咖，侧割基板3: ”餘精則成圖案32卜將印撕料325只塗佈在圖索上 1334500 4ϋϋ 並將絲32G的圖案部份和其餘部份與彩色濾光片陣列基板_ 的表面配向，然後將圖案321上的印刷材料奶印刷在彩色滤光 片陣列基板400的表面。 對與彩色遽光片陣列基板相對的薄膜電晶體基板(具有形成於 其上的薄體之第一基板)的表面的製程與上述製程相同。

如「第15圖」所示，配向膜2〇4的配向膜凹槽训位於里矩 陣層2〇1的每四條寬方向線上(與閘極線相對的部份），或黑矩陣層 =每5至1〇條寬方向線上。柱狀間隔粒形成在兩個晝素單元(一個 旦素包3紅、綠、藍色三個子晝素)的間隔處。配向膜凹槽別的 九度受到黑矩陣層201寬方向線的寬度限制。例如，如果黑矩陣 層是方向線的I度為⑽㈣，那麼配向膜凹槽的寬度為1叫瓜。 -向膜凹槽21〇的分佈隨面板設計的尺寸和解析度的變化而變 化。配向膜204為形成在彩色濾光片陣列基板4〇〇上。 本發明第-實施例之柱狀間隔粒22〇為矩形，朝向配向膜凹 中央的相對的邊緣之間間隔有預設距離。柱狀間隔粒现 長方向的長度受配向膜凹槽21〇寬度的限制。如果配向膜凹槽训 的見度為1 〇 〇 # m，那麼矩形的柱狀間隔粒2 2 〇長方向的長度即為 80//m ’ I方向的寬度為％〜3〇〇#m。儘管其形狀隨液晶面 板的尺寸和解析度的變化而變化’但仍需謹慎形成晝素區域的柱 狀間隔粒220 ’以防止開口率損失。 因此，由於柱狀間隔粒係在配向膜形成之後形成，並且基板 27 1334500 在柱狀間隔粒完全固化前接合，所以柱狀間隔粒的上表面在柱狀 間隔粒還具有一定流動性時與相對的基板接觸，然後透過加熱固-化，這樣其與相對基板的黏性更強。 ： 如「第16圖」所示，第二實施例之液晶顯示裝置包含兩種處： 於不同位置的柱狀間隔粒，即位於第—實施例的間隔粒所處位置 的第一柱狀間隔粒220a，和與資料線相對的第二柱狀間隔粒 220b。第一柱狀間隔粒22〇a位於沒有配向膜2〇4形成的配向膜凹 槽201中，第二柱狀間隔粒22〇b形成在配向膜2〇4上。第Η圖· 所示為柱狀間隔粒220形成在配向膜上，這是因為長方向線(在略 微傾斜的方向)寬度的原因。如果柱狀嶋粒的製程巾制的設備 的分辨率允許’也可移除位於與資料線相對的黑矩陣上的配向· 艇’以形成配向膜凹槽。 在第二實關巾，與閘極線相對的第—柱關隔粒驗形成 在第-實施例中的柱狀間隔粒的間隙處，與資料線相對的第二柱 狀間隔粒220b位於每10〜30晝素單元卜這種設置可隨著面板鲁 設計的尺寸和解減的變化而變化。例如，第—柱關隔粒2施 的矩形切面為40〜80_高，50〜场m寬，第二柱狀間隔粒 220b的矩形切面為10〜3〇#m高，5〇〜i〇〇#m寬。 同樣在第一只她例中，第一、第二柱狀間隔粒2撕、22〇1)係 在完全固化前與相對的基板接合，這樣第一、第二柱狀間隔粒， 220a、220b在具有一定程度的流動性時舆相對的基板的接合，可. 28 1334500 增加第一、第二柱狀間隔粒220a、220b與相對的基板(第一基板 100)間的黏性。 如「第17A圖」和「第πβ圖」所示，本發明第一實施例之 液晶顯示裝置包含塗佈在配向膜凹槽21〇之間的第一、第二配向 膜204a、204b的中央部份的液晶層23〇。在塗佈液晶材料後提供 反向並接合相對的基板(第一基板1〇〇)，這樣在液晶散布過程中柱 狀間隔粒220 _固化’以導致基板具有雜。此時，配向膜凹 槽210之間的第第二配向膜施、鳩可作為—區域，這樣 每個區域都具有小尺寸面板的特性，增加抗外部壓力的性能。 液晶層230可塗佈在未形成彩色濾光片陣列的第一基板謂 上或包含彩色濾光片陣列的第一基板1〇〇上。 外塗層203位於塗佈有柱狀間隔粒23〇的黑矩陣層2〇1上。 外塗層203被設計具有50mN//m的表面能量，可使配向膜2〇4 均勻的塗覆。在形成配向膜2〇4之後’配向膜2()4的表面能量與 外塗層203的表面能量相同，並且由於配向的分子方向和與液晶 有關的错泊力，塗佈的液晶層23〇具有傾向於停留在配向膜2〇4 的表面上。 在柱狀間隔粒形成後可透過紫外線對其直接照射進行預固 化。依照柱狀間隔粒材料的反應器的類型，紫外線的波長可為3㈨ 〜400nm ’ 強度(intensity)50〜80mW/cm2 照射 15〇〜240 秒。當使 用波長為35〇nm左右的紫外線時，強度低到，例如為5〜2〇mW/ 29 1334500 cm ’並且直接照射的(directing)時間週期增加到，例 為了防止她陶績紅分子域 ^分鐘。 r上進行槪製程直至 光固化步射紫外_強度和固化時間週期是固定的，這標 柱狀間隔粒的分子的玻璃轉換溫度 ’ 产 α。广，，。 Sltlon temperature ^ Ts 5C之間。就是說’柱狀間隔粒足夠硬，可在室田下保 ^與相對基板的單元咖科與液晶㈣混合。單調隔:依照 柱狀間隔粒的高度和塗佈液晶材料的量確定。 如「第18圖」所示，在接合本發明液晶顯示裝置的第一 動與第二基板雜成液晶面板5〇〇後，在進行固化非騎區 域(虛線⑽外侧)的封裝圖案的步驟同時進行另一固化步驟， 即熱固化步驟。 熱固化製程包含兩個步驟。在第一步驟中，將液晶面板在％ °C時鋪3至5分鐘，職柱_隔粒分子具有雜雜，在第 二步驟中’在70〇C〜12CTC下加熱基板3〇至5〇分鐘以完成熱固化 反應。 在熱固化步驟中，當間隔粒的終固化時，光固化步驟中柱狀 間隔粒77子之間的父又連接已完成而使其不再具有流動性，但與 相對的基板之間的分子黏性增強，這樣透過加熱引起的額外交叉 連接反應使間隔粒黏到第一基板和第二基板。柱狀間隔粒的終固 30 1334500 可透過對占柱狀間隔粒成分3〇〜5〇wt%的聚合體進行熱固化奋 現。 …、貝 t 厂 — 第19圖」所示，當要熱固化液晶面板時，將其放置在承 載台350上’並將承載台35〇置於加熱器中36〇進行加熱處理。 在進行封裝圖案固化和柱狀間隔粒終固化的熱固化反應過程中， 為了防止液晶面板500掉落，可使用無孔或小孔的承載台。 在液晶顯示裝置巾，在提供包含薄膜電晶體_的第一基板 和包含彩色滤光片陣列的第二基板後，在單元製程步驟中於第一 和第一基板的預设部份形成包含凹槽的彼此分離的配向膜，並在 彼此分離的配向膜的凹射形成柱狀間隔粒。因此，在配向膜形 成後形成柱狀間隔粒以在柱狀間隔粒麵化後接合基板，並在接 合步驟中_裝醜製財_化_粒，⑽在柱狀間隔粒完 全固化前其與相對的基板為接合狀態，且在接合步驟後的封裝圖 細匕步驟㈣陳的完全固化，使柱狀間隔粒與相對基板的黏 著力更強。因而’由於柱狀間隔粒黏合上下基板，所以即使外力 如薄膜收縮、手指磨擦等，上下基板仍不諸破壞，_基板保 持一體以抵抗外力，減少了液晶面板内外的變形。 因而’可聽由於觸碰如在液晶面板上磨擦導致的第一和第 二基板的相對移動。觸碰導致的損壞和移位導致的單㈣隔不均 勻都可避免。 因此，在配向_成後職餘間_，並在接合步驟的封 31 1334500 裝圖案製程中進行熱固化，以在柱狀間隔粒預固化後接合基板， 並固化間隔粒。由於在柱狀間隔粒完全固化前其與相對的基板為 接合狀態，且在接合步驟後的封裝圖案固化步驟中完全固化間隔 粒，使柱狀間隔粒與相對基板的黏著力更強。 因而，由於柱狀間隔粒黏合第一及第二基板’所以即使施加 外力如薄膜收縮、手紙磨擦等，第一及第二基板仍然不會被破壞， 兩塊基板仍保持一體來抵抗外力，減少第一及第二基板間的相對 移動。 即使大尺寸基板也由於柱狀間隔粒黏合基板產生的接合區 域(塗覆有彼此分離區域的配向膜)的尺寸使之具有小尺寸基板的 特性，且抗外力的特性變強。就是說，配向膜凹槽將配向膜分割 為-個個區域’由於這麵域使A尺寸級具有小尺寸基板的特 性。 由於柱狀間隔粒保持上τ基板的連接，減少了基板的形變， 並減少了漏光現象’解決了大尺寸基板中暗狀態時亮度不均的問 題。 由於兩塊基板完全_，因此可避免由於液晶㈣的過渡注 入引起的液晶和基板的熱膨脹或液晶面板底部單抑隔增加的問 題0 在柱狀間隔粒形成之前的配向膜的印刷和磨擦製程可減少如 柱狀間隔粒的喊對磨擦布的破壞，並增加磨擦的均勻性以提高 32 1334500 - 液晶配向。 精確，高 ： ㈣增加隔粒可節騎料成本並使其尺 度更均勻。 =本钟以前叙較佳纽例減如上，财並非用以限 : 任何熟習相像技藝者，在不脫離本發明之精神和範圍 虽可作麵之更動與潤飾，本剌之翻保護範圍須視 ‘兄明曰所附之申請專利範圍所界定者為準。 、 【圖式簡單說明】 1圖」為先前技術液晶顯示裝置的分解示意圖； . 「「弟2圖」為先前技術平_換黯晶顯示裝置的剖面圖； 第3A圖」和「第3B圖，公則泛雜、，> 示裝置的平面圖和剖面圖；]為觸_壞的先前技術液晶 .·的模和「第，—編前、後_ 的流程Ϊ ;5圖」為製造先前技術液晶顯示裝置的彩色濾光片陣列 「「弟6圖」為先前技術液晶顯示裝置的單元製程的流程圖； 「弟7Α圖」為平面切換型液晶顯示裝置子畫素的示意圖，· 「弟7Β圖」為平面切換型液晶顯示裝置子畫素的示意圖； 「Γ圖」為本發明實施例之彩色渡光片陣列的示意圖； ' 弟9圖」為沿第7Α圖或第7Β圖的w，線的剖面圖； 33 1334500 「第ίο圖」為本發明彩色濾光片陣列製程的流程圖； 「第11圖」為本發明單元製程的流程圖； ' 「第12圖」為本發明分離配向膜的示意圖； 「第13圖」為本發明噴墨步驟中噴墨裝置的示意圖； — 「第14圖」為本發明印刷柱狀間隔粒或配向膜的平版印刷裝 置的示意圖； 「第15圖」為本發明第一實施例之液晶顯示裝置的示意圖； 「第16圖」為本發明第二實施例之液晶顯示裝置的示意圖；籲 「第17A圖」和 第17B圖」分別為本發明灌注液晶方法的 不意圖； 「第18圖」為本發明液晶顯示裝置中單元製程的接合步驟後 熱固化步驟的示意圖；及 「第19圖」為「 的示意圖。 【主要元件符號說明】 第18圖」中熱g]化步驟使用的熱固化裝置 卜1〇〇 第一基板 2、41、200 第二基板 3、50、230 液晶層 4、1〇1 ' 111 閘極線 5、102 ' 112 資料線 6、103、113 晝素電極 34 ③ 1334500

7、42、201 黑矩陣層 8、43、202 彩濾光片層 9、114a 共同電極 10、500 液晶面板 30 薄膜電晶體陣列基板 40、400 彩色濾光片陣列基板 44、203 外塗層 45 ' 210'220 柱狀間隔粒 46、108、204 配向膜 101a 閘極 102a 源極 102b 汲極 104 閘極絕緣層 105 保護層 105a 接觸孔 113a 儲存電極 114 共同電極線 150 虛線 204a 第一子配向膜 204b 第二子配向膜 204c 第三子配向膜 35 1334500 210 配向膜凹槽 220a 第一柱狀間隔粒 220b 第二柱狀間隔粒 240 封裝圖案 300 滾筒 310 喷墨裝置 311 喷頭 312 塗佈單元 313 容器罐 314 管線 320 基板 321 圖案 322 其餘部份 325 印刷材料 350 承載台 360 加熱器 T 薄膜電晶體 P 晝素區域 R 紅色遽光片 G 綠色濾、光片 B 監色滤光片 36 1334500

S10 、 S101 提供第二基板 Sll 、 S102 形成黑矩陣層 S12 、 S103 形成紅綠藍色濾光片 S13 、 S104 形成外塗層 S14 形成柱狀間隔粒 S21 在顯示區域形成配向層 S22 塗佈液晶 S23 形成封裝圖案 S24 反向第二基板 S25 接合兩塊基板 S25 封裝 S27 切割/加工 S28 觀察 Sill 在顯示區域形成配向層 S112 形成間隔粒 S113 預固化間隔粒 S114 形成封裝圖案 S115 塗佈液晶 S116 反向第二基板 S117 接合兩塊基板 S118 終固化/封裝 37 1334500 5119 5120 切割/機械製作 觀察 38

Claims (1)

1334500 公告尽;τ _) 申請專利範圍： •種液晶顯示裝置的製造方法，包含有：

提供一第一基板和一第二基板，該第一基板和該第二基板 均包含一顯示區域和一非顯示區域； 在該第一基板上形成—薄膜電晶體陣列； 在該第二基板上形成—彩色濾光片陣列；

在該第二基板上形成—第一配向膜，該第一配向膜包含一 被移除的預設區域以形成—第一配向膜凹槽； 在該第一基板的該顯示區域塗佈液晶材料； 在該第二基板上的部份該第一配向膜凹槽處形成一第一 間隔粒； 在該第一基板或該第二基板的該非顯示區域形成一封裝 圖案； 反向該第二基板；及 按壓該第一基板和該第二基板的表面以接合該第一基板 和該第二基板，其中，在將該第一基板與該第二基板接合在一 起之前與之後’分別對該第一間隔粒進行預固化與終固化。 2.如申請專利範圍第1項所述之液晶顯示裝置的製造方法，其中 在形成該第一間隔粒後透過紫外線照射該間隔粒，藉以預進行 接合之前，對該第一間隔粒進行預固化。 3 j •如申請專利範圍第1項所述之液晶顯示裝置的製造方法，其中 更包含在接合該第一基板和該第二基板後透過紫外線照射該 39 4. 封裴i案。 如申請專利範圍第1項所述之液晶顯示裝置的製造方法，其中 在接σ 5亥第一基板和該第二基板後，對該第一間隔粒進行熱固 化，同時對該封裝圖案進行固化處理。 6. 如申請專利範圍第1項所述之液晶顯示裝置的製造方法，其中 該第一間隔粒由光反應聚合體組成。 如申明專利範圍第5項所述之液晶顯示裝置的製造方法，其中 7 X第間隔粒的光反應聚合體巾包含複數個球形間隔粒。 •如:請翻顧第丨項所述之液晶顯雜置的製造方法，其中 该第一間隔粒為球形。 8.如申請專利範圍第1項所述之液晶顯示裝置的製造方法，1中 9透過噴墨印刷方法形成該第-間隔粒。 9· 2申請專利範圍第1項所述之液晶顯錢置的製造方法，盆中 透過平版印刷方法形成該第一間隔粒。 10·如申請專利範圍第丨 透迅喰κ 娜仅“顯讀置的製造方法，其中 透過㉟墨印刷方法形成該第-配向膜。 U.如申請專利範圍第〗 m 臀斤述之液曰曰顯不裝置的製造方法，1中 透過平版印刷方法形成該第一配向膜。 、 U，如申請專利範圍第丨 今笛& 、所述之液Ba顯讀置的製造方法，其中 配向膜的形成係透過在— 向膜凹槽對應的區域给 、除去”该第一配 -土覆配向膜材料，並將該滾筒在該第二基 ③ 40 : 板上向下壓及滾動以將該配向膜材料印刷在其上。 ：3.如中〜專利㈣第1項所述之液晶顯示裝置的製造方法，其中 : 更包含在該第—基板上形成-第 二配向膜。 14. 如申請專利範_ 13項所述之液晶顯稀置的製造方法，其 第配向膜包含與部份該第一配向膜凹槽相對的一第二 配向膜凹槽。 15. 如:請專利範圍第1項所述之液晶顯示裝置的製造方法，其中 鲁 5亥薄膜電晶體陣列包含： 概個閘極線和複數個資料線，該閘極線與該資料線均位 於該第—基板上且彼此垂直相交以定義複數個晝素區域； . 電晶體’位於制極線和該資料線的每個交又處. . 及 ’ 一晝素電極，位於每個該晝素區域上。 I6·如申請翻翻第丨5項所狀液轉稀置的製造方法，其 • 中該第一配向膜凹槽位於排除該晝素區域的位置。 ’、 π.如申請專利顧第16項所述之液晶顯示裝置的製造方法，其 中該第一配向膜凹槽位於與該閘極線相對的位置。 ’、 认如申請專纖_丨6項所述之液晶顯示裝置的製造方法，发 中該第-g&向膜凹槽位於與該㈣線相朗位置。 ’、 19.如申請專利範圍第15項所述之液晶顯示裝置的製造方法，波 中更包含一第二間隔粒，位於未形成該第-配向膜凹槽的該第 41 配向膜上，該第二間隔粒配向相對於非該畫素區碱。 2〇.如申料利細第15項所述之液晶顯示裝置的製造方法，其 中该彩色;慮光片陣列包含·· 1矩陣層，位於該第二基板上㈣蓋非該畫素區域；及 一彩色濾光片層，位於該畫素區域。 2L如申請專利範圍第2〇項所述之液晶顯示裝置的製造方法，其 中更包含-共同電極層，位於包_矩陣層和該彩色遽光片 層的該第一基板的整個表面上。 22.7請專利範圍第2〇項所述之液晶顯示裳置的製造方法，其 夕卜塗層，位於包含該黑矩陣層和該彩色爐光片層的 該第一基板的整個表面上。 Μ. 利範圍第2〇項所述之液晶顯示裳置的製造方法，其 =配向膜凹槽形成在與該黑矩降層 置。 24. 如申请專利範圍第〗 、斤、之液曰曰顯示裝置的製造方法，其中 5亥弟一間隔粒材料包含—反庫 劑中二者至少其一。‘似早體，及-光起始劑或一熱起始 25. 如申請專利範圍第24項 、斤这之液阳顯示裝置的製造方法，其 咖粒材料更包含1性促進劑。 6·如申請專利範圍第24項 中兮，夜日日顯示裝置的製造方法，其 至。°贼該熱起始劑約占該第—_粒材料的〇加％ 42 1334500 27. 如申請專利範圍第25項所述之液晶顯示裝置的製造方法，其 中該黏性促進劑約占該第一間隔粒材料的lwt%至l〇wt%。 28. 如申睛專利範®第25項所述之液晶顯示裝置的製造方法，其 中該黏f生促進劑為一石夕烧偶合劑(silane coupling哗邱坊。 29. 如申料利範圍第24項所述之液晶顯示裝置的製造方法，其 中该第一間隔粒包含一自發反應型光反應壓克力單體、一光反 應ϋ克力單脰、一熱反應環氧單體和一同時包含熱反應和光反 應的單體或-低聚合物或一聚合體，並且該自發型光反應壓克 力單體為一二苯乙烯(stilbene)。 30. 如申請翻範圍第24顧述之液晶顯示数的製造方法，其 中該反應單體包含：一光反應壓克力單體、一熱反應環氧單體 和一同時包含熱反應和歧應的單體或―低聚合賊一聚合 體，同時該統雜克力單體為—二叫_旨«W monomer) 〇 43