TWI329238B - Pellicle and pellicle stripping device - Google Patents

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TWI329238B TW096117213A TW96117213A TWI329238B TW I329238 B TWI329238 B TW I329238B TW 096117213 A TW096117213 A TW 096117213A TW 96117213 A TW96117213 A TW 96117213A TW I329238 B TWI329238 B TW I329238B
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Description

1329238 九、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明關於姓刻技術用防護薄膜組件,其在製造半導體裝 置、印刷基板或液晶顯示器等時,作為除塵器而使用;尤其係關 於供作製造液晶顯示器之大型防護薄膜組件。 【先前技術】
於LSI等半導體裝置或液晶顯示器等的製造中,係將光加以 照射到半導體晶圓或液晶用之素玻璃,以製作圖案。然而,當此 時所用之光罩或初縮遮罩(以下僅稱光罩)上附著^塵日寺,由二該 ,塵使光線遮蔽,並使其折曲,於是發生所轉印之圖案受損的問 題0 因此,該等作業通常在無塵室内進行;但即便如此,欲總是 將光罩保持潔淨一事,有其困難。 疋而’祕光罩表面去除粉塵而言,有人制贿防護薄膜 、·且件之方法。 、 防並非直接附著於光罩之表面上,而係附著在 2薄酿壯,·進行侧技㈣,若歸焦軸光罩上的 ^案對準起來,則魏防護薄膜組件±之異物不影響到轉印的狀 =該防護薄膜組件中,對於使一般光線穿透良好之硝化 不錄,酸纖較錢赖脂等觸成的透贿護細,、’'、 2鋼、聚乙烯等所構成的防護薄聽架之上端面,將_ 溶劑加以塗佈,並風乾而接著(參照專利文獻1);或者,以 接著劑’而進行接著(參照專利文獻2、3)。 勒拉ί ίί 狀T端面,設置用以安裝(_)到光罩i 樹雁;酸雜接層係由聚丁稀 又,於防護_組件_在光罩的狀態中,為了將防護薄膜 =MU通過小所造成之異 具::=護通常以專業裝置或治 以1於光罩而加壓-定框架予 時,則必須進行剝離。此時人們採用以下之2原因=須重貼 進光罩黏接劑層,財高防㈣趣架而输冶具插 5(a)、5(b)所示,將銷狀剝離用具27加以推,3上士备口圖 架外側面的非貫通之圓孔23,而利用損、護薄膜框 加以舉起,以使其從光罩22剝離。 、巴5濤膜框架21 其優ί:由:ί:ί;插:二J'?:版進行剝離之情況下, 周而加喝::防之膜,全 刮傷,非常不理想。 並且先罩可此被板狀治具所 *的S法=====側 護薄膜組件所使用,並不適合大型防護i触件 小型防 出現ίί,ΐ必要ί離防護薄膜組件者,除了防護薄膜組件本身 之 使防護_崎衫錢,紋 ^29238 再加以使用。 之防胺Γί是防護薄膜組件並無問題之情況,必續對健後 之”組件加以處理,而導致成本提高的問題。_剝離後 c f利文獻1)日本專利制昭58_219023號公 專利文獻2)日本專利特公昭63_277〇7號公 (專利文獻3)美國專利第4861402號說明書 (專利文獻4)曰本專利實公昭63_3937〇3號公報 【發明内容】 (發明所欲解決之課題) 本發明係有鑑於上述問題所構成,其課題在於提供一 薄膜框架,係在貼附到光罩之後,可容易地進行剝離j、並且供 一種^==貼狀㈣雜崎㈣無鶴地剝離: 亦即’為解決上述課題,本發明之防護薄膜組件係 之邊長在3_11以上的大型防護薄膜組件,其特徵為:於 光罩2之狀態中,在防護薄膜框架丨之外侧全周8〇 ' ' 光罩2及防護薄膜框架!二者間設有寬2刪以上、冑域’ 的間隙(申請專利範圍第1項)。 此外’本發明之防護薄膜組件剝離裝置,係對於申許 圍第1項所載防護薄膜組件所適用的剝離裝置;其特徵^:由, 下部份構成:剝離具7,下部具有平板狀部15 ;及升降機構12^ 將該剝離具7保持與光罩2平行之狀態下,而往上方升高。並且’, 藉由把剝離具7之平板狀部15加以插進防護薄骐框架丨及該光罩 2兩者的間隙,以將光罩2及防護薄膜組件二者分開(申往= 圍第2項)。 °月』軏 在此,剝離具7之平板狀部15較佳為,佔有防護薄膜框架 之外側全周長80%以上的區域(申請專利範圍第3項)。、 進一步而言,平板狀部15的至少一面之表面材質較佳為,係 1329238 採用樹脂(申請專利範圍第4項)。 (發明之效果) 防護框架不會發生f曲。因此,簡層不ΐίΪ 剝離=_廳件在使壯不成_,可^= ’ = 巧如’將防護薄膜組件貼附到已完成之光罩上以後,當= :鼻膜之光罩上發現異物時’在已往係無條件地將防嘆 ifitl。依本發明,則可於將防護薄膜組件剝離後 以ίΐί:之異物加以除去’並再次貼附相同的防護薄膜組件, 以進行再利用。 丁 【實施方式】 (實施發明之最佳形態) 當有必要將防護薄膜組件從光罩加以剝離時,習知的 具對防護薄膜框架所為之作用,係呈點狀分布,且_槓桿原理 而以彎曲方向地進行;相對概,本發明之基本職為:係呈 狀分布,以防護細組件與鮮働平行之狀態,而將防 膜組件往上方升高。 以下,一邊參照圖式,一邊詳細說明本發明。 圖1係顯示用以說明依本發明的防護薄膜組件之一實施形態的剖 面圖。圖2顯示本發明的防護薄膜組件及防護薄膜組件剝離裝置 二者關係的示意圖;2(a)係俯視圖;2(b)係沿2(a)2A_A箭頭線 的剖面圖。® 3(a)〜3(c)係依序顯示使用本發明之防護薄膜組件 剝離裝置,以將防護薄膜組件從光罩加以剝離之程序的說明圖。 ^ 4顯示習知的防護薄膜框架之說明圖;4(a)係俯視圖;4(b)係 ,視圖。圖5(a)、5(b)係依序顯示將習知的防護薄膜框架加以剝 離之程序的說明圖〇圖6係顯示於使用習知的剝離用具,以將防 g膜組件從光罩加以制離後’該時之防護薄膜組件之狀態的說 附之架在光罩2上所貼 間隙3。嗲門1¾ q M 。卩/、光罩2間,係裝設有凹槽狀 度— 架=發=而且,在=罩= 而i生進一事’係變得極為困難, 而發生產生ii問題ΐ可能插進一事,係變得極為 架周下卿關隙3錢貫著防護薄膜框 為出發。較佳為’以加卫便利性、設計便利性等 就機能性而言,不進行全周而連續裝設亦可。其全體 在防3的製作方法’如圖1所示’最簡便而較佳為, =«=;?劑層4之高度充分地加高,並且藉由不ά ίίίΐΐ下端面之整體寬度上’而獲得相同之剖面形狀。 ’圄,Λ’、ίί5係防護薄膜,符號6係防護薄膜接著劑層。 離梦置所:圖3(a)〜3(C)顯示本發明之防護薄膜組件剝 離襄置所$了防制敵件师方法的_實施形態。 Ρ方濩薄膜崎係在具有上述剖面形狀之防護薄難架】的上 =面,隔著防護薄膜接著劑層6而貼附有防護薄膜5 ;並且在另一 邊之光罩侧的下端面,則裝設有光罩黏接劑層4所構成。此外, CJ6 該防組件隔著光罩黏接劑層4而貼附到光罩2。 離具係由以下H剝 旋钮10 ;剝離具框體U,係套9及其操作 降機構’用以將防護薄膜組 古Ί頂3 ’作為升 放到底板14上,並乍將貼附有防護薄膜組件之光罩2 裝置加以進行搭纟罩外側,從其上方把防護薄膜組件剝離 避。:Ϊ狀=操=外側突出而讓 裝設之間隙3的側邊,將剝離具7加^^框木1之外侧全周所 整體可與底板f 組件剝離裝置 附於光罩2的光罩3(b)所示,貼 上擧二整體加以往 將雖可見:受=形二 但^耆時間、㈣’將復原而恢_縣之雜。 ㈣進間隙3的部分係形成平板狀部15 ;且為防止 外側從側邊插進全周的至少、職以上之區域。 至或用其他處理治具,而使防護薄膜組件從防 剝,裝置容易取出,因此在防護薄膜框架i的直角ί 刀等亦可不插進剝離具而先空下些許空間。 時,為了使其接觸至防護薄膜框架或光罩 =不致於又知,且為了盡量減少產生灰塵,因此以使用具有強 度之工程塑勝為佳。例如,Ρ腿、pps、環氧樹脂等。又可使用含 有強化纖維者,亦屬當然。 但必須於表面塗佈有鐵氟龍(註 ’先考慮防護薄膜框架1之剖面 構件加工上之限制等,再進行 不銹鋼等金屬顯然亦可使用, 冊商標)等樹脂。該等材質較佳為 形狀、光罩黏接劑層4之接著力、 決定。 =離具7的材質,特別是其平 剝離具7到傷防護薄膜框架及光罩。==他 屬,村崎減少_1擦所發生的產生灰塵。 2°0〜_咖程度),比起防護薄膜組件係將距 本實麵態巾,升降機構12採賴旋式千相;但若可進 2:致動他形式。例如’亦可使用電動、空壓或油 摩ttr有關與底板14接觸的部份,為了減少因 俾^姻_ΐί4本身耻神份_,柯伽耐磨板, ,,層4的接耆力,再作決定。很顯然地,若對於 4之剝離情況’以明顯太快的速度加以升高,將可 月bk成黏接層上形成扯裂等損傷。 底板14之内側較佳為,不與光罩2之圖案區域進行接觸而空 出來。又’光罩2所接觸之部份則可安裝上樹脂構件(未圖示), 以防止因摩擦所發生之產生灰塵。 口丁; 广外,有時由於光罩2之重量及光罩黏接劑層4之接著力間 的均衡’使光罩2在剝離時往上升。於此種情況下,較佳為,在 裝設用以真空吸著的機構,以將光罩2加w及著固定到底 (實施例) 以下’說明本發明之實施例,但本發明並不限於此。 於1如,1所示,具有剖面形狀而係鋁合金製的防護薄膜框架1, 处八下端部形成因機械加工而成的落差。該 狀,係令外尺寸782x474咖,内尺寸76祕6晒,高5麵之^开: 且又,如圖1所示,於該防護薄膜框架丨之外周面的下端部, 巧右,^黏接劑層4側,係沿靠著環繞外周所設置的落差C,而裝 所形士,3並且令该落差c之尚度為〇.3麵,又令光罩黏接劑層 “尺防護薄膜框架之全寬-段落寬)為―,而以該 商於乾燥該防護薄膜框架1以後,採用甲苯將石夕氧黏接 冰,品名,信越化學工業公司製,Shin—Etsu Chemicai 二以稀釋,並分別塗佈到—邊之端面上’以作為防護薄 且蕤d而塗佈到另一邊之端面上,以作為光_接劑層4; 】f由加熱使其等硬化。在此,將光罩黏接劑層4之高度調整成 .mm 且令其與防護薄膜框架i整體計算之高度為& 1咖。 如姑步,以旋轉塗佈法將氟素聚合物(商品名(音譯) 長方幵二,ilAsahi Glass c。·,1^10加以在麵x92°x厚 8_之 Ϊ t f板上成膜,並且接著到與基板外形具相同形狀的框 ^加而所得之厚約4⑽的防護細予以貼附到該防護薄膜 除木以子將防護薄膜框架周圍之多餘薄膜加以切斷去 除,以作為防護薄膜組件。 w玄 到枚ίΐ,ϊί成之防護薄膜組件以12〇kg之重量,加以貼附 ' 罩之52Gx_mmx厚8mm的平滑石英玻璃基板上。 之防護薄膜組件及光罩(石英玻璃基板)2的剖面將成 5mm 3™: b ίϊ :占接層嫒低,長邊、短邊皆成為1.2刪。 置。Ιί且及圖3(a)〜3(C)所示構成之剝離裝 離” 7係於將鋼加以機械加工之後,在表面進行厚4〇 12 1329238 鐵氟龍(註冊商操)的塗佈。 旋紐Ϊ)外,配制以使其水平滑動之滑練8、滾_套9及操作 在4;直角部’並;套搬動 _8細螺紋採用不錄 於前端安裝幫聚氧化;=。24為 邊緣σρ之各邊,分職裝4處吸著σ (未圖 旱2 處的配管集中,而連接到真空栗(未圖示)。)使連接到該 並且護細組件之光罩2加以搭載至_離農置, 並且進仃防護薄膜組件的剝離實驗。 矛罝 户# 把貼附有防護薄膜組件之光罩2放到底板14上,並且 ,先罩外側,從其上方把剝離裝置加以^且 剝離具7將比防護_框架1往外側編it於此狀態中, 八2作Γ510 ’而從防護薄膜框架1之外側全周所 Η保U行藉而^作螺旋式千斤頂12,使制離裝置整體可與底板 劑所示’貼附於光罩2的光罩黏接 =4被拉上來’而逐漸發生剝離。此時,拉起之速度約略 ."1Γ,’lif1占接層之剝離情況,而採取間歇式進行。 表面制離。G_時’、光罩黏接劑層4完全從光罩2的 防護薄膜組:從光罩將剝離裝置整體往上升高,而使 最後,小心翼翼地將防護薄膜組件從剝離裝置加以取出,並 13 1329238 ΐίΐΐΐ接劑層4及防護薄膜框架1的損傷情況。其結果,伞 貝4兀全看*雜裂缝鮮損壞;又,防護薄膜框加】 則也完全看不綱傷或料變料損傷。 框架1 (比較例) ,圖4(a)、4⑹所示,製作齡金製的防護薄膜框 768xS方護薄-膜,架21之形狀,係令外尺寸782x474mm'、内財
長方形。此外,在分別麟長邊侧面的2 =各36咖之4處,皆裝設直徑2. 5咖、深2. 5臟的非貫 基板上 ”且======= 二、此外,如圖5(a)、5(b)所示,把剝離用具27插進圓孔, 而4行將防護薄臈組件從光罩22(石英玻璃基板)進行剝離。 其結果,藉由操作剝離用具27,可使防護薄膜框架21之 1完全地剝離;並且,當__針對全部4處之圓孔23進行制 B、’將成為僅防護薄膜框架21之各邊的中央部未從光罩22離 而殘存的狀態。 ,後,當以手把防護薄膜框架加以直接握取,而緩慢地往上 方升同時,可從石英玻璃基板完全地剝離開來。然而,由於該剝 離作業’使護薄膜框架產线乎無法修復之,f曲變形,且已經 無法使用(參照圖6)。 (產業上利用性) 依本發明’當有必要把防護薄膜組件剝離時,由於可將所撥 剝離下之防護薄臈組件加以再利用’因此在使用蝕刻技術之技術 領域中,可謂為一大貢獻。 【圖式簡單說明】 圖1係顯示用以說明依本發明的防護薄膜組件之一實施形態
14 1329238 的剖面圖。 圖2顯示本發明的防護薄膜組件及防護薄膜組件剝離裝置二 者關係的示意圖;2(a)係俯視圖;2(b)係沿2(a)之A—A箭頭繞: 剖面圖。 即 圖3(a)〜3(c)係依序顯示使用本發明之防護薄膜組件剝離裝 置,以將防護薄膜組件從光罩加以剝離之程序的說明圖。 圖4顯不習知的防護薄膜框架之說明圖;4(;a)係俯視圖;4(b) 係前視圖。 圖5(a)、5(b)係依序顯示將習知的防護薄膜框架加以剝離之 栓序的說明圖。 圖6係顯不於使用習知的剝離用具,以將防護薄膜組件從光 罩加以剝離後’該時之防護薄膜組件之狀態的說明圖。 【主要元件符號說明】 1〜防護薄膜框架 2〜光罩(石英玻璃基板) 3, 3a〜間隙 4〜光罩黏接劑層 5〜防護薄膜 6〜防護薄膜接著劑層 7〜剝離具 8〜滑動軸 9〜滾珠襯套 10〜操作旋紐 Η〜剝離具框體 12〜升降機構(螺旋式千斤頂) 13〜握把 W〜底板 15〜剝離具7下部之平板狀部
15 S 1329238 20〜防護薄膜框架之直角部 21〜防護薄膜框架 22〜光罩(石英玻璃基板) 23〜圓孔 27〜(習知的)剝離用具 31〜防護薄膜框架 32〜光罩 34〜光罩黏接劑層 a〜間隙3之寬度 b〜間隙3之高度 c〜防護薄膜框架1下端面所形成之落差 16

Claims (1)

  1. ^29238 十、申請專利範圍·· 護薄膜組件,其至少-邊之邊長在300麵以上, 以上在光罩之狀態中,在防護_框架之外側全周之80% 〇. 5刪=的=罩及防護細㈣二相設有寬2臟以上、高 項所係適用於中請專利範圍第1 其特徵為: 的間li:内,而將===插人到防護薄膜框架及該光罩兩者 7而將先罩及防護薄膜組件二者 可 ,該平fci大護薄膜組件剝離裝置,其 ^面之表面材質係採用樹脂。 ν Ι3Π · 該二:之防護薄膜組件剝離裝置,其中, 以上的區域。 。有防護薄膜框架外側之全周長之80% 中 十一、囷式: 17
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